JP2000159510A - 副生物除去工程を含む、硫化水素及び二酸化硫黄含有ガスの処理方法と装置 - Google Patents

副生物除去工程を含む、硫化水素及び二酸化硫黄含有ガスの処理方法と装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 少なくとも硫化水素(H2S)と二酸化硫黄(S
2)を含むガスを、少なくとも1つの触媒を含む有機溶
媒と適当な温度で接触させ、実質的に硫化水素と二酸化
硫黄を含まないガス排出部、ならびに液-液デカンテー
ションにより溶媒から分離した液体硫黄を回収する、前
記ガスの処理方法を提供する。 【解決手段】 前記ガス処理中、溶媒、触媒、硫黄及び
副生物を含む流体Fを接触反応器から抜き出し、該流体
Fを、少なくとも副生物の析出を有利にする適当な温度
に加熱する工程と少なくとも溶媒から副生物を分離する
工程とを含む処理工程に送る。主として溶媒、触媒及び
硫黄からなり副生物を殆ど含まない流体F 1と、殆ど副
生物を含む流体F2とを回収する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも1つの
触媒を含む有機溶媒によって、少なくとも硫化水素と二
酸化硫黄を含むガス排出物を処理し、該処理工程中に生
成した大部分の副生物を除去する方法とその装置に関す
る。
【0002】副生物除去工程すなわち処理工程は、特
に、これら副生物の結晶を生成、成長させる温度、すな
わち副生物を析出させる温度で行われる。
【0003】本発明の方法は、例えばクラウス法(Clau
s process)の後に使用するクラウスポル処理装置(Clau
spol prosessing unit)に適用される。
【0004】
【従来の技術】クラウス法は、硫化水素を含むガスフィ
ード(gaseous feed)から元素硫黄を回収するため、特に
精油プラント(水素化脱硫又は接触分解装置以降)で広く
用いられ、さらに天然ガス処理用としても広く用いられ
ている。しかしながら、クラウスプラントで産出するガ
ス排出物(fume)は、幾つかの接触工程を経た後でさえ
かなりの量の酸性ガスを含んでいる。したがって、汚染
防止基準を守るべく大部分の有害化合物を除去するた
め、このクラウスプラントの排出ガス(effluent 又はta
il gas)を処理する必要がある。
【0005】例えばクラウスプラントから排出された硫
黄の全存在量の約95質量%を回収する方法はよく知ら
れている。
【0006】このクラウスプラントの排出ガスをクラウ
スポルプラントで処理することにより、次の発熱性クラ
ウス反応から、例えば硫黄の回収率が99.8質量%に
達することも可能となる。
【0007】 2H2S + SO2 ←→ 3S + 2H2O (反応1) このような処理には、有機の溶媒と、有機酸のアルカリ
塩又はアルカリ土類塩を含む少なくとも1つの触媒とか
らなる反応媒体を必要とする。処理しようとするガスと
触媒を含む有機溶媒の接触はガス-液接触反応器中で行
われ、この接触反応器の温度は、固体硫黄の生成を防ぎ
ながら最高の硫黄転化係数を与えるように該反応器から
循環ポンプにより抜き出した溶媒を熱交換器に通すこと
によってコントロールされる。このタイプのプラントで
は、元素硫黄を溶解する能力が有限の溶媒が、遊離の液
体元素硫黄を含むようになり、この液体元素硫黄は簡単
なデカンテーションによって該溶媒から分離できること
がよく知られている。この液体硫黄-溶媒のデカンテー
ションは、接触反応器の底部に置くことができる液-液
デカンテーションゾーンで実施される。硫黄はしたがっ
て液状で回収される。上記のようなプラント運転につい
ては以下の参考文献に記載されている: ・ Y.BARTHEL, H.GRUHIER, The IFP
Clauspol 1500 process: eight years of indusutria
l experience, Chem.Eng.Monogr., 10(Large C
hem.Plants), 1979, pp.69〜86; ・ HENNICO A., BARTHEL Y., BENA
YOUN D., DEZAEL C., Clauspol 300: Th
e New IFP TGT process, For presentation at
AIChE Summer National Meeting, Denver(C
olo.), August14〜17, 1994. さらに、このタイプのプラントの脱硫率は、本出願人が
出願したフランス特許FR-2,735,460に記載の
方法により脱飽和ループで溶媒中の硫黄の脱飽和を図る
ことによって改善できることがよく知られている。この
場合、接触反応器の端部で取り出した溶媒と硫黄の単一
相溶液の一部は硫黄を析出させるため冷却される。この
析出硫黄は次いで濾過、デカンテーション又は遠心分離
などの各種公知の固-液分離手段により溶媒から分離さ
れる。一方では、接触反応器にリサイクルできる硫黄の
減った溶媒が得られ、他方では、硫黄をメルトさせるた
め再加熱することができ、次いで、液体硫黄を回収する
溶媒-硫黄の液-液デカンテーションゾーンに送られる。
固体硫黄に富んだ懸濁液が得られる。
【0008】このような方法は効果があることがわかっ
ているけれども無制限と言うわけには行かない。
【0009】例えば、接触反応器では、例えば触媒の徐
々の劣化によりアルカリ又はアルカリ-土類の硫酸塩又
はチオ硫酸塩などの塩を主とする副生物の生成をもたら
す副反応が起こる。これらの副生物は、デカンテーショ
ンゾーン中で有機溶媒と液体硫黄との間の界面に蓄積す
る傾向があり、液体硫黄のデカンテーションを困難にす
る。
【0010】この問題を克服可能にする1つの方法が、
上記のような塩を含む溶媒を濾過器に通す、可能性につ
いて開示するフランス特許FR-2,735,460に記
載されている。この塩は濾過器上に堆積し、硫黄含有溶
媒は硫黄脱飽和工程に送られる。一方では、循環する溶
媒のこのような処理は、溶媒の硫黄脱飽和ゾーンの下流
に位置する液体硫黄-溶媒デカンテーションゾーンに含
まれる液体硫黄-溶媒界面でのこれら塩の蓄積を完全に
除去するには不充分である。他方、もし脱飽和ループ手
段によって硫黄の脱飽和が図られなければ硫黄は固体塩
と一緒に除去され、その結果濾過器の再生で得られる流
体の処理は微妙なものとなろう。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、少な
くとも溶媒、触媒、硫黄及び副生物を含み接触反応器か
ら抜き出した溶液を、該溶液が含んでいる副生物の大部
分を分離して実質的に副生物を含まない溶媒を得るた
め、少なくとも1つの加熱工程及び少なくとも1つ以上
の分離工程にかける方法と、それに伴う装置を提供する
ことである。
【0012】これらの副生物は、例えば触媒の徐々に起
こる劣化の産物である。
【0013】
【課題を解決するための手段】接触反応器から取り出さ
れ、少なくとも溶媒、触媒、硫黄及び副生物を含む流体
を加熱することは、溶媒の溶液中の副生物の析出を有利
にし、これによって該副生物の分離が容易になり、溶媒
中に存在する可能性のある遊離硫黄の小滴の可溶化をも
たらし、これにより硫黄が副生物と一緒に除去されるの
を防ぎ、処理ゾーン(processing zone)中の構成要素で
ある副生物回収手段の再生で得られる流体の処理を容易
にする、ことがわかった。
【0014】副生物を実質的に含まない溶媒は、ガスを
処理する接触反応器に一部又は全部、好都合にリサイク
ルすることができる。
【0015】本発明は、少なくとも硫化水素(H2S)及
び少なくとも二酸化硫黄(SO2)を含むガスの処理方法
に関し、この方法では、該ガスを少なくとも1つの触媒
を含む有機溶媒と適当な温度で接触させ、硫化水素と二
酸化硫黄をもはや実質的に含まないガス排出物と、液-
液デカンテーションによって溶媒から分離した液体硫黄
とを回収する。
【0016】本発明方法の特徴は次のとおりである。
【0017】少なくとも溶媒、触媒、硫黄及び副生物を
含む流体Fを接触工程後取り出し、該流体Fを、副生物
の析出を有利に運ぶ所定の温度にもって行く1つ以上の
加熱工程と、溶媒から副生物を分離する工程からなる処
理工程に送り、処理工程後、少なくとも、主として溶
媒、触媒及び硫黄を含むが副生物を殆ど含まない流れF
1と大部分の副生物を含む流れF2とを回収する。
【0018】流体Fは例えば液体の単一相溶液である。
【0019】流体Fに含まれる副生物は溶解及び/又は
析出させることができる。
【0020】流体Fの温度は例えば120〜180℃、
好ましくは120〜150℃である。
【0021】処理工程は例えば以下の方法のうちの少な
くとも1つにより行う: a)主として固体の副生物を殆ど含まない溶媒からなる前
記流体F1と、濾過用担体の再生で得られ、かつ、大部
分の副生物を含む流体F2とを回収するための少なくと
も1つの濾過工程を実施、及び/又は b)少なくとも、主として副生物を殆ど含まない溶媒から
なる前記流体F1と、固体の担体の再生で得られ、か
つ、大部分の副生物を含む液体F2とを回収するため、
少なくとも1つの固体担体による副生物捕集工程を実施
する。
【0022】a)及びb)の方法は、120〜180℃、好
ましくは120〜150℃の範囲の温度で実施できる。
【0023】処理工程から得られる流体F1は、一部又
は全部、接触工程にリサイクルできる。
【0024】本発明はまた、溶媒と少なくとも1つの触
媒を使用する、少なくとも硫化水素(H2S)及び二酸化
硫黄(SO2)を含むガス排出物を処理する過程で生成す
る副生物を分離、回収する装置にも関し、該装置は、少
なくとも1つの接触反応器、少なくとも1つのデカンテ
ーションゾーン、少なくとも処理しようとするガスと溶
媒及び触媒を送り込むための各種配管、少なくとも清浄
ガス及び少なくとも溶媒、触媒、硫黄と副生物を含む流
体を抜き取るための各種配管を含んでいる。
【0025】この装置は、少なくとも溶媒、触媒、硫黄
及び副生物を含んでいる前記流体を処理するための1つ
以上のゾーンを有し、該処理ゾーンは副生物の析出を好
都合にするのに適した加熱手段と副生物-溶媒分離手段
とを含むことを特徴とする。処理ゾーンの出口では、少
なくとも、主として溶媒、触媒及び硫黄からなり副生物
が殆どない流体F1と大部分の副生物を含む流体F2とが
回収される。
【0026】加熱手段は例えば120〜180℃、好ま
しくは120〜150℃で運転される。
【0027】一実施態様によれば、デカンテーションゾ
ーンは前記接触反応器の下部に位置している。
【0028】処理ゾーンは、以下の手段から選ばれる少
なくとも1つの分離手段を含むことができる:少なくと
も、主として、副生物を殆ど含まない溶媒からなる流体
1と少なくとも、生成した副生物の大部分を含む流体
2とをつくり出すのに適している濾過手段、及び/又は
少なくとも、主として、副生物を殆ど含まない溶媒から
なる流体F1と少なくとも、生成した副生物の大部分を
含む流体F2とをつくり出すのに適している、金属、活
性木炭、ゼオライト、樹脂、アルミナ、シリカ又はセラ
ミックなどの捕集手段。
【0029】この装置は、少なくとも処理工程から来る
溶媒、すなわち流体F1の一部を接触反応器にリサイク
ルさせる配管を含む。
【0030】接触反応器は例えば次のリストに掲げる装
置の1つから選ばれる:不規則又は積み重ね充填反応
器、スタチックミキサー(static mixer)SMV、イン
パクター(impactor)、ハイドロ・エジェクター(hydro-
ejector)、アトマイザー、ワイヤ接触器(wire contact
or)。
【0031】本発明の方法と装置は、例えば天然ガス洗
浄運転又は原油精製運転から来るH 2Sを処理するクラ
ウスプラント(Claus plants)の排出ガス処理用に使用
される。
【0032】この方法とそれに伴う装置はとりわけ次の
利点をもたらす:液-液デカンテーションゾーンでの液体
硫黄のデカンテーションの問題を防ぐことができる。
【0033】ある特定タイプの接触反応器に設けられた
充填物に固体副生物が蓄積するのを防ぐことができる。
【0034】僅かの数の機器を加えるだけ、したがって
低コストで、現存のクラウスポルプラント(Clauspol p
lants)を簡単に改良できる。
【0035】副生物を除去した溶媒を回収し、これをガ
ス処理工程に直接リサイクルできる。
【0036】本発明の他の特徴と利点は、添付の簡略化
した非限定的図面を参照して、本方法の各実施態様につ
いての以降の説明を読むことで明らかとなるはずであ
る。
【0037】
【発明の実施の形態】非限定的な実施例による以降に掲
げる実施態様は、少なくとも硫化水素と二酸化硫黄を含
むガスの処理中に生成した副生物の除去に関する。これ
らの副生物は、特にガス処理工程で使用する触媒が徐々
に劣化することに起因する。
【0038】図1により、この装置はガス-液接触反応
器1を含む。ライン(配管)2は、例えばクラウスプラン
トからの排出ガスである硫黄含有ガスを接触反応器に供
給し、ライン3は、例えばポリエチレングリコール400
などの溶媒とサリチル酸ナトリウムなどの触媒を含むリ
サイクル溶液を接触反応器に供給する。
【0039】以降の記載に掲げるリストから選ばれる各
種の溶媒と触媒を、本発明の範囲から逸脱することなく
使用できる。
【0040】清浄ガス(H2S及びSO2が除去されたガ
ス)はライン4を通って排出される。少なくとも触媒、
硫黄及び生成副生物を含む溶媒溶液である流体Fは、接
触反応器1からライン5を通って取り出される。この溶
液は次いでポンプ6及びライン7と13を通って、大部
分の副生物が除去される処理ゾーン14に送られる。処
理ゾーン14は少なくとも加熱手段と分離手段を含み、
そのうちのある手段が図3及び4に詳しく示されてい
る。この加熱手段は溶媒の溶液中の副生物の析出を促進
する温度を得るのに適している。当業者に公知であっ
て、この温度を得ることができ、かつ、この温度で操作
でき、とりわけ上述したように生成した副生物を、結晶
として析出させることができる、どの装置も使うことが
できる。
【0041】この処理ゾーン中の溶媒を加熱する手段
は、120〜180℃、好ましくは120〜150℃の
温度範囲で操業するのに適している。
【0042】溶媒溶液を加熱する手段(図1に不図示)と
溶媒から副生物を分離する手段(図1に不図示)を含む処
理ゾーン14の機能は、少なくとも、ライン19を通っ
て排出される大部分の副生物を含む流体F2、及び主と
して実質的に全く副生物を含まない溶媒からなっていて
例えばライン15を通って接触反応器1にリサイクルさ
れる流体F1とを得るために、特に溶媒、触媒、硫黄及
び副生物を含む溶液Fを処理することである。
【0043】副生物を殆ど含まない、液体の単一相溶液
状態の流体F1は、例えば120℃という接触反応器1
の運転に適合する好適な温度に冷却する熱交換器8に、
ライン15及び7を通って送られる。この温度は、計装
ライン10によって熱交換器8に連結する調節器9によ
ってコントロールできる。計装ライン10は、例えば熱
交換器に冷却液を送り込むためのライン12に設けられ
ているバルブ11に連結している。熱交換器8からのこ
の冷却された溶媒溶液は、ライン3を通って接触反応器
1にリサイクルできる。
【0044】大部分の副生物を含み、ライン19を通っ
て排出される流体F2は、例えば水処理に送られる前に
水で稀釈される。
【0045】デカンテーションによって得られた液体硫
黄は、ライン16で連結するデカンテーションゾーン1
7の底部に位置するライン18を通って排出される。ラ
イン18には例えばバルブV1が設けられている。
【0046】選択した温度範囲により、溶媒中に存在す
る可能性のある遊離の硫黄小滴を可溶化させることもで
きる。これには、生成した副生物と一緒に硫黄が除去さ
れるのを防ぐ効果と、処理ゾーンで構成要素である副生
物回収手段の再生から得られる流体の処理を容易にする
効果とがある。
【0047】図2は、デカンテーションゾーンが接触反
応器1の中に含まれる、実際的な変形態様を図式的に示
したものである。
【0048】参照符号は図1に示した各要素に使用した
ものと同じである。
【0049】接触反応器1の下部は、液体硫黄引き抜き
ライン18を有するデカンテーションゾーン17'とな
っており、このライン18は例えば図1に示したものと
同様のバルブV1を具備している。
【0050】リサイクルループ(特に要素5,6,7,8,
3からなる)を循環する単一相の溶媒溶液の一部、例え
ば10〜20%が、硫黄の脱飽和ゾーン41のような処
理ゾーンに送るために、ライン7からライン40を通っ
て抜き取られる。
【0051】この脱飽和ゾーン41で、溶媒中に硫黄結
晶のサスペンジョンを生成させるため、この単一相の溶
液を例えば60℃に冷却する。次いでこの析出硫黄を、
濾過、デカンテーション又は遠心分離などの当業者に公
知の各種固-液分離法によって溶媒から分離する。一方
では硫黄が除かれた溶媒が得られ、そして例えば接触反
応器1にリサイクルするためのライン42を通って取り
出され、他方では固体硫黄に富んだサスペンジョンが得
られる。この固体硫黄に富んだサスペンジョンは、硫黄
を融かすため、当業者に公知の適当な手段により再加熱
することができ、次いでライン43を通って液-液デカ
ンテーションゾーンに送られる。
【0052】本明細書に掲げる各種現実的変形態様にお
いて、その方法と装置の運転条件は以下のようにするこ
とができる:接触反応器1は、例えば50〜130℃、
好ましくは120〜122℃の範囲の温度で運転でき
る。前記の生成硫黄の液状である。生成した液体硫黄は
溶媒に殆ど溶解せず、またその密度が高いため反応器の
底に沈澱する。生成した水は清浄化ガスと一緒に排出さ
れる。上記のような条件(低い温度と生成物の連続的な
除去)では平衡(1)は右側に移る。この温度は例えば溶
媒を熱交換器8に通すことによりコントロールされる。
【0053】本方法は例えば9.8kPa〜4.9MPaの
極めて広い圧力範囲で実施できる。一実施態様では大気
圧で行う。
【0054】接触反応器は、ガスと液体を接触させるこ
とができるすべての装置又は一連の装置からなることが
でき、例えば以下の機器・装置から選択することができ
る: ・例えばSulzer社市販の不規則充填物(例えばIntalox
鞍型)又は積み重ね充填物(例えばMellapak 型)充填反
応器、 ・例えばSulzer社市販のスタチックミキサーSMV、 ・例えばAEA社市販のインパクター、 ・例えばBiotrade社市販のハイドロ-エジェクター、 ・例えばLAB社市販のアトマイザー、 ・例えばToussaint Nyssene社市販のワイヤ接触器。
【0055】普通に使用する溶媒は、フランス特許FR
-2,115,721(米国特許US-3,796,796)、
フランス特許FR-2,122,674及びフランス特許
FR-2,138,371(米国特許US-3,832,45
4)に記載されているように、モノ-又はポリ-アルキレ
ングリコール、モノ-又はポリ-アルキレングリコールエ
ステルあるいはモノ-又はポリ-アルキレンエーテルであ
る。
【0056】使用する触媒は、上記特許に記載のもの、
特に安息香酸及びサリチル酸などの有機弱酸のアルカリ
塩から選ばれる。
【0057】液相中の触媒濃度は、0.1〜5質量%範
囲が好適であり、0.5〜2質量%がさらに好ましい。
【0058】本発明の方法と装置は、酸性ガス(H2S+
SO2)含有量が0.1〜100容積%のガスを処理する
のに特に好適である。しかしながら、該方法及び装置
は、例えば0.1〜50容積%、特に0.5〜5容積%範
囲の低酸性ガス含量(H2S+SO2)を有するガスに対し
て特に有利である。
【0059】ゾーン14での分離工程は種々の方法で実
施でき、そのうちの若干を非限定的な実施例によって以
下に示す。
【0060】[濾過処理]図3に示す変形態様によれ
ば、処理ゾーン14は加熱手段20と濾過分離手段22
を含む。
【0061】ライン5を通って接触反応器1から抜き出
された溶媒溶液Fは、ポンプ6とライン7(図2)及び1
3を通って、熱交換器20と濾過手段を含む処理ゾーン
14に送られる。ここで該濾過手段は、各々が例えば少
なくとも1つの変形可能な濾布カートリッジ23からな
る、例えば1つ以上の濾過器22を表す。
【0062】この溶液は、溶媒の溶液中の副生物の析出
を促し、かつ、溶媒中に存在する可能性の高い遊離の硫
黄小滴を可溶化させるため、熱交換器20で120〜1
50℃の範囲の温度に加熱される。この溶液は次いで濾
過器22に入り、ここで固体の副生物がカートリッジ2
3に堆積する一方、副生物が除去された溶媒F1は接触
反応器1のトップにリサイクルするためライン15から
抜き出される。
【0063】堆積した固体の副生物を除去するためのカ
ートリッジ23の洗浄は、例えば濾過器22を残りの装
置から切り離して、大気圧より僅か高い圧力でライン2
4を通して導入する濾過した溶液又は水などの流体を、
カートリッジ23に送って実施される。この洗浄操作
は、生成したケーキの厚さが厚くなって濾過カートリッ
ジの圧力差が例えば0.1〜0.4MPaと高くなったと
きに必要となる。
【0064】この洗浄液の溶液中の副生物は、濾過器の
底部からライン19を通って取り出される。
【0065】残りの処理回路から処理ゾーン14を切り
離す手段は、当業者には公知なので詳しく説明しない。
この手段は特別に切り離しバルブV2を含む。
【0066】第1の濾過器を洗浄している間も溶媒溶液
の連続濾過を可能とするため、少なくともバイパス濾過
器として働く、すなわち第1の濾過器と併設した、第2
の濾過器を設けることができる。
【0067】[捕集処理]図4に示す変形態様にしたが
って、生成副生物の分離は、処理ゾーン14中で固体の
担体での捕集によって行われる。
【0068】接触反応器1からライン5を通って排出さ
れる溶媒溶液は、熱交換器20と、例えば各々が1つ以
上の捕集ベッド(Capture bed)26からなる1つ以上の
密閉容器25の捕集手段とを含む処理ゾーン14に、ポ
ンプ6とライン7(図2)及び13を通って送られる。該
ベッドは例えば金属、活性木炭、ゼオライト、樹脂、ア
ルミナ、シリカ又はセラミックなどの固体からなってい
る。
【0069】溶媒の溶液中の副生物の析出を促進し、溶
媒中に存在する遊離の硫黄小滴を可溶化するため、この
溶液は熱交換器20で120〜150℃の温度範囲に加
熱される。ライン21を通って密閉容器25に導入され
た溶媒溶液は、副生物を捕らえる捕集ベッドを通過す
る。大部分の副生物が除去された溶媒は、接触反応器1
にリサイクルするため、ライン15を通って密閉容器2
5から排出される。
【0070】このベッドが固体副生物で飽和したとき、
密閉容器25を残りの装置から切り離し、例えばライン
27を通して導入した清浄水をベッド26に通流させ
る。この水は溶解した副生物を担ってライン19から排
出される。使用する固体担体に応じて、ベッドの圧降下
を測るか又は実験室で得られた飽和曲線の外挿によって
飽和の状態をコントロールすることができる。
【0071】濾過の場合と同様、残りの処理回路から処
理ゾーン14を切り離す手段は当業者には公知であるの
で詳しく説明しない。この手段は特に切り離しバルブV
3を含む。
【0072】第1の密閉容器のベッドの再生又は取り替
え中に、溶媒溶液に含まれる副生物の捕集を連続的に行
えるように、少なくともバイパス用密閉容器として働く
第2の密閉容器を設けることができる。
【0073】
【実施例】以下に示す、数値による2つの実施例によ
り、本発明方法の異なる変形態様によってもたらされる
利点がよりよく理解できる。
【0074】これらの実施例において、用語「塩」と
は、ガス処理工程中に特に触媒の存在が原因の副反応に
よって生成すると思われる副生物のことをいう。
【0075】この2つの実施例は、副生物及び溶媒の分
離方法が異なっている。両ケースとも接触反応器は以下
のように運転される:クラウスプラントからの排出ガス
を、ライン2を通して 12 300 Nm3/時の流量で、2つ
の充填床を含むカラムからなる縦型の接触反応器1に供
給し、ライン3を通して導入する溶解触媒を含む有機溶
媒と125℃で接触させる。
【0076】この2つの実施例で使用する充填物は、鞍
型(比表面積が250m2/m3の“Inalox”セラミック鞍
型)の2床からなっている。
【0077】使用する有機溶媒は分子量400のポリエ
チレングリコールであり、可溶の触媒は100ミリモル
/kg溶媒の濃度のサリチル酸ナトリウムである。
【0078】この溶媒を、循環ポンプ6により、ライン
5,7,3及び熱交換器8を通して、500m3/時の流量
で接触反応器の底部と頂部の間をリサイクルさせる。測
定及び制御システム9,10及び11によって温度のコ
ントロールと調節がなされており、ライン12から熱水
を80℃で熱交換器に注入できる。リサイクル溶媒の温
度は125℃である。
【0079】洗浄されたガスはライン4を通って接触反
応器から流出する。生成した硫黄は接触反応器の底部に
沈澱し、ライン18を通って332kg/時の割合で取り
出す。
【0080】このプラントの入口ガス及び出口ガスの組
成を次表に掲げる:
【0081】
【表1】 ライン5を通して取り出した溶液Fは、以下に記載する
2つの方法にしたがって、処理ゾーン14で濾過又は捕
集により処理される。
【0082】[実施例1(図2及び3):濾過分離]熱交
換器20は溶媒溶液を135℃に加熱することができ、
3つの1m2表面積のカートリッジ23からなる濾過器
22は2つの流体F1及びF2を分離する。洗浄は、ケー
キの厚さが3mmを超すとき、すなわち濾過カートリッ
ジの圧力差が0.2MPaを超えるようになったとき、処
理ゾーン14を残りの装置から切り離し、ライン24か
ら僅かに加圧した水をカートリッジに送ることによって
実施される。洗浄後、塩は濾過器底部の水中の溶液に回
収され、ライン19を通って水処理に送られる。この濾
過器は約12時間毎に洗浄される。
【0083】[実施例3(図2及び4):捕集分離]本実
施例では、熱交換器20は溶媒溶液を135℃に加熱
し、各々が捕集しようとする塩と良好な親和性を有する
物質例えばセラミックの鞍型でつくられた、1m3の塩
捕集ベッド26を2つ含む密閉容器25は、流体F1
2を分離することができる。1ヶ月連続運転すると圧
降下が7kPaを超えるようになり、これはベッドが塩で
飽和したことを示す。次いで処理ゾーンを残りの装置か
ら切り離し、捕集ベッドをライン27から導入した清浄
な水で洗浄して再生し、水処理に送る前に塩を含んだ液
をライン19から排出する。
【0084】図5は従来技術による方法を図式的に示
す。流体F、すなわち主として溶媒、触媒、硫黄及び副
生物を含む単一相の溶液は、ライン5を通して抜き出さ
れ、接触反応器にリサイクルする前に熱交換器8と同様
の熱交換器30に直接送り込まれる。温度コントロール
は、計装ライン10で熱交換器30と接続した調節器9
により、図1と同様の方法で実施され、冷却後はバルブ
11を設けたライン12から供給してライン13から排
出される。
【0085】
【発明の効果】本発明の、少なくとも1つの加熱工程及
び少なくとも1つ以上の分離工程にかける方法と、それ
に伴う装置により、少なくとも溶媒、触媒、硫黄及び副
生物を含み接触反応器から抜き出した溶液を、該溶液が
含んでいる副生物の大部分を分離して実質的に副生物を
含まない溶媒を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置を構成する各要素、特に処理ゾーン
を示すブロック図である。
【図2】接触反応器の下部に位置するデカンテーション
ゾーンを含むガス処理装置を示すブロック図である。
【図3】処理ゾーンが濾過ゾーンである、本発明の一変
形を示すブロック図である。
【図4】処理ゾーンが捕集手段である、本発明の一変形
を示すブロック図である。
【図5】従来技術によるガス処理装置を示すブロック図
である。
【符号の説明】
1 接触反応器 2、3、4、5、7、12、13、15、16、18、
19、40、42、43 ライン(配管) 6 (循環)ポンプ 8、20、30 熱交換器 9 (温度)調節器 10 計装ライン 11 (冷却液流量調節)バルブ 14 処理ゾーン 17、17' デカンテーションゾーン 22 濾過器 23 カートリッジ 25 密閉容器 26 捕集ベッド 41 脱飽和ゾーン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) (72)発明者 クリスチァン シュトレイシュ フランス国 92500 リュエイユ マルメ ゾン ル マセナ 10 (72)発明者 セシル バレル−トゥリカ フランス国 75011 パリ アヴェニュ デュ トロン 7

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも硫化水素(H2S)と二酸化硫
    黄(SO2)とを含むガスの処理方法において、該ガスを
    適当な温度で一種以上の触媒を含む有機溶媒と接触さ
    せ、実質的に硫化水素及び二酸化硫黄を含まないガス排
    出物ならびに液-液デカンテーションにより該溶媒から
    分離した液体硫黄を回収する方法であって;少なくとも
    前記溶媒、前記触媒、硫黄及び副生物を含む流体Fを接
    触工程後に抜き出し、 前記流体Fを、前記副生物の析出を有利に運ぶ所定の温
    度に加熱する少なくとも1つの工程と、少なくとも溶媒
    を含む前記流体Fの残りから析出した副生物の少なくと
    も一部を分離しようとする少なくとも1つの工程とを含
    む処理工程に送り、 該処理工程後、副生物が殆ど除去され主として前記溶
    媒、前記触媒及び硫黄を含む流体F1と、大部分の前記
    副生物を含む流体F2とを回収する、ことを特徴とする
    前記ガスの処理方法。
  2. 【請求項2】 前記取り出した流体Fを、前記処理工程
    の間120〜180℃の温度に加熱する、請求項1に記
    載の方法。
  3. 【請求項3】 前記副生物分離工程を少なくとも以下の
    方法のうちの1つによって行う、請求項1又は2に記載
    の方法: a)少なくとも、主として溶媒、触媒及び硫黄を含み副生
    物を殆ど含まない流体F1と、濾過担体の再生工程後大
    部分の副生物を含む流体F2とを回収するため、少なく
    とも1つの濾過工程を実施、及び/又は b)少なくとも、主として溶媒、触媒及び硫黄を含み副生
    物を殆ど含まない流体F1と、固体担体の再生工程後大
    部分の副生物を含む流体F2とを回収するため、固体担
    体で少なくとも1つの副生物捕集工程を実施する。
  4. 【請求項4】 少なくとも殆どの前記副生物が除去され
    た溶媒である流体F 1の一部又は全部を前記接触工程に
    リサイクルする、請求項1〜3のいずれかに記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 有機溶媒と少なくとも1つの触媒を使用
    する、少なくとも硫化水素(H2S)及び二酸化硫黄(SO
    2)を含むガス排出物の処理中に生成する副生物を除去・
    回収する装置であり、該装置は、少なくとも1つの接触
    反応器(1)、少なくとも1つのデカンテーションゾーン
    (17)、少なくとも処理しようとするガス及び少なくと
    も前記溶媒と前記触媒を含む流体を供給するための配管
    (2,3)、少なくとも清浄化したガス及び少なくとも前
    記溶媒、前記触媒、硫黄及び前記副生物を含む流体Fを
    抜き出すための配管(4,5)を含む装置であって;少なく
    とも該溶媒、該触媒、硫黄及び該副生物を含む該流体F
    を処理するためのゾーン(14)を含み、該処理ゾーン
    は、該副生物の析出を有利に運ぶのに適した加熱手段
    (20)と、少なくとも該溶媒、該触媒及び硫黄を含む残
    りの前記流体から該副生物を分離するのに適した分離手
    段(22又は25)とを含み、その結果、少なくとも、主
    として該溶媒、該触媒、硫黄を含み、殆ど該副生物を含
    まない流体F1と大部分の該副生物を含む流体F2が前記
    処理ゾーンの出口で回収されることを特徴とする装置。
  6. 【請求項6】 前記加熱手段(20)を120〜180℃
    の温度範囲で運転する、請求項5に記載の装置。
  7. 【請求項7】 前記デカンテーションゾーン(17)が前
    記接触反応器(1)の下部に位置していることを特徴とす
    る、請求項5又は6に記載の装置。
  8. 【請求項8】 前記処理ゾーンが、以下の手段から選ば
    れる少なくとも1つ手段を含むことができる、請求項5
    〜7のいずれかに記載の装置:少なくとも主として前記
    溶媒を含み前記副生物を殆ど含まない流体F1と、少な
    くとも生成した前記副生物の殆どを含む流体F2とをつ
    くり出すのに適している濾過手段、及び/又は少なくと
    も主として前記溶媒を含み前記副生物を殆ど含まない流
    体F1と、少なくとも生成した前記副生物の殆どを含む
    流体F2とをつくり出すのに適している、金属、活性木
    炭、ゼオライト、樹脂、アルミナ、シリカ又はセラミッ
    クなどの捕集手段。
  9. 【請求項9】 前記処理工程から前記溶媒の少なくとも
    一部を前記接触反応器にリサイクルさせる配管を含む、
    請求項5〜8のいずれかに記載の装置。
  10. 【請求項10】 前記接触反応器が以下に掲げる装置の
    1つから選ばれる、請求項5〜9のいずれかに記載の装
    置:不規則又は積み重ね充填反応器、又はスタチックミ
    キサーSMV、又はインパクター、又はハイドロ-エジ
    ェクター、又はアトマイザー、又はワイヤ接触器。
  11. 【請求項11】 天然ガス洗浄運転又は原油精製運転か
    らのH2Sを処理するクラウスプラントからの排出ガス
    を処理するための、請求項1〜4のいずれかに記載の方
    法の使用。
  12. 【請求項12】 天然ガス洗浄運転又は原油精製運転か
    らのH2Sを処理するクラウスプラントからの排出ガス
    を処理するための、請求項5〜10のいずれかに記載の
    装置の使用。
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