JP2003158066A

JP2003158066A - レジスト除去装置及びレジスト除去方法

Info

Publication number: JP2003158066A
Application number: JP2001357704A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Misu; 仁三須
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2001-11-22
Filing date: 2001-11-22
Publication date: 2003-05-30

Abstract

(57)【要約】【課題】処理工程における矩形の基板の基板周縁部に
残存する余剰レジストを精度よく除去するレジスト除去
装置及びレジスト除去方法を提供することを目的とす
る。【解決手段】レジスト除去装置１は、ガラス基板１０
０を載置する保持部１６と、その保持部１６を正逆方向
に回転駆動させる回転駆動部１７と、ガラス基板１００
の長辺周縁部１０ａに対してシンナを吐出する長辺部ノ
ズル１２ａと、短辺周縁部１０ｂに対してシンナを吐出
する短辺部ノズル１２ｂと、長辺部ノズル１２ａを移動
させる長辺駆動部１４ａと、短辺部ノズル１２ｂを移動
させる短辺駆動部１４ｂとを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶装置に
用いられるガラス基板などの矩形の基板の表面にレジス
トを塗布した後に、基板周縁部に残存する不要な余剰レ
ジストを除去するためのレジスト除去装置及びレジスト
除去方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板、特に、ガラス基板の製造プロセス
には、大きく分けてガラス基板の金属膜のパターニング
形成を行うアレイ工程と、液晶材料を圧着して封止を行
うセル工程と、ＴＣＰの搭載や、組み立て、バックライ
トの組み立て等を行うモジュール工程とがある。

【０００３】その中でもアレイ工程においては、まず金
属蒸着された矩形のガラス基板を洗浄し（洗浄工程と呼
ぶ）、この上に紫外線（ＵＶ）で感光するレジストを塗
布する。この際に、ガラス基板の基板周縁部には、不要
な余剰レジストが残存し、その後の基板の搬送等におい
てパーティクルの発生の原因となる。そこで、その余剰
レジストを予め除去するために、基板上にレジスト膜を
形成した直後にガラス基板の基板周縁部へ向けノズルか
ら所定の液を吐出することが従来から行われている。

【０００４】このような従来のレジスト除去技術として
は、まずレジスト膜が形成されたガラス基板を保持部材
上に載せる。次に、ガラス基板の外周に沿って移動する
ノズルから基板の一端から他端まで連続的にガラス基板
の周縁部に向けてシンナなどの溶剤を吐出している。こ
れにより、レジスト液が溶解され、しかも溶剤の吐出圧
により除去作用が加速されるようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにガラス基板の周縁部に吐出された溶剤は不要なレ
ジストと共に全てが基板の外周に流出せずにガラス基板
の基板周縁部に残存する、という課題がある。特に、基
板周縁部の角部においてはその傾向が著しく、このよう
な溶剤の残存は線幅のばらつきの原因になっている。そ
して、近年においては配線パターンの微細化の傾向に伴
い、かかる不具合を回避することが強く要望されてい
た。

【０００６】本発明は、このような課題を解決するため
になされたもので、レジスト除去に用いられる液が基板
上に残存することがないレジスト除去装置及びレジスト
除去方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため、本発明では、以下のような構成を採用してい
る。

【０００８】本発明のレジスト除去装置は、表面にレジ
スト膜が形成された矩形の基板の周縁部からレジストを
除去する装置において、前記基板を回転可能に保持する
保持部と、前記保持部を回転駆動する第１の駆動部と、
回転する前記基板の周縁部に沿って移動しながら該周縁
部に向けて所定の液を吐出するノズルと、前記ノズルを
回転する基板の周縁部に沿って移動させる第２の駆動部
とを具備すること特徴とする。

【０００９】このような構成によれば、基板を回転させ
ることにより遠心力が働く。従来においては、静止した
状態の矩形の基板の周縁部に対して液を吐出していたの
で、液が周縁部の内側に回りこむといった問題があっ
た。これに対して、本発明では、矩形の基板を回転させ
ることによって遠心力をかけ、吐出された液が周縁部の
内側へ向わないようにする。これにより、レジスト除去
に用いられる所定の液が基板上に残存することはなくな
る。

【００１０】本発明の一の形態によれば、前記保持部が
時計回りに回転する際には、前記ノズルは前記周縁部の
一辺の片側半分に前記液を吐出し、前記保持部が反時計
回りに回転する際には、前記周縁部の前記一辺の別の片
側半分に対して前記液を吐出することを特徴とする。

【００１１】このような構成によれば、時計回りの回転
により余剰レジストに向けて液が吐出されるのは基板の
片側半分で、半時計回りの回転により余剰レジストに向
けて吐出されるのは、時計回りの際に未吐出である基板
の別の片側である。つまり、一方回転で吐出可能な範囲
を一辺の全体ではなく、一辺の半分にした。それによっ
て、ノズルが吐出する移動距離を実質的に短縮すること
ができる。これによって、装置全体の小型化が可能とな
る。

【００１２】本発明の一の形態によれば、前記ノズル
は、前記基板の対向する２辺に対して基板の中心からほ
ぼ点対称となるように配置され、かつ移動することを特
徴とする。

【００１３】このような構成によれば、ノズルが少なく
とも２つ具備されていることになる。つまり、１つのノ
ズルによって周縁部に吐出を行うよりも、ノズルの増設
に伴い効率的な吐出の実行が図れる。また、ノズルが２
つである場合に関してもそれ以上のノズルがある場合に
も、基板のほぼ中心を点対称で配置される。これによっ
て、各々のノズルが複数個配置された場合でも互いに影
響しあうことはなく、また前述した通り効率的に行うこ
とができる。

【００１４】本発明の一の形態によれば、前記ノズルは
前記基板の長辺周縁部に対して前記液を吐出する第１の
ノズルと、短辺周縁部に対して前記液を吐出する第２の
ノズルとを具備することを特徴とする。

【００１５】このような構成によれば、矩形の基板が回
転する際に、長辺と短辺によって回転に伴う被吐出部分
の描く弧が異なるので、それぞれに対応したノズルを具
備させることができる。前述のように、１つのノズルの
みで、回転する矩形のガラス基板の長辺周縁部と短辺周
縁部に吐出するには、長辺と短辺にの両辺に対応して吐
出しなければならない。それには、そのノズルの非常に
敏速な動きが要求されることになる。そこで、１つのノ
ズルで行う負担を軽減させるべく、長辺周縁部に対応す
る第１のノズルと短辺周縁部に対応する第２のノズルを
設けた。つまり、それぞれに対応したノズルを有するこ
とにより、ノズル負担を軽減し的確に吐出を行うことが
できる。

【００１６】本発明の一の形態によれば、前記第１のノ
ズルと前記第２のノズルは、相互に直交する方向に移動
することを特徴とする。

【００１７】このような構成によれば、長辺周縁部の第
１のノズルと短辺周縁部の第２のノズルは互いの吐出の
際に接触することはない。これによって、長辺周縁部と
短辺周縁部両方は、お互い影響を与えずに吐出され余剰
レジストを除去することができる。

【００１８】本発明の一の形態によれば、前記ノズルか
ら前記液を前記周縁部へ吐出する際の前記保持部の回転
数は約１００から４００ｒｐｍであることを特徴とす
る。

【００１９】このような構成によれば、液を吐出する際
の回転率は、この程度が好ましい。この程度の回転率を
維持することにより、余剰レジストと液とが確実に反応
し溶解することができる。

【００２０】本発明の一の形態によれば、前記ノズルか
ら前記液を前記基板の前記周縁部へ吐出した後の前記保
持部の回転数は約６００から１０００ｒｐｍであること
を特徴とする。

【００２１】このような構成によれば、遠心力の回転を
用いて溶解された余剰レジストと液を完全に除去するこ
とができる。さらに、その遠心力による空気抵抗で液を
乾燥することもできる。

【００２２】本発明の一の形態によれば、前記基板と前
記ノズルが所定の角度を保つように制御する第３の駆動
部をさらに具備することを特徴とする。

【００２３】このような構成によれば、所定の角度を有
することにより、ノズルの角度と回転の向きによって、
吐出する液の吹き付ける際の強度を、変化させることが
できる。

【００２４】本発明の一の形態によれば、前記液を前記
基板の吐出する位置に応じて前記ノズルの角度を制御す
る第３の駆動部をさらに具備することを特徴とする。

【００２５】このような構成によれば、基板の角部等の
レジストが特に溜まりやすい部分に対して、強い強度で
液を吹き付けることができる。つまり、回転に際し、周
縁部の液の溜まりやすい部分とそうでない部分の両方の
それぞれに対応させた吹き付けの強度を制御することが
可能となる。

【００２６】本発明のレジスト除去方法は、表面にレジ
スト膜が形成された矩形の基板の周縁部からレジストを
除去する方法において、前記基板を回転させる工程と、
回転する前記基板の周縁部に沿って該周縁部に向けて所
定の液を吐出する工程とを具備すること特徴とする。

【００２７】このような構成によれば、基板を回転させ
ることにより遠心力が働く。従来においては、静止した
状態の矩形の基板の周縁部に対して液を吐出する方法を
採用していたので、液が周縁部の内側に回りこむといっ
た問題があった。そこで本発明は矩形の基板を回転させ
ることによって遠心力をかける方法を採用し、吐出され
た液が周縁部の内側へ向わないようにする。また、回転
した矩形の基板の周縁部に対して液を的確に吐出するこ
とができるノズルとそのノズルを駆動させる駆動機構を
設けることにより、従来は行うことが難しかった矩形の
基板に対しての的確な吐出を行うことができる。

【００２８】本発明の一の形態によれば、前記基板を時
計回りに回転させる際には、前記周縁部の一辺の片側半
分に前記液を吐出し、前記基板を反時計回りに回転させ
る際には、前記周縁部の前記一辺の別の片側半分に対し
て前記液を吐出することを特徴とする。

【００２９】このような構成によれば、回転する方向に
より基板の辺半分の余剰レジストにむけて吐出すること
ができる。これによって、ノズルの移動距離は辺全部に
対して吐出しながら移動する場合よりも、辺半分の場合
の方が少なくすることが可能となる。また、移動距離が
減少することにより、回転に伴うノズルの移動する速度
を従来よりも減少させることができるので、ノズルの負
担を減らすことが可能となる。

【００３０】本発明の一の形態によれば、前記基板の対
向する２辺に対して基板の中心からほぼ点対称となるよ
うにそれぞれ同時に前記液を供給することを特徴とす
る。

【００３１】このような構成によれば、ノズルを増設す
ることにより、１つのノズルよりも効率的に除去するこ
とができる。また、ノズルが点対称に配置されることに
よって、各々のノズルが除去の際に影響しあうことがな
い。

【００３２】本発明の一の形態によれば、前記基板の長
辺周縁部に対して前記液を吐出する工程と、短辺周縁部
に対して前記液を吐出する工程とを同時に実行すること
を特徴とする。

【００３３】このような構成によれば、矩形の基板の長
辺周縁部と短辺周縁部の両方に対応したノズルを配置す
ることができる。これによって、矩形の基板の回転に際
し、回転する弧の異なる長辺周縁部と短辺周縁部の両方
に的確に吐出することができる。

【００３４】本発明の一の形態によれば、前記液を前記
周縁部へ吐出する際の前記基板の回転数は約１００から
４００ｒｐｍであることを特徴とする。

【００３５】このような構成によれば、液を吐出する際
の回転率はこの程度で行うとよい。これによって、余剰
レジストと液が接触して溶解するための適度の遠心力が
実現できる。

【００３６】本発明の一の形態によれば、前記液を前記
基板の前記周縁部へ吐出した後の前記基板の回転数は約
６００から１０００ｒｐｍであることを特徴とする。

【００３７】このような構成によれば、基板の回転を用
いて溶解した余剰レジストと液を完全に遠心力によって
除去することができる。さらに、その遠心力による空気
抵抗で液の乾燥をすることもできる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。（第１実施形態）図１は本発明の第１の実施形態に係る
レジスト除去装置１の斜視図であり、図２は、その正面
図である。このレジスト除去装置１は、液晶装置に用い
られるガラス基板１００の周縁部１０に残存する余剰レ
ジストを除去するものであるが、本発明は勿論別の基板
にも適用できる。

【００３９】レジスト除去装置１は、ガラス基板１００
を載置する保持部１６と、その保持部１６を正逆方向に
回転駆動させる回転駆動部１７と、ガラス基板１００の
周縁部１０に対して液例えば、シンナを吐出するノズル
１２とからその主要部が構成される。

【００４０】ノズル１２には、矩形のガラス基板１００
の長辺周縁部１０ａへ向けてシンナを吐出する長辺部ノ
ズル１２ａと、短辺周縁部１０ｂへ向けてシンナを吐出
する短辺部ノズル１２ｂとがある。

【００４１】その長辺部ノズル１２ａと短辺部ノズル１
２ｂは、ガラス基板１００の上方部に設けられており、
その上方部からシンナを周縁部１０に吐出できるように
各駆動部１４ａ、ｂの側面のレール１８ａ、ｂ上を移動
する。また、各ノズル１２ａｂｂは、回転したガラス基
板１００の各周縁部１０にシンナが吐出できるようにす
るため、制御部１９によって制御されている。

【００４２】また、各ノズル１２は、吐出するシンナを
供給する各液供給部１４があり、長辺部ノズル１２ａに
は長辺液供給部１３ａ、短辺部ノズル１２ｂには短辺液
供給部１３ｂがそれぞれのパイプによって連結される。

【００４３】上記の各パイプの途中には、シンナの吐出
量を調整するための調整バルブ１５があり、長辺部ノズ
ル１２ａに連結される長辺部調整バルブ１５ａと、短辺
部ノズル１２ｂに連結される短辺部調整バルブ１５ｂと
が設けられている。また、その各調整バルブ１５は、制
御部１９によって必要に応じて開閉を行っている。

【００４４】次に、まず、図３を用いてアレイ工程の説
明を行う。

【００４５】まず、ガラス基板１００は、金属が蒸着さ
れた後に洗浄される（Ｓ３０１）。その後、表面にレジ
ストを塗布される（Ｓ３０２）。

【００４６】ガラス基板１００にレジストが塗布された
後に、次のプリベーク工程へ行く前に周縁部１０に残存
する余剰レジストを除去しなければならない。そこで、
本発明のレジスト除去装置１を用いて、ガラス基板１０
０に残存する余剰レジストを確実に除去する（Ｓ３０
３）。

【００４７】まず、最初に回転駆動部１７により保持部
１６の回転率を１００から４００ｒｐｍに回転駆動させ
る。その回転したガラス基板１００の周縁部１０の縁か
らおよそ１〜１０ｍｍの余剰レジストに向けて、調整バ
ルブ１５を開けてノズル１２からシンナを吐出する。ノ
ズル１２からシンナ吐出の際に、この程度の回転率によ
り、余剰レジストとシンナとが確実に反応し溶解するこ
とが可能となる（Ｓ３０３−１）。さらに、調整バルブ
１５を閉め、シンナの吐出を終了させる。

【００４８】その後、さらに保持部１６を６００から１
０００ｒｐｍに回転を高める。（Ｓ３０３−２）。そこ
で、シンナの吐出により溶解した余剰レジストとシンナ
とを遠心力によりガラス基板１００の外側に飛散させ
る。さらに、その遠心力による空気抵抗でシンナを乾燥
することもできる。

【００４９】その後、図示を省略した吸引部によってさ
らに余剰レジストとシンナを完全に吸引する（Ｓ３０３
−３）。

【００５０】Ｓ３０３の３段階を経て、周縁部１０の余
剰レジストを除去した後に、ガラス基板１００上のレジ
ストを焼くプリベーク工程（Ｓ３０４）へと進む。さら
に、露光工程（Ｓ３０５）、現像工程（Ｓ３０６）、ポ
ストベーク工程（Ｓ３０７）、エッチング工程（Ｓ３０
８）、剥離工程（Ｓ３０９）を経て、アレイ工程を終了
させる。

【００５１】さらに、液晶材料を圧着して封止を行うセ
ル工程、ＴＣＰの搭載や、組み立て、バックライトの組
み立て等を行うモジュール工程を経て、製品が完成され
る。

【００５２】Ｓ３０３の工程を図４及び図５の平面図を
用いて以下に詳細に説明する。

【００５３】図４は、（ａ）に示すガラス基板１００が
（ｂ）では（ａ）から時計回りに２７．５度、（ｃ）で
は（ａ）から時計回りに４５度回転した状態を示した図
であり、図５は、ガラス基板１００が正逆回転する際に
シンナが塗布される部位を斜線で明示した図である。

【００５４】まず、長辺部ノズル１２ａのガラス基板１
００の回転に応じた移動について説明をする。

【００５５】図４の（ａ）の状態において、長辺部ノズ
ル１２ａは、左側に示された長辺周縁部２０ａの中央の
上方部に位置し、シンナの吐出を行う。次に、（ｂ）に
おいては、長辺部ノズル１２ａは、ガラス基板１００の
回転に伴い、長辺周縁部２０ａに対して連続的にシンナ
を吐出できるように右から左に移動する。さらに、
（ｃ）においては、長辺部ノズル１２ａが、ガラス基板
１００の回転に伴い、上述と同様に長辺周縁部２０ａに
対して連続的にシンナを吐出できるように右から左に移
動する。

【００５６】このようにして、長辺部ノズル１２ａは、
長辺駆動部１４ａにより常に長辺周縁部２０ａへシンナ
を吐出するようになっている。

【００５７】また、長辺部ノズル１２ａは、（ａ）で左
側に図示された長辺周縁部２０ａへのシンナの吐出が終
了した後に、さらに（ａ）で右側に図示された長辺周縁
部２０ａが（ａ）で左側に示された長辺周縁部２０ａの
位置へ来た時に同様にしてシンナを吐出する。

【００５８】また、長辺部ノズル１２ａは、長辺部ノズ
ル１２ａの下方部に長辺周縁部２０ａが存在しない場合
には、吐出は行わない。つまり、長辺部ノズル１２ａの
下方部に長辺周縁部２０ａが存在するか否かによって、
吐出をするか否かが決まり、必要に応じて長辺部バルブ
１５ａを制御部１９によって制御する。

【００５９】次に、短辺部ノズル１２ｂのガラス基板１
００の回転に応じた移動についての説明をする。

【００６０】図４の（ａ）の状態において、短辺部ノズ
ル１２ｂは、短辺周縁部２０ｂの上側中央の上方部に位
置し、また、長辺部ノズル１２ａと回転駆動部１７を中
心として直角を形成するようにしても配置されている。

【００６１】短辺部ノズル１２ｂは、長辺部ノズル１２
ａと異なり、図中で示すように上下移動する。そのよう
に、上下移動する短辺部ノズル１２ｂは、ガラス基板１
００の回転に伴って、短辺周縁部２０ｂに対して的確に
シンナを吐出することができる。また、短辺部ノズル１
２ｂは、制御部１９によって短辺部調整バルブ１５ｂの
開閉を行い、短辺周縁部２０ｂにのみ吐出できるように
制御する。

【００６２】以上が、長辺部ノズル１２ａと短辺部ノズ
ル１２ｂが、ガラス基板１００の時計回り回転による吐
出する具体的態様である。

【００６３】実際に図５の（ａ）に示す斜線部分がこの
時計回り回転によって、各ノズル１２ａ、ｂによってシ
ンナが吐出される周縁部２０ａ、ｂである。また、逆に
（ｂ）に示す斜線部分は、半時計回り回転によって、各
ノズル１２ａ、ｂによってシンナが吐出される周縁部３
０ａ、ｂである。つまり、各ノズル１２は、一方向の回
転で辺全体ではなく、辺の半分に対して吐出を行い、さ
らに、他方向の回転で、未吐出の辺半分に対して吐出を
行う。

【００６４】このようにして、各ノズル１２は、ガラス
基板１００の両方向の回転により、辺全体にシンナが吐
出できる。それにより、各ノズル１２が移動する距離は
吐出範囲が半分になり、実質的に短縮することができ、
レジスト除去装置１の小型化を図ることができる。

【００６５】このように本実施形態のレジスト除去装置
１では、従来と比較して、ガラス基板１００を回転させ
ながら周縁部１０に残存する余剰レジストへ向けてシン
ナを吐出することにより、シンナが周縁部の内側に回り
こむといった問題を解消することができる。また、矩形
のガラス基板１００の回転に伴って、長さの異なる各周
縁部１０へシンナを的確に吐出することができるよう
に、長辺部ノズル１２ａと短辺部ノズル１２ｂを設け
た。これにより、効果的に吐出を行うことができる。（第２実施形態）図６は、本発明の第２の実施形態に係
るレジスト除去装置１の平面図である。

【００６６】図６は、第１の実施形態の長辺部ノズル１
２ａと短辺部ノズル１２ｂが、それぞれ２個ずつ具備さ
れたものである。また、長辺部ノズル１２ａも短辺部ノ
ズル１２ｂも図に示すように回転駆動部１７を中心とし
て点対象に配置されている。

【００６７】図面左側の長辺部ノズル１２ａと上側の短
辺部ノズル１２ｂに関しては、第１の実施形態と同様に
移動するので、ここでは、右側の長辺部ノズル１２ａと
下側の短辺部ノズル１２ｂの移動について説明を行う。

【００６８】（ａ）図において、右側の長辺部ノズル１
２ａは、ガラス基板１００の右側長辺の中央上方部に設
けられており、その上方部からシンナを長辺周縁部１０
ａに向けて吐出できるように長辺部駆動部１４ａの側面
のレール１８ａ上を移動する。また、上述と同様に、制
御部１９によって制御されている。

【００６９】この右側の長辺部ノズル１２ａは、ガラス
基板１００の時計回り回転に伴って矢印の左から右へ移
動する。そのような移動により、長辺部ノズル１２ａ
は、図中の右側に示される斜線部分の長辺周縁部２０ａ
の下部から上部へ向けて的確に吐出するようになってい
る。

【００７０】また、右側の長辺部ノズル１２ａは、左側
の長辺周縁部２０ａが（ａ）に示す右側の長辺周縁部２
０ａの位置に回転されて来た時には、同様にしてシンナ
の吐出を行う。

【００７１】長辺部ノズル１２ａは、長辺周縁部２０ａ
のみに吐出を行うようになっている。つまり、長辺部ノ
ズル１２ａが移動する範囲の下方部に長辺周縁部２０ａ
がある場合にはシンナの吐出が行われ、長辺周縁部２０
ａがない場合にはシンナの吐出は行われない。

【００７２】また、下側の短辺部ノズル１２ｂは、下側
短辺の中央上方に設けられており、その上方部から短辺
周縁部１０ｂに向けて吐出できるように短辺駆動部１４
ｂの側面のレール１８ｂ上を移動する。この下側の短辺
部ノズル１２ｂは、ガラス基板１００の時計回り回転に
伴い矢印の上から下へ移動し、下側の斜線部分である短
辺周縁部２０ｂに対し吐出を行う。

【００７３】（ａ）で上側に示された短辺周縁部２０ｂ
が、回転により（ａ）で示す下側の短辺周縁部２０ｂの
位置へ移動した際には、同様に短辺部ノズル１２ｂによ
って吐出を行う。つまり、短辺部ノズル１２ｂは、移動
する範囲の下方部に短辺周縁部２０ｂがある場合にはシ
ンナの吐出が行われ、また、短辺周縁部２０ｂがない場
合にはシンナの吐出は行われない。

【００７４】第１の実施形態と比較して、ノズル１２の
増設をすることによって効率的な吐出の実行が図れる。
また、図に示すようにガラス基板１００の回転駆動部１
７を中心として点対称で配置されているので、各々のノ
ズル１２が互いに影響しあうことはない。

【００７５】（第３の実施形態）図７は、本発明の第３
の実施形態に係るレジスト除去装置１の平面図である。

【００７６】図７は、ガラス基板１００の周縁部に対し
てシンナを吐出するノズル１２が、１個だけ配置された
ものである。

【００７７】ノズル１２は、ガラス基板１００の上方部
に設けられ、矩形のガラス基板１００の回転に伴い矢印
を左右に移動することによって、周縁部１０にシンナを
吐出するようになっている。

【００７８】本実施形態と第１、２の実施形態とを比較
した場合に、ノズル１２は、両周縁部１０に対応してシ
ンナを吐出しなければならないので非常に敏速な動きが
必要となる。つまり、例えば、（ａ）の時計回り回転の
場合には、ノズル１２が長辺周縁部２０へシンナを吐出
した後、すぐに、ノズル１２の移動範囲に短辺部周縁部
２０が下方にくるので、その短辺周縁部２０へシンナの
吐出を行うようになる。つまり、ガラス基板１００が回
転し、それに対し１個のノズル１２で的確に両周縁部１
０に吐出を行うには、長辺周縁部２０と短辺周縁部２０
の長さの違いやノズル１２の位置合わせ等の問題があ
り、それに的確に対処できるように制御部１９によって
適宜制御される。

【００７９】また、（ｂ）の半時計回り回転の場合に
は、同様にしてノズル１２が、長辺周縁部３０にシンナ
を吐出した後、すぐに短辺周縁部３０へシンナの吐出を
行うようになる。この場合のノズル１２の動きも制御部
１９によって適宜制御される。

【００８０】これによって、１つのノズル１２を用い
て、従来には行うことが困難であった回転する矩形のガ
ラス基板１００の周縁部１０にシンナを的確に吐出する
ことが可能となる。（第４の実施形態）図８は本発明の第４の実施形態を示
す図である。

【００８１】第３の実施形態のノズル１２が、ある所定
の角度を有する場合の図である。この第４の実施形態に
おいては、ノズル１２を１個の場合で示したが、複数具
備する場合にも適用できる。

【００８２】図８のノズル１２は、ガラス基板１００の
上方部に設けられており、角度を調整する調整駆動部
(図示せず)によって図に示すようなある所定の角度を有
している。図８(ａ)の図においては、ノズル１２は、時
計回りするガラス基板１００の回転方向に対し、反対側
にシンナが吐出されるので、通常よりもシンナが強く吹
き付けるようになっている。

【００８３】また、図８(ｂ)の図においては、ノズル１
２は、半時計回りするガラス基板１００の回転方向に対
し、同方向にシンナが吐出されるので、通常よりも弱く
吹き付けるようになっている。

【００８４】つまり、ガラス基板１００の回転方向とノ
ズル１２の吐出の方向との関係を反対方向または同方向
であるか変化させることによって、ノズル１２による吹
き付け強度を変化させることができる。

【００８５】また、そのノズル１２の角度は一定ではな
い。例えば、周縁部１０の部位でも特に強く吐出したい
部位があった場合に、角度調整を調整駆動部によって行
うことにより強く吹き付けることができる。

【００８６】これによって、ガラス基板１００の角等の
レジストが溜まりやすい部分に対して、強い強度でシン
ナを吹き付けることができる。つまり、ガラス基板１０
０の回転に伴い、周縁部１０のレジストやシンナが溜ま
りやすい部位やそうでない部位の双方に対して、ノズル
１２の角度を調整するだけで、容易に吹き付け強度を変
化させることが可能となる。

【００８７】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係るレジスト除去装
置の全体構成を示す斜視図である。

【図２】本発明の第１の実施形態に係るレジスト除去装
置の全体構成を示す正面図である。

【図３】本発明のレジスト除去工程を含むアレイ工程全
体のフロー図である。

【図４】本発明の第１の実施形態に係るレジスト除去装
置とガラス基板の移動機構を示した平面図である。

【図５】本発明の第１の実施形態に係るガラス基板の両
回転の吐出部位を明示した平面図である。

【図６】本発明の第２の実施形態に係るガラス基板の両
回転の吐出部位を明示した平面図である。

【図７】本発明の第３の実施形態に係るガラス基板の両
回転の吐出部位を明示した平面図である。

【図８】本発明の第４の実施形態に係るガラス基板の両
回転の吐出部位を明示した平面図である。

【符号の説明】

１レジスト除去装置１０周縁部１０ａ長辺周縁部１０ｂ短辺周縁部１２ノズル１２ａ長辺部ノズル１２ｂ短辺部ノズル１４駆動部１６ガラス基板保持部１７回転駆動部１００ガラス基板

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ０５Ｄ 3/10 Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１５Ｆ０４６Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ 1/1333 ５００ 1/1333 ５００Ｈ０１Ｌ 21/30 ５７７Ｆターム(参考） 2H088 FA23 FA30 HA01 MA20 2H090 JB02 JC06 JC19 4D075 AC65 BB20Z BB69Z CA47 DA06 DB13 DC24 EA05 EA45 4F041 AA05 AA16 AB01 BA13 BA23 BA38 4F042 AA02 AA06 BA05 CC10 EB09 EB13 EB18 EB25 5F046 JA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面にレジスト膜が形成された矩形の基
板の周縁部からレジストを除去する装置において、前記基板を回転可能に保持する保持部と、前記保持部を回転駆動する第１の駆動部と、回転する前記基板の周縁部に沿って移動しながら該周縁
部に向けて所定の液を吐出するノズルと、前記ノズルを回転する基板の周縁部に沿って移動させる
第２の駆動部とを具備すること特徴とするレジスト除去
装置。
【請求項２】前記保持部が時計回りに回転する際に
は、前記ノズルは前記周縁部の一辺の片側半分に前記液
を吐出し、前記保持部が反時計回りに回転する際には、
前記周縁部の前記一辺の別の片側半分に対して前記液を
吐出することを特徴とする請求項１に記載のレジスト除
去装置。
【請求項３】前記ノズルは、前記基板の対向する２辺
に対して基板の中心からほぼ点対称となるように配置さ
れ、かつ移動することを特徴とする請求項１または請求
項２に記載のレジスト除去装置。
【請求項４】前記ノズルは前記基板の長辺周縁部に対
して前記液を吐出する第１のノズルと、短辺周縁部に対
して前記液を吐出する第２のノズルとを具備することを
特徴とする請求項１乃至請求項３に記載のレジスト除去
装置。
【請求項５】前記第１のノズルと前記第２のノズルと
は、相互に直交する方向に移動することを特徴とする請
求項４に記載のレジスト除去装置。
【請求項６】前記ノズルから前記液を前記周縁部へ吐
出する際の前記保持部の回転数は約１００から４００ｒ
ｐｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項５に記
載のレジスト除去装置。
【請求項７】前記ノズルから前記液を前記基板の前記
周縁部へ吐出した後の前記保持部の回転数は約６００か
ら１０００ｒｐｍであることを特徴とする請求項１乃至
請求項６に記載のレジスト除去装置。
【請求項８】前記基板と前記ノズルが所定の角度を保
つように制御する第３の駆動部をさらに具備することを
特徴とする請求項１乃至請求項７に記載のレジスト除去
装置。
【請求項９】前記液を前記基板の吐出する位置に応じ
て前記ノズルの角度を制御する第３の駆動部をさらに具
備することを特徴とする請求項１乃至請求項８に記載の
レジスト除去装置。
【請求項１０】表面にレジスト膜が形成された矩形の
基板の周縁部からレジストを除去する方法において、前記基板を回転させる工程と、回転する前記基板の周縁部に沿って該周縁部に向けて所
定の液を吐出する工程とを具備すること特徴とするレジ
スト除去方法。
【請求項１１】前記基板を時計回りに回転させる際に
は、前記周縁部の一辺の片側半分に前記液を吐出し、前
記基板を反時計回りに回転させる際には、前記周縁部の
前記一辺の別の片側半分に対して前記液を吐出すること
を特徴とする請求項１０に記載のレジスト除去方法。
【請求項１２】前記基板の対向する２辺に対して基板
の中心からほぼ点対称となるようにそれぞれ同時に前記
液を供給することを特徴とする請求項１０または請求項
１１に記載のレジスト除去方法。
【請求項１３】前記基板の長辺周縁部に対して前記液
を吐出する工程と、短辺周縁部に対して前記液を吐出す
る工程とを同時に実行することを特徴とする請求項１０
乃至請求項１２に記載のレジスト除去方法。
【請求項１４】前記液を前記周縁部へ吐出する際の前
記基板の回転数は約１００から４００ｒｐｍであること
を特徴とする請求項１０乃至請求項１３に記載のレジス
ト除去方法。
【請求項１５】前記液を前記基板の前記周縁部へ吐出
した後の前記基板の回転数は約６００から１０００ｒｐ
ｍであることを特徴とする請求項１０乃至請求項１４に
記載のレジスト除去方法。