JP2003164749A5 - - Google Patents

Description

本発明の１態様によれば、前記上側の中継圧力容器と、前記下側の中継圧力容器の間にガスを遮断するための弁を設けるとともに、該遮断弁の上部に処理物を遮断するための弁を設けたことを特徴とする。
本発明の１態様によれば、前記処理物は粒状物であることを特徴とする。
本発明の１態様によれば、前記加圧熱反応器は、流動媒体からなる流動層を備えたガス化炉であることを特徴とする。
本発明の加圧熱反応器システムは、処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器と、前記処理物の供給装置とを備えたことを特徴とするものである。

本発明の処理物の供給方法は、下側の遮断弁の閉まった状態で開いた上側の遮断弁から上側の中継圧力容器に貯留供給装置より処理物を受け入れ、次に上側の遮断弁を閉めるとともに上側の中継圧力容器に加圧熱反応器内の圧力よりも高い圧力の気体の供給を受け入れて下側の中継圧力容器と等圧にした後に、下側の遮断弁を開けて下側の中継圧力容器に処理物を払い出し、次に下側の遮断弁を閉めてから上側の中継圧力容器内の気体を放出して上側の中継圧力容器内の圧力を加圧熱反応器外と等圧にしてから上側の遮断弁を開き、再び処理物を受け入れることを繰り返し、下側の中継圧力容器内には処理物を切らすことなく加圧熱反応器中に払出し機構により処理物を払い出すことを特徴とするものである。
本発明の処理物のガス化方法は、前記処理物の供給方法により流動層ガス化炉に供給された処理物を加圧下で熱分解ガス化してガス状物を得ることを特徴とするものである。

Claims (11)

1. 処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器に、処理物を供給する供給装置において、
   頂部に遮断弁を有する中継圧力容器を上下に連結し、
   上側の中継圧力容器の上方に、処理物を供給するための供給機構を設け、
   前記加圧熱反応器に供給する処理物を下側の中継圧力容器から払い出す払出し機構を設けたことを特徴とする処理物の供給装置。
2. 前記上側の中継圧力容器に、前記加圧熱反応器の内圧よりも高い圧力の気体供給源から該上側の中継圧力容器に気体を供給するための調節弁を有した配管と、前記貯留供給装置と同等または同等以下の圧力の領域に連通するとともに遮断弁を有した気体放出配管とを設けたことを特徴とする請求項１記載の処理物の供給装置。
3. 前記下側の中継圧力容器にレベルセンサを設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の処理物の供給装置。
4. 前記加圧熱反応器が加圧ガス化炉であり、処理物が廃棄物を主体とした成形物であり、下側の中継圧力容器からの払出し機構と加圧熱反応器中に処理物を供給する機構とが独立していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の処理物の供給装置。
5. 前記下側の中継圧力容器は底部に払出し機構であるスクリューを有し、該下側の中継圧力容器は垂直直胴または下方が広がる形状の容器壁部分と、前記スクリューに向かって緩い角度で下方に傾斜した底面とを有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の処理物の供給装置。
6. 前記上側の中継圧力容器と、前記下側の中継圧力容器の間にガスを遮断するための弁を設けるとともに、該遮断弁の上部に処理物を遮断するための弁を設けたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の処理物の供給装置。
7. 前記処理物は粒状物であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の処理物の供給装置。
8. 前記加圧熱反応器は、流動媒体からなる流動層を備えたガス化炉であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の処理物の供給装置。
9. 処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器と、
   請求項１乃至８のいずれか１項に記載の処理物の供給装置とを備えたことを特徴とする加圧熱反応器システム。
10. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の処理物の供給装置による処理物の供給方法であって、
    下側の遮断弁の閉まった状態で開いた上側の遮断弁から上側の中継圧力容器に貯留供給装置より処理物を受け入れ、
    次に上側の遮断弁を閉めるとともに上側の中継圧力容器に加圧熱反応器内の圧力よりも高い圧力の気体の供給を受け入れて下側の中継圧力容器と等圧にした後に、下側の遮断弁を開けて下側の中継圧力容器に処理物を払い出し、
    次に下側の遮断弁を閉めてから上側の中継圧力容器内の気体を放出して上側の中継圧力容器内の圧力を加圧熱反応器外と等圧にしてから上側の遮断弁を開き、再び処理物を受け入れることを繰り返し、
    下側の中継圧力容器内には処理物を切らすことなく加圧熱反応器中に払出し機構により処理物を払い出すことを特徴とする処理物の供給方法。
11. 請求項１０に記載の処理物の供給方法により流動層ガス化炉に供給された処理物を加圧下で熱分解ガス化してガス状物を得ることを特徴とする処理物のガス化方法。