JP2003151121A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 走行耐久性、走行安定性等に優れた磁気記録
媒体を提供する 【解決手段】 非磁性支持体上の一方の面に磁気記録層
が設けられ、他方の面にバックコート層が施された磁気
記録媒体において、バックコート層が結合剤樹脂として
ポリアミドイミド等のポリイミド系樹脂を含有する。ま
た、ポリイミド系樹脂として、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯＯＭ
等を含有する。これにより、高温高湿下でもブロッキン
グすることなく、保存安定性が改善され、優れた走行耐
久性、走行安定性の磁気記録媒体が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体の裏
面にバックコート層を有する磁気記録媒体に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般に磁気テープのバックコートはテー
プの走行性や帯電防止を目的とし、非磁性支持体上の記
録層と反対の面に施されるもので、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、酸化アルミニウム、二酸化クロム、二
酸化珪素、酸化チタン等の無機滑剤、カーボンブラッ
ク、酸化錫等の帯電防止剤等が結合剤樹脂中に分散され
てなる。従来結合剤樹脂としてはニトロセルロースや塩
ビ系共重合体とポリウレタン樹脂等の混合物が採用され
て来た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、パーソナルコン
ピューターでも画像や動画が扱えるようになり、これに
伴ないコンピューターのデータ処理量が飛躍的に増えて
きている。このため、外部記憶媒体の記憶容量向上及び
データ転送速度向上が強く求められており、有用な記録
メディアの一つである磁気テープも高性能化が進められ
ている。具体的にはコンピュータの小型化、情報処理能
力増大に伴い、磁気テープについても小型化、大記録容
量化、且つデータ転送速度の高速化が求められている。

【０００４】これらの要求を満たす手段として、磁気テ
ープはより薄膜化し、磁気テープと磁気ヘッドの相体速
度が益々向上する傾向にある。最近の磁気テープではバ
ックコート層は0.5μm以下の厚みで塗布される。

【０００５】磁気テープと磁気ヘッドの相体速度が向上
するとドライブ内のガイドローラーやキャプスタンとの
接触による摩擦が増大する。この摩擦がバックコート層
にダメージを与え、バックコート層の一部が剥離し塵埃
となって磁気記録層を汚染する事で記録・再生特性を劣
化させたり、或いはバックコート層自身の劣化によりテ
ープ走行性が悪化すると言った弊害を生じやすくなる。

【０００６】これらの問題解決のため、例えば特開平０
９−１８０１５１公報には結合剤にポリカーボネートポ
リウレタンからなるバインダーを用いることが開示され
ている。また、特開平１１−３２８６５６公報には結合
剤がフェノキシ樹脂と極性基を有するポリウレタン樹脂
を用いることが開示されている。特開２０００−１５５
９３６公報には結合剤のポリウレタンに特定の構造を有
する原料を用いることが開示されている。更に、特開２
０００−３３９６６１公報には添加剤に特定の構造を持
つ潤滑剤を用いることが開示されている。しかし、より
性能向上が求められつつある最近の業界動向の中で、薄
層化が進むバックコート層の耐久性能は十分な要求レベ
ルにあるとはいえず、更なる改良が求められている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】塗布厚みがより薄くな
り、一方でより耐久性の向上が求められると言った現状
の中、本発明者らは鋭意検討した結果本発明に達した。
すなわち本発明は、非磁性支持体上の一方の面に磁気記
録層が設けられ、他方の面にバックコート層が施された
磁気記録媒体において、上記バックコート層が結合剤樹
脂としてポリイミド系樹脂を含有することを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。

【０００８】

【発明実施の形態】本発明において、バックコート層に
用いられるポリイミド系樹脂はイミド結合を有するた
め、従来のポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂などと
比較してガラス転移温度が高く、更に機械的強度にも優
れる。特に、ポリイミド系樹脂はガラス転移温度が高い
ため、高温でテープを走行させた場合でもブロッキング
することがなく走行性能が良好である。また、高速走行
によりドライブ内のガイドローラーやキャプスタンと高
速で接触するといった過酷な条件下でも、機械的強度の
優れるポリイミド系樹脂をバックコート層に用いること
で走行耐久性を大幅に改善できる。

【０００９】本発明で用いられるポリイミド系樹脂とは
分子内にイミド結合を有しているもので、具体的にはポ
リイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミドイミ
ドエーテル樹脂、ポリアミドイミドエステル樹脂、ポリ
アミドイミドウレタン樹脂、ポリアミドイミドウレア樹
脂等が挙げられる。これらの中でも、分子内にアミド結
合とイミド結合を持つポリアミドイミド系の樹脂が、溶
解性、耐熱性の面から好ましい。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明で用いられるポリイミド系
樹脂は、酸成分とイソシアネート（アミン）成分から製
造するイソシアネート法、或は酸クロリド（酸成分）と
アミンから製造する酸クロリド法などの公知の方法で極
性溶剤中で製造することができる。

【００１１】本発明のポリイミド系樹脂をイソシアネー
ト法で製造する場合は、以下に示す酸成分、イソシアネ
ート成分より製造される。酸成分としては、トリメリッ
ト酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメ
リテート、プロピレングリコールビスアンヒドロトリメ
リテート、１，４−ブタンジオールビスアンヒドロトリ
メリテート、ヘキサメチレングリコールビスアンヒドロ
トリメリテート、ポリエチレングリコールビスアンヒド
ロトリメリテート、ポリプロピレングリコールビスアン
ヒドロトリメリテート等のアルキレングリコールビスア
ンヒドロトリメリテート、ピロメリット酸無水物、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸無水物、３，３’−、４，
４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物、
３，３’−、４，４’−ジフェニルテトラカルボン酸無
水物、４、４’−オキシフタル酸無水物、テレフタル
酸、イソフタル酸、４，４’−ビフェニルジカルボン
酸、４，４’−ビフェニルエーテルジカルボン酸、４，
４’−ベンゾフェノンジカルボン酸、ピロメリット酸、
３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカ
ルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカル
ボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セ
バチン酸、マレイン酸、フマル酸、ダイマー酸、スチル
ベンジカルボン酸等が挙げられる。これらの酸成分は単
一或いは複数で用いること出来る。これらの酸成分とし
ては反応性、機械的強度、溶解性、コストなどからトリ
メリット酸無水物が好ましい。

【００１２】イソシアネート成分としてはジシクロヘキ
シル−４，４’−ジイソシアネート、１，３−ビス（イ
ソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，４−トリレン
ジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、
３，３’−ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイ
ソシアネート、３，３’−ジエチルジフェニルメタン−
４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジクロロジフ
ェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’
−ジクロロジフェニル−４，４’−ジイソシアネート、
４，４’−ジイソシアネート−３，３’−ジメチルビフ
ェニル、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、
ｍ−フェニレンジイソシアネート等が挙げられる。これ
らのイソシアネート成分の中では、機械的強度、溶解性
の点から４，４’−ジイソシアネート−３，３’−ジメ
チルビフェニル及び２，４−トリレンジイソシアネート
またはイソホロンジイソシアネートが好ましい。

【００１３】本発明で用いられるポリイミド系樹脂を酸
クロリド法で製造する場合、上述した酸成分のカルボン
酸を酸クロライドに変えたものとアミン成分より製造さ
れる。アミン成分としては、４，４’−ジアミノジシク
ロヘキシルメタン、１，３−シクロヘキサンビス（メチ
ルアミン）、ｏ−クロロパラフェニレンジアミン、ｐ−
フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４、
４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニル
メタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，
４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミ
ノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノ
ン、２，２’−ビス（アミノフェニル）プロパン、２，
４−トリレンジアミン、２，６−トリレンジアミン、ｐ
−キシレリンジアミン、イソホロンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニ
レンジアミン等が挙げられる。

【００１４】本発明のポリイミド系樹脂は上述の酸、イ
ソシアネート以外にも必要に応じてポリエーテル、ポリ
エステル、グリコール等の成分を共重合しても良い。高
分子ポリオールとしては具体的に芳香族ポリエステル、
脂肪族ポリエステル、脂環族ポリエステル、ポリエーテ
ル、ポリカーボネート等が挙げられる。グリコールとし
てはエチレングリコ−ル、プロピレングリコ−ル、１，
３−プロパンジオ−ル、１，４−ブタンジオ−ル、１，
５−ペンタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、ネ
オペンチルグリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、ジプロ
ピレングリコ−ル、２，２，４−トリメチル−１，３−
ペンタンジオ−ル、シクロヘキサンジメタノ−ル、２，
２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−
ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、ビスフェノ−
ルＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキ
サイド付加物、水素化ビスフェノ−ルＡのエチレンオキ
サイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物等のジ
オール化合物等が挙げられる。しかしながら耐久性の面
からは、エステル結合およびエーテル結合の合計がイミ
ド結合とアミド結合の合計に対して７０モル％以下であ
ることが好ましい。。

【００１５】また、イソシアネートと反応する官能基を
１分子中３個以上有する分岐状化合物は汎用硬化剤との
反応性の向上に有効である。具体的な化合物としては、
トリメチロールプロパン、グリセリン、トリエタノール
アミン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等のポリオール、あるいはこれらポリオールのうちの
一種へのε−カプロラクトン付加物等が挙げられる。

【００１６】上記の原料を適宜組み合わせて得られるポ
リイミド系樹脂は、シクロヘキサノン、トルエン、メチ
ルエチルケトン、エタノール、テトラヒドロフランのい
ずれかの溶剤単独、或いはこれらの内２種以上の混合溶
剤中に５重量％以上溶解する様にすることが好ましい。
溶剤に５重量％以上溶解させるにはポリイミド系樹脂と
しては酸成分に無水トリメリット酸、シクロヘキサンジ
カルボン酸、イソシアネート成分にジシクロヘキシル−
４，４’−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ートを用いることが好ましい。

【００１７】更に、バックコート層に添加するフィラー
の分散性を改善するため極性基を有する化合物を共重合
することが好ましい。 前記のポリイミド系樹脂が−Ｓ
Ｏ₃Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）（Ｏ
Ｒ）、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂および第４
級アンモニウム塩〔ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金
属またはアンモニウムイオン、Ｒはアルキル基またはア
リール基を示す〕が挙げられ、これらの極性基は単独或
いは二種類以上を同時に用いても良い。これら極性基を
含有する原料としては特に制限はなく、例えばスルホン
酸金属塩基を有する５−スルホイソフタル酸ナトリウ
ム、２，５−ジメチルー３−ナトリウムスルホー２，５
−ヘキサンジオール、４級アンモニウム塩を有する２，
６−ピリジンジカルボン酸塩酸塩、Ｎ−メチルジエタノ
ールアミン塩酸塩等が挙げられ、分散性の面から５−ス
ルホイソフタル酸ナトリウムが好ましい。

【００１８】上記ポリイミド系樹脂は原料の酸成分とイ
ソシアナート成分を極性溶媒中で重合することにより得
ることができる。

【００１９】バックコート層に用いられるポリイミド系
樹脂の分子量は３０００から８００００、望ましくは５
０００から５００００のものを用いる。分子量が５００
０未満では機械的強度が不足で，走行耐久性が劣ること
がある。分子量が８００００を超えると溶液粘度が大き
くなり、無機粒子・カーボンブラック等の分散性能が悪
化すると共に作業性も悪くなることがある。

【００２０】本発明のバックコート層にはポリイミド系
樹脂以外に、可撓性の調節、耐寒性・耐熱性向上等の目
的のために他の樹脂を添加するか、および／または架橋
剤を混合することが望ましい。他の樹脂としては塩化ビ
ニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、エ
ポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、
アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、本発明以外の
ポリイミド系樹脂等が挙げられる。

【００２１】一方、架橋剤としてはポリイソシアネート
化合物、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、酸無
水物等があり、特にこれらの中でエポキシ樹脂が好まし
い。エポキシ樹脂としては、特に制限はなく、例えば、
エポキシ化合物としては、低分子量化合物のポリグリシ
ジルエーテル類やポリグリシジルエステル類が挙げら
れ、例えばビスフェノールAのジグリシジルエーテルお
よびそのオリゴマー、ビスフェノールFのジグリシジル
エーテルおよびそのオリゴマー、ビスフェノールSのジ
グリシジルエーテルおよびそのオリゴマー、水素化ビス
フェノールAのジグリシジルエーテルおよびそのオリゴ
マー、ビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド付
加物のジグリシジルエーテル、オルソフタル酸ジグリシ
ジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、テ
レフタル酸ジグリシジルエステル、p-オキシ安息香酸ジ
グリシジルエステル、テトラハイドロフタル酸ジグリシ
ジルエステル、ヘキサハイドロフタル酸ジグリシジルエ
ステル、コハク酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジ
グリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステ
ル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオ
ールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジ
ルエーテルおよびポリアルキレングリコールジグリシジ
ルエーテル類、トリメリット酸トリグリシジルエステ
ル、トリグリシジルイソシアヌレート、1,4-ジグリシジ
ルオキシベンゼン、ジグリシジルプロピレン尿素、グリ
セロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールト
リグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジル
エーテル、トリグリシジルトリス（2-ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、グリセロールアルキレンオキサ
イド付加物のトリグリシジルエーテル、ジアミノジフェ
ニルメタンのポリグリシジルエーテル、N,N-ジグリシジ
ルアミノ-1、3-グリシジルフェニルエーテル、ビフェニ
ル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹
脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ノボラック型
エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポ
キシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アミン系エポキ
シ樹脂、アリサイクリックジエポキシアセタール、アリ
サイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリック
ジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジ
オキサイド等を挙げることができ、好ましいエポキシ化
合物としてはビスフェノール類のジグリシジルエーテ
ル、ジアミノジフェニルメタンのポリグリシジルエーテ
ル等が挙げられる．これらは単独あるいは2種以上の混
合物として用いることが可能である。

【００２２】また、その他必要に応じてジブチルフタレ
ート、トリフェニルホスフェートのような可塑剤、高級
脂肪酸やその塩、大豆油レシチン、シリコーンオイルの
ような潤滑剤や種々の帯電防止剤を添加することもでき
る。

【００２３】上記バックコート層には研磨剤として無機
粉末を添加することもできる。研磨剤としては、アルミ
ナ、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化クロム、炭化珪
素、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、タル
ク、カオリン等が挙げられる。

【００２４】上記バックコート層には帯電防止や潤滑性
を改良するためカーボンブラックを添加することが好ま
しい。カーボンブラックの含有量としては結合剤１００
重量部に対し３０以上２００以下の重量部であることが
好ましく、より好ましくは７０以上１３０以下の重量部
である。カーボンブラックとしては特に制限はなくゴム
用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、ア
セチレンブラック、ケッチェンブラック等が挙げられ、
その詳細は「カーボンブラック便覧」（カーボンブラッ
ク協会編）等に記載されている。これらのカーボンブラ
ックは単独或いは２種以上を併用しても良い。

【００２５】前述のポリイミド系樹脂およびバックコー
ト層に必要な原料とを有機溶剤に溶解分散させ塗液とし
た後、この塗液をフィルム上に塗工して乾燥後、さらに
記録層を設けて磁気記録媒体とする。なお、記録層はバ
ックコート塗工前に設けても良い。

【００２６】また、バックコート層の密着性を向上させ
るため両者間にアンダーコート層を設けてもよい。該ア
ンダーコート層はポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステ
ル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブ
チラール、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、本
発明以外のポリイミド系樹脂等から成り、必要に応じて
磁性又は非磁性の粉末を含有しても良い。

【００２７】本発明のポリイミド系樹脂はバックコート
層に用いる以外にも、磁性層、磁性層と非磁性支持体の
間のアンダーコート層に用いることができる。また磁性
層が重層塗布されてなる磁気記録媒体の場合、磁性層と
同時に塗布される非磁性層に用いても良い。

【００２８】本発明は、非磁性支持体の一方の面に記録
層を設けるとともに、他方の面にバックコート層を有す
る磁気記録媒体において、上記バックコート層の結合剤
樹脂としてポリイミド系樹脂を使用することにより、従
来テープに比較し、走行耐久性が飛躍的に改良された磁
気記録媒体を提供するものである。

【００２９】

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限される
ものではない。

【００３０】ポリイミド系樹脂の数平均分子量はゲル浸
透クロマトグラフィーを用いジメチルホルムアミドを溶
剤として標準ポリエチレングリコール換算の値を測定し
た。また、ガラス転移温度は動的粘弾性測定装置を用い
周波数１１０Ｈｚで測定したときの保存弾性率（Ｅ’）
の屈曲点とした。なお、上記測定用のサンプルは以下の
要領で作成した。ポリイミド系樹脂の溶液を１００μｍ
のドクターブレードを用いて塗布し、１００℃で予備乾
燥した後２００℃で２４時間乾燥し塗膜を得た。

【００３１】ポリイミド系樹脂の合成例１ 反 応容器にトリメリット酸無水物０．５モル、シクロ
ヘキサンジカルボン酸０．４７５モル、５−スルホイソ
フタル酸ナトリウム０．０２５モル、イソホロンジイソ
シアネート０．９９モル、ナトリウムメトキサイド０．
０２モルをγブチロラクトンと共に仕込み、モノマー濃
度を５０重量％とした。この溶液を攪拌しながら１８０
℃で６時間反応後、Ｎ−メチル−２−ピロリドンで約３
０％に希釈しながら室温まで冷却した。得られたポリマ
ーの数平均分子量は１５０００、ガラス転移温度が２６
２℃であった。これら結果を表−１に示した。

【００３２】ポリイミド系樹脂の合成例２ 反応容器にトリメリット酸無水物０．５モル、シクロヘ
キサンジカルボン酸０．５モル、イソホロンジイソシア
ネート０．９９モル、ナトリウムメトキサイド０．０２
モルをγブチロラクトンと共に仕込み、モノマー濃度を
５０重量％とした。この溶液を攪拌しながら１８０℃で
６時間反応後、Ｎ−メチル−２−ピロリドンで約３０％
に希釈しながら室温まで冷却した。得られたポリマーの
数平均分子量は１５０００、ガラス転移温度が２６２℃
であった。これら結果を表−１に示した。

【００３３】ポリイミド系樹脂の合成例３ 反応容器にトリメリット酸無水物０．９８モル、５−ス
ルホイソフタル酸ナトリウム０．０２モル、イソホロン
ジイソシアネート０．９８モル、ナトリウムメトキサイ
ド０．０２モルをγブチロラクトンと共に仕込み、モノ
マー濃度を５０重量％とした。この溶液を攪拌しながら
１８０℃で６時間反応後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
で約３０％に希釈しながら室温まで冷却した。得られた
ポリマーの数平均分子量は１３０００、ガラス転移温度
が２６８℃であった。これら結果を表−１に示した。

【００３４】ポリイミド系樹脂の合成例４ 反応容器にトリメリット酸無水物０．９８５モル、５−
スルホイソフタル酸ナトリウム０．０１５モル、イソホ
ロンジイソシアネート０．５モル、４，４’−ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート０．４９モル、ナトリ
ウムメトキサイド０．０２モルをγブチロラクトンと共
に仕込み、モノマー濃度を５０重量％とした。この溶液
を攪拌しながら１８０℃で６時間反応後、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンで約３０％に希釈しながら室温まで冷却
した。得られたポリマーの数平均分子量は１４０００、
ガラス転移温度が２６１℃であった。これら結果を表−
１に示した。

【００３５】ポリイミド系樹脂の合成例５ 反応容器にトリメリット酸無水物０．９８５モル、５−
スルホイソフタル酸ナトリウム０．０１５モル、４，
４’−ジフェニルメタンジイソシアネート０．９８モ
ル、ナトリウムメトキサイド０．０２モルをＮ―メチル
ー２−ピロリドンと共に仕込みモノマー濃度を２０重量
％とした。この溶液を攪拌しながら１８０℃で６時間反
応後、Ｎ−メチル−２−ピロリドンで約１５％に希釈し
ながら室温まで冷却した。得られたポリマーの数平均分
子量は１７０００、ガラス転移温度が３００℃であっ
た。これら結果を表−１に示した。

【００３６】ポリイミド系樹脂の合成例６ 反応容器にトリメリット酸無水物０．９８５モル、５−
スルホイソフタル酸ナトリウム０．０１５モル、３，
３’−ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイソシ
アネート０．８モル、２，４−トリレンジイソシアネー
ト０．１８モルをＮ―メチルー２−ピロリドンと共に仕
込みモノマー濃度を２０重量％とした。この溶液を攪拌
しながら１８０℃で６時間反応後、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドンで約１５％に希釈しながら室温まで冷却した。
得られたポリマーの数平均分子量は１６０００、ガラス
転移温度が３２０℃であった。これら結果を表−１に示
した。

【００３７】（バックコート塗料の調製）下記配合割合
の組成物をボールミルに入れて８時間分散し、ブチルス
テアレート１部を加えて更に１時間分散を続けてバック
コート塗料を得た。

【００３８】 ポリイミド系樹脂（固形分重量） １００部 溶剤 ７２０部 カーボンブラック １００部 （Columbian Chemicals Company 製 ラーベン１２５５） 研磨剤（住友化学株式会社製 ＡＫＰ２０） ４部

【００３９】（磁性塗料の調製）下記配合割合の組成物
をボールミルに入れて４８時間分散してから、滑剤とし
てステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル１部、研磨剤
としてアルミナ粉末（平均粒径０．２μｍ）５部、硬化
剤としてイソシアネート化合物のコロネートＬ（日本ポ
リウレタン（株）製）６部を加え、更に１時間分散を続
けて磁性塗料を得た。

【００４０】 ポリウレタン樹脂の３０％溶液（東洋紡績株式会社製ＵＲ８２００）１００部 メタル粉（ＢＥＴ５８ｍ² ／ｇ；抗磁力（Ｈｃ）１６００Ｏｅ） １２０部 アルミナ粉末（平均粒径０．２μｍ） ５部 シクロヘキサノン １００部 ＭＥＫ ５０部 トルエン ５０部

【００４１】（磁気記録媒体の調製）厚さ４．５μｍの
芳香族ポリアミド支持体上に、磁性塗料を乾燥後の厚み
が２μｍになるように塗布した。塗膜が湿潤状態にある
間に、２０００ガウスの磁場中で配向処理を行った。更
に、乾燥炉にて、８０℃の温風で乾燥した。引き続き、
上記ポリアミドの反対の面上にバックコート塗料を乾燥
厚さが０．８μｍになるように塗布した。９０℃にて乾
燥してバックコート層を形成した。最後に８ｍｍ幅にス
リットして、磁気テープを製造した。

【００４２】実施例１ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂にポリイミド系樹脂の合成例１を用い、
溶剤にエタノール／トルエン＝５０／５０（重量比）を
用いて塗布液を調製し、上記に従って磁気記録媒体を調
製した。

【００４３】実施例２ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂にポリイミド系樹脂の合成例２を用い、
溶剤にエタノール／トルエン＝５０／５０（重量比）を
用いて塗布液を調製し、上記に従って磁気記録媒体を調
製した。

【００４４】実施例３ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂にポリイミド系樹脂の合成例３を用い、
溶剤にテトラヒドロフランを用いて塗布液を調製し、上
記に従って磁気記録媒体を調製した。

【００４５】実施例４ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂にポリイミド系樹脂の合成例４を用い、
溶剤にシクロヘキサノン／テトラヒドロフラン＝８０／
２０（重量比）の混合溶剤を用いて塗布液を調製し、上
記に従って磁気記録媒体を調製した。

【００４６】実施例５ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂にポリイミド系樹脂の合成例５を用い、
溶剤にＮ−メチルー２−ピロリドンを用いて塗布液を調
製し、上記に従って磁気記録媒体を調製した。なお、調
製時のバックコート塗料の乾燥温度は１６０℃に変更し
た。

【００４７】実施例６ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂にポリイミド系樹脂の合成例６を用い、
溶剤にＮ−メチルー２−ピロリドンを用いて塗布液を調
製し、上記に従って、磁気記録媒体を調製した。なお、
調製時のバックコート塗料の乾燥温度は１６０℃に変更
した。

【００４８】比較例１ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂をポリエステル（東洋紡績株式会社製
バイロン２００）に変え、溶剤に２−ブタノン／トルエ
ン／シクロヘキサノン＝５０／３０／２０（重量比）を
用いて塗布液を調製し、上記に従って、磁気記録媒体を
調製した。

【００４９】比較例２ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂をポリエステル（東洋紡績株式会社製
バイロン５３０）に変え、溶剤に２−ブタノン／トルエ
ン／シクロヘキサノン＝５０／３０／２０（重量比）を
用いて塗布液を調製し、上記に従って、磁気記録媒体を
調製した。

【００５０】比較例３ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂をポリウレタン（東洋紡績株式会社製
ＵＲ８２００）に変え、溶剤に２−ブタノン／トルエン
／シクロヘキサノン＝５０／３０／２０（重量比）を用
いて塗布液を調製し、上記に従って、磁気記録媒体を調
製した。

【００５１】比較例４ 上記塗料配合を基本配合として、バックコート塗料のポ
リイミド系樹脂をポリウレタン（東洋紡績株式会社製
ＵＲ８２００／ＵＲ８３００＝５０／５０）に変え、溶
剤に２−ブタノン／トルエン／シクロヘキサノン＝５０
／３０／２０（重量比）を用いて塗布液を調製し、上記
に従って、磁気記録媒体を調製した。

【００５２】実施例で用いた樹脂の組成、物性を表１に
示す。また、この磁気記録媒体のバックコート層につい
て、下記の測定方法に準拠して表面光沢、表面粗度、耐
ブロッキング性、及び塗膜強度をそれぞれ評価した。結
果を表１に示す。

【００５３】〔測定方法〕磁気記録媒体の光沢はグロス
メーターを用いて６０°グロスを測定した。表面粗度は
接触式表面粗度計を用いて中心線平均表面粗さ（Ｒａ）
を測定した。耐久性はφ５ｍｍのアルミナ棒にビデオテ
ープをＵ字型に掛け、荷重２０ｇ、速度２０ｍｍ／秒、
試験区間２０ｍｍの条件で５０回摺動させ、塗膜のバッ
クコート層表面を光学顕微鏡２００倍で観察して下記の
通り評価した。 ○：削れなし △：削れあり ×：ベースフィルムから
剥離

【００５４】耐ブロッキング性はφ３６ｍｍのガラス管
に１ｍの磁気記録媒体を２０ｇｆ/mm²のテンションで１
０回巻き付けた後、温度８０℃、湿度９０％に調整した
恒温恒湿器に２４時間入れた後、手で巻き付けた磁気記
録媒体を解きブロッキングの程度を目視により観察し以
下の通り評価した。 ○：ブロッキングなし △：ブロッキングしているが手で解ける ×：ブロッキングしており手で解けない

【００５５】

【表１】 ＴＭＡ ：トリメリット酸無水物 ＣＨＤＡ ：シクロヘキサンジカルボン酸 ＩＰＡ−Ｓ：５−スルホイソフタル酸ナトリウム ＩＰＤＩ ：イソホロンジイソシアネート ＨＭＤＩ ：４，４’−ジシクロヘキシルメタンジ
イソシアネート ＭＤＩ ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト ＤＤＩ ：３，３’−ジメチルジフェニルメタン−４，
４’−ジイソシアネート ＴＤＩ ：２，４−トリレンジイソシアネート

【００５６】

【表２】

【００５７】以上の結果のように、実施例１〜６は比較
例１〜４と比較して耐久性、耐ブロッキング性が良好で
ある。

【００５８】

【発明の効果】本発明は耐久性が良好で、高温高湿化で
もブロッキングすることなく保存安定性の良好なバック
コート層を用いることにより走行耐久性、走行安定性等
に優れた磁気記録媒体を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｚ Ｆターム(参考） 4J038 DJ021 DJ051 GA06 GA08 GA13 GA14 JA02 JA05 JA19 JA33 JA70 KA06 MA07 MA09 NA22 PB11 4J043 PA05 PA09 PC185 PC186 QB58 RA06 SA06 SA07 SA11 SA52 SA82 SA87 SB01 SB03 TA04 TA11 TA12 TA21 TA22 TA51 TA75 TA79 TB01 TB03 TB04 UA041 UA042 UA121 UA122 UA131 UA132 UB011 UB012 UB121 UB122 UB132 UB151 UB152 UB291 UB301 UB302 VA011 VA021 VA042 VA051 VA052 VA061 VA062 VA081 WA03 WA04 WA05 XA03 XA19 XB21 XB27 ZA12 ZA31 ZB03 ZB47 5D006 CC01 CC02 EA01 FA02 FA05 5D112 AA08 BD01 BD08 BD09

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上の一方の面に磁気記録層が
   設けられ、他方の面にバックコート層が施された磁気記
   録媒体において、上記バックコート層が結合剤樹脂とし
   てポリイミド系樹脂を含有することを特徴とする磁気記
   録媒体。
2. 【請求項２】バックコート層のポリイミド系樹脂がポリ
   アミドイミドであることを特徴とする請求項１記載の磁
   気記録媒体。
3. 【請求項３】前記のポリイミド系樹脂が−ＳＯ₃Ｍ、−
   ＣＯＯＭ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）（ＯＲ）、−
   ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂および第４級アンモ
   ニウム塩〔ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属または
   アンモニウムイオン、Ｒはアルキル基またはアリール基
   を示す〕からなる群から選ばれる一種以上の極性基を含
   有することを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記
   載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】シクロヘキサノン、トルエン、メチルエチ
   ルケトン、エタノール、テトラヒドロフランのいずれか
   の溶剤単独、或いはこれらの内２種以上の混合溶剤中に
   ５重量％以上溶解するポリイミド系樹脂を塗布して得ら
   れたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の
   磁気記録媒体。