JP2003132530A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ＭＲヘッドを組み合わせた記録再生システムに
おいても電磁変換特性が良好で特に高密度記録領域での
Ｃ／ＮまたはＳ／Ｎが格段に改良された、生産性に優
れ、低価格な磁気記録媒体を製造することができる方
法。 【解決手段】支持体上に磁性層が形成されてなる磁気記
録媒体の製造方法において、該支持体の少なくとも片方
の面上に厚さが０．１０〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ以
下かつ原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定された２０
ｎｍ以上の高さの突起が２０個／９００μｍ2 以下であ
る平滑塗布層を設け、巻き取ることなく当該平滑塗布層
上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
おいても電磁変換特性が良好で特に高密度記録領域での
Ｃ／ＮまたはＳ／Ｎが格段に改良された、生産性に優
れ、低価格な磁気記録媒体を製造することができる方
法。 【解決手段】支持体上に磁性層が形成されてなる磁気記
録媒体の製造方法において、該支持体の少なくとも片方
の面上に厚さが０．１０〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ以
下かつ原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定された２０
ｎｍ以上の高さの突起が２０個／９００μｍ2 以下であ
る平滑塗布層を設け、巻き取ることなく当該平滑塗布層
上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフレキシブルディ
スクがパーソナルコンピュータに標準搭載されようにな
った。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日
において、その容量は十分とは言えなくなり、フレキシ
ブルディスクの大容量化が望まれていた。 【０００３】また磁気テープの分野においても近年、ミ
ニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワーク
ステーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴
って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録
するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）
の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テ
ープの実用化に際しては、とくにコンピューターの小型
化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、
小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求さ
れる。 【０００４】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ2 、強磁性金属粉末（ＭＰ）、六方晶系
フェライト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支
持体に塗設したものが広く用いられる。この中でも強磁
性金属微粉末と六方晶系フェライト微粉末は高密度記録
特性に優れていることが知られている。デイスクの場
合、高密度記録特性に優れる強磁性金属微粉末を用いた
大容量ディスクとしては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１
ＭＢのＭＦ−２ＳＤまたは六方晶フェライトを用いた大
容量ディスクとしては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢ
フロプティカルなどがあるが、容量、性能的に十分とは
言えなかった。このような状況に対し、高密度記録特性
を向上させる試みが多くなされている。例えば、ＬＳ―
１２０やＺＩＰなどの１００Ｍ〜１２０Ｍ等の高容量で
高密度の記録が実現され、さらに面記録密度で０．２Ｇ
bit ／inch2 以上もの高密度記録が要求されつつある。
また、アクセス時間を短くすると言う要請からディスク
の回転数もより高速になる傾向がある。 【０００５】このような高密度で高回転または高転送の
磁気記録媒体にあっては、安定な記録再生を維持するた
めには従来の媒体よりもさらに高度な走行性及び耐久性
が要求される。以下、塗布型磁気記録媒体において記録
密度と走行耐久性とを主に改善するために提案された先
行技術について述べる。 【０００６】例えば、特開平６−５２５４１号公報に
は、磁性層表面の研磨剤の平均突起高さを１５ｎｍ以下
とした磁気テープを開示し、ヘッド磨耗、ヘッド汚れを
改善し、電磁変換特性と耐久性とを両立させる旨の記載
がある。特開平６−１２６５１号公報は、磁性層のＲａ
が１５ｎｍ以下で、３０ｎｍ以上の突起が１２５，００
０〜２５０，０００ケ／ｍｍ2 分布する磁性層であっ
て、磁性層中の潤滑剤量を示した磁気ディスクを開示し
ている。 【０００７】特開平６−３０９６５０号公報には、潤滑
剤を磁性粉100 質量部に対し8 〜30質量部含有し、磁性
層の最も高い突起から20nm低い面よりも高い突起の数が
400〜2,500ケ/mm2とした磁気記録媒、すなわち、磁性層
中の潤滑剤量と磁性層面の特定の高さの突起の存在密度
を特定することにより、走行安定性を確保しようとする
磁気記録媒体、特に磁気ディスクを開示している。 【０００８】ところで、従来、電磁誘導を動作原理とす
る磁気ヘッド（誘導型磁気ヘッド）が用いられ普及して
いる。だが更に高密度記録再生領域で使用するには限界
が見え始めている。すなわち、大きな再生出力を得るた
めには再生ヘッドのコイル巻数を多くする必要があるが
インダクタンスが増加し高周波での抵抗が増加し結果と
して再生出力が低下する問題があった。 【０００９】近年ＭＲ（磁気抵抗）を動作原理とする再
生ヘッドが提案され、ハードディスク等で使用され始
め、また、特開平８−２２７５１７号公報には磁気テー
プへの応用が提案されている。ＭＲヘッドは誘導型磁気
ヘッドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘導コ
イルを用いないため、インピーダンスノイズ等の機器ノ
イズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げるこ
とで大きなＳＮ比を得ることが可能になってきた。換言
すれば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズ
を小さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録特性
が飛躍的に向上できることになる。 【００１０】ところがＭＲヘッドは微小な熱の影響を受
けてノイズ（サーマルノイズ）を発生するという問題が
あり、特に、磁性層表面にある突起に当たるとその影響
で突発的に且つ持続してノイズが増大するという問題が
あり、ディジタル記録の場合エラー補正が不可能なほど
の問題を起こすことがある。このサーマルノイズの問題
は、記録密度が０．５Ｇbit/inch2 以上の記録信号を再
生するシステムに供される磁気記録媒体において深刻と
なる。このようなサーマルノイズを低減するには、磁性
層の表面性を制御することが重要であり、そのための手
段として支持体の表面性を制御することが行われてきて
いる。例えば、特許第２９３８５４８号公報及び同第２
９３８５４９号公報には、支持体上にポリウレタン被覆
層を設けたものが、特公平５−５７６４７号公報には、
支持体上に放射線照射により重合する化合物からなる層
を設けたものを提案している。しかし、前者の先行技術
は、製造される支持体が高価であり、かつ平滑性が不十
分である。更に、前者および後者の先行技術とも平滑化
された支持体を一旦ロール状に巻き取り、その巻き取っ
たロールを別に設けられた磁性層等の機能層を設ける塗
布あるいは蒸着等の工程で再び送り出すことが想定され
ている。しかし、平滑化された支持体はハンドリングが
困難で特に巻き取る際にはしわが発生し易く、生産性、
歩留まりが著しく低下するという問題があった。 【００１１】 【発明が解決しようとする課題】本発明はＭＲヘッドを
組み合わせた記録再生システムにおいても電磁変換特性
が良好で特に高密度記録領域でのＣ／ＮまたはＳ／Ｎが
格段に改良された、生産性に優れ、低価格な磁気記録媒
体を製造することができる方法を提供することを目的と
する。 【００１２】 【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に磁
性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法におい
て、該支持体の少なくとも片方の面上に厚さが０．１０
〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ以下かつ原子間力顕微鏡
（ＡＦＭ）により測定された２０ｎｍ以上の高さの突起
が２０個／９００μｍ2 以下である平滑塗布層を設け、
巻き取ることなく当該平滑塗布層上に少なくとも磁性層
を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法で
ある。本発明の好ましい態様は以下の通りである。 （１）前記平滑塗布層は高分子溶液を塗布乾燥させて形
成されたものであることを特徴とする前記磁気記録媒体
の製造方法。 （２）前記平滑塗布層は、分子中に放射線硬化官能基を
有する化合物を含有した塗布液を塗布した後、放射線照
射し硬化して形成されたものであることを特徴とする前
記磁気記録媒体の製造方法。 （３）前記平滑塗布層は、分子中に紫外線硬化官能基を
有する化合物を含有した塗布液を塗布した後、紫外線照
射し硬化して形成されたものであることを特徴とする前
記磁気記録媒体の製造方法。 （４）前記磁性層の厚さが２０〜５００ｎｍであること
を特徴とする前記磁気記録媒体の製造方法。 （５）前記磁性層と平滑塗布層との間に非磁性粉末と結
合剤を含む厚さ０．５〜３．０μｍの非磁性層を設けた
ことを特徴とする前記磁気記録媒体の製造方法。 （６）前記非磁性層と磁性層がウェットオンウェット塗
布により設けられたことを特徴とする前記磁気記録媒体
の製造方法。 【００１３】 【発明の実施の態様】本発明は、支持体の少なくとも片
方の面上に厚さが０．１０〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ
以下かつ原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定された２
０ｎｍ以上の高さの突起（以下、「ＰＮ（２０ｎｍ以
上）」とも記す）が２０個／９００μｍ 2 以下である平
滑塗布層を設け、巻き取ることなく当該平滑塗布層上に
少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。平滑塗布層が設けられる支持体
は通常はロール状であり、これを引き出しながら支持体
上に平滑塗布層を設け、巻き取ることなく平滑塗布層が
乾燥した後に少なくとも磁性層が平滑塗布層上に設けら
れ、次いで所定の形状、サイズに裁断される。従って、
平滑塗布層を上記のように高度に平滑化してもしわ等の
不具合が回避できるため表面性の優れた磁性層を形成す
ることができ、ひいてはＣ／ＮまたはＳ／Ｎを改善する
ことができる。平滑塗布層は支持体の両面に設けられて
も片面のみに設けられても良い。例えば、ディスク状磁
気記録媒体の場合は、通常、両面に平滑塗布層が設けら
れ、テープ状磁気記録媒体の場合は、通常、片面に設け
られるが、特に限定されない。平滑塗布層の厚さは、
０．２〜０．７μｍが更に好ましい。平滑塗布層の厚さ
が上記範囲を外れると平滑塗布層の表面粗さ及びＰＮ
（２０ｎｍ以上）を本発明の範囲に調整することが困難
となる傾向があり、また、同厚さが１μｍを超えるとテ
ープ状磁気記録媒体の高容量化にとって不利となる。平
滑塗布層の表面粗さは、ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで
２５０μｍ角を測定した中心面平均表面粗さＲａで示
す。Ｒａは０．５〜４．０ｎｍが更に好ましく、１．０
〜３．０ｎｍが特に好ましい。平滑塗布層に存在する突
起の高さとは、原子間力顕微鏡にて求められる中心面
（平面と粗さ曲面で囲まれた体積が平面に対し上下で等
しくかつ最小になる平面）を基準面とした高さと定義す
る。従って、ＰＮ（２０ｎｍ以上）とは、この基準面以
上の高さが２０ｎｍ以上である突起の３０μｍ角当りの
総数で突起密度を示す。ＰＮ（２０ｎｍ以上）は１０個
／９００μｍ2 以下が更に好ましい。平滑塗布層のＲａ
及びＰＮ（２０ｎｍ以上）は小さいければ小さい程好ま
しく、各々の少なくとも一方が上記範囲を超えるとＣ／
Ｎ又はＳ／Ｎが改善されない。 【００１４】上記のような平滑塗布層を支持体上に形成
する手段としては、特に制限はないが、以下の手段が好
ましい。 １）支持体上に高分子溶液を塗布乾燥させて平滑塗布層
を形成する手段。 ２）支持体上に分子中に放射線硬化官能基を有する化合
物を含有した塗布液を塗布した後、放射線照射し硬化し
て平滑塗布層を形成する手段。 まず手段１）について説明する。用いられる高分子溶液
としては、粘度は５０ｃｐ以下が好ましく、さらには３
０ｃｐ以下が好ましい。また、塗布液の表面張力は２２
ｍＮ／ｍ以上が好ましく、２４ｍＮ／ｍ以下が更に好ま
しい。高分子としては、数平均分子量は１００００〜１
０００００が好ましい。また、平滑塗布層上に塗布層を
設けて磁気記録媒体を形成する場合には、該塗布層用溶
媒に不溶性乃至難溶性の高分子が好ましく、特に水溶性
高分子が好ましい。また、高分子のガラス転移温度（Ｔ
ｇ）は０℃〜１２０℃が好ましく、さらに好ましくは１
０℃〜８０℃が好ましい。０℃未満では端面でのブロッ
キングが生じる場合があり、１２０℃を超えると平滑塗
布層内の内部応力が緩和されず結果として密着力が確保
できない場合がある。 【００１５】用いる高分子としては、特に制限はない
が、上記条件を満足するものが好ましく、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリウレタン、アク
リル系樹脂等が挙げられる。ポリアミドとしては、ジア
ミンとジカルボン酸の重縮合化合物、ラクタム類の開環
重合化合物、ジアミンとジカルボン酸との１／１（モル
比）の塩とカプロラクタム等のラクタム類との共重合物
等が挙げられる。 【００１６】ジアミンとしては、ヒドラジン、メチレン
ジアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、
テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オク
タメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチ
レンジアミン、ジアミノシクロヘキサン、ジ（アミノメ
チル）シクロヘキサン、ビス−（４−アミノシクロヘキ
シル）メタン、ビス−（４−アミノ−３，５−メチルシ
クロヘキシル）メタン、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−
フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，
４'−ジアミノビフェニル、トリレンジアミン、キシレ
ンジアミン、ナフチレンジアミン、ビス（アミノメチ
ル）ピペラジン、ビス（アミノエチル）ピペラジン、ビ
ス（アミノプロピル）ピペラジン、１−（２−アミノメ
チル）ピペラジン、１−（２−アミノエチル）ピペラジ
ン、１−（２−アミノプロピル）ピペラジン等が使用で
きる。 【００１７】ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン
酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、ピメリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカル
ボン酸、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、ナフタレンジカルボン酸等及びそれらの酸無水物を
使用することができる。ラクタム類としては、α−ピロ
リドン、α−ピペリドン、γ−ブチロラクタム、δ−バ
レロラクタム、ε−カプロラクタム、ω−カプリルラク
タム、ω−ラウロラクタム等が使用される。 【００１８】また、ポリアミドとしては、アミノ酸重合
体が挙げられる。アミノ酸重合体は、人口合成物でも天
然高分子、例えば、コラーゲン等の蛋白質でもよい。更
に、ポリアミドとしては、プラスチック材料講座（１
６）「ポリアミド樹脂」（福本修編、日刊工業新聞社発
行）；「合成高分子Ｖ」（朝倉書店発行、村橋、井本、
谷編集）；米国特許２１３０４９７号；同２１３０５２
３号；同２１４９２７３号；同２１５８０６４号；同２
２２３４０３号；同２２４９６２７号；同２５３４３４
７号；２５４０３５２号；２７１５６２０号；同２７５
６２２１号；同２９３９８６２号；同２９９４６９３
号：同３０１２９９４号；同３１３３９５６号；同３１
８８２２８号；同３１９３４７５号；同３１９３４８３
号；同３１９７４４３号；同３２２６３６２号；同３２
４２１３４号；同３２４７１６７号；同３２９９００９
号；同３３２８３５２号；同３３５４１２３号等に記載
されているものや、特開平１１−２８３２４１号公報に
記載されている３級アミノ基を有するポリアミド等から
も適宜選定して用いられ得る。 【００１９】ポリアミドイミドとしては、末端にアミノ
基を有する低分子量のポリアミドと酸ジ無水物やそのエ
ステルとの反応による方法、末端にアミノ基を有する低
分子量のポリアミド酸と二塩基酸クロリドとの反応によ
る方法、トリメリット酸誘導体とジアミンと反応による
方法等によって得られる。 【００２０】ポリアミド成分としては、上記ポリアミド
で記載したジアミン及びジカルボン酸あるいはアミノ酸
から形成されるものが挙げられる。トリメリット酸誘導
体等との反応で用いるジアミンとしては、上記のジアミ
ンが挙げられる。酸ジ無水物やそのエステルとしては、
ピロメリット酸−１，４−ジメチルエステル、ピロメリ
ット酸テトラメチルエステル、ピロメリット酸エチルエ
ステル、２，３，６，７−ナフタリンテトラカルボン酸
ジ無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボ
ン酸ジ無水物、１，２，５，６−ナフタリンテトラカル
ボン酸ジ無水物、２，２'，３，３'−ビフェニルテトラ
カルボン酸ジ無水物、２，２'，６，６'−ビフェニルテ
トラカルボン酸ジ無水物等が挙げられる。末端にアミノ
基を有する低分子量のポリアミド酸は、上記ジアミと酸
ジ無水物やそのエステルと反応させることにより形成で
きる。二塩基酸クロリドとしては、上記ジカルボン酸の
クロリドが挙げられる。用いられるポリアミドイミドと
しては、「ポリアミド樹脂ハンドブック」（日刊工業新
聞社発行）等に記載されているものから適宜選定され得
る。 【００２１】ポリエステルとしては、ジカルボン酸とグ
リコールから合成されるものが挙げられる。ジカルボン
酸としては、芳香族、脂肪族、脂環族のものなどが挙げ
られ、具体的には上記と同様のものが挙げられるが、芳
香族のものが好ましい。グリコール成分としては、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、プロピレング
リコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、
ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘ
キサンジメタノール、ビスフェノールＡなどの脂肪族、
脂環族、芳香族グリコール等が挙げられる。 【００２２】ポリウレタンとしては、ポリオール、ジイ
ソシアネート、鎖延長剤等から公知の方法で製造される
ものが挙げられる。ポリオールとしては、ポリエステル
ポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネー
トポリオール等が用いられる。ポリエステルポリオール
のポリエステル成分としては、上記ポリエステルのジオ
ールが挙げられる。ジイソシアネートとしては、磁性層
に用いる結合剤のところで記載されるものが挙げられ
る。鎖延長剤としては、多価アルコール、ポリアミン
（例えば、上記ジアミン等）等が用いられる。 【００２３】上記した平滑塗布層形成に用いる高分子
は、必要により−ＣＯＯＭ，−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ
3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、
（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属、アン
モニウムを示す）、ＯＨ、ＮＲ2 、Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものを用いることが好ましい。このような極
性基の量は０．１〜３ｍｅｑ／ｇから適宜選定されるこ
とが好ましい。 【００２４】尚、平滑塗布層用塗布液の溶媒としては、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルア
ルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキ
サノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭
化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ヘキサン等、及び水等が使用でき
る。これら溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成
分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。これら溶媒の中でも、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等のアルコール、
水、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、酢酸ブチ
ル等の単独または組み合わせが好ましい。 【００２５】次に手段２）、即ち、分子中に放射線硬化
官能基を有する化合物を含有した塗布液を用いて平滑塗
布層を形成する手段について説明する。用いられる分子
中に放射線硬化官能基を有する化合物(以下、「放射線
硬化型化合物」とも言う)は、放射線、例えば、電子
線、紫外線などによるエネルギーが与えられると重合乃
至架橋して高分子化して硬化する性質を有する化合物を
言う。そして、放射線硬化型化合物は、それらのエネル
ギーを与えない限り反応が進まない。そのため放射線硬
化型化合物を含む塗布液は、放射線を照射しない限り粘
度が安定しており、高い塗膜平滑性を得ることができ
る。また、放射線による高いエネルギーにより瞬時に反
応が進むため、高い塗膜強度を得ることができる。上記
放射線硬化型化合物の分子量は、２００〜２０００の範
囲であることが好ましい。分子量が上記範囲であると、
比較的低分子量であるので、カレンダー工程において塗
膜が流動し易く成形性が高く、平滑な塗膜を実現するこ
とができる。 【００２６】２官能以上の放射線硬化型化合物として
は、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタク
リル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等を挙げるこ
とができる。２官能の放射線硬化型化合物の具体例とし
ては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレ
ート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリ
コールジメタクリレート等に代表される脂肪族ジオール
にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いる
ことができる。また、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等
のポリエーテルポリオールに、アクリル酸、メタクリル
酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテル
メタクリレートや公知のニ塩基酸、グリコールから得ら
れたポリエステルポリオールに、アクリル酸、メタクリ
ル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエス
テルメタクリレートも用いることができる。公知のポリ
オール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポ
リウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポ
リウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレート
を用いてもよい。ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦ
やこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、
メタクリル酸を付加させたものや、イソシアヌル酸アル
キレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸
アルキレンオキサイド変性ジメタクリレート、トリシク
ロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカ
ンジメタノールジメタクリレート等の環状構造を有する
ものも用いることができる。 【００２７】３官能の放射線硬化型化合物の具体例とし
ては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパンのアルキレンオキサイド変成トリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸アルキレ
ンオキサイド変成トリアクリレート、プロピオン酸ジペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ヒドロキシピバ
ルアルデヒド変成ジメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパンのアルキレンオキサイド変成トリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、イソ
シアヌル酸アルキレンオキサイド変成トリメタクリレー
ト、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ヒドロキシピバルアルデヒド変成ジメチロール
プロパントリメタクリレート等を用いることができる。 【００２８】４官能以上の放射線硬化型化合物の具体例
としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸ジ
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、フォスファゼンのア
ルキレンオキサイド変成ヘキサアクリレート等を用いる
ことができる。 【００２９】中でも、具体例として好ましいものは、分
子量２００〜２０００の２官能のアクリレート化合物で
あり、更に好ましいものはビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノ
ールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリ
ル酸、メタクリル酸を付加させたものである。 【００３０】本発明に使用される放射線硬化型化合物
は、ポリマー型の結合剤と併用されてもよい。併用され
る結合剤としては上記手段１）の高分子や従来公知の熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合
物が使用される。放射線として、紫外線を用いる場合
は、重合開始剤を併用することが好ましい。重合開始剤
としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始
剤及び光アミン発生剤等を用いることができる。 【００３１】光ラジカル重合剤としては、たとえば、ベ
ンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、ベンゾイン等
のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等
のアシロインエーテル類、チオキサントン、２,４−ジ
エチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン
酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４,４'−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４'−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
類、ミヒラーケトン類、アセトフェノン、２−（４−ト
ルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α, α'−ジ
メトキシアセトキシベンゾフェノン、２,２'−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセト
フェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アント
ラキノン、１,４−ナフトキノン等のキノン類、フェナ
シルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、ト
リス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン
化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチル
パーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。 【００３２】また光ラジカル重合剤として、たとえばIR
GACURE−１８４、同２６１、同３６９、同５００、同６
５１、同９０７（チバ−ガイギー社製）、Darocur−１
１７３、同１１１６、同２９５９、同１６６４、同４０
４３（メルクジャパン社製）、KAYACURE−DETX 、同 MB
P、同 DMBI 、同 EPA、同 OA （日本化薬（株）製）、V
ICURE−１０、同５５（STAUFFER Co.LTD 製）、TRIGONA
LＰ１（AKZO Co.LTD製）、SANDORAY 1000 （SANDOZ Co.
LTD 製）、DEAP（APJOHN Co.LTD 製）、QUANTACURE−PD
O、同 ITX、同 EPD（WARD BLEKINSOP Co.LTD 製）等の
市販品を用いることもできる。 【００３３】また光カチオン重合開始剤としては、ジア
ゾニウム塩類、トリフェニルスルホニウム塩類、メタロ
セン化合物類、ジアリールヨードニウム塩類、ニトロベ
ンジルスルホナート類、α−スルホニロキシケトン類、
ジフェニルジスルホン類、イミジルスルホナート類が挙
げられる。光カチオン重合開始剤として、アデカウルト
ラセットＰＰ−３３、ＯＰＴＭＥＲ ＳＰ−１５０ 、同
１７０ （旭電化工業（株）製）（ジアゾニウム塩）、
ＯＰＴＯＭＥＲ ＳＰ−１５０、１７０（旭電化工業
（株）製）（スルホニウム塩）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２
６１（チバ−ガイギー（株）製）（メタロセン化合物）
等の市販品を用いることもできる。 【００３４】光アミン発生剤としては、ニトロベンジカ
ーバミメート類、イミノスルホナート類が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、露光条件（たとえば酸素雰囲
気下であるか、無酸素雰囲気下であるか）等によって適
宜選択され用いられる。またこれらの光重合開始剤は、
２種以上組合わせて用いることもできる。 【００３５】放射線硬化型化合物あるいは更に他の結合
剤や光重合開始剤を含む組成物は、それらを溶解する溶
媒にて塗布液とされるが、その溶媒としては、手段１）
で例示したものから適宜選定される。支持体上に上記塗
布液を塗布した後、通常、乾燥後に放射線が塗布層に照
射される。乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥いずれでもよ
い。放射線として、電子線を用いる場合、電子線量は総
量で１〜２０Ｍｒａｄが好ましく、３〜１０Ｍｒａｄが
更に好ましい。放射線として、紫外線を用いる場合、そ
の量は１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。紫外線
（ＵＶ）及び電子線（ＥＢ）照射装置、照射条件などに
ついては、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技術セ
ンター発行）や「低エネルギー電子線照射の応用技術」
（２０００、（株）シーエムシー発行）などに記載され
ている公知のものを用いることができる。平滑塗布層の
厚さは、平滑塗布層の構成成分等によるが、前記範囲が
好ましい。磁気テープの場合、平滑塗布層の表面性、物
理強度が確保されるのであれば、高容量化には薄い程好
ましい。 【００３６】尚、平滑塗布層用塗布液には、所望の表面
性を得るためにフィラーを含有させることも可能であ
る。フィラーの最大径は５０ｎｍ以下が好ましい。５０
ｎｍを超えるとドロップアウト（ＤＯ）の原因となる場
合がある。しかし、このような平滑塗布層用塗布液の組
成を変更して本発明の範囲を外れた平滑塗布層を形成す
るような塗布液を支持体の他方に塗布してバック層など
を形成してテープ状磁気記録媒体を形成してもよい。そ
の場合、更にその平滑塗布層の上に他の組成の層を形成
してもよい。 【００３７】また、平滑塗布層は磁性層用塗布液や非磁
性層用塗布液に対して安定であることが望まれる。従っ
て、平滑塗布層のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シク
ロヘキサノン混合溶液（１：１）へ溶出量は０．０〜
０．４ｍｇ／ｃｍ2であることが好ましく、０．０〜
０．２ｍｇ／ｃｍ2であることが更に好ましい。 【００３８】本発明で設けられる磁性層は、強磁性粉末
と結合剤を主体とする塗布型に好適であるが、強磁性金
属薄膜型であってもよい。後者の場合は、蒸着、スパッ
タなど公知の方法で磁性層を設けることができる。塗布
型の場合、磁性層の厚さは０．０２〜０．５μｍが好ま
しく、０．０５〜０．２μｍが更に好ましい。また、磁
性層は、平滑塗布層上に非磁性粉末と結合剤を含む非磁
性層（下層ともいう）を設けた上に設けることが好まし
い。非磁性層の厚さは０．５〜３．０μｍが好ましく、
更に０．８〜２．０μｍが好ましい。また、磁性層（上
層又は上層磁性層ともいう）と非磁性層は、非磁性層が
湿潤状態に間に磁性層を設けるウェットオンウェット
（Ｗ／Ｗ）塗布により設けることが好ましい。 【００３９】以下、本発明により製造されるものが塗布
型磁気記録媒体である場合、その構成要素毎に説明す
る。 ［磁性層］本発明の磁気記録媒体は下層と超薄層磁性層
を支持体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層
は下層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、
下層が乾燥した後、ウェットオンドライ（Ｗ／Ｄ）にで
も上層磁性層を設けることが出来る。生産得率の点から
同時、又は逐次湿潤塗布が好ましいが、デイスクの場合
は乾燥後塗布も十分使用できる。重層構成で同時、又は
逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成で
きるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に
活用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化でき
る。磁性層の抗磁力Ｈｃは１６０ｋＡ/ｍ以上であるこ
とが好ましく、強磁性金属粉末ではＢｍは０．２〜０．
５Ｔ、六方晶フェライト粉末では０．１〜０．３Ｔであ
ることが好ましい。 【００４０】［強磁性粉末］磁性層に使用する強磁性粉
末としては、特に制限されるべきものではないが、α−
Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト
粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂ
ｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特
に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが
好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むこと
がさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０原子
％以上４０原子％以下が好ましく、さらに好ましくは１
５原子％以上３５％以下、より好ましくは２０原子％以
上３５原子％以下である。Ｙの含有量は１．５原子％以
上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３原子
％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上９
原子％以下である。Ａｌは１．５原子％以上１２原子％
以下が好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原
子％以下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下で
ある。 これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、
潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらか
じめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４
４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭
４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公
昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特
公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特
公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、
特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７
号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２
１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同
３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載され
ている。 【００４１】強磁性粉末には少量の水酸化物、または酸
化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方
法により得られたものを用いることができ、下記の方法
を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ
酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄
を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−
Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分
解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリ
ウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を
添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸
発させて微粉末を得る方法などである。このようにして
得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち
有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸
漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形
成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガス
と不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成す
る方法のいずれを施したものでも用いることができる。 【００４２】磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ法による
比表面積（ＳBET）で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇが好ま
しく、更に好ましくは５０〜７０ｍ2 ／ｇである。４５
ｍ2／ｇ未満ではノイズが高くなり、８０ｍ2 ／ｇを超
えると表面性が得にくく好ましくない。磁性層の強磁性
金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åが好ましく、
更に好ましくは１００〜１８０Å、特に好ましくは１１
０〜１７５Åである。強磁性金属粉末の長軸長は０．０
１μｍ以上０．１５μｍ以下が好ましく、更に好ましく
は０．０３μｍ以上０．１５μｍ以下であり、特に好ま
しくは０．０３μｍ以上０．１２μｍ以下である。強磁
性金属粉末の針状比は３以上１５以下が好ましく、さら
には５以上１２以下が好ましい。強磁性金属粉末の飽和
磁化σsは１００〜１８０Ａ・ｍ2／ｋｇであり、好まし
くは１１０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ、更に好ましくは１
２５〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇである。強磁性金属粉末の
抗磁力は１６０〜２８０ｋＡ／ｍが好ましく、更に好ま
しくは１７６〜２４０ｋＡ／ｍである。 【００４３】強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％
とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属
粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属粉
末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化する
ことが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好まし
くは６〜１０である。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａ
ｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施
してもかまわない。その量は強磁性金属粉末に対し０．
１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤
の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性
金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒな
どの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に
無い方が好ましいが、２００ppm以下であれば特に特性
に影響を与えることは少ない。また、本発明に用いられ
る強磁性金属粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値
は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下であ
る。また形状については先に示した粒子サイズについて
の特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでも
かまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤは小さい方が
好ましく、０．８以下が好ましい。強磁性金属粉末のＨ
ｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが０．８
以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、ま
た、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、
高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小
さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイ
トの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法が
ある。 【００４４】次に六方晶フェライト粉末について述べ
る。本発明に用いられる六方晶フェライトとしてバリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライ
ト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が
ある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒
子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、
更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型
のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等
が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，
Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａ
ｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，
Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの
原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ
−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−
Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎ
ｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができ
る。原料・製法によっては特有の不純物を含有するもの
もある。 【００４５】粒子サイズは六角板径で通常、１０〜１０
０nm、好ましくは１０〜６０nmであり、特に好ましくは
１０〜５０nmである。特にトラック密度を上げるためＭ
Ｒヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、
板径は４０nm以下が好ましいが、１０nmより小さいと熱
揺らぎのため安定な磁化が望めない。１００nmを越える
とノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かな
い。板状比（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ま
しくは１〜７である。板状比が小さいと磁性層中の充填
性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。
１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが
大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表
面積は１０〜１００ｍ2 ／ｇを示す。比表面積は概ね粒
子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・
板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は粒子ＴＥ
Ｍ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較でき
る。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平
均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝
０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにす
るには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、
生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われてい
る。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する
方法等も知られている。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃ
は通常、４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈ
ｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの
能力で制限される。本発明では磁性体のＨｃは１６０〜
３２０ｋＡ／ｍ程度であるが、好ましくは１７６〜２８
０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを
越える場合は、１７６ｋＡ／ｍ以上にすることが好まし
い。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類
と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制
御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇで
ある。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さ
くなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイ
トフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含
有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。ま
たＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁
性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマー
に合った物質で処理することも行われている。表面処理
材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物
としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、
各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤
が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％で
ある。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２
程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の
化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。
磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリ
マーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選
ばれる。六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化
バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形
成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成にな
るように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次
いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフ
ェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物
を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥
・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応
法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカ
リで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以
下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得
る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。 【００４６】［非磁性層］次に支持体と磁性層の間に下
層である非磁性層を設ける時の下層に関する詳細な内容
について説明する。下層は実質的に非磁性であればその
構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくと
も樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末
あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられ
る。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末である
が、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用
され得るものである。 【００４７】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好
ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度
は通常、０．０５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５
g/mlである。非磁性粉末の含水率は通常、０．１〜５質
量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは
０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通
常、２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に
好ましい。非磁性粉末の比表面積は通常、１〜１００m2
/g 、好ましくは５〜８０m2/g 、更に好ましくは１０〜
７０m2/gである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００
４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍ
が更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用い
た吸油量は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０m
l/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比
重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、
球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は
４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ
（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍol／m2 、好ま
しくは２〜１５μｍol/m2 、さらに好ましくは３〜８μ
ｍol/m2 である。ｐＨは３〜６の間にあることが好まし
い。これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施されＡ
ｌ2 Ｏ3、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、
Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3が存在することが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2、
ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2
Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせ
て使用しても良いし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良い
し、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで
処理する方法、またはその逆の方法を採ることもでき
る。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても
構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。 【００４８】下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例
としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−
１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ
−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰ
Ｎ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ−ＳＡ
１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５
１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５
Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１００、
αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０
３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ−３
０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα
−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，Ｍ
Ｔ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ
−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−
２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、
同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエ
ロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１０
０Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられ
る。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化
鉄である。 【００４９】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。 【００５０】下層のカーボンブラックの比表面積は通
常、１００〜５００m2 ／ｇ、好ましくは１５０〜４０
０m2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００ml/100
g、好ましくは３０〜４００ml/100gである。カーボンブ
ラックの粒子径は通常、５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜
５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カ
ーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１
０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発
明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては
キャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１
３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、
ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５
０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃
３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８
５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃
４０１０、コロンビアンカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴ
ＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７００
０，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２００
０，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾ
ー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラ
ックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散して
もかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質
粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質
量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカー
ボンブラックは単独、または組合せで使用することがで
きる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば
「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）
を参考にすることができる。 【００５１】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。下層の結合剤樹脂、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に
記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂
量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。 【００５２】［結合剤］本発明に使用される結合剤とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１,０００〜２００,０００、好ましくは１０,００
０〜１００,０００、重合度が約５０〜１０００程度の
ものである。 【００５３】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の放射線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。 【００５４】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ2 、Ｎ+ Ｒ
3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、など
から選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合ま
たは付加反応で導入したものをもちいることが好まし
い。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇで
あり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。 【００５５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。 【００５６】非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非
磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範
囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリ
ウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソ
シアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わ
せて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素に
よりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまた
はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも
可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０
℃〜１００℃、更に好ましくは３０℃〜９０℃、破断伸
びが１００〜２０００％、破断応力は通常、０．０５〜
１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点
は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰ
ａ）が好ましい。 【００５７】磁気記録媒体は二層以上から構成され得
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはもちろ
ん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層
磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層で
結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすた
めには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、
ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非
磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることがで
きる。 【００５８】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。 【００５９】［カーボンブラック、研磨剤］磁性層に使
用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等
を用いることができる。比表面積は５〜５００m2／ｇ、
ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００ｇ、粒子径は
５ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、更
に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９０
０、９０５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７
２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５
０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３
００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５、ＲＡＶ
ＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥ
Ｃ、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカーボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の０．１〜３０％でもちいることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、
下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイ
ズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をも
とに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきものである。磁性層で使
用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック
便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができ
る。 【００６０】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５
〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの
範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その
粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させる
には必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２g/cc、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表
面積は１〜３０m2/g 、が好ましい。本発明に用いられ
る研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれで
も良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く
好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫ
Ｐ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５
０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ
６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノ
ルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−Ｄ
ＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社
製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロメック
スＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１０
０、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウルト
ラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられる。
これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することも
できる。非磁性層に添加することで表面形状を制御した
り、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。
これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量は
むろん最適値に設定すべきものである。 【００６１】［添加剤］磁性層と非磁性層に使用され
る、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ
素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリ
コーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニル
ホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニ
ル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。 【００６２】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。 【００６３】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２
５％の範囲で選択される。 【００６４】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。 【００６５】［層構成］磁気記録媒体の厚み構成は支持
体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍである。
コンピューターテープの支持体は、３．０〜６．５μｍ
（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好ましくは、
４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用され
る。 【００６６】平滑塗布層と非磁性層または磁性層の間に
密着性向上のための下塗層を設けてもかまわない。本下
塗層厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２
〜０．５μｍである。本発明は通常支持体両面に非磁性
層と磁性層を設けてなる両面磁性層ディスク状媒体であ
っても、片面のみに設けてもかまわない。この場合、帯
電防止やカール補正などの効果を出すために非磁性層、
磁性層側と反対側にバック層を設けてもかまわない。こ
の厚みは０．１〜４μｍ、好ましくは０．３〜２．０μ
ｍである。これらの下塗層、バック層は公知のものが使
用できる。 【００６７】媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和
磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適
化されるものである。磁性層を異なる磁気特性を有する
２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関
する構成が適用できる。 【００６８】下層は実質的に非磁性であればその効果を
発揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意
図的に少量の磁性体を含んでもよい。実質的に非磁性と
は下層の残留磁束密度が０．１Ｔ以下または抗磁力が８
ｋＡ／ｍ以下であることを示し、好ましくは残留磁束密
度と抗磁力をもたないことを示す。 【００６９】［バック層］一般に、コンピュータデータ
記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテー
プに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。この
ような高い走行耐久性を維持させるために、バック層に
は、カーボンブラックと無機粉末が含有されていること
が好ましい。 【００７０】カーボンブラックは、平均粒子サイズの異
なる二種類のものを組み合わせて使用することが好まし
い。この場合、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒
子状カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３０
０ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用
することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状の
カーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵
抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁
気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動
作の信号に使用しているものが多くあるため、このよう
な場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有
効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体
潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減
化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍ
の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機
能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成
し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与す
る。 【００７１】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥ
Ｎ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１
７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８０
０（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ
９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、
ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５
（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６
ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。 【００７２】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カ
ーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）
（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。 【００７３】バック層において、平均粒子サイズの異な
る二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒
子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状
カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者
＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、
更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。 【００７４】バック層中のカーボンブラック（二種類の
ものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合
剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲
であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。 【００７５】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子サイズは、３０〜５０
ｎｍの範囲にあることが好ましい。 【００７６】モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末と
しては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪
酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、
単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。 【００７７】バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カ
ーボンブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量
部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、３５
〜１００質量部である。 【００７８】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無
機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープ
ガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質
無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対し
ての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も
図ることができる。 【００７９】硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８
０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎ
ｍ）の範囲にあることが好ましい。 【００８０】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）を挙げることができる。これらの粉
末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用し
ても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミ
ナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラ
ック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、
好ましくは、３〜２０質量部である。 【００８１】バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉
末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との
硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特
に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末
とを選択して使用することが好ましい。 【００８２】バック層には、前記それぞれ特定の平均粒
子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末
と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラ
ックとが含有されていることが好ましい。 【００８３】バック層には、潤滑剤を含有させることが
できる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層
に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選
択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合
剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加
される。 【００８４】［支持体］本発明において、平滑塗布層が
設けられる支持体は、特に制限されるべきものではない
が、実質的に非磁性で可撓性のものが好ましい。本発明
に用いられる可撓性支持体としてはポリエチレンテレフ
タレ−ト、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステ
ル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、
ポリカ−ボネ−ト、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポ
リスルフォン、芳香族ポリアミド又は脂肪族ポリアミ
ド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルムが使
用できる。ポリエチレンナフタレ−ト、ポリアミドなど
の高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に応
じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３
−２２４１２７に示されるような積層タイプの支持体を
用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコ
ロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除
塵処理、などをおこなっても良い。また支持体としてア
ルミまたはガラス基板を適用することも可能である。 【００８５】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表
面粗さＲａは８．０nm程度以下のものが好ましい。本発
明は平滑塗布層によりＲａを低く設定できるので、比較
的Ｒａの大きなものでも十分対処でき、コスト的に有利
である。これらの支持体は、０．５μｍ以上の粗大突起
がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応
じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自
由にコントロールされるものである。これらのフィラー
としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や
炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末があげられる。
支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さ
Ｒｚは０．５μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．５μｍ
以下、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積
率Ｓｒは１０％以上、９０％以下、平均波長λａは５μ
ｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特
性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布を
フィラーにより任意にコントロールできるものであり、
０．０１〜１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ2あ
たり０〜２０００個の範囲でコントロールすることがで
きる。本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好ましく
は５〜５０Ｋｇ／ｍｍ2（≒４９〜４９０ＭＰａ）、ま
た、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは
３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０
分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍ
ｍ2（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０
００Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）が好
ましい。温度膨張係数は１０-4〜１０-8／℃であり、好
ましくは１０-5〜１０-6／℃である。湿度膨張係数は１
０-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以
下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は
支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しい
ことが好ましい。 【００８６】［製法］磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非
磁性粉体、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防
止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初
または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料
を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例
えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘
度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本
発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術
を一部の工程として用いることができる。混練工程では
オープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストル
ーダなど強い混練力をもつものを使用することが好まし
い。ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉体と結
合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％
以上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５
００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳
細については特開平１−１０６３３８、特開平１−７９
２７４に記載されている。また、磁性層液および非磁性
層液を分散させるにはガラスビーズを用いることができ
るが、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、
チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら
分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。
分散機は公知のものを使用することができる。 【００８７】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。 【００８８】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の
場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂
直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。
六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向
の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダム
とすることも可能である。また異極対向磁石など公知の
方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な
磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行
う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用
い円周配向をしてもよい。 【００８９】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１
０００m/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、ま
た磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なうことも
できる。 【００９０】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００ｋｇ／ｃｍ（≒１９６ｋＮ／ｍ）以上、さら
に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（≒２９４ｋＮ／ｍ）以
上である。 【００９１】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属微粉末を用いた場合
０．２〜０．５Ｔ、六方晶フェライトをもちいた場合は
０．１〜０．３Ｔである。抗磁力Ｈｃは通常、１２０〜
４００ｋＡ／ｍであるが、好ましくは１３６〜２４０ｋ
Ａ／ｍである。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦ
Ｄ（スイッチング・フィールド・ディストリビューショ
ン）およびＳＦＤｒは０．６以下が好ましい。 【００９２】磁気ディスクの場合、角形比は２次元ラン
ダムの場合、通常、０．５５〜０．６７で、好ましくは
０．５８〜０．６４、３次元ランダムの場合は０．４５
〜０．５５が好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に通
常、０．６以上、好ましくは０．７以上、反磁界補正を
行った場合は通常、０．７以上、好ましくは０．８以上
である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比
は０．８以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂直
方向の角形比、垂直方向のＢｒおよび垂直方向のＨｃは
面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好まし
い。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好ましく
は０．８以上である。 【００９３】磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は
温度−１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲において通
常０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は
好ましくは磁性面１０4〜１０12オ−ム／ｓｑ、帯電位
は−５００Ｖ〜＋５００Ｖが好ましい。磁性層の０．５
％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜２
０００Ｋｇ／ｍｍ2（≒９８０〜１９６００Ｎ／ｍ
ｍ2）、破断強度は好ましくは１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ
2（≒９８〜６８６Ｎ／ｍｍ2）、磁気記録媒体の弾性率
は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ
2（≒９８０〜１４７００Ｎ／ｍｍ2）、残留のびは好ま
しくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．
５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁
性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾
性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以
下が好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好まし
い。損失弾性率は１×１０3〜８×１０4Ｎ／ｃｍ2の範
囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下である
ことが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発
生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各
方向で１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層
中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以
下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下である。塗布
層が有する空隙率は下層、上層とも好ましくは３０容量
％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙
率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目
的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例
えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙
率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。 【００９４】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＣ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μ
ｍの面積での測定で好ましくは４．０nm以下、更に好ま
しくは３．８nm以下、特にに好ましくは３．５nm以下で
ある。磁性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十
点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは
０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、
中心面面積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長
λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層
の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを０〜２
０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、こ
れにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好
ましい。これらは支持体のフィラ−による表面性のコン
トロールや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ
ー処理のロール表面形状などで容易にコントロールする
ことができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ま
しい。 【００９５】磁気記録媒体で非磁性層と磁性層を有する
場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性
を変えることができるのは容易に推定されることであ
る。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上
させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして
磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。 【００９６】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。 磁気テープの作成 比較例１ ＜塗料の作成＞ 磁性層塗料 強磁性金属粉末 １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ＝２１原子％、Ａｌ／Ｆｅ＝７原子％、Ｙ／Ｆｅ＝５原子％ 平均長軸長：０．０６μｍ、平均針状比：６ Ｈｃ：２３１０Ｏｅ（１８５ｋＡ／ｍ）、σｓ：１３７Ａ・ｍ2／ｋｇ 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ２部 カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ２０部 トルエン ６０部 【００９７】 非磁性塗料 非磁性粉末 ＴｉＯ2 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径：０．０３５μｍ、ＳBET：４０ｍ2／ｇ、ｐＨ：７、ＴｉＯ2含有 量９０％以上、ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇ、表面にＡｌ2Ｏ3が粒子 全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック ２０部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００９８】上記の塗料について、各成分をニ−ダで混
練したのち、サンドミルをもちいて４時間分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布
液には２．５部、磁性層の塗布液には３部を加え、さら
にそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え，１μｍの
平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層
形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製し
た。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の下層の厚さが
１．７μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．１５μｍになるように、厚さ４．４μｍ
で中心面平均表面粗さが７．０ｎｍのアラミド支持体
（商品名：ミクトロン）上に同時重層塗布をおこない、
両層がまだ湿潤状態にあるうちに０．６Ｔの磁力を持つ
コバルト磁石と０．６Ｔの磁力を持つソレノイドにより
配向させた。乾燥後、金属ロ−ルのみから構成される７
段のカレンダ−で温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉ
ｎ．で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層
（カ−ボンブラック 平均粒子サイズ：１７ｎｍ １０
０部、炭酸カルシウム 平均粒子サイズ：４０ｎｍ ８
０部、αアルミナ 平均粒子サイズ：２００ｎｍ ５部
をニトロセルロ−ス樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソ
シアネ−トに分散）を塗布した。３．８ｍｍの幅にスリ
ットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った
装置に不織布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し当たる
ように取り付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性層の表
面のクリ−ニングを行い、テープ試料を得た。 【００９９】比較例２ 比較例１において、アラミド支持体の一方の面に平滑塗
布層用塗布液（Ｐ１：表１記載）を厚みが０．０５μｍ
となるように塗布、乾燥した後、巻き取ることなく平滑
塗布層上に比較例１と同様に非磁性層および磁性層を形
成した他は比較例１と同様にしてテープ試料を得た。 【０１００】実施例１〜３、比較例３ 比較例２において、平滑塗布層の厚みを表２に記載のも
のに変更した以外は、比較例２と同様にしてテープ試料
を得た。 【０１０１】比較例４ 実施例２において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例２と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０２】実施例４ 実施例２において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ２：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５Ｍｒａｄの電
子線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実施例２
と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０３】比較例５ 実施例４において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例５と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０４】実施例５ 実施例２において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ３：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５０ｍＪ／ｃｍ
2の紫外線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実
施例２と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０５】比較例６ 実施例６において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例６と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０６】 【表１】 【０１０７】表１中、素材は以下の通りである。 素材Ａ：水溶性ポリアミド樹脂（東レ（株）製「水溶性
ナイロンＡ−９０」、数平均分子量：６６０００） 素材Ｂ：エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジ
アクリレート（共栄社化学（株）製「ＢＰ−４ＥＡ」） 素材Ｃ：素材Ｂ ９５質量部とベンジルジメチルケター
ル（チバスペシャリティー社製「イルガキュア６５
１」）５質量部の混合物 【０１０８】比較例７ 比較例１において磁性塗料を以下のものに変更した以外
は、比較例１と同様にしてテープ試料を得た。尚、非磁
性層用塗布液は比較例１と同じである。 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 組成：Ｂａ／Ｚｎ／Ｃｏ／Ｎｂ＝１／１．０／０．５／０．４（モル比） 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナＨＩＴ５５（住友化学社製） ２部 カ−ボンブラック ５部 ＃５５（旭カーボン社製） ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【０１０９】比較例８ 比較例７において、アラミド支持体の一方の面に平滑塗
布層用塗布液（Ｐ１：表１記載）を厚みが０．０５μｍ
となるように塗布、乾燥した後、巻き取ることなく平滑
塗布層上に比較例１と同様に非磁性層および磁性層を形
成した他は比較例７と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１０】実施例７〜９、比較例９ 比較例８において、平滑塗布層の厚みを表２に記載のも
のに変更した以外は、、比較例８と同様にしてテープ試
料を得た。 【０１１１】比較例１０ 実施例８において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例２と同様にしてテープ試料を得た。 実施例１０ 実施例８において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ２：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５Ｍｒａｄの電
子線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実施例８
と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１２】比較例１０ 実施例１１において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取っ
たものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外
は、実施例１０と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１３】実施例１１ 実施例８において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ３：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５０ｍＪ／ｃｍ
2の紫外線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実
施例８と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１４】比較例１２ 実施例１２において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取っ
たものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外
は、実施例１２と同様にしてテープ試料を得た。 比較例１３ 比較例１において、非磁性層を設けなかった他は比較例
１と同様にしてテープ試料を得た。 実施例１３ 実施例２において、非磁性層を設けなかった他は実施例
２と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１５】比較例１４ 比較例１において、非磁性層及び磁性層をウェットオン
ドライ（Ｗ／Ｄ）法により設けた他は比較例１と同様に
してテープ試料を得た。 【０１１６】実施例１４ 実施例２において、非磁性層及び磁性層をウェットオン
ドライ（Ｗ／Ｄ）法により設けた他は実施例２と同様に
してテープ試料を得た。 【０１１７】 ディスクの作成 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 組成：Ｂａ／Ｚｎ／Ｃｏ／Ｎｂ＝１／０．７／０．１／０．３（モル比） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【０１１８】 非磁性塗料 非磁性粉末 ＴｉＯ2 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径：０．０３５μｍ、ＳBET：４０ｍ2／ｇ、ｐＨ：７、ＴｉＯ2含有 量９０％以上、ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇ、表面にＡｌ2Ｏ3が粒子 全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック ２０部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【０１１９】上記の塗料のそれぞれについて、各成分を
ニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて４時間分
散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁
性層の塗布液には１０部、磁性層の塗布液には１０部を
加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加
え，１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれ
ぞれ調製した。比較例１５得られた磁性層塗布液を、乾
燥後の厚さが０．２μｍになるように、厚さ６２μｍで
中心面平均表面粗さが７．０ｎｍのポリエチレンテレフ
タレ−ト支持体上に塗布をおこない、湿潤状態にあるう
ちに周波数５０Ｈｚ、磁場強度２５ｍＴまた周波数５０
Ｈｚ、１２ｍＴの２つの磁場強度交流磁場発生装置の中
を通過させてランダム配向処理をおこない、乾燥後７段
のカレンダで温度９０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９
４ｋＮ／ｍ）にて処理を行い、３．７吋に打ち抜き表面
研磨処理施してディスク媒体を得た。 【０１２０】実施例１５ 比較例１５において、支持体の一方の面に平滑塗布層用
塗布液（Ｐ１：表１記載）を厚みが０．３μｍとなるよ
うに塗布、乾燥した後、巻き取ることなく形成した平滑
塗布層上に比較例１５と同様に磁性層を形成した他は比
較例１５と同様にしてディスク試料を得た。 比較例１６ 得られた非磁性層塗布液を厚さ６２μｍで中心面平均表
面粗さが７．０ｎｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持
体上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるよう塗布、乾燥
し、得られた非磁性層上に磁性層の厚さが０．１５μｍ
になるように、磁性層塗布液を用いて塗布をおこない、
磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに比較例１５と同様に
ランダム配向処理をおこない、更に比較例１５と同様に
してディスク試料を得た。 実施例１６ 比較例１６において、支持体の一方の面に実施例１５と
同様に平滑塗布層を塗布、乾燥した後、巻き取ることな
く形成した平滑塗布層上に比較例１６と同様に非磁性層
及び磁性層を形成した他は比較例１６と同様にしてディ
スク試料を得た。 比較例１７ 得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μｍ
になるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが
０．１５μｍになるように、磁性層塗布液を用いて厚さ
６２μｍで中心面平均表面粗さが７．０ｎｍのポリエチ
レンテレフタレ−ト支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに比較例１５と同様
にランダム配向処理をおこない、更に比較例１５と同様
にしてディスク媒体を得た。 実施例１７ 比較例１７において、支持体の一方の面に実施例１５と
同様に平滑塗布層を塗布、乾燥した後、巻き取ることな
く形成した平滑塗布層上に比較例１７と同様に非磁性層
及び磁性層を形成した他は比較例１７と同様にしてディ
スク試料を得た。 【０１２１】上記作成したコンピューターテープ及び磁
気ディスクの各々の性能を下記の測定法により評価し
た。 測定法 （１）ＣＮ比（テープ）：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャッ
プ０．１５μｍ、１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをドラ
ムテスターに取り付けて測定した。ヘッド−メディア相
対速度１〜３ｍ／ｍｉｎ、ノイズは変調ノイズを測定。
尚、面記録密度は、０．５７Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2（ト
ラックピッチ：６．８μｍ、ビット長：０．１６５μ
ｍ）とした。 （２）ＳＮ比（ディスク）：記録ヘッド［ＭＩＧ（Ｍｅ
ｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ）］ 、ギャップ０．１５μｍ、
１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをスピンスタンドに取り
付けて測定した。回転数２５００〜３５００ｒｐｍ、半
径３０ｍｍ、ノイズはＤＣノイズ。尚、面記録密度は、
１Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2（トラックピッチ：１μｍ、ビ
ット長：０．０３μｍ）とした。 （３）平滑塗布層のＰＮ（２０ｎｍ以上）はデジタルイ
ンスツルメンツ社のナノスコープ３（ＡＦＭ：原子間力
顕微鏡）を用いて稜角７０°の四角錘のＳｉＮの探針を
使って、３０μｍ平方角（９００μｍ2）の中の、突起
を測定した。 （４）平滑塗布層の溶出量：メチルエチルケトン（ＭＥ
Ｋ）／シクロヘキサノン混合溶液（１：１）への溶出量
を求めた。 【０１２２】表２〜４に磁気テープ評価結果を、表５に
磁気ディスクの評価結果を示した。 【０１２３】 【表２】 【０１２４】 【表３】【０１２５】 【表４】 【０１２６】 【表５】 表２〜５より、平滑塗布層の要件あるいは磁気記録媒体
の製造要件を満たさない比較例は、実施例に比べてＣＮ
比またはＳＮ比が劣る。 【０１２７】 【発明の効果】本発明は磁気記録媒体の支持体に平滑塗
布層を設け、巻き取ることなく磁性層を設けることによ
り、磁性層表面性が改善され、ひいてはＣＮ比またはＳ
Ｎ比が改善された低コストの高密度磁気記録媒体を提供
することができる。
方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフレキシブルディ
スクがパーソナルコンピュータに標準搭載されようにな
った。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日
において、その容量は十分とは言えなくなり、フレキシ
ブルディスクの大容量化が望まれていた。 【０００３】また磁気テープの分野においても近年、ミ
ニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワーク
ステーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴
って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録
するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）
の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テ
ープの実用化に際しては、とくにコンピューターの小型
化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、
小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求さ
れる。 【０００４】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ2 、強磁性金属粉末（ＭＰ）、六方晶系
フェライト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支
持体に塗設したものが広く用いられる。この中でも強磁
性金属微粉末と六方晶系フェライト微粉末は高密度記録
特性に優れていることが知られている。デイスクの場
合、高密度記録特性に優れる強磁性金属微粉末を用いた
大容量ディスクとしては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１
ＭＢのＭＦ−２ＳＤまたは六方晶フェライトを用いた大
容量ディスクとしては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢ
フロプティカルなどがあるが、容量、性能的に十分とは
言えなかった。このような状況に対し、高密度記録特性
を向上させる試みが多くなされている。例えば、ＬＳ―
１２０やＺＩＰなどの１００Ｍ〜１２０Ｍ等の高容量で
高密度の記録が実現され、さらに面記録密度で０．２Ｇ
bit ／inch2 以上もの高密度記録が要求されつつある。
また、アクセス時間を短くすると言う要請からディスク
の回転数もより高速になる傾向がある。 【０００５】このような高密度で高回転または高転送の
磁気記録媒体にあっては、安定な記録再生を維持するた
めには従来の媒体よりもさらに高度な走行性及び耐久性
が要求される。以下、塗布型磁気記録媒体において記録
密度と走行耐久性とを主に改善するために提案された先
行技術について述べる。 【０００６】例えば、特開平６−５２５４１号公報に
は、磁性層表面の研磨剤の平均突起高さを１５ｎｍ以下
とした磁気テープを開示し、ヘッド磨耗、ヘッド汚れを
改善し、電磁変換特性と耐久性とを両立させる旨の記載
がある。特開平６−１２６５１号公報は、磁性層のＲａ
が１５ｎｍ以下で、３０ｎｍ以上の突起が１２５，００
０〜２５０，０００ケ／ｍｍ2 分布する磁性層であっ
て、磁性層中の潤滑剤量を示した磁気ディスクを開示し
ている。 【０００７】特開平６−３０９６５０号公報には、潤滑
剤を磁性粉100 質量部に対し8 〜30質量部含有し、磁性
層の最も高い突起から20nm低い面よりも高い突起の数が
400〜2,500ケ/mm2とした磁気記録媒、すなわち、磁性層
中の潤滑剤量と磁性層面の特定の高さの突起の存在密度
を特定することにより、走行安定性を確保しようとする
磁気記録媒体、特に磁気ディスクを開示している。 【０００８】ところで、従来、電磁誘導を動作原理とす
る磁気ヘッド（誘導型磁気ヘッド）が用いられ普及して
いる。だが更に高密度記録再生領域で使用するには限界
が見え始めている。すなわち、大きな再生出力を得るた
めには再生ヘッドのコイル巻数を多くする必要があるが
インダクタンスが増加し高周波での抵抗が増加し結果と
して再生出力が低下する問題があった。 【０００９】近年ＭＲ（磁気抵抗）を動作原理とする再
生ヘッドが提案され、ハードディスク等で使用され始
め、また、特開平８−２２７５１７号公報には磁気テー
プへの応用が提案されている。ＭＲヘッドは誘導型磁気
ヘッドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘導コ
イルを用いないため、インピーダンスノイズ等の機器ノ
イズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げるこ
とで大きなＳＮ比を得ることが可能になってきた。換言
すれば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズ
を小さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録特性
が飛躍的に向上できることになる。 【００１０】ところがＭＲヘッドは微小な熱の影響を受
けてノイズ（サーマルノイズ）を発生するという問題が
あり、特に、磁性層表面にある突起に当たるとその影響
で突発的に且つ持続してノイズが増大するという問題が
あり、ディジタル記録の場合エラー補正が不可能なほど
の問題を起こすことがある。このサーマルノイズの問題
は、記録密度が０．５Ｇbit/inch2 以上の記録信号を再
生するシステムに供される磁気記録媒体において深刻と
なる。このようなサーマルノイズを低減するには、磁性
層の表面性を制御することが重要であり、そのための手
段として支持体の表面性を制御することが行われてきて
いる。例えば、特許第２９３８５４８号公報及び同第２
９３８５４９号公報には、支持体上にポリウレタン被覆
層を設けたものが、特公平５−５７６４７号公報には、
支持体上に放射線照射により重合する化合物からなる層
を設けたものを提案している。しかし、前者の先行技術
は、製造される支持体が高価であり、かつ平滑性が不十
分である。更に、前者および後者の先行技術とも平滑化
された支持体を一旦ロール状に巻き取り、その巻き取っ
たロールを別に設けられた磁性層等の機能層を設ける塗
布あるいは蒸着等の工程で再び送り出すことが想定され
ている。しかし、平滑化された支持体はハンドリングが
困難で特に巻き取る際にはしわが発生し易く、生産性、
歩留まりが著しく低下するという問題があった。 【００１１】 【発明が解決しようとする課題】本発明はＭＲヘッドを
組み合わせた記録再生システムにおいても電磁変換特性
が良好で特に高密度記録領域でのＣ／ＮまたはＳ／Ｎが
格段に改良された、生産性に優れ、低価格な磁気記録媒
体を製造することができる方法を提供することを目的と
する。 【００１２】 【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に磁
性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法におい
て、該支持体の少なくとも片方の面上に厚さが０．１０
〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ以下かつ原子間力顕微鏡
（ＡＦＭ）により測定された２０ｎｍ以上の高さの突起
が２０個／９００μｍ2 以下である平滑塗布層を設け、
巻き取ることなく当該平滑塗布層上に少なくとも磁性層
を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法で
ある。本発明の好ましい態様は以下の通りである。 （１）前記平滑塗布層は高分子溶液を塗布乾燥させて形
成されたものであることを特徴とする前記磁気記録媒体
の製造方法。 （２）前記平滑塗布層は、分子中に放射線硬化官能基を
有する化合物を含有した塗布液を塗布した後、放射線照
射し硬化して形成されたものであることを特徴とする前
記磁気記録媒体の製造方法。 （３）前記平滑塗布層は、分子中に紫外線硬化官能基を
有する化合物を含有した塗布液を塗布した後、紫外線照
射し硬化して形成されたものであることを特徴とする前
記磁気記録媒体の製造方法。 （４）前記磁性層の厚さが２０〜５００ｎｍであること
を特徴とする前記磁気記録媒体の製造方法。 （５）前記磁性層と平滑塗布層との間に非磁性粉末と結
合剤を含む厚さ０．５〜３．０μｍの非磁性層を設けた
ことを特徴とする前記磁気記録媒体の製造方法。 （６）前記非磁性層と磁性層がウェットオンウェット塗
布により設けられたことを特徴とする前記磁気記録媒体
の製造方法。 【００１３】 【発明の実施の態様】本発明は、支持体の少なくとも片
方の面上に厚さが０．１０〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ
以下かつ原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定された２
０ｎｍ以上の高さの突起（以下、「ＰＮ（２０ｎｍ以
上）」とも記す）が２０個／９００μｍ 2 以下である平
滑塗布層を設け、巻き取ることなく当該平滑塗布層上に
少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。平滑塗布層が設けられる支持体
は通常はロール状であり、これを引き出しながら支持体
上に平滑塗布層を設け、巻き取ることなく平滑塗布層が
乾燥した後に少なくとも磁性層が平滑塗布層上に設けら
れ、次いで所定の形状、サイズに裁断される。従って、
平滑塗布層を上記のように高度に平滑化してもしわ等の
不具合が回避できるため表面性の優れた磁性層を形成す
ることができ、ひいてはＣ／ＮまたはＳ／Ｎを改善する
ことができる。平滑塗布層は支持体の両面に設けられて
も片面のみに設けられても良い。例えば、ディスク状磁
気記録媒体の場合は、通常、両面に平滑塗布層が設けら
れ、テープ状磁気記録媒体の場合は、通常、片面に設け
られるが、特に限定されない。平滑塗布層の厚さは、
０．２〜０．７μｍが更に好ましい。平滑塗布層の厚さ
が上記範囲を外れると平滑塗布層の表面粗さ及びＰＮ
（２０ｎｍ以上）を本発明の範囲に調整することが困難
となる傾向があり、また、同厚さが１μｍを超えるとテ
ープ状磁気記録媒体の高容量化にとって不利となる。平
滑塗布層の表面粗さは、ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで
２５０μｍ角を測定した中心面平均表面粗さＲａで示
す。Ｒａは０．５〜４．０ｎｍが更に好ましく、１．０
〜３．０ｎｍが特に好ましい。平滑塗布層に存在する突
起の高さとは、原子間力顕微鏡にて求められる中心面
（平面と粗さ曲面で囲まれた体積が平面に対し上下で等
しくかつ最小になる平面）を基準面とした高さと定義す
る。従って、ＰＮ（２０ｎｍ以上）とは、この基準面以
上の高さが２０ｎｍ以上である突起の３０μｍ角当りの
総数で突起密度を示す。ＰＮ（２０ｎｍ以上）は１０個
／９００μｍ2 以下が更に好ましい。平滑塗布層のＲａ
及びＰＮ（２０ｎｍ以上）は小さいければ小さい程好ま
しく、各々の少なくとも一方が上記範囲を超えるとＣ／
Ｎ又はＳ／Ｎが改善されない。 【００１４】上記のような平滑塗布層を支持体上に形成
する手段としては、特に制限はないが、以下の手段が好
ましい。 １）支持体上に高分子溶液を塗布乾燥させて平滑塗布層
を形成する手段。 ２）支持体上に分子中に放射線硬化官能基を有する化合
物を含有した塗布液を塗布した後、放射線照射し硬化し
て平滑塗布層を形成する手段。 まず手段１）について説明する。用いられる高分子溶液
としては、粘度は５０ｃｐ以下が好ましく、さらには３
０ｃｐ以下が好ましい。また、塗布液の表面張力は２２
ｍＮ／ｍ以上が好ましく、２４ｍＮ／ｍ以下が更に好ま
しい。高分子としては、数平均分子量は１００００〜１
０００００が好ましい。また、平滑塗布層上に塗布層を
設けて磁気記録媒体を形成する場合には、該塗布層用溶
媒に不溶性乃至難溶性の高分子が好ましく、特に水溶性
高分子が好ましい。また、高分子のガラス転移温度（Ｔ
ｇ）は０℃〜１２０℃が好ましく、さらに好ましくは１
０℃〜８０℃が好ましい。０℃未満では端面でのブロッ
キングが生じる場合があり、１２０℃を超えると平滑塗
布層内の内部応力が緩和されず結果として密着力が確保
できない場合がある。 【００１５】用いる高分子としては、特に制限はない
が、上記条件を満足するものが好ましく、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリウレタン、アク
リル系樹脂等が挙げられる。ポリアミドとしては、ジア
ミンとジカルボン酸の重縮合化合物、ラクタム類の開環
重合化合物、ジアミンとジカルボン酸との１／１（モル
比）の塩とカプロラクタム等のラクタム類との共重合物
等が挙げられる。 【００１６】ジアミンとしては、ヒドラジン、メチレン
ジアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、
テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オク
タメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチ
レンジアミン、ジアミノシクロヘキサン、ジ（アミノメ
チル）シクロヘキサン、ビス−（４−アミノシクロヘキ
シル）メタン、ビス−（４−アミノ−３，５−メチルシ
クロヘキシル）メタン、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−
フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，
４'−ジアミノビフェニル、トリレンジアミン、キシレ
ンジアミン、ナフチレンジアミン、ビス（アミノメチ
ル）ピペラジン、ビス（アミノエチル）ピペラジン、ビ
ス（アミノプロピル）ピペラジン、１−（２−アミノメ
チル）ピペラジン、１−（２−アミノエチル）ピペラジ
ン、１−（２−アミノプロピル）ピペラジン等が使用で
きる。 【００１７】ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン
酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、ピメリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカル
ボン酸、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、ナフタレンジカルボン酸等及びそれらの酸無水物を
使用することができる。ラクタム類としては、α−ピロ
リドン、α−ピペリドン、γ−ブチロラクタム、δ−バ
レロラクタム、ε−カプロラクタム、ω−カプリルラク
タム、ω−ラウロラクタム等が使用される。 【００１８】また、ポリアミドとしては、アミノ酸重合
体が挙げられる。アミノ酸重合体は、人口合成物でも天
然高分子、例えば、コラーゲン等の蛋白質でもよい。更
に、ポリアミドとしては、プラスチック材料講座（１
６）「ポリアミド樹脂」（福本修編、日刊工業新聞社発
行）；「合成高分子Ｖ」（朝倉書店発行、村橋、井本、
谷編集）；米国特許２１３０４９７号；同２１３０５２
３号；同２１４９２７３号；同２１５８０６４号；同２
２２３４０３号；同２２４９６２７号；同２５３４３４
７号；２５４０３５２号；２７１５６２０号；同２７５
６２２１号；同２９３９８６２号；同２９９４６９３
号：同３０１２９９４号；同３１３３９５６号；同３１
８８２２８号；同３１９３４７５号；同３１９３４８３
号；同３１９７４４３号；同３２２６３６２号；同３２
４２１３４号；同３２４７１６７号；同３２９９００９
号；同３３２８３５２号；同３３５４１２３号等に記載
されているものや、特開平１１−２８３２４１号公報に
記載されている３級アミノ基を有するポリアミド等から
も適宜選定して用いられ得る。 【００１９】ポリアミドイミドとしては、末端にアミノ
基を有する低分子量のポリアミドと酸ジ無水物やそのエ
ステルとの反応による方法、末端にアミノ基を有する低
分子量のポリアミド酸と二塩基酸クロリドとの反応によ
る方法、トリメリット酸誘導体とジアミンと反応による
方法等によって得られる。 【００２０】ポリアミド成分としては、上記ポリアミド
で記載したジアミン及びジカルボン酸あるいはアミノ酸
から形成されるものが挙げられる。トリメリット酸誘導
体等との反応で用いるジアミンとしては、上記のジアミ
ンが挙げられる。酸ジ無水物やそのエステルとしては、
ピロメリット酸−１，４−ジメチルエステル、ピロメリ
ット酸テトラメチルエステル、ピロメリット酸エチルエ
ステル、２，３，６，７−ナフタリンテトラカルボン酸
ジ無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボ
ン酸ジ無水物、１，２，５，６−ナフタリンテトラカル
ボン酸ジ無水物、２，２'，３，３'−ビフェニルテトラ
カルボン酸ジ無水物、２，２'，６，６'−ビフェニルテ
トラカルボン酸ジ無水物等が挙げられる。末端にアミノ
基を有する低分子量のポリアミド酸は、上記ジアミと酸
ジ無水物やそのエステルと反応させることにより形成で
きる。二塩基酸クロリドとしては、上記ジカルボン酸の
クロリドが挙げられる。用いられるポリアミドイミドと
しては、「ポリアミド樹脂ハンドブック」（日刊工業新
聞社発行）等に記載されているものから適宜選定され得
る。 【００２１】ポリエステルとしては、ジカルボン酸とグ
リコールから合成されるものが挙げられる。ジカルボン
酸としては、芳香族、脂肪族、脂環族のものなどが挙げ
られ、具体的には上記と同様のものが挙げられるが、芳
香族のものが好ましい。グリコール成分としては、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、プロピレング
リコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、
ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘ
キサンジメタノール、ビスフェノールＡなどの脂肪族、
脂環族、芳香族グリコール等が挙げられる。 【００２２】ポリウレタンとしては、ポリオール、ジイ
ソシアネート、鎖延長剤等から公知の方法で製造される
ものが挙げられる。ポリオールとしては、ポリエステル
ポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネー
トポリオール等が用いられる。ポリエステルポリオール
のポリエステル成分としては、上記ポリエステルのジオ
ールが挙げられる。ジイソシアネートとしては、磁性層
に用いる結合剤のところで記載されるものが挙げられ
る。鎖延長剤としては、多価アルコール、ポリアミン
（例えば、上記ジアミン等）等が用いられる。 【００２３】上記した平滑塗布層形成に用いる高分子
は、必要により−ＣＯＯＭ，−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ
3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、
（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属、アン
モニウムを示す）、ＯＨ、ＮＲ2 、Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものを用いることが好ましい。このような極
性基の量は０．１〜３ｍｅｑ／ｇから適宜選定されるこ
とが好ましい。 【００２４】尚、平滑塗布層用塗布液の溶媒としては、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルア
ルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキ
サノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭
化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ヘキサン等、及び水等が使用でき
る。これら溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成
分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。これら溶媒の中でも、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等のアルコール、
水、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、酢酸ブチ
ル等の単独または組み合わせが好ましい。 【００２５】次に手段２）、即ち、分子中に放射線硬化
官能基を有する化合物を含有した塗布液を用いて平滑塗
布層を形成する手段について説明する。用いられる分子
中に放射線硬化官能基を有する化合物(以下、「放射線
硬化型化合物」とも言う)は、放射線、例えば、電子
線、紫外線などによるエネルギーが与えられると重合乃
至架橋して高分子化して硬化する性質を有する化合物を
言う。そして、放射線硬化型化合物は、それらのエネル
ギーを与えない限り反応が進まない。そのため放射線硬
化型化合物を含む塗布液は、放射線を照射しない限り粘
度が安定しており、高い塗膜平滑性を得ることができ
る。また、放射線による高いエネルギーにより瞬時に反
応が進むため、高い塗膜強度を得ることができる。上記
放射線硬化型化合物の分子量は、２００〜２０００の範
囲であることが好ましい。分子量が上記範囲であると、
比較的低分子量であるので、カレンダー工程において塗
膜が流動し易く成形性が高く、平滑な塗膜を実現するこ
とができる。 【００２６】２官能以上の放射線硬化型化合物として
は、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタク
リル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等を挙げるこ
とができる。２官能の放射線硬化型化合物の具体例とし
ては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレ
ート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリ
コールジメタクリレート等に代表される脂肪族ジオール
にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いる
ことができる。また、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等
のポリエーテルポリオールに、アクリル酸、メタクリル
酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテル
メタクリレートや公知のニ塩基酸、グリコールから得ら
れたポリエステルポリオールに、アクリル酸、メタクリ
ル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエス
テルメタクリレートも用いることができる。公知のポリ
オール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポ
リウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポ
リウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレート
を用いてもよい。ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦ
やこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、
メタクリル酸を付加させたものや、イソシアヌル酸アル
キレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸
アルキレンオキサイド変性ジメタクリレート、トリシク
ロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカ
ンジメタノールジメタクリレート等の環状構造を有する
ものも用いることができる。 【００２７】３官能の放射線硬化型化合物の具体例とし
ては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパンのアルキレンオキサイド変成トリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸アルキレ
ンオキサイド変成トリアクリレート、プロピオン酸ジペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ヒドロキシピバ
ルアルデヒド変成ジメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパンのアルキレンオキサイド変成トリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、イソ
シアヌル酸アルキレンオキサイド変成トリメタクリレー
ト、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ヒドロキシピバルアルデヒド変成ジメチロール
プロパントリメタクリレート等を用いることができる。 【００２８】４官能以上の放射線硬化型化合物の具体例
としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸ジ
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、フォスファゼンのア
ルキレンオキサイド変成ヘキサアクリレート等を用いる
ことができる。 【００２９】中でも、具体例として好ましいものは、分
子量２００〜２０００の２官能のアクリレート化合物で
あり、更に好ましいものはビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノ
ールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリ
ル酸、メタクリル酸を付加させたものである。 【００３０】本発明に使用される放射線硬化型化合物
は、ポリマー型の結合剤と併用されてもよい。併用され
る結合剤としては上記手段１）の高分子や従来公知の熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合
物が使用される。放射線として、紫外線を用いる場合
は、重合開始剤を併用することが好ましい。重合開始剤
としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始
剤及び光アミン発生剤等を用いることができる。 【００３１】光ラジカル重合剤としては、たとえば、ベ
ンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、ベンゾイン等
のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等
のアシロインエーテル類、チオキサントン、２,４−ジ
エチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン
酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４,４'−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４'−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
類、ミヒラーケトン類、アセトフェノン、２−（４−ト
ルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α, α'−ジ
メトキシアセトキシベンゾフェノン、２,２'−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセト
フェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アント
ラキノン、１,４−ナフトキノン等のキノン類、フェナ
シルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、ト
リス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン
化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチル
パーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。 【００３２】また光ラジカル重合剤として、たとえばIR
GACURE−１８４、同２６１、同３６９、同５００、同６
５１、同９０７（チバ−ガイギー社製）、Darocur−１
１７３、同１１１６、同２９５９、同１６６４、同４０
４３（メルクジャパン社製）、KAYACURE−DETX 、同 MB
P、同 DMBI 、同 EPA、同 OA （日本化薬（株）製）、V
ICURE−１０、同５５（STAUFFER Co.LTD 製）、TRIGONA
LＰ１（AKZO Co.LTD製）、SANDORAY 1000 （SANDOZ Co.
LTD 製）、DEAP（APJOHN Co.LTD 製）、QUANTACURE−PD
O、同 ITX、同 EPD（WARD BLEKINSOP Co.LTD 製）等の
市販品を用いることもできる。 【００３３】また光カチオン重合開始剤としては、ジア
ゾニウム塩類、トリフェニルスルホニウム塩類、メタロ
セン化合物類、ジアリールヨードニウム塩類、ニトロベ
ンジルスルホナート類、α−スルホニロキシケトン類、
ジフェニルジスルホン類、イミジルスルホナート類が挙
げられる。光カチオン重合開始剤として、アデカウルト
ラセットＰＰ−３３、ＯＰＴＭＥＲ ＳＰ−１５０ 、同
１７０ （旭電化工業（株）製）（ジアゾニウム塩）、
ＯＰＴＯＭＥＲ ＳＰ−１５０、１７０（旭電化工業
（株）製）（スルホニウム塩）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２
６１（チバ−ガイギー（株）製）（メタロセン化合物）
等の市販品を用いることもできる。 【００３４】光アミン発生剤としては、ニトロベンジカ
ーバミメート類、イミノスルホナート類が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、露光条件（たとえば酸素雰囲
気下であるか、無酸素雰囲気下であるか）等によって適
宜選択され用いられる。またこれらの光重合開始剤は、
２種以上組合わせて用いることもできる。 【００３５】放射線硬化型化合物あるいは更に他の結合
剤や光重合開始剤を含む組成物は、それらを溶解する溶
媒にて塗布液とされるが、その溶媒としては、手段１）
で例示したものから適宜選定される。支持体上に上記塗
布液を塗布した後、通常、乾燥後に放射線が塗布層に照
射される。乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥いずれでもよ
い。放射線として、電子線を用いる場合、電子線量は総
量で１〜２０Ｍｒａｄが好ましく、３〜１０Ｍｒａｄが
更に好ましい。放射線として、紫外線を用いる場合、そ
の量は１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。紫外線
（ＵＶ）及び電子線（ＥＢ）照射装置、照射条件などに
ついては、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技術セ
ンター発行）や「低エネルギー電子線照射の応用技術」
（２０００、（株）シーエムシー発行）などに記載され
ている公知のものを用いることができる。平滑塗布層の
厚さは、平滑塗布層の構成成分等によるが、前記範囲が
好ましい。磁気テープの場合、平滑塗布層の表面性、物
理強度が確保されるのであれば、高容量化には薄い程好
ましい。 【００３６】尚、平滑塗布層用塗布液には、所望の表面
性を得るためにフィラーを含有させることも可能であ
る。フィラーの最大径は５０ｎｍ以下が好ましい。５０
ｎｍを超えるとドロップアウト（ＤＯ）の原因となる場
合がある。しかし、このような平滑塗布層用塗布液の組
成を変更して本発明の範囲を外れた平滑塗布層を形成す
るような塗布液を支持体の他方に塗布してバック層など
を形成してテープ状磁気記録媒体を形成してもよい。そ
の場合、更にその平滑塗布層の上に他の組成の層を形成
してもよい。 【００３７】また、平滑塗布層は磁性層用塗布液や非磁
性層用塗布液に対して安定であることが望まれる。従っ
て、平滑塗布層のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シク
ロヘキサノン混合溶液（１：１）へ溶出量は０．０〜
０．４ｍｇ／ｃｍ2であることが好ましく、０．０〜
０．２ｍｇ／ｃｍ2であることが更に好ましい。 【００３８】本発明で設けられる磁性層は、強磁性粉末
と結合剤を主体とする塗布型に好適であるが、強磁性金
属薄膜型であってもよい。後者の場合は、蒸着、スパッ
タなど公知の方法で磁性層を設けることができる。塗布
型の場合、磁性層の厚さは０．０２〜０．５μｍが好ま
しく、０．０５〜０．２μｍが更に好ましい。また、磁
性層は、平滑塗布層上に非磁性粉末と結合剤を含む非磁
性層（下層ともいう）を設けた上に設けることが好まし
い。非磁性層の厚さは０．５〜３．０μｍが好ましく、
更に０．８〜２．０μｍが好ましい。また、磁性層（上
層又は上層磁性層ともいう）と非磁性層は、非磁性層が
湿潤状態に間に磁性層を設けるウェットオンウェット
（Ｗ／Ｗ）塗布により設けることが好ましい。 【００３９】以下、本発明により製造されるものが塗布
型磁気記録媒体である場合、その構成要素毎に説明す
る。 ［磁性層］本発明の磁気記録媒体は下層と超薄層磁性層
を支持体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層
は下層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、
下層が乾燥した後、ウェットオンドライ（Ｗ／Ｄ）にで
も上層磁性層を設けることが出来る。生産得率の点から
同時、又は逐次湿潤塗布が好ましいが、デイスクの場合
は乾燥後塗布も十分使用できる。重層構成で同時、又は
逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成で
きるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に
活用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化でき
る。磁性層の抗磁力Ｈｃは１６０ｋＡ/ｍ以上であるこ
とが好ましく、強磁性金属粉末ではＢｍは０．２〜０．
５Ｔ、六方晶フェライト粉末では０．１〜０．３Ｔであ
ることが好ましい。 【００４０】［強磁性粉末］磁性層に使用する強磁性粉
末としては、特に制限されるべきものではないが、α−
Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト
粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂ
ｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特
に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが
好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むこと
がさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０原子
％以上４０原子％以下が好ましく、さらに好ましくは１
５原子％以上３５％以下、より好ましくは２０原子％以
上３５原子％以下である。Ｙの含有量は１．５原子％以
上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３原子
％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上９
原子％以下である。Ａｌは１．５原子％以上１２原子％
以下が好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原
子％以下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下で
ある。 これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、
潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらか
じめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４
４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭
４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公
昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特
公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特
公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、
特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７
号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２
１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同
３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載され
ている。 【００４１】強磁性粉末には少量の水酸化物、または酸
化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方
法により得られたものを用いることができ、下記の方法
を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ
酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄
を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−
Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分
解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリ
ウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を
添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸
発させて微粉末を得る方法などである。このようにして
得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち
有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸
漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形
成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガス
と不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成す
る方法のいずれを施したものでも用いることができる。 【００４２】磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ法による
比表面積（ＳBET）で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇが好ま
しく、更に好ましくは５０〜７０ｍ2 ／ｇである。４５
ｍ2／ｇ未満ではノイズが高くなり、８０ｍ2 ／ｇを超
えると表面性が得にくく好ましくない。磁性層の強磁性
金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åが好ましく、
更に好ましくは１００〜１８０Å、特に好ましくは１１
０〜１７５Åである。強磁性金属粉末の長軸長は０．０
１μｍ以上０．１５μｍ以下が好ましく、更に好ましく
は０．０３μｍ以上０．１５μｍ以下であり、特に好ま
しくは０．０３μｍ以上０．１２μｍ以下である。強磁
性金属粉末の針状比は３以上１５以下が好ましく、さら
には５以上１２以下が好ましい。強磁性金属粉末の飽和
磁化σsは１００〜１８０Ａ・ｍ2／ｋｇであり、好まし
くは１１０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ、更に好ましくは１
２５〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇである。強磁性金属粉末の
抗磁力は１６０〜２８０ｋＡ／ｍが好ましく、更に好ま
しくは１７６〜２４０ｋＡ／ｍである。 【００４３】強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％
とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属
粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属粉
末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化する
ことが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好まし
くは６〜１０である。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａ
ｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施
してもかまわない。その量は強磁性金属粉末に対し０．
１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤
の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性
金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒな
どの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に
無い方が好ましいが、２００ppm以下であれば特に特性
に影響を与えることは少ない。また、本発明に用いられ
る強磁性金属粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値
は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下であ
る。また形状については先に示した粒子サイズについて
の特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでも
かまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤは小さい方が
好ましく、０．８以下が好ましい。強磁性金属粉末のＨ
ｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが０．８
以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、ま
た、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、
高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小
さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイ
トの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法が
ある。 【００４４】次に六方晶フェライト粉末について述べ
る。本発明に用いられる六方晶フェライトとしてバリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライ
ト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が
ある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒
子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、
更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型
のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等
が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，
Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａ
ｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，
Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの
原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ
−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−
Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎ
ｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができ
る。原料・製法によっては特有の不純物を含有するもの
もある。 【００４５】粒子サイズは六角板径で通常、１０〜１０
０nm、好ましくは１０〜６０nmであり、特に好ましくは
１０〜５０nmである。特にトラック密度を上げるためＭ
Ｒヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、
板径は４０nm以下が好ましいが、１０nmより小さいと熱
揺らぎのため安定な磁化が望めない。１００nmを越える
とノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かな
い。板状比（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ま
しくは１〜７である。板状比が小さいと磁性層中の充填
性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。
１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが
大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表
面積は１０〜１００ｍ2 ／ｇを示す。比表面積は概ね粒
子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・
板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は粒子ＴＥ
Ｍ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較でき
る。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平
均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝
０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにす
るには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、
生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われてい
る。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する
方法等も知られている。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃ
は通常、４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈ
ｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの
能力で制限される。本発明では磁性体のＨｃは１６０〜
３２０ｋＡ／ｍ程度であるが、好ましくは１７６〜２８
０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを
越える場合は、１７６ｋＡ／ｍ以上にすることが好まし
い。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類
と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制
御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇで
ある。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さ
くなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイ
トフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含
有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。ま
たＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁
性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマー
に合った物質で処理することも行われている。表面処理
材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物
としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、
各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤
が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％で
ある。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２
程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の
化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。
磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリ
マーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選
ばれる。六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化
バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形
成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成にな
るように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次
いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフ
ェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物
を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥
・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応
法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカ
リで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以
下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得
る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。 【００４６】［非磁性層］次に支持体と磁性層の間に下
層である非磁性層を設ける時の下層に関する詳細な内容
について説明する。下層は実質的に非磁性であればその
構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくと
も樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末
あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられ
る。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末である
が、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用
され得るものである。 【００４７】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好
ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度
は通常、０．０５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５
g/mlである。非磁性粉末の含水率は通常、０．１〜５質
量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは
０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通
常、２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に
好ましい。非磁性粉末の比表面積は通常、１〜１００m2
/g 、好ましくは５〜８０m2/g 、更に好ましくは１０〜
７０m2/gである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００
４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍ
が更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用い
た吸油量は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０m
l/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比
重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、
球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は
４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ
（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍol／m2 、好ま
しくは２〜１５μｍol/m2 、さらに好ましくは３〜８μ
ｍol/m2 である。ｐＨは３〜６の間にあることが好まし
い。これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施されＡ
ｌ2 Ｏ3、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、
Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3が存在することが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2、
ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2
Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせ
て使用しても良いし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良い
し、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで
処理する方法、またはその逆の方法を採ることもでき
る。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても
構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。 【００４８】下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例
としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−
１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ
−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰ
Ｎ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ−ＳＡ
１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５
１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５
Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１００、
αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０
３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ−３
０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα
−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，Ｍ
Ｔ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ
−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−
２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、
同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエ
ロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１０
０Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられ
る。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化
鉄である。 【００４９】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。 【００５０】下層のカーボンブラックの比表面積は通
常、１００〜５００m2 ／ｇ、好ましくは１５０〜４０
０m2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００ml/100
g、好ましくは３０〜４００ml/100gである。カーボンブ
ラックの粒子径は通常、５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜
５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カ
ーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１
０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発
明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては
キャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１
３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、
ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５
０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃
３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８
５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃
４０１０、コロンビアンカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴ
ＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７００
０，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２００
０，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾ
ー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラ
ックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散して
もかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質
粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質
量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカー
ボンブラックは単独、または組合せで使用することがで
きる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば
「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）
を参考にすることができる。 【００５１】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。下層の結合剤樹脂、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に
記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂
量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。 【００５２】［結合剤］本発明に使用される結合剤とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１,０００〜２００,０００、好ましくは１０,００
０〜１００,０００、重合度が約５０〜１０００程度の
ものである。 【００５３】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の放射線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。 【００５４】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ2 、Ｎ+ Ｒ
3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、など
から選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合ま
たは付加反応で導入したものをもちいることが好まし
い。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇで
あり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。 【００５５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。 【００５６】非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非
磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範
囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリ
ウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソ
シアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わ
せて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素に
よりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまた
はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも
可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０
℃〜１００℃、更に好ましくは３０℃〜９０℃、破断伸
びが１００〜２０００％、破断応力は通常、０．０５〜
１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点
は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．４９〜９８ＭＰ
ａ）が好ましい。 【００５７】磁気記録媒体は二層以上から構成され得
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはもちろ
ん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層
磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層で
結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすた
めには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、
ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非
磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることがで
きる。 【００５８】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。 【００５９】［カーボンブラック、研磨剤］磁性層に使
用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等
を用いることができる。比表面積は５〜５００m2／ｇ、
ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００ｇ、粒子径は
５ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、更
に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９０
０、９０５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７
２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５
０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３
００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５、ＲＡＶ
ＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥ
Ｃ、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカーボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の０．１〜３０％でもちいることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、
下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイ
ズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をも
とに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきものである。磁性層で使
用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック
便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができ
る。 【００６０】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５
〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの
範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その
粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させる
には必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２g/cc、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表
面積は１〜３０m2/g 、が好ましい。本発明に用いられ
る研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれで
も良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く
好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫ
Ｐ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５
０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ
６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノ
ルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−Ｄ
ＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社
製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロメック
スＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１０
０、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウルト
ラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられる。
これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することも
できる。非磁性層に添加することで表面形状を制御した
り、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。
これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量は
むろん最適値に設定すべきものである。 【００６１】［添加剤］磁性層と非磁性層に使用され
る、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ
素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリ
コーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニル
ホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニ
ル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。 【００６２】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。 【００６３】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２
５％の範囲で選択される。 【００６４】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。 【００６５】［層構成］磁気記録媒体の厚み構成は支持
体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍである。
コンピューターテープの支持体は、３．０〜６．５μｍ
（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好ましくは、
４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用され
る。 【００６６】平滑塗布層と非磁性層または磁性層の間に
密着性向上のための下塗層を設けてもかまわない。本下
塗層厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２
〜０．５μｍである。本発明は通常支持体両面に非磁性
層と磁性層を設けてなる両面磁性層ディスク状媒体であ
っても、片面のみに設けてもかまわない。この場合、帯
電防止やカール補正などの効果を出すために非磁性層、
磁性層側と反対側にバック層を設けてもかまわない。こ
の厚みは０．１〜４μｍ、好ましくは０．３〜２．０μ
ｍである。これらの下塗層、バック層は公知のものが使
用できる。 【００６７】媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和
磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適
化されるものである。磁性層を異なる磁気特性を有する
２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関
する構成が適用できる。 【００６８】下層は実質的に非磁性であればその効果を
発揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意
図的に少量の磁性体を含んでもよい。実質的に非磁性と
は下層の残留磁束密度が０．１Ｔ以下または抗磁力が８
ｋＡ／ｍ以下であることを示し、好ましくは残留磁束密
度と抗磁力をもたないことを示す。 【００６９】［バック層］一般に、コンピュータデータ
記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテー
プに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。この
ような高い走行耐久性を維持させるために、バック層に
は、カーボンブラックと無機粉末が含有されていること
が好ましい。 【００７０】カーボンブラックは、平均粒子サイズの異
なる二種類のものを組み合わせて使用することが好まし
い。この場合、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒
子状カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３０
０ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用
することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状の
カーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵
抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁
気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動
作の信号に使用しているものが多くあるため、このよう
な場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有
効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体
潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減
化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍ
の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機
能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成
し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与す
る。 【００７１】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥ
Ｎ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１
７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８０
０（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ
９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、
ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５
（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６
ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。 【００７２】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カ
ーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）
（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。 【００７３】バック層において、平均粒子サイズの異な
る二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒
子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状
カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者
＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、
更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。 【００７４】バック層中のカーボンブラック（二種類の
ものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合
剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲
であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。 【００７５】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子サイズは、３０〜５０
ｎｍの範囲にあることが好ましい。 【００７６】モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末と
しては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪
酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、
単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。 【００７７】バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カ
ーボンブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量
部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、３５
〜１００質量部である。 【００７８】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無
機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープ
ガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質
無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対し
ての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も
図ることができる。 【００７９】硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８
０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎ
ｍ）の範囲にあることが好ましい。 【００８０】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）を挙げることができる。これらの粉
末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用し
ても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミ
ナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラ
ック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、
好ましくは、３〜２０質量部である。 【００８１】バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉
末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との
硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特
に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末
とを選択して使用することが好ましい。 【００８２】バック層には、前記それぞれ特定の平均粒
子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末
と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラ
ックとが含有されていることが好ましい。 【００８３】バック層には、潤滑剤を含有させることが
できる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層
に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選
択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合
剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加
される。 【００８４】［支持体］本発明において、平滑塗布層が
設けられる支持体は、特に制限されるべきものではない
が、実質的に非磁性で可撓性のものが好ましい。本発明
に用いられる可撓性支持体としてはポリエチレンテレフ
タレ−ト、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステ
ル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、
ポリカ−ボネ−ト、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポ
リスルフォン、芳香族ポリアミド又は脂肪族ポリアミ
ド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルムが使
用できる。ポリエチレンナフタレ−ト、ポリアミドなど
の高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に応
じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３
−２２４１２７に示されるような積層タイプの支持体を
用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコ
ロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除
塵処理、などをおこなっても良い。また支持体としてア
ルミまたはガラス基板を適用することも可能である。 【００８５】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表
面粗さＲａは８．０nm程度以下のものが好ましい。本発
明は平滑塗布層によりＲａを低く設定できるので、比較
的Ｒａの大きなものでも十分対処でき、コスト的に有利
である。これらの支持体は、０．５μｍ以上の粗大突起
がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応
じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自
由にコントロールされるものである。これらのフィラー
としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や
炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末があげられる。
支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さ
Ｒｚは０．５μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．５μｍ
以下、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積
率Ｓｒは１０％以上、９０％以下、平均波長λａは５μ
ｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特
性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布を
フィラーにより任意にコントロールできるものであり、
０．０１〜１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ2あ
たり０〜２０００個の範囲でコントロールすることがで
きる。本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好ましく
は５〜５０Ｋｇ／ｍｍ2（≒４９〜４９０ＭＰａ）、ま
た、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは
３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０
分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍ
ｍ2（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０
００Ｋｇ／ｍｍ2（≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）が好
ましい。温度膨張係数は１０-4〜１０-8／℃であり、好
ましくは１０-5〜１０-6／℃である。湿度膨張係数は１
０-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以
下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は
支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しい
ことが好ましい。 【００８６】［製法］磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非
磁性粉体、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防
止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初
または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料
を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例
えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘
度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本
発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術
を一部の工程として用いることができる。混練工程では
オープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストル
ーダなど強い混練力をもつものを使用することが好まし
い。ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉体と結
合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％
以上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５
００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳
細については特開平１−１０６３３８、特開平１−７９
２７４に記載されている。また、磁性層液および非磁性
層液を分散させるにはガラスビーズを用いることができ
るが、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、
チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら
分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。
分散機は公知のものを使用することができる。 【００８７】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。 【００８８】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の
場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂
直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。
六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向
の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダム
とすることも可能である。また異極対向磁石など公知の
方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な
磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行
う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用
い円周配向をしてもよい。 【００８９】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１
０００m/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、ま
た磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なうことも
できる。 【００９０】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００ｋｇ／ｃｍ（≒１９６ｋＮ／ｍ）以上、さら
に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（≒２９４ｋＮ／ｍ）以
上である。 【００９１】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属微粉末を用いた場合
０．２〜０．５Ｔ、六方晶フェライトをもちいた場合は
０．１〜０．３Ｔである。抗磁力Ｈｃは通常、１２０〜
４００ｋＡ／ｍであるが、好ましくは１３６〜２４０ｋ
Ａ／ｍである。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦ
Ｄ（スイッチング・フィールド・ディストリビューショ
ン）およびＳＦＤｒは０．６以下が好ましい。 【００９２】磁気ディスクの場合、角形比は２次元ラン
ダムの場合、通常、０．５５〜０．６７で、好ましくは
０．５８〜０．６４、３次元ランダムの場合は０．４５
〜０．５５が好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に通
常、０．６以上、好ましくは０．７以上、反磁界補正を
行った場合は通常、０．７以上、好ましくは０．８以上
である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比
は０．８以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂直
方向の角形比、垂直方向のＢｒおよび垂直方向のＨｃは
面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好まし
い。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好ましく
は０．８以上である。 【００９３】磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は
温度−１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲において通
常０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は
好ましくは磁性面１０4〜１０12オ−ム／ｓｑ、帯電位
は−５００Ｖ〜＋５００Ｖが好ましい。磁性層の０．５
％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜２
０００Ｋｇ／ｍｍ2（≒９８０〜１９６００Ｎ／ｍ
ｍ2）、破断強度は好ましくは１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ
2（≒９８〜６８６Ｎ／ｍｍ2）、磁気記録媒体の弾性率
は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ
2（≒９８０〜１４７００Ｎ／ｍｍ2）、残留のびは好ま
しくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．
５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁
性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾
性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以
下が好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好まし
い。損失弾性率は１×１０3〜８×１０4Ｎ／ｃｍ2の範
囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下である
ことが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発
生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各
方向で１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層
中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以
下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下である。塗布
層が有する空隙率は下層、上層とも好ましくは３０容量
％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙
率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目
的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例
えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙
率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。 【００９４】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＣ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μ
ｍの面積での測定で好ましくは４．０nm以下、更に好ま
しくは３．８nm以下、特にに好ましくは３．５nm以下で
ある。磁性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十
点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは
０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、
中心面面積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長
λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層
の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを０〜２
０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、こ
れにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好
ましい。これらは支持体のフィラ−による表面性のコン
トロールや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ
ー処理のロール表面形状などで容易にコントロールする
ことができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ま
しい。 【００９５】磁気記録媒体で非磁性層と磁性層を有する
場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性
を変えることができるのは容易に推定されることであ
る。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上
させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして
磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。 【００９６】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。 磁気テープの作成 比較例１ ＜塗料の作成＞ 磁性層塗料 強磁性金属粉末 １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ＝２１原子％、Ａｌ／Ｆｅ＝７原子％、Ｙ／Ｆｅ＝５原子％ 平均長軸長：０．０６μｍ、平均針状比：６ Ｈｃ：２３１０Ｏｅ（１８５ｋＡ／ｍ）、σｓ：１３７Ａ・ｍ2／ｋｇ 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ２部 カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ２０部 トルエン ６０部 【００９７】 非磁性塗料 非磁性粉末 ＴｉＯ2 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径：０．０３５μｍ、ＳBET：４０ｍ2／ｇ、ｐＨ：７、ＴｉＯ2含有 量９０％以上、ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇ、表面にＡｌ2Ｏ3が粒子 全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック ２０部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００９８】上記の塗料について、各成分をニ−ダで混
練したのち、サンドミルをもちいて４時間分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布
液には２．５部、磁性層の塗布液には３部を加え、さら
にそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え，１μｍの
平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層
形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製し
た。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の下層の厚さが
１．７μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．１５μｍになるように、厚さ４．４μｍ
で中心面平均表面粗さが７．０ｎｍのアラミド支持体
（商品名：ミクトロン）上に同時重層塗布をおこない、
両層がまだ湿潤状態にあるうちに０．６Ｔの磁力を持つ
コバルト磁石と０．６Ｔの磁力を持つソレノイドにより
配向させた。乾燥後、金属ロ−ルのみから構成される７
段のカレンダ−で温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉ
ｎ．で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層
（カ−ボンブラック 平均粒子サイズ：１７ｎｍ １０
０部、炭酸カルシウム 平均粒子サイズ：４０ｎｍ ８
０部、αアルミナ 平均粒子サイズ：２００ｎｍ ５部
をニトロセルロ−ス樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソ
シアネ−トに分散）を塗布した。３．８ｍｍの幅にスリ
ットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った
装置に不織布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し当たる
ように取り付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性層の表
面のクリ−ニングを行い、テープ試料を得た。 【００９９】比較例２ 比較例１において、アラミド支持体の一方の面に平滑塗
布層用塗布液（Ｐ１：表１記載）を厚みが０．０５μｍ
となるように塗布、乾燥した後、巻き取ることなく平滑
塗布層上に比較例１と同様に非磁性層および磁性層を形
成した他は比較例１と同様にしてテープ試料を得た。 【０１００】実施例１〜３、比較例３ 比較例２において、平滑塗布層の厚みを表２に記載のも
のに変更した以外は、比較例２と同様にしてテープ試料
を得た。 【０１０１】比較例４ 実施例２において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例２と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０２】実施例４ 実施例２において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ２：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５Ｍｒａｄの電
子線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実施例２
と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０３】比較例５ 実施例４において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例５と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０４】実施例５ 実施例２において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ３：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５０ｍＪ／ｃｍ
2の紫外線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実
施例２と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０５】比較例６ 実施例６において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例６と同様にしてテープ試料を得た。 【０１０６】 【表１】 【０１０７】表１中、素材は以下の通りである。 素材Ａ：水溶性ポリアミド樹脂（東レ（株）製「水溶性
ナイロンＡ−９０」、数平均分子量：６６０００） 素材Ｂ：エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジ
アクリレート（共栄社化学（株）製「ＢＰ−４ＥＡ」） 素材Ｃ：素材Ｂ ９５質量部とベンジルジメチルケター
ル（チバスペシャリティー社製「イルガキュア６５
１」）５質量部の混合物 【０１０８】比較例７ 比較例１において磁性塗料を以下のものに変更した以外
は、比較例１と同様にしてテープ試料を得た。尚、非磁
性層用塗布液は比較例１と同じである。 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 組成：Ｂａ／Ｚｎ／Ｃｏ／Ｎｂ＝１／１．０／０．５／０．４（モル比） 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナＨＩＴ５５（住友化学社製） ２部 カ−ボンブラック ５部 ＃５５（旭カーボン社製） ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【０１０９】比較例８ 比較例７において、アラミド支持体の一方の面に平滑塗
布層用塗布液（Ｐ１：表１記載）を厚みが０．０５μｍ
となるように塗布、乾燥した後、巻き取ることなく平滑
塗布層上に比較例１と同様に非磁性層および磁性層を形
成した他は比較例７と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１０】実施例７〜９、比較例９ 比較例８において、平滑塗布層の厚みを表２に記載のも
のに変更した以外は、、比較例８と同様にしてテープ試
料を得た。 【０１１１】比較例１０ 実施例８において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取った
ものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外は、
実施例２と同様にしてテープ試料を得た。 実施例１０ 実施例８において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ２：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５Ｍｒａｄの電
子線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実施例８
と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１２】比較例１０ 実施例１１において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取っ
たものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外
は、実施例１０と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１３】実施例１１ 実施例８において、平滑塗布層用塗布液を（Ｐ３：表１
記載）に変更し、平滑塗布層を形成後、５０ｍＪ／ｃｍ
2の紫外線を照射して平滑塗布層を形成した以外は、実
施例８と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１４】比較例１２ 実施例１２において、平滑塗布層形成後、一旦巻き取っ
たものを再度送り出して下層及び上層を形成した以外
は、実施例１２と同様にしてテープ試料を得た。 比較例１３ 比較例１において、非磁性層を設けなかった他は比較例
１と同様にしてテープ試料を得た。 実施例１３ 実施例２において、非磁性層を設けなかった他は実施例
２と同様にしてテープ試料を得た。 【０１１５】比較例１４ 比較例１において、非磁性層及び磁性層をウェットオン
ドライ（Ｗ／Ｄ）法により設けた他は比較例１と同様に
してテープ試料を得た。 【０１１６】実施例１４ 実施例２において、非磁性層及び磁性層をウェットオン
ドライ（Ｗ／Ｄ）法により設けた他は実施例２と同様に
してテープ試料を得た。 【０１１７】 ディスクの作成 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 組成：Ｂａ／Ｚｎ／Ｃｏ／Ｎｂ＝１／０．７／０．１／０．３（モル比） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【０１１８】 非磁性塗料 非磁性粉末 ＴｉＯ2 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径：０．０３５μｍ、ＳBET：４０ｍ2／ｇ、ｐＨ：７、ＴｉＯ2含有 量９０％以上、ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇ、表面にＡｌ2Ｏ3が粒子 全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック ２０部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【０１１９】上記の塗料のそれぞれについて、各成分を
ニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて４時間分
散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁
性層の塗布液には１０部、磁性層の塗布液には１０部を
加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加
え，１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれ
ぞれ調製した。比較例１５得られた磁性層塗布液を、乾
燥後の厚さが０．２μｍになるように、厚さ６２μｍで
中心面平均表面粗さが７．０ｎｍのポリエチレンテレフ
タレ−ト支持体上に塗布をおこない、湿潤状態にあるう
ちに周波数５０Ｈｚ、磁場強度２５ｍＴまた周波数５０
Ｈｚ、１２ｍＴの２つの磁場強度交流磁場発生装置の中
を通過させてランダム配向処理をおこない、乾燥後７段
のカレンダで温度９０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９
４ｋＮ／ｍ）にて処理を行い、３．７吋に打ち抜き表面
研磨処理施してディスク媒体を得た。 【０１２０】実施例１５ 比較例１５において、支持体の一方の面に平滑塗布層用
塗布液（Ｐ１：表１記載）を厚みが０．３μｍとなるよ
うに塗布、乾燥した後、巻き取ることなく形成した平滑
塗布層上に比較例１５と同様に磁性層を形成した他は比
較例１５と同様にしてディスク試料を得た。 比較例１６ 得られた非磁性層塗布液を厚さ６２μｍで中心面平均表
面粗さが７．０ｎｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持
体上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるよう塗布、乾燥
し、得られた非磁性層上に磁性層の厚さが０．１５μｍ
になるように、磁性層塗布液を用いて塗布をおこない、
磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに比較例１５と同様に
ランダム配向処理をおこない、更に比較例１５と同様に
してディスク試料を得た。 実施例１６ 比較例１６において、支持体の一方の面に実施例１５と
同様に平滑塗布層を塗布、乾燥した後、巻き取ることな
く形成した平滑塗布層上に比較例１６と同様に非磁性層
及び磁性層を形成した他は比較例１６と同様にしてディ
スク試料を得た。 比較例１７ 得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μｍ
になるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが
０．１５μｍになるように、磁性層塗布液を用いて厚さ
６２μｍで中心面平均表面粗さが７．０ｎｍのポリエチ
レンテレフタレ−ト支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに比較例１５と同様
にランダム配向処理をおこない、更に比較例１５と同様
にしてディスク媒体を得た。 実施例１７ 比較例１７において、支持体の一方の面に実施例１５と
同様に平滑塗布層を塗布、乾燥した後、巻き取ることな
く形成した平滑塗布層上に比較例１７と同様に非磁性層
及び磁性層を形成した他は比較例１７と同様にしてディ
スク試料を得た。 【０１２１】上記作成したコンピューターテープ及び磁
気ディスクの各々の性能を下記の測定法により評価し
た。 測定法 （１）ＣＮ比（テープ）：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャッ
プ０．１５μｍ、１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをドラ
ムテスターに取り付けて測定した。ヘッド−メディア相
対速度１〜３ｍ／ｍｉｎ、ノイズは変調ノイズを測定。
尚、面記録密度は、０．５７Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2（ト
ラックピッチ：６．８μｍ、ビット長：０．１６５μ
ｍ）とした。 （２）ＳＮ比（ディスク）：記録ヘッド［ＭＩＧ（Ｍｅ
ｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ）］ 、ギャップ０．１５μｍ、
１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをスピンスタンドに取り
付けて測定した。回転数２５００〜３５００ｒｐｍ、半
径３０ｍｍ、ノイズはＤＣノイズ。尚、面記録密度は、
１Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2（トラックピッチ：１μｍ、ビ
ット長：０．０３μｍ）とした。 （３）平滑塗布層のＰＮ（２０ｎｍ以上）はデジタルイ
ンスツルメンツ社のナノスコープ３（ＡＦＭ：原子間力
顕微鏡）を用いて稜角７０°の四角錘のＳｉＮの探針を
使って、３０μｍ平方角（９００μｍ2）の中の、突起
を測定した。 （４）平滑塗布層の溶出量：メチルエチルケトン（ＭＥ
Ｋ）／シクロヘキサノン混合溶液（１：１）への溶出量
を求めた。 【０１２２】表２〜４に磁気テープ評価結果を、表５に
磁気ディスクの評価結果を示した。 【０１２３】 【表２】 【０１２４】 【表３】【０１２５】 【表４】 【０１２６】 【表５】 表２〜５より、平滑塗布層の要件あるいは磁気記録媒体
の製造要件を満たさない比較例は、実施例に比べてＣＮ
比またはＳＮ比が劣る。 【０１２７】 【発明の効果】本発明は磁気記録媒体の支持体に平滑塗
布層を設け、巻き取ることなく磁性層を設けることによ
り、磁性層表面性が改善され、ひいてはＣＮ比またはＳ
Ｎ比が改善された低コストの高密度磁気記録媒体を提供
することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 橋本 博司
神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富
士写真フイルム株式会社内
Ｆターム(参考） 5D006 CB07 CB08 DA02 EA01 FA09
5D112 AA03 AA24 BD01 CC02
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に磁性層が形成されてなる磁気
記録媒体の製造方法において、該支持体の少なくとも片
方の面上に厚さが０．１０〜１μｍ、表面粗さが５ｎｍ
以下かつ原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定された２
０ｎｍ以上の高さの突起が２０個／９００μｍ2 以下で
ある平滑塗布層を設け、巻き取ることなく当該平滑塗布
層上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001330646A JP2003132530A (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US10/282,145 US7344786B2 (en) | 2001-10-29 | 2002-10-29 | Magnetic recording medium including a smooth coating layer on one side of the support |
| US11/138,409 US7169438B2 (en) | 2001-10-29 | 2005-05-27 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001330646A JP2003132530A (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2005178076A Division JP2005267850A (ja) | 2005-06-17 | 2005-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=19146347
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001330646A Pending JP2003132530A (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003132530A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016029123A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-03 | 旭硝子株式会社 | 研磨剤と研磨方法、および研磨用添加液 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63173224A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH02265011A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-29 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| JP2001067640A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
2001
- 2001-10-29 JP JP2001330646A patent/JP2003132530A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63173224A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH02265011A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-29 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| JP2001067640A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016029123A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-03 | 旭硝子株式会社 | 研磨剤と研磨方法、および研磨用添加液 |
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