JP2003176500A - 汚損物除去用洗浄剤 - Google Patents
汚損物除去用洗浄剤Info
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- JP2003176500A JP2003176500A JP2002328081A JP2002328081A JP2003176500A JP 2003176500 A JP2003176500 A JP 2003176500A JP 2002328081 A JP2002328081 A JP 2002328081A JP 2002328081 A JP2002328081 A JP 2002328081A JP 2003176500 A JP2003176500 A JP 2003176500A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】電力機器等の洗浄面を損傷することなく、イオ
ン性汚損物質と油性汚損物質をともに容易に洗浄するこ
とのできる汚損物除去用洗浄剤を提供する。 【解決手段】電力機器や電気設備及び装置に組み込まれ
る部品の表面に付着したイオン性や油性などの汚損物質
を洗浄する洗浄剤として、界面活性剤を添加したアルコ
ール水溶液のＰＨ値を５〜８の範囲にとした洗浄剤によ
り洗浄された電力機器や電気設備及び装置に組み込まれ
る部品は、腐食が発生することはなく、また乾燥時間を
短縮できる。
ン性汚損物質と油性汚損物質をともに容易に洗浄するこ
とのできる汚損物除去用洗浄剤を提供する。 【解決手段】電力機器や電気設備及び装置に組み込まれ
る部品の表面に付着したイオン性や油性などの汚損物質
を洗浄する洗浄剤として、界面活性剤を添加したアルコ
ール水溶液のＰＨ値を５〜８の範囲にとした洗浄剤によ
り洗浄された電力機器や電気設備及び装置に組み込まれ
る部品は、腐食が発生することはなく、また乾燥時間を
短縮できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電力機器や電気部
品の表面に付着した汚損物を除去する汚損物除去用洗浄
剤に関する。
品の表面に付着した汚損物を除去する汚損物除去用洗浄
剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、電力機器や電気設備及び装置に
組み込まれる部品の表面には、設置条件や設置環境によ
って、長期に亘る稼働中には、イオン性や油性などの汚
損物質が付着する。
組み込まれる部品の表面には、設置条件や設置環境によ
って、長期に亘る稼働中には、イオン性や油性などの汚
損物質が付着する。
【０００３】このうち、前者のイオン性の汚損物質が電
気機器の表面に付着すると、腐蝕等によって沿面絶縁耐
電圧特性が低下する要因となるので、長期に亘る稼働中
には定期的に拭き取ったり、部品を交換する必要があ
る。
気機器の表面に付着すると、腐蝕等によって沿面絶縁耐
電圧特性が低下する要因となるので、長期に亘る稼働中
には定期的に拭き取ったり、部品を交換する必要があ
る。
【０００４】また、後者の油性の汚損物質が電気機器の
表面に付着すると、製品の美観が損なわれ、長期に亘る
稼働中には微小な塵埃の付着によって絶縁抵抗が低下す
る要因となる。特に、接点の接触面などに付着すると、
接触抵抗の増加で温度上昇の要因となる。
表面に付着すると、製品の美観が損なわれ、長期に亘る
稼働中には微小な塵埃の付着によって絶縁抵抗が低下す
る要因となる。特に、接点の接触面などに付着すると、
接触抵抗の増加で温度上昇の要因となる。
【０００５】さらに、前者のイオン性物質が油性物質に
含まれた場合には、イオン性の汚損物質だけの場合と同
様に、腐蝕による絶縁特性の低下の要因となる。
含まれた場合には、イオン性の汚損物質だけの場合と同
様に、腐蝕による絶縁特性の低下の要因となる。
【０００６】また、洗浄剤としては一般的に水を使用す
る方法がある。特に、イオン性物質は、水に化学的に溶
解されるので有効であるが、乾燥性が劣るため、金属の
種別によっては腐蝕する場合もある。
る方法がある。特に、イオン性物質は、水に化学的に溶
解されるので有効であるが、乾燥性が劣るため、金属の
種別によっては腐蝕する場合もある。
【０００７】そこで、本発明者等は、先に、イオン性汚
損物質による汚損部品を洗浄するために、基材を損傷せ
ず、イオン性物質を効果的に除去し、乾燥性にも優れた
アルコール水溶液を使用した洗浄方法を開発した（特開
平9-71884 号公報参照）。
損物質による汚損部品を洗浄するために、基材を損傷せ
ず、イオン性物質を効果的に除去し、乾燥性にも優れた
アルコール水溶液を使用した洗浄方法を開発した（特開
平9-71884 号公報参照）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このアルコ
ール水溶液による洗浄方法も、分子量が比較的大きい油
性の汚損物質に対しては、洗浄力が不十分で、僅かに除
去されない部分が残る場合があることが分かった。
ール水溶液による洗浄方法も、分子量が比較的大きい油
性の汚損物質に対しては、洗浄力が不十分で、僅かに除
去されない部分が残る場合があることが分かった。
【０００９】イオン性汚損物質と油性汚損物質をともに
除去するために、界面活性剤を添加した水系の洗浄液を
採用する方法も考えられるが、洗浄面に残留した界面活
性剤や残留汚損物によって金属の表面が腐蝕するおそれ
があるので、使用に当たっては細心の注意が必要であ
り、このため信頼性が低い。
除去するために、界面活性剤を添加した水系の洗浄液を
採用する方法も考えられるが、洗浄面に残留した界面活
性剤や残留汚損物によって金属の表面が腐蝕するおそれ
があるので、使用に当たっては細心の注意が必要であ
り、このため信頼性が低い。
【００１０】また、乾燥性に難点があるので、洗浄後に
電力機器や電気装置を再起動させるまでには、十分な乾
燥時間が必要となり、取扱い上難点がある。本発明は上
記した問題を解決するためになされたもので、その目的
は、洗浄面を損傷することなく、イオン性汚損物質と油
性汚損物質をともに容易に洗浄することのできる汚損物
除去用洗浄剤を提供することにある。
電力機器や電気装置を再起動させるまでには、十分な乾
燥時間が必要となり、取扱い上難点がある。本発明は上
記した問題を解決するためになされたもので、その目的
は、洗浄面を損傷することなく、イオン性汚損物質と油
性汚損物質をともに容易に洗浄することのできる汚損物
除去用洗浄剤を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の汚損物除去用洗浄剤の発明は、電
力機器や電気設備及び装置に組み込まれる部品の表面に
付着したイオン性や油性などの汚損物質を洗浄する洗浄
剤として、アルコール水溶液に界面活性剤を添加した汚
損物除去用洗浄剤において、前記界面活性剤を添加した
前記アルコール水溶液のＰＨ値を５〜８の範囲としたこ
とを特徴とする。
に、請求項１に記載の汚損物除去用洗浄剤の発明は、電
力機器や電気設備及び装置に組み込まれる部品の表面に
付着したイオン性や油性などの汚損物質を洗浄する洗浄
剤として、アルコール水溶液に界面活性剤を添加した汚
損物除去用洗浄剤において、前記界面活性剤を添加した
前記アルコール水溶液のＰＨ値を５〜８の範囲としたこ
とを特徴とする。
【００１２】請求項１に記載の発明によると、界面活性
剤を添加したアルコール水溶液のＰＨ値を５〜８の範囲
に調整した汚損物除去用洗浄剤により洗浄された電力機
器や電気設備及び装置に組み込まれる部品は、腐食が発
生することはなく、また乾燥時間を短縮できる。
剤を添加したアルコール水溶液のＰＨ値を５〜８の範囲
に調整した汚損物除去用洗浄剤により洗浄された電力機
器や電気設備及び装置に組み込まれる部品は、腐食が発
生することはなく、また乾燥時間を短縮できる。
【００１３】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の汚損物除去用洗浄剤において、前記アルコール水溶液
への前記界面活性剤の添加量を０．１〜３重量％の範囲
としたことを特徴とする。
の汚損物除去用洗浄剤において、前記アルコール水溶液
への前記界面活性剤の添加量を０．１〜３重量％の範囲
としたことを特徴とする。
【００１４】請求項２に記載の発明によると、アルコー
ル水溶液へ界面活性剤を０．１〜３重量％添加すること
で、イオン性汚損物質と油性汚損物質をともに効果的に
洗浄するとともに、乾燥時間も短縮することができる。
ル水溶液へ界面活性剤を０．１〜３重量％添加すること
で、イオン性汚損物質と油性汚損物質をともに効果的に
洗浄するとともに、乾燥時間も短縮することができる。
【００１５】請求項３に記載の発明は、請求項１または
請求項２に記載の汚損物除去用洗浄剤において、前記界
面活性剤は非イオン性界面活性剤または陰イオン性界面
活性剤であることを特徴とする。
請求項２に記載の汚損物除去用洗浄剤において、前記界
面活性剤は非イオン性界面活性剤または陰イオン性界面
活性剤であることを特徴とする。
【００１６】請求項４に記載の発明は、請求項１または
請求項２に記載の汚損物除去用洗浄剤において、前記界
面活性剤は前記非イオン性界面活性剤と前記陰イオン性
界面活性剤の混合物であることを特徴とする。
請求項２に記載の汚損物除去用洗浄剤において、前記界
面活性剤は前記非イオン性界面活性剤と前記陰イオン性
界面活性剤の混合物であることを特徴とする。
【００１７】請求項５に記載の発明は、請求項３または
請求項４記載の汚損物除去用洗浄剤において、前記非イ
オン性界面活性剤はポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、前記陰イオン性界面活性剤はアルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウムであることを特徴とする。
請求項４記載の汚損物除去用洗浄剤において、前記非イ
オン性界面活性剤はポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、前記陰イオン性界面活性剤はアルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウムであることを特徴とする。
【００１８】請求項３ないし５に記載の発明によると、
アルコール水溶液へ添加する界面活性剤は、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル等の非イオン性界面活性剤、
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の陰イオン性
界面活性剤または両界面活性剤の混合物を用いること
で、大きな洗浄効果が得られるとともに、乾燥時間も短
縮することができる。
アルコール水溶液へ添加する界面活性剤は、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル等の非イオン性界面活性剤、
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の陰イオン性
界面活性剤または両界面活性剤の混合物を用いること
で、大きな洗浄効果が得られるとともに、乾燥時間も短
縮することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の汚損物除去用洗浄
剤の実施例について説明する。実施例１本実施例は、界
面活性剤として、式(1) に示す分子式のポリオキシエチ
レンアルキルエーテルの非イオン性界面活性剤を用い
た。 ＲＯ−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n −ＯＨ ・・・(1) ここで、Ｒ：アルキル基又はアルキルフェニル基
剤の実施例について説明する。実施例１本実施例は、界
面活性剤として、式(1) に示す分子式のポリオキシエチ
レンアルキルエーテルの非イオン性界面活性剤を用い
た。 ＲＯ−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n −ＯＨ ・・・(1) ここで、Ｒ：アルキル基又はアルキルフェニル基
【００２０】この界面活性剤を添加する濃度を０．１〜
３重量％とする。添加する界面活性剤の濃度を上記のよ
うな範囲とする理由は、一次洗浄において油性成分の溶
解力を上げるためだけなら、界面活性剤の添加濃度を高
くすればよいが、そうすると、一次洗浄後に洗浄部品の
表面に残留する界面活性剤の量も増えることになる。そ
こで、後述する図１で示すすすぎ洗浄工程において、界
面活性剤を完全に除去できなくなり、腐蝕発生の要因と
なるからである。
３重量％とする。添加する界面活性剤の濃度を上記のよ
うな範囲とする理由は、一次洗浄において油性成分の溶
解力を上げるためだけなら、界面活性剤の添加濃度を高
くすればよいが、そうすると、一次洗浄後に洗浄部品の
表面に残留する界面活性剤の量も増えることになる。そ
こで、後述する図１で示すすすぎ洗浄工程において、界
面活性剤を完全に除去できなくなり、腐蝕発生の要因と
なるからである。
【００２１】図１は、この界面活性剤を一次洗浄に採用
した本発明の汚損物除去用洗浄剤による洗浄方法の洗浄
工程を示す流れ図である。図１に示すように、まず、塵
埃除去工程Ｓ1 で、圧縮空気又は窒素ガスを洗浄部品に
吹き付けて、この洗浄部品の表面に付着している塵埃等
を飛散させて取り除く。次の一次洗浄工程Ｓ2 では、前
述した界面活性剤を添加した水とエタノールの水溶液に
洗浄部品を３時間浸漬し、この洗浄部品に付着している
イオン性汚損物質や油性汚損物質を溶解し乳化させて、
洗浄部品から除去する。
した本発明の汚損物除去用洗浄剤による洗浄方法の洗浄
工程を示す流れ図である。図１に示すように、まず、塵
埃除去工程Ｓ1 で、圧縮空気又は窒素ガスを洗浄部品に
吹き付けて、この洗浄部品の表面に付着している塵埃等
を飛散させて取り除く。次の一次洗浄工程Ｓ2 では、前
述した界面活性剤を添加した水とエタノールの水溶液に
洗浄部品を３時間浸漬し、この洗浄部品に付着している
イオン性汚損物質や油性汚損物質を溶解し乳化させて、
洗浄部品から除去する。
【００２２】続くすすぎ洗浄工程Ｓ3 では、洗浄部品を
水とエタノールの比が等量の水溶液に移し、この水溶液
を流水状態にして洗浄部品に付着している界面活性剤と
汚損物質を完全に除去する。次の液切り工程Ｓ4 では、
すすぎ槽から引き上げた洗浄部品に対して、窒素ガス又
は圧縮空気を吹き付けて、洗浄部品の表面に付着してい
る水とエタノールの水溶液を吹き飛ばす。最後の乾燥工
程Ｓ5 では、洗浄部品を加熱乾燥炉に搬入して、洗浄部
品に残存している水とエタノールの水溶液を完全に蒸発
させる。
水とエタノールの比が等量の水溶液に移し、この水溶液
を流水状態にして洗浄部品に付着している界面活性剤と
汚損物質を完全に除去する。次の液切り工程Ｓ4 では、
すすぎ槽から引き上げた洗浄部品に対して、窒素ガス又
は圧縮空気を吹き付けて、洗浄部品の表面に付着してい
る水とエタノールの水溶液を吹き飛ばす。最後の乾燥工
程Ｓ5 では、洗浄部品を加熱乾燥炉に搬入して、洗浄部
品に残存している水とエタノールの水溶液を完全に蒸発
させる。
【００２３】本発明者等は、前述した式(1) で示した界
面活性剤の洗浄効果を検証するために、アルコール水溶
液に界面活性剤の添加する割合を変えて、一次洗浄工程
後に洗浄部品に残存した油の量を測定した。その測定結
果は、表１及び図２に示すとおりである。
面活性剤の洗浄効果を検証するために、アルコール水溶
液に界面活性剤の添加する割合を変えて、一次洗浄工程
後に洗浄部品に残存した油の量を測定した。その測定結
果は、表１及び図２に示すとおりである。
【００２４】
【表１】
【００２５】すなわち、界面活性剤の添加濃度は、０，
０．２，０．５及び１重量％の４種とし、供試品は、ス
テンレス鋼板に切削油を塗布した後、乾燥させたものを
それぞれ３枚用いた。供試品に残存した切削油の量は、
洗浄工程の前後の供試品の重量の変化から求めた。な
お、洗浄液への浸漬時間は３時間である。
０．２，０．５及び１重量％の４種とし、供試品は、ス
テンレス鋼板に切削油を塗布した後、乾燥させたものを
それぞれ３枚用いた。供試品に残存した切削油の量は、
洗浄工程の前後の供試品の重量の変化から求めた。な
お、洗浄液への浸漬時間は３時間である。
【００２６】表１及び図２に示すように、０．２重量％
においても、切削油の除去率は９４％と高く、濃度が１
重量％の洗浄液と同等の効果を示した。なお、目視検査
では、残存する油は認められなかった。
においても、切削油の除去率は９４％と高く、濃度が１
重量％の洗浄液と同等の効果を示した。なお、目視検査
では、残存する油は認められなかった。
【００２７】これに対し、界面活性剤を添加しない洗浄
液では、切削油の除去率は３％と低く、界面活性剤を僅
かに添加することで、大きな洗浄効果が得られることが
分かった。界面活性剤の添加量は、すすぎ工程を考慮す
ると必要最小限が好ましいが、計量の作業性を考慮する
と、３重量％まで増やしてもよい。
液では、切削油の除去率は３％と低く、界面活性剤を僅
かに添加することで、大きな洗浄効果が得られることが
分かった。界面活性剤の添加量は、すすぎ工程を考慮す
ると必要最小限が好ましいが、計量の作業性を考慮する
と、３重量％まで増やしてもよい。
【００２８】次に、本発明者等は、汚損物質がイオン性
の場合の洗浄効果を検証するために、エポキシ樹脂製の
プリント基板の表面に対して、硫酸ナトリウムを塗布し
た供試品の洗浄工程の前後における前記表面の沿面抵抗
の変化を調べた。
の場合の洗浄効果を検証するために、エポキシ樹脂製の
プリント基板の表面に対して、硫酸ナトリウムを塗布し
た供試品の洗浄工程の前後における前記表面の沿面抵抗
の変化を調べた。
【００２９】図３は、その測定環境条件と測定結果を示
し、本発明の洗浄剤で洗浄した供試品は、４０℃で湿度
５５％と６５％においては、あまり優位性はなかった
が、湿度８５％の環境条件では、大差となった。また、
プリント基板に印刷されたパターンなどの金属材料の腐
食も見られなかった。
し、本発明の洗浄剤で洗浄した供試品は、４０℃で湿度
５５％と６５％においては、あまり優位性はなかった
が、湿度８５％の環境条件では、大差となった。また、
プリント基板に印刷されたパターンなどの金属材料の腐
食も見られなかった。
【００３０】以上のことから、本発明の洗浄剤を一次洗
浄用として用いることにより、油性汚損物質とイオン性
汚損物質をともに効果的に洗浄することができ、部品の
表面などの損傷もないことが分かった。
浄用として用いることにより、油性汚損物質とイオン性
汚損物質をともに効果的に洗浄することができ、部品の
表面などの損傷もないことが分かった。
【００３１】なお、上記実施例では、第１の工程の塵埃
除去工程では、ガス吹付け工程を採用した例で説明した
が、洗浄部品の汚損の程度によっては、このガス吹付け
工程を省いて直接一次洗浄工程に入ってもよい。
除去工程では、ガス吹付け工程を採用した例で説明した
が、洗浄部品の汚損の程度によっては、このガス吹付け
工程を省いて直接一次洗浄工程に入ってもよい。
【００３２】実施例２
本実施例では、実施例１で添加した非イオン性界面活性
剤の代わりに、式(2)に示す化学式のアルキルベンゼン
スルホン酸ナトリウムの陰イオン性界面活性剤を用い
た。
剤の代わりに、式(2)に示す化学式のアルキルベンゼン
スルホン酸ナトリウムの陰イオン性界面活性剤を用い
た。
【００３３】
【化１】
ここで、Ｒ：アルキル基
【００３４】表２及び図４は、その評価結果を示す。本
実施例は、実施例１と同様に、界面活性剤の添加濃度
は、０，０．２，０．５及び１重量％の４種とし、供試
品もステンレス鋼板に切削油を塗布し、乾燥させたもの
を各３枚用いた。また、供試品の切削油の残存量の測定
方法及び洗浄液への浸漬時間も、実施例１と同様であ
る。
実施例は、実施例１と同様に、界面活性剤の添加濃度
は、０，０．２，０．５及び１重量％の４種とし、供試
品もステンレス鋼板に切削油を塗布し、乾燥させたもの
を各３枚用いた。また、供試品の切削油の残存量の測定
方法及び洗浄液への浸漬時間も、実施例１と同様であ
る。
【００３５】表２及び図４に示すように、界面活性剤の
濃度が僅か０．２重量％においても、切削油の除去率は
９５％と高く、濃度が１重量％の洗浄液と同等の効果を
示した。なお、目視検査では、残存する油は認められな
かった。
濃度が僅か０．２重量％においても、切削油の除去率は
９５％と高く、濃度が１重量％の洗浄液と同等の効果を
示した。なお、目視検査では、残存する油は認められな
かった。
【００３６】
【表２】
【００３７】これに対し、界面活性剤を添加しない洗浄
液では、切削油の除去率は実施例１と同様に３％と低
く、界面活性剤を僅かに添加することで、大きな洗浄効
果が得られることが分かった。
液では、切削油の除去率は実施例１と同様に３％と低
く、界面活性剤を僅かに添加することで、大きな洗浄効
果が得られることが分かった。
【００３８】実施例３
本発明者等は、実施例１で用いた非イオン性界面活性剤
と実施例２で用いた陰イオン性界面活性剤を重量％で５
０：５０に混合して洗浄剤を作り、実施例１及び実施例
２と同様に供試品を洗浄した。この洗浄剤による供試品
の試験結果でも、実施例１及び実施例２と同等の効果を
得た。なお、前記混合比は７：３でも１０：１でも、ま
たこの逆でもよい。
と実施例２で用いた陰イオン性界面活性剤を重量％で５
０：５０に混合して洗浄剤を作り、実施例１及び実施例
２と同様に供試品を洗浄した。この洗浄剤による供試品
の試験結果でも、実施例１及び実施例２と同等の効果を
得た。なお、前記混合比は７：３でも１０：１でも、ま
たこの逆でもよい。
【００３９】実施例４
本発明者等は、実施例１及び実施例２において、洗浄液
のＰＨ値を５〜８の範囲に調整した水とエタノールの水
溶液と、ＰＨ値を９及び１１に調整した水とエタノール
の水溶液を用い、供試品は軟鋼鉄板、銅板、アルミニウ
ム板の３種を用い、実施例１と同一条件で試験を行い、
その表面の腐食の有無を調べた。表３は、その試験結果
を示す。
のＰＨ値を５〜８の範囲に調整した水とエタノールの水
溶液と、ＰＨ値を９及び１１に調整した水とエタノール
の水溶液を用い、供試品は軟鋼鉄板、銅板、アルミニウ
ム板の３種を用い、実施例１と同一条件で試験を行い、
その表面の腐食の有無を調べた。表３は、その試験結果
を示す。
【００４０】
【表３】
【００４１】表３からアルミニウム板でＰＨ値が９以上
では、軽度の腐食が表面に見られ、ＰＨ値が１１以下で
は、腐食の場所と面積が増えた。
では、軽度の腐食が表面に見られ、ＰＨ値が１１以下で
は、腐食の場所と面積が増えた。
【００４２】この洗浄液による供試品の試験結果でも、
実施例１及び実施例２と同等の効果を得た。なお、前記
混合比は７：３でも１０：１でも、またこの逆でもよ
い。
実施例１及び実施例２と同等の効果を得た。なお、前記
混合比は７：３でも１０：１でも、またこの逆でもよ
い。
【００４３】このように、軟鋼材及び銅材では、ＰＨ値
が少なくとも１１まで増えても異常はないが、アルミニ
ウム材の場合には、ＰＨ値を中性値の５〜８の範囲に調
整することが必要である。
が少なくとも１１まで増えても異常はないが、アルミニ
ウム材の場合には、ＰＨ値を中性値の５〜８の範囲に調
整することが必要である。
【００４４】実施例５
本実施例では、実施例１に示す洗浄方法において、洗浄
液の温度を５０℃程度に上げて洗浄すると、２０℃のと
きの洗浄と比べて、表４に示すように、油性汚損物質の
洗浄効果を更に上げることができた。
液の温度を５０℃程度に上げて洗浄すると、２０℃のと
きの洗浄と比べて、表４に示すように、油性汚損物質の
洗浄効果を更に上げることができた。
【００４５】
【表４】
【００４６】ただし、液温の上昇は、溶解性の上昇に伴
い、例えばプラスチックス部品では、材料の表面を損傷
する恐れがあるので、２０〜６０℃の範囲で使用するこ
とが望ましい。上記各実施例では、洗浄物として金属と
プラスチックスについて述べたが、例えばセラミックス
材の部品にも同様に適用することができる。
い、例えばプラスチックス部品では、材料の表面を損傷
する恐れがあるので、２０〜６０℃の範囲で使用するこ
とが望ましい。上記各実施例では、洗浄物として金属と
プラスチックスについて述べたが、例えばセラミックス
材の部品にも同様に適用することができる。
【００４７】また、上記各実施例では、洗浄液として水
とエタノールを混合した水溶液の場合で説明したが、水
とエタノールを混合した水溶液でもよく、陰イオン性界
面活性剤として、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムの例で説明したが、アルキル硫酸ナトリウムでも同様
の効果が得られる。
とエタノールを混合した水溶液の場合で説明したが、水
とエタノールを混合した水溶液でもよく、陰イオン性界
面活性剤として、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムの例で説明したが、アルキル硫酸ナトリウムでも同様
の効果が得られる。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の汚損物除
去用洗浄剤によれば、アルコール水溶液に界面活性剤を
少量添加した洗浄液で、電力機器や電気部品の表面に付
着したイオン性や油性の汚損物を容易かつ効果的に洗浄
することができるとともに、乾燥時間も短縮することが
可能となった。
去用洗浄剤によれば、アルコール水溶液に界面活性剤を
少量添加した洗浄液で、電力機器や電気部品の表面に付
着したイオン性や油性の汚損物を容易かつ効果的に洗浄
することができるとともに、乾燥時間も短縮することが
可能となった。
【図１】本発明の実施例１の汚損物の洗浄方法を示す流
れ図。
れ図。
【図２】図１の実施例１の作用を示すグラフ。
【図３】本発明の汚損物の洗浄方法の実施例１の図２と
異なる作用を示すグラフ。
異なる作用を示すグラフ。
【図４】本発明の実施例２の作用を示すグラフ。
Ｓ1 …塵埃除去工程、Ｓ2 …一次洗浄工程、Ｓ3 …すす
ぎ洗浄工程、Ｓ4 …液切り工程、Ｓ5 …乾燥工程。
ぎ洗浄工程、Ｓ4 …液切り工程、Ｓ5 …乾燥工程。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ２３Ｇ 5/032 Ｃ２３Ｇ 5/032
(72)発明者 原口 智
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 井田 貞夫
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 兼平 勝己
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 片岡 誠
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 藤堂 洋子
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 桑原 一好
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 佐藤 和弘
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
(72)発明者 古野 中
東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝
府中事業所内
Ｆターム(参考） 4H003 AB19 AC08 BA12 DA14 DA15
DB01 EB04 FA21
4K053 PA02 PA03 PA06 PA10 PA11
QA04 QA07 RA08 RA40 RA41
RA55 RA65 RA66 SA03 SA06
TA13 TA19 YA03
Claims (5)
- 【請求項１】 電力機器や電気設備及び装置に組み込ま
れる部品に付着したイオン性や油性などの汚損物質を洗
浄する洗浄剤として、アルコール水溶液に界面活性剤を
添加した汚損物除去用洗浄剤において、前記界面活性剤
を添加した前記アルコール水溶液のＰＨ値を５〜８の範
囲としたことを特徴とする汚損物除去用洗浄剤。 - 【請求項２】 前記アルコール水溶液への前記界面活性
剤の添加量を０．１〜３重量％の範囲としたことを特徴
とする請求項１に記載の汚損物除去用洗浄剤。 - 【請求項３】 前記界面活性剤は非イオン性界面活性剤
または陰イオン性界面活性剤であることを特徴とする請
求項１または請求項２に記載の汚損物除去用洗浄剤。 - 【請求項４】 前記界面活性剤は前記非イオン性界面活
性剤と前記陰イオン性界面活性剤の混合物であることを
特徴とする請求項１または請求項２に記載の汚損物除去
用洗浄剤。 - 【請求項５】 前記非イオン性界面活性剤はポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、前記陰イオン性界面活性剤
はアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムであることを
特徴とする請求項３または請求項４記載の汚損物除去用
洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002328081A JP4064788B2 (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | 汚損物除去用洗浄剤 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP9177997A Division JPH10279999A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 汚損物の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003176500A true JP2003176500A (ja) | 2003-06-24 |
| JP4064788B2 JP4064788B2 (ja) | 2008-03-19 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2002328081A Expired - Fee Related JP4064788B2 (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | 汚損物除去用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP4064788B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007063583A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷版支持体の再生方法 |
-
2002
- 2002-11-12 JP JP2002328081A patent/JP4064788B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007063583A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷版支持体の再生方法 |
| JP4689410B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2011-05-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版支持体の再生方法 |
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| JP4064788B2 (ja) | 2008-03-19 |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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|
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| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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