JP2003181235A5 - - Google Patents
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【００１１】
なお、図２に示す乾燥塔において、供給口(101)から供給された濃硫酸(7)はガスと接触して水分を吸収し、硫酸となって塔底(51)に到達し、ここに貯留されるが、塔底に貯留される硫酸(73)は通常、水分を更に吸収しうるので、これをポンプ(11)により回収し、必要により熱交換器(12)で温度調節されたのち第二供給口(102)から乾燥塔内部に供給されてもよく、乾燥塔内部に供給された硫酸(72)は、塔内を流通するガスと接触して再び水を吸収する。第二供給口(102)は通常、先の供給口(101)よりも下方側に配置され、図２に示す乾燥塔では、先の供給口(101)の下側の泡鐘トレイ(53)の更に下側であって、充填物(54)の上側に第二供給口が配置されている。第二供給口(102)から供給される硫酸(72)は、噴霧して供給してもよいし、流下または滴下して供給してもよいが、図２に示す乾燥塔(5)では、第二供給口(102)の下側の充填物(54)に均一に硫酸を供給できるように、噴霧して供給している。塔底から回収された硫酸の一部(74)は系外に排出される。
なお、図２に示す乾燥塔において、供給口(101)から供給された濃硫酸(7)はガスと接触して水分を吸収し、硫酸となって塔底(51)に到達し、ここに貯留されるが、塔底に貯留される硫酸(73)は通常、水分を更に吸収しうるので、これをポンプ(11)により回収し、必要により熱交換器(12)で温度調節されたのち第二供給口(102)から乾燥塔内部に供給されてもよく、乾燥塔内部に供給された硫酸(72)は、塔内を流通するガスと接触して再び水を吸収する。第二供給口(102)は通常、先の供給口(101)よりも下方側に配置され、図２に示す乾燥塔では、先の供給口(101)の下側の泡鐘トレイ(53)の更に下側であって、充填物(54)の上側に第二供給口が配置されている。第二供給口(102)から供給される硫酸(72)は、噴霧して供給してもよいし、流下または滴下して供給してもよいが、図２に示す乾燥塔(5)では、第二供給口(102)の下側の充填物(54)に均一に硫酸を供給できるように、噴霧して供給している。塔底から回収された硫酸の一部(74)は系外に排出される。
【００２５】
比較例１
塩素ガス（Ｃｌ2、純度はモル分率で約９９％、水分（Ｈ2Ｏ）をモル分率で約１％含む）を図３に示す乾燥塔(5)の塔底(51)から供給し、塔頂(52)から乾燥ガス(1)を得た。得られた乾燥ガス(1)は、水分の含有量が検出下限（５ｐｐｍ）未満であった。この乾燥ガスには、５０〜６０ｐｐｍ程度の硫酸が飛沫として含まれている。次いで、この乾燥ガスをブリンク式フィルター（孔径１μｍ、ガラスファイバー製）(9)を通過させたところ、硫酸飛沫の含有量は約２ｐｐｍであった。
比較例１
塩素ガス（Ｃｌ2、純度はモル分率で約９９％、水分（Ｈ2Ｏ）をモル分率で約１％含む）を図３に示す乾燥塔(5)の塔底(51)から供給し、塔頂(52)から乾燥ガス(1)を得た。得られた乾燥ガス(1)は、水分の含有量が検出下限（５ｐｐｍ）未満であった。この乾燥ガスには、５０〜６０ｐｐｍ程度の硫酸が飛沫として含まれている。次いで、この乾燥ガスをブリンク式フィルター（孔径１μｍ、ガラスファイバー製）(9)を通過させたところ、硫酸飛沫の含有量は約２ｐｐｍであった。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001379820A JP4055412B2 (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001379820A JP4055412B2 (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003181235A JP2003181235A (ja) | 2003-07-02 |
| JP2003181235A5 true JP2003181235A5 (ja) | 2004-10-28 |
| JP4055412B2 JP4055412B2 (ja) | 2008-03-05 |
Family
ID=27591174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001379820A Expired - Lifetime JP4055412B2 (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP4055412B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
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|---|---|---|---|---|
| JP4849811B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2012-01-11 | 株式会社トクヤマ | 高次塩素化メタン類の製造方法 |
| JP4785515B2 (ja) | 2005-12-08 | 2011-10-05 | 住友化学株式会社 | 塩素の製造方法 |
| JP5041769B2 (ja) | 2006-09-06 | 2012-10-03 | 住友化学株式会社 | スタートアップ方法 |
| JP2010138002A (ja) | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 塩素の製造方法 |
| JP5315578B2 (ja) | 2008-12-22 | 2013-10-16 | 住友化学株式会社 | 塩素の製造方法 |
| JP2011016045A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 乾燥塔 |
| JP2011020026A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 乾燥塔 |
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2001
- 2001-12-13 JP JP2001379820A patent/JP4055412B2/ja not_active Expired - Lifetime
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