JP2011016045A - 乾燥塔 - Google Patents
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Abstract
【課題】乾燥塔における圧力損失の増加を防止する。
【解決手段】ガスAと硫酸とを接触させる硫酸供給ノズル1と、硫酸供給ノズル1よりガス流下流に配置されガスAとガスAに同伴される硫酸とを分離するデミスタ3a(3b)と、を備える乾燥塔において、デミスタ3a(3b)に対してスプレーノズル4aa(4ba)を設け、スプレーノズル4aa(4ba)が、デミスタ3a(3b)に対して硫酸を噴霧供給することで当該デミスタ3a(3b)を洗浄し、デミスタ3a(3b)に捕集された単体硫黄等の析出物を除去してデミスタ3a(3b)の通気性を回復する。
【選択図】図1
【解決手段】ガスAと硫酸とを接触させる硫酸供給ノズル1と、硫酸供給ノズル1よりガス流下流に配置されガスAとガスAに同伴される硫酸とを分離するデミスタ3a(3b)と、を備える乾燥塔において、デミスタ3a(3b)に対してスプレーノズル4aa(4ba)を設け、スプレーノズル4aa(4ba)が、デミスタ3a(3b)に対して硫酸を噴霧供給することで当該デミスタ3a(3b)を洗浄し、デミスタ3a(3b)に捕集された単体硫黄等の析出物を除去してデミスタ3a(3b)の通気性を回復する。
【選択図】図1
Description
本発明は、ガス中の水分を除去するための乾燥塔に関する。
従来、塔頂から塔底へ向かって濃硫酸を流し、これに対向して塔底から塔頂へ向けて湿潤ガスを流して、濃硫酸と湿潤ガスとを向流接触させることにより、湿潤ガス中の水分を除去する乾燥塔が知られている(例えば、特許文献1参照)。このような乾燥塔にあっては、濃硫酸がガスに同伴されて後段に向かわないように濃硫酸を回収すべく、ガスとガスに同伴される濃硫酸とを分離する気液分離手段を設けることが広く行われている。
しかしながら、上記のような乾燥塔においては、圧力損失が増加してしまうという問題があった。
本発明は、このような課題を解決するために成されたものであり、圧力損失の増加を防止可能な乾燥塔を提供することを目的とする。
ここで、本発明者らは鋭意研究の結果、圧力損失の増加は、ガスに含まれる例えば硫化水素等の硫黄化合物等から生成された単体硫黄等の析出物が、気液分離手段に析出捕集されることで、気液分離手段の通気性が損なわれることが主たる原因であることを見出した。
そこで、本発明による乾燥塔は、ガス中の水分を除去するための乾燥塔であって、ガスと硫酸とを接触させる気液接触手段と、気液接触手段よりガス流下流に配置されガスとガスに同伴される硫酸とを分離する気液分離手段とを備える乾燥塔において、気液分離手段に対して硫酸を噴霧することにより気液分離手段を洗浄する洗浄手段を備えることを特徴とする。
このような乾燥塔によれば、単体硫黄等の析出物が気液分離手段に析出捕集されることによって気液分離手段の通気性が損なわれた場合においても、洗浄手段が、気液分離手段に向かって硫酸を噴霧してこれを洗浄するので、気液分離手段に捕集された単体硫黄等の析出物を除去して気液分離手段の通気性を回復することができる。これにより、圧力損失の増加を防止することができる。
ここで、洗浄手段は、気液分離手段よりガス流下流に配置される第1洗浄手段と、気液分離手段よりガス流上流に配置される第2洗浄手段とを有することが好ましい。この構成によれば、第1洗浄手段と第2洗浄手段とによって、気液分離手段の両側から硫酸を噴霧してこれを洗浄できるので、確実に、気液分離手段に捕集された単体硫黄等の析出物を除去して気液分離手段の通気性を回復することができる。
また、ガスと接触し回収された硫酸が、洗浄手段において使用される構成とされていることが好ましい。これにより、気液分離手段の洗浄に際し、外部から新たな硫酸を導入する必要がなく、コストを削減することができる。
このように本発明によれば、圧力損失の増加を防止することができる。
以下、本発明に係る乾燥塔の好適な実施形態について図1を参照して説明する。図1は本実施形態に係る乾燥塔を示す構成図である。
図1に示される乾燥塔10は、SO2を含むガスから硫酸を製造する硫酸製造設備に適用されるものであり、ガス中の水分を除去し、この水分を除去したガスを後段の装置へ供給するものである。なお、本実施形態におけるガスは、例えば活性炭等の炭素質吸着材を利用した排ガス処理設備において、排ガス中のSO2を吸着した炭素質吸着材を再生する際に発生する高濃度SO2含有ガスであり、SO2、H2S及びCOS等の硫黄化合物等を含む。
乾燥塔10は、塔下部から内部へガスAが導入され塔頂へ向かうように構成されており、この内部に導入され上向するガスAに下向きに硫酸を噴霧供給しガスAと硫酸とを接触させる硫酸供給ノズル(気液接触手段)1と、硫酸供給ノズル1よりガス流上流(図示下方)に配置され硫酸供給ノズル1から供給される硫酸とガスAとの接触面積を高めるための充填層2と、硫酸供給ノズル1からガスAに対して供給され充填層2を通過して落下し乾燥塔10の底部に貯留されて回収された硫酸を再度硫酸供給ノズル1へ供するための循環ラインL1と、硫酸供給ノズル1よりガス流下流(図示上方)に順次配置されガスAとガスAに同伴される硫酸とを分離するためのデミスタ(気液分離手段)3a,3bと、を備えており、デミスタ3a,3bは、硫酸供給ノズル1から噴霧供給されたミスト状の硫酸が、ガスAに同伴されて後段に向かわないようにこれを捕集すべく、例えばワイヤメッシュ等により構成されている。
このようなデミスタ3aのガス流下流には2つのスプレーノズル(第1洗浄手段)4aaが設けられており、デミスタ3bのガス流下流には2つのスプレーノズル(第1洗浄手段)4baが設けられている。スプレーノズル4aaは、デミスタ3aを洗浄するためのものであり、デミスタ3aとデミスタ3bとの間でデミスタ3a近傍に配置されている。スプレーノズル4baは、デミスタ3bを洗浄するためのものであり、デミスタ3b近傍に配置されている。これらのスプレーノズル4aa,4baは、ガス流下流からデミスタ3a,3bの各々に向けて下向きに硫酸を噴霧供給する。
さらに、デミスタ3aと硫酸供給ノズル1との間でデミスタ3aのガス流上流近傍には2つのスプレーノズル(第2洗浄手段)4abが設けられており、デミスタ3bとスプレーノズル4aaとの間でデミスタ3bのガス流上流近傍には2つのスプレーノズル(第2洗浄手段)4bbが設けられている。これらのスプレーノズル4ab,4bbも、デミスタ3a,3bを洗浄するためのものであり、ガス流上流からデミスタ3a,3bの各々に向けて上向きに硫酸を噴霧供給する。
そして、スプレーノズル4aa,4ab,4bbは、図示しない制御装置の制御により、あらかじめ決められた所定の時間間隔で、またはデミスタ3a,3bの圧力損失の上昇傾向によって、硫酸を噴霧する。また、スプレーノズル4baは、必要に応じて、手動により、又は上記制御手段の制御により、硫酸を噴霧する。
これらのスプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbには、硫酸供給ノズル1からガスAに供給されガスAと接触し底部に貯留されて回収された硫酸を、スプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbに供給すべく、循環ラインL1から分岐する分岐ラインL2がそれぞれ接続されており、これにより、スプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbでは、硫酸供給ノズル1からガスAに供給されガスAと接触し回収された硫酸が使用される。
このように構成された乾燥塔10によれば、ガスAに対して硫酸供給ノズル1より硫酸が噴霧供給されてガスAが乾燥し、このガスAがデミスタ3a,3bを通過することでガスAと硫酸とが分離される。
このとき、ガスAに含まれるH2S等の硫黄化合物等から単体硫黄等の析出物が生成され、これがデミスタ3a,3bに捕集されることを主原因としてデミスタ3a,3bが目詰まりし、その結果デミスタ3a,3bの通気性が損なわれることがある。
ここで、本実施形態の乾燥塔10によれば、上記のようにデミスタ3a,3bの通気性が損なわれた場合には、デミスタ3a,3bの各々に対して設けられたスプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbにより、各デミスタ3a,3bの両側から各デミスタ3a,3bに向かって硫酸が噴霧供給され、これらが洗浄されるため、デミスタ3a,3bに捕集された単体硫黄等の析出物が除去されてデミスタ3a,3bの目詰まりが解消され、デミスタ3a,3bの通気性が回復される。このため、圧力損失の増加を防止することができる。その結果、デミスタ3a,3bを取り出して洗浄したり、デミスタ3a,3bを交換したりすることなく、長期的に安定して乾燥塔10の運転を行うことができる。
加えて、スプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbでは、硫酸供給ノズル1からガスAに供給されガスAと接触し回収された硫酸が使用されるので、デミスタ3a,3bの洗浄に際し、外部から新たな硫酸を導入する必要がなく、コストを削減することができる。
なお、これらスプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbの噴霧タイミングは、互いに同時であっても良いし、同時でなくても良い。また、これらの噴霧時間は互いにラップしていても良いし、ラップしていなくても良い。
なお、上記実施形態においては、デミスタ3a,3bは、ワイヤメッシュから構成されるものとしたが、これに限らず、例えば、規則・不規則充填物を充填して成る充填層としても良い。
また、スプレーノズル4aa,4ab,4ba,4bbの各設置個数は、デミスタ3a,3bの各々に対して2つずつとしたが、これに限らず、デミスタ3a,3bの大きさや所望する洗浄範囲に応じて任意の個数とすることができる。
また、デミスタ3bの定期的な洗浄はスプレーノズル4bbを用いて行い、この定期的な洗浄によってデミスタ3bの目詰まりが解消しない場合にのみ、スプレーノズル4baを用いてデミスタ3bの洗浄を行うことが好ましい。
また、デミスタ3a,3bを洗浄するための手段は、硫酸を噴霧するスプレーノズルとしたが、これに限らず、デミスタ3a,3bに硫酸を供給してデミスタ3a,3bに捕集された単体硫黄等の析出物を除去可能な他の周知の洗浄手段とすることができる。
また、デミスタは2個に限らず、1個でも3個以上でも本発明を適用することができる。
1…硫酸供給ノズル(気液接触手段)、2…充填層、3a,3b…デミスタ(気液分離手段)、4aa,4ba…スプレーノズル(第1洗浄手段)、4ab,4bb…スプレーノズル(第2洗浄手段)、10…乾燥塔。
Claims (3)
- ガス中の水分を除去するための乾燥塔であって、前記ガスと硫酸とを接触させる気液接触手段と、前記気液接触手段よりガス流下流に配置されガスとガスに同伴される硫酸とを分離する気液分離手段とを備える乾燥塔において、
前記気液分離手段に対して硫酸を噴霧することにより前記気液分離手段を洗浄する洗浄手段を備えることを特徴とする乾燥塔。 - 前記洗浄手段は、前記気液分離手段よりガス流下流に配置される第1洗浄手段と、前記気液分離手段よりガス流上流に配置される第2洗浄手段とを有することを特徴とする請求項1記載の乾燥塔。
- ガスと接触し回収された硫酸が、前記洗浄手段において使用される構成とされている請求項1又は2記載の乾燥塔。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009160998A JP2011016045A (ja) | 2009-07-07 | 2009-07-07 | 乾燥塔 |
Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013198855A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Pan Pacific Copper Co Ltd | エリミネータの洗浄方法、及びエリミネータの洗浄装置 |
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2009
- 2009-07-07 JP JP2009160998A patent/JP2011016045A/ja active Pending
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