JP4342133B2 - 処理物の供給装置及び方法 - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、加圧熱反応器に粒状物等の処理物を供給するための処理物の供給装置及び方法に関する。本発明は、特に、加圧流動層ボイラをはじめとする加圧燃焼ボイラ火炉、二段熱分解ガス化炉をはじめとする熱分解ガス化炉等の圧力の高い条件下にて熱反応を行わせる加圧熱反応器へ粒状物等の処理物を供給するための処理物の供給装置及び方法に関する。ここで、処理物は粒状物が好ましく、処理される粒状物には、石炭、オイルコークス、オイルシェルなどの化石燃料、またはそれに起源を有する炭素含有物、木や草や農業廃棄物や食品廃棄物などのバイオマス、都市ゴミ、廃容器、廃包装物、廃プラスチック、有機汚泥、有機性の各種産業廃棄物、その他の炭素及び/又は有機物含有物等が含まれる。
【0002】
【従来の技術】
図7は、従来の加圧熱反応器に処理物である粒状物を供給するための装置を示す概略図である。図7に示すように、加圧熱反応器100への粒状物の供給は、粒状物流路である上から下へのシュートの末端にダブルダンパと称されるシール機構と、スクリューフィーダを設けることによって行われている。
ダブルダンパは、二つのスイングダンパ101,102からなり、スイングダンパ101,102は、通過する粒状物の流路から離間した位置に水平の回転軸103a,104aを有し、回転軸103a,104aを中心として回転することで粒状物の流路を開閉する弁体103,104と、これら弁体103,104を収納するケーシング105,106と、弁体103,104を回転して開閉させるためのエアシリンダなどのアクチュエータ107,108から構成されている。弁体103,104は、水平もしくは若干先端が下がった状態で弁体の上下の流路を遮断した閉の状態と、下側に回転してスイングする形で開くことによりダンパ上の粒状物を落下させるのと同時に弁体103,104の上下の流路を連通させた開の状態とをとることができる。
【0003】
上述の構成を有したダブルダンパにおいて、上のダンパ101が開閉し、次に下のダンパ102が開閉し、また上のダンパ101が開閉し、次に下のダンパ102が開閉するという動作を繰り返し、常にいずれか片方のダンパを閉じた状態として加圧熱反応器100の内外をシールしつつ、ダンパ101,102が開いた際に粒状物を各ダンパ101,102の上から下へと順次間欠的に移動させて粒状物aをスクリューフィーダ110上に落とす。
【0004】
スクリューフィーダ110は、スクリュー111と、このスクリュー111を収納するケーシング112とから構成されている。スクリューフィーダ110では、間欠的に受けた粒状物をスクリュー111の回転による搬送でケーシング112内をほぼ水平方向に移動させ、スクリューフィーダ先端の壁面開口より粒状物を加圧熱反応器100内に供給する。なお、ここにおいて、スクリュー搬送能力を、ダブルダンパによる間欠投入サイクルに合わせて、ダブルダンパによる1サイクルあたりの投入量を1サイクルあたりの所要時間で割った時間あたりの投入量と一致させてやれば、ほぼ連続的にかつ供給量をあまり変化させずにスクリューフィーダ110より粒状物を加圧熱反応器100に供給しつづけることができる。
【0005】
ここにおいて、スイングダンパ弁体103,104には、閉の際には加圧熱反応器110の内外の圧力差がかかるため、弁体の開動作にはそのままでは大きなトルクが必要になる。これを回避するため、遮断弁113を備えた均圧管114でスイングダンパ弁体103,104の上下の空間を接続し、弁体を閉から開に切り換える前に、遮断弁113を開いてスイングダンパ弁体の上下の圧力差をなくす均圧操作を行う場合もある。なお、上のダンパの上下の均圧は、ダンパの上が大気圧である場合、必ずしもダンパの上下を連通させる必要はなく、加圧熱反応器からの漏れたガスが無害化できるように燃焼炉内や酸化脱臭炉などの大気圧に近いガス処理可能な所に排気してやるのが良い。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したスイングダンパの場合、単に弁体をアクチュエータの力でシール面であるシュート下端の開放端に押しつける構造であり、かつ、高温のガスがシール部に到達する可能性があるため、このシール部に有機材料のガスケットを使うと焼損する可能性があって、好ましくないことからメタルタッチとするのが普通である。このため、スイングダンパ弁体103,104の上下の圧力差が大きくなると、若干のリークは避けられない。従って、圧力差の大きいものには適用できず、せいぜい100kPa程度以下の圧力で運転される加圧熱反応器でしかこの技術を使うことができなかった。
【0007】
即ち、従来にあっては、100kPaを超える高圧の加圧熱反応器においては、燃料や原料を供給するには粒状物の確実な供給手段がなかった。そのため、供給物は、通常、石油のような液体、または微粉炭水混合物(CWM)や微粉炭油混合物(COM)のような固形分を微細化して液体中に分散スラリー化したものに限られ、ポンプにより昇圧をして供給することが普通であった。
【0008】
ダブルダンパを用いた方式では、ダンパの開閉や均圧操作により、加圧熱反応器側からガスが粒状物に対して逆流することになる。このため、可燃性ガスが外部に漏れることになり、有害物質漏洩や爆発の危険性、タール状物質の粒状物流路への付着による汚損、加圧熱反応器側からのガス中に含まれる塩化水素、硫化水素、酸化硫黄などの酸性ガスによる腐食などが問題となる。
【0009】
また、通常、加圧熱反応器においては、反応器内の温度が500〜600℃以上であるため、漏洩ガスやその同伴物、例えば流動層を用いた技術にあっては流動媒体が粒状物供給側へと逆流することで、粒状物が加圧熱反応器に至る前に着火したり、溶融したり、熱分解したりする可能性が高く危険であった。また熱は、シール材を損傷したり、熱膨張によるシール性劣化やカジリなどの機械的トラブルなども引き起こす。
【0010】
これに対し、スクリューフィーダやダブルダンパに空気や窒素、まれには水蒸気などのパージガスを流し込んで、逆流するガスをパージガスに置き換えてやる対策を講じるのが普通であるが、完全なものとは言えずどうしても反応器内のガスが漏れ出すことを完全に防ぐことができなかった。また、パージガスが加圧熱反応器に流入するため、この流入したパージガスが加圧熱反応器の反応や熱収支や物質収支に影響を与え、処理能力の小さな反応器においては無視できないものとなっていた。
【0011】
このため、圧力が100kPa前後を超える加圧熱反応器においても粒状物の供給を可能とすること、パージガスを最小限に抑えながら加圧熱反応器側からの反応器内ガスの漏洩を完全に抑えることが課題となっていた。
本発明は、上述の事情に鑑みなされたもので、高圧で運転される加圧熱反応器に粒状物を安定して供給することができるとともに、反応器内のガスが外部に漏洩することを防止することができる処理物の供給装置及び方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上述した従来技術の課題を解決するため、本発明の処理物の供給装置は、処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器に、処理物を供給する供給装置において、頂部にガス及び処理物を遮断する遮断弁を有する中継圧力容器を上下に連結し、上側の中継圧力容器の上方に、処理物を供給するための供給機構を設け、下側の中継圧力容器に、該中継圧力容器内の所定レベルにおける処理物の有無を発信するレベルセンサを設け、前記加圧熱反応器に供給する処理物を下側の中継圧力容器から払い出す払出し機構を設けたことを特徴とするものである。
【0013】
本発明の1態様によれば、前記上側の中継圧力容器に、前記加圧熱反応器の内圧よりも高い圧力の気体供給源から該上側の中継圧力容器に気体を供給するための調節弁を有した配管と、前記上側の中継圧力容器内の気体を放出して上側の中継圧力容器内の圧力を加圧熱反応容器外と等圧にするための排気遮断弁を有した気体放出配管とを設けたことを特徴とする
本発明の1態様によれば、前記上側の中継圧力容器と前記下側の中継圧力容器を接続する均圧遮断弁を有する配管をさらに設けたことを特徴とする。
【0014】
本発明の1態様によれば、前記ガス及び処理物を遮断する遮断弁は、口径と弁体の開口径がほぼ同一サイズの弁であることを特徴とする。また、前記ガス及び処理物を遮断する遮断弁は、ボールバルブ又は仕切弁であることを特徴とする。
本発明の1態様によれば、前記加圧熱反応器が加圧ガス化炉であり、下側の中継圧力容器からの払出し機構と加圧熱反応器中に処理物を供給する機構とが独立していることを特徴とする
【0015】
本発明の1態様によれば、前記遮断弁を構成するボールバルブの上に仕切弁を設置していることを特徴とする
本発明の1態様によれば、前記処理物は粒状物であることを特徴とする。
本発明の1態様によれば、前記加圧熱反応器は、流動媒体からなる流動層を備えたガス化炉であることを特徴とする。
本発明の加圧熱反応器システムは、処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器と、前記処理物の供給装置とを備えたことを特徴とするものである。
【0016】
本発明の処理物の供給方法は、下側の遮断弁の閉まった状態で開いた上側の遮断弁から上側の中継圧力容器に供給機構より処理物を受け入れ、次に上側の遮断弁を閉め、その後に調節弁を開き上側の中継圧力容器に加圧熱反応器内の圧力よりも高い圧力の気体の供給を受け入れ、次に、均圧遮断弁を開き上側の中継圧力容器と下側の中継圧力容器とを等圧にした後に、下側の遮断弁を開けて下側の中継圧力容器に処理物を払い出し、次に、前記調節弁、前記均圧遮断弁及び下側の遮断弁を閉め、その後に気体放出管に設けられた排気遮断弁を開き上側の中継圧力容器内の気体を放出して上側の中継圧力容器内の圧力を加圧熱反応器外と等圧にしてから上側の遮断弁を開き、再び処理物を受け入れることを繰り返し、下側の中継圧力容器内には処理物を切らすことなく加圧熱反応器中に払出し機構により処理物を払い出すことを特徴とする。
本発明の処理物のガス化方法は、前記処理物の供給方法により前記加圧熱反応器に供給された処理物を加圧下で熱分解ガス化してガス状物を得ることを特徴とするものである。
【0017】
上述した構成の本発明によれば、圧力が100kPa前後を超える加圧熱反応器においても、粒状物等の処理物を供給することができるとともに、パージガスを最小限に抑えながら加圧熱反応器側からの反応器内のガスの漏洩を完全に抑えることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る処理物の供給装置及び方法の実施形態を図面を参照して説明する。
本発明は、処理物としては、粒状物が好適である。即ち、本発明は、1MPa前後の運転圧力の加圧熱反応器に粒状物を供給することを可能にするものである。
図1は、本発明の処理物の供給装置を示す概略図である。図1に示すように、100kPa前後を越えるような運転圧力の加圧熱反応器においては、スイングダンパは使わず、口径と弁体の開口径がほぼ同一サイズの、いわゆるフルボアの上下2つのボールバルブ1,2を用いたダブルボールバルブとし、これら2つのボールバルブ1,2の途中及びスクリューフィーダ3と下ボールバルブ2の間に中継圧力容器4,5を設けている。ボールバルブ1,2は遮断弁を構成している。中継圧力容器4,5は、ダブルボールバルブの開閉1サイクル分の時間で供給する粒状物のための容量を持っている。
【0019】
スクリューフィーダ3には、下側の中継圧力容器5の底部に設けたスクリュー式払出し機構6により粒状物aが連続的に定量的に供給されるようになっている。そして、スクリューフィーダ3では、スクリュー式払出し機構6により供給された粒状物aを速やかに加圧熱反応器10に搬送して投入するようにしている。スクリュー式払出し機構6とスクリューフィーダ3の接続部には、エキスパンション7aを有したシュート7が設置されている。ボールバルブ1の上流には、供給ホッパ8および回転レーキ式払出機9が設置されている。図1において、モータM0は回転レーキ式払出機9を駆動するモータであり、モータM2はスクリュー式払出し機構6を駆動するモータであり、モータM3はスクリューフィーダ3を駆動するモータである。図1に示すボールバルブ1,2によれば、スイングダンパと異なり、完全に上下を遮断することができる。
【0020】
なお、この場合でも、ボールバルブ1,2の前後に大きな差圧があるまま閉から開に切り換えると、開き始めに差圧によって加圧熱反応器10側からガスが強い勢いで噴出する。このため、ボールバルブ1,2の前後を遮断弁付き配管で接続し、ボールバルブ1,2を閉から開に切り換える前にその遮断弁を開いてボールバルブ前後の圧力差をなくす均圧操作が必要である。このため、図1では省略しているが、図に示す均圧管114を用いてもよいが、この均圧操作では、加圧熱反応器10からのガスの漏洩が避けられない。このため、あとで詳細に説明するが、図2に示す均圧操作を図1の構造に適用し、わずかのパージガスの使用により加圧熱反応器10からのガスの漏洩を完全に抑えられるようにすることが好ましい。
【0021】
ここにおいて、バルブは必ずしもボールバルブである必要はなく、口径と弁体の開口径がほぼ同一サイズの弁であれば良く、仕切弁であっても良い。対象となる粒状物あるいはその粉塵等がボールバルブのシート面に噛み込み、ボールバルブのシール性を保つことができない場合は、ボールバルブの上に仕切弁を設置して粒状物を仕切弁で遮断できる構造とすると、ボール弁のシール性が向上する。この方法は、加圧熱反応器中のガスをリークすることなく、加圧熱反応器にけい砂や触媒等の粉体を供給あるいは排出する極めて有効な手段である。また、フィーダは、必ずしもスクリューである必要はなく、加圧熱反応器において支障のないタイムスケールで連続的に粒状物を供給できるものであれば良く、テーブルフィーダやプッシャーフィーダであっても良い。
【0022】
また、ダブルボールバルブにおいては、どうしても開閉や均圧操作に時間を要するため、ダブルボールバルブの開閉1サイクル分の容量を持たせた中継容器は大きなものとなる。しかしながら、ボールバルブは径が大きくなると急激に価格が上昇し、しかも市販品の最大サイズは限度があり、せいぜい直径500mm程度である。このため、中継圧力容器の径はボールバルブの口径よりも大きなものとならざるを得なかった。これにより、中継圧力容器からの粒状物の排出が粒状物の性状によってはうまくいかず、供給が乱れたり、甚だしい場合にはブリッジを頻発するケースがあった。処理物である粒状物の供給量が乱れると、加圧熱反応器10の運転が不安定になる。特に、加圧熱反応器がガス化炉である場合においては、処理物である粒状物の供給量変動で、生成ガス組成が大きく変化して後段のプロセスに重大な影響を引き起こす。勿論、ブリッジなどで粒状物の供給が中断すると、運転を中断せざるを得ない。従って、粒状物の供給量の変動は看過しえない重大問題であった。
【0023】
これに対し、熱反応器に供給される粒状物の成形を均一に行い、粒状物を長さが短くかつばらつきが少ない硬いものとするとか、中継圧力容器にプッシャー式ブリッジブレーカを設ける、中継圧力容器のサイズを抑えるなどの対策を行った。これにより、加圧熱反応器を用いたプロセスは、供給粒状物の成形に設備費や運転費を多く必要とするようになっていた。また、1つのダブルボールバルブからスクリューフィーダに至る供給系から供給できる粒状物の時間あたりの投入量には、重力による落下を中心とする投入では限度がある。特に、粒状物が細長いもの、軽いもの、フィルムを多く残すものなどでは、一系あたりの供給量が少ない。そのため、処理能力が大きいと複数の供給系が必要で、設備費が上がり、メンテナンス負担が大きく、スペースも必要とするなど、問題であった。
【0024】
このため、更に進んで、本発明の1実施形態では、粒状物の性状にかかわらず安定して粒状物を供給できるようにすべく、かつボールバルブから極力多量の粒状物を円滑に供給可能にすべく、ダブルボールバルブの途中の中継圧力容器にもスクリュー式払出し機構を設け、頂部投入口から断面積を絞ることなく底部払出し機構に至るような構成を採用している。なお、中継圧力容器4,5に設置される払出し機構はテーブルフィーダでも良い。
【0025】
次に、上述した本発明の実施の形態を図2を参照して説明する。図2は、本発明の1実施形態における処理物の供給装置を示す概略図である。
粒状物aは供給ホッパ8に一旦貯留される。供給ホッパ8に貯留された粒状物aは、底部のモータM0で駆動する回転レーキ式払出機9により定量的に払出されて、上側の口径と弁体開口径がほぼ等しいフルボアのボールバルブ1中を落下して上側の中継圧力容器4に入る。粒状物aは、上側の中継圧力容器4から、中継圧力容器4に設置されモータM1で駆動される排出スクリュー11で強制的に払出され、上側と同様のフルボアのボールバルブ2中を落下して下側の中継圧力容器5に入る。更に、粒状物aは、下側の中継圧力容器5に設置されモータM2で駆動される排出スクリュー12で強制的に払出され、エキスパンション7aを有したシュート7を経てほぼ水平に配備されたスクリューフィーダ3に供給される。なお、エキスパンション7aは加圧熱反応器10のケーシング温度変化による熱膨張を吸収するために設置されている。その後、粒状物aは、片持ち構造のモータM3で駆動されるスクリューフィーダ3により水平に搬送されて、スクリューフィーダ3の端部の炉壁の開口よりガス化炉等の加圧熱反応器10内に投入される。
【0026】
上側の中継圧力容器4には、加圧熱反応器内部よりも高い圧力の窒素ガス等のパージガスが流量調節弁Vc、遮断弁Vs、逆止弁Vgを介して供給されるようにパージガス用配管14を設けている。また、排気遮断弁Vr、逆止弁Vgを介して上側の中継圧力容器4内のガスを大気圧にほぼ近い運転圧力の酸化脱臭炉あるいは大気中へと排気できるように排気用配管15を設けている。ここで、パージガス用配管14と排気用配管15が中継圧力容器4に接続するノズルを共通化し、1箇処とすることで、ノズル及び配管内のガスの流れ方向に変化をもたせ、粒状物やその粉塵が堆積するのを防止している。さらに、パージガス用配管14から分岐して均圧遮断弁Vp、逆止弁Vgを介して下側の中継圧力容器5に接続される配管16を設け、上側の中継圧力容器4に過剰に入ったパージガスを放出できるようにしている。
【0027】
上側の中継圧力容器4には、L(低レベル)、H(高レベル)、HH(超高レベル)の3点のレベルにおける内容物の有無を発信するレベルセンサLSA1が設置されている。また下側の中継圧力容器5には、LL(超低レベル)、L(低レベル)、H(高レベル)の3点のレベルにおける内容物の有無を発信するレベルセンサLSA2を設けている。
上側の中継圧力容器4には、圧力指示調節計PIS1が取り付けられ、また中継圧力容器4と中継圧力容器5との差圧を検出する差圧指示調節計PDIC1が取り付けられている。
【0028】
上述した各機器の動作状態を表1に示す。
【表1】
Figure 0004342133
表1において、状態は▲1▼→▲2▼→▲3▼→▲4▼→▲5▼と進行し、▲5▼から▲1▼に進行し、再び▲1▼→▲2▼→▲3▼→▲4▼→▲5▼と進行するサイクルを繰り返す。
【0029】
次に、表1において▲1▼→▲2▼→▲3▼の状態変化は、上側の中継圧力容器4内の粒状物レベルがH(高レベル)に達することでまず回転レーキ式払出機9のモータM0が止まり、弁体上に粒状物が載るのを回避するよう少し遅れてボールバルブ1が閉まる。ボールバルブ1が閉まった後、パージガス遮断弁Vs及びパージガス流量調節弁Vcが開き、加圧熱反応器内の圧力よりも高い供給圧のパージガスが供給され、炉内圧が変動しても追従して上側の中継圧力容器4を炉内とほぼ同等か若干高い圧力まで加圧する。その際、過剰な投入を避けるために差圧指示調節計PDIC1により流量調節弁Vcを絞ると良い。次に均圧遮断弁Vpが開き、上側の中継圧力容器4に若干オーバーシュートして投入されたパージガスは均圧遮断弁Vpを通って下側の中継圧力容器5からスクリューフィーダ3を経てガス化炉等の加圧熱反応器10内へと流れ、パージガスとして、スクリューフィーダ3へ炉内ガスが侵入するのを防ぐ役割を果たす。この状態で▲4▼の状態変化まで待機するが、炉内圧が変動しても、これに追従して中継圧力容器4内の圧力を炉内圧とほぼ同等か、若干高い圧力で維持できるように、差圧指示調節計PDIC1により中継圧力容器4内の圧力を調整する。
【0030】
表1において▲3▼→▲4▼の状態変化は、上側の中継圧力容器4内の圧力が下側の中継圧力容器5内の圧力とほぼ等しくなり、かつ中継圧力容器5の粒状物レベルがL(低レベル)になったところでボールバルブ2が開き、次に上側の中継圧力容器4の排出スクリュー11のモータM1が動きはじめ、上側の中継圧力容器4内の粒状物を強制的に下側の中継圧力容器5に払出し始める。これにより、上側の中継圧力容器4内の粒状物レベルは、H(高レベル)からL(低レベル)へと低下する。なお、排出スクリュー11は下側の中継圧力容器5の粒状物レベルがH(高レベル)に達すると一旦停止し、下側の中継圧力容器5の粒状物レベルがL(低レベル)になると起動することを繰り返し、上側の中継圧力容器4内の粒状物レベルがL(低レベル)に達するまで粒状物を排出する。
【0031】
表1において▲4▼→▲5▼の状態変化は、上側の中継圧力容器4内の粒状物レベルがL(低レベル)に達したところで上側の中継圧力容器4の排出スクリュー11のモータM1が停止し、弁体上に粒状物が載るのを回避するよう少し遅れてボールバルブ2が閉まる。次に、パージガス遮断弁Vs及びパージガス流量調節弁Vcが閉まり、均圧遮断弁Vpも閉まってから排気遮断弁Vrが開く。これにより、上側の中継圧力容器4内のガスは酸化脱臭炉に排気されて圧力は大気圧とほぼ等しくなるまで低下する。
【0032】
表1において▲5▼→▲1▼の状態変化は、圧力指示調節計PIS1により排気が終了して上側の中継圧力容器4内の圧力がほぼ大気圧になったところでボールバルブ1が開き、回転レーキ式払出機9のモータM0が動きはじめ、供給ホッパより粒状物を定量的に払出して上側の中継圧力容器4に粒状物を満たし始め、上側の中継圧力容器4における粒状物レベルはL(低レベル)からH(高レベル)へと上昇する。上側の中継圧力容器4内への粒状物の過剰投入を防止するため、レベルセンサLSA1には、HH(超高レベル)を設ける。
【0033】
以上の、表1における▲1▼→▲2▼→▲3▼→▲4▼→▲5▼→▲1▼の状態変化を繰り返す。ここにおいて、状態変化▲5▼→▲1▼→▲2▼→▲3▼→▲4▼に要する間に下側の中継圧力容器5内の粒状物レベルが空警報L(低レベル)に達しないだけの払出量の能力を回転レーキ式払出機9及びスクリューフィーダ3を備える必要がある。または上側の中継圧力容器4内のレベルH(高レベル)までの容量を大きくする必要がある。
【0034】
スクリューフィーダ3は、下側の中継圧力容器5内の粒状物排出スクリュー12と兼用することも一見可能ではある。しかしながら、その場合、粒状物が圧密化して払出し抵抗が増加する、あるいは粒状物中に金属塊や瓦礫粒などの異物が混入して噛込み等が発生したりする、などスクリュー軸に無理な力がかかる可能性があり、片持スクリューでは軸受や回転軸シール部の破損する危険性が高い。また、加圧熱反応器のケーシング温度変化が大きな場合、熱膨張の伸びを吸収してやる必要があるものの、下側の中継圧力容器5までを加圧熱反応器10の熱膨張の伸びに応じて移動させるようにするのは困難が伴う。これに加え、加圧熱反応器10への粒状物供給を止めると、スクリューフィーダ3も停止せざるを得ないが、そのような場合、スクリューフィーダ3内の粒状物が加圧熱反応器10からの熱やガス、流動層式反応器であれば流動媒体(けい砂等)などの同伴物により揮発したり溶融付着したりすることが避けられない。このため、スクリューフィーダ3は、下側の中継圧力容器5内の粒状物排出スクリュー12と独立させる必要がある。これにより、排出スクリュー12は排出スクリュー11と同様、軸両端に軸受けを有する両持スクリューとして、払出し抵抗や異物噛込みなどに対して問題ないものとすることができる。
【0035】
スクリューフィーダ3は、排出スクリュー12に対して十分大きな搬送能力を持たせて粒状物が短時間で炉内へ投入されるようにし、加圧熱反応器内の熱を受けてスクリューフィーダ3内で供給粒状物が揮発したり溶けたりしないようにすることが望ましい。また、スクリューフィーダ3は、排出スクリュー12の停止後もしばらくの間運転させて、内部に粒状物が残らない状態にしてから停止するようにする。加圧熱反応器10への粒状物供給量は排出スクリュー12の回転数により決まるため、排出スクリュー12は可変速とし、このため、モータM2は回転速度指示計XIと回転数設定器HCとを備えている。
【0036】
次に、中継圧力容器4(又は5)の詳細を図3を参照して説明する。図3(a)は圧力容器の下側半分を断面した正面図であり、図3(b)は圧力容器の下側半分を断面した側面図である。図3に示す中継圧力容器は垂直胴タイプの圧力容器である。
中継圧力容器4(又は5)における外壁ケーシング20は上下の鏡板20a,20bと、垂直直胴20cで構成した圧力容器でできており、ケーシング直胴部下端近傍を貫通する形でほぼ水平に払出しスクリュー機構21が設けられている。スクリュー機構21におけるスクリュー21sの両端部はシール部26を貫通してケーシング20の外に突出している。スクリュー21sの両端部は軸受22によって、スクリュー21sの軸芯が固定されるようになっている。スクリュー機構21の排出側端には、駆動スプロケット23が固定されており、駆動スプロケット23は減速機付電動機とチェーン掛けされている。これにより、スクリュー機構21は図3の矢印のスクリュー回転方向に回転する。投入ノズル20dより外壁ケーシング20内に投入された粒状物aは、一旦直胴部20cに積まれた形で貯留された後、スクリュー機構21におけるスクリュー21sのスクリュー羽根の動きで直胴部20cから排出ノズル21bへと運ばれる。
【0037】
払出しスクリュー機構21は、図3のごとく排出側ほど羽根ピッチを大きく取ることで搬送能力を漸増させて、スクリュー21sが直胴部20cを貫通する部分の全長に渡り粒状物をスクリュー搬送領域に飲み込むようにし、かつ直胴部20cの先においてはスクリュー搬送領域の粒状物充填率を下げて搬送を容易とし、かつ粒状物同士が強く擦り合って粒状物が壊れたり粉を生じたりするのを軽減している。また、排出ノズル21bの上のスクリュー21sにあっては、スクリュー羽根をスクリュー軸に沿った平板21pとし、スクリュー21sの回転により強制的に排出ノズル21bに払出すような動作をさせるようにしている。排出ノズル21bより先の部分では、それまでとは逆のピッチの短いスクリューとして、軸端シール部分に粒状物が押込まれないように排出ノズル21bに向けて搬送力が働くようにしている。
【0038】
圧力容器の底面25は、外壁ケーシング20の内側にスクリュー機構21に45度前後の傾斜で傾く形となっており、かつスクリュー機構21の左右で高さを変えて、スクリュー羽根が払い込む方ではスクリュー羽根下端に合わせ、反対のスクリュー羽根が払い上げる方ではほぼスクリュー羽根の上端に近い位置まで垂直壁としてその頂部から傾斜させるようにしている。このように、スクリュー羽根による粒状物の動きを壁面が妨げないようにすると同時に、左右を非対称とすることでスクリューへと移動してくる粒状物がお互いに凭れ合ってブリッジを起こしがちになることを防いでいる。圧力容器の底面25の付近では、スクリュー羽根によって払い込むあるいは払い上げる動きが伝播するために粒状物が揺さぶられ、ブリッジを起こすことはない。圧力容器の底面25の上方では、垂直直胴であり、粒状物が垂直方向へ移動する際の障害となる突起がないため、底部の粒状物が払い出されると、その隙間を埋めるように重力により粒状物aが下がってくることができ、ブリッジを起こさない。
【0039】
但し、粒状物が、成形が悪くばらの状態であるフラフ状のものを多く含んで、力がかかると圧縮されるようなものでは、直胴部20cの長さがその径に対して大きくなると、下部では上からの重量で押しつぶされる形で圧縮されるために側壁にはさまれる形で粒状物同士で力が働くことになり、ブリッジを起こしやすくなる。従って、そのような粒状物の場合、直胴部20cの長さはその径の2〜3倍程度に抑えるのが良い。
【0040】
図4は中継圧力容器の他の例を示す図であり、図4(a)は圧力容器の下側半分を断面した正面図であり、図4(b)は圧力容器の下側半分を断面した側面図である。図4に示す中継圧力容器は水平胴タイプの圧力容器である。
中継圧力容器4(又は5)における外壁ケーシング30は左右の鏡板30a,30bと垂直直胴30cで構成した圧力容器でできており、ケーシング直胴部下端近傍を貫通する形でほぼ水平に払出しスクリュー機構21が設けられている。スクリュー機構21は、図3に示すものと同様の構成を有している。
【0041】
図4に示す中継圧力容器の場合、粒状物の貯留量は、内部に投入された粒状物が安息角で山を形成するために上部に空きが多く残るので、圧力容器の内部容積の割には少ない。しかしながら、高さ方向と幅方向がほぼ等しいため、フラフ状のものを含んで力がかかると圧縮されるようなものであっても、重量による圧縮がほとんど起こらず側壁にはさまれる形で粒状物同士で力が働くこともほとんどない。従って、ブリッジは生じないと言ってよい。図3に示す中継圧力容器と比較して、投入ノズル30dと排出ノズル21bの間のレベル差に対して大きな貯留量を確保しやすいという利点もある。ブリッジが発生しないため、若干の残留物が残っても支障がなければ、圧力容器壁とは別に底板を設ける必要はなく、構造が単純になる。
【0042】
図5は中継圧力容器下部の払出し装置を回転レーキ式にした例を示す図であり、図5(a)は圧力容器の下側半分を断面した正面図であり、図5(b)は図5(a)のA−A線断面模式図である。図5に示す中継圧力容器は垂直胴タイプの圧力容器である。
中継圧力容器4(又は5)における外壁ケーシング40は、上下の鏡板40a,40bと垂直胴40cで構成された圧力容器であり、ケーシング直胴部下部に底板45と、回転レーキ41が設けられている。回転レーキ41はピニオンギヤ42bと旋回ベアリング42aで駆動される旋回シュート42に直結しており、回転により生じる接線力によって粒状物を旋回シュート42内に落下させる構造となっている。ピニオンギヤ42bはモータMにより駆動されるようになっている。粒状物aは投入ノズル40dから外壁ケーシング40内へ供給される。旋回シュート42内に落下した粒状物は荷こぼれ防止シュート43を経由して排出される。また、回転レーキ41の停止時に旋回シュート42内に粒状物が落下しないように、サポートアーム44aにより支持された、落下防止コーン44が設置されている。
【0043】
図5に示す中継圧力容器の場合、圧力容器の内径を大きくすれば、スクリュー式と比較してデッドスペースが少なくなるので、フラフ状のものを多く含む粒状物等、見かけ比重の小さい粒状物を供給する場合、あるいは処理量の多い設備等、中継圧力容器を大型化する必要がある場合に有効である。
【0044】
図6は、図2に示す供給装置を備えた二段ガス化システムの例を示す概略図である。図6に示すように本発明の二段ガス化システムは、低温ガス化炉として流動層ガス化炉からなる加圧熱反応器10と、高温ガス化炉80とを備えている。加圧熱反応器10に粒状物を供給する原料供給系には、図2に示す供給装置が用いられている。
【0045】
加圧熱反応器10の内部には、流動化ガスを上方に噴出して炉内に流動層52を形成するための流動化ガス分散装置53が配置されている。流動層52の流動媒体には硅砂等の砂が用いられる。加圧熱反応器10の上部にはフリーボード54が形成されており、底部には不燃物排出口55が形成されている。
加圧熱反応器10に流動媒体を循環させる流動媒体循環系70は、不燃物排出口55の下方に配置された不燃物抜出コンベヤ71、流動媒体抜出ロックホッパ72、流動媒体エレベータ73、流動媒体供給ロックホッパ74、流動媒体投入コンベヤ用ホッパ75、流動媒体投入コンベヤ76とから構成されている。
【0046】
図6に示す構成において、粒状物aは、供給ホッパ8に一旦貯留される。供給ホッパ8に貯留された粒状物aは、底部のモータM0で駆動する回転レーキ式払出機9により定量的に払出されて、上側の口径と弁体開口径がほぼ等しいフルボアのボールバルブ1中を落下して上側の中継圧力容器4に入る。粒状物aは、中継圧力容器4から上側の中継圧力容器4に設置され、モータM1で駆動される排出スクリュー11で強制的に払出され、上側と同様のフルボアのボールバルブ2中を落下して下側の中継圧力容器5に入る。更に、粒状物aは下側の中継圧力容器5に設置され、モータM2で駆動される排出スクリュー12で強制的に払出され、シュート7を経てほぼ水平に配備されたスクリューフィーダ3に供給される。その後、粒状物aは、片持ち構造のモータM3で駆動するスクリューフィーダ3により水平に搬送されて、スクリューフィーダ3の端部の炉壁の開口より加圧熱反応器10内に投入される。
【0047】
加圧熱反応器10内の流動化ガス分散装置53からは酸素(又は空気)bとスチームcの混合ガスがガス化剤兼流動化ガスとして流動層52に送入され、流動媒体eが流動化される。粒状物aはガス化炉内の流動層52に投入され、500〜850℃に保持された流動層52内で高温の流動媒体やガス化剤である酸素、スチームと接触することにより、速やかに熱分解ガス化される。加圧熱反応器10の炉底にある不燃物排出口55からは不燃物抜出コンベヤ71により流動媒体eが不燃物dとともに間欠的又は連続的に排出され、流動媒体抜出ロックホッパ72で減圧された後に、分級機(図示せず)により流動媒体eと不燃物dとが分離され、不燃物は外部に排出され、流動媒体eは流動媒体エレベータ73で上方に搬送される。流動媒体エレベータ73で上方へ搬送された流動媒体は、流動媒体供給ロックホッパ74、流動媒体投入コンベヤ用ホッパ75、流動媒体投入コンベヤ76を介して昇圧され、加圧熱反応器10に戻される。不燃物中に含まれる金属は、ガス化炉内が還元雰囲気であるため、酸化されない状態で回収される。
【0048】
投入された粒状物aの熱分解ガス化によりガス、タール、チャーが生成するが、チャーは流動層52におけるガス化剤のアタックと撹乱運動により微粉砕される。固形物であるチャーは多孔質で軽く微粉状であるため、ガス状物であるガス、タールの上方向への流れに同伴されて運ばれる。加圧熱反応器10を出たガス状物gは高温ガス化炉80に供給され、そこで吹き込まれた酸素とスチームの混合ガスと旋回流中で混合しながら、1200℃以上の高温で酸化分解される。生成した水素(H)、一酸化炭素(CO)、二酸化炭素(CO)、スチーム(HO)主体のガスは高温ガス化炉80より排出され、次のガススクラバー(図示せず)にてガス中に残存するダストや塩化水素等を除去された後、合成ガスとして水素、メタノール、メタン等の製造に利用される。一方、スラグは高温ガス化炉80から下方に排出され、冷却されたスラグ粒は主としてセメントの原料や土木建築用の資材として有効利用される。
【0049】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、高圧で運転される加圧熱反応器に粒状物等の処理物を安定して供給することができるとともに、加圧熱反応器内のガスが外部に漏洩することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理物の供給装置を示す概略図である。
【図2】本発明の1実施形態における処理物の供給装置を示す概略図である。
【図3】図3(a)は圧力容器の下側半分を断面した正面図であり、図3(b)は圧力容器の下側半分を断面した側面図である。
【図4】図4(a)は圧力容器の下側半分を断面した正面図であり、図4(b)は圧力容器の下側半分を断面した側面図である。
【図5】中継圧力容器下部の払出し装置を回転レーキ式にした例を示す図であり、図5(a)は圧力容器の下側半分を断面した正面図であり、図5(b)は図5(a)のA−A線断面模式図である。
【図6】図2に示す供給装置を備えた二段ガス化システムの例を示す概略図である。
【図7】従来の加圧熱反応器に処理物である粒状物を供給するための装置を示す概略図である。
【符号の説明】
1,2 ボールバルブ
3 スクリューフィーダ
4,5 中継圧力容器
6 スクリュー式払出し機構
7 シュート
7a エキスパンション
8 供給ホッパ
9 回転レーキ払出機
10 加圧熱反応器
11,12 排出スクリュー
14 パージガス用配管
15 排気用配管
16 配管
20,30,40 外壁ケーシング
20a,20b,30a,30b,40a,40b 鏡板
20c,30c 直胴部
20d 投入ノズル
21 スクリュー機構
21b 排出ノズル
21p 平板
21s スクリュー
22 軸受
23 駆動スプロケット
25 底面
26 シール部
40c 垂直胴
41 回転レーキ
42 旋回シュート
42a 旋回ベアリング
42b ピニオンギヤ
43 荷こぼれ防止シュート
44 落下防止コーン
44a サポートアーム
52 流動層
53 流動化ガス分散装置
54 フリーボード
55 不燃物排出口
70 流動媒体循環系
71 不燃物抜出コンベヤ
72 流動媒体抜出ロックホッパ
73 流動媒体エレベータ
74 流動媒体供給ロックホッパ
75 流動媒体投入コンベヤ用ホッパ
76 流動媒体投入コンベヤ
80 高温ガス化炉
a 粒状物
HC 回転数設定器
LSA1,LSA2 レベルセンサ
M0,M1,M2,M3 モータ
PIS1 圧力指示調節計
PDIC1 差圧指示調節計
Vc 窒素流量調節弁
Vs 窒素遮断弁
Vg 逆止弁
Vr 排気遮断弁
Vp 均圧遮断弁
X1 回転速度指示計

Claims (12)

  1. 処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器に、処理物を供給する供給装置において、
    頂部にガス及び処理物を遮断する遮断弁を有する中継圧力容器を上下に連結し、
    上側の中継圧力容器の上方に、処理物を供給するための供給機構を設け、
    下側の中継圧力容器に、該中継圧力容器内の所定レベルにおける処理物の有無を発信するレベルセンサを設け、
    前記加圧熱反応器に供給する処理物を下側の中継圧力容器から払い出す払出し機構を設けたことを特徴とする処理物の供給装置。
  2. 前記上側の中継圧力容器に、前記加圧熱反応器の内圧よりも高い圧力の気体供給源から該上側の中継圧力容器に気体を供給するための調節弁を有した配管と、
    前記上側の中継圧力容器内の気体を放出して上側の中継圧力容器内の圧力を加圧熱反応容器外と等圧にするための排気遮断弁を有した気体放出配管と、
    を設けたことを特徴とする請求項1記載の処理物の供給装置。
  3. 前記上側の中継圧力容器と前記下側の中継圧力容器を接続する均圧遮断弁を有する配管をさらに設けたことを特徴とする請求項2記載の処理物の供給装置。
  4. 前記ガス及び処理物を遮断する遮断弁は、口径と弁体の開口径がほぼ同一サイズの弁であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の処理物の供給装置。
  5. 前記ガス及び処理物を遮断する遮断弁は、ボールバルブ又は仕切弁であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の処理物の供給装置。
  6. 前記加圧熱反応器が加圧ガス化炉であり、下側の中継圧力容器からの払出し機構と加圧熱反応器中に処理物を供給する機構とが独立していることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の処理物の供給装置。
  7. 前記遮断弁を構成するボールバルブの上に仕切弁を設置していることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の処理物の供給装置。
  8. 前記処理物は粒状物であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の処理物の供給装置。
  9. 前記加圧熱反応器は、流動媒体からなる流動層を備えたガス化炉であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の処理物の供給装置。
  10. 処理物を加圧下で熱反応させて処理する加圧熱反応器と、
    請求項1乃至9のいずれか1項に記載の処理物の供給装置とを備えたことを特徴とする加圧熱反応器システム。
  11. 請求項3に記載の処理物の供給装置による処理物の供給方法であって、
    下側の遮断弁の閉まった状態で開いた上側の遮断弁から上側の中継圧力容器に供給機構より処理物を受け入れ、
    次に上側の遮断弁を閉め、その後に調節弁を開き上側の中継圧力容器に加圧熱反応器内の圧力よりも高い圧力の気体の供給を受け入れ、
    次に、均圧遮断弁を開き上側の中継圧力容器と下側の中継圧力容器とを等圧にした後に、下側の遮断弁を開けて下側の中継圧力容器に処理物を払い出し、
    次に、前記調節弁、前記均圧遮断弁及び下側の遮断弁を閉め、その後に気体放出管に設けられた排気遮断弁を開き上側の中継圧力容器内の気体を放出して上側の中継圧力容器内の圧力を加圧熱反応器外と等圧にしてから上側の遮断弁を開き、再び処理物を受け入れることを繰り返し、
    下側の中継圧力容器内には処理物を切らすことなく加圧熱反応器中に払出し機構により処理物を払い出すことを特徴とする処理物の供給方法。
  12. 請求項11に記載の処理物の供給方法により前記加圧熱反応器に供給された処理物を加圧下で熱分解ガス化してガス状物を得ることを特徴とする処理物のガス化方法。
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