JP2003178898A - テーブルカバー又はワークベンチカバー - Google Patents

テーブルカバー又はワークベンチカバー

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JP2003178898A
JP2003178898A JP2002333304A JP2002333304A JP2003178898A JP 2003178898 A JP2003178898 A JP 2003178898A JP 2002333304 A JP2002333304 A JP 2002333304A JP 2002333304 A JP2002333304 A JP 2002333304A JP 2003178898 A JP2003178898 A JP 2003178898A
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cover
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table cover
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JP2002333304A
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English (en)
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Hans-Michael Kuehl
ハンス−ミヒャエル・ケール
Gerhard Graab
ゲルハルト・グラープ
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Carl Freudenberg KG
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Carl Freudenberg KG
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05FSTATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
    • H05F3/00Carrying-off electrostatic charges

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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 絶縁抵抗が約10Ωであり、表面抵抗が約5
×10Ωであるとともに、抽出可能な硫酸濃度が工作物
を腐食させることがない範囲にまで低減されているテー
ブルカバー又はワークベンチカバーを提供する。 【解決手段】 本発明のテーブルカバー又はワークベン
チカバーは、5×10Ωcm〜5×10Ωcmの範囲の抵抗
率を有する第1導電層と、5×10Ωcm〜5×10Ωcm
の範囲の抵抗率を有する第2導電層とからなるテーブル
カバー又はワークベンチカバーであって、各導電層がゴ
ム混合物からなり、帯電防止剤及び/又は導電性粒子を
含有し、一緒にカレンダー加工され、加硫によって結合
されているものにおいて、テーブルカバー又はワークベ
ンチカバーの脱イオン水によって抽出可能な硫酸濃度が
100 μg/cm未満であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、テーブルカバー又
はワークベンチカバーに関する。より詳細には、本発明
は、5×10Ωcm〜5×10Ωcmの範囲内の抵抗率を有
する第1導電層と、5×10Ωcm〜5×10Ωcmの範囲
内の抵抗率を有する第2導電層とからなり、前記導電層
がそれぞれゴム混合物から製造され、帯電防止剤及び/
又は導電性粒子を含有し、カレンダー加工及び加硫によ
って結合されているテーブルカバー又はワークベンチカ
バーに関する。
【0002】
【従来の技術】電子工業で使用されるテーブルカバー
は、2つの重要な機能を有する。一つには、テーブルカ
バーが、その抵抗率に基づく電気的誘導特性によって、
工作物の静電荷を排除することであり、他方では、テー
ブルカバーの表面が、その上で加工される電子部品の機
械的損傷を防止することである。2層に構成され、典型
的には10Ω〜10Ωのリーク抵抗を有するテーブルカ
バーが公知である(例えば非特許文献1)。ハードディ
スクのメモリ密度を増大させるという要求事項によっ
て、汚染物のない生産に関してますます高い要求事項が
課せられてきている。特にこのような要求事項は、湿気
と関連してハードディスクを腐食させることがあるイオ
ン性の汚染物に関連する。それらの汚染物の中でも特に
硫酸イオンが有害な腐食性物質として実証されている。
従来のゴムテーブルカバーは、脱イオン水による抽出
と、イオンクロマトグラフィーを組み合わせた既定の測
定により、そのカバー表面の硫酸値が200〜800 μg/cm
のオーダーにあることが示されている。
【0003】
【非特許文献1】ヴァルムビール社(Firma Warmbier)
のパンフレット
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、IEC61340-4
-1の規格に準じて測定した絶縁抵抗が約10Ωであり、
表面抵抗が約5×10Ωであり、抽出可能の硫酸濃度が
工作物を腐食する危険のない範囲にまで低減されている
冒頭に述べた形式のテーブルカバー又はワークベンチカ
バーの提供を課題としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明にし
たがい、5×10Ωcm〜5×10Ωcmの範囲の抵抗率を
有する第1導電層と、5×10Ωcm〜5×10Ωcmの範
囲の抵抗率を有する第2導電層とからなるテーブルカバ
ー又はワークベンチカバーであって、前記各導電層が、
各々一種のゴム混合物からなり、帯電防止剤及び/又は
導電性粒子を含有し、ともにカレンダー加工され、なら
びに加硫によって結合され、脱イオン水を使用して抽出
可能な硫酸濃度が100 μg/cm未満であるテーブルカ
バー又はワークベンチカバーによって解決される。この
ようなテーブルカバー又はワークベンチカバーは、抽出
可能な硫酸イオンの腐食作用が抽出可能な硫酸イオンの
量に依存し、本願発明によるテーブルカバー又はワーク
ベンチカバーの硫酸イオンが、公知のものと比較して、
少なくとも約50%低減されているため、非常に高いメモ
リ密度を有するコンピュータハードディスクの製造を可
能とする。
【0006】好ましくは、本発明のテーブルカバー又は
ワークベンチカバーの第1導電層は明色であり、導電性
を発生させるために、5〜12重量%の帯電防止剤を含有
する。帯電防止剤として、たとえばグリコールエステル
及び/又は第四アンモニウム化合物が使用される。
【0007】好ましくは、本発明のテーブルカバー又は
ワークベンチカバーの第2導電層は、導電性をもたらす
ために、5〜10重量%の導電性粒子及び/又は導電性繊
維を含有する。
【0008】本発明のテーブルカバー又はワークベンチ
カバーは、スチレン−ブタジエン−ゴム(SBR)及び/
又はアクリロニトリル−ブタジエン−ゴム(NBR)の種
類から選ばれたゴム混合物からなり、0〜50重量%の無
機充填剤、0〜10重量%の顔料及び0.2〜10重量%の過
酸化架橋剤を含有する。
【0009】本発明のテーブルカバー又はワークベンチ
カバーは、処理を容易にするために、ステアリン酸又は
ステアリン酸亜鉛のような処理助剤が添加されているこ
とが好ましい。
【0010】テーブルカバー又はワークベンチカバーの
層が2〜7重量%の有機過酸化物を架橋剤として含有し
ていることが特に有利である。
【0011】本発明は、さらにテーブルカバー又はワー
クベンチカバーの製造方法であって、 a)第1ゴム混合物を、0〜50重量%の無機充填剤、0
〜10重量%の顔料、5〜12重量%の帯電防止剤及び0.2
〜10重量%の過酸化架橋剤の存在下で製造するステッ
プ、 b)第2ゴム混合物を、0〜50重量%の無機充填剤、5
〜10重量%の導電性粒子及び0.2〜10重量%の過酸化架
橋剤の存在下で製造するステップ、 c)カレンダー加工により、前記第1及び第2ゴム混合
物から厚み0.2〜5mmの層を形成するステップ、 d)前記層を、0.2MPa〜5MPa(2〜50 bar)の比圧力
又は圧力、及び120〜250℃の温度の一回の圧縮工程で圧
縮及び加硫するステップからなる方法に関する。
【0012】連続的な層を製造し、それらの層を一緒に
連続的にカレンダー加工及び加硫することが好ましい。
【0013】本発明のテーブルカバー又はワークベンチ
カバーは、好ましくは電子機器の製造分野、特にコンピ
ュータハードディスクの製造分野に使用される。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に本発明を実施例を利用して
より詳しく説明する。
【0015】実施例 本発明のテーブルカバー又はワークベンチカバーは、制
限された導電性を有する明色の第1層と、良好な導電性
を有する黒色の第2層とを互いに一体に結合することに
より形成されている。第1層は、ケイ酸塩のような無機
充填剤、導電性をもたらせるための帯電防止剤、着色用
の顔料及び架橋剤として有機過酸化物が混合されている
アクリロニトリル−ブタジエン−ゴム(NBR)の種類の
ポリマーを基材とするゴム混合物からなる。第2層は、
顔料の代わりにカーボンブラックが導電性充填剤として
添加される点を除いて、第1層と同じポリマー類及び第
1層と同じ添加物からなる。第1層及び第2層を形成す
る混合物は、それぞれ密閉式混合機で混合され、さらに
得られた粗混合物は、カレンダー加工により、それぞれ
約1.2mmの仕上げ厚みの層に形成される。第1層及び第
2層の経路が重ね合わされ、連続加硫機の中で100〜190
℃で0.5MPa〜3MPa(5〜30 bar)の比圧力下で加硫さ
れ、互いに一体に結合される。本発明のテーブルカバー
又はワークベンチカバーの小切断材料から脱イオン水に
よって抽出可能な硫酸イオンの濃度を分析したところ、
65μg/cmであった。個々の層の組成は、表1に示す
通りである。
【0016】
【表1】
【0017】
【発明の効果】本発明は、5×10Ωcm〜5×10Ωcm
の範囲の抵抗率を有する第1導電層と、5×10Ωcm〜
5×10Ωcmの範囲の抵抗率を有する第2導電層とから
なるテーブルカバー又はワークベンチカバーであって、
各導電層がゴム混合物からなり、帯電防止剤及び/又は
導電性粒子を含有し、一緒にカレンダー加工され、加硫
によって結合されているものにおいて、テーブルカバー
又はワークベンチカバーの脱イオン水によって抽出可能
な硫酸濃度が100 μg/cm未満であることを特徴とす
るテーブルカバー又はワークベンチカバーに関する。こ
の構成により、絶縁抵抗が高く、抽出可能な硫酸濃度が
腐食の危険のない範囲にまで低減されているテーブルカ
バー又はワークベンチカバーが提供される。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 5×10Ωcm〜5×10Ωcmの範囲の抵
    抗率を有する第1導電層と、5×10Ωcm〜5×10Ω
    cmの範囲の抵抗率を有する第2導電層とからなるテーブ
    ルカバー又はワークベンチカバーであって、前記各導電
    層がゴム混合物からなり、帯電防止剤及び/又は導電性
    粒子を含有し、一緒にカレンダー加工され、加硫によっ
    て結合されているものにおいて、 前記テーブルカバー又はワークベンチカバーの脱イオン
    水によって抽出可能な硫酸濃度が100 μg/cm未満で
    あることを特徴とするテーブルカバー又はワークベンチ
    カバー。
  2. 【請求項2】 前記第1導電層が、明色であり、かつ導
    電性をもたらすために5〜12重量%の帯電防止剤を含有
    する請求項1記載のテーブルカバー又はワークベンチカ
    バー。
  3. 【請求項3】 前記第2導電層が、導電性を発生するた
    めに、5〜10重量%の導電性粒子及び/又は導電性繊維
    を含有する請求項1記載のテーブルカバー又はワークベ
    ンチカバー。
  4. 【請求項4】 前記ゴム混合物が、スチレン−ブタジエ
    ン−ゴム(SBR)及び/又はアクリロニトリル−ブタジ
    エン−ゴム(NBR)の種類のポリマーを基材とし、0〜5
    0重量%の無機充填剤、0〜10重量%の顔料及び0.2〜10
    重量%の過酸化物架橋剤を含有するポリマー類から選択
    される請求項1〜3のいずれか1項記載のテーブルカバ
    ー又はワークベンチカバー。
  5. 【請求項5】 処理助剤を含有する請求項1〜4のいず
    れか1項記載のテーブルカバー又はワークベンチカバ
    ー。
  6. 【請求項6】 前記各導電層が2〜7重量%の有機過酸
    化物を架橋剤として含有する請求項1〜5のいずれか1
    項記載のテーブルカバー又はワークベンチカバー。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載のテ
    ーブルカバー又はワークベンチカバーを製造する方法で
    あって、 a)第1ゴム混合物を、0〜50重量%の無機充填剤、0
    〜10重量%の顔料、5〜12重量%の帯電防止剤及び0.2
    〜10重量%の過酸化物架橋剤の存在下に製造するステッ
    プ、 b)第2ゴム混合物を、0〜50重量%の無機充填剤、5
    〜10重量%の導電性粒子及び0.2〜10重量%の過酸化物
    架橋剤の存在下に製造するステップ、 c)カレンダー加工により、前記第1及び第2ゴム混合
    物から厚み0.2〜5mmの層を形成するステップ、 d)前記層を、0.2MPa〜5MPaの圧力及び120℃〜250℃
    の温度の一回の圧縮工程で圧縮及び加硫するステップか
    らなる方法。
  8. 【請求項8】 連続的な層を製造し、連続的に同時に加
    硫する請求項7記載の方法。
  9. 【請求項9】 請求項1〜6のいずれか1項に記載のテ
    ーブルカバー又はワークベンチカバーを電子機器の製造
    分野において使用する方法。
  10. 【請求項10】 ハードディスクの製造分野において実
    施される請求項9記載の方法。
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