JP2003176258A - 酸アミド誘導体、それらの製造方法及びそれらを含有する有害生物防除剤 - Google Patents
酸アミド誘導体、それらの製造方法及びそれらを含有する有害生物防除剤Info
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Abstract
高い防除効果を有し、且つ哺乳動物、魚類などに対して
ほとんど悪影響を及ぼさない有害生物防除剤を提供す
る。 【解決手段】 式(I); 【化1】 [式中、AはXで置換されてもよいフェニル、同複素環
基、インダニル(インダニルは、アルキルなどで置換さ
れてもよい)又はテトラヒドロナフチル(テトラヒドロ
ナフチルは、アルキルなどで置換されてもよい)などで
あり、Bはアルキル、シクロアルキル、Yで置換されて
もよいフェニル又は同複素環基などであり、R1及びR2
は各々アルキル、シアノ又は-CO2R14であり、またR
1とR2は一緒になって3〜6員飽和炭素環を形成しても
よく、R3は水素原子、アルキル、アルコキシアルキ
ル、アルキルチオアルキル、-COR15、-S(O)mR16
又は-S(O)nNR17R18である]で表される酸アミド誘
導体又はその塩。
Description
有効成分として有用な新規酸アミド誘導体に関する。
ン誘導体、その製造方法及びそれらを含有する有害生物
防除剤が開示されているが、後記式(I)で表される酸
アミド誘導体に係る記載は見られない。
有害生物防除剤が使用されているが、効力が不十分、有
害生物が抵抗性を獲得しその使用が制限される、人畜魚
類などに対して毒性が強い、残留性により生態系を乱す
等、種々の課題を有するものが少なくない。従って、か
かる欠点の少ない安全性の高い新規な有害生物防除剤の
開発が望まれている。また、動物寄生性生物は、家畜、
ペット等の体表、胃、腸管、肺、心臓、肝臓、血管、皮
下、リンパ組織などに寄生し、貧血、栄養失調、衰弱、
体重減少や、腸管壁、各種器官、その他組織の障害な
ど、種々の動物疾患を引き起こす為、その防除が望まれ
ている。
れた有害生物防除剤を見出すべく酸アミド誘導体につき
種々検討した。その結果、新規な酸アミド誘導体及びそ
の塩が、低薬量で有害生物に対して極めて高い防除効果
を有し、且つ哺乳動物、魚類などに対してほとんど悪影
響を及ぼさないことを見出し、本発明を完成した。すな
わち本発明は、式(I);
ル、Xで置換されてもよいベンジル、Xで置換されても
よいナフチル、Xで置換されてもよい複素環基、Xで置
換されてもよい縮合複素環基、インダニル(インダニル
は、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されても
よい)又はテトラヒドロナフチル(テトラヒドロナフチ
ルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されて
もよい)であり、Bはアルキル、シクロアルキル、Yで
置換されてもよいフェニル、Yで置換されてもよい複素
環基又はYで置換されてもよい縮合複素環基であり、X
はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、ハ
ロアルケニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキ
シ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、ハロアル
コキシアルコキシ、アルコキシハロアルコキシ、ハロア
ルコキシハロアルコキシ、アルケニルオキシ、ハロアル
ケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキニルオキ
シ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニルチ
オ、ハロアルケニルチオ、アルキニルチオ、ハロアルキ
ニルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフ
ィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニ
ル、ジアルキルアミノスルホニル、ニトロ、シアノ、Y
で置換されてもよいフェニル、Yで置換されてもよいフ
ェノキシ、Yで置換されてもよいベンジルオキシ、Yで
置換されてもよいピリジルオキシ、-OR4、-SR5、-
NR6R7、-CO2R8、-C(=O)NR9R10又は不飽和
複素環基(不飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロ
アルキル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されて
もよい)であり、Yはハロゲン、アルキル、ハロアルキ
ル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロ
アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホ
ニル、ジアルキルアミノスルホニル、ニトロ、シアノ、
-OR4、-CO2R11、-CONR12R13又は不飽和複素
環基(不飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアル
キル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよ
い)であり、R1及びR2は各々アルキル、シアノ又は-
CO2R14であり、またR1とR2は一緒になって3〜6
員飽和炭素環を形成してもよく、R3は水素原子、アル
キル、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、-
COR15、-S(O)mR16又は-S(O)nNR17R18であ
り、R4及びR6は各々水素原子、-C(=W)R19、-C
(=W)OR20、-C(=W)SR21、-C(=W)NR
22R23、-S(O)qR 24又は-S(O)rNR25R26であり、
R5は水素原子、-C(=W)R19、-C(=W)OR20、-C
(=W)SR21又は-C(=W)NR22R23であり、R7は水
素原子、アルキル又はハロアルキルであり、R8、R9、
R10、R11、R12、R13及びR14は各々水素原子又はア
ルキルであり、R15は水素原子、アルキル又はアルコキ
シであり、R16、R17、R18、R19、R20、R21、
R22、R23、R24、R25及びR26は各々アルキル、ハロ
アルキル又はフェニル(フェニルは、ハロゲン、アルキ
ル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシで置
換されてもよい)であり、m、n、q及びrは各々0〜
2であり、Wは酸素原子又は硫黄原子であり、但し、
(1)AがX1で置換されてもよいフェニルであり、Bがア
ルキル、シクロアルキル、Y1で置換されてもよいフェ
ニル、Y1で置換されてもよいピリジル又はY1で置換さ
れてもよいピラゾリルであり、R1及びR2が各々アルキ
ルであり、R1とR2は一緒になって3〜6員飽和炭素環
を形成してもよく、R3が水素原子、アルキル、アルコ
キシアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルカルボ
ニル又はアルコキシカルボニルであり、X1がハロゲ
ン、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケ
ニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシ、ハロ
アルコキシ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキ
シ、アルキニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキ
ルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロアル
ケニルチオ、アルキニルチオ、ハロアルキニルチオ、ア
ルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アル
キルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキル
アミノスルホニル、ニトロ、シアノ、Y1で置換されて
もよいフェニル、Y1で置換されてもよいフェノキシ、
Y1で置換されてもよいベンジルオキシ又はY1で置換さ
れてもよいピリジルオキシであり、且つ、Y1がハロゲ
ン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコ
キシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスル
フィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホ
ニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノスル
ホニル、ニトロ又はシアノである場合並びに(2)N-[1-メ
チル-1-(2'-メチルイソニコチノイル)エチル]ベンズア
ミドを除く]で表される酸アミド誘導体又はその塩、そ
れらの製造方法並びにそれらを含有する有害生物防除剤
に関する。
で置換されてもよいベンジル、Xで置換されてもよいナ
フチル、Xで置換されてもよい複素環基又はXで置換さ
れてもよい縮合複素環基の置換基Xの数は1又は2以上
であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも
相異なってもよく、B中のYで置換されてもよいフェニ
ル、Yで置換されてもよい複素環基又はYで置換されて
もよい縮合複素環基或はX中のYで置換されてもよいフ
ェニル、Yで置換されてもよいフェノキシ、Yで置換さ
れてもよいベンジルオキシ又はYで置換されてもよいピ
リジルオキシの置換基Yの数は1又は2以上であってよ
く、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なって
もよい。A中のインダニル又はテトラヒドロナフチルの
置換基であるハロゲン、アルキル又はアルコキシの数は
1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換
基は同一でも相異なってもよい。X又はY中の不飽和複
素環基の置換基又はR16〜R26中のフェニルの置換基の
数は、各々1又は2以上であってよく、2以上の場合、
これら置換基は同一でも相異なってもよい。
Nからなる群より選ばれた少なくとも1種の原子を1〜
4含有する5若しくは6員複素環基、例えばフリル、テ
トラヒドロフリル、チエニル、ピロリル、ピロリニル、
ピロリジニル、ジオキソラニル、オキサゾリル、イソキ
サゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリ
ル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、
ピラゾリニル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、オキサ
ジアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリル、ピラニ
ル、ピリジル、ピペリジニル、ジオキサニル、オキサジ
ニル、モルホリニル、チアジニル、ピリダジニル、ピリ
ミジニル、ピラジニル、ピペラジニル、トリアジニルな
どが挙げられる。
及びNからなる群より選ばれた少なくとも1種の原子を
1〜4含有する8〜10員縮合複素環基、例えばベンゾ
フラニル、イソベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニ
ル、ジヒドロイソベンゾフラニル、ベンゾチエニル、イ
ソベンゾチエニル、ジヒドロベンゾチエニル、ジヒドロ
イソベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、イ
ンドリル、イソインドリル、ベンゾオキサゾリル、ベン
ゾチアゾリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベ
ンゾジオキソラニル、ベンゾジオキサニル、クロメニ
ル、クロマニル、イソクロマニル、クロモニル、クロマ
ノニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタ
ラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、インドリジ
ニル、キノリジニル、イミダゾピリジル、ナフチリジニ
ル、プテリジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ジヒ
ドロベンゾオキサゾリノニル、ジヒドロベンゾオキサジ
ノニル、ベンゾチオキサニルなどが挙げられる。
S及びNからなる群より選ばれた少なくとも1種の原子
を1〜4含有する5若しくは6員不飽和複素環基、例え
ばフリル、チエニル、ピロリル、ピロリニル、オキサゾ
リル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、
イミダゾリル、イミダゾリニル、ピラゾリル、ピラゾリ
ニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリ
ル、テトラゾリル、ピラニル、ピリジル、オキサジニ
ル、チアジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジ
ニル、トリアジニルなどが挙げられる。
アルキル又はアルキル部分、A中のインダニル又はテト
ラヒドロナフチルの置換基としてのアルキル又はアルキ
ル部分、X又はY中の不飽和複素環基の置換基としての
アルキル又はアルキル部分或はR16〜R26中のフェニル
の置換基としてのアルキル又はアルキル部分としては、
各々炭素数1〜6の直鎖又は分枝状のもの、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
〜6のもの、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、
シクロヘキシルなどが挙げられる。X中のアルケニル又
はアルケニル部分としては、炭素数2〜7の直鎖又は分
枝状のもの、例えばビニル、1−プロペニル、アリル、
イソプロペニル、1−ブテニル、1,3−ブタジエニ
ル、1−ヘキセニル、1−ヘプテニルなどが挙げられ
る。また、X中のアルキニル又はアルキニル部分として
は、炭素数2〜7の直鎖又は分枝状のもの、例えばエチ
ニル、2−ブチニル、2−ペンチニル、3−ヘキシニ
ル、4−ジメチル−2−ペンチニルなどが挙げられる。
ゲン又は置換基としてのハロゲン(A中のインダニル又
はテトラヒドロナフチルの置換基としてのハロゲン、X
又はY中の不飽和複素環基の置換基としてのハロゲン並
びにR16〜R26中のフェニルの置換基としてのハロゲン
を含む)としては、弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子
が挙げられる。置換基としてのハロゲンの数は1又は2
以上であってよく、2以上の場合、各ハロゲンは同一で
も相異なってもよい。また、ハロゲンの置換位置はいず
れの位置でもよい。
塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるも
のが含まれるが、例えばナトリウム塩、カリウム塩のよ
うなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩の
ようなアルカリ土類金属塩;ジメチルアミン塩、トリエ
チルアミン塩のようなアンモニウム塩;塩酸塩、過塩素
酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩;酢酸塩、メタ
ンスルホン酸塩のような有機酸塩などが挙げられる。
は、各種異性体、例えば光学異性体や互変異性体が存在
するが、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が
含まれる。尚、本発明には、当該技術分野における技術
常識の範囲内において、前記したもの以外の各種異性体
も含まれる。前記式(I)で表される酸アミド誘導体又
はその塩(以下本発明化合物と略す)は、以下の反応
〔A〕〜〔K〕と、通常の塩の製造方法に従って製造す
ることができる。
の通りであり、Zはヒドロキシ、アルコキシ又はハロゲ
ンであり、ハロゲンとしては弗素、塩素、臭素又は沃素
の各原子が挙げられる。
で行う。塩基は、例えばナトリウム、カリウムのような
アルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金
属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
な炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うな金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4
−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから
1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(II)の
化合物に対して1〜3倍モル、望ましくは1〜2倍モル
使用する。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択す
る。
存在下で行う。該脱水縮合剤としてはN,N'−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド、クロロスルホニルイソシアネ
ート、N,N'−カルボニルジイミダゾール、トリフルオ
ロ酢酸無水物などが挙げられる。反応〔A〕の反応温度
は、通常0〜100℃、望ましくは0〜50℃であり、反応
時間は、通常0.5〜48時間、望ましくは1〜24時間であ
る。
の通りであり、R3aはアルキル、アルコキシアルキル、
アルキルチオアルキル、-COR15、-S(O)mR16又は-
S(O)nNR17R18(R15、R16、R17、R18、m及び
nは前述の通り)であり、Tはハロゲンであり、ハロゲ
ンとしては弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げら
れる。
で行う。塩基は、例えばナトリウム、カリウムのような
アルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金
属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
な炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うな金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4
−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから
1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(I−
1)の化合物に対して1〜3倍モル、望ましくは1〜1.
5倍モル使用する。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択す
る。反応〔B〕の反応温度は、通常0〜100℃、望まし
くは0〜50℃であり、反応時間は、通常1〜300時間、
望ましくは1〜150時間である。
りであり、B1は-CO2Hで置換されたフェニル、-CO
2Hで置換された複素環基又は-CO2Hで置換された縮
合複素環基であり、式(V)はQ(フェニル、複素環基
又は縮合複素環基)のジカルボン酸無水物である。
該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのもので
もよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化
メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエー
テル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;
ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブ
タノールのようなアルコール類などから1種又は2種以
上を適宜選択する。
で行う。該塩基としては、例えばナトリウム、カリウム
のようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム
のような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
のような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジ
ン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類な
どから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式
(II)の化合物に対して1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5
倍モル使用する。反応〔C〕の反応温度は、通常0〜150
℃、望ましくは0〜80℃であり、反応時間は、通常0.5〜
96時間、望ましくは1〜48時間である。
りであり、B2はY2で置換されたフェニル、Y2で置換
された複素環基又はY2で置換された縮合複素環基であ
り、B 3はY3で置換されたフェニル、Y3で置換された
複素環基又はY3で置換された縮合複素環基であり、Y2
は塩素、臭素又は沃素の各原子であり、Y3は不飽和複
素環基(不飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロア
ルキル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されても
よい)である。
不活性ガスの存在下で行う。触媒は、例えばテトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス
(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、トリス
(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)のよう
なパラジウム錯体などから1種又は2種以上を適宜選択
する。塩基は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸カルシウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重
炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのような金属水酸化物などから1種又は2
種以上を適宜選択する。塩基は、式(I−4)の化合物
に対して1〜20倍モル、望ましくは1〜10倍モル使用す
る。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノー
ル、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などか
ら1種又は2種以上を適宜選択する。不活性ガスは、例
えば窒素ガス、アルゴンガスなどを使用する。反応
〔D〕の反応温度は、通常0〜150℃、望ましくは15〜10
0℃であり、反応時間は、通常0.5〜96時間、望ましくは
1〜48時間である。
りであり、B4は-CO2Hで置換されたフェニル、-CO
2Hで置換された複素環基又は-CO2Hで置換された縮
合複素環基であり、B5は-CO2R11aで置換されたフ
ェニル、-CO2R11aで置換された複素環基又は-CO2
R11aで置換された縮合複素環基であり、R11aはアル
キルである。
在下で行う。該塩素化剤としては、例えば塩化チオニ
ル、塩化オキサリル、五塩化リンなどから1種又は2種
以上を適宜選択する。反応〔E〕中の第1工程は、必要
に応じて溶媒の存在下で行う。該溶媒は、反応に不活性
な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香
族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素
類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチ
ル、酢酸エチルのようなエステル類;などから1種又は
2種以上を適宜選択する。
常0〜200℃、望ましくは15〜150℃であり、反応時間
は、通常0.1〜72時間、望ましくは0.5〜3時間である。
反応〔E〕中の第2工程は、必要に応じて塩基の存在下
で行う。該塩基は、例えばナトリウム、カリウムのよう
なアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ
金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うな炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのよう
な重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
な金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4
−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから
1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(I−
6)の化合物に対して1〜5倍モル、望ましくは1〜2倍モ
ル使用する。
溶媒の存在下で行う。該溶媒は、反応に不活性な溶媒で
あればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素
類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチ
ルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロト
ン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリ
ロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を
適宜選択する。尚、この反応においては、式(VII)の
化合物を過剰に用いることにより溶媒を兼ねることがで
きる。反応〔E〕中の第2工程の反応温度は、通常0〜1
00℃、望ましくは0〜50℃であり、反応時間は、通常0.1
〜48時間、望ましくは0.5〜6時間である。
びR11aは前述の通りであり反応〔F〕は、通常触媒又
は脱水縮合剤の存在下で行う。触媒は、例えば塩酸、硫
酸のような鉱酸;パラトルエンスルホン酸のような有機
酸;三フッ化ホウ素エーテラートのようなルイス酸など
から1種又は2種以上を適宜選択する。脱水縮合剤は、
N,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロスル
ホニルイソシアネート、N,N'−カルボニルジイミダゾ
ール、トリフルオロ酢酸無水物などから1種又は2種以
上を適宜選択する。
で行う。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれ
のものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノー
ル、tert-ブタノールのようなアルコール類
などから1種又は2種以上を適宜選択する。尚、この
反応においては、式(VII)の化合物を過剰に用いるこ
とにより溶媒を兼ねることができる。反応〔F〕の反応
温度は、通常0〜200℃、望ましくは0〜100℃であり、反
応時間は、通常0.1〜96時間、望ましくは0.5〜24時間で
ある。
及びR13は前述の通りであり、B6は-CONR12R13で
置換されたフェニル、-CONR12R13で置換された複
素環基又は-CONR12R13で置換された縮合複素環基
(R12及びR13は前述の通り)である。反応〔G〕中の
第1工程は、前記反応〔E〕の第1工程に準じて行う。
塩基の存在下で行う。該塩基は、例えばナトリウム、カ
リウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素
化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;
ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジ
ン類などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基
は、式(I−6)の化合物に対して1〜10倍モル、望まし
くは1〜2倍モル使用する。
溶媒の存在下で行う。該溶媒は、反応に不活性な溶媒で
あればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素
類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチ
ルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロト
ン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリ
ロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類;水などから1種又は2種以
上を適宜選択する。反応〔G〕中の第2工程の反応温度
は、通常0〜100℃、望ましくは0〜50℃であり、反応時
間は、通常0.1〜48時間、望ましくは0.5〜6時間であ
る。
R12及びR13は前述の通りである。反応〔H〕は、通常
脱水縮合剤及び溶媒の存在下で行う。脱水縮合剤は、
N,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロスル
ホニルイソシアネート、N,N'−カルボニルジイミダゾ
ール、トリフルオロ酢酸無水物などから1種又は2種以
上を適宜選択する。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択す
る。反応〔H〕の反応温度は、通常0〜200℃、望ましく
は0〜100℃であり、反応時間は、通常0.1〜96時間、望
ましくは0.5〜24時間である。
R12及びR13は前述の通りである。反応〔I〕は、通常
溶媒の存在下で行う。該溶媒は、反応に不活性な溶媒で
あればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素
類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチ
ルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロト
ン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリ
ロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、
プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール
類;水などから1種又は2種以上を適宜選択する。尚、
この反応においては、式(VIII)の化合物を過剰に用い
ることにより溶媒を兼ねることができる。
望ましくは0〜80℃であり、反応時間は、通常0.1〜48時
間、望ましくは0.5〜24時間である。
1は-OR4aで置換されたフェニル、-OR4aで置換され
たベンジル、-OR4aで置換されたナフチル、-OR4aで
置換された複素環基又は-OR4aで置換された縮合複素
環基であり、A2は-OHで置換されたフェニル、-OH
で置換されたベンジル、-OHで置換されたナフチル、-
OHで置換された複素環基又は-OHで置換された縮合
複素環基であり、R1a及びR2aは各々アルキル又はシア
ノであり、R1aとR2aは一緒になって3〜6員飽和炭素
環を形成してもよく、R4aは-C(=W)R19、-C(=W)
OR20、-C(=W)SR21、-C(=W)NR22R23、-S
(O)qR24又は-S(O)rNR25R26(R19〜R26、W、
q及びrは前述の通り)であり、Mはナトリウム又はカ
リウムである。
該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのもので
もよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化
メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエー
テル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチル
アセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロ
リドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセ
トニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのよ
うなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよう
なケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、
tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1
種又は2種以上を適宜選択する。反応〔J〕の反応温度
は、通常0〜100℃、望ましくは20〜80℃であり、反応時
間は、通常0.1〜24時間、望ましくは0.1〜12時間であ
る。
及びR4aは前述の通りであり、Gは塩素、臭素又は沃素
の各原子である。反応〔K〕は、通常塩基及び溶媒の存
在下で行う。塩基は、例えばナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのよう
なアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリ
ウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化
カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピ
リジン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン
類などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、
式(I−10)の化合物に対して1〜2倍モル、望ましくは1
〜1.5倍モル使用する。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;ア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルの
ようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択す
る。反応〔K〕の反応温度は、通常−20〜100℃、望ま
しくは0〜50℃であり、反応時間は、通常0.1〜24時間、
望ましくは0.1〜12時間である。
(II)の化合物は新規であり、以下の反応〔L〕〜
〔N〕に従って製造することができる。
りである。反応〔L〕においては、反応の後処理或は通
常の塩形成反応に準じて化合物(II)の塩を製造するこ
とができる。反応〔L〕は、通常酸化剤及び溶媒の存在
下で行う。酸化剤としては、例えばフェリシアン化カリ
ウムなどが挙げられる。酸化剤は、式(XII)の化合物
に対して1〜10倍モル、望ましくは1〜5倍モル使用す
る。
れのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル
類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリド
ン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニ
トリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのような
ニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケ
トン類;水などから1種又は2種以上を適宜選択する。
反応〔L〕の反応温度は、通常20〜150℃、望ましくは5
0〜100℃であり、反応時間は、通常0.5〜30時間、望ま
しくは1〜20時間である。
りである。反応〔M〕においては、反応の後処理或は通
常の塩形成反応に準じて化合物(II)の塩を製造するこ
とができる。反応〔M〕の環化反応は、通常塩基及び溶
媒の存在下で行う。塩基は、例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのような
アルカリ金属アルコキシド;水素化ナトリウム、水素化
カリウムのような金属水素化物などから1種又は2種以
上を適宜選択する。塩基は、式(XIII)の化合物に対し
て1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用する。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタンのようなエーテル類;メタノール、エタノー
ル、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコー
ル類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニ
トリルのようなニトリル類などから1種又は2種以上を
適宜選択する。反応〔M〕の環化反応の反応温度は、通
常0〜150℃、望ましくは30〜100℃であり、反応時間
は、通常0.5〜24時間、望ましくは1〜12時間である。
水分解反応に準じて行えばよく、通常酸又は塩基及び溶
媒の存在下で行う。酸としては、例えば塩化水素、硫酸
などが挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などが挙げら
れる。
れのものでもよく、例えばメタノール、エタノール、プ
ロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;
アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル
のようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンの
ようなケトン類;水などから1種又は2種以上を適宜選
択する。反応〔M〕の加水分解反応の反応温度は通常0
〜100℃、望ましくは20〜80℃であり、反応時間は、通
常0.1〜12時間、望ましくは0.1〜1時間である。
りである。反応〔N〕においては、反応の後処理或は通
常の塩形成反応に準じて化合物(II)の塩を製造するこ
とができる。反応〔N〕の還元反応としては、例えば接
触還元、金属水素化物(水素化ホウ素ナトリウム、水素
化アルミニウムリチウムなど)による還元、トリフェニ
ルホスフィンやスルフィドによる還元などが挙げられ
る。接触還元は、通常、触媒の存在下で水素、ギ酸、ギ
酸アンモニウム、アルコール、シクロヘキサン、トリエ
チルアンモニウムホルメート、塩化アンモニウムなどと
反応させることにより行う。前記触媒としては、例えば
白金、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル、パラジウ
ム、パラジウム-カーボン、ロジウム、ロジウム-アルミ
ナ、鉄、銅などから1種又は2種以上を適宜選択する。
該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのもので
もよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサンのような
脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル
類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピ
リジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブ
タノールのようなアルコール類;水などから1種又は2
種以上を適宜選択する。反応〔N〕の反応温度は、通常
0〜150℃、望ましくは0〜80℃であり、反応時間は、通
常0.5〜96時間、望ましくは1〜48時間である。
化合物は新規であり、以下の反応〔O〕に従って製造す
ることができる。
りである。反応〔O〕は、必要に応じて溶媒の存在下で
行う。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればい
ずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩
化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエー
テル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;
メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノ
ールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオ
ニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセ
トン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1
種又は2種以上を適宜選択する。
合物に対して1〜10倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用
する。また、ヨウ化メチルは過剰に用いれば溶媒を兼ね
ることができる。反応〔O〕の反応温度は、通常0〜100
℃、望ましくは10〜50℃であり、反応時間は、通常0.5
〜48時間、望ましくは1〜24時間である。
化合物は新規であり、以下の反応〔P〕に従って製造す
ることができる。
りであり、Uは塩素又は臭素の各原子である。反応
〔P〕は、アジド化剤の存在下で行う。該アジド化剤と
しては、例えばアジ化ナトリウム、アジ化カリウム、ト
リメチルシリルアジドなどから1種又は2種以上を適宜
選択する。
該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのもので
もよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化
メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエー
テル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;
ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブ
タノールのようなアルコール類;水などから1種又は2
種以上を適宜選択する。反応〔P〕の反応温度は、通常
0〜150℃、望ましくは20〜90℃であり、反応時間は、通
常0.1〜96時間、望ましくは0.5〜12時間である。
合物は新規であり、以下の反応〔Q〕に従って製造する
ことができる。
りである。反応〔Q〕は一般的なヒドラゾン合成反応に
準じて行えばよく、必要に応じて脱水剤及び/又は触媒
の存在下で行う。脱水剤としては、例えばモレキュラー
シーブなどが挙げられる。脱水剤は、式(XII)の化合
物の重量に対して通常は1〜30倍、望ましくは5〜10倍
使用する。触媒としては、例えば四塩化チタンなどが挙
げられる。
(XII)の化合物に対して通常は1〜30倍モル、望まし
くは5〜10倍モル使用する。反応〔Q〕の反応温度は、
通常20〜150℃、望ましくは50〜120℃であり、反応時間
は、通常5〜200時間、望ましくは24〜120時間である。
化合物は新規であり、以下の反応〔R〕に従って製造す
ることができる。
の通りである。反応〔R〕は、塩素化剤又は臭素化剤の
存在下で行う。該塩素化剤としては、例えば塩素、N-ク
ロロコハク酸イミドなどから1種又は2種以上を適宜選
択し、臭素化剤としては、例えば臭素、N-ブロモコハク
酸イミド、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミ
ドなどから1種又は2種以上を適宜選択する。
該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのもので
もよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化
メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエー
テル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;
ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;酢酸、プロピ
オン酸のような有機酸;水などから1種又は2種以上を
適宜選択する。反応〔R〕は、必要に応じて塩基又は酸
の存在下で行う。塩基は、例えばリチウムジイソプロピ
ルアミドなどが挙げられる。塩基は、式(XII)の化合
物に対して1〜2倍モル、望ましくは1〜1.2倍モル使用す
る。
有機酸;塩化アルミニウムなどから1種又は2種以上を
適宜選択する。酸は、通常触媒量使用する。また、溶媒
としての有機酸を過剰に用いることにより溶媒と酸を兼
ねることができる。反応〔R〕の反応温度は、通常-100
〜150℃、望ましくは-78〜110℃であり、反応時間は、
通常0.1〜48時間、望ましくは0.5〜24時間であるが、塩
基の存在下で行う場合、反応温度は、通常-100〜0℃、
望ましくは-78〜-20℃であり、反応時間は、通常0.1〜1
2時間、望ましくは0.5〜6時間であり、酸の存在下で行
う場合、反応温度は、通常0〜150℃、望ましくは20〜11
0℃であり、反応時間は、通常0.1〜48時間、望ましくは
1〜24時間である。
化合物は公知化合物であるか、或は以下の反応〔S〕〜
〔T〕又はこれらに準じた方法に従って製造することが
できる。
あり、Zは酸素原子又は−C(G1)G2−であり、Xaは
水素原子、塩素原子又はアルキルであり、Xa’は塩素
原子又はアルキルであり、Xb、Xc、Xd、Xe、G
1及びG2は各々水素原子、弗素原子又は塩素原子であ
り、Vは臭素原子又は沃素原子であり、jは0又は1で
ある。
媒の存在下で行う。塩基は、リチウムジイソプロピルア
ミドのような有機リチウム化合物などから適宜選択す
る。塩基は、式(XVII)の化合物に対して1〜2倍モ
ル、望ましくは1〜1.5倍モル使用する。溶媒は、反応
に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルの
ようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択
する。
しては、例えばN-クロロコハク酸イミドなどが挙げられ
る。反応〔S〕の第1工程で用いる式:Xa'−Iは、
式(XVII)の化合物に対して1〜10倍モル、望ましくは
1〜5倍モル使用する。また、反応〔S〕の第1工程で
用いる塩素化剤は、式(XVII)の化合物に対して1〜5
倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用する。
性ガスの存在下で行う。該不活性ガスは、例えば窒素ガ
ス、アルゴンガスなどから適宜選択する。反応〔S〕の
第1工程の反応温度は、通常−100〜50℃、望ましくは
−70〜25℃であり、反応時間は、通常1〜48時間、望ま
しくは1〜20時間である。
媒の存在下で行う。塩基は、メチルリチウム、n−ブチ
ルリチウムのような有機リチウム化合物などから1種又
は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(XVII)又は
(XVIII)の化合物に対して1〜2倍モル、望ましくは
1〜1.5倍モル使用する。溶媒は、反応に不活性な溶媒
であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル
類などから1種又は2種以上を適宜選択する。
の化合物は、式(XVII)又は(XVIII)の化合物に対し
て1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用する。
反応〔S〕の第2工程は、必要に応じ不活性ガスの存在
下で行う。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴン
ガスなどから適宜選択する。反応〔S〕の第2工程の反
応温度は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で
あり、反応時間は、通常1〜48時間、望ましくは1〜20
時間である。
a’、Xb、Xc、Xd、Xe、V及びjは前述の通り
である。反応〔T〕の第1工程は、通常塩基及び溶媒の
存在下で行う。
ウムのような有機リチウム化合物などから1種又は2種
以上を適宜選択する。塩基は、式(XVII)又は(XVII
I)の化合物に対して1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5
倍モル使用する。溶媒は、反応に不活性な溶媒であれば
いずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などか
ら1種又は2種以上を適宜選択する。
は、式(XVII)又は(XVIII)の化合物に対して1〜3
倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用する。反応
〔T〕の第1工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で
行う。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガス
などから適宜選択する。反応〔T〕の第1工程の反応温
度は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃であ
り、反応時間は、通常1〜48時間、望ましくは1〜20時
間である。
溶媒の存在下で行う。酸化剤は、クロロクロム酸ピリジ
ニウム、二酸化マンガンなどから1種又は2種以上を適
宜選択する。酸化剤は、式(XXI)の化合物に対して1
〜10倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用する。
れのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類などから1種又は2種
以上を適宜選択する。反応〔T〕の第2工程の反応温度
は、通常0〜150℃、望ましくは20〜100℃であり、反応
時間は、通常0.5〜24時間、望ましくは1〜12時間であ
る。
望ましい態様について以下に記述する。本発明化合物を
含有する有害生物防除剤は、特に、殺虫、殺ダニ、殺線
虫、殺土壌害虫剤として有用であるが、例えば、ナミハ
ダニ、ニセナミハダニ、カンザワハダニ、ミカンハダ
ニ、リンゴハダニ、チャノホコリダニ、ミカンサビダ
ニ、ネダニなどのような植物寄生性ダニ類;モモアカア
ブラムシ、ワタアブラムシのようなアブラムシ類、コナ
ガ、ヨトウムシ、ハスモンヨトウ、コドリンガ、ボール
ワーム、タバコバッドワーム、マイマイガ、コブノメイ
ガ、チャノコカクモンハマキ、コロラドハムシ、ウリハ
ムシ、ボールウィービル、ウンカ類、ヨコバイ類、カイ
ガラムシ類、カメムシ類、コナジラミ類、アザミウマ
類、バッタ類、ハナバエ類、コガネムシ類、タマナヤ
ガ、カブラヤガ、アリ類などのような農業害虫類;ネコ
ブセンチュウ類、シストセンチュウ類、ネグサレセンチ
ュウ類、イネシンガレセンチュウ、イチゴメセンチュ
ウ、マツノザイセンチュウなどのような植物寄生性線虫
類;ナメクジ、マイマイなどのような腹足類;ダンゴム
シ、ワラジムシのような等脚類などのような土壌害虫
類;イエダニ、ゴキブリ類、イエバエ、アカイエカなど
のような衛生害虫類;バクガ、アズキゾウムシ、コクヌ
ストモドキ、ゴミムシダマシ類などのような貯穀害虫
類;イガ、ヒメカツオブシムシ、シロアリ類などのよう
な衣類、家屋害虫類;ケナガコナダニ、コナヒョウダ
ニ、ミナミツメダニのような屋内塵性ダニ類などの防除
に有効である。なかでも、本発明化合物を含有する有害
生物防除剤は、農業害虫類、植物寄生性線虫類などの防
除に特に有効である。また、本発明化合物を含有する有
害生物防除剤は、有機リン剤、カーバメート剤、合成ピ
レスロイド剤などの薬剤に対する各種抵抗性害虫の防除
にも有効である。さらに本発明化合物は、優れた浸透移
行性を有していることから、本発明化合物を含有する有
害生物防除剤を土壌に処理することによって土壌有害昆
虫類、ダニ類、線虫類、腹脚類、等脚類の防除と同時に
茎葉部の害虫類をも防除することができる。
別の望ましい態様としては、前記した植物寄生性ダニ
類、農業害虫類、植物寄生性線虫類、腹足類、土壌害虫
類などを総合的に防除する農園芸用の有害生物防除剤が
挙げられる。
は、通常該化合物と各種農業上の補助剤とを混合して粉
剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁
剤、水溶剤、乳剤、液剤、ペースト剤、エアゾール剤、
微量散布剤などの種々の形態に製剤して使用されるが、
本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用い
られているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤
に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カル
シウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベント
ナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレ
ー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉な
どの固型担体;水、トルエン、キシレン、ソルベントナ
フサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソ
ブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、アルコール
などの溶剤;脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコ
ハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン
酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アル
キルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫
酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸
塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン
酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエー
テルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アル
キルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、ス
チリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン
アルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホ
ルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や
展着剤;ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸
エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコール
ポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセ
チレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマ
ー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレ
ンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリ
コールアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン
脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着
剤;オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿
油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花
生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液
状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。
これら補助剤は本発明の目的から逸脱しないかぎり、当
該分野で知られたものの中から選んで用いることができ
る。また、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、
分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各
種補助剤も使用することができる。本発明化合物と各種
補助剤との配合割合は0.001:99.999〜95:5、望ましく
は0.005:99.995〜90:10である。これらの製剤の実際
の使用に際しては、そのまま使用するか、または水等の
希釈剤で所定濃度に希釈し、必要に応じて各種展着剤を
添加して使用することができる。
施用は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用場所、病
害虫の種類や発生状況などの相違により一概に規定でき
ないが、一般に0.05〜800000ppm、望ましくは0.5〜5000
00ppmの有効成分濃度で行ない、その単位面積あたりの
施用量は、1ヘクタール当り本発明化合物が0.05〜5000
0g、望ましくは1〜30000gである。また、本発明化合物
を含有する有害生物防除剤の別の望ましい態様である農
園芸用の有害生物防除剤の施用は、前記有害生物防除剤
の施用に準じて行われる。本発明には、このような施用
方法による有害生物の防除方法、特に農業害虫類、植物
寄生性線虫類の防除方法も含まれる。
種々の製剤、またはその希釈物の施用は、通常一般に行
なわれている施用方法すなわち、散布(例えば散布、噴
霧、ミスティング、アトマイジング、散粒、水面施用
等)、土壌施用(混入、灌注等)、表面施用(塗布、粉
衣、被覆等)、浸漬毒餌等により行うことができる。ま
た、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、
その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生及び生育を
阻害することも可能である。またいわゆる超高濃度少量
散布法(ultra low volume)により施用することもでき
る。この方法においては、活性成分を100%含有するこ
とが可能である。
除剤は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併
用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性
を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺虫
剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、殺菌剤、抗ウ
ィルス剤、誘引剤、抗生物質、植物ホルモン、植物成長
調整剤などが挙げられる。特に、本発明化合物と他の農
薬の有効成分化合物の1種又は2種以上とを混用或は併
用した混合有害生物防除組成物は、適用範囲、薬剤処理
の時期、防除活性等を好ましい方向へ改良することが可
能である。尚、本発明化合物と他の農薬の有効成分化合
物は各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用し
ても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明に
は、このような混合有害生物防除組成物も含まれる。
との混合比は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用場
所、病害虫の種類や発生状況などの相違により一概に規
定できないが、一般に1:300〜300:1、望ましくは1:1
00〜100:1である。また、施用適量は1ヘクタール当り
の総有効成分化合物量として0.1〜50000g、望ましくは1
〜30000gである。本発明には、このような混合有害生物
防除組成物の施用方法による有害生物の防除方法も含ま
れる。
線虫剤或いは殺土壌害虫剤、すなわち害虫防除剤の有効
成分化合物(一般名;一部申請中を含む)としては、例
えばプロフェノホス(Profenofos)、ジクロルボス(Dichl
orvos)、フェナミホス(Fenamiphos)、フェニトロチオン
(Fenitrothion)、EPN、ダイアジノン(Diazinon)、ク
ロルピリホスメチル(Chlorpyrifos-methyl)、アセフェ
ート(Acephate)、プロチオホス(Prothiofos)、ホスチア
ゼート(Fosthiazate)、ホスホカルブ(Phosphocarb)、カ
ズサホス(Cadusafos)、ジスルホトン(Dislfoton)、クロ
ルピリホス(Chlorpyrifos)、デメトン-S-メチル(Deme
ton-S-methyl)、ジメトエート(Dimethoate)、メタミ
ドホス(Methamidophos)のような有機リン酸エステル
系化合物;
poxur)、アルジカルブ(Aldicarb)、カルボフラン(Carbo
furan)、チオジカルブ(Thiodicarb)、メソミル(Methomy
l)、オキサミル(Oxamyl)、エチオフェンカルブ(Ethiofe
ncarb)、ピリミカルブ(Pirimicarb)、フェノブカルブ(F
enobucarb)、カルボスルファン(Carbosulfan)、ベンフ
ラカルブ(Benfuracarb)のようなカーバメート系化合
物;カルタップ(Cartap)、チオシクラム(Thiocyclam)、
ベンスルタップ(Bensultap)のようなネライストキシ
ン誘導体;ジコホル(Dicofol)、テトラジホン(Tetradif
on)のような有機塩素系化合物;酸化フェンブタスズ(Fe
nbutatin Oxide)のような有機金属系化合物;
トリン(Permethrin)、シペルメトリン(Cypermethrin)、
デルタメトリン(Deltamethrin)、シハロトリン(Cyhalot
hrin)、テフルトリン(Tefluthrin)、エトフェンプロッ
クス(Ethofenprox)、ビフェントリン(Bifenthrin)の
ようなピレスロイド系化合物;ジフルベンズロン(Diflu
benzuron)、クロルフルアズロン(Chlorfluazuron)、テ
フルベンズロン(Teflubenzuron)、フルフェノクスロン
(Flufenoxuron)、ルフェヌロン、ルフェヌロン(Lufenu
ron)、ノバルロン(Novaluron)のようなベンゾイルウ
レア系化合物;メトプレン(Methoprene)、ピリプロキシ
フェン(Pyriproxyfen)、フェノキシカルブ(Fenoxycar
b)のような幼若ホルモン様化合物;
ノン系化合物;フェンピロキシメート(Fenpyroximat
e)、フィプロニル(Fipronil)、テブフェンピラド(Tebuf
enpyrad)、エチピロール(Ethiprole)、トルフェンピラ
ド(Tolfenpyrad)、アセトプロール(Acetoprole)のよ
うなピラゾール系化合物;イミダクロプリド(Imidaclop
rid)、ニテンピラム(Nitenpyram)、アセタミプリド(Ace
tamiprid)、チアクロプリド(Thiacloprid)、チアメトキ
サム(Thiamethoxam)、クロチアニジン(Clothianidin)、
ジノテフラン(Dinotefuran)などのネオニコチノイ
ド;テブフェノジド(Tebufenozide)、メトキシフェノジ
ド(Methoxyfenozide)、クロマフェノジド(Chromafenozi
de)などのヒドラジン系化合物;
系化合物、トリアジン系化合物、ヒドラゾン系化合物ま
た、その他の化合物として、フロニカミド(Flonicamii
d)、ブプロフェジン(Buprofezin)、ヘキシチアゾクス(H
exythiazox)、アミトラズ(Amitraz)、クロルジメホルム
(Chlordimeform)、シラフルオフェン(Silafluofen)、ト
リアザメイト(Triazamate)、ピメトロジン(Pymetrozin
e)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、クロルフェナピル
(Chlorfenapyr)、インドキサカルブ(Indoxacarb)、アセ
キノシル(Acequinocyl)、エトキサゾール(Etoxazole)、
シロマジン(Cyromazine)、1,3−ジクロロプロペン
(1,3-dichloropropene)、ジアフェンチウロン(Diafent
hiuron)、ベンクロチアズ(Benclothiaz)、フルフェ
ンリム(Flufenerim)、ピリダリル(Pyridalyl)、ス
ピロジクロフェン(Spirodiclofen)のような化合物;
などが挙げられる。更に、BT剤、昆虫病原ウイルス
剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤などのような
微生物農薬、アベルメクチン(Avermectin)、ミルベメク
チン(Milbemectin)、スピノサッド(Spinosad)、イベ
ルメクチン(Ivermectin)、エマメクチンベンゾエート
(Emamectin-benzoate)のような抗生物質などと、混
用、併用することもできる。
物(一般名;一部申請中を含む)としては、例えば、メ
パニピリム(Mepanipyrim)、ピリメサニル(Pyrimethani
l)、シプロジニル(Cyprodinil)のようなピリミジナミン
系化合物;トリアジメホン(Triadimefon)、ビテルタノ
ール(Bitertanol)、トリフルミゾール(Triflumizole)、
エタコナゾール(Etaconazole)、プロピコナゾール(Prop
iconazole)、ペンコナゾール(Penconazole)、フルシラ
ゾール(Flusilazole)、マイクロブタニル(Myclobutani
l)、シプロコナゾール(Cyproconazole)、ターブコナゾ
ール(Terbuconazole)、ヘキサコナゾール(Hexaconazol
e)、ファーコナゾールシス(Furconazole-cis)、プロク
ロラズ(Prochloraz)、メトコナゾール(Metconazole)、
エポキシコナゾール(Epoxiconazole)、テトラコナゾー
ル(Tetraconazole)、オキスルポコナゾール(Oxpoconazo
le)、シプコナゾール(Sipconazole)のようなアゾール系
化合物;
うなキノキサリン系化合物;マンネブ(Maneb)、ジネブ
(Zineb)、マンゼブ(Mancozeb)、ポリカーバメート(Poly
carbamate)、プロピネブ(Propineb)のようなジチオカー
バメート系化合物;フサライド(Fthalide)、クロロタロ
ニル(Chlorothalonil)、キントゼン(Quintozene)のよう
な有機塩素系化合物;ベノミル(Benomyl)、チオファネ
ートメチル(Thiophanate-Methyl)、カーベンダジム(Car
bendazim)、シアゾファミド(Cyazofamid)のようなイミ
ダゾール系化合物;フルアジナム(Fluazinam)のような
ピリジナミン系化合物;シモキサニル(Cymoxanil)のよ
うなシアノアセトアミド系化合物;メタラキシル(Metal
axyl)、オキサジキシル(Oxadixyl)、オフレース(Ofurac
e)、ベナラキシル(Benalaxyl)、フララキシル(Furalaxy
l)、シプロフラム(Cyprofuram)のようなフェニルアミド
系化合物;
なスルフェン酸系化合物;水酸化第二銅(Cupric hydrox
ide)、有機銅(Oxine Copper)のような銅系化合物;ヒド
ロキシイソキサゾール(Hydroxyisoxazole)のようなイソ
キサゾール系化合物;ホセチルアルミニウム(Fosetyl-A
l)、トルクロホスメチル(Tolclofos-Methyl)、S−ベン
ジル O,O−ジイソプロピルホスホロチオエート、O
−エチル S,S−ジフェニルホスホロジチオエート、
アルミニウムエチルハイドロゲンホスホネートのような
有機リン系化合物;キャプタン(Captan)、キャプタホル
(Captafol)、フォルペット(Folpet)のようなN−ハロゲ
ノチオアルキル系化合物;プロシミドン(Procymidon
e)、イプロジオン(Iprodione)、ビンクロゾリン(Vinclo
zolin)のようなジカルボキシイミド系化合物;
epronil)、ゾキサミド(Zoxamide)のようなベンズアニリ
ド系化合物;トリホリン(Triforine)のようなピペラジ
ン系化合物;ピリフェノックス(Pyrifenox)のようなピ
リジン系化合物;フェナリモル(Fenarimol)、フルトリ
アフォル(Flutriafol)のようなカルビノール系化合物;
フェンプロピディン(Fenpropidine)のようなピペリジン
系化合物;フェンプロピモルフ(Fenpropimorph)のよう
なモルフォリン系化合物;フェンチンヒドロキシド(Fen
tin Hydroxide)、フェンチンアセテート(FentinAcetat
e)のような有機スズ系化合物;ペンシキュロン(Pencycu
ron)のような尿素系化合物;ジメトモルフ(Dimethomorp
h)のようなシンナミック酸系化合物;ジエトフェンカル
ブ(Diethofencarb)のようなフェニルカーバメート系化
合物;
ピクロニル(Fenpiclonil)のようなシアノピロール系化
合物;アゾキシストロビン(Azoxystrobin)、クレソキシ
ムメチル(Kresoxim-Methyl)、メトミノフェン(Metomino
fen)、トリフロキシストロビン(Trifloxystrobin)、ピ
コキシストロビン(Picoxystrobin)のようなストロビル
リン系化合物;ファモキサドン(Famoxadone)のようなオ
キサゾリジノン系化合物;エタボキサム(Ethaboxam)の
ようなチアゾールカルボキサミド系化合物;シルチオフ
ァム(Silthiopham)のようなシリルアミド系化合物;イ
プロバリカルブ(Iprovalicarb)のようなアミノアシッド
アミドカーバメート系化合物;
ゾリジン系化合物;フェンヘキサミド(Fenhexamid)のよ
うなハイドロキシアニリド系化合物;フルスルファミド
(Flusulfamide)のようなベンゼンスルホンアミド系化合
物;ピラクロストロビン(Pyraclostrobin)のようなス
トロビルリン系化合物;アトラキノン系化合物;クロト
ン酸系化合物;抗生物質またその他の化合物として、イ
ソプロチオラン(Isoprothiolane)、トリシクラゾール(T
ricyclazole)、ピロキロン(Pyroquilon)、ジクロメジン
(Diclomezine)、プロベナゾール(Pro.benazole)、キノ
キシフェン(Quinoxyfen)、プロパモカルブ塩酸塩(Propa
mocarb Hydrochloride)、スピロキサミン(Spiroxamin
e)、クロルピクリン(Chloropicrin)、ダゾメット(Dazom
et)、カーバムナトリウム塩(Metam-sodium);などが挙
げられる。
ることが可能な農薬としては、例えは、Farm Chemicals
Handbook(1998年版)に記載されているような除草剤
の有効成分化合物、特に土壌処理型のものなどがある。
また、本発明化合物を含有する有害生物防除剤は、動物
寄生生物防除剤、特に動物内部寄生性生物の防除剤とし
て又は寄生生物起因動物疾患の防除剤として有用である
が、例えば(1)カイセンダニ、メソスチグマチド、ス
カピー、ツツガムシ、フタトビチマダニ、オウシマダニ
などのダニ類;ネコノミ、イヌノミ、ネズミノミ、ケオ
プトネズミノミ、ヒトノミなどのノミ類;ウシジラミ、
ウマジラミ、ヒツジジラミ、ウシホソジラミ、アタマジ
ラミなどのシラミ類;イヌハジラミなどのハジラミ類;
ウシアブ、ウアイヌカカ、ツメトゲブユなどの吸血性双
翅目害虫のように宿主動物の体外に寄生する寄生生物;
(2)肺虫、ベンチュウ、結節状ウオーム、胃内寄生
虫、回虫、糸状虫類などの線虫類;サナダムシ;吸虫;
コクシジウム、マラリア原虫、腸内肉胞子虫、トキソプ
ラズマ、クリプトスポリジウムなどの原生動物のように
宿主動物の体内に寄生する寄生生物の防除に有効であ
る。
剤、粒剤、顆粒剤、錠剤、散剤、カプセル剤、液剤、乳
剤などの剤形に製剤して使用される。適当な担体として
は、飼料用薬剤等に利用されているもの、例えば乳糖、
蔗糖、ブドウ糖、澱粉、麦粉、コーン粉、大豆油粕、脱
脂米糠、炭酸カルシウム、その他市販の飼料原料等を挙
げることができる。また、本発明化合物は、担体と共に
各種ビタミン類、ミネラル類、アミノ酸類、酵素製剤、
解熱剤、鎮静剤、消炎剤、殺菌剤、着色剤、芳香剤、保
存剤等と配合併用して使用することもできる。本発明化
合物の投与濃度としては、防除対象寄生生物、投与方
法、投与目的、疾病症状等によって異なるが、飼料中に
配合して投与する場合であれば通常0.1ppm以上の濃度と
なるよう投与するのが適当である。本発明化合物は、例
えば特開平5-70350号公報や、特表平11-500439号公報に
記載された試験方法に準じた試験により動物寄生生物、
例えばノミ、コクシジウム、糸状虫に対する防除効果を
示す。
である。但し、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 (1)AがX'で置換されてもよいフェニル、Xで置換され
てもよいベンジル、Xで置換されてもよいナフチル、X
で置換されてもよい複素環基、Xで置換されてもよい縮
合複素環基、インダニル(インダニルは、ハロゲン、ア
ルキル又はアルコキシで置換されてもよい)又はテトラ
ヒドロナフチル(テトラヒドロナフチルは、ハロゲン、
アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)であり、
X'がアルコキシアルコキシ、ハロアルコキシアルコキ
シ、アルコキシハロアルコキシ、ハロアルコキシハロア
ルコキシ、Y'で置換されてもよいフェニル、Y'で置換
されてもよいフェノキシ、Y'で置換されてもよいベン
ジルオキシ、Y'で置換されてもよいピリジルオキシ、-
OR4、-SR5、-NR6R7、-CO2R8、-C(=O)NR
9R10又は不飽和複素環基(不飽和複素環は、ハロゲ
ン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアル
コキシで置換されてもよい)であり、Y'が-OR4、-C
O2R11、-CONR12R13又は不飽和複素環基(不飽和
複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコ
キシ又はハロアルコキシで置換されてもよい)である、
前記式(I)で表される酸アミド誘導体又はその塩。
ある、前記(1)の酸アミド誘導体又はその塩。 (3)AがXで置換されてもよいベンジル、Xで置換され
てもよいナフチル、Xで置換されてもよい複素環基、X
で置換されてもよい縮合複素環基、インダニル(インダ
ニルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換され
てもよい)又はテトラヒドロナフチル(テトラヒドロナ
フチルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換さ
れてもよい)である、前記(1)の酸アミド誘導体又はそ
の塩。
はXで置換されてもよいナフチルである、前記(3)の酸
アミド誘導体又はその塩。 (5)AがXで置換されてもよい複素環基又はXで置換さ
れてもよい縮合複素環基である、前記(3)の酸アミド誘
導体又はその塩。 (6)複素環基がO、S及びNからなる群より選ばれた少
なくとも1種の原子を1〜4含有する5若しくは6員複
素環基であり、縮合複素環基がO、S及びNからなる群
より選ばれた少なくとも1種の原子を1〜4含有する8
〜10員縮合複素環基である、前記(5)の酸アミド誘導
体又はその塩。
ル、チエニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、
ジオキソラニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チア
ゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、イミダゾリニ
ル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピ
ラゾリジニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、チア
ジアゾリル、テトラゾリル、ピラニル、ピリジル、ピペ
リジニル、ジオキサニル、オキサジニル、モルホリニ
ル、チアジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジ
ニル、ピペラジニル又はトリアジニルであり、縮合複素
環基がベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ジヒドロ
ベンゾフラニル、ジヒドロイソベンゾフラニル、ベンゾ
チエニル、イソベンゾチエニル、ジヒドロベンゾチエニ
ル、ジヒドロイソベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾ
チエニル、インドリル、イソインドリル、ベンゾオキサ
ゾリル、ベンゾチアゾリル、インダゾリル、ベンズイミ
ダゾリル、ベンゾジオキソラニル、ベンゾジオキサニ
ル、クロメニル、クロマニル、イソクロマニル、クロモ
ニル、クロマノニル、キノリル、イソキノリル、シンノ
リニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニ
ル、インドリジニル、キノリジニル、イミダゾピリジ
ル、ナフチリジニル、プテリジニル、ジヒドロベンゾオ
キサジニル、ジヒドロベンゾオキサゾリノニル、ジヒド
ロベンゾオキサジノニル又はベンゾチオキサニルであ
る、前記(6)の酸アミド誘導体又はその塩。
ゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)又
はテトラヒドロナフチル(テトラヒドロナフチルは、ハ
ロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)
である、前記(3)の酸アミド誘導体又はその塩。 (9)Xがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキ
シ及びハロアルコキシよりなる群から選ばれた少なくと
も1種である、前記(1)又は(3)〜(7)に記載の酸アミド
誘導体又はその塩。 (10)BがYで置換されてもよいフェニルである、前記
(1)〜(8)に記載の酸アミド誘導体又はその塩。
3が水素原子である、前記(1)〜(8)に記載の酸アミド誘
導体又はその塩。 (12)BがYで置換されてもよいフェニルであり、R1及
びR2が各々アルキルであり、R3が水素原子である、前
記(1)〜(8)に記載の酸アミド誘導体又はその塩。 (13)Yがハロゲン、アルキル及びハロアルキルよりなる
群から選ばれた少なくとも1種である、前記(10)又は(1
2)に記載の酸アミド誘導体又はその塩。
以下の通りである。但し、本発明はこれらに限定される
ものではない。AがXで置換されてもよいフェニル、X
で置換されてもよいベンジル、Xで置換されてもよいナ
フチル、Xで置換されてもよい複素環基又はXで置換さ
れてもよい縮合複素環基であり、Bがアルキル、シクロ
アルキル、Yで置換されてもよいフェニル、Yで置換さ
れてもよい複素環基又はYで置換されてもよい縮合複素
環基であり、Xがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、
アルケニル、ハロアルケニル、アルキニル、ハロアルキ
ニル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルケニルオキ
シ、ハロアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロア
ルキニルオキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、ア
ルケニルチオ、ハロアルケニルチオ、アルキニルチオ、
ハロアルキニルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキル
スルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、ニトロ、シ
アノ、Yで置換されてもよいフェニル、Yで置換されて
もよいフェノキシ、Yで置換されてもよいベンジルオキ
シ、Yで置換されてもよいピリジルオキシ、-OR4、-
SR5、-NR6R7、-CO2R8、-C(=O)NR9R10又
は不飽和複素環基(不飽和複素環は、ハロゲン、アルキ
ル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシで置
換されてもよい)であり、Yがハロゲン、アルキル、ハ
ロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチ
オ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロア
ルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキ
ルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、ニトロ、
シアノ、-CO2R11、-CONR12R13又は不飽和複素
環基(不飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアル
キル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよ
い)であり、R1及びR2が各々アルキル、シアノ又は-
CO2R14であり、またR1とR2が一緒になって3〜6
員飽和炭素環を形成してもよく、R3が水素原子、アル
キル、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、-
COR15、-S(O)mR16又は-S(O)nNR17R18であ
り、R4及びR6が各々水素原子、-C(=W)R19、-C
(=W)OR20、-C(=W)SR21、-C(=W)NR
22R23、-S(O)qR24又は-S(O)rNR25R26であり、
R5が水素原子、-C(=W)R19、-C(=W)OR20、-C
(=W)SR21又は-C(=W)NR22R23であり、R7が水
素原子、アルキル又はハロアルキルであり、R8、R9、
R10、R11、R12、R13及びR14が各々水素原子又はア
ルキルであり、R15が水素原子、アルキル又はアルコキ
シであり、R16、R17、R18、R19、R20、R21、
R22、R23、R24、R25及びR26が各々アルキル、ハロ
アルキル又はフェニル(フェニルは、ハロゲン、アルキ
ル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシで置
換されてもよい)であり、m、n、q及びrが各々0〜
2であり、Wが酸素原子又は硫黄原子である、前記式
(I)で表される酸アミド誘導体又はその塩。
これらに限定されるものではない。まず本発明化合物の
合成例を記載する。 合成例1 2-ヒドロキシカルボニル-N-[(4'-クロロ-1,1
-ジメチル)フェナシル]ベンズアミド(後記化合物No.1-
120)の合成 α-アミノ-4-クロロイソブチロフェノン塩酸塩1.92g及
びテトラヒドロフラン20mlの混合物に室温でトリエチル
アミン0.83gを加えた溶液を、無水フタル酸1.21g及びテ
トラヒドロフラン30mlの混合溶液に加え、室温で16時間
反応させた。反応終了後、反応混合液を濃縮し、残渣に
水70mlを加えた後、10%塩酸で酸性化し、30分間攪拌し
た。析出した結晶を濾取して水洗し、酢酸エチルに溶解
させた後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
融点212〜214℃の目的物1.84gを得た。このもののNMRス
ペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : DMSO /400MHz )1.53(s,6
H),7.00(d,1H),7.48(t,1H),7.52-7.55(m,3H),7.75(d,1
H),8.05(d,2H),9.11(s,1H),12.96(brs,1H)
-1,1-ジメチル)フェナシル]ベンズアミド(後記化合物N
o.1-80)の合成 2-ブロモ-N-[(4'-クロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]ベ
ンズアミド0.35g及び1,2-ジメトキシエタン5mlの混合溶
液に、3-チエニルホウ酸0.24g、炭酸ナトリウム0.51g、
水5ml及びテトラキス(トリフェニルフォスフィン)パ
ラジウム(0)0.1gを加え、窒素雰囲気下8時間加熱還流
下で反応させた。反応終了後、放冷した反応混合物を水
40mlに加え、次いでこのものにt-ブチルメチルエーテル
20mlを加えて攪拌し、30%硫酸で中和した後、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後減圧濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/n
-ヘキサン=3/7)で精製して、融点170〜173℃の目的物
0.14gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の
通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.48(s,
6H),6.09(brs,1H),7.13(dd,1H),7.32-7.48(m,8H),7.84
(dd,2H)
-(3‐テノイル)エチル]ベンズアミド(後記化合物No.6-
5)の合成 (1)2‐(3‐テノイル)プロパン1.54g及びテトラヒドロ
フラン30mlの混合溶液にフェニルトリメチルアンモニウ
ムトリブロミド2.88gを加え、室温で15時間反応させ
た。反応終了後、沈殿物を濾別した後濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/n-
ヘキサン=2/8〜4/6)で精製して、2‐ブロモ-2‐(3‐
テノイル)プロパン0.87gを得た。このもののNMRスペク
トルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )2.06(s,
6H), 7.27〜7.31(m,1H),7.74(dd,1H),8.40(dd,1H)
7gをジメチルスルホキシド5mlに溶解させ、アジ化ナト
リウム0.44gを加えて70℃で1時間反応させた。反応終了
後、放冷した反応混合物を水200mlに投入し、エーテル
で抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後濃縮し、2-アジド-2-(3-テノイル)プロパン0.70g
を得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通り
である。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.58(s,
6H), 7.27〜7.32(m,1H),7.69(dd,1H),8.45(dd,1H)
gにテトラヒドロフラン4mlと水0.08mlを加えた後、室温
で攪拌しながらトリフェニルフォスフィン1.10gを少量
ずつ加え、加え終わってから18時間反応させた。この反
応混合物にテトラヒドロフラン15mlを加え、次いでトリ
エチルアミン0.30gを加えた後氷冷し、2,6−ジフルオロ
ベンゾイルクロリド0.46g及びテトラヒドロフラン5mlの
混合溶液を滴下した。滴下終了後、氷冷下で30分反応さ
せた後、室温で2.5時間さらに反応させた。反応終了
後、反応混合物を水100mlに投入し、酢酸エチルで抽出
した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した後シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチ
ル/n-ヘキサン=4/6)で精製して、融点139〜142℃の目
的物0.60gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以
下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.81(s,
6H),6.92(t,2H),7.12(br,1H),7.29〜7.38(m,2H),7.66(d
d,1H),8.24(dd,1H)
チル-4'-メチルスルホニルオキシ)フェナシル]ベンズア
ミド(化合物No.1-25)の合成 (1)4-メチルスルホニルオキシイソブチロフェノン0.55g
及びテトラヒドロフラン10mlの混合物にフェニルトリメ
チルアンモニウムトリブロミド0.85gを加え、室温で6時
間反応させた。反応終了後、反応混合物を濾過し、濾液
を減圧濃縮して、油状のα-ブロモ-4-メチルスルホニル
オキシイソブチロフェノン0.68gを得た。このもののNMR
スペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )2.04(s,
6H),3.24(s,3H),7.35(d,2H),8.23(d,2H)
イソブチロフェノン0.68g及びジメチルスルホキシド4ml
の混合物にアジ化ナトリウム0.28gを加え、50℃で3時間
反応させた。反応終了後、反応混合物を水中に投入し、
エーテルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後減圧濃縮し、油状のα-アジド-4-
メチルスルホニルオキシイソブチロフェノン0.55gを得
た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りであ
る。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.61(s,
6H),3.20(s,3H),7.39(d,2H),8.21(d,2H)
イソブチロフェノン0.55g、テトラヒドロフラン12.7ml
及び水0.3mlの混合物に、トリフェニルホスフィン0.61g
を加え、室温で16時間反応させた。反応終了後、反応混
合物を減圧濃縮し、残渣に水、次いで塩酸を加え弱酸性
とした後酢酸エチルで洗浄した。水層を水酸化ナトリウ
ム水溶液で中和し、塩化メチレンで抽出した後無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、油状のα-アミノ-
4-メチルスルホニルオキシイソブチロフェノン0.40gを
得た。
イソブチロフェノン0.40g及びテトラヒドロフラン15ml
の混合物にトリエチルアミン0.19gを加え、そこへ2,6-
ジフルオロベンゾイルクロライド0.27gを氷冷下で滴下
し、滴下終了後、室温で2時間反応させた。反応終了
後、反応混合物を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/n-ヘキサン=3
/7)で精製して、融点158〜162℃の目的物0.50gを得
た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りであ
る。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.78(s,
6H),3.15(s,3H),6.89(s,1H),6.91(t,2H),7.32(d,2H),7.
32〜7.42(m,1H),8.09(d,2H)
チル-4'-ヒドロキシ)フェナシル]ベンズアミド(化合物
No.1-2)の合成 2,6-ジフルオロ-N-[(1,1-ジメチル-4'-メチルスルホニ
ルオキシ)フェナシル]ベンズアミド0.49g及びメタノー
ル30mlの混合物に水酸化ナトリウム0.3g及び水15mlの混
合物を室温で加え、その後還流下で1時間反応させた。
反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水で希釈
した後塩酸を加えて弱酸性とし、生じた固体を濾取、乾
燥して、 融点107〜114℃の目的物0.35gを得た。このも
ののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.86(s,
6H),6.77(s,1H),6.83(d,2H),6.93(t,2H),7.06(s,1H),7.
30〜7.40(m,1H),8.02(d,2H)
チル-4'-トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フェナ
シル]ベンズアミド(化合物No.1-26)の合成 2,6-ジフルオロ-N-[(1,1-ジメチル-4'-ヒドロキシ)フェ
ナシル]ベンズアミド0.115g、ジクロロエタン7ml及びト
リエチルアミン44mgの混合物にトリフルオロメタンスル
ホン酸無水物0.102gを氷冷下で加えた後、室温で2時間
反応させた。反応終了後、反応混合物を塩化メチレンで
希釈し、水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶離液:酢酸エチル/n-ヘキサン=3/7)で精
製して、融点117〜123℃の目的物0.14gを得た。このも
ののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.78(s,
6H),6.60(s,1H),6.91(t,2H),7.31(d,2H), 7.31〜7.41
(m,1H),8.10(d,2H)
クロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]ベンズアミド(後記
化合物No.1-121)の合成 2-ヒドロキシカルボニル-N-[(4'-クロロ-1,1-ジメチル)
フェナシル]ベンズアミド1.4g及びメタノール100mlの混
合溶液に、室温で触媒量の濃硫酸を加え、6時間加熱還
流下で反応させた。反応終了後、メタノールを留去し、
残渣に水150mlを加えて酢酸エチルで抽出した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離
液:酢酸エチル/n-ヘキサン=2/8〜4/6)で精製して、
融点166〜168℃の目的物0.86gを得た。このもののNM
Rスペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.80(s,
6H),3.84(s,3H),6.77(brs,1H),7.18(dd,1H),7.41(dd,2
H),7.43-7.51(m,2H),7.86(dd,1H),7.98(dd,2H)
ロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]ベンズアミド(後記化
合物No.1-122)の合成 2-メトキシカルボニル-N-[(4'-クロロ-1,1-ジメチル)フ
ェナシル]ベンズアミド0.58g及びメタノール15mlの混合
溶液に、室温で28%アンモニア水10mlを加え、室温で一
晩反応させた。反応終了後、メタノールを留去し、残渣
に水200mlを加えて30%硫酸で中和した後、酢酸エチル
で抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチ
ル/n-ヘキサン=1/1〜8/2)で精製して、融点205〜206
℃の目的物0.39gを得た。このもののNMRスペクトル
データは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : DMSO /400MHz )1.52(s,6
H),7.17-7.21(m,1H),7.34(brs,1H),7.41-7.49(m,3H),7.
52(dd,2H),7.68(brs,1H),8.05(dd,2H),9.09(s,1H)
トラフルオロ-5-メチル-1,4-ベンゾジオキサン-6-イル)
カルボニル]-2-プロピル]ベンズアミド(後記化合物No.
16-37)の合成 (1)ジイソプロピルアミン1.85g及びテトラヒドロフラン
50mlの混合物に、窒素雰囲気下、−20℃でn-ブチルリチ
ウム(1.57M-n-ヘキサン溶液)11.7mlを滴下し、同温度
で30分間攪拌した。そこへ−50℃以下で6-ブロモ-2,2,
3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン5.0g を滴下
し、同温度で30分間攪拌した。次いで−70℃以下でヨウ
化メチル5.5mlを滴下し、室温まで昇温して15時間反応
させた。反応終了後、反応混合物を水中投入し、塩酸で
弱酸性とした。次いでエーテルで抽出し、水洗して硫酸
マグネシウムで乾燥した。その後減圧濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:
n-ヘキサン)で精製して、油状の6-ブロモ-2,2,3,3-テ
トラフルオロ-5-メチル-1,4-ベンゾジオキサン3.40gを
得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りで
ある。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )2.39(s,
3H),6.89(d,1H),6.91(t,2H),7.35(d,1H)
メチル-1,4-ベンゾジオキサン3.36g及びエーテル40.6ml
の混合物に、窒素雰囲気下、−50℃でn-ブチルリチウム
(1.57M-n-ヘキサン溶液)7.8mlを滴下し、同温度で30
分間攪拌した。そこへ−70℃以下でイソブチルアルデヒ
ド0.89gを滴下し、室温まで昇温して15時間反応させ
た。反応終了後、反応混合物を水中投入し、塩酸で弱酸
性とした。次いでエーテルで抽出し、水洗して硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。その後減圧濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸
エチル/n-ヘキサン=1/9)で精製して、油状の1-(2,2,
3,3-テトラフルオロ-5-メチル-1,4-ベンゾジオキサン-6
-イル)-2-メチルプロパノール1.90gを得た。このものの
NMRスペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )0.87(d,
3H),1.00(d,3H),1.94(m,1H),2.29(s,3H),4.65(d,1H),7.
00(d,1H),7.27(d,1H)
酸ナトリウム1.01g及び塩化メチレン20mlの混合物に、
室温で1-(2,2,3,3-テトラフルオロ-5-メチル-1,4-ベン
ゾジオキサン-6-イル)-2-メチルプロパノール1.82g及び
塩化メチレン7mlの混合物を加え、同温度で2時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合物をセライト濾過し、濾液
を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/1
9)で精製して、油状の6-(2,2,3,3-テトラフルオロ-5-
メチル-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-プロピル ケトン
1.70gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の
通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.17(d,
6H),2.36(s,3H),3.26(m,1H),7.04(d,1H),7.31(d,1H)
-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-プロピル ケトン1.67g及
びテトラヒドロフラン20mlの混合物に、フェニルトリメ
チルアンモニウムトリブロミド2.15gを加え、室温で2時
間反応させた。反応終了後、反応混合物を濾過し、濾液
を減圧濃縮して、油状の6-(2,2,3,3-テトラフルオロ-5
-メチル-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-ブロモ-2-プロピ
ル ケトン1.90gを得た。
-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-ブロモ-2-プロピル ケト
ン1.90g及びジメチルスルホキシド11mlの混合物に、ア
ジ化ナトリウム0.74gを加え、50℃で2時間反応させた。
反応終了後、反応混合物を水中に投入し、エーテルで抽
出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/n-ヘキサ
ン=1/19)で精製して、油状の6-(2,2,3,3-テトラフル
オロ-5-メチル-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-アジド-2-
プロピル ケトン0.90gを得た。このもののNMRスペクト
ルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.56(s,
6H),2.25(s,3H),7.03(d,1H),7.27(d,1H)
ル-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-アジド-2-プロピル ケ
トン0.90g、メタノール20ml及び5%パラジウム炭素50mg
の混合物を、水素雰囲気下室温で1時間反応させた。反
応終了後、反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃
縮して、油状の6-(2,2,3,3-テトラフルオロ-5-メチル-
1,4-ベンゾジオキサニル) 2-アミノ-2-プロピル ケト
ン0.70gを得た。
-1,4-ベンゾジオキサニル) 2-アミノ-2-プロピル ケト
ン0.20g及びテトラヒドロフラン7mlの混合物に、トリエ
チルアミン0.10gを加えた。そこへ2-フルオロベンゾイ
ルクロライド0.11gを氷冷下で滴下し、滴下終了後、室
温で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
離液:酢酸エチル/n-ヘキサン=3/7)で精製して、融点
110〜112℃の目的物0.25gを得た。このもののNMRスペク
トルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.74(s,
6H),2.35(s,3H),6.94(d,1H),7.14(dq,1H),7.23(dt,1H),
7.30(s,1H),7.42(d,1H),7.44〜7.50(m,1H),7.92(dt,1H)
シカルボニル-1,1-ジメチル)フェナシル]ベンズアミド
(後記化合物No.1-221)の合成 (1)m-ヨード安息香酸2.48g及びテトラヒドロフラン40ml
の混合物を−70℃に冷却し、そこへn-ブチルリチウム
(1.6M-n-ヘキサン溶液)13.8mlを10分間かけて滴下
し、同温度で30分間攪拌した。次いで−70℃でN-イソブ
チリルプロピレンイミン1.5g及びテトラヒドロフラン5m
lの混合物を加え、室温まで昇温して一晩反応させた。
反応終了後、反応混合物を水100mlに加えて攪拌し、さ
らにヘキサンを加えて分液した。水層を濃塩酸で酸性化
し、酢酸エチルで抽出して無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。その後減圧濃縮してm-イソブチリル安息香酸の粗生
成物を得た。
香酸の粗生成物に、トルエン100mlと塩化チオニル5gを
加え1時間還流下に反応させた。反応終了後、過剰の塩
化チオニルを留去して、粗製のm-イソブチリル安息香酸
クロリドのトルエン溶液を得た。
mlの混合物に、前記工程(2)で得た粗製のm-イソブチリ
ル安息香酸クロリドのトルエン溶液を氷冷下で滴下し、
室温まで昇温して1時間反応させた。反応終了後、メタ
ノールとトルエンを減圧下で留去し、水200mlを加え酢
酸エチルで抽出した。次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮してm-イソブチリル安息香酸メチルの粗生
成物1.5gを得た。
香酸メチルの粗生成物1.5g及びテトラヒドロフラン20ml
の混合物にフェニルトリメチルアンモニウムトリブロミ
ド0.8gを加え、室温で一晩反応させた。反応終了後、析
出した結晶を濾別し、テトラヒドロフランを留去した。
残渣を酢酸エチルに溶解させ、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。その後減圧濃縮し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで粗精製して、粗3'-
メトキシカルボニル-2-ブロモ-2-メチルプロピオフェノ
ン0.27gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下
の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )2.05(s,
6H),3.98(s,3H),7.52-7.57(m,1H),8.19-8.25(m,1H),8.3
1-8.34(m,1H),8.78(t,1H)
ボニル-2-ブロモ-2-メチルプロピオフェノン0.27gを用
い、前記合成例9の工程(5)〜(7)に準じて、目的物を含
む粗生成物17mgを得た。このもののNMRスペクトルデー
タは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.81(s,
6H),3.93(s,3H),6.85-6.91(m,3H),7.27-7.34(m,1H),7.4
7-7.53(m,1H),8.16-8.20(m,2H),8.65(t,1H)
フルオロメチル-2-ピリジルカルボニル)-2-プロピル]ベ
ンズアミド(後記化合物No.8-43)の合成 2-ブロモ-5-トリフルオロメチルピリジン2.26gを用い、
前記合成例10の工程(1)、(4)及び(5)に準じて、目的物
を含む粗生成物10mgを得た。このもののNMRスペクトル
データは以下の通りである。1 H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )1.89(s,
6H),6.71(br,1H),6.83-6.88(m,2H),7.26-7.36(m,1H),8.
04-8.11(m,1H),8.76(s,1H)
物の代表例を第1〜53表に挙げるが、これら化合物は前
記合成例或は前記した本発明化合物の種々の製造方法に
基づいて合成することができる。尚、表中、Meはメチル
基、Etはエチル基、Buはブチル基、Phはフェニル基を各
々示す。また、Ph(2-F)は、2位にフッ素原子が置換した
フェニル基を示し、他の同様の記載もこれに準じる。
験(土壌混和処理) サツマイモネコブセンチュウ汚染土壌300mlに、本発明
化合物の濃度が1600ppmとなるよう調製した薬液7mlを潅
注した後、薬剤が均一に分散するように混和する。処理
土壌をポット(直径9cm、高さ8cm)に詰めた後、2葉期
のトマト苗を移植し、温室内に置く。トマト移植3〜4週
間後、根部に形成された根こぶの着生程度を以下の根こ
ぶ指数に従って判定すると、本発明化合物は根こぶ指数
1以下の高い防除効果を示す。例えば、前記化合物No.1
-25、1-26、1-73、1-100、1-122、1-123、1-125、1-12
7、1-130、1-131、1-133、1-136、1-137、1-139、1-14
0、1-172、1-173、1-177、5-5、5-9、5-11、5-16、5-2
0、8-2、8-5、13-2、13-4、13-6、13-7、13-18、13-1
9、13-44、13-45、16-32、16-37及び16-38は根こぶ指数
が1以下であった。
る効果試験(土壌混和処理) キタネグサレセンチュウ汚染土壌300mlに、本発明化合
物の濃度が1600ppmとなるよう調製した薬液7mlを潅注し
た後、薬剤が均一に分散するように混和する。処理土壌
をポット(直径9cm、高さ8cm)に詰めた後、10粒のごぼ
う種子を播種し、温室内に置く。ごぼう種子の播種から
約2ヶ月後に、根部の被害程度を以下の被害指数に従っ
て判定すると、本発明化合物は被害指数1以下の高い防
除効果を示す。例えば、前記化合物No.13-19及び13-45
は被害指数が1以下であった。
る効果試験(薬液浸漬処理) ガラス製試験管(IWAKI製のDISPOSABLE CULTURE TUBE
S:内径10mm、長さ75mm)に、本発明化合物の濃度が40p
pmとなるよう調製した薬液1mlを入れる。そこへ、約10
0頭のキタネグサレセンチュウを含む水1mlを加え軽く
攪拌し、得られた検液中の本発明化合物の最終濃度を20
ppmとする。その後試験管の上部をパラフィルム(Ameri
can National Can製)で塞いで密閉し、25℃下で放置す
る。2日後、上記検液をスライドガラス(MATSUNAMI製
のMICRO SLIDE GLASS:プランクトン格子線枠付)に移
し、顕微鏡で不活動虫数(10秒以上動かないものを含め
る)及び活動虫数を調べる。下記の式により運動阻害率
(%)を求めると、本発明化合物は運動阻害率70%以上
の高い効果を示す。例えば、前記化合物No.13-45、16-3
7及び16-38の運動阻害率は、70%以上であった。 運動阻害率(%)=不活動虫数÷(活動虫数+不活動虫
数)×100
成熟オーシストを得、これに本発明化合物の所定濃度の
溶液を10又は30分感作させ、感作した未成熟オーシスト
を遠心し、上清を取り除き2%重クロム酸カリウム水溶液
を加え25℃で4日間スポルレーションすることにより良
好なオーシスト防除効果が確認される。試験例5 イヌ
糸状虫に対する効果試験イヌ糸状虫(Dirofilaria immit
is)を皮下感染させたイヌに、本発明化合物を経口投与
する。感染から200日後の検死時に、処理動物の肺や心
臓へのイヌ糸状虫寄生成虫数を調査することにより、良
好なイヌ糸状虫防除効果が確認される。
量割合で混合し、水和剤とする。
希釈した後、(4)に吹付け、アセトンを除去して粒剤
とする。 製剤例7 (1)本発明化合物 2.5重量部 (2)N−メチル−2−ピロリドン 2.5重量部 (3)大豆油 95.0重量部 以上のものを均一に混合、溶解して微量散布剤(ultra l
ow volume formulation)とする。
Claims (18)
- 【請求項1】 式(I); 【化1】 [式中、AはXで置換されてもよいフェニル、Xで置換
されてもよいベンジル、Xで置換されてもよいナフチ
ル、Xで置換されてもよい複素環基、Xで置換されても
よい縮合複素環基、インダニル(インダニルは、ハロゲ
ン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)又は
テトラヒドロナフチル(テトラヒドロナフチルは、ハロ
ゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)で
あり、Bはアルキル、シクロアルキル、Yで置換されて
もよいフェニル、Yで置換されてもよい複素環基又はY
で置換されてもよい縮合複素環基であり、Xはハロゲ
ン、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケ
ニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシ、ハロ
アルコキシ、アルコキシアルコキシ、ハロアルコキシア
ルコキシ、アルコキシハロアルコキシ、ハロアルコキシ
ハロアルコキシ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオ
キシ、アルキニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アル
キルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロア
ルケニルチオ、アルキニルチオ、ハロアルキニルチオ、
アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、ア
ルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキ
ルアミノスルホニル、ニトロ、シアノ、Yで置換されて
もよいフェニル、Yで置換されてもよいフェノキシ、Y
で置換されてもよいベンジルオキシ、Yで置換されても
よいピリジルオキシ、-OR4、-SR5、-NR6R7、-C
O2R8、-C(=O)NR9R10又は不飽和複素環基(不飽
和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アル
コキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい)であ
り、Yはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキ
シ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジ
アルキルアミノスルホニル、ニトロ、シアノ、-OR4、
-CO2R11、-CONR12R13又は不飽和複素環基(不
飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
ルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい)であ
り、R1及びR2は各々アルキル、シアノ又は-CO2R14
であり、またR1とR2は一緒になって3〜6員飽和炭素
環を形成してもよく、R3は水素原子、アルキル、アル
コキシアルキル、アルキルチオアルキル、-COR15、-
S(O)mR16又は-S(O)nNR17R18であり、R4及びR
6は各々水素原子、-C(=W)R19、-C(=W)OR20、-
C(=W)SR21、-C(=W)NR22R23、-S(O)qR 24
又は-S(O)rNR25R26であり、R5は水素原子、-C
(=W)R19、-C(=W)OR20、-C(=W)SR21又は-
C(=W)NR22R23であり、R7は水素原子、アルキル
又はハロアルキルであり、R8、R9、R10、R11、
R12、R13及びR14は各々水素原子又はアルキルであ
り、R15は水素原子、アルキル又はアルコキシであり、
R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R
24、R25及びR26は各々アルキル、ハロアルキル又はフ
ェニル(フェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキ
ル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよ
い)であり、m、n、q及びrは各々0〜2であり、W
は酸素原子又は硫黄原子であり、但し、(1)AがX1で置
換されてもよいフェニルであり、Bがアルキル、シクロ
アルキル、Y1で置換されてもよいフェニル、Y1で置換
されてもよいピリジル又はY1で置換されてもよいピラ
ゾリルであり、R1及びR2が各々アルキルであり、R1
とR2は一緒になって3〜6員飽和炭素環を形成しても
よく、R3が水素原子、アルキル、アルコキシアルキ
ル、アルキルチオアルキル、アルキルカルボニル又はア
ルコキシカルボニルであり、X1がハロゲン、アルキ
ル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アル
キニル、ハロアルキニル、アルコキシ、ハロアルコキ
シ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキ
ニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキルチオ、ハ
ロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロアルケニルチ
オ、アルキニルチオ、ハロアルキニルチオ、アルキルス
ルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスル
ホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノス
ルホニル、ニトロ、シアノ、Y1で置換されてもよいフ
ェニル、Y1で置換されてもよいフェノキシ、Y1で置換
されてもよいベンジルオキシ又はY1で置換されてもよ
いピリジルオキシであり、且つ、Y1がハロゲン、アル
キル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ア
ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニ
ル、ニトロ又はシアノである場合並びに(2)N-[1-メチル
-1-(2'-メチルイソニコチノイル)エチル]ベンズアミド
を除く]で表される酸アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項2】AがX'で置換されてもよいフェニル、X
で置換されてもよいベンジル、Xで置換されてもよいナ
フチル、Xで置換されてもよい複素環基、Xで置換され
てもよい縮合複素環基、インダニル(インダニルは、ハ
ロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)
又はテトラヒドロナフチル(テトラヒドロナフチルは、
ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよ
い)であり、X'がアルコキシアルコキシ、ハロアルコ
キシアルコキシ、アルコキシハロアルコキシ、ハロアル
コキシハロアルコキシ、Y'で置換されてもよいフェニ
ル、Y'で置換されてもよいフェノキシ、Y'で置換され
てもよいベンジルオキシ、Y'で置換されてもよいピリ
ジルオキシ、-OR4、-SR5、-NR6R7、-CO2R 8、
-C(=O)NR9R10又は不飽和複素環基(不飽和複素環
は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又
はハロアルコキシで置換されてもよい)であり、Y'が-
OR4、-CO2R11、-CONR12R13又は不飽和複素環
基(不飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキ
ル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよ
い)である、前記請求項1に記載の酸アミド誘導体又は
その塩。 - 【請求項3】AがX'で置換されてもよいフェニルであ
る、前記請求項2に記載の酸アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項4】AがXで置換されてもよいベンジル、Xで
置換されてもよいナフチル、Xで置換されてもよい複素
環基、Xで置換されてもよい縮合複素環基、インダニル
(インダニルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで
置換されてもよい)又はテトラヒドロナフチル(テトラ
ヒドロナフチルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシ
で置換されてもよい)である、前記請求項2に記載の酸
アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項5】AがXで置換されてもよいベンジル又はX
で置換されてもよいナフチルである、前記請求項4に記
載の酸アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項6】AがXで置換されてもよい複素環基又はX
で置換されてもよい縮合複素環基である、前記請求項4
に記載の酸アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項7】複素環基がO、S及びNからなる群より選
ばれた少なくとも1種の原子を1〜4含有する5若しく
は6員複素環基であり、縮合複素環基がO、S及びNか
らなる群より選ばれた少なくとも1種の原子を1〜4含
有する8〜10員縮合複素環基である、前記請求項6に
記載の酸アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項8】複素環基がフリル、テトラヒドロフリル、
チエニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、ジオ
キソラニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリ
ル、イソチアゾリル、イミダゾリル、イミダゾリニル、
イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾ
リジニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジア
ゾリル、テトラゾリル、ピラニル、ピリジル、ピペリジ
ニル、ジオキサニル、オキサジニル、モルホリニル、チ
アジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、
ピペラジニル又はトリアジニルであり、縮合複素環基が
ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ジヒドロベンゾ
フラニル、ジヒドロイソベンゾフラニル、ベンゾチエニ
ル、イソベンゾチエニル、ジヒドロベンゾチエニル、ジ
ヒドロイソベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニ
ル、インドリル、イソインドリル、ベンゾオキサゾリ
ル、ベンゾチアゾリル、インダゾリル、ベンズイミダゾ
リル、ベンゾジオキソラニル、ベンゾジオキサニル、ク
ロメニル、クロマニル、イソクロマニル、クロモニル、
クロマノニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニ
ル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、イ
ンドリジニル、キノリジニル、イミダゾピリジル、ナフ
チリジニル、プテリジニル、ジヒドロベンゾオキサジニ
ル、ジヒドロベンゾオキサゾリノニル、ジヒドロベンゾ
オキサジノニル又はベンゾチオキサニルである、前記請
求項7に記載の酸アミド誘導体又はその塩。 - 【請求項9】Aがインダニル(インダニルは、ハロゲ
ン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)又は
テトラヒドロナフチル(テトラヒドロナフチルは、ハロ
ゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)で
ある、前記請求項4に記載の酸アミド誘導体又はその
塩。 - 【請求項10】 式(I); 【化2】 [式中、AはXで置換されてもよいフェニル、Xで置換
されてもよいベンジル、Xで置換されてもよいナフチ
ル、Xで置換されてもよい複素環基、Xで置換されても
よい縮合複素環基、インダニル(インダニルは、ハロゲ
ン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)又は
テトラヒドロナフチル(テトラヒドロナフチルは、ハロ
ゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい)で
あり、Bはアルキル、シクロアルキル、Yで置換されて
もよいフェニル、Yで置換されてもよい複素環基又はY
で置換されてもよい縮合複素環基であり、Xはハロゲ
ン、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケ
ニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシ、ハロ
アルコキシ、アルコキシアルコキシ、ハロアルコキシア
ルコキシ、アルコキシハロアルコキシ、ハロアルコキシ
ハロアルコキシ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオ
キシ、アルキニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アル
キルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロア
ルケニルチオ、アルキニルチオ、ハロアルキニルチオ、
アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、ア
ルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキ
ルアミノスルホニル、ニトロ、シアノ、Yで置換されて
もよいフェニル、Yで置換されてもよいフェノキシ、Y
で置換されてもよいベンジルオキシ、Yで置換されても
よいピリジルオキシ、-OR4、-SR5、-NR6R7、-C
O2R8、-C(=O)NR9R10又は不飽和複素環基(不飽
和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アル
コキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい)であ
り、Yはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキ
シ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジ
アルキルアミノスルホニル、ニトロ、シアノ、-OR4、
-CO2R11、-CONR12R13又は不飽和複素環基(不
飽和複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
ルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい)であ
り、R1及びR2は各々アルキル、シアノ又は-CO2R14
であり、またR1とR2は一緒になって3〜6員飽和炭素
環を形成してもよく、R3は水素原子、アルキル、アル
コキシアルキル、アルキルチオアルキル、-COR15、-
S(O)mR16又は-S(O)nNR17R18であり、R4及びR
6は各々水素原子、-C(=W)R19、-C(=W)OR20、-
C(=W)SR21、-C(=W)NR22R23、-S(O)qR 24
又は-S(O)rNR25R26であり、R5は水素原子、-C
(=W)R19、-C(=W)OR20、-C(=W)SR21又は-
C(=W)NR22R23であり、R7は水素原子、アルキル
又はハロアルキルであり、R8、R9、R10、R11、
R12、R13及びR14は各々水素原子又はアルキルであ
り、R15は水素原子、アルキル又はアルコキシであり、
R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R
24、R25及びR26は各々アルキル、ハロアルキル又はフ
ェニル(フェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキ
ル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよ
い)であり、m、n、q及びrは各々0〜2であり、W
は酸素原子又は硫黄原子であり、但し、(1)AがX1で置
換されてもよいフェニルであり、Bがアルキル、シクロ
アルキル、Y1で置換されてもよいフェニル、Y1で置換
されてもよいピリジル又はY1で置換されてもよいピラ
ゾリルであり、R1及びR2が各々アルキルであり、R1
とR2は一緒になって3〜6員飽和炭素環を形成しても
よく、R3が水素原子、アルキル、アルコキシアルキ
ル、アルキルチオアルキル、アルキルカルボニル又はア
ルコキシカルボニルであり、X1がハロゲン、アルキ
ル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アル
キニル、ハロアルキニル、アルコキシ、ハロアルコキ
シ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキ
ニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキルチオ、ハ
ロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロアルケニルチ
オ、アルキニルチオ、ハロアルキニルチオ、アルキルス
ルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスル
ホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノス
ルホニル、ニトロ、シアノ、Y1で置換されてもよいフ
ェニル、Y1で置換されてもよいフェノキシ、Y1で置換
されてもよいベンジルオキシ又はY1で置換されてもよ
いピリジルオキシであり、且つ、Y1がハロゲン、アル
キル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ア
ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニ
ル、ニトロ又はシアノである場合並びに(2)N-[1-メチル
-1-(2'-メチルイソニコチノイル)エチル]ベンズアミド
を除く]で表される酸アミド誘導体又はその塩の製造方
法であって、(1)式(II); 【化3】 (式中、A、R1及びR2は前述の通りである)で表され
る化合物又はその塩と、式(III); 【化4】 (式中、Bは前述の通りであり、Zはヒドロキシ、アル
コキシ又はハロゲンである)で表される化合物とを反応
させるか、或は(2)式(I−1); 【化5】 (式中、A、B、R1及びR2は前述の通りである)で表
される化合物と、式(IV); 【化6】 (式中、R3aはアルキル、アルコキシアルキル、アルキ
ルチオアルキル、-COR15、-S(O)mR16又は-S(O)
nNR17R18であり、R15、R16、R17、R18、m及び
nは前述の通りであり、Tはハロゲンである)で表され
る化合物とを反応させることを特徴とする、前記式
(I)の化合物の製造方法。 - 【請求項11】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する有害生物防除剤。 - 【請求項12】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。 - 【請求項13】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する殺虫、殺ダニ又は殺線虫剤。 - 【請求項14】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する殺線虫剤。 - 【請求項15】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する動物寄生生物防除剤。 - 【請求項16】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する動物内部寄生性生物の防除
剤。 - 【請求項17】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
を有効成分として含有する寄生生物起因動物疾患の予防
又は治療剤。 - 【請求項18】 請求項1の酸アミド誘導体又はその塩
の有効成分量を使用する有害生物の防除方法。
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005179234A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | カルボン酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物 |
WO2005077934A1 (ja) * | 2004-02-18 | 2005-08-25 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | アントラニルアミド系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
JP2005532068A (ja) * | 2002-07-05 | 2005-10-27 | レオジーン,インコーポレーテッド | エクジソンレセプター複合体を介した外来遺伝子の発現を調節するためのケトンリガンド |
JP2007023007A (ja) * | 2004-08-12 | 2007-02-01 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物 |
JP2009132681A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-06-18 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 殺菌性組成物及び有害菌類の防除方法 |
JP2012102101A (ja) * | 2004-08-12 | 2012-05-31 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 酸アミド誘導体 |
JP2012526125A (ja) * | 2009-05-04 | 2012-10-25 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 殺線虫性スルホンアミド |
JP5084721B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-11-28 | 日本農薬株式会社 | N−2−(ヘテロ)アリールエチルカルボキサミド誘導体及びこれを含有する有害生物防除剤 |
WO2013111893A1 (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
WO2013111894A1 (en) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
JP2014522815A (ja) * | 2011-06-24 | 2014-09-08 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 殺有害生物組成物およびそれらに関連のプロセス |
US10638756B2 (en) | 2017-03-31 | 2020-05-05 | Dow Agrosciences Llc | Molecules having pesticidal utility, and intermediates, compositions, and processes, related thereto |
US10681908B2 (en) | 2016-01-25 | 2020-06-16 | Dow Agrosciences Llc | Molecules having pesticidal utility, and intermediates, compositions, and processes, related thereto |
CN112939919A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-11 | 西华大学 | 2-氨基苯并吡喃类化合物及其在农药中的应用 |
CN113004240A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-22 | 西华大学 | 苯并吡喃类化合物及其在农药中的用途 |
CN113024500A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-25 | 西华大学 | 6,8-二溴苯并吡喃衍生物及其在农药中的应用 |
-
2002
- 2002-09-17 JP JP2002270729A patent/JP4300009B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9802936B2 (en) | 2002-07-05 | 2017-10-31 | Intrexon Corporation | Ketone ligands for modulating the expression of exogenous genes via an ecdysone receptor complex |
JP2005532068A (ja) * | 2002-07-05 | 2005-10-27 | レオジーン,インコーポレーテッド | エクジソンレセプター複合体を介した外来遺伝子の発現を調節するためのケトンリガンド |
US8129355B2 (en) | 2002-07-05 | 2012-03-06 | Intrexon Corporation | Ketone ligands for modulating the expression of exogenous genes via an ecdysone receptor complex |
JP4550405B2 (ja) * | 2003-12-18 | 2010-09-22 | 石原産業株式会社 | カルボン酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物 |
JP2005179234A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | カルボン酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物 |
US7994201B2 (en) | 2004-02-18 | 2011-08-09 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Anthranilamide compounds, process for their production and pesticides containing them |
US7612100B2 (en) | 2004-02-18 | 2009-11-03 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Anthranilamides, process for the production thereof, and pest controllers containing the same |
WO2005077934A1 (ja) * | 2004-02-18 | 2005-08-25 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | アントラニルアミド系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
EP2256112A1 (en) * | 2004-02-18 | 2010-12-01 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Anthranilamides, process for the production thereof and pest controllers containing the same |
JP2008247918A (ja) * | 2004-02-18 | 2008-10-16 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | アントラニルアミド系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する有害生物防除剤 |
US8470856B2 (en) | 2004-02-18 | 2013-06-25 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Anthranilamide compounds, process for their production and pesticides containing them |
JP2007023007A (ja) * | 2004-08-12 | 2007-02-01 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物 |
JP2012102101A (ja) * | 2004-08-12 | 2012-05-31 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 酸アミド誘導体 |
JP5084721B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-11-28 | 日本農薬株式会社 | N−2−(ヘテロ)アリールエチルカルボキサミド誘導体及びこれを含有する有害生物防除剤 |
KR101527245B1 (ko) * | 2007-11-05 | 2015-06-08 | 이시하라 산교 가부시끼가이샤 | 살균성 조성물 및 유해균류의 방제 방법 |
JP2009132681A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-06-18 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 殺菌性組成物及び有害菌類の防除方法 |
JP2012526125A (ja) * | 2009-05-04 | 2012-10-25 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 殺線虫性スルホンアミド |
JP2014522815A (ja) * | 2011-06-24 | 2014-09-08 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 殺有害生物組成物およびそれらに関連のプロセス |
WO2013111893A1 (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
AU2013212888B2 (en) * | 2012-01-24 | 2016-04-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
JP2013173733A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-09-05 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 植物病害防除組成物及び植物病害の防除方法 |
US9288985B2 (en) | 2012-01-24 | 2016-03-22 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
AU2013212889A1 (en) * | 2012-01-25 | 2014-06-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
CN104066326A (zh) * | 2012-01-25 | 2014-09-24 | 住友化学株式会社 | 植物病害防治组合物 |
JP2013173734A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-09-05 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 植物病害防除組成物及び植物病害の防除方法 |
AU2013212889B2 (en) * | 2012-01-25 | 2016-06-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
US9386771B2 (en) | 2012-01-25 | 2016-07-12 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
WO2013111894A1 (en) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition |
US10681908B2 (en) | 2016-01-25 | 2020-06-16 | Dow Agrosciences Llc | Molecules having pesticidal utility, and intermediates, compositions, and processes, related thereto |
US10638756B2 (en) | 2017-03-31 | 2020-05-05 | Dow Agrosciences Llc | Molecules having pesticidal utility, and intermediates, compositions, and processes, related thereto |
CN112939919A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-11 | 西华大学 | 2-氨基苯并吡喃类化合物及其在农药中的应用 |
CN113004240A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-22 | 西华大学 | 苯并吡喃类化合物及其在农药中的用途 |
CN113024500A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-25 | 西华大学 | 6,8-二溴苯并吡喃衍生物及其在农药中的应用 |
CN113024500B (zh) * | 2021-03-11 | 2023-02-03 | 西华大学 | 6,8-二溴苯并吡喃衍生物及其在农药中的应用 |
CN113004240B (zh) * | 2021-03-11 | 2023-02-03 | 西华大学 | 苯并吡喃类化合物及其在农药中的用途 |
CN112939919B (zh) * | 2021-03-11 | 2023-02-03 | 西华大学 | 2-氨基苯并吡喃类化合物及其在农药中的应用 |
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