JP2003139617A - レーザシステム内の光ファイバ先端部の温度を測定して制御するシステム及び方法 - Google Patents

レーザシステム内の光ファイバ先端部の温度を測定して制御するシステム及び方法

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    • G01K11/3206Measuring temperature based upon physical or chemical changes not covered by groups G01K3/00, G01K5/00, G01K7/00 or G01K9/00 using changes in transmittance, scattering or luminescence in optical fibres at discrete locations in the fibre, e.g. using Bragg scattering
    • G01K11/3213Measuring temperature based upon physical or chemical changes not covered by groups G01K3/00, G01K5/00, G01K7/00 or G01K9/00 using changes in transmittance, scattering or luminescence in optical fibres at discrete locations in the fibre, e.g. using Bragg scattering using changes in luminescence, e.g. at the distal end of the fibres
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ治療システムに用いられる光ファイバ
先端部の治療中における温度を正確に測定し、レーザの
出力を制御して温度を所望レベルに維持する構成が簡単
で安価なシステム及び方法を提供する。 【解決手段】 レーザ治療システムの光ファイバ20の
先端部のところの温度を検出する本発明のシステム及び
方法は、光ファイバ先端部のところの蛍光物質スラグの
蛍光応答の光刺激に対する温度依存性を利用しており、
本発明では、蛍光物質スラグ48を光ファイバ先端部5
2に隣接して位置決めし、蛍光物質スラグに対する所定
波長の光学的刺激信号とかかる光学的刺激により蛍光物
質スラグから生じた光学的蛍光応答信号の位相差を、基
準信号と光学的刺激信号の位相差及び基準信号と光学的
蛍光応答信号の位相差の関数として求めるようになって
いる。かかる位相差は、光ファイバ先端部の治療中にお
ける温度に関連付けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医学的治療手技の
実施中にエネルギを組織に伝えるレーザシステムに関
し、特に、手術中、レーザ治療システム用の光ファイバ
先端部の温度を測定かつ制御するシステム及び方法に関
する。
【0002】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】周知のよ
うに、レーザの形態のエネルギ発生器を利用して多くの
病状を治療しており、かかる病状としては、癌、腫瘍及
び良性前立腺過形成(BPH)が挙げられる。かかる治
療の実施中、重要性の高い1パラメータは、治療中の組
織の温度である。例えば、BPHの治療として前立腺中
に改変部を形成する現行の推奨法は、少量の組織を約3
分間かけて85℃まで加熱することである。これよりも
低い温度で組織を加熱しても、結果的に不完全な改変部
の形成が起こるだけであり、これに対し、これよりも高
い温度で組織を加熱すると組織の過剰の損傷が生じる場
合があることが理解される。したがって、治療中、光フ
ァイバ先端部の温度を正確に測定すると共に、レーザの
出力を制御して温度を所望レベルに維持することができ
るようにすることは主要な関心事である。
【0003】レーザシステムのために温度モニター機能
を実行する公知の方法としては幾つかあることが理解さ
れる。一方法が、オハイオ州シンシナティ所在のエシコ
ン・エンド−サージェリィ・インコーポレイテッド(本
発明の譲受人でもある)によって製造されている“Indi
go 830e Laseroptri Treatment System”として知られ
ているレーザ治療システムで利用されている。この方法
のアプローチは光ファイバ先端部のところの蛍光物質ス
ラグの蛍光応答の光刺激に対する温度依存性によること
に関連する。具体的に説明すると、励起(ポンピング)
エネルギのパルスが、材料の温度に対応する時間間隔分
遅延された蛍光パルスがアレクサンドライトスラグ中に
生じさせる。正弦波の形態で刺激信号を与えると、応答
信号も同様に正弦波であり、温度は、これら信号間の位
相シフト又は位相差に関連付けられる。
【0004】830eレーザ治療システムで比較される
信号は、アレクサンドライトスラグからの実際の応答又
は蛍光信号、並びにその電気機器回路中にプログラムさ
れている一対のタイミング信号(位相が0°及び90°
ずれている)である。このようにして、ディジタルタイ
ミング信号を用いて応答信号から位相情報を除くのが常
であった。しかし、このアプローチでは、用いられる増
幅器及びフィルタの連鎖に起因して数回の調整及び校正
が必要であることが判明している。これは、かかるシス
テムの組立て及び保守の複雑さ及びコストを増大させる
だけでなく、保守及び点検整備中に調整しなければなら
ない各レーザ治療システム相互間の固有のばらつきを生
じさせる。
【0005】したがって、治療中にレーザ装置に用いら
れる光ファイバ先端部の温度を測定し、そして、必要な
調整及び校正を最小限に抑え、レーザ装置間の安定性及
び再現性を向上させ、複雑さ及びコストを軽減するよう
な仕方でかかる温度を制御するように開発されたシステ
ム及び方法を提供することが望ましい。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の特徴によ
れば、光ファイバ先端部の温度を検出する方法が、蛍光
物質のスラグを光ファイバ先端部に隣接して位置決めす
る段階と、第1の所定の範囲内の波長をもつ光学的刺激
を光ファイバ先端部に光結合された少なくとも1本の光
ファイバ中へもたらして蛍光物質スラグからの第2の所
定の範囲内の波長をもつ所望の光学的蛍光応答を生じさ
せる段階と、光学的刺激を表す信号を検出する段階と、
光学的蛍光応答を表す信号を検出する段階と、光学的刺
激信号及び光学的蛍光応答信号をディジタル的に処理
し、これら信号間の位相差を求める段階と、光ファイバ
先端部の温度を位相差の関数として計算する段階とを有
するものとして開示される。光学的刺激信号と光学的蛍
光応答信号の位相差を、基準信号と光学的刺激信号の位
相差及び基準信号と光学的蛍光応答信号の位相差の関数
として直接又は間接的に求めることができる。
【0007】本発明の第2の特徴によれば、レーザ治療
システムが、第1の所定範囲内の波長を持つレーザビー
ムを生じさせるレーザを有し、レーザビームと光学的に
連通している第1の端部及びレーザビームを伝送させる
第2の端部を備えた少なくとも1本の光ファイバを有
し、光ファイバの第2の端部に隣接して位置決めされた
蛍光物質のスラグを有し、第2の所定範囲内の波長を持
つ光学的刺激を蛍光物質スラグに与える光源を有し、蛍
光物質スラグからの第3の所定範囲内の波長を持つ所望
の光学的蛍光応答を生じさせ、光学的蛍光応答を検出す
る検出器を有し、光学的刺激を表す第1の信号及び光学
的蛍光応答を表す第2の信号を受け取る装置を有し、第
1の信号と第2の信号の位相差を求めるプロセッサを有
するものとして開示され、光ファイバの第2の端部の温
度は、位相差の関数として求められる。
【0008】本発明の第3の特徴によれば、光学温度測
定システムが、光を受け取る第1の端部及び光を伝送す
る第2の端部を備えた光ファイバと、光ファイバの第2
の端部に隣接して位置決めされた蛍光物質のスラグと、
光ファイバを通して光学的刺激を蛍光物質スラグに与
え、それにより蛍光物質スラグから所望の光学的蛍光応
答を生じさせるための光源と、光学的蛍光応答を検出す
る検出器と、光学的刺激を表す第1の信号及び光学的蛍
光応答を表す第2の信号を受け取る装置と、第1の信号
と第2の信号の位相差を求めるプロセッサとを有するも
のとして開示される。
【0009】本発明の第4の特徴によれば、レーザシス
テム中の光ファイバ先端部の温度を所望温度に維持する
方法が、蛍光物質のスラグを光ファイバ先端部に隣接し
て位置決めする段階と、第1の所定範囲内の波長を持つ
光学的刺激を光ファイバ先端部に光結合された少なくと
も1本の光ファイバ中へもたらして蛍光物質スラグから
の第2の所定範囲内の波長を持つ所望の光学的蛍光応答
を生じさせる段階と、光学的刺激を表す信号を検出する
段階と、光学的蛍光応答を表す信号を検出する段階と、
光学的刺激信号及び光学的蛍光応答信号をディジタル処
理してこれらの位相差を求める段階と、光ファイバ先端
部について求めた温度を指定範囲と比較する段階と、必
要に応じてレーザシステムのパワー出力を加減して光フ
ァイバ先手端部の温度を指定範囲内に維持する段階とを
有するものとして開示される。
【0010】本発明の第5の特徴によれば、レーザシス
テム中の光ファイバ先端部の温度を所望温度に維持する
方法が、指定された光信号を処理して光ファイバ先端部
の温度をその関数として求める段階と、光ファイバ先端
部について求めた温度を所望温度と比較する段階と、求
めた温度と所望温度の差の関数としてエラー信号を生じ
させる段階と、レーザシステムのレーザダイオードへの
パワー出力をエラー信号に従って制御する段階とを有す
るものとして開示される。
【0011】本発明の第6の特徴によれば、レーザシス
テム中の光ファイバの先端部の温度を所望温度に維持す
るシステムが開示され、レーザシステムは、レーザビー
ムを光ファイバ先端部にもたらすレーザダイオードを有
している。温度維持システムは、光ファイバ先端部の温
度をレーザシステム中で検出された指定光信号の関数と
して求めるプロセッサと、パワーをレーザダイオードに
供給するパワー増幅器と、パワー出力信号をパワー増幅
器に与えるコントローラとを有し、コントローラは、求
めた温度と所望温度の比較により生じるエラー信号の関
数である出力信号を計算するアルゴリズムを有する。
【0012】本明細書は、本発明を具体的に記載してそ
の特徴を明確に示した特許請求の範囲を含むが、本発明
の内容は、添付の図面を参照して以下の説明を読むと一
層よく理解されると考えられる。
【0013】
【発明の実施の形態】今、図面を詳細に参照すると(図
中、同一の符号は、同一の要素を示している)、図1
は、光ファイバ20からの光によりエネルギを人の組織
に伝えるレーザ治療システム10を示している。第1の
レーザダイオード12は、病気の医学的治療に役立つ所
定の出力(好ましくは、約2ワット乃至20ワットの範
囲内にある)及び所定の波長(好ましくは、約800ナ
ノメートル乃至850ナノメートルの範囲内にある)を
有する第1のレーザビーム14を生じさせるためにレー
ザ治療システム10(図9参照)内に設けられている。
さらに、図1で分かるように、接続ブロック16が、レ
ーザ治療システム10用のハウジング18のフロント部
内部に配置されている。接続ブロック16は、コネクタ
24を介して第1のレーザビーム14を光ファイバ20
の第1の端部22に光結合して第1のレーザビーム14
を光ファイバ20の第2の端部(又は先端部)26から
伝送できるようにするのに役立つ。
【0014】図2は、コントローラボード28を露出す
るようにハウジング18を取り外した状態でレーザ治療
システム10を示している。コントローラボード28
は、構成部品としてとりわけ、メインプロセッサ30を
有し、このメインプロセッサは、各種電気信号を受けか
つ処理し、レーザ治療システム10の動作を制御するこ
とが理解される。もっぱら信号相互の位相差を計算する
ためにディジタル信号プロセッサ32をコントローラボ
ード28上に搭載するのが好ましい(これについては、
以下に詳細に説明する)。したがって、ディジタル信号
プロセッサ32は、メインプロセッサ30と直列に接続
されており、このディジタル信号プロセッサは、さらに
光ファイバ先端部26の温度を求めるためにかかる位相
差に関連した信号を処理するよう機能する。この場合、
メインプロセッサ30とディジタル信号プロセッサ32
が適当なレーザ動作モードにある間、協調動作して所要
の出力をレーザダイオード12に与えて治療中、光ファ
イバ先端部26を所望の温度状態に維持するようにする
ことが理解される。レーザ治療システム10は、手術
中、第1のレーザビーム14を、光ファイバの第1の端
部22と光学的に連通するように向けるために、全体を
参照符号34で示した光学ベンチを更に含む。
【0015】図3は、好ましくは本発明の譲受人によっ
て所有されている米国特許出願第09/785,571
号(発明の名称:Optical Fiber Including A Diffuser
Portion And Continuous Sleeve For The Transmissio
n Of Light(ディフューザ部分及び連続スリーブを有す
る光伝送用光ファイバ))に従って構成された光ファイ
バ20の部分断面図であり、かかる米国特許出願の開示
内容を本明細書の一部を形成するものとしてここに引用
する。図3で分かるように、好ましくは中心にあるシリ
カ製コア36が設けられ、このコアは円周方向のフルオ
ロポリマー製クラッド38及びこの周りを取り囲んで被
着された外側バッファ層40(例えば、テフセル:Tefz
el(登録商標)製)を有している。クラッド38及び外
側バッファ層40はそれぞれコア36への機械的支持体
となり、コア36よりも低い屈折率を有していることが
理解される。このように、クラッド38及び外側バッフ
ァ層は、光がコア36から出ないようにすることができ
る。光フィイバ20は、好ましくはペルフルオロアルコ
キシ(PFA)に硫酸バリウム粒子を配合したものから
成るスリーブ42を更に有し、このスリーブ42は、U
V硬化性光接着剤の層44によりコア36に光学的かつ
機械的に結合されているが、このようにするかどうかは
任意である。これは、クラッド38及び外側バッファ層
40が除去された光ファイバ20のディフューザ部分4
6で最もよく分かり、医学的治療中、コア36を通って
伝送された第1のレーザビーム14からの光を接着剤層
44からスリーブ42を通って伝送し、そして組織中へ
散乱させることができる。
【0016】さらに、蛍光物質のスラグ(以下、「蛍光
スラグ」という場合がある)48がディフューザ部分4
6の下流側端部に隣接して設けられたアニュラス部50
内に設けられ、ディフューザ部分46から出ない第1の
レーザビーム14からの光がコア36の端部から出てか
ら散乱かつ反射してコア36内へ戻されることが分か
る。蛍光スラグ48は、さらに光学温度センサとしての
機能を発揮し、好ましくは、クロムをドープしたザクロ
石(例えば、アレキサンドライト、ルビー及びエメラル
ド)、半導体をドープしたガラス(例えば、ニューヨー
ク州ヨンカーズ所在のスコット・グラス・カンパニイに
よって製造販売されているスコットRG665フィルタ
ガラス)、蛍光体又は他の温度依存性蛍光物質から成る
材料の等級に属する。このように、蛍光スラグ48は、
第1の波長を持つ光源からの光学的刺激を受け取り、第
2の波長で光学的蛍光応答を生じさせることができ、こ
の場合、光学的刺激の波長と光学的蛍光応答の波長は、
第1のレーザビーム14の波長とは異なっている。この
点に関し、蛍光物質スラグ48は、組織治療の際のレー
ザダイオード12からの第1のレーザビーム14の利用
方法に悪影響を及ぼさないように、かかる第1のレーザ
ビーム14の波長に対して実質的に透明であることが好
ましい。この際、医学的治療を助けるために穿通先端部
52がアニュラス部50に取り付けられている。
【0017】光学ベンチ34に着目すると、図4及び図
5から分かるように、第1のレーザビーム14の経路
は、第1のレーザダイオード12と光学的に連通してい
る光ファイバ13から光学ベンチ34に入る。光ファイ
バ13は、適切な位置決め(アラインメント)状態が得
られるように光学ベンチ34内に設けられたコネクタ3
5内に配置されている。第1のレーザビーム14は、レ
ンズ56を有するビームコリメータ54を介して伝送さ
れ、そして好ましくは、光学ベンチ34用のハウジング
60に取り付けられた全反射(TIR)プリズム58の
方へ向けられる。第1のレーザビーム14は、好ましく
はTIRプリズム58で反射して第1のビームスプリッ
タ62によって受け取られる。このビームスプリッタ
は、第1のレーザビーム14を反射して第2のビームプ
スリッタ64に向けられる。次に、第1のレーザビーム
14は、出力レンズ68を収納した出力ビームレンズ組
立体66を介して、第2のビームスプリッタ64から反
射し、それにより、第1のレーザビーム14がコネクタ
24を介して光ファイバの第1の端部22と光学的に連
通する。第1のレーザビーム14のうちの僅かな割合の
部分(これは、参照符号15で示されている)が、好ま
しくは回転ミラー72を用いることにより第1のビーム
スプリッタ62によってレーザ出力検出器70へ伝送さ
れ、第1のレーザビーム14の出力をモニターすること
ができるようになっていることが理解される。第1のビ
ームスプリッタ62、レーザ出力検出器70及びレーザ
ビーム15についての詳細な説明は、本願と同日に出願
された関連の米国特許出願(発明の名称:Apparatus An
d Method Of Monitoring And Controlling Power Outpu
t OfA Laser System (レーザビームの出力をモニター
して制御する装置及び方法)、なお本願出願時において
は出願番号が未付与である)に記載されている。この関
連出願も本発明の譲受人によって所有されており、かか
る米国特許出願の開示内容は参照することにより本明細
書の一部を形成する。勿論、第1のレーザビーム14に
よって与えられる光の波長を一層よく隔離して減衰させ
るために、フィルタ74、補正フィルタ76及びND
(中性濃度)フィルタ78によって例示されているよう
に種々のフィルタが用いられる。
【0018】これと同様に、第2のレーザダイオード8
0(図9参照)が好ましくは、第2のマーカーレーザビ
ームとも呼ばれているレーザビーム82を光ファイバ8
1によって光学ベンチ34へ供給する。光ファイバ81
は、好ましい位置合わせを確かなものにするように光学
ベンチ34内に設けられたコネクタ85内部に配置され
ている。第2のレーザビーム82は、光学ベンチハウジ
ング60に取り付けられたマーカービームコリメータ8
4、マーカーレンズ86及びマーカーフィルタ87を介
して伝送される。マーカーレーザビーム82は、好まし
くは所定の出力(好ましくは、約0.5〜2ミリワット
の範囲内にある)及び所定の波長(好ましくは、約60
0〜650ナノメートルの範囲内にある)を有する。好
ましくは正弦波信号として時変調されるマーカーレーザ
ビーム82は、光ファイバ20内の蛍光スラグ48を光
学的に刺激して、そこから所望の光学的蛍光応答を生じ
させる光源として用いられることが理解される。コネク
タ24を介してマーカーレーザビーム82を光ファイバ
の第1の端部22と光学的に連通するためには、マーカ
ーレーザビームを第1のレーザ回転ミラー88に向け
る。この回転ミラー88は、これを第2のレーザ回転ミ
ラー90へ反射する。次に、マーカーレーザビーム82
は、第1のビームスプリッタ62に当たり、この第1の
ビームスプリッタは、マーカーレーザビーム82の大部
分を(その波長の関数として)透過させて、これが第1
のビームスプリッタを介して第2のビームスプリッタ6
4へ進む。マーカーレーザビーム82は、次に第2のビ
ームスプリッタ64で反射し、出力レンズ68付きの出
力ビームレンズ組立体66を通る。したがって、第1
(治療)レーザビーム14と第2(マーカー)レーザビ
ーム82の両方は、レーザ治療システム10の通常の動
作中、参照符号92で示すように、第1のビームスプリ
ッタ62から第2のビームスプリッタ64に向けられ、
そして光ファイバ20の第1の端部22へと向けられ
る。
【0019】マーカーレーザビーム82は、光学的刺激
を蛍光スラグ48へ供給する。この蛍光スラグは、マー
カーレーザビーム82のエネルギを吸収し、これに応答
した蛍光を発する。マーカーレーザビーム82による蛍
光物質スラグ48の刺激から蛍光物質スラグ48の蛍光
発生までの時間の遅れは、光ファイバの第2の端部26
の温度の関数であり、これを測定して用いると、かかる
温度を計算することができる。参照符号94で示される
光学的蛍光応答は光ファイバ20へ戻されて、光ファイ
バの第1の端部22から出て光学ベンチ34へ入る。光
学的蛍光応答94は、好ましくは極めて低い出力(約5
ナノワット乃至100ナノワットの範囲内にある)を有
し、約680ナノメートル乃至780ナノメートルの好
ましい波長を有する。次に、光学的蛍光応答94は、出
力レンズ68及び出力ビームレンズ組立体66を通って
第2のビームスプリッタ64へ進む。第2のビームスプ
リッタ64は、光学的蛍光応答94がこれを通って信号
フィルタセット96へ伝えられるように構成されてい
る。この信号フィルタセットは、反射マーカー及び治療
光のうち大部分を遮断するよう機能する。蛍光波長及び
黒体波長だけを通過するよう濾波された残りの信号は、
信号光学組立体99内に信号フィルタセット96と共に
保持された合焦レンズ98を介して蛍光/黒体検出器1
00へ進む。
【0020】蛍光/黒体検出器100とレーザ出力検出
器70とが接続するようにセンサボード102が光学ベ
ンチハウジング60に隣接して設けられていることが理
解される。特に、センサボード102上に設けられた回
路構成が、検出器70,100からの出力を増幅かつ調
整することが理解される。光ファイバの第2の端部26
の温度を計算し、黒体信号を検出し、そして第1のレー
ザビーム14の光出力を測定するために、センサボード
102は、さらにコントローラボード28に接続されて
おり、これと情報のやりとりをする。
【0021】光ファイバの第2の端部22の温度を検出
してこれを維持するために、本発明の光学温度測定シス
テムがレーザ治療システム10の一部として設けられて
いる。具体的に説明すると、図6は、正弦波基準信号1
06(図7参照)を第2のレーザダイオード80用のマ
ーカー駆動装置108に与えて、マーカーレーザビーム
84によって供給される光学的刺激及び蛍光スラグ48
からの光学的蛍光応答94が実質的に同一の周波数を持
つ正弦波であるようにするために利用されるものとして
コントローラボード28上に設けられた装置104、例
えばコーダ/デコーダ(CODEC)を示している。勿
論、装置104は、マーカー駆動装置108に適当な信
号を与えるのに必要なディジタル−アナログ(D−A)
変換器を有する。
【0022】装置104は、さらにマーカーレーザビー
ム82からの光学的刺激及び検出器100からの光学的
蛍光応答94を表すアナログ信号110,112を受け
取ることが理解される。装置104は、さらに信号11
0,112を変換するアナログ−ディジタル(A−D)
変換器を収納状態で有している。コントローラボード2
8には、第2のレーザダイオード80の出力を制御し、
その結果、信号110を実質的に一定に保つ回路構成が
設けられている。具体的に説明すると、電位差計114
及び増幅器116は、マーカーレーザビーム82の光出
力を設定して信号110に関するレベルを特定範囲内に
制御するよう機能する。同様に、信号94は、ディジタ
ル信号プロセッサ32による信号112の処理を容易に
するためにセンサボード102上に設けられた増幅器1
18及びフィルタ120によりそれぞれ増幅及び濾波が
行なわれる。第2の増幅器122も好ましくは、コント
ローラボード28上に設けられ、この増幅器は、装置1
04による受け取りに先立って、濾波された信号を一段
と増幅するのに役立つ。
【0023】蛍光スラグ48以外の要素(即ち、増幅器
118、フィルタ120及び増幅器122)は、光学的
蛍光信号112及び光学的刺激信号110に対するその
位相シフト128に影響を及ぼす場合があることが理解
される。位相シフト128は、図中、同一周波数の2つ
の正弦波相互間の時間の変化として示されている。した
がって、光学蛍光信号112に対する影響を計算するた
めに校正方式を開発した。特に、図8では、ポート13
0が光学ベンチハウジング60の頂部132に設けられ
ていることが分かる。これにより、光ファイバをコネク
タ24経由でマーカーレーザビーム82と光学的に連通
しつつポート130に挿入することができる。このよう
にして、マーカーレーザビーム82を、信号フィルタセ
ット96に通過させないで検出器100に向けて上述の
要素の固有の位相シフトを測定してこれを光学的蛍光信
号112から差し引くことができるようにする(これに
ついては、図7に示す校正信号111及び符号125で
示す光学的刺激信号110との固有の位相シフトを参照
されたい)。これはまた、フィードバックループ138
により図6に概略的に示されており、かかるフィードバ
ックループでは、光学刺激信号110は蛍光スラグ48
をバイパスし、検出器100に直接、供給される。この
ようにすると、全てのレーザ治療システム10の作動を
構成部品相互間のばらつきとは無関係に標準化すること
ができる。
【0024】別の校正方式は、蛍光部品(図示せず)付
きの光ファイバ差込み手段を提供することであり、この
場合、蛍光部品は光学蛍光信号112と実質的に同一の
波長で非常に短時間の蛍光の発生機能を有し、これを光
ファイバ20に代えてコネクタ24へ差し込むことがで
きる。例示の蛍光部品は、ニューハンプシャー州ノース
サットン所在のラブスフィア・インコーポレイテッド
(Labsphere, Inc.)を介して入手できることが理解さ
れる。したがって、マーカーレーザビーム82は、蛍光
部品に当てられ、蛍光スラグ48に関して上述したよう
に光学蛍光応答信号が蛍光部品から出て検出器100に
送られる。次に、この信号は定量化され、そして装置1
00によって受け取られた光学蛍光応答信号112中の
固有の位相シフトを除くのに利用される。
【0025】信号110,112の位相差処理は、好ま
しくはディジタル信号プロセッサ32によって行なわ
れ、このディジタル信号プロセッサ32は、適当な信号
をメインプロセッサ30に送って、光ファイバの第2の
端部26についての温度をかかる位相の関数として計算
できるようにする(即ち、少なくとも第3次、好ましく
は第5次の多項式アルゴリズムによって)。勿論、かか
る信号110,112は、レーザ治療システム10の校
正及び上述の固有位相シフト145を考慮に入れること
になろう。信号110,112相互の位相差を直接求め
ることができるが、装置104によって駆動装置108
に与えられる基準信号106を利用するのが好ましいこ
とが判明している。したがって、図7で分かるように、
基準信号106と光学刺激信号110の第1の位相差1
24及び基準信号106と光学的蛍光信号112の第2
の位相差126を求めるが、第1の位相差124と第2
の位相差126の差は、光学的刺激信号110と光学的
蛍光信号112の総位相差128と等価である。
【0026】光ファイバの第2の端部26の温度を単に
計算することに加えて、レーザ治療システム10は、ま
たその場所及び隣の組織の所望の温度を維持するために
かかる情報を利用するよう機能する。これは、かかる温
度をモニターし、必要に応じて所要の出力調整を第1の
レーザビーム14に対して供給することにより達成され
る。図9で分かるように、所望温度を表す温度設定値1
40を加算器142に供給する場合、メインプロセッサ
30からのフィードバック信号144も、光ファイバの
第2の端部26の現在の検出温度を示す加算器142に
与え、それにより温度設定値140との不一致をエラー
(誤り)信号146によって反映させる。エラー信号1
46は、符号を変更する。即ち、検出温度144が所望
温度140よりも低い場合は正、検出温度144が所望
温度140よりも高い場合は負であるとみなされる。エ
ラー信号146をコントローラ148に供給するとこの
コントローラがレーザダイオード12への出力を調整す
る信号150をパワー又は出力増幅器152に供給する
ことが理解される。好ましい実施形態では、温度設定値
140及びフィードバック信号146に基づく第1のレ
ーザビーム14用のパワーの制御は、メインプロセッサ
30に格納されているソフトウェアを介して行なわれ
る。
【0027】より詳細には、図10から理解されるよう
に、コントローラ148は、好ましくは比例成分及び積
分成分を含む比例積分(PI)制御アルゴリズムを利用
する。比例成分は、エラー信号146からなり、この信
号はボックス154で示された倍率Kp が乗じられてい
る。積分成分は、積分器156に供給されるエラー信号
146(これはさらにE(t)として数学的に表され
る)にボックス158で示すような倍率Ki が乗じられ
る。倍率Kp ,Ki は、応答時間、温度の最終値のオー
バーシュート及び精度、関連の組織の動的条件相互間の
バランスをもたらすと共にワット/℃の単位をもつよう
選択される定数であることが当業者に理解される。次
に、比例成分及び積分成分からのそれぞれの出力信号1
60,162を加算器164で加算して出力信号150
を提供する。その結果、出力信号150を次のように数
学的に表すことができる。
【0028】
【数1】
【0029】制御アルゴリズムの過去の動作からの全て
のエラーを合計する積分成分は、好ましくはメインプロ
セッサ30によって計算された検出温度144が、規定
の制御帯域(例えば、所望温度140±5℃)に収まっ
ている場合にのみ利用されることが理解される。したが
って、検出温度144が制御帯域よりも低い場合(即
ち、所望温度140−5℃よりも低い温度)、コントロ
ーラ148からの信号150は、パワー増幅器152が
最大出力(例えば、15ワット)をレーザダイオード1
2へ供給して治療中の組織を温かくする。これとは対照
的に、検出温度144が制御帯域よりも高い場合(即
ち、所望温度140+5℃よりも高い温度)、コントロ
ーラ148からの信号150が、パワー増幅器152へ
最小出力(例えば、0ワット)をレーザダイオード12
に供給するようにさせる。このように、治療中の組織
は、冷えて制御帯域内の温度に戻ることができる。レー
ザダイオード12は約2ワット未満のコヒーレントなレ
ーザ出力を信頼性をもって生じさせることはできない。
したがって、2ワット未満の出力を得るためには好まし
い実施形態においては、レーザダイオード12への出力
を瞬間的に遮断され得ることが判明している。この場
合、制御アルゴリズムの積分成分は、検出温度144が
所望温度140に近づくにつれ効果が大きくなり、エラ
ー信号146を0へ駆動する能力を制御アルゴリズムに
与えるものであることは注目される。
【0030】積分器のワインドアップを阻止し、一方で
システムパフォーマンスを最適化するためには、コント
ローラ148の積分成分を制御帯域の各端における移行
点を認識するときに、事前にロード又は事前にチャージ
し、出力信号150が制御アルゴリズムの一反復につい
て連続した状態のままであることが好ましい。これは上
述の数学的方程式を変形すると次式として得られる。
【0031】
【数2】 このように、出力の変動は、例えば制御帯域の下端へ移
行する際の過渡時の間で回避される。その結果、出力信
号150の滑らかな減少が、所望温度140を僅かにオ
ーバーシュートし(制御帯域内に留まるが)、次にかか
る所望温度140に維持される検出温度144を伴った
状態で生じるようになる。このようにしてレーザ治療シ
ステム10の動作が円滑になるだけでなく、所望温度1
40で定常状態に達するのに要する時間が減少する。
【0032】本発明の好ましい実施形態を開示してきた
が、本発明の範囲から逸脱することなく適当な改造を施
すことによりレーザ治療システムによる治療中、光ファ
イバの先端部の温度を測定してこれを制御するシステム
及び方法の別の変形例を当業者であれば想到できよう。
【0033】本発明の具体的な実施形態は、以下の通り
である。 (1)前記蛍光物質スラグは、クロムをドープしたザク
ロ石、半導体をドープしたガラス及び蛍光体を含む等級
の温度依存性蛍光物質で構成されていることを特徴とす
る請求項1記載の方法。 (2)前記光学的刺激信号及び前記光学的蛍光応答信号
は、所定周波数の正弦波信号であることを特徴とする請
求項1記載の方法。 (3)前記計算段階の実施に先立って前記位相差を校正
する段階を更に有していることを特徴とする請求項1記
載の方法。 (4)前記校正段階は、(a)前記光学的刺激を直接検
出してその正規化信号を設定する段階と、(b)前記検
出された光学的刺激信号を前記正規化信号に従って調整
する段階とを更に含むことを特徴とする実施態様(3)
記載の方法。 (5)前記第2の所定波長範囲内の前記光学的蛍光応答
を濾波する段階を更に有していることを特徴とする請求
項1記載の方法。
【0034】(6)前記光ファイバ先端部の温度を指定
範囲内に維持する段階を更に有していることを特徴とす
る請求項1記載の方法。 (7)前記光学的刺激信号と前記光学蛍光応答信号を互
いに直接比較してこれらの位相差を求める段階を更に有
していることを特徴とする請求項1記載の方法。 (8)前記方法は、(a)基準信号を生じさせる段階
と、(b)前記基準信号と前記光学的刺激信号の第1の
位相差を求める段階と、(c)前記基準信号と前記光学
的蛍光応答信号の第2の位相差を求める段階と、(d)
前記第1の位相差と前記第2の位相差の差を求める段階
とを更に有していることを特徴とする請求項1記載の方
法。 (9)前記蛍光物質スラグは、クロムをドープしたザク
ロ石、半導体をドープしたガラス及び蛍光体を含む等級
の温度依存性蛍光物質で構成されていることを特徴とす
る請求項2記載のレーザシステム。 (10)正弦波入力を前記光源に与える装置を更に有
し、前記第1及び第2の信号は、これに対応した正弦波
の形態を有していることを特徴とする請求項2記載のレ
ーザシステム。
【0035】(11)前記第3の所定波長範囲内の前記
光学的蛍光応答を濾波する装置を更に有していることを
特徴とする請求項2記載のレーザシステム。 (12)前記プロセッサは、前記レーザからの出力を制
御して前記光ファイバの第2の端部の前記温度を指定範
囲内に維持するようになっていることを特徴とする請求
項2記載のレーザシステム。 (13)前記蛍光物質スラグは、前記第1の所定波長範
囲内の光に対して実質的に透明であることを特徴とする
請求項2記載のレーザシステム。 (14)前記レーザシステム用のハウジングに設けられ
たポートを更に有し、前記光源は、校正を目的として前
記検出器と直接的に光学的に連通することができること
を特徴とする請求項2記載のレーザシステム。 (15)前記光学的刺激信号及び前記光学的蛍光応答信
号は、正弦波信号であることを特徴とする請求項3記載
の光学温度測定システム。
【0036】(16)前記装置は、基準信号を更に生じ
させ、前記光学的刺激信号と前記光学的蛍光応答信号の
前記位相差は、前記基準信号と前記光学的刺激信号の第
1の位相差及び前記基準信号と前記光学的蛍光応答信号
の第2の位相差の関数であることを特徴とする請求項3
記載の光学温度測定システム。 (17)前記蛍光物質スラグは、クロムをドープしたザ
クロ石、半導体をドープしたガラス及び蛍光体を含む等
級の温度依存性蛍光物質で構成されていることを特徴と
する請求項3記載の光学温度測定システム。 (18)前記レーザシステム用のハウジングに設けられ
たポートを更に有し、前記光源は、校正を目的として前
記検出器と直接的に光学的に連通することができること
を特徴とする請求項3記載の光学温度測定システム。 (19)前記求めた温度が、前記所望温度に関して上限
及び下限を持つ特定の制御帯域内にあるかどうかを判定
する段階を更に有していることを特徴とする請求項4記
載の方法。 (20)前記求めた温度が前記制御帯域の前記下限より
も低い場合、最大パワー出力を前記レーザダイオードに
与えることを特徴とする実施態様(19)記載の方法。
【0037】(21)前記求めた温度が前記制御帯域の
前記上限よりも高い場合、最小パワー出力を前記レーザ
ダイオードに与えることを特徴とする実施態様(19)
記載の方法。 (22)前記レーザダイオードへの前記パワー出力は、
前記求めた温度が前記制御帯域内にある場合に比例成分
及び積分成分の関数であることを特徴とする実施形態
(19)記載の方法。 (23)前記パワー出力の前記比例成分は、前記エラー
信号と比例倍率の積であることを特徴とする実施態様
(22)記載の方法。 (24)前記パワー出力の前記積分成分は、積分倍率と
経時的に積分される各前記エラー信号の積であることを
特徴とする実施態様(22)記載の方法。 (25)前記積分成分は、前記求めた温度が前記制御帯
域内に移行すると事前ロードされ、前記レーザダイオー
ドへの前記出力が前記移行中、連続状態のままであるよ
うになっていることを特徴とする実施態様(24)記載
の方法。
【0038】(26)前記コントローラは、前記求めた
温度が前記所望温度についての特定の制御帯域の下限よ
りも低い場合、前記パワー増幅器によって最大パワーが
前記レーザダイオードに供給されるようにパワー出力信
号を生じさせることを特徴とする請求項5記載のシステ
ム。 (27)前記コントローラは、前記求めた温度が前記所
望温度についての特定の制御帯域の上限よりも高い場
合、前記パワー増幅器によって最小パワー出力が前記レ
ーザダイオードに供給されるようにパワー出力信号を生
じさせることを特徴とする請求項5記載のシステム。 (28)前記アルゴリズムは、前記求めた温度が前記所
望温度についての特定の制御帯域内にあるときに、比例
成分及び積分成分の関数であることを特徴とする請求項
5記載のシステム。 (29)前記アルゴリズムの前記比例成分は、前記エラ
ー信号と比例倍率の積であることを特徴とする実施態様
(28)記載のシステム。 (30)前記アルゴリズムの前記積分成分は、積分倍率
と、経時的に積分される各前記エラー信号の積であるこ
とを特徴とする実施態様(28)記載のシステム。 (31)前記積分成分は、前記求めた温度が前記制御帯
域内に移行すると事前ロードされ、前記レーザダイオー
ドに供給されるパワーが前記移行中、連続状態のままで
あるようになっていることを特徴とする実施態様(3
0)記載のシステム。
【0039】
【発明の効果】請求項1及び請求項2の発明は、光ファ
イバ先端部のところの蛍光物質スラグの蛍光応答の光刺
激に対する温度依存性を利用しており、かかる発明によ
れば、所定波長の光学的刺激信号とかかる光学的刺激に
より蛍光物質スラグから生じた光学的蛍光応答信号の位
相差を、基準信号と光学的刺激信号の位相差及び基準信
号と光学的蛍光応答信号の位相差の関数として直接又は
間接的に求めることができるので、かかる位相差に関連
付けられたレーザ治療中における光ファイバ先端部のと
ころの温度を迅速且つ正確に求めることができる。
【0040】請求項3の発明によれば、光学的刺激信号
とかかる光学的刺激により蛍光物質スラグから生じた光
学的蛍光応答信号の位相差(これは上述のように、レー
ザ治療中における光ファイバ先端部のところの温度に関
連付けられている)を、基準信号と光学的刺激信号の位
相差及び基準信号と光学的蛍光応答信号の位相差の関数
としてプロセッサにより迅速且つ正確に求めることがで
きる。
【0041】請求項4及び請求項5の発明によれば、上
述したようにレーザ治療中における光ファイバ先端部の
ところの温度を迅速且つ正確に求めた上で、かかる温度
と所望温度を比較し、それに応じてレーザ治療システム
のレーザダイオードへの電力出力を制御するようになっ
ているので、レーザ治療中における光ファイバ先端部の
ところの温度を所望レベルに維持することができ、しか
も、従来技術で必要であった多数回にわたる調整及び校
正が最小限に抑えられ、レーザ装置相互の安定性及び再
現性が向上し、構成の複雑さ及びコストが減少する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザ治療システムの等角図である。
【図2】コントローラボード及びこの中に収納された光
学ベンチの外部が見えるようにハウジングを取り外した
状態の図1に示すレーザ治療システムの等角図である。
【図3】図1に概略的に示すレーザ治療システムに用い
られる光ファイバの拡大部分端面図である。
【図4】図2に示す光学ベンチの断面図であり、光学ベ
ンチ内に設けられたかじ取り光学系が、1対のレーザビ
ームを光学ベンチに通して光ファイバ内へ導くことがで
きるように配置された状態を示す図である。
【図5】図2及び図4に示す光学ベンチの等角図であ
り、接続ブロック及びセンサボードが光学ベンチとイン
タフェースをとるものとして示されている状態を示す図
である。
【図6】本発明に従って図1に示すレーザ治療システム
によって利用される光学温度測定システムの回路図であ
る。
【図7】図6に示す基準信号、刺激信号、応答信号及び
校正信号のタイミング図である。
【図8】図2、図4及び図5に示す光学ベンチの平面図
である。
【図9】本発明に従って光ファイバ先端部の所望の温度
を維持するよう利用されるレーザ治療システムの回路の
概略ブロック図である。
【図10】光ファイバを所望の温度範囲内に維持するよ
う図9に示すメインプロセッサに利用されるコントロー
ラの概略ブロック図である。
【符号の説明】
10 レーザ治療システム 14 第1の(治療)レーザビーム 20 光ファイバ 24 コネクタ 30 メインプロセッサ 32 ディジタル信号プロセッサ 34 光学ベンチ 48 蛍光物質スラグ 62,64 ビームスプリッタ 66 出力レンズ組立体 82 第2の(マーカー)レーザビーム 100 蛍光/黒体検出器 104 コーダ/デコーダ(CODEC)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デビッド・シー・イェイツ アメリカ合衆国、45069 オハイオ州、ウ エスト・チェスター、ギャルウェイ・コー ト 7534 (72)発明者 ウィリアム・エイ・ポーラック アメリカ合衆国、45065 オハイオ州、サ ウス・レバノン、イースト・パイク・スト リート 200 (72)発明者 ロバート・エム・トラスティ アメリカ合衆国、45241 オハイオ州、シ ンシナティ、コヨーテ・コート 12126 (72)発明者 スコット・エイ・ニールド アメリカ合衆国、45215 オハイオ州、リ ーディング、イースト・ベンソン・ストリ ート 743 Fターム(参考) 2G043 AA06 BA16 DA02 EA01 HA05 KA09 LA01 NA01 NA05 2G066 AA01 AC13 BA18 BA19 BA38 BC02 BC07 BC15 CA14 2H037 BA03 BA32 CA13 DA03 DA04 DA05 4C026 FF17 GG07

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバの先端部の温度を検出する方
    法であって、 (a)蛍光物質のスラグを前記光ファイバ先端部に隣接
    して位置決めする段階と、 (b)第1の所定範囲内の波長を持つ光学的刺激を前記
    光ファイバ先端部に光結合された少なくとも1本の光フ
    ァイバ中へもたらして前記蛍光物質スラグからの第2の
    所定範囲内の波長を持つ所望の光学的蛍光応答を生じさ
    せる段階と、 (c)前記光学的刺激を表す信号を検出する段階と、 (d)前記光学的蛍光応答を表す信号を検出する段階
    と、 (e)前記光学的刺激信号及び前記光学的蛍光応答信号
    をディジタル的に処理し、これら信号間の位相差を求め
    る段階と、 (f)前記光ファイバ先端部の温度を前記位相差の関数
    として計算する段階とを有することを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 レーザシステムであって、 (a)第1の所定範囲内の波長を持つレーザビームを生
    じさせるレーザを有し、 (b)前記レーザビームと光学的に連通している第1の
    端部及び前記レーザビームを伝送させる第2の端部を備
    えた少なくとも1本の光ファイバを有し、 (c)前記光ファイバの前記第2の端部に隣接して位置
    決めされた蛍光物質のスラグを有し、 (d)第2の所定範囲内の波長を持つ光学的刺激を前記
    蛍光物質スラグに与える光源を有し、前記蛍光物質スラ
    グからの第3の所定範囲内の波長を持つ所望の光学的蛍
    光応答を生じさせ、 (e)前記光学的蛍光応答を検出する検出器を有し、 (f)前記光学的刺激を表す第1の信号及び前記光学的
    蛍光応答を表す第2の信号を受け取る装置を有し、 (g)前記第1の信号と前記第2の信号の位相差を求め
    るプロセッサを有し、前記光ファイバの第2の端部の温
    度は、前記位相差の関数として求められることを特徴と
    するレーザシステム。
  3. 【請求項3】 光学温度測定システムであって、 (a)光を受け取る第1の端部及び前記光を伝送する第
    2の端部を備えた光ファイバと、 (b)前記光ファイバの第2の端部に隣接して位置決め
    された蛍光物質のスラグと、 (c)前記光ファイバを通して光学的刺激を前記蛍光物
    質スラグに与え、それにより蛍光物質スラグから所望の
    光学的蛍光応答を生じさせるための光源と、 (d)前記光学的蛍光応答を検出する検出器と、 (e)前記光学的刺激を表す第1の信号及び前記光学的
    蛍光応答を表す第2の信号を受け取る装置と、 (f)前記第1の信号と前記第2の信号の位相差を求め
    るプロセッサとを有していることを特徴とする光学温度
    測定システム。
  4. 【請求項4】 レーザシステム中の光ファイバ先端部の
    温度を所望温度に維持する方法であって、 (a)指定された光信号を処理して前記光ファイバ先端
    部の温度をその関数として求める段階と、 (b)前記光ファイバ先端部について求めた前記温度を
    前記所望温度と比較する段階と、 (c)前記求めた温度と前記所望温度の差の関数として
    エラー信号を生じさせる段階と、 (d)前記レーザシステムのレーザダイオードへのパワ
    ー出力を前記エラー信号に従って制御する段階とを有し
    ていることを特徴とする方法。
  5. 【請求項5】 レーザシステム中の光ファイバの先端部
    の温度を所望温度に維持するシステムであって、前記レ
    ーザシステムは、レーザビームを前記光ファイバ先端部
    にもたらすレーザダイオードを有し、前記温度維持シス
    テムは、 (a)前記光ファイバ先端部の温度を前記レーザシステ
    ム中で検出された指定光信号の関数として求めるプロセ
    ッサと、 (b)パワーを前記レーザダイオードに供給するパワー
    増幅器と、 (c)パワー出力信号を前記パワー増幅器に与えるコン
    トローラとを有し、前記コントローラは、前記求めた温
    度と前記所望温度の比較により生じるエラー信号の関数
    である前記出力信号を計算するアルゴリズムを有してい
    ることを特徴とするシステム。
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