JP2003177060A - 音圧測定装置、超音波処理装置および超音波処理方法 - Google Patents
音圧測定装置、超音波処理装置および超音波処理方法Info
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Abstract
定化を図るための音圧測定装置、それを装着した超音波
処理装置および超音波処理方法を提供すること。 【解決手段】 音圧計10の受振体11の受波面11a
を曲面状にむく体で形成し、この受振体11の受波面1
1aに対向する位置に密接して圧電素子12を配置す
る。
Description
する音圧測定装置、それを用いた超音波処理装置および
超音波処理方法に関する。
枚葉スピン式の洗浄装置やデイップ式の洗浄装置等で
は、供給される純水や薬液を介して、超音波を対象基板
に照射する超音波洗浄工程が設けられている。洗浄液に
は600〜2000kHz程度の帯域の超音波振動が印
加され、洗浄対象の基板に照射される。
子で発振した超音波を振動板を介して付与された洗浄液
を開口部から洗浄対象の被処理体に供給して超音波を照
射する超音波ノズル方式が用いられている。
処理体である基板面での超音波強度を知ることにより、
超音波発振電源が正常に作動しているか、あるいは、振
動子で発生した超音波が効率良く洗浄液に導かれている
か、振動子の劣化等による振動効率の変化が無いか、水
質の変化による洗浄液中での超音波伝播効率の変化が無
いか等を確認することは洗浄能力の維持を確認するうえ
で重要である。
装置において、従来行われている超音波の音圧測定の一
例を第7図に示す。音圧計50aは、超音波ノズル52
から給液される超音波が印加されている洗浄液を、一端
に圧電素子53が接続されているバー型石英棒51の側
面で受け、その際に圧電素子53において超音波の強度
に対応して発生した電力を、圧電素子53に電気的に接
続されている電圧計54もしくは電流計で測定して表示
するまた、別の従来例の一例を図8に示す。音圧計50
bの音圧受波面61はステンレス材を使用し、音圧受波
面61の形状を平面としたものである。つまり、平面形
状の音圧受波面61に測定対象の超音波ノズル52を対
向させ、超音波を印加した洗浄液を音圧受波面61に供
給する。音圧受波面61に印加された超音波振動の一部
はステンレス材の中を伝播して、ステンレス材に接続さ
れた圧電素子53に伝播される。圧電素子53では伝播
された超音波振動に対応した電力が発生し、この発生電
力を電圧計54もしくは電流計で測定して表示する。
は、音圧センサの先端部を球状面からなる感知部に形成
した構造が開示されている。
バー型石英棒51による受波により音圧測定を行った場
合は、バー型石英棒51の曲率半径が小さいため、ごく
限られた振動方向の音波のみがバー型石英棒51の中に
入射して伝播し、圧電素子53によって電圧変換される
ため、被処理体の処理に供される超音波強度の、ごく一
部のみの測定しか行えない。また、超音波の振動方向と
圧電素子53の装着方向が90度程度異なるため、バー
型石英棒51の中を反射を繰返しながら伝播してきた振
動の方向成分の内の、圧電素子53の圧電方向と同一方
向の振動のみを測定することになる。そのため、バー型
石英棒51の設置角度により大きく値が変動することが
あり、測定の信頼性、再現性が低い。
受波面61が平面のため、超音波ノズル52の振動子の
振動面と平行に設置した場合、音圧受波面61で超音波
が反射され、洗浄液を伝播し、振動子に反射波として入
射する。これにより発振効率の低下、発振波形の歪の発
生が起こり、発振状態が不安定になる恐れがある。ま
た、超音波の反射波は振動子において電気的な反射波に
変換され、発振電源での発熱・発振不良を引き起こし、
振動子の破壊にいたる場合もある。
厚みを有しているため、特定の受波角度において振動子
の発振波長に対して共振現象が発生するため、同一の音
圧に対しても受波角度により音圧測定値が大きく異な
る。また、この現象は発振周波数によっても変化する。
用しているため、強酸により腐食が発生するため、強酸
を使用する装置での使用ができず、ステンレス材に付着
した純水などの飛散により、被洗浄物を金属不純物で汚
染させることもある。
示された構造では、球状面からなる感知部からパイプ状
の柱状体を介して受波した音波を圧電素子に導いている
ため、受波した音波はパイプ内の内壁で反射を繰返して
進行するため減衰が大きく精度のよい測定が得られない
場合がある。
もので、超音波ノズルの音圧を測定し、超音波音圧を一
定に保つことにより、被処理物へのダメージの無い良好
な処理の安定化を図るための音圧測定装置、それを装着
した超音波処理装置および超音波処理方法を提供するこ
とを目的としている。
段によれば、受波面が曲面状に形成され、かつ、むく体
で形成された受振体と、この受振体の前記受波面に対向
する位置に密接して配置され前記受振体が受振した音圧
を電気信号に変換する変換素子とを有することを特徴と
した音圧測定装置である。
前記受振体の前記受波面を除く部位の一部あるいは全部
は、超音波を反射または吸収する材質によって被覆され
ていることを特徴とする音圧測定装置である。
前記受振体と筐体との間は防水構造により封止されてい
ることを特徴とする音圧測定装置である。
超音波が印加された処理液を超音波ノズルから被処理体
に供給して所定の処理をほどこす超音波処理装置におい
て、前記超音波ノズルは、被処理体と所定距離対向離間
した位置と、この被処理体と異なる位置に配置された音
圧計と所定距離対向離間した位置とを移動自在に設けら
れていることを特徴とする超音波処理装置である。
被処理体と所定距離対向離間した位置から超音波ノズル
により超音波が印加された処理液を該被処理体に供給す
る工程と、前記被処理体と異なる位置に配置された音圧
計と所定距離対向離間した位置から超音波ノズルにより
超音波が印加された処理液を該音圧計に供給する工程
と、前記音圧計により音圧を測定する工程とを有するこ
とを特徴とする超音波処理方法である。
前記超音波ノズルにより超音波が印加された処理液を該
被処理体に供給して該被処理体にほどこす処理は、洗浄
処理であることを特徴とする超音波処理方法である。
前記超音波ノズルにより超音波が印加された処理液を該
被処理体に供給して該被処理体にほどこす処理は、ケミ
カルエッチング処理であることを特徴とする超音波処理
方法である。
て、本発明の音圧測定装置を装着した超音波洗浄装置を
図面を参照して説明する。
音波洗浄装置の模式構成図である。
ャック1に被処理物であるウエハ基板2が設置し保持さ
れ、スピンチャック1はモータ3の回転軸3aに取り付
けられており、任意の回転数で回転される。スピンチャ
ック1の外周に沿って設けられ、スピンチャック1が回
転した際に遠心力で飛散した洗浄液を内部に受け止める
ようにカップ4が設置されている。カップ4の底面には
排気および廃液を行うための排気・廃液口5が設置され
る。スピンチャック1の上にはスピンチャック1の上を
移動可能な超音波ノズル6が設置され、超音波ノズル6
の内部には、外部の発振電源7と電気的に接続された振
動子9が設けられており、発振電源7の駆動により振動
子9が振動し、超音波を発生する。また、超音波ノズル
6には洗浄液(処理液)を供給する給液管8が接続され
る。
ャック1にウエハ2を設置し、モータ3により任意の回
転数でスピンチャック1およびウエハ2が回転する。ス
ピンチャック1の上に超音波ノズル6がカップ4の外側
から移動し、給液管8を介して超音波ノズル6に洗浄液
が供給される。振動子9で発生した超音波は振動板(不
図示)を介して給液管8により供給された洗浄液に印加
され、洗浄液が超音波ノズル6の開口部からウエハ2に
供給される際に洗浄液中を伝播して照射される。その
際、超音波ノズル6をウエハ2の径方向にスキャンさせ
ることでウエハ2の全面を洗浄処理することができる。
6はカップ4の外側に搬送機構(不図示)により搬送さ
れて退避している。このとき超音波ノズル6の直下の位
置に音圧計(音圧測定装置)10が設置され、音圧計1
0の受振体11が超音波ノズル6と対向している。その
際、超音波ノズル6の開口部と受振体11との距離は洗
浄処理時の超音波ノズル6の開口部とウエハ2の面との
距離とほぼ等距離に設定されている。
予め距離に応じて換算できる関係が成立していれば、等
距離でなくても換算できる関係に応じた任意の距離に設
定することができる。
4の外側、即ち音圧計10の直上にあるときにウエハ2
の処理時と同じ条件で洗浄液の供給および超音波発振を
行い。音圧計10の受振体11に洗浄処理と同様の動作
を行う。受振体11に照射された超音波の一部は受振体
11を透過して受振体11に接続された圧電素子12に
入射し、入射した音圧に対応する電力を発生させる。圧
電素子12と電気的に接続された音圧表示部13で圧電
素子12に発生した電力からの音圧相当値を表示する。
1に圧電素子12が接続され、圧電素子12は同軸ケー
ブル15により電気的に音圧表示部13と接続される。
受振体11は石英やサファイアなどの洗浄液に対し金属
不純物による汚染を発生させることが無く、耐食性を備
えたむく体で形成されている。したがって、先端部の受
波面11aで受波した超音波はむく体で形成された受振
体11を伝達してほとんど減衰することなく圧電素子1
2に到達する。それにより、極めて高精度の超音波の測
定を行うことができる。
状の曲面(例えば球面あるいは蒲鉾型)に形成されてい
る。この曲面の曲率半径は1例を挙げれば、20〜60
mm程度である。また、受波面11aの先端形状は逆に
凹面状の曲面(例えば球面)に形成しても良い。なお、
受振体11は、石英やサファイのほかに、SiC、SU
S、TaあるいはTiを用いることができる。また、受
振体11の少なくとも洗浄液に浸される部分の受波面1
1aを除く部分に超音波を反射する金属や、超音波を吸
収するフッ素樹脂等の材質で被覆されている。また、こ
の受振体11を保持している樹脂製の筐体14は、フッ
素樹脂(例えばPFA、PTFE、ETFE、BCTF
B、CTFB、PCTFE)や塩化ビニル樹脂などの対
象液体に対し金属不純物による汚染を起こすことが無
く、耐食性を有する材質で形成されている。
状をしており、圧電素子12側の円柱の方が直径が大き
く、また圧電素子12の外径よりも大きい。受振体11
と筐体14の間にはOリング等のシールリング17が設
けられている。圧電素子12と音圧表示部13を電気的
に接続している同軸ケーブル15の周りには被覆チユー
ブ18が筐体14と接続されており、筐体14内への液
体の浸入を防止し、圧電素子12および同軸ケーブル1
5への洗浄液による劣化、腐食を防止している。
電源7とを接続し、音圧測定値が既定値となるように発
振電源7の出力をフィードバック制御することで、任意
の音圧値に自動制御することができる。
筐体14の圧電素子12が収納された空間を気体で陽圧
(正圧)状態した例について図3に示した構成図により
説明する。
ューブ18には、内部に圧電素子1と接続した同軸ケー
ブル15と管路18aが形成され、被覆チューブ18の
先端に3方コネクタ23が設けられている。3方コネク
タ23の分岐した一方は同軸ケーブル15が気密に保持
され音圧表示部13に接続されている。分岐したもう一
方にはチューブ21を介して圧力調整バルブ24および
気体供給源が接続される。チューブ21内に供給される
気体は窒素が望ましく、供給源としてはガスボンベなど
が用いられる。また、低湿度の空気などでも機能し、こ
の場合の供給源としてはエアポンプなどがあげられる。
陽圧の気体で常に満たされ、受振体11と筐体14との
隙間などからの筐体14の内部への洗浄液の浸入を防止
することができる。また。超音波槽などの内部に浸漬さ
れた際に水圧がかかることにより筐体14の内部に液体
が流入しやすくなるが、筐体14の内部の気体圧力を圧
力調整バルブ23により水圧以上に調整することによ
り、筐体14の内部への洗浄液の侵入を防止することが
できる。
入を防止し、圧電素子12や同軸ケーブル15への、洗
浄液による劣化や腐食を防止している。
変更させた際の、上述の実施の形態で示した音圧計10
での音圧測定値のグラフである。発振電力の増加に伴
い、音圧値もほぼ直線状に良好に上昇していることが示
されている。
一定にした際の、超音波ノズル6の洗浄液の吐出方向に
対する上述の実施の形態で示した音圧計10の受振体1
1、および従来の技術での音圧計の受振体との角度を順
次変更した際の音圧測定値とを比較したグラフである。
も測定値が大きく増減を行い、左右での感度も大きく異
なるのに対し。上述の実施の形態で示した音圧計では0
度を中心に測定値は緩やかに変化しており、音圧計の設
置状態における誤差を小さくすることができ、経年変化
などによる音圧計位置および超音波ノズルの位置変化に
対しても誤差を生じる恐れが少ない。
過すると、劣化により発振効率が低下して音圧が低下す
る。また、異常発振などにより圧電素子が破壊すること
もある。この時超音波ノズルを洗浄装置から外し、振動
子の交換を行うが、この時若干の設置位置、角度が以前
とずれる場合がある。この様な場合でも上述の実施の形
態で示した音圧計は、超音波ノズル位置の細かな調整が
必要無く、再現性良く設置できるので、常に高精度で音
圧を測定することができる。
音圧計10を用いた超音波処理槽の内部の音圧分布測定
装置および超音波洗浄装置について説明する。
る。
波洗浄槽31には、底部に振動子32が設けられてお
り、この振動子32は発振電源33に接続されている。
また、超音波洗浄槽31の内部には洗浄液30の中に、
上述の音圧計10が浸漬されている。音圧計10の受振
体11の後端は圧電素子12に接続され、圧電素子12
は音圧表示部13と接続されている。受振体11に照射
された超音波の一部は受振体11を透過して受振体11
に接続された圧電素子12に入射し、入射した音圧に対
応する電力を発生させる。圧電素子12と電気的に接続
された音圧表示部13で圧電素子12で発生した電力か
ら音圧相当値を表示する。
自在な移動手段34によって保持され、移動手段34と
音圧計10との接続部は角度自在となっている。従っ
て、音圧計10は移動手段34の移動に伴い、超音波洗
浄槽31の内部の平面方向と深さ方向の任意の点に移動
することができる。
続的または段階的に移動させ、音圧測定を行うことによ
り、超音波洗浄槽31の内部の3次元的な音圧分布を測
定することができる。また、音圧計10の移動手段34
との角度を変えることにより、音波の方向性を概略把握
することができる。
の音圧計を用いたケミカルエッチング装置について説明
する。なお、スピン式のウエットエッチングでは、構造
自体は図1に示した構造と同様であるので、構造の説明
に関しては重複説明を避けるために省略し、動作の説明
についてはその符号を援用する。なお、構造面で音圧計
の受振体は耐薬液性が必要であるので、材質を石英、サ
ファイア、SiCあるいはTaにより形成している。
場合は、ウエハをスピンチャクにチャッキングし、回転
させながら薬液をスプレーしてエッチングを行う。すな
わち、スピンチャック1にウエハ2を設置し、モータ3
により任意の回転数でスピンチャック1およびウエハ2
が回転する。スピンチャック1の上に超音波ノズル6が
カップ4の外側から移動し、給液管8を介して超音波ノ
ズル6に薬液が供給される。超音波ノズル6内には発振
電源7と電気的に接続された振動子9が設けらており、
発振電源7の駆動により振動子9が振動し、超音波を発
生する。振動子9で発生した超音波は給液管8により供
給された薬液に印加され、薬液が超音波ノズル6の開口
部からウエハ2に吐出される際に薬液中を伝播して薬液
とともにウエハ2に照射される。その際、超音波ノズル
6をウエハ2の径方向に移動させることでウエハ2のエ
ッチング処理することができる。
ノズル6はカップ4の外側にある。このときの超音波ノ
ズル6の直下に音圧計10が設置され、受振体11が超
音波ノズル6と対向する。このとき、超音波ノズル6の
開口部と受振体11との距離はエッチング処理時の超音
波ノズル6の開口部とウエハ2面との距離と等距離とす
る。なお、開口部とウエハ2面との距離は、予め距離に
応じて換算できる関係が成立していれば、等距離でなく
ても所定の間隔に設定することができる。
4の外側、即ち音圧計10の直上にあるときにウエハ2
の処理時と同じ条件で薬液の供給および超音波発振を行
い。音圧計10の受振体11に超音波処理と同様の動作
を行う。受振体11に照射された超音波の一部は受振体
11を透過して受振体11に接続された圧電素子12に
入射し、入射した音圧に対応する電力を発生させる。圧
電素子12と電気的に接続された音圧表示部13で圧電
素子12で発生した電力から音圧相当値を表示する。
から吐出された洗浄液中の音圧、あるいは、超音波槽の
内部の任意の各測定点の音圧を正確に測定することがで
きる。
圧を正確に測定して、その結果を用いることにより、そ
れぞれ音圧を一定に保つことにより、被処理物に対して
ダメージの無い良好な処理を行うことができる超音波処
理装置と超音波処理方法が実現できる。
に示したものであり、種々変形が可能であることは言う
までもない。
された洗浄液中の音圧や、超音波槽の内部の任意の測定
点の音圧を正確に測定することができる。
処理装置や超音波処理方法が可能である。
置の模式構成図。
更した際の音圧測定値とを比較したグラフ。
9…振動子、10…音圧計、11…受振体、11a…受
波面、12…圧電素子
Claims (7)
- 【請求項1】 受波面が曲面状に形成され、かつ、むく
体で形成された受振体と、この受振体の前記受波面に対
向する位置に密接して配置され前記受振体が受振した音
圧を電気信号に変換する変換素子とを有することを特徴
とした音圧測定装置。 - 【請求項2】 前記受振体の前記受波面を除く部位の一
部あるいは全部は、超音波を反射または吸収する材質に
よって被覆されていることを特徴とする請求項1記載の
音圧測定装置。 - 【請求項3】 前記受振体と筐体との間は防水構造によ
り封止されていることを特徴とする請求項1記載の音圧
測定装置。 - 【請求項4】 超音波が印加された処理液を超音波ノズ
ルから被処理体に供給して所定の処理をほどこす超音波
処理装置において、 前記超音波ノズルは、被処理体と所定距離対向離間した
位置と、この被処理体と異なる位置に配置された音圧計
と所定距離対向離間した位置とを移動自在に設けられて
いることを特徴とする超音波処理装置。 - 【請求項5】 被処理体と所定距離対向離間した位置か
ら超音波ノズルにより超音波が印加された処理液を該被
処理体に供給する工程と、 前記被処理体と異なる位置に配置された音圧計と所定距
離対向離間した位置から超音波ノズルにより超音波が印
加された処理液を該音圧計に供給する工程と、 前記音圧計により音圧を測定する工程とを有することを
特徴とする超音波処理方法。 - 【請求項6】 前記超音波ノズルにより超音波が印加さ
れた処理液を該被処理体に供給して該被処理体にほどこ
す処理は、洗浄処理であることを特徴とする請求項5記
載の超音波処理方法。 - 【請求項7】 前記超音波ノズルにより超音波が印加さ
れた処理液を該被処理体に供給して該被処理体にほどこ
す処理は、ケミカルエッチング処理であることを特徴と
する請求項5記載の超音波処理方法。
Priority Applications (1)
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JP2001379704A JP4240877B2 (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 音圧測定装置、超音波処理装置および超音波処理方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009158785A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2019186383A (ja) * | 2018-04-10 | 2019-10-24 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置、加工装置及び洗浄力評価方法 |
JP2021022716A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 倉敷紡績株式会社 | 処理室内装置の排気システムおよびケーブルカバー |
-
2001
- 2001-12-13 JP JP2001379704A patent/JP4240877B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP7080558B2 (ja) | 2018-04-10 | 2022-06-06 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置、加工装置及び洗浄力評価方法 |
JP2021022716A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 倉敷紡績株式会社 | 処理室内装置の排気システムおよびケーブルカバー |
JP7208116B2 (ja) | 2019-07-30 | 2023-01-18 | 倉敷紡績株式会社 | 処理室内装置の排気システムおよびケーブルカバー |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060123 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060802 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080512 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081118 |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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