JP2003131378A - 感光性樹脂組成物、転写材料、画像形成方法、カラーフィルター及びその製造方法、フォトマスク及びその製造方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物、転写材料、画像形成方法、カラーフィルター及びその製造方法、フォトマスク及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2003131378A JP2003131378A JP2001323647A JP2001323647A JP2003131378A JP 2003131378 A JP2003131378 A JP 2003131378A JP 2001323647 A JP2001323647 A JP 2001323647A JP 2001323647 A JP2001323647 A JP 2001323647A JP 2003131378 A JP2003131378 A JP 2003131378A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin composition
- meth
- layer
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光感度が高く、アルカリ性水溶液で現像が
可能で、解像度が高く、得られた着色画像の硬度、耐薬
品性、耐傷性等の耐性に優れる着色感光性樹脂組成物を
提供する。また、これらの特性を満足する転写材料を提
供し、これらを用いてカラーフィルター、フォトマスク
等の着色画像を形成する方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも(1)アルカリ可溶性バイン
ダー、(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有す
るモノマー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光
重合開始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹
脂組成物であって、上記アルカリ可溶性バインダーが、
少なくともカルボキシル基を有する構造単位と下記一般
式(I)で示される構造単位とを有する共重合体である
ことを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 【化1】 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2〜R6
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。〕
可能で、解像度が高く、得られた着色画像の硬度、耐薬
品性、耐傷性等の耐性に優れる着色感光性樹脂組成物を
提供する。また、これらの特性を満足する転写材料を提
供し、これらを用いてカラーフィルター、フォトマスク
等の着色画像を形成する方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも(1)アルカリ可溶性バイン
ダー、(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有す
るモノマー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光
重合開始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹
脂組成物であって、上記アルカリ可溶性バインダーが、
少なくともカルボキシル基を有する構造単位と下記一般
式(I)で示される構造単位とを有する共重合体である
ことを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 【化1】 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2〜R6
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。〕
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、着色感光性樹脂組
成物、転写材料、及び画像形成方法に関し、特に液晶表
示素子等に用いられるカラーフィルターやフォトリソ工
程で利用されるフォトマスク等の着色画像を形成するた
めの樹脂組成物、転写材料、及びラミネート方式により
着色画像を形成するのに好適な画像形成方法、これで得
られるカラーフィルターやフォトマスクに関する。
成物、転写材料、及び画像形成方法に関し、特に液晶表
示素子等に用いられるカラーフィルターやフォトリソ工
程で利用されるフォトマスク等の着色画像を形成するた
めの樹脂組成物、転写材料、及びラミネート方式により
着色画像を形成するのに好適な画像形成方法、これで得
られるカラーフィルターやフォトマスクに関する。
【0002】
【従来の技術】感光性樹脂組成物は各種の画像形成材料
として古くから利用されている。特にこの感光性樹脂組
成物に染料や顔料などの着色成分を併用した着色感光性
樹脂組成物が塗料やインク及び印刷校正材料等の各種の
着色画像の形成に幅広く利用されている。また、予めフ
ィルム支持体上に感光性樹脂組成物を塗布乾燥し、フィ
ルムレジストとして提供し、それを用いて基板上に感光
性樹脂層を転写して基板上に感光性樹脂層を施す方法は
転写法と呼ばれ、高生産性と高品質で薄膜形成が可能で
ある利点を有する。このような方式については、例えば
特開平5−39450号公報、同5−72724号公
報、同6−80503号公報、同9−197665号公
報等に記載されており、これらの方式を用いてカラーフ
ィルターなどの着色画像を形成する例が開示されてい
る。
として古くから利用されている。特にこの感光性樹脂組
成物に染料や顔料などの着色成分を併用した着色感光性
樹脂組成物が塗料やインク及び印刷校正材料等の各種の
着色画像の形成に幅広く利用されている。また、予めフ
ィルム支持体上に感光性樹脂組成物を塗布乾燥し、フィ
ルムレジストとして提供し、それを用いて基板上に感光
性樹脂層を転写して基板上に感光性樹脂層を施す方法は
転写法と呼ばれ、高生産性と高品質で薄膜形成が可能で
ある利点を有する。このような方式については、例えば
特開平5−39450号公報、同5−72724号公
報、同6−80503号公報、同9−197665号公
報等に記載されており、これらの方式を用いてカラーフ
ィルターなどの着色画像を形成する例が開示されてい
る。
【0003】更に近年では、この転写法は、液晶表示素
子等に用いられるカラーフィルターやマスク材料など得
られた画像の硬度、耐薬品性、耐光性、耐傷性などの各
種の高耐性が要求される用途にも利用されている。例え
ば、カラーフィルターは形成された後のパネル化工程に
おいて、その上に透明配向膜が配置され、更に対向する
基板と貼りあわせて液晶を注入する工程を経る必要があ
るために、高い耐熱性、硬度、耐溶剤性が求められる。
子等に用いられるカラーフィルターやマスク材料など得
られた画像の硬度、耐薬品性、耐光性、耐傷性などの各
種の高耐性が要求される用途にも利用されている。例え
ば、カラーフィルターは形成された後のパネル化工程に
おいて、その上に透明配向膜が配置され、更に対向する
基板と貼りあわせて液晶を注入する工程を経る必要があ
るために、高い耐熱性、硬度、耐溶剤性が求められる。
【0004】またフラットパネルディスプレイ、CRT
用シャドーマスク、印刷配線板、半導体等の分野におけ
るフォトリソ工程において用いられるフォトマスク材料
としては、「フォトファブリケーション」 (日本フォ
トファブリケーション協会発行、教育文科会編、67〜
80頁、1992年6月刊行)にも記載されているよう
に、金属クロム層を設けたCrマスク、ハロゲン化銀乳
剤層を設けたEmマスク(エマルジョンマスク)が知ら
れている。
用シャドーマスク、印刷配線板、半導体等の分野におけ
るフォトリソ工程において用いられるフォトマスク材料
としては、「フォトファブリケーション」 (日本フォ
トファブリケーション協会発行、教育文科会編、67〜
80頁、1992年6月刊行)にも記載されているよう
に、金属クロム層を設けたCrマスク、ハロゲン化銀乳
剤層を設けたEmマスク(エマルジョンマスク)が知ら
れている。
【0005】金属Crマスクは、石英やガラス等の透明
基材上にクロム層をスパッタリング法により形成後、こ
の上にエッチングレジストを塗布等により設け、HeC
dレーザー(442nm)等による露光、アルカリ水溶
液などでの現像によるエッチングレジストのパターニン
グ、クロムのエッチング、及びエッチングレジストの剥
離を行って作製される。このCrマスクはフォトマスク
材料としては煩雑ではあるが、欠陥修復可能で高解像
度、高耐久性(耐傷性)や洗浄性も極めて優れていると
いう利点を有する一方、作製工程が煩雑なため大変高価
であり、更に製造プロセスにおいてクロムエッチングが
必要であり、廃液処理によりコストアップになるだけで
なく、環境問題からも好ましくない。
基材上にクロム層をスパッタリング法により形成後、こ
の上にエッチングレジストを塗布等により設け、HeC
dレーザー(442nm)等による露光、アルカリ水溶
液などでの現像によるエッチングレジストのパターニン
グ、クロムのエッチング、及びエッチングレジストの剥
離を行って作製される。このCrマスクはフォトマスク
材料としては煩雑ではあるが、欠陥修復可能で高解像
度、高耐久性(耐傷性)や洗浄性も極めて優れていると
いう利点を有する一方、作製工程が煩雑なため大変高価
であり、更に製造プロセスにおいてクロムエッチングが
必要であり、廃液処理によりコストアップになるだけで
なく、環境問題からも好ましくない。
【0006】一方、Emマスクは、ハロゲン化銀エマル
ジョンを石英やガラス等の透明基材上に設け、YAGレ
ーザー等により露光、現像、定着処理で作製することが
可能である。乳剤の光に対する感度が高いため露光エネ
ルギーが小さくてもよく(0.1mJ/cm2程度)、
また、環境にも優しく安価なフォトマスク材料である。
この反面、感光性材料としてハロゲン化銀を用いるため
解像度が余り高くなく、また感光層がゼラチン膜である
ため耐久性に乏しい。その上、フォトマスクの欠陥修復
が実質的に困難である。
ジョンを石英やガラス等の透明基材上に設け、YAGレ
ーザー等により露光、現像、定着処理で作製することが
可能である。乳剤の光に対する感度が高いため露光エネ
ルギーが小さくてもよく(0.1mJ/cm2程度)、
また、環境にも優しく安価なフォトマスク材料である。
この反面、感光性材料としてハロゲン化銀を用いるため
解像度が余り高くなく、また感光層がゼラチン膜である
ため耐久性に乏しい。その上、フォトマスクの欠陥修復
が実質的に困難である。
【0007】以上の状況に鑑み、安全性が高く、低コス
トでかつ耐久性(耐傷性)に優れたフォトマスク材料が
望まれており、更に欠陥修復が容易にできることも望ま
れている。感光性樹脂組成物について、この様な各種の
高耐性を付与するには画像状の露光処理及び現像等によ
る画像形成工程で膜強度が向上するネガ型の感光性樹脂
組成物が一般的に利用される。更にこの画像形成の後の
処理(後加熱や後露光)などで該樹脂層の架橋や硬化反
応を一層進行させることも有効である。ネガ型の感光性
樹脂組成物は一般的にバインダー樹脂、光重合可能な多
官能モノマー、光重合開始剤等からなる。バインダー樹
脂はアルカリ現像型が主流であるので、通常はカルボン
酸などの酸性基を有する。これら樹脂組成物の硬化後の
耐性の向上に各種の検討が為されてきた。
トでかつ耐久性(耐傷性)に優れたフォトマスク材料が
望まれており、更に欠陥修復が容易にできることも望ま
れている。感光性樹脂組成物について、この様な各種の
高耐性を付与するには画像状の露光処理及び現像等によ
る画像形成工程で膜強度が向上するネガ型の感光性樹脂
組成物が一般的に利用される。更にこの画像形成の後の
処理(後加熱や後露光)などで該樹脂層の架橋や硬化反
応を一層進行させることも有効である。ネガ型の感光性
樹脂組成物は一般的にバインダー樹脂、光重合可能な多
官能モノマー、光重合開始剤等からなる。バインダー樹
脂はアルカリ現像型が主流であるので、通常はカルボン
酸などの酸性基を有する。これら樹脂組成物の硬化後の
耐性の向上に各種の検討が為されてきた。
【0008】例えば、前記の樹脂成分に更にカルボン酸
などと反応性を有する熱架橋剤を併用する方法が知られ
ている。具体的には、特開昭57−178237号公報
にはバインダー(カルボキシル基を含有する)と多官能
モノマー、光重合開始剤、分子中に2個以上のエポキシ
基を有する化合物を含む感光性樹脂組成物が、また特開
2000−181058号公報にはカルボキシル基とエ
チレン性不飽和基を有する樹脂とエポキシ樹脂、光重合
開始剤、無機フィラーを含む感光性樹脂組成物が開示さ
れている。
などと反応性を有する熱架橋剤を併用する方法が知られ
ている。具体的には、特開昭57−178237号公報
にはバインダー(カルボキシル基を含有する)と多官能
モノマー、光重合開始剤、分子中に2個以上のエポキシ
基を有する化合物を含む感光性樹脂組成物が、また特開
2000−181058号公報にはカルボキシル基とエ
チレン性不飽和基を有する樹脂とエポキシ樹脂、光重合
開始剤、無機フィラーを含む感光性樹脂組成物が開示さ
れている。
【0009】また、この熱架橋性基をバインダー中に有
する例も知られている。具体的には特開2000−81
701号公報、特開平10−316721号公報などに
はカルボキシル基を有するモノマー/エポキシ基を有す
るモノマー/その他のモノマーから得られる共重合体を
用いる感光性樹脂組成物が開示されている。
する例も知られている。具体的には特開2000−81
701号公報、特開平10−316721号公報などに
はカルボキシル基を有するモノマー/エポキシ基を有す
るモノマー/その他のモノマーから得られる共重合体を
用いる感光性樹脂組成物が開示されている。
【0010】しかしながらこれらの組成物においては確
かに露光及びその後の加熱により硬化膜の強度は向上す
るものの、組成物の経時安定性が不良であり、組成物を
長期間保存すると熱反応の進行により使用前の段階にお
いても組成物が硬化してしまうといった問題がある。
かに露光及びその後の加熱により硬化膜の強度は向上す
るものの、組成物の経時安定性が不良であり、組成物を
長期間保存すると熱反応の進行により使用前の段階にお
いても組成物が硬化してしまうといった問題がある。
【0011】そこでこれらの問題を解決する為の新たな
硬化剤としてイソシアネート基の前駆体であるブロック
イソシアネート系化合物を用いる例が知られている。こ
の様な例としては例えば特開平3−50549号公報、
同7−278254、同8−15861、同10−20
505、同10−148938等にはカルボキシル基を
有するバインダー樹脂、多官能性モノマー、光重合開始
剤、及び2官能以上のポリイソシアネートをブロック化
した化合物を含む組成物が開示されている。これらの硬
化剤は確かに従来のエポキシ系の硬化剤と比較すると経
時安定性は大幅に改良されてはいるが、逆にその硬化性
は低下しており、耐薬品性、硬度などの耐性はまだ十分
に満足できるものではなかった。
硬化剤としてイソシアネート基の前駆体であるブロック
イソシアネート系化合物を用いる例が知られている。こ
の様な例としては例えば特開平3−50549号公報、
同7−278254、同8−15861、同10−20
505、同10−148938等にはカルボキシル基を
有するバインダー樹脂、多官能性モノマー、光重合開始
剤、及び2官能以上のポリイソシアネートをブロック化
した化合物を含む組成物が開示されている。これらの硬
化剤は確かに従来のエポキシ系の硬化剤と比較すると経
時安定性は大幅に改良されてはいるが、逆にその硬化性
は低下しており、耐薬品性、硬度などの耐性はまだ十分
に満足できるものではなかった。
【0012】一方、バインダー樹脂に反応性基、特に光
重合性の官能基を導入する方式も検討されている。この
様なバインダー樹脂は既に公知であり、例えば特公昭5
0−34444号公報、特公昭51−39847号公
報、特開昭53−097416号公報、特開平2−23
0154号広報等にカルボキシル基を有する重合体にエ
ポキシ基と重合性基を有する化合物を付加させることで
重合性基を導入した樹脂を用いる感光性樹脂組成物が開
示されている。しかしながらこれらの方法では安全性上
の問題があるエポキシ基と重合性基を有する化合物を用
いること、更にこの付加反応が高分子反応の為に完全に
は進行させることが困難で、これらの化合物が系中に残
存してしまうという問題がある。
重合性の官能基を導入する方式も検討されている。この
様なバインダー樹脂は既に公知であり、例えば特公昭5
0−34444号公報、特公昭51−39847号公
報、特開昭53−097416号公報、特開平2−23
0154号広報等にカルボキシル基を有する重合体にエ
ポキシ基と重合性基を有する化合物を付加させることで
重合性基を導入した樹脂を用いる感光性樹脂組成物が開
示されている。しかしながらこれらの方法では安全性上
の問題があるエポキシ基と重合性基を有する化合物を用
いること、更にこの付加反応が高分子反応の為に完全に
は進行させることが困難で、これらの化合物が系中に残
存してしまうという問題がある。
【0013】またソルダーレジストにおいても重合性基
を有する樹脂を用いることは広く行なわれている。代表
的なものは特公平1−54390号公報等に記載のノボ
ラック型エポキシ樹脂を変性した樹脂、特開平2−23
351号広報に記載の無水物を有する樹脂に水酸基を有
する重合性化合物で変性した樹脂などを用いる組成物等
が開示されている。しかしながらこれらは基本的に熱硬
化性成分として更にエポキシ化合物を有するので経時安
定性が不足である。
を有する樹脂を用いることは広く行なわれている。代表
的なものは特公平1−54390号公報等に記載のノボ
ラック型エポキシ樹脂を変性した樹脂、特開平2−23
351号広報に記載の無水物を有する樹脂に水酸基を有
する重合性化合物で変性した樹脂などを用いる組成物等
が開示されている。しかしながらこれらは基本的に熱硬
化性成分として更にエポキシ化合物を有するので経時安
定性が不足である。
【0014】また特開2000−105456、250
217号公報、298339号公報にはカルボキシル基
を有する重合体と(メタ)アクリロイル基とイソシアネ
ート基を有する化合物の付加物を用いる組成物例やカラ
ーフィルターへの応用例が開示されている。但しこの場
合も硬化性を確保する為に樹脂中にはエポキシ基、又は
添加成分としてエポキシ樹脂が必要であり、経時安定性
が劣る。
217号公報、298339号公報にはカルボキシル基
を有する重合体と(メタ)アクリロイル基とイソシアネ
ート基を有する化合物の付加物を用いる組成物例やカラ
ーフィルターへの応用例が開示されている。但しこの場
合も硬化性を確保する為に樹脂中にはエポキシ基、又は
添加成分としてエポキシ樹脂が必要であり、経時安定性
が劣る。
【0015】これらに対して、上述の様な熱硬化性成分
を用いない例も開示されている。まずその重合性基の種
類に着目すると、例えば特登3120476号公報には
カルボキシル基と(メタ)アクリロイル基を有しかつ共
重合成分としてスチレンを含む樹脂を用いるカラーフィ
ルター用着色ペースト、また特開平9−80225号公
報にはカルボキシル基とシンナモイル基等を有する樹脂
が開示されている。また特開2000−154207号
公報にはアクリロイル基とカルボキシル基を有する樹脂
を用いるカラーフィルター用感光性樹脂組成物が開示さ
れている。また特開昭60−112035号公報には側
鎖に二重結合を有する線状高分子を含むソルダーレジス
トが開示されているが、この場合も好ましいものは(メ
タ)アクリロイル基であると記載されている。
を用いない例も開示されている。まずその重合性基の種
類に着目すると、例えば特登3120476号公報には
カルボキシル基と(メタ)アクリロイル基を有しかつ共
重合成分としてスチレンを含む樹脂を用いるカラーフィ
ルター用着色ペースト、また特開平9−80225号公
報にはカルボキシル基とシンナモイル基等を有する樹脂
が開示されている。また特開2000−154207号
公報にはアクリロイル基とカルボキシル基を有する樹脂
を用いるカラーフィルター用感光性樹脂組成物が開示さ
れている。また特開昭60−112035号公報には側
鎖に二重結合を有する線状高分子を含むソルダーレジス
トが開示されているが、この場合も好ましいものは(メ
タ)アクリロイル基であると記載されている。
【0016】またこれ以外に特開昭49―120703
号公報、特公昭63−41923号公報特公平1−76
49号公報等にはアジド基、桂皮酸エステル、カルコ
ン、スチルバゾリウム、スチリルキノリウムなどの反応
性基を有する樹脂を用いる感光性樹脂組成物の例が開示
されている。
号公報、特公昭63−41923号公報特公平1−76
49号公報等にはアジド基、桂皮酸エステル、カルコ
ン、スチルバゾリウム、スチリルキノリウムなどの反応
性基を有する樹脂を用いる感光性樹脂組成物の例が開示
されている。
【0017】しかしながらこれらの従来技術を重合性反
応基の種類で見ると、最も代表的な(メタ)アクリロイ
ル基は重合性が高い為に合成時に反応してしまい易いと
いう問題がありながら、樹脂に導入した場合では硬化性
がまだ不十分であるという問題がある。また桂皮酸エス
テル、カルコン、スチルバゾリウム、スチリルキノリウ
ムなどでは反応性が不足であるために感度が低く、しか
も硬化後も十分な硬度や耐薬品性が得られない。更にア
ジド基はその爆発性という製造上の問題がある。
応基の種類で見ると、最も代表的な(メタ)アクリロイ
ル基は重合性が高い為に合成時に反応してしまい易いと
いう問題がありながら、樹脂に導入した場合では硬化性
がまだ不十分であるという問題がある。また桂皮酸エス
テル、カルコン、スチルバゾリウム、スチリルキノリウ
ムなどでは反応性が不足であるために感度が低く、しか
も硬化後も十分な硬度や耐薬品性が得られない。更にア
ジド基はその爆発性という製造上の問題がある。
【0018】また合成法に着目すると、特開平1−19
572号公報には(メタ)アクリル酸と特定の環構造を
有する(メタ)アクリレートの共重合体にエポキシ基と
重合性基を有する化合物を付加させた樹脂を用いる感光
性樹脂組成物が開示されている。また特開昭63−40
141号広報、特開平4−194941号広報等にも
(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アク
リレートの反応物を用いる感光性記録素子、着色画像形
成材料が開示されている。また無水物環を有する樹脂に
水酸基と重合性基を有する化合物を付加させた樹脂を用
いる感光性樹脂組成物が特開昭59−220731号公
報、特開昭62−285903号広報、特開2001−
66412号公報、特開2001−66772号公報等
に開示されている。またマレイン酸共重合体に水酸基と
重合性基(アリル、シンナミル基、(メタ)アクリレー
ト)を有する化合物、あるいはエポキシ基と重合性基
(アリル、シンナミル基、(メタ)アクリレート)を有
する化合物を反応させた樹脂を用いる例(即ちカルボキ
シル基と重合性基を有する樹脂)が記載されている。
572号公報には(メタ)アクリル酸と特定の環構造を
有する(メタ)アクリレートの共重合体にエポキシ基と
重合性基を有する化合物を付加させた樹脂を用いる感光
性樹脂組成物が開示されている。また特開昭63−40
141号広報、特開平4−194941号広報等にも
(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アク
リレートの反応物を用いる感光性記録素子、着色画像形
成材料が開示されている。また無水物環を有する樹脂に
水酸基と重合性基を有する化合物を付加させた樹脂を用
いる感光性樹脂組成物が特開昭59−220731号公
報、特開昭62−285903号広報、特開2001−
66412号公報、特開2001−66772号公報等
に開示されている。またマレイン酸共重合体に水酸基と
重合性基(アリル、シンナミル基、(メタ)アクリレー
ト)を有する化合物、あるいはエポキシ基と重合性基
(アリル、シンナミル基、(メタ)アクリレート)を有
する化合物を反応させた樹脂を用いる例(即ちカルボキ
シル基と重合性基を有する樹脂)が記載されている。
【0019】しかしこれらの従来技術を合成法に着目し
てみると無水物に水酸基と重合性基を有する化合物を付
加させる方法では、最も容易に合成が可能、かつ一般的
なものは水酸基と(メタ)アクリロイル基を有する化合
物を付加させる方法であるが、この場合は先に述べたと
おり硬化性はまだ不足である。またシンナミル基でも同
様に反応性が不足である。アリル基を有する場合は最も
一般的な原料はアリルアルコールであるが、これは毒物
であり製造上で問題がある。またカルボキシル基を有す
る樹脂にエポキシ基と重合性基を有する化合物を付加さ
せる方法では、これらの化合物自体の安全性の問題があ
る。
てみると無水物に水酸基と重合性基を有する化合物を付
加させる方法では、最も容易に合成が可能、かつ一般的
なものは水酸基と(メタ)アクリロイル基を有する化合
物を付加させる方法であるが、この場合は先に述べたと
おり硬化性はまだ不足である。またシンナミル基でも同
様に反応性が不足である。アリル基を有する場合は最も
一般的な原料はアリルアルコールであるが、これは毒物
であり製造上で問題がある。またカルボキシル基を有す
る樹脂にエポキシ基と重合性基を有する化合物を付加さ
せる方法では、これらの化合物自体の安全性の問題があ
る。
【0020】本発明者等は、一般には重合性が高いとは
言えないアリル基が合成時には安定でありながら、樹脂
に導入すると硬化性、特にパターン形成後の加熱による
硬化性に非常に優れることを見出した。更にアリル基を
アリルアルコールやアリルグリシジルエーテルの様な安
全性に問題がある化合物を用いることなく、かつ高含有
率で導入が可能、かつ1段階で合成が可能な樹脂を用い
ることを特徴とする。
言えないアリル基が合成時には安定でありながら、樹脂
に導入すると硬化性、特にパターン形成後の加熱による
硬化性に非常に優れることを見出した。更にアリル基を
アリルアルコールやアリルグリシジルエーテルの様な安
全性に問題がある化合物を用いることなく、かつ高含有
率で導入が可能、かつ1段階で合成が可能な樹脂を用い
ることを特徴とする。
【0021】アリル基を反応性基として用いることもで
きるとの記述は前述の特公昭50−34444号公報、
特公昭52−48521号公報、特開昭59−2207
31号公報、特開平1−19572号公報、特開平2−
23351号公報、特開平5−281734号公報、特
開平7−325400号公報、特開平8−101505
号公報、特開平10−90510、特開2000−29
2615号公報、特開2001−66412号公報、特
開2001−66772号公報等に記載されており、カ
ラーフィルターへの応用例や遮光性顔料、無機顔料を含
む例などが示されているものもある。しかしながら何れ
の公報においても特にアリル基の効果の特徴について明
示されたものはなく、あるいは重合性の観点から反応性
基としては(メタ)アクリロイル基が有効であると記載
されている。これらの公報に具体的に示されている樹脂
を用いても十分な硬化性を得ることはできない。
きるとの記述は前述の特公昭50−34444号公報、
特公昭52−48521号公報、特開昭59−2207
31号公報、特開平1−19572号公報、特開平2−
23351号公報、特開平5−281734号公報、特
開平7−325400号公報、特開平8−101505
号公報、特開平10−90510、特開2000−29
2615号公報、特開2001−66412号公報、特
開2001−66772号公報等に記載されており、カ
ラーフィルターへの応用例や遮光性顔料、無機顔料を含
む例などが示されているものもある。しかしながら何れ
の公報においても特にアリル基の効果の特徴について明
示されたものはなく、あるいは重合性の観点から反応性
基としては(メタ)アクリロイル基が有効であると記載
されている。これらの公報に具体的に示されている樹脂
を用いても十分な硬化性を得ることはできない。
【0022】また反応性基の種類を特に限定せず、反応
性基を有する樹脂を用いるカラーフィルターの例も開示
されている。例えば特開平6−11831号公報、特開
平9−269409号公報などであるが、しかしながら
これらの公報には具体例として(メタ)アクリロイル基
等は示されているもののアリル基については記載が無
い。これらの公報に具体的に示されている樹脂を用いて
も十分な硬化性を得ることはできない。
性基を有する樹脂を用いるカラーフィルターの例も開示
されている。例えば特開平6−11831号公報、特開
平9−269409号公報などであるが、しかしながら
これらの公報には具体例として(メタ)アクリロイル基
等は示されているもののアリル基については記載が無
い。これらの公報に具体的に示されている樹脂を用いて
も十分な硬化性を得ることはできない。
【0023】これら以外に特にアリル基を有する樹脂を
用いる例も知られている。特公平3−65542号公
報、特公平5−2140号公報にはカルボキシル基とア
リル基などを有する樹脂と重合性モノマー、ジアゾ樹脂
からなる組成物が開示されている。しかしこの場合はジ
アゾ樹脂が必須であり、用途も印刷版関係であり、本発
明とは異なる。また特開平8−101498号公報には
側鎖に重合性基を有する樹脂で顔料を分散した感光性組
成物が開示されており、特にアリル基が感度向上に有効
であるとの記載が有る。しかしながらこの場合でもその
用途は平版印刷版に限定されており、またアリル基がベ
ークでの硬度向上に有効であるといった記載は無い。
用いる例も知られている。特公平3−65542号公
報、特公平5−2140号公報にはカルボキシル基とア
リル基などを有する樹脂と重合性モノマー、ジアゾ樹脂
からなる組成物が開示されている。しかしこの場合はジ
アゾ樹脂が必須であり、用途も印刷版関係であり、本発
明とは異なる。また特開平8−101498号公報には
側鎖に重合性基を有する樹脂で顔料を分散した感光性組
成物が開示されており、特にアリル基が感度向上に有効
であるとの記載が有る。しかしながらこの場合でもその
用途は平版印刷版に限定されており、またアリル基がベ
ークでの硬度向上に有効であるといった記載は無い。
【0024】また特公昭62−48819号公報には側
鎖にアリル基と水酸基を共に有する樹脂を用いるネガ型
レジストの例が開示されている。更にベークにより耐エ
ッチング性が向上するという記載がある。しかしながら
この場合にはアリル基のみでは耐エッチング性は不足で
あると記載されており、また得られた画像の硬度やベー
ク条件の緩和についての記載は無い。またアルカリ現像
に関する記載も無い。
鎖にアリル基と水酸基を共に有する樹脂を用いるネガ型
レジストの例が開示されている。更にベークにより耐エ
ッチング性が向上するという記載がある。しかしながら
この場合にはアリル基のみでは耐エッチング性は不足で
あると記載されており、また得られた画像の硬度やベー
ク条件の緩和についての記載は無い。またアルカリ現像
に関する記載も無い。
【0025】特公平3−71705号公報ではメタクリ
ル酸ジメチルアリルを構成単位とする樹脂を用いる感光
性樹脂組成物が開示されている。しかしながらこれは特
定の低分子成分を抽出することにより屈折率分布パター
ンを形成するものであり、本発明とは異なるものであ
る。また特開平5−84894号公報にはアリル基を有
する樹脂と芳香族アルデヒド、又は芳香族ケトン化合物
からなる組成物が開示されている。しかしながら、この
場合は芳香族アルデヒド、又は芳香族ケトン化合物を減
圧処理等で除去することで屈折率差とレリーフを有する
パターンを形成するものであり、本発明とは異なるもの
である。
ル酸ジメチルアリルを構成単位とする樹脂を用いる感光
性樹脂組成物が開示されている。しかしながらこれは特
定の低分子成分を抽出することにより屈折率分布パター
ンを形成するものであり、本発明とは異なるものであ
る。また特開平5−84894号公報にはアリル基を有
する樹脂と芳香族アルデヒド、又は芳香族ケトン化合物
からなる組成物が開示されている。しかしながら、この
場合は芳香族アルデヒド、又は芳香族ケトン化合物を減
圧処理等で除去することで屈折率差とレリーフを有する
パターンを形成するものであり、本発明とは異なるもの
である。
【0026】この様に感光性樹脂組成物、特にカラーフ
ィルターやマスク材料などに好適に利用できる十分な露
光感度、アルカリ現像性、解像度などの画像形成性を有
し、かつ経時安定性、硬化性共に優れ、かつ硬化後の各
種の耐性に優れ、また特にこの耐性を付与するのに要す
る加熱条件が穏和であるといった要求を同時に満足する
ような組成物、転写材料は知られていない。
ィルターやマスク材料などに好適に利用できる十分な露
光感度、アルカリ現像性、解像度などの画像形成性を有
し、かつ経時安定性、硬化性共に優れ、かつ硬化後の各
種の耐性に優れ、また特にこの耐性を付与するのに要す
る加熱条件が穏和であるといった要求を同時に満足する
ような組成物、転写材料は知られていない。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの状況
に鑑み、従来の材料の性能改善を行うことを第1の目的
に考案された。つまり、画像形成に十分な露光感度を有
し、pH10程度の弱アルカリ性水溶液で現像が可能
で、解像度が高く、得られた着色画像の硬度、耐薬品
性、耐傷性などの各種の耐性に優れる感光性樹脂組成物
を提供することを目的とする。更にこれらの耐性を付与
する際の後加熱温度を低減しても十分な耐性付与が可能
な感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
に鑑み、従来の材料の性能改善を行うことを第1の目的
に考案された。つまり、画像形成に十分な露光感度を有
し、pH10程度の弱アルカリ性水溶液で現像が可能
で、解像度が高く、得られた着色画像の硬度、耐薬品
性、耐傷性などの各種の耐性に優れる感光性樹脂組成物
を提供することを目的とする。更にこれらの耐性を付与
する際の後加熱温度を低減しても十分な耐性付与が可能
な感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【0028】また、本発明の第2の目的は転写法により
使用可能な、可とう性に富んだ塗工品が製造が可能で、
かつ前記の特性を満足する感光性樹脂層転写材料を提供
することにある。
使用可能な、可とう性に富んだ塗工品が製造が可能で、
かつ前記の特性を満足する感光性樹脂層転写材料を提供
することにある。
【0029】また、本発明の第3の目的は、これらの感
光性樹脂組成物を用いてカラーフィルター、フォトマス
ク材料等の着色画像を形成する製造方法および該方法に
より製造されるカラーフィルター、フォトマスクを提供
することにある。
光性樹脂組成物を用いてカラーフィルター、フォトマス
ク材料等の着色画像を形成する製造方法および該方法に
より製造されるカラーフィルター、フォトマスクを提供
することにある。
【0030】
【課題を解決するための手段】我々はこれらの問題解決
の為に鋭意検討を行った結果、下記組成物を用いること
でこれらの問題を解決可能であることを見出し、本出願
に至った。 <1> 少なくとも(1)アルカリ可溶性バインダー、
(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するモノ
マー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光重合開
始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹脂組成
物であって、上記アルカリ可溶性バインダーが、少なく
ともカルボキシル基を有する構造単位と下記一般式
(I)で示される構造単位とを有する共重合体であるこ
とを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
の為に鋭意検討を行った結果、下記組成物を用いること
でこれらの問題を解決可能であることを見出し、本出願
に至った。 <1> 少なくとも(1)アルカリ可溶性バインダー、
(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するモノ
マー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光重合開
始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹脂組成
物であって、上記アルカリ可溶性バインダーが、少なく
ともカルボキシル基を有する構造単位と下記一般式
(I)で示される構造単位とを有する共重合体であるこ
とを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
【化2】
〔式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2〜R6
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。〕 <2> 前記アルカリ可溶性バインダーが、少なくとも
カルボキシル基を有する構造単位を10〜40モル%と
一般式(I)で示される構造単位を20〜90モル%有
する共重合体である上記<1>に記載の着色感光性樹脂組
成物。 <3> 前記アルカリ可溶性バインダーとして、更に側
鎖に重合性の不飽和二重結合を有しないアルカリ可溶性
バインダーを含有する上記<1>に記載の着色感光性樹脂
組成物。 <4> 前記共重合体が、(1)(メタ)アクリル酸と
アリル(メタ)アクリレートとの共重合体、或いは
(2)(メタ)アクリル酸とアリル(メタ)アクリレー
トとアルキル、アリール、又はアラルキル(メタ)アク
リレート類との共重合体である上記<1>に記載の着色感
光性樹脂組成物。 <5> 前記光重合開始剤が、トリアジン骨格を有する
ハロゲン化炭化水素、オキサジアゾール骨格を有するハ
ロゲン化炭化水素、ヘキサアリールビイミダゾール、チ
タノセン誘導体、又はフェニルアクリジン誘導体である
上記<1>に記載の着色感光性樹脂組成物。 <6> 前記着色剤が、有機顔料である上記<1>〜<5>
のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物。 <7> 前記顔料を分散する際に、分散媒体として、上
記<1>〜<4>のいずれかに記載のアルカリ可溶性バイン
ダーの少なくとも一部を併用することを特徴とする上記
<6>に記載の着色感光性樹脂組成物。 <8> 前記着色剤が、紫外領域に吸収を有することを
特徴とする上記<1>〜<7>のいずれかに記載の着色感光
性樹脂組成物。 <9> 仮支持体上に、少なくとも、上記<1>〜<8>の
いずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層を、
設けたことを特徴とする感光性樹脂転写材料。 <10> 前記仮支持体と前記着色感光性樹脂組成物か
らなる層の間に、更に、アルカリ可溶性熱可塑樹脂層を
設けた上記<9>に記載の感光性樹脂転写材料。 <11> 前記仮支持体と前記着色感光性樹脂組成物か
らなる層の間に、更に、アルカリ可溶性熱可塑樹脂層及
び中間層を、この順に設けた上記<9>に記載の感光性樹
脂転写材料。 <12> 透明基板上に、少なくとも上記<1>〜<8>の
いずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層を設
ける工程と、パターン露光及びアルカリ現像の工程を含
むことを特徴とする画像形成方法。 <13> 前記着色感光性樹脂組成物からなる層が、上
記<9>〜<11>のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも着色感光性樹脂組成物からなる層を転写
したものである上記<12>に記載の画像形成方法。 <14> 前記アルカリ現像工程の後に、更に加熱工程
を含む上記<12>又は<13>に記載の画像形成方法。 <15> 異なる色相の複数の前記着色感光性樹脂組成
物からなる層を用いて、上記<12>〜<14>のいずれか
に記載の画像形成方法を繰り返すことを特徴とするカラ
ーフィルター製造方法。 <16> 上記<8>に記載の着色剤を含む感光性樹脂組
成物からなる層を用い、前記パターン露光を近紫外光な
いし可視光で行なうことを特徴とする上記<12>〜<1
4>のいずれかに記載のフォトマスク製造方法。 <17> 画像を形成する際の近紫外光ないし可視光領
域における前記感光性樹脂層の吸光度が、フォトマスク
として用いる際の紫外領域におけるフォトマスクの吸光
度より小さい上記<16>に記載のフォトマスク製造方
法。 <18> 前記で形成されたフォトマスクの欠陥部分
を、更に、(1)黒部の白抜け欠陥部分には、紫外領域
に吸収を有する着色材を含有し且つ近紫外光ないし可視
光で画像形成が可能な感光性樹脂層を設け、露光し現像
することにより、また(2)白部の欠陥部分には、レー
ザーアブレーションにより、修復を行う上記<16>又は
<17>に記載のフォトマスク製造方法。 <19> 前記露光工程が、近紫外光ないし可視光のレ
ーザー光により行われる上記<16>〜<18>のいずれか
に記載のフォトマスク製造方法。 <20> 透明基板上に、少なくとも上記<1>〜<8>の
いずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層を、
異なる色相の複数層につき設け、パターン露光及びアル
カリ現像を行なって多色画像を形成して得られることを
特徴とするカラーフィルター。 <21> 前記着色感光性樹脂組成物からなる層が、上
記<9>〜<11>のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも着色感光性樹脂組成物からなる層を転写
したものである上記<20>に記載のカラーフィルター。 <22> 前記アルカリ現像の後に、更に加熱処理を行
なって多色画像を形成して得られる上記<20>又は<2
1>に記載のカラーフィルター。 <23> 透明基板上に、上記<8>に記載の着色剤を含
む感光性樹脂組成物からなる層を設け、パターン露光を
近紫外光ないし可視光で行ないアルカリ現像を行なって
画像を形成して得られることを特徴とするフォトマス
ク。 <24> 前記感光性樹脂組成物からなる層が、上記<
9>〜<11>のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも感光性樹脂組成物からなる層を転写した
ものである上記<23>に記載のフォトマスク。 <25> 前記アルカリ現像の後に、更に加熱処理を行
なって画像を形成して得られる上記<23>又は<24>に
記載のフォトマスク。
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。〕 <2> 前記アルカリ可溶性バインダーが、少なくとも
カルボキシル基を有する構造単位を10〜40モル%と
一般式(I)で示される構造単位を20〜90モル%有
する共重合体である上記<1>に記載の着色感光性樹脂組
成物。 <3> 前記アルカリ可溶性バインダーとして、更に側
鎖に重合性の不飽和二重結合を有しないアルカリ可溶性
バインダーを含有する上記<1>に記載の着色感光性樹脂
組成物。 <4> 前記共重合体が、(1)(メタ)アクリル酸と
アリル(メタ)アクリレートとの共重合体、或いは
(2)(メタ)アクリル酸とアリル(メタ)アクリレー
トとアルキル、アリール、又はアラルキル(メタ)アク
リレート類との共重合体である上記<1>に記載の着色感
光性樹脂組成物。 <5> 前記光重合開始剤が、トリアジン骨格を有する
ハロゲン化炭化水素、オキサジアゾール骨格を有するハ
ロゲン化炭化水素、ヘキサアリールビイミダゾール、チ
タノセン誘導体、又はフェニルアクリジン誘導体である
上記<1>に記載の着色感光性樹脂組成物。 <6> 前記着色剤が、有機顔料である上記<1>〜<5>
のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物。 <7> 前記顔料を分散する際に、分散媒体として、上
記<1>〜<4>のいずれかに記載のアルカリ可溶性バイン
ダーの少なくとも一部を併用することを特徴とする上記
<6>に記載の着色感光性樹脂組成物。 <8> 前記着色剤が、紫外領域に吸収を有することを
特徴とする上記<1>〜<7>のいずれかに記載の着色感光
性樹脂組成物。 <9> 仮支持体上に、少なくとも、上記<1>〜<8>の
いずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層を、
設けたことを特徴とする感光性樹脂転写材料。 <10> 前記仮支持体と前記着色感光性樹脂組成物か
らなる層の間に、更に、アルカリ可溶性熱可塑樹脂層を
設けた上記<9>に記載の感光性樹脂転写材料。 <11> 前記仮支持体と前記着色感光性樹脂組成物か
らなる層の間に、更に、アルカリ可溶性熱可塑樹脂層及
び中間層を、この順に設けた上記<9>に記載の感光性樹
脂転写材料。 <12> 透明基板上に、少なくとも上記<1>〜<8>の
いずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層を設
ける工程と、パターン露光及びアルカリ現像の工程を含
むことを特徴とする画像形成方法。 <13> 前記着色感光性樹脂組成物からなる層が、上
記<9>〜<11>のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも着色感光性樹脂組成物からなる層を転写
したものである上記<12>に記載の画像形成方法。 <14> 前記アルカリ現像工程の後に、更に加熱工程
を含む上記<12>又は<13>に記載の画像形成方法。 <15> 異なる色相の複数の前記着色感光性樹脂組成
物からなる層を用いて、上記<12>〜<14>のいずれか
に記載の画像形成方法を繰り返すことを特徴とするカラ
ーフィルター製造方法。 <16> 上記<8>に記載の着色剤を含む感光性樹脂組
成物からなる層を用い、前記パターン露光を近紫外光な
いし可視光で行なうことを特徴とする上記<12>〜<1
4>のいずれかに記載のフォトマスク製造方法。 <17> 画像を形成する際の近紫外光ないし可視光領
域における前記感光性樹脂層の吸光度が、フォトマスク
として用いる際の紫外領域におけるフォトマスクの吸光
度より小さい上記<16>に記載のフォトマスク製造方
法。 <18> 前記で形成されたフォトマスクの欠陥部分
を、更に、(1)黒部の白抜け欠陥部分には、紫外領域
に吸収を有する着色材を含有し且つ近紫外光ないし可視
光で画像形成が可能な感光性樹脂層を設け、露光し現像
することにより、また(2)白部の欠陥部分には、レー
ザーアブレーションにより、修復を行う上記<16>又は
<17>に記載のフォトマスク製造方法。 <19> 前記露光工程が、近紫外光ないし可視光のレ
ーザー光により行われる上記<16>〜<18>のいずれか
に記載のフォトマスク製造方法。 <20> 透明基板上に、少なくとも上記<1>〜<8>の
いずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層を、
異なる色相の複数層につき設け、パターン露光及びアル
カリ現像を行なって多色画像を形成して得られることを
特徴とするカラーフィルター。 <21> 前記着色感光性樹脂組成物からなる層が、上
記<9>〜<11>のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも着色感光性樹脂組成物からなる層を転写
したものである上記<20>に記載のカラーフィルター。 <22> 前記アルカリ現像の後に、更に加熱処理を行
なって多色画像を形成して得られる上記<20>又は<2
1>に記載のカラーフィルター。 <23> 透明基板上に、上記<8>に記載の着色剤を含
む感光性樹脂組成物からなる層を設け、パターン露光を
近紫外光ないし可視光で行ないアルカリ現像を行なって
画像を形成して得られることを特徴とするフォトマス
ク。 <24> 前記感光性樹脂組成物からなる層が、上記<
9>〜<11>のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも感光性樹脂組成物からなる層を転写した
ものである上記<23>に記載のフォトマスク。 <25> 前記アルカリ現像の後に、更に加熱処理を行
なって画像を形成して得られる上記<23>又は<24>に
記載のフォトマスク。
【0031】
【発明の実施の形態】本発明の着色感光性樹脂組成物
は、少なくとも(1)アルカリ可溶性バインダー、
(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するモノ
マー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光重合開
始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹脂組成
物であって、上記アルカリ可溶性バインダーが、少なく
とも、カルボキシル基を有する構造単位と下記一般式
(I)で示される構造単位とを有する共重合体であるこ
とを特徴とする。以下、本発明について詳細に説明す
る。
は、少なくとも(1)アルカリ可溶性バインダー、
(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するモノ
マー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光重合開
始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹脂組成
物であって、上記アルカリ可溶性バインダーが、少なく
とも、カルボキシル基を有する構造単位と下記一般式
(I)で示される構造単位とを有する共重合体であるこ
とを特徴とする。以下、本発明について詳細に説明す
る。
【0032】(アルカリ可溶性バインダー)前記アルカ
リ可溶性バインダーの主成分をなす本発明の共重合体
は、少なくとも、カルボキシル基を有する構造単位と下
記一般式(I)で示される構造単位を有する共重合体で
ある。
リ可溶性バインダーの主成分をなす本発明の共重合体
は、少なくとも、カルボキシル基を有する構造単位と下
記一般式(I)で示される構造単位を有する共重合体で
ある。
【0033】
【化3】
【0034】この様な共重合体は、例えばカルボキシル
基を有する重合性モノマー、下記式(2)で示されるモ
ノマー、及び必要に応じてこれらと共重合可能なその他
のモノマーを公知の方法で共重合させることによって得
られる。
基を有する重合性モノマー、下記式(2)で示されるモ
ノマー、及び必要に応じてこれらと共重合可能なその他
のモノマーを公知の方法で共重合させることによって得
られる。
【0035】
【化4】
上式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2〜R6
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。
【0036】前記カルボキシル基を有する重合性モノマ
ーとしては、例えば(メタ)アクリル酸、ビニル安息香
酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ア
クリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する単
量体と無水マレイン酸や無水フタル酸のような環状無水
物との付加反応物も使用できる。また無水マレイン酸、
無水イタコン酸のような無水物モノマーをカルボン酸の
前駆体として用いることもできる。これらの中でも重合
性や原料価格の点から、(メタ)アクリル酸が特に好ま
しい。
ーとしては、例えば(メタ)アクリル酸、ビニル安息香
酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ア
クリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する単
量体と無水マレイン酸や無水フタル酸のような環状無水
物との付加反応物も使用できる。また無水マレイン酸、
無水イタコン酸のような無水物モノマーをカルボン酸の
前駆体として用いることもできる。これらの中でも重合
性や原料価格の点から、(メタ)アクリル酸が特に好ま
しい。
【0037】前記式(2)で示されるモノマーとしては
アリル(メタ)アクリレート、3−クロル−2−プロペ
ニル(メタ)アクリレート、3−フェニル−2−プロペ
ニル(メタ)アクリレート、3−(ヒドロキシフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2,4−ジ
ヒドロキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリ
レート、3−(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)
−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(3−メ
トキシ−4−ヒドロキシフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、3−(3,4−ジヒドロキシ−
5−メトキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3
−(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(4−メトキシフェ
ニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(4−エトキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、3−(2−メトキシフェニル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(3,4−ジメトキ
シフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
3−(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2,4,6−
トリメトキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3−メトキシ−4−ベンジルオキシフ
ェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(3−(3’−メトキシフェニル)−4−ベンジルオキ
シフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
3−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(4−メチルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート;
アリル(メタ)アクリレート、3−クロル−2−プロペ
ニル(メタ)アクリレート、3−フェニル−2−プロペ
ニル(メタ)アクリレート、3−(ヒドロキシフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2,4−ジ
ヒドロキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリ
レート、3−(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)
−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(3−メ
トキシ−4−ヒドロキシフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、3−(3,4−ジヒドロキシ−
5−メトキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3
−(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(4−メトキシフェ
ニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(4−エトキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、3−(2−メトキシフェニル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(3,4−ジメトキ
シフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
3−(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2,4,6−
トリメトキシフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3−メトキシ−4−ベンジルオキシフ
ェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(3−(3’−メトキシフェニル)−4−ベンジルオキ
シフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
3−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(4−メチルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート;
【0038】3−フェニル−3−(2,4,6−トリメ
チルフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、3,3−〔ジ−(2,4,6−トリメチルフェニ
ル)〕−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−フ
ェニル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、3,3−ジフェニル−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(2−クロルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(3
−クロルフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、3−(2,4−ジクロルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2
−ブロムフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、3−ブロム−3−フェニル−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、3−クロル−3−フェニル−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、3−(4−ニトロフェ
ニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(2−ニトロフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3−ニトロフェニル)−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート、2−メチル−3−フェニル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−メチル−3
−(4−クロルフェニル)−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、2−メチル−3−(4−ニトロフェニル)
−2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−メチル−
3−(4−アミノフェニル)−2−プロペニル(メタ)
アクリレート、2−メチル−3,3−ジフェニル−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、2−エチル−1,3
−ジフェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
2−エトキシメチレン−3−フェニル−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、2−メチル−3−(4−メトキ
シフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
2,3−ジフェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、1,2,3−トリフェニル−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、2,3,3−トリフェニル−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、1,3−ジフェニル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−(4−メチ
ルフェニル)−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)
アクリレート、1−フェニル−3−(4−メチルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−フェ
ニル−3−(4−メトキシフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、1−(4−メトキシフェニル)
−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、1,3−ジ(4−クロルフェニル)−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート、1−(4−ブロムフェニル)
−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト;
チルフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、3,3−〔ジ−(2,4,6−トリメチルフェニ
ル)〕−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−フ
ェニル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、3,3−ジフェニル−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(2−クロルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(3
−クロルフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、3−(2,4−ジクロルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−(2
−ブロムフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、3−ブロム−3−フェニル−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、3−クロル−3−フェニル−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、3−(4−ニトロフェ
ニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(2−ニトロフェニル)−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−(3−ニトロフェニル)−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート、2−メチル−3−フェニル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−メチル−3
−(4−クロルフェニル)−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、2−メチル−3−(4−ニトロフェニル)
−2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−メチル−
3−(4−アミノフェニル)−2−プロペニル(メタ)
アクリレート、2−メチル−3,3−ジフェニル−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、2−エチル−1,3
−ジフェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
2−エトキシメチレン−3−フェニル−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、2−メチル−3−(4−メトキ
シフェニル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
2,3−ジフェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、1,2,3−トリフェニル−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、2,3,3−トリフェニル−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、1,3−ジフェニル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−(4−メチ
ルフェニル)−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)
アクリレート、1−フェニル−3−(4−メチルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−フェ
ニル−3−(4−メトキシフェニル)−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、1−(4−メトキシフェニル)
−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、1,3−ジ(4−クロルフェニル)−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート、1−(4−ブロムフェニル)
−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト;
【0039】1−フェニル−3−(4−ニトロフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1,3−
ジ(2−ニトロフェニル)−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、1−(4−ジメチルアミノフェニル)−3
−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1
−フェニル−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、1,1−ジ(4−
ジメチルアミノフェニル)−3−フェニル−2−プロペ
ニル(メタ)アクリレート、1,1,3−トリフェニル
−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1,1,3,
3−テトラフェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、1−(4−メチルフェニル)−3−フェニル−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、1−フェニル−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、1,2−ジフェニ
ル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−フェニ
ル−2−メチル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、1−シクロヘキシル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、2−ベンジル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、1,1−ジ(4−クロルフェニル)−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、1−シアノ−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−アニリノ−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(2−メチルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(2,4−ジメチルフェニル)−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、1−(2−カルベトキシイソプロピ
ル)−3−メチル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、1−(1−カルベトキシイソプロピル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、1−(1−カルベトキシ
エチル)−3−メチル−2−プロペニル(メタ)アクリ
レート、1−カルベトキシ−3−クロル−3−メチル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−カルベトキ
シメチレン−3−メチル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、1−シアノ−3−メチル−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、1−シクロヘキシル−3−(2
−ヒドロキシシクロへキシル)−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、3−シクロペンチル−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート;
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1,3−
ジ(2−ニトロフェニル)−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、1−(4−ジメチルアミノフェニル)−3
−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1
−フェニル−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、1,1−ジ(4−
ジメチルアミノフェニル)−3−フェニル−2−プロペ
ニル(メタ)アクリレート、1,1,3−トリフェニル
−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1,1,3,
3−テトラフェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、1−(4−メチルフェニル)−3−フェニル−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、1−フェニル−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、1,2−ジフェニ
ル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−フェニ
ル−2−メチル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、1−シクロヘキシル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、2−ベンジル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、1,1−ジ(4−クロルフェニル)−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、1−シアノ−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−アニリノ−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、3−(2−メチルフェニ
ル)−2−プロペニル(メタ)アクリレート、3−
(2,4−ジメチルフェニル)−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、1−(2−カルベトキシイソプロピ
ル)−3−メチル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、1−(1−カルベトキシイソプロピル)−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、1−(1−カルベトキシ
エチル)−3−メチル−2−プロペニル(メタ)アクリ
レート、1−カルベトキシ−3−クロル−3−メチル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、1−カルベトキ
シメチレン−3−メチル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、1−シアノ−3−メチル−2−プロペニル
(メタ)アクリレート、1−シクロヘキシル−3−(2
−ヒドロキシシクロへキシル)−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、3−シクロペンチル−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート;
【0040】3−フリル−2−プロペニル(メタ)アク
リレート、3−クロル−2−プロペニル(メタ)アクリ
レート、3−ブロム−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、2−メチル−3−クロル−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、2−メチル−3−ブロム−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、2−クロル−3−フェニ
ル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−ブロム
−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、2−ブロム−3−(4−ニトロフェニル)−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、2−フルオロ−3−フ
ェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−フ
ルオロ−3−(4−メトキシフェニル)−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート、2−シアノ−3−フェニル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−クロル−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、2−ブロム−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、2−クロル−3,3
−ジフルオロ−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
2−フルオロ−3−クロル−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、2,3−ジブロム−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、2−クロル−3−メチル−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、1,1−ジメチル−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、2−ペンテニル(メ
タ)アクリレート、2−ヘキセニル(メタ)アクリレー
ト、2−ヘプテニル(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。これらの中でも硬化性や原料価格の点からアリル
(メタ)アクリレートが特に好ましい。
リレート、3−クロル−2−プロペニル(メタ)アクリ
レート、3−ブロム−2−プロペニル(メタ)アクリレ
ート、2−メチル−3−クロル−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、2−メチル−3−ブロム−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、2−クロル−3−フェニ
ル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−ブロム
−3−フェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレー
ト、2−ブロム−3−(4−ニトロフェニル)−2−プ
ロペニル(メタ)アクリレート、2−フルオロ−3−フ
ェニル−2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−フ
ルオロ−3−(4−メトキシフェニル)−2−プロペニ
ル(メタ)アクリレート、2−シアノ−3−フェニル−
2−プロペニル(メタ)アクリレート、2−クロル−2
−プロペニル(メタ)アクリレート、2−ブロム−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、2−クロル−3,3
−ジフルオロ−2−プロペニル(メタ)アクリレート、
2−フルオロ−3−クロル−2−プロペニル(メタ)ア
クリレート、2,3−ジブロム−2−プロペニル(メ
タ)アクリレート、2−クロル−3−メチル−2−プロ
ペニル(メタ)アクリレート、1,1−ジメチル−2−
プロペニル(メタ)アクリレート、2−ペンテニル(メ
タ)アクリレート、2−ヘキセニル(メタ)アクリレー
ト、2−ヘプテニル(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。これらの中でも硬化性や原料価格の点からアリル
(メタ)アクリレートが特に好ましい。
【0041】また、これらの構造単位と共重合が可能な
その他のモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル
酸アルキルエステル[例えば、(メタ)アクリル酸メチ
ル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プ
ロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)ア
クリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、
(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ヘ
キシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリ
ル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリ
ル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アク
リル酸(C1〜C1 8)アルキルエステルなど];
その他のモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル
酸アルキルエステル[例えば、(メタ)アクリル酸メチ
ル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プ
ロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)ア
クリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、
(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ヘ
キシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリ
ル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリ
ル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アク
リル酸(C1〜C1 8)アルキルエステルなど];
【0042】(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステ
ル[(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなど]、(メ
タ)アクリル酸アリールエステル[(メタ)アクリル酸
フェニルなど]、アラルキルエステル[(メタ)アクリ
ル酸ベンジルなど]、置換(メタ)アクリル酸アルキル
エステル[例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル(メタ)アクリレートなど]、
(メタ)アクリアミド類[例えば、(メタ)アクリルア
ミド、ジメチル(メタ)アクリルアミド、イソプロピル
(メタ)アクリルアミド、t−ブチル(メタ)アクリル
アミドなど]、置換(メタ)アクリアミド類[例えば、
(メタ)アクリロイルモルホリン、ジメチルアミノプロ
ピル(メタ)アクリルアミドなど]、芳香族ビニル類
[スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンな
ど]、ヘテロ環ビニル類[ビニルイミダゾール、ビニル
ピリジンなど]、ビニルエステル類[酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニルなど]、N−ビ
ニルアミド類[N−ビニルピロリドン、N−ビニルホル
ムアミド、N−ビニルアセトアミドなど]、アリルエス
テル類[酢酸アリルなど]、ハロゲン含有単量体[塩化
ビニリデン、塩化ビニルなど]、シアン化ビニル[(メ
タ)アクリロニトリルなど]、オレフィン類[エチレ
ン、プロピレンなど]等が挙げられる。
ル[(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなど]、(メ
タ)アクリル酸アリールエステル[(メタ)アクリル酸
フェニルなど]、アラルキルエステル[(メタ)アクリ
ル酸ベンジルなど]、置換(メタ)アクリル酸アルキル
エステル[例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル(メタ)アクリレートなど]、
(メタ)アクリアミド類[例えば、(メタ)アクリルア
ミド、ジメチル(メタ)アクリルアミド、イソプロピル
(メタ)アクリルアミド、t−ブチル(メタ)アクリル
アミドなど]、置換(メタ)アクリアミド類[例えば、
(メタ)アクリロイルモルホリン、ジメチルアミノプロ
ピル(メタ)アクリルアミドなど]、芳香族ビニル類
[スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンな
ど]、ヘテロ環ビニル類[ビニルイミダゾール、ビニル
ピリジンなど]、ビニルエステル類[酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニルなど]、N−ビ
ニルアミド類[N−ビニルピロリドン、N−ビニルホル
ムアミド、N−ビニルアセトアミドなど]、アリルエス
テル類[酢酸アリルなど]、ハロゲン含有単量体[塩化
ビニリデン、塩化ビニルなど]、シアン化ビニル[(メ
タ)アクリロニトリルなど]、オレフィン類[エチレ
ン、プロピレンなど]等が挙げられる。
【0043】これらの内でも、その共重合性や生成する
重合体の溶媒溶解性、得られる膜の製膜性などの観点か
ら(メタ)アクリル酸アルキルエステル[例えば、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソ
プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)ア
クリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、
(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オク
チル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルなど]、
(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル[(メタ)
アクリル酸シクロヘキシルなど]、アラルキルエステル
[(メタ)アクリル酸ベンジルなど]等が特に好まし
い。これらの共重合可能な他成分は1種でも、又は2種
以上の組合せでもよい。
重合体の溶媒溶解性、得られる膜の製膜性などの観点か
ら(メタ)アクリル酸アルキルエステル[例えば、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソ
プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)ア
クリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、
(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オク
チル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルなど]、
(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル[(メタ)
アクリル酸シクロヘキシルなど]、アラルキルエステル
[(メタ)アクリル酸ベンジルなど]等が特に好まし
い。これらの共重合可能な他成分は1種でも、又は2種
以上の組合せでもよい。
【0044】尚、これらの各成分の共重合組成比はカル
ボキシル基を有する単位は10〜40モル%が好まし
く、15〜35モル%が更に好ましく、20〜35モル
%が特に好ましい。該カルボキシル基を有する単位が1
0モル%未満では現像性が不足することがあり、40モ
ル%を超えると画像部の現像液耐性が低下することがあ
る。また一般式(I)で示される構造単位は20〜90
モル%が好ましく、20〜85モル%が更に好ましく、
25〜85モル%が特に好ましい。一般式(I)で示さ
れる構造単位が20モル%未満では硬化性が不足するこ
とがあり、90モル%を超えると現像性が低下すること
がある。
ボキシル基を有する単位は10〜40モル%が好まし
く、15〜35モル%が更に好ましく、20〜35モル
%が特に好ましい。該カルボキシル基を有する単位が1
0モル%未満では現像性が不足することがあり、40モ
ル%を超えると画像部の現像液耐性が低下することがあ
る。また一般式(I)で示される構造単位は20〜90
モル%が好ましく、20〜85モル%が更に好ましく、
25〜85モル%が特に好ましい。一般式(I)で示さ
れる構造単位が20モル%未満では硬化性が不足するこ
とがあり、90モル%を超えると現像性が低下すること
がある。
【0045】また、本発明の共重合体の重量平均分子量
は5000〜20万が好ましく、1万〜10万が更に好
ましく、1.2万〜8万が特に好ましい。該重量平均分
子量は5000未満では共重合体の製造適性に欠けるこ
とがあり、20万を超えると現像性が低下することがあ
る。
は5000〜20万が好ましく、1万〜10万が更に好
ましく、1.2万〜8万が特に好ましい。該重量平均分
子量は5000未満では共重合体の製造適性に欠けるこ
とがあり、20万を超えると現像性が低下することがあ
る。
【0046】本発明の共重合体の具体例としては、例え
ば次の様なものが挙げられる。但し、本発明はこれらの
例示化合物に限定されるものではない。
ば次の様なものが挙げられる。但し、本発明はこれらの
例示化合物に限定されるものではない。
【0047】
【化5】
【0048】
【化6】
【0049】
【化7】
【0050】この様な共重合体は、それぞれ相当する単
量体を公知の方法で常法に従って共重合させることで得
られる。例えば、これらの単量体を適当な溶媒中に溶解
し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合
させることで得られる。
量体を公知の方法で常法に従って共重合させることで得
られる。例えば、これらの単量体を適当な溶媒中に溶解
し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合
させることで得られる。
【0051】上記共重合用の適当な溶媒の例としては、
用いるモノマー、及び生成する共重合体の溶解性に応じ
て任意に選択できるが、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、1−メトキシ−
2−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、
乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トル
エン、及びこれらの混合物などが利用できる。また重合
開始剤としては2,2’−アゾビス(イソブチロニトリ
ル)(AIBN)、2,2’−アゾビス−(2,4’−
ジメチルバレロニトリル)の様なアゾ系、ベンゾイルパ
ーオキシドの様な過酸化物系、過硫酸塩等が利用でき
る。
用いるモノマー、及び生成する共重合体の溶解性に応じ
て任意に選択できるが、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、1−メトキシ−
2−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、
乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トル
エン、及びこれらの混合物などが利用できる。また重合
開始剤としては2,2’−アゾビス(イソブチロニトリ
ル)(AIBN)、2,2’−アゾビス−(2,4’−
ジメチルバレロニトリル)の様なアゾ系、ベンゾイルパ
ーオキシドの様な過酸化物系、過硫酸塩等が利用でき
る。
【0052】また、分子量の調整の為に公知の連鎖移動
剤を適宜使用することもできる。また重合時のアリル基
の反応を抑制する為に重合濃度、開始剤量、連鎖移動
剤、重合温度などを適切に調整することも必要である。
例えば重合濃度としては5〜50質量%が好ましく、1
0〜40質量%が更に好ましい。
剤を適宜使用することもできる。また重合時のアリル基
の反応を抑制する為に重合濃度、開始剤量、連鎖移動
剤、重合温度などを適切に調整することも必要である。
例えば重合濃度としては5〜50質量%が好ましく、1
0〜40質量%が更に好ましい。
【0053】アルカリ可溶性バインダーとしては、上述
の共重合体の他に、本発明の目的とする特性を損ねない
範囲で、側鎖に反応性の不飽和二重結合を含まない公知
のアルカリ可溶性バインダーを併用することもできる。
の共重合体の他に、本発明の目的とする特性を損ねない
範囲で、側鎖に反応性の不飽和二重結合を含まない公知
のアルカリ可溶性バインダーを併用することもできる。
【0054】この様な側鎖に反応性の不飽和二重結合を
含まない重合体は、アルカリ現像型のフォトポリマー系
において一般的に使用されており、例えば前述のカルボ
キシル基を有する重合性モノマーの1種以上、及び(メ
タ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリアミド類、
芳香族ビニル類、ヘテロ環ビニル類、ビニルエステル類
などから選ばれる1種以上のモノマーの共重合体などが
挙げられる。この様な重合体の具体例としては、(メ
タ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合
体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート
/ベンジル(メタ)アクリレート/2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート共重合体等が挙げられる。
含まない重合体は、アルカリ現像型のフォトポリマー系
において一般的に使用されており、例えば前述のカルボ
キシル基を有する重合性モノマーの1種以上、及び(メ
タ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリアミド類、
芳香族ビニル類、ヘテロ環ビニル類、ビニルエステル類
などから選ばれる1種以上のモノマーの共重合体などが
挙げられる。この様な重合体の具体例としては、(メ
タ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合
体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート
/ベンジル(メタ)アクリレート/2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート共重合体等が挙げられる。
【0055】(二重結合を2個以上有するモノマー/オ
リゴマー)次に、エチレン性不飽和二重結合を2個以上
含有するモノマー、あるいはオリゴマーについて説明す
る。エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するモノマ
ー、あるいはオリゴマーは、前記の共重合体のアルカリ
水溶液に対する溶解性を失わず、放射線を受けることに
よって重合し、共重合体と共に塗膜のアルカリ水溶液に
対する溶解性を減少するものである。例えばモノマー、
プレポリマー、即ち2量体、3量体およびオリゴマー、
又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化
学構造をもつものである。モノマーおよびその共重合体
の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロ
トン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合
物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミ
ン化合物とのアミド化合物等が挙げられる。
リゴマー)次に、エチレン性不飽和二重結合を2個以上
含有するモノマー、あるいはオリゴマーについて説明す
る。エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するモノマ
ー、あるいはオリゴマーは、前記の共重合体のアルカリ
水溶液に対する溶解性を失わず、放射線を受けることに
よって重合し、共重合体と共に塗膜のアルカリ水溶液に
対する溶解性を減少するものである。例えばモノマー、
プレポリマー、即ち2量体、3量体およびオリゴマー、
又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化
学構造をもつものである。モノマーおよびその共重合体
の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロ
トン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合
物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミ
ン化合物とのアミド化合物等が挙げられる。
【0056】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステル類からなるモノマーの具体例として
は、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメ
チレングリコールジアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エ一テル、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、へキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソル
ビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアク
リレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエス
テルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。
ボン酸とのエステル類からなるモノマーの具体例として
は、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメ
チレングリコールジアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エ一テル、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、へキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソル
ビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアク
リレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエス
テルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。
【0057】メタクリル酸エステル類としては、テトラ
メチレングリコールジメタクリレート、トリエチレング
リコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジ
オールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタ
クリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビ
トールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタク
リルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジ
メチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。
メチレングリコールジメタクリレート、トリエチレング
リコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジ
オールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタ
クリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビ
トールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタク
リルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジ
メチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。
【0058】イタコン酸エステル類としては、エチレン
グリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイ
タコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙
げられる。
グリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイ
タコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙
げられる。
【0059】クロトン酸エステル類としては、エチレン
グリコールジクロトネート、テトラメチレングリコール
ジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネー
ト、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソ
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイ
ソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネ
ート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げら
れる。
グリコールジクロトネート、テトラメチレングリコール
ジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネー
ト、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソ
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイ
ソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネ
ート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げら
れる。
【0060】マレイン酸エステル類としては、エチレン
グリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレ
ート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトール
テトラマレート等が挙げられる。更に、前述のエステル
類モノマーの混合物も使用できる。
グリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレ
ート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトール
テトラマレート等が挙げられる。更に、前述のエステル
類モノマーの混合物も使用できる。
【0061】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミド化合物からなるモノマーの具体例と
しては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス
−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−ア
クリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリ
ルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミ
ド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメ
タクリルアミド等が挙げられる。
ルボン酸とのアミド化合物からなるモノマーの具体例と
しては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス
−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−ア
クリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリ
ルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミ
ド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメ
タクリルアミド等が挙げられる。
【0062】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(5)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニ
ル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 一般式(5) CH2=C(R)COOCH2CH(R1)OH (ここで、RおよびR1はHあるいはCH3を示す。)
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(5)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニ
ル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 一般式(5) CH2=C(R)COOCH2CH(R1)OH (ここで、RおよびR1はHあるいはCH3を示す。)
【0063】また、特開昭51−37193号に記載さ
れている様なウレタンアクリレート類、特開昭48−6
4183号、特公昭49−43191号、特公昭52−
30490号各公報に記載されている様なポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。更に、
日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ペー
ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。こ
れらのエチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する付
加重合可能な化合物は単独で又は2種類以上を組み合わ
せて用いることができる。尚、これらの使用量は、組成
物の全固形分に対して5〜70質量%、好ましくは10
〜60質量%であり、特に好ましくは30〜50質量%
である。該使用量が5質量%未満では、得られる絶縁性
画像の性質が劣る(耐溶剤性など)ことがあり、70質
量%を越えると感光性組成物の塗膜が柔らか過ぎて取り
扱い性が劣ることがある。
れている様なウレタンアクリレート類、特開昭48−6
4183号、特公昭49−43191号、特公昭52−
30490号各公報に記載されている様なポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。更に、
日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ペー
ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。こ
れらのエチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する付
加重合可能な化合物は単独で又は2種類以上を組み合わ
せて用いることができる。尚、これらの使用量は、組成
物の全固形分に対して5〜70質量%、好ましくは10
〜60質量%であり、特に好ましくは30〜50質量%
である。該使用量が5質量%未満では、得られる絶縁性
画像の性質が劣る(耐溶剤性など)ことがあり、70質
量%を越えると感光性組成物の塗膜が柔らか過ぎて取り
扱い性が劣ることがある。
【0064】(光重合開始剤、光重合開始剤系)次に光
重合開始剤又は光重合開始剤系(光重合開始剤の組み合
わせや光重合開始剤と増感剤等の組み合わせ等)につい
て説明する。光重合開始剤は、前記のエチレン性不飽和
二重結合を2個以上含有するモノマー、あるいはオリゴ
マー、及び前記少なくともカルボキシル基を有する構造
単位、及び一般式(I)で示される構造単位を有する共
重合体の光重合を実質的に開始することのできる化合物
である。このような光重合開始剤としては、前記エチレ
ン性不飽和結合の重合を開始する能力を有する化合物は
全て使用可能であり、特に紫外線領域の光線に対して感
光性を有するものであれば好適に使用できる。また、本
発明の光重合開始剤は、光励起された増感剤と何らかの
作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であっても
よい。本発明で好ましく使用される光重合開始剤として
は、例えば、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水
素、オキサジアゾール骨格を有するハロゲン化炭化水素
化合物、フェニルアクリジン誘導体、ケトン化合物、ケ
トオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサ
アリールビイミダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキ
シムエーテル、チタノセン系化合物等を挙げることがで
きる。
重合開始剤又は光重合開始剤系(光重合開始剤の組み合
わせや光重合開始剤と増感剤等の組み合わせ等)につい
て説明する。光重合開始剤は、前記のエチレン性不飽和
二重結合を2個以上含有するモノマー、あるいはオリゴ
マー、及び前記少なくともカルボキシル基を有する構造
単位、及び一般式(I)で示される構造単位を有する共
重合体の光重合を実質的に開始することのできる化合物
である。このような光重合開始剤としては、前記エチレ
ン性不飽和結合の重合を開始する能力を有する化合物は
全て使用可能であり、特に紫外線領域の光線に対して感
光性を有するものであれば好適に使用できる。また、本
発明の光重合開始剤は、光励起された増感剤と何らかの
作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であっても
よい。本発明で好ましく使用される光重合開始剤として
は、例えば、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水
素、オキサジアゾール骨格を有するハロゲン化炭化水素
化合物、フェニルアクリジン誘導体、ケトン化合物、ケ
トオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサ
アリールビイミダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキ
シムエーテル、チタノセン系化合物等を挙げることがで
きる。
【0065】トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水
素化合物としては、例えば、若林ら著、Bull. Chem. So
c. Japan, 42、2924(1969)記載の化合物、たとえば、
2−フェニル4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−
トリアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−
トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−メチル
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジ
ン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロル
エチル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン等が挙げられる。
素化合物としては、例えば、若林ら著、Bull. Chem. So
c. Japan, 42、2924(1969)記載の化合物、たとえば、
2−フェニル4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−
トリアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−
トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−メチル
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジ
ン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロル
エチル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン等が挙げられる。
【0066】その他、英国特許1388492号明細書
記載の化合物、たとえば、2−スチリル−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
チルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロ
ルメチル−s−トリアジン等、特開昭53−13342
8号記載の化合物、たとえば、2−(4−メトキシ−ナ
フト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−
s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1
−イル〕−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン等、独国特許3
337024号明細書記載の化合物、たとえば2−(4
−スチリルフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(4−p−メトキシスチリ
ルフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(1−ナフチルビニレンフェニル)
−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−クロロスチリルフェニル−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−チオフェ
ン−2−ビニレンフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−(4−チオフェン−
3−ビニレンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(4−フラン−2−ビニ
レンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(4−ベンゾフラン−2−ビニレ
ンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジンを挙げることができる。
記載の化合物、たとえば、2−スチリル−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
チルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロ
ルメチル−s−トリアジン等、特開昭53−13342
8号記載の化合物、たとえば、2−(4−メトキシ−ナ
フト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−
s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1
−イル〕−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン等、独国特許3
337024号明細書記載の化合物、たとえば2−(4
−スチリルフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(4−p−メトキシスチリ
ルフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(1−ナフチルビニレンフェニル)
−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−クロロスチリルフェニル−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−チオフェ
ン−2−ビニレンフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−(4−チオフェン−
3−ビニレンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(4−フラン−2−ビニ
レンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(4−ベンゾフラン−2−ビニレ
ンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジンを挙げることができる。
【0067】また、F.C.Schaefer等によるJ. Org. Che
m.;29、1527(1964)記載の化合物、たとえば2−メチ
ル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−ト
リアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s
−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロ
モメチル−s−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル
−6−トリクロロメチル−s−トリアジン等を挙げるこ
とができる。
m.;29、1527(1964)記載の化合物、たとえば2−メチ
ル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−ト
リアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s
−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロ
モメチル−s−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル
−6−トリクロロメチル−s−トリアジン等を挙げるこ
とができる。
【0068】更に特開昭62−58241号記載の化合
物、例えば2−(4−フェニルアセチレンフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4−ナフチル−1−アセチレンフェニル−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−トリルアセチレンフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−p
−メトキシフェニルアセチレンフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−
p−イソプロピルフェニルアセチレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−エチルフェニルアセチレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンを挙げ
ることができる。
物、例えば2−(4−フェニルアセチレンフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4−ナフチル−1−アセチレンフェニル−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−トリルアセチレンフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−p
−メトキシフェニルアセチレンフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−
p−イソプロピルフェニルアセチレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−エチルフェニルアセチレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンを挙げ
ることができる。
【0069】更に特開平5−281728号記載の化合
物、例えば2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6
−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジブロモフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジンを挙げることができる。また、特開平5−3492
0号記載の2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
[4−(N,N−ジエトキシカルボニルメチルアミノ)
−3−ブロモフェニル]−s−トリアジンが挙げられ
る。
物、例えば2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6
−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジブロモフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジンを挙げることができる。また、特開平5−3492
0号記載の2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
[4−(N,N−ジエトキシカルボニルメチルアミノ)
−3−ブロモフェニル]−s−トリアジンが挙げられ
る。
【0070】また、オキサジアゾール骨格を有するハロ
ゲン化炭化水素化合物としては、例えば特開2000−
39712号公報などに記載の化合物が挙げられる。よ
り具体的には下記化合物などが挙げられる。
ゲン化炭化水素化合物としては、例えば特開2000−
39712号公報などに記載の化合物が挙げられる。よ
り具体的には下記化合物などが挙げられる。
【0071】
【化8】
〔式中、Ar1とAr2はそれぞれ置換基を有してもよい
芳香族環を示し、Xはハロゲン原子を示す。〕
芳香族環を示し、Xはハロゲン原子を示す。〕
【0072】本発明で好適に用いられるケトオキシム化
合物としては、下記式(6)で示される化合物を挙げる
ことができる。
合物としては、下記式(6)で示される化合物を挙げる
ことができる。
【0073】
【化9】
【0074】〔式中、R2とR3は同一または異なり、置
換基を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよ
い炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。R4とR5は同一
または異なり、水素原子又は置換基を有していてもよく
不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環
基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置
換チオ基を表わす。また、R4とR5は互いに結合して環
を形成し、−O−、−NR 6−、−O−CO−、−NH
−CO−、−S−、及び/又は、−SO2−を環の連結
主鎖に含んでいてもよい炭素数2〜8のアルキレン基を
表す。R6とR7は水素原子、置換基を有していてもよく
不飽和結合をゆうしていてもよい炭化水素基、或いは置
換カルボニル基を表す。〕
換基を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよ
い炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。R4とR5は同一
または異なり、水素原子又は置換基を有していてもよく
不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環
基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置
換チオ基を表わす。また、R4とR5は互いに結合して環
を形成し、−O−、−NR 6−、−O−CO−、−NH
−CO−、−S−、及び/又は、−SO2−を環の連結
主鎖に含んでいてもよい炭素数2〜8のアルキレン基を
表す。R6とR7は水素原子、置換基を有していてもよく
不飽和結合をゆうしていてもよい炭化水素基、或いは置
換カルボニル基を表す。〕
【0075】具体的な化合物として、p−メトキシフェ
ニル2−N,N−ジメチルアミノプロピルケトンオキシ
ム−O−アリルエーテル、p−メチルチオフェニル2−
モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−アリルエー
テル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピ
ルケトンオキシム−O−ベンジルエーテル、p−メチル
チオフェニル2−モルフォリノプロピルケトンオキシム
−O−n−ブチルエーテル、p−モルフォリノフェニル
2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−アリル
エーテル、p−メトキシフェニル2−モルフォリノプロ
ピルケトンオキシム−O−n−ドデシルエーテル、p−
メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピルケトンオ
キシム−O−メトキシエトキシエチルエーテル、p−メ
チルチオフェニル2−モルフォリノプロピルケトンオキ
シム−O−p−メトキシカルボニルベンジルエーテル、
p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピルケ
トンオキシム−O−メトキシカルボニルメチルエーテ
ル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピル
ケトンオキシム−O−エトキシカルボニルメチルエーテ
ル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピル
ケトンオキシム−O−4−ブトキシカルボニルブチルエ
ーテル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロ
ピルケトンオキシム−O−2−エトキシカルボニルエチ
ルエーテル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノ
プロピルケトンオキシム−O−メトキシカルボニル−3
−プロペニルエーテル、p−メチルチオフェニル2−モ
ルフォリノプロピルケトンオキシム−O−ベンジルオキ
シカルボニルメチルエーテルを挙げることができるがこ
れに限定されるものではない。
ニル2−N,N−ジメチルアミノプロピルケトンオキシ
ム−O−アリルエーテル、p−メチルチオフェニル2−
モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−アリルエー
テル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピ
ルケトンオキシム−O−ベンジルエーテル、p−メチル
チオフェニル2−モルフォリノプロピルケトンオキシム
−O−n−ブチルエーテル、p−モルフォリノフェニル
2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−アリル
エーテル、p−メトキシフェニル2−モルフォリノプロ
ピルケトンオキシム−O−n−ドデシルエーテル、p−
メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピルケトンオ
キシム−O−メトキシエトキシエチルエーテル、p−メ
チルチオフェニル2−モルフォリノプロピルケトンオキ
シム−O−p−メトキシカルボニルベンジルエーテル、
p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピルケ
トンオキシム−O−メトキシカルボニルメチルエーテ
ル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピル
ケトンオキシム−O−エトキシカルボニルメチルエーテ
ル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロピル
ケトンオキシム−O−4−ブトキシカルボニルブチルエ
ーテル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノプロ
ピルケトンオキシム−O−2−エトキシカルボニルエチ
ルエーテル、p−メチルチオフェニル2−モルフォリノ
プロピルケトンオキシム−O−メトキシカルボニル−3
−プロペニルエーテル、p−メチルチオフェニル2−モ
ルフォリノプロピルケトンオキシム−O−ベンジルオキ
シカルボニルメチルエーテルを挙げることができるがこ
れに限定されるものではない。
【0076】本発明に使用されるヘキサアリールビイミ
ダゾールとしては、2,2′−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−
ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テ
トラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフ
ルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フェニルビイミダゾール等が挙げられる。これらのビイ
ミダゾール類は、例えばBull. Chem.Soc. Japan, 33, 5
65(1960)およびJ. Org. Chem, 36 (16) 2262(1971)に
開示されている方法により容易に合成することができ
る。
ダゾールとしては、2,2′−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−
ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テ
トラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフ
ルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フェニルビイミダゾール等が挙げられる。これらのビイ
ミダゾール類は、例えばBull. Chem.Soc. Japan, 33, 5
65(1960)およびJ. Org. Chem, 36 (16) 2262(1971)に
開示されている方法により容易に合成することができ
る。
【0077】ケトオキシムエステルとしては、3−ベン
ゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイ
ミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノ
ブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3
−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン
−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニル
プロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキ
シイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオ
キシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げ
られる。
ゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイ
ミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノ
ブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3
−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン
−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニル
プロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキ
シイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオ
キシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げ
られる。
【0078】またチタノセン系の開始剤も利用できる。
この様な化合物の具体例としては、増感色素との共存下
で光照射した場合活性ラジカルを発生し得るチタノセン
化合物であれば、例えば、特開昭59−152396号、特開昭
60−151197号公報に記載されている公知の化合物を適宜
選択して用いることができる。更に具体的には、ジーシ
クロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペ
ンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフ
ェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオ
ロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチル
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−
テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ
−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス
(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニ
ル)チタニウム等を挙げることができる。
この様な化合物の具体例としては、増感色素との共存下
で光照射した場合活性ラジカルを発生し得るチタノセン
化合物であれば、例えば、特開昭59−152396号、特開昭
60−151197号公報に記載されている公知の化合物を適宜
選択して用いることができる。更に具体的には、ジーシ
クロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペ
ンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフ
ェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオ
ロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチル
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−
テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ
−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス
(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニ
ル)チタニウム等を挙げることができる。
【0079】また着色剤として紫外領域に吸収を有する
ものを利用する場合には光重合開始剤、あるいは光重合
開始系としては、フォトマスク材料等の画像形成時に用
いるレーザープロッターのレーザー波長が可視部にある
ため、レーザー光を吸収する増感色素と重合開始剤を組
み合わせた光重合開始系の使用が望ましい。この様な例
としては、例えば特開2000−39712号公報など
に示されている。具体的な化合物としては、下記に示す
ものを挙げることができる。
ものを利用する場合には光重合開始剤、あるいは光重合
開始系としては、フォトマスク材料等の画像形成時に用
いるレーザープロッターのレーザー波長が可視部にある
ため、レーザー光を吸収する増感色素と重合開始剤を組
み合わせた光重合開始系の使用が望ましい。この様な例
としては、例えば特開2000−39712号公報など
に示されている。具体的な化合物としては、下記に示す
ものを挙げることができる。
【0080】
【化10】
【0081】
【化11】
【0082】
【化12】
【0083】
【化13】
【0084】
【化14】
【0085】
【化15】
【0086】以上述べた中でも、特にトリアジン骨格を
有するハロゲン化炭化水素、オキサジアゾール骨格を有
するハロゲン化炭化水素、ヘキサアリールビイミダゾー
ル、チタノセン系化合物を用いた系が、感度、保存性、
塗膜の基板への密着性等が良好であり好ましい。
有するハロゲン化炭化水素、オキサジアゾール骨格を有
するハロゲン化炭化水素、ヘキサアリールビイミダゾー
ル、チタノセン系化合物を用いた系が、感度、保存性、
塗膜の基板への密着性等が良好であり好ましい。
【0087】これらの光重合開始剤は単独種で1つまた
は2種以上を併用して使用することができる。また、異
種間で数個の化合物を併用することも可能である。これ
らの光重合開始剤の使用量は、組成物中の全固形分に対
して0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量
%である。該使用量が0.1質量%より少ないと光感度
が低く実用的な時間内での画像形成が困難であることが
あり、また50質量%を越えると組成物中の相溶性が困
難になるばかりでなく、得られる画像の絶縁膜としての
性質(耐薬品性など)が一般に劣化することがある。
は2種以上を併用して使用することができる。また、異
種間で数個の化合物を併用することも可能である。これ
らの光重合開始剤の使用量は、組成物中の全固形分に対
して0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量
%である。該使用量が0.1質量%より少ないと光感度
が低く実用的な時間内での画像形成が困難であることが
あり、また50質量%を越えると組成物中の相溶性が困
難になるばかりでなく、得られる画像の絶縁膜としての
性質(耐薬品性など)が一般に劣化することがある。
【0088】(着色剤)着色剤としては有機、無機の顔
料、染料などが利用できるが、特にその色相や画像の耐
性などの観点から有機顔料を用いることが好ましい。本
発明の感光性樹脂組成物は、保護層や中間層等の無色透
明な層に用いることもできるが、着色剤を含有して着色
感光性樹脂層を形成することもできる。上記着色剤とし
ては、顔料が挙げられ、具体例としては、C.I.PR
254分散液、C.I.PR177分散液、C.I.P
R224分散液、C.I.PG36分散液、C.I.P
B15:6分散液、C.I.PB60分散液、C.I.
PG7分散液、C.I.PY138分散液、C.I.P
Y139分散液、C.I.PY150分散液、C.I.
PY128分散液、C.I.PY185分散液、等を挙
げることが出来る。着色された感光性樹脂組成物中の顔
料(着色剤)の含有量は、3〜60質量%であることが
好ましいく、より好ましくは5〜50質量%である。
料、染料などが利用できるが、特にその色相や画像の耐
性などの観点から有機顔料を用いることが好ましい。本
発明の感光性樹脂組成物は、保護層や中間層等の無色透
明な層に用いることもできるが、着色剤を含有して着色
感光性樹脂層を形成することもできる。上記着色剤とし
ては、顔料が挙げられ、具体例としては、C.I.PR
254分散液、C.I.PR177分散液、C.I.P
R224分散液、C.I.PG36分散液、C.I.P
B15:6分散液、C.I.PB60分散液、C.I.
PG7分散液、C.I.PY138分散液、C.I.P
Y139分散液、C.I.PY150分散液、C.I.
PY128分散液、C.I.PY185分散液、等を挙
げることが出来る。着色された感光性樹脂組成物中の顔
料(着色剤)の含有量は、3〜60質量%であることが
好ましいく、より好ましくは5〜50質量%である。
【0089】特に本発明において、好適な顔料は分散液
として使用することが望ましい。この分散液は、以下の
方法によって調製することができる。 (1)上記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる
組成物を、有機溶剤(またはビヒクル)に添加して分散
させる方法、(2)有機溶剤(またはビヒクル)に、上
記顔料と顔料分散剤を別々に添加して分散させる方法、
(3)上記顔料と顔料分散剤とを予め別々に有機溶剤
(またはビヒクル)に分散し、得られた分散体を混合す
る方法(この場合、顔料分散剤を有機溶剤のみで分散し
てもよい。)、(4)有機溶剤(またはビヒクル)に、
上記顔料を分散した後、得られた分散体に顔料分散剤を
添加する方法である。
として使用することが望ましい。この分散液は、以下の
方法によって調製することができる。 (1)上記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる
組成物を、有機溶剤(またはビヒクル)に添加して分散
させる方法、(2)有機溶剤(またはビヒクル)に、上
記顔料と顔料分散剤を別々に添加して分散させる方法、
(3)上記顔料と顔料分散剤とを予め別々に有機溶剤
(またはビヒクル)に分散し、得られた分散体を混合す
る方法(この場合、顔料分散剤を有機溶剤のみで分散し
てもよい。)、(4)有機溶剤(またはビヒクル)に、
上記顔料を分散した後、得られた分散体に顔料分散剤を
添加する方法である。
【0090】上記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある
ときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状で
あって上記顔料と結合して塗膜を固める部分(バインダ
ー)とこれを溶解希釈する成分(有機溶剤)とを含む。
ときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状で
あって上記顔料と結合して塗膜を固める部分(バインダ
ー)とこれを溶解希釈する成分(有機溶剤)とを含む。
【0091】上記顔料を分散させる際に使用する分散機
としては、特に制限はなく、例えばニーダー、ロールミ
ル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバー、ホモ
ミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。
としては、特に制限はなく、例えばニーダー、ロールミ
ル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバー、ホモ
ミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。
【0092】また、本発明の着色感光性樹脂をフォトマ
スクとして利用するには、紫外領域に吸収を有する着色
剤を用いる。これは、本発明のフォトマスクが紫外感光
性のレジスト材料をパターン露光する際に用いられるか
らである。この際の着色剤としては、例えばカーボンブ
ラックを単独で用いることも可能であるが、ブルー、グ
リーン、レッド、イエロー、あるいはバイオレットなど
の染料あるいは顔料を組み合わせて用いることが可能で
ある。特に感度をより高くしたい場合には、紫外領域に
強い吸収を有し、露光するレーザーの波長領域の例えば
440〜500nmの可視光領域の吸収が小さいブルー
顔料を単独で用いることが出来るし、またブルー顔料と
イエロー顔料を組み合わせて用いることも可能である。
スクとして利用するには、紫外領域に吸収を有する着色
剤を用いる。これは、本発明のフォトマスクが紫外感光
性のレジスト材料をパターン露光する際に用いられるか
らである。この際の着色剤としては、例えばカーボンブ
ラックを単独で用いることも可能であるが、ブルー、グ
リーン、レッド、イエロー、あるいはバイオレットなど
の染料あるいは顔料を組み合わせて用いることが可能で
ある。特に感度をより高くしたい場合には、紫外領域に
強い吸収を有し、露光するレーザーの波長領域の例えば
440〜500nmの可視光領域の吸収が小さいブルー
顔料を単独で用いることが出来るし、またブルー顔料と
イエロー顔料を組み合わせて用いることも可能である。
【0093】前記のブルー顔料およびイエロー顔料とし
ては、ビクトリア・ピュアーブルーBO(C.I.42
595)、オーラミン(C.I.41000)、ファッ
ト・ブラックHB(C.I.26150)、モノライト
・イエローGT(C.I.ピグメントイエロー12)、
パーマネント・イエローGR(C.I.ピグメント・イ
エロー17)、パーマネント・イエローHR(C.I.
ピグメント・イエロー83)、パーマネント・カーミン
FBB(C.I.ピグメント・レッド146)、ホスタ
ーバームレッドESB(C.I.ピグメント・バイオレ
ット19)、パーマネント・ルビーFBH(C.I.ピ
グメント・レッド11)ファステル・ピンクBスプラ
(C.I.ピグメント・レッド81)モナストラル・フ
ァースト・ブルー(C.I.ピグメント・ブルー1
5)、モノライト・ファースト・ブラックB(C.I.
ピグメント・ブラック1)、カーボン、C.I.ピグメ
ント・レッド97、C.I.ピグメント・レッド12
2、C.I.ピグメント・レッド149、C.I.ピグ
メント・レッド168、C.I.ピグメント・レッド1
77、C.I.ピグメント・レッド180、C.I.ピ
グメント・レッド192、C.I.ピグメント・レッド
215、C.I.ピグメント・グリーン7、C.I.ピ
グメント・グリーン36、C.I.ピグメント・ブルー
15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:4、C.
I.ピグメント・ブルー15:6、C.I.ピグメント
・ブルー22、C.I.ピグメント・ブルー60、C.
I.ピグメント・ブルー64等を挙げることができる。
ては、ビクトリア・ピュアーブルーBO(C.I.42
595)、オーラミン(C.I.41000)、ファッ
ト・ブラックHB(C.I.26150)、モノライト
・イエローGT(C.I.ピグメントイエロー12)、
パーマネント・イエローGR(C.I.ピグメント・イ
エロー17)、パーマネント・イエローHR(C.I.
ピグメント・イエロー83)、パーマネント・カーミン
FBB(C.I.ピグメント・レッド146)、ホスタ
ーバームレッドESB(C.I.ピグメント・バイオレ
ット19)、パーマネント・ルビーFBH(C.I.ピ
グメント・レッド11)ファステル・ピンクBスプラ
(C.I.ピグメント・レッド81)モナストラル・フ
ァースト・ブルー(C.I.ピグメント・ブルー1
5)、モノライト・ファースト・ブラックB(C.I.
ピグメント・ブラック1)、カーボン、C.I.ピグメ
ント・レッド97、C.I.ピグメント・レッド12
2、C.I.ピグメント・レッド149、C.I.ピグ
メント・レッド168、C.I.ピグメント・レッド1
77、C.I.ピグメント・レッド180、C.I.ピ
グメント・レッド192、C.I.ピグメント・レッド
215、C.I.ピグメント・グリーン7、C.I.ピ
グメント・グリーン36、C.I.ピグメント・ブルー
15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:4、C.
I.ピグメント・ブルー15:6、C.I.ピグメント
・ブルー22、C.I.ピグメント・ブルー60、C.
I.ピグメント・ブルー64等を挙げることができる。
【0094】着色材の感光性樹脂組成物(固形分)中の
含有量は、フォトマスクの濃度やフォトマスク作製の際
の感度及び解像性等を考慮して決められ、着色材の種類
によっても異なるが、一般的に10〜50質量%で、よ
り好ましくは15〜35質量%である。
含有量は、フォトマスクの濃度やフォトマスク作製の際
の感度及び解像性等を考慮して決められ、着色材の種類
によっても異なるが、一般的に10〜50質量%で、よ
り好ましくは15〜35質量%である。
【0095】また、本発明のフォトマスク材料におい
て、感光性樹脂層の組成を、フォトマスクを作製する際
の近紫外光ないし可視光領域における感光性樹脂層の吸
光度が、フォトマスクとして用いる際の紫外領域におけ
るフォトマスクの吸光度より小さくなるように調節する
ことが好ましい。このような感光性樹脂層を備えたフォ
トマスク材料を用いてフォトマスクを作製すると、紫外
領域の吸光度は大きくフォトマスクとして十分機能する
だけでなく、フォトマスク作製時に露光する近紫外ない
し可視領域の光の吸光度はそれに比べて小さいため、光
の吸収が少なく感光性樹脂層の深部まで光が十分通り、
光エネルギーを上げたり長時間光照射をする必要がな
く、感度が上昇するので好ましい。特に、近紫外ないし
可視領域の光の吸光度が1.5以下であることが感度の
点からみて好ましい。
て、感光性樹脂層の組成を、フォトマスクを作製する際
の近紫外光ないし可視光領域における感光性樹脂層の吸
光度が、フォトマスクとして用いる際の紫外領域におけ
るフォトマスクの吸光度より小さくなるように調節する
ことが好ましい。このような感光性樹脂層を備えたフォ
トマスク材料を用いてフォトマスクを作製すると、紫外
領域の吸光度は大きくフォトマスクとして十分機能する
だけでなく、フォトマスク作製時に露光する近紫外ない
し可視領域の光の吸光度はそれに比べて小さいため、光
の吸収が少なく感光性樹脂層の深部まで光が十分通り、
光エネルギーを上げたり長時間光照射をする必要がな
く、感度が上昇するので好ましい。特に、近紫外ないし
可視領域の光の吸光度が1.5以下であることが感度の
点からみて好ましい。
【0096】この特徴を有する感光性樹脂層を持つフォ
トマスク材料の一例について、その吸収スペクトルを図
1に示す。紫外領域の吸光度に比較し近紫外ないし可視
領域の光の吸光度は著しく低いことが分かる。
トマスク材料の一例について、その吸収スペクトルを図
1に示す。紫外領域の吸光度に比較し近紫外ないし可視
領域の光の吸光度は著しく低いことが分かる。
【0097】前記のごとき特性を有する感光性層を得る
ためには、感光性樹脂層に含ませる着色材の吸光特性
が、紫外領域の吸光度より近紫外ないし可視領域の光の
吸光度が小さいものを選択すればよい。たとえば、前記
のブルー顔料が好適に使用できる。また、紫外線吸収剤
を添加することにより紫外領域の吸光度を高めることも
可能である。
ためには、感光性樹脂層に含ませる着色材の吸光特性
が、紫外領域の吸光度より近紫外ないし可視領域の光の
吸光度が小さいものを選択すればよい。たとえば、前記
のブルー顔料が好適に使用できる。また、紫外線吸収剤
を添加することにより紫外領域の吸光度を高めることも
可能である。
【0098】(その他の成分)本発明の着色感光性樹脂
組成物中には、種々の目的で、各種の添加剤を添加する
ことができる。添加剤の例としては、界面活性剤、密着
促進剤、可塑剤等である。上記界面活性剤は、塗布作業
性や得られる塗膜の平滑性を向上させるために用いるこ
とができ、その具体例としては、例えばBM−1000
(BM Chemie社製)、メガファックスF142
D、同F172、同F173、同F183、同F17
8、同F470、同F475、同F476(以上、大日
本インキ化学工業(株)製)、フロラードFC−13
5、同FC−170C、フロラードFC−430、同F
C−431(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフ
ロンS−112、同S−113、同S−131、同S−
141、同S−145(以上、旭硝子(株)製)、SH
−28PA、SH−190、SH−193、SZ−60
32、SF−8428、DC−57、DC−190(以
上、東レシリコーン(株)製)の商品名で市販されてい
るフッ素系又はシリコーン系界面活性剤を使用すること
ができる。界面活性剤の使用量は、全固形分100質量
部に対して5質量部以下、特に2質量部以下であること
が好ましい。
組成物中には、種々の目的で、各種の添加剤を添加する
ことができる。添加剤の例としては、界面活性剤、密着
促進剤、可塑剤等である。上記界面活性剤は、塗布作業
性や得られる塗膜の平滑性を向上させるために用いるこ
とができ、その具体例としては、例えばBM−1000
(BM Chemie社製)、メガファックスF142
D、同F172、同F173、同F183、同F17
8、同F470、同F475、同F476(以上、大日
本インキ化学工業(株)製)、フロラードFC−13
5、同FC−170C、フロラードFC−430、同F
C−431(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフ
ロンS−112、同S−113、同S−131、同S−
141、同S−145(以上、旭硝子(株)製)、SH
−28PA、SH−190、SH−193、SZ−60
32、SF−8428、DC−57、DC−190(以
上、東レシリコーン(株)製)の商品名で市販されてい
るフッ素系又はシリコーン系界面活性剤を使用すること
ができる。界面活性剤の使用量は、全固形分100質量
部に対して5質量部以下、特に2質量部以下であること
が好ましい。
【0099】更に、基体との密着性を向上させるため
に、添加剤として密着促進剤を含有させることができ
る。このような密着促進剤としては、官能性シランカッ
プリング剤を好適に用いることができる。ここに、官能
性シランカップリング剤とは、カルボキシル基、メタク
リロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性
置換基を有するシラン化合物を意味し、その具体例とし
ては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアネー
トプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げること
ができる。密着促進剤の好ましい使用量は、全固形分1
00質量部に対して10質量部以下、特に5〜0.05
質量部であることが好ましい。
に、添加剤として密着促進剤を含有させることができ
る。このような密着促進剤としては、官能性シランカッ
プリング剤を好適に用いることができる。ここに、官能
性シランカップリング剤とは、カルボキシル基、メタク
リロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性
置換基を有するシラン化合物を意味し、その具体例とし
ては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアネー
トプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げること
ができる。密着促進剤の好ましい使用量は、全固形分1
00質量部に対して10質量部以下、特に5〜0.05
質量部であることが好ましい。
【0100】(感光性樹脂組成物及び組成物溶液の調
製)本発明の感光性樹脂組成物は、前記の共重合体、重
合性モノマーあるいはオリゴマー、光重合開始剤又は光
重合開始剤系、着色剤、及び必要に応じて含有されるそ
の他の添加剤を均一に混合することによって調製するこ
とができ、通常、各成分を有機溶剤に溶解して組成物溶
液として調製する。ここにおける有機溶剤としては、各
成分を溶解、あるいは顔料を含む場合はこれを分散可能
であり、かつ構成成分と反応しないものであればよい。
製)本発明の感光性樹脂組成物は、前記の共重合体、重
合性モノマーあるいはオリゴマー、光重合開始剤又は光
重合開始剤系、着色剤、及び必要に応じて含有されるそ
の他の添加剤を均一に混合することによって調製するこ
とができ、通常、各成分を有機溶剤に溶解して組成物溶
液として調製する。ここにおける有機溶剤としては、各
成分を溶解、あるいは顔料を含む場合はこれを分散可能
であり、かつ構成成分と反応しないものであればよい。
【0101】このような有機溶剤の具体例としては、メ
タノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロ
フラン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエ
チレングリコール類;プロピレングリコールメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル
アセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテル
アセテート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒド
ロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類;2
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロ
キシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸
メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキ
シプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチ
ル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類が挙げられる。これらの中で
は、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコー
ルエステル類;エチルセロソルブアセテート等のエチレ
ングリコールアルキルエーテルアセテート類;2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸
メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル
類;ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチ
レングリコール類を好適に用いることができる。
タノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロ
フラン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエ
チレングリコール類;プロピレングリコールメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル
アセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテル
アセテート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒド
ロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類;2
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロ
キシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸
メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキ
シプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチ
ル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類が挙げられる。これらの中で
は、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコー
ルエステル類;エチルセロソルブアセテート等のエチレ
ングリコールアルキルエーテルアセテート類;2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸
メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル
類;ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチ
レングリコール類を好適に用いることができる。
【0102】更に、N−メチルホルムアミド、N,N−
ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N
−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1
−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテー
ト等の高沸点溶剤を添加することもできる。
ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N
−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1
−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテー
ト等の高沸点溶剤を添加することもできる。
【0103】これらの中では、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のグリコールエステル類、エチルセロソ
ルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類、2−ヒドロキシプロピン酸エチル、3
−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオ
ン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のジエチレングリコール類を、各成分の
溶解性および塗膜の形成のしやすさの点で好適に用いる
ことができる。これらの有機溶剤は、単独で若しくは2
種類以上を組み合わせて用いることができる。また、本
組成物の溶液は、例えば孔径0.2μmのミクロ濾過フ
ィルター等を用いて濾過した後、使用に供することもで
きる。
チルエーテル等のグリコールエステル類、エチルセロソ
ルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類、2−ヒドロキシプロピン酸エチル、3
−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオ
ン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のジエチレングリコール類を、各成分の
溶解性および塗膜の形成のしやすさの点で好適に用いる
ことができる。これらの有機溶剤は、単独で若しくは2
種類以上を組み合わせて用いることができる。また、本
組成物の溶液は、例えば孔径0.2μmのミクロ濾過フ
ィルター等を用いて濾過した後、使用に供することもで
きる。
【0104】(感光性塗膜の形成法)本発明の感光性樹
脂組成物を用いることにより、例えば次のようにして透
明基体上に感光性樹脂塗膜を形成することができる。 (1)塗布法 調製した感光性樹脂組成物溶液を透明基板表面に塗布
し、通常はオーブン中で加熱乾燥を行うことにより溶剤
を除去して感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。組成物
溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプ
レー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート
法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、
ダイコート法、ワイヤーバーコート法、ナイフコート法
等の各種の方法を採用することができる。プリベークの
条件としては、各成分の種類、使用割合等によっても異
なるが、通常60〜110℃で30秒間〜15分間程度
である。
脂組成物を用いることにより、例えば次のようにして透
明基体上に感光性樹脂塗膜を形成することができる。 (1)塗布法 調製した感光性樹脂組成物溶液を透明基板表面に塗布
し、通常はオーブン中で加熱乾燥を行うことにより溶剤
を除去して感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。組成物
溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプ
レー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート
法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、
ダイコート法、ワイヤーバーコート法、ナイフコート法
等の各種の方法を採用することができる。プリベークの
条件としては、各成分の種類、使用割合等によっても異
なるが、通常60〜110℃で30秒間〜15分間程度
である。
【0105】(2)感光性樹脂転写材料の転写法
仮支持体の上に本発明の感光性樹脂組成物溶液を塗布乾
燥して感光性樹脂転写材料を形成後、透明基体上にラミ
ネーター等により感光性樹脂層を加熱加圧下で積層転写
する。転写時の加熱圧着ロールの温度は50℃〜150
℃で、圧着時の線圧は5Kg/cm〜25Kg/cmが
有利な条件である。ラミネーションの速度は搬送速度で
0.2m/分〜4m/分が好ましい。特に好ましい条件
としては、加熱圧着ロール温度が130℃〜140℃で
圧着時の線圧が10Kg/cm〜15Kg/cm、搬送
速度が1m/分〜3m/分である。
燥して感光性樹脂転写材料を形成後、透明基体上にラミ
ネーター等により感光性樹脂層を加熱加圧下で積層転写
する。転写時の加熱圧着ロールの温度は50℃〜150
℃で、圧着時の線圧は5Kg/cm〜25Kg/cmが
有利な条件である。ラミネーションの速度は搬送速度で
0.2m/分〜4m/分が好ましい。特に好ましい条件
としては、加熱圧着ロール温度が130℃〜140℃で
圧着時の線圧が10Kg/cm〜15Kg/cm、搬送
速度が1m/分〜3m/分である。
【0106】(透明基板上へのパターン形成法)上述の
様に形成された塗膜に所定のパターンのマスクを介して
光照射した後、現像液を用いて現像処理することにより
パターン形成する。ここで使用する光としては、例えば
g線(波長436nm)、i線(波長365nm)およ
び超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アル
ゴンレーザー等の公知の光源からの連続状及び/又は輝
線状の紫外線、KrFエキシマレーザー等の遠紫外線、
シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線
が挙げられ、これらの中では、g線又はi線およびこれ
らを含む300nm〜440nm領域の紫外線が好まし
いものとして挙げられる。特開平6−59119号公報
に記載のように、400nm以上の波長の光透過率が2
%以下である光学フィルター等を併用しても良い。
様に形成された塗膜に所定のパターンのマスクを介して
光照射した後、現像液を用いて現像処理することにより
パターン形成する。ここで使用する光としては、例えば
g線(波長436nm)、i線(波長365nm)およ
び超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アル
ゴンレーザー等の公知の光源からの連続状及び/又は輝
線状の紫外線、KrFエキシマレーザー等の遠紫外線、
シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線
が挙げられ、これらの中では、g線又はi線およびこれ
らを含む300nm〜440nm領域の紫外線が好まし
いものとして挙げられる。特開平6−59119号公報
に記載のように、400nm以上の波長の光透過率が2
%以下である光学フィルター等を併用しても良い。
【0107】尚、着色剤として紫外領域に吸収を有する
化合物を用いる場合については、画像形成の為の露光条
件等が異なるので、フォトマスクの製造方法の所で後述
する。
化合物を用いる場合については、画像形成の為の露光条
件等が異なるので、フォトマスクの製造方法の所で後述
する。
【0108】上記感光性樹脂層の現像液としては、アル
カリ性物質の希薄水溶液を使用するが、更に、水と混和
性の有機溶剤を少量添加したものを用いてもよい。適当
なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類
(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、アルカリ
金属炭酸塩類(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)、
アルカリ金属重炭酸塩類(例、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩類(例、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、アルカリ金属メタケ
イ酸塩類(例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリ
ウム)、アンモニア、エチルアミン、n−プロピルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチ
ルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノール
アミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、
モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシ
ド類(例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、
テトラエチルアンモニウムヒドロキシド)、ピロール、
ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−
7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,
0〕−5−ノナン又は燐酸三ナトリウム等を挙げること
ができる。アルカリ性物質の濃度は、0.01質量%〜
30質量%が好ましく、pHは8〜14が好ましい。
カリ性物質の希薄水溶液を使用するが、更に、水と混和
性の有機溶剤を少量添加したものを用いてもよい。適当
なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類
(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、アルカリ
金属炭酸塩類(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)、
アルカリ金属重炭酸塩類(例、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩類(例、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、アルカリ金属メタケ
イ酸塩類(例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリ
ウム)、アンモニア、エチルアミン、n−プロピルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチ
ルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノール
アミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、
モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシ
ド類(例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、
テトラエチルアンモニウムヒドロキシド)、ピロール、
ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−
7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,
0〕−5−ノナン又は燐酸三ナトリウム等を挙げること
ができる。アルカリ性物質の濃度は、0.01質量%〜
30質量%が好ましく、pHは8〜14が好ましい。
【0109】また、上記の水と混和性のある適当な有機
溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノ
ール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアル
コール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノ−n−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−
カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホル
アミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタ
ム、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。水
と混和性の有機溶剤の濃度は、0.1質量%〜30質量
%が一般的である。
溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノ
ール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアル
コール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノ−n−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−
カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホル
アミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタ
ム、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。水
と混和性の有機溶剤の濃度は、0.1質量%〜30質量
%が一般的である。
【0110】現像液には、更に公知の界面活性剤を添加
することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%
〜10質量%が好ましい。現像液は、浴液としても、あ
るいは噴霧液としても用いることができる。更に、現像
方法としては、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬
法、スプレイ法等を利用することができる。非画像部分
の現像スカムを除去するには、現像液中の回転ブラシで
擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法、あるいは現像液
を噴霧した際の噴霧圧を利用する方法が好ましい。現像
液の温度は、通常室温付近から40℃の範囲が好まし
い。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能であ
る。
することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%
〜10質量%が好ましい。現像液は、浴液としても、あ
るいは噴霧液としても用いることができる。更に、現像
方法としては、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬
法、スプレイ法等を利用することができる。非画像部分
の現像スカムを除去するには、現像液中の回転ブラシで
擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法、あるいは現像液
を噴霧した際の噴霧圧を利用する方法が好ましい。現像
液の温度は、通常室温付近から40℃の範囲が好まし
い。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能であ
る。
【0111】現像処理後に、パターニングされた薄膜に
対して例えば流水洗浄によるリンス処理を行い、更に当
該薄膜中に残存する未反応のエチレン性不飽和結合を更
に重合させるという目的の為に、超高圧水銀灯や電子線
照射装置等による放射線を全面に照射する処理を行った
後、この薄膜を、ホットプレートやオーブン等の加熱装
置により焼成することにより、当該薄膜の硬化処理を行
う。この硬化処理における焼成温度は、例えば150〜
250℃であり、焼成時間は、例えば5〜90分間(ホ
ットプレート上で焼成を行う場合には5〜30分間、オ
ーブン中で焼成を行う場合には30〜90分間)であ
る。このようにして、耐溶剤性および透明性に優れた薄
膜を基板の表面上に形成することができる。
対して例えば流水洗浄によるリンス処理を行い、更に当
該薄膜中に残存する未反応のエチレン性不飽和結合を更
に重合させるという目的の為に、超高圧水銀灯や電子線
照射装置等による放射線を全面に照射する処理を行った
後、この薄膜を、ホットプレートやオーブン等の加熱装
置により焼成することにより、当該薄膜の硬化処理を行
う。この硬化処理における焼成温度は、例えば150〜
250℃であり、焼成時間は、例えば5〜90分間(ホ
ットプレート上で焼成を行う場合には5〜30分間、オ
ーブン中で焼成を行う場合には30〜90分間)であ
る。このようにして、耐溶剤性および透明性に優れた薄
膜を基板の表面上に形成することができる。
【0112】(感光性転写材料の作製法)本発明の感光
性樹脂組成物を用いて、感光性転写材料を作成するに
は、通常は透明のプラスチック製フィルム上に溶剤に溶
解した感光性樹脂組成物のコーティングにより実施され
る(図2に例を示す)。通常は5μm〜30μm厚のポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどの仮
支持体21上に直接感光性樹脂層22を塗布乾燥して、
場合により保護フィルム23を該感光性樹脂層の上に貼
り合わせた構成の感光性転写材料を形成できる。
性樹脂組成物を用いて、感光性転写材料を作成するに
は、通常は透明のプラスチック製フィルム上に溶剤に溶
解した感光性樹脂組成物のコーティングにより実施され
る(図2に例を示す)。通常は5μm〜30μm厚のポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどの仮
支持体21上に直接感光性樹脂層22を塗布乾燥して、
場合により保護フィルム23を該感光性樹脂層の上に貼
り合わせた構成の感光性転写材料を形成できる。
【0113】(多層感光性転写材料の作製法)一方、特
登2794242や特開平10−97061には下地の
凹凸のために、転写時に基板と感光性樹脂層との間に、
気泡が発生する問題に対応した多層構成の転写材料が知
られている(図3に例を示す)。例えば、特開平10−
97061に記載されたと同様の方法により、仮支持体
上31に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層32、中間層
33を形成し、その上に本発明の感光性樹脂層34の順
に塗布され、更に保護フィルム35がその上にラミネー
トされた、多層の感光性樹脂転写材料も好適に使用でき
る。尚、この中間層を含まない2層構成であってもよ
い。感光性樹脂層は前記のような塗布溶液を作成し仮支
持体上に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層と中間層の塗
布された上に、目的に応じた厚みで塗布し乾燥される。
感光性樹脂層の厚みは、0.1〜20μmの範囲が好ま
しい。該厚みが0.1μm未満では耐性が劣る硬化膜し
か作れないことがあり、また20μmを超えると現像性
の低下や画像再現性の低下等の問題が発生することがあ
る。この感光性樹脂層の膜厚は、上記の範囲内にて各機
能の必要に応じて任意に設定可能である。
登2794242や特開平10−97061には下地の
凹凸のために、転写時に基板と感光性樹脂層との間に、
気泡が発生する問題に対応した多層構成の転写材料が知
られている(図3に例を示す)。例えば、特開平10−
97061に記載されたと同様の方法により、仮支持体
上31に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層32、中間層
33を形成し、その上に本発明の感光性樹脂層34の順
に塗布され、更に保護フィルム35がその上にラミネー
トされた、多層の感光性樹脂転写材料も好適に使用でき
る。尚、この中間層を含まない2層構成であってもよ
い。感光性樹脂層は前記のような塗布溶液を作成し仮支
持体上に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層と中間層の塗
布された上に、目的に応じた厚みで塗布し乾燥される。
感光性樹脂層の厚みは、0.1〜20μmの範囲が好ま
しい。該厚みが0.1μm未満では耐性が劣る硬化膜し
か作れないことがあり、また20μmを超えると現像性
の低下や画像再現性の低下等の問題が発生することがあ
る。この感光性樹脂層の膜厚は、上記の範囲内にて各機
能の必要に応じて任意に設定可能である。
【0114】仮支持体としては、アルカリ可溶性熱可塑
性樹脂層と良好な剥離性を有し、化学的および熱的に安
定であって、また可撓性の物質で構成されることが好ま
しい。具体的にはテフロン(R)、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレー
ト、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン
等の薄いシート若しくはこれらの積層物が好ましい。良
好な剥離性を得るためには、グロー放電等の表面処理は
せず、またゼラチン等の下塗も設けないのが一般的であ
る。仮支持体の厚さは5〜300μmが適当であり、1
0μm〜150μmが特に好ましい。該厚みが5μm以
下では、ラミネーション時の引っ張り強度が不足し、伸
びてしまい不都合なシワが入ることがある。また、30
0μmより厚いと、熱ラミネーションの熱伝導が遅れる
ためにラミネーション速度を高められないことがある。
性樹脂層と良好な剥離性を有し、化学的および熱的に安
定であって、また可撓性の物質で構成されることが好ま
しい。具体的にはテフロン(R)、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレー
ト、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン
等の薄いシート若しくはこれらの積層物が好ましい。良
好な剥離性を得るためには、グロー放電等の表面処理は
せず、またゼラチン等の下塗も設けないのが一般的であ
る。仮支持体の厚さは5〜300μmが適当であり、1
0μm〜150μmが特に好ましい。該厚みが5μm以
下では、ラミネーション時の引っ張り強度が不足し、伸
びてしまい不都合なシワが入ることがある。また、30
0μmより厚いと、熱ラミネーションの熱伝導が遅れる
ためにラミネーション速度を高められないことがある。
【0115】アルカリ可溶性熱可塑樹脂層を構成する樹
脂は、実質的な軟化点が80℃以下であることが好まし
い。軟化点が80℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑樹脂
としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケ
ン化物、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル共重合
体のケン化物、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体のケン化物、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、及び(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等
の(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、
から少なくとも1つ選ばれる樹脂が好ましいが、更に
「プラスチック性能便覧」(日本プラスチック工業連
盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査
会発行、1968年10月25日刊行)に記載されてい
る軟化点が約80℃以下の有機高分子の内アルカリ水溶
液に可溶なものを使用することができる。
脂は、実質的な軟化点が80℃以下であることが好まし
い。軟化点が80℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑樹脂
としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケ
ン化物、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル共重合
体のケン化物、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体のケン化物、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、及び(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等
の(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、
から少なくとも1つ選ばれる樹脂が好ましいが、更に
「プラスチック性能便覧」(日本プラスチック工業連
盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査
会発行、1968年10月25日刊行)に記載されてい
る軟化点が約80℃以下の有機高分子の内アルカリ水溶
液に可溶なものを使用することができる。
【0116】また軟化点が80℃以上の有機高分子物質
においても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相
溶性のある各種の可塑剤を添加して、実質的な軟化点を
80℃以下に下げることも可能である。またこれらの有
機高分子物質中に仮支持体との接着力を調節するために
実質的な軟化点が80℃を越えない範囲で各種のポリマ
ーや過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を
添加することが可能である。好ましい可塑剤の具体例と
しては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェー
ト、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフ
ェニルフォスフェート等を挙げることができる。熱可塑
性樹脂層の厚さは6μm以上が好ましい。熱可塑性樹脂
層の厚みが5μm以下であると1μm以上の下地の凹凸
を完全に吸収することが困難となる。また上限について
は、現像性、製造適性から約100μm以下が一般的で
あり、約50μm以下が好ましい。
においても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相
溶性のある各種の可塑剤を添加して、実質的な軟化点を
80℃以下に下げることも可能である。またこれらの有
機高分子物質中に仮支持体との接着力を調節するために
実質的な軟化点が80℃を越えない範囲で各種のポリマ
ーや過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を
添加することが可能である。好ましい可塑剤の具体例と
しては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェー
ト、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフ
ェニルフォスフェート等を挙げることができる。熱可塑
性樹脂層の厚さは6μm以上が好ましい。熱可塑性樹脂
層の厚みが5μm以下であると1μm以上の下地の凹凸
を完全に吸収することが困難となる。また上限について
は、現像性、製造適性から約100μm以下が一般的で
あり、約50μm以下が好ましい。
【0117】中間層としては、露光時の酸素遮断の目的
と熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層間の不都合な混じり合
い防止を目的に設けられる。中間層は水又はアルカリ水
溶液に分散又は溶解し、低い酸素透過性を示すものであ
ればよく、公知のものが使用できる。例えば、特開昭4
6−2121号公報や特公昭56−40824号公報に
記載のポリビニルエーテル/無水マレイン酸重合体、カ
ルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロ
ースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の塩、水塩、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種の
ポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリ
アクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド
重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶
性塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、およびマレイ
ネート樹脂さらにこれらの2種以上の組合わせ等を挙げ
ることができる。
と熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層間の不都合な混じり合
い防止を目的に設けられる。中間層は水又はアルカリ水
溶液に分散又は溶解し、低い酸素透過性を示すものであ
ればよく、公知のものが使用できる。例えば、特開昭4
6−2121号公報や特公昭56−40824号公報に
記載のポリビニルエーテル/無水マレイン酸重合体、カ
ルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロ
ースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の塩、水塩、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種の
ポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリ
アクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド
重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶
性塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、およびマレイ
ネート樹脂さらにこれらの2種以上の組合わせ等を挙げ
ることができる。
【0118】特に、ポリビニルアルコールとポリビニル
ピロリドンの組み合わせが好ましい。ポリビニルアルコ
ールは鹸化率が80モル%以上であるものが好ましく、
ポリビニルピロリドンの含有率は酸素遮断層固形物の1
〜75質量%が一般的であり、1〜60質量%が好まし
く、特に、10〜50質量%が好ましい。該含有率が1
質量%未満では、感光性樹脂層との充分な接着性が得ら
れず、75質量%を超えると、酸素遮断能が低下する。
酸素遮断層の厚さは非常に薄くてよく、約0.1〜5μ
m、特に0.5〜2μmが好ましい。該厚みが約0.1
μm未満では酸素の透過性が高すぎることがあり、約5
μmを越えると、現像時又は酸素遮断層除去時に時間が
かかりすぎることがある。この中間層上に上記感光性樹
脂層を形成して、本発明の多層の感光性樹脂転写材料を
得ることができる。
ピロリドンの組み合わせが好ましい。ポリビニルアルコ
ールは鹸化率が80モル%以上であるものが好ましく、
ポリビニルピロリドンの含有率は酸素遮断層固形物の1
〜75質量%が一般的であり、1〜60質量%が好まし
く、特に、10〜50質量%が好ましい。該含有率が1
質量%未満では、感光性樹脂層との充分な接着性が得ら
れず、75質量%を超えると、酸素遮断能が低下する。
酸素遮断層の厚さは非常に薄くてよく、約0.1〜5μ
m、特に0.5〜2μmが好ましい。該厚みが約0.1
μm未満では酸素の透過性が高すぎることがあり、約5
μmを越えると、現像時又は酸素遮断層除去時に時間が
かかりすぎることがある。この中間層上に上記感光性樹
脂層を形成して、本発明の多層の感光性樹脂転写材料を
得ることができる。
【0119】保護フィルムとしては、貯蔵の際の不純物
付着や損傷を避けるために、薄い保護フィルムを設ける
ことが望ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は
類似の材料から成ってもよいが、感光性樹脂層から容易
に剥離する必要がある。また感光性樹脂層に積層する面
の平滑性が重要で、約0.1μm程度の突起があると感
光性樹脂層への損傷となるので問題になる。このような
保護フィルムの材料としては、例えばシリコーン紙、ポ
リオレフィン又はポリテトラフルオルエチレンシートが
好ましい。特に好ましくはポリプロピレンフィルム又は
ポリエチレンフィルムである。保護フィルムの厚みは約
5〜100μmであるのが好ましく、特に好ましくは7
μm〜15μmである。
付着や損傷を避けるために、薄い保護フィルムを設ける
ことが望ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は
類似の材料から成ってもよいが、感光性樹脂層から容易
に剥離する必要がある。また感光性樹脂層に積層する面
の平滑性が重要で、約0.1μm程度の突起があると感
光性樹脂層への損傷となるので問題になる。このような
保護フィルムの材料としては、例えばシリコーン紙、ポ
リオレフィン又はポリテトラフルオルエチレンシートが
好ましい。特に好ましくはポリプロピレンフィルム又は
ポリエチレンフィルムである。保護フィルムの厚みは約
5〜100μmであるのが好ましく、特に好ましくは7
μm〜15μmである。
【0120】(カラーフィルター)次に本発明の多色画
像(カラーフィルター)の形成方法について説明する。
本発明のカラーフィルターは、R、G、Bの各画素毎
に、下記の各工程を順次行なうことにより製造すること
ができる。 (1)基板上に、上記シート状に形成された光重合性化
合物、光重合開始剤そしてバインダーを含む樹脂組成物
中に顔料が分散されてなる感光性シートを接合して着色
感光性層を設ける工程; (2)上記着色感光性層をパターン状に露光させる工
程; (3)露光させた着色感光性層を現像して、着色感光性
層の露光部分から構成されるパターン状着色硬化層を得
る工程;および (4)上記パターン状着色硬化層を加熱することによ
り、焼成して更に硬化させる行程である。
像(カラーフィルター)の形成方法について説明する。
本発明のカラーフィルターは、R、G、Bの各画素毎
に、下記の各工程を順次行なうことにより製造すること
ができる。 (1)基板上に、上記シート状に形成された光重合性化
合物、光重合開始剤そしてバインダーを含む樹脂組成物
中に顔料が分散されてなる感光性シートを接合して着色
感光性層を設ける工程; (2)上記着色感光性層をパターン状に露光させる工
程; (3)露光させた着色感光性層を現像して、着色感光性
層の露光部分から構成されるパターン状着色硬化層を得
る工程;および (4)上記パターン状着色硬化層を加熱することによ
り、焼成して更に硬化させる行程である。
【0121】上記の工程(1)は、基板の表面に直接感
光性分散液を塗布し、乾燥させることにより行なっても
よいが、一旦、別に用意した仮支持体(柔軟なプラスチ
ック材料製のシート)上に着色感光性層を形成させて感
光性シートとし、この感光性シートの感光は層を基板表
面に転写させる方法を利用して行なうことが好ましい。
上記基板としては、ガラス板、ポリエチレンテレフタラ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスル
ホン、ポリイミド、エポキシ樹脂等のプラスティックフ
ィルムなどを適宜選定して用いることができる。
光性分散液を塗布し、乾燥させることにより行なっても
よいが、一旦、別に用意した仮支持体(柔軟なプラスチ
ック材料製のシート)上に着色感光性層を形成させて感
光性シートとし、この感光性シートの感光は層を基板表
面に転写させる方法を利用して行なうことが好ましい。
上記基板としては、ガラス板、ポリエチレンテレフタラ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスル
ホン、ポリイミド、エポキシ樹脂等のプラスティックフ
ィルムなどを適宜選定して用いることができる。
【0122】上記の着色感光性層に対しては、次いでフ
ォトマスクなどを用いる像様露光によりパターン状に露
光させる工程、すなわち工程(2)が施され、次に、現
像液を用いて光照射を受けなかった部分を溶解除去する
現像工程、すなわち工程(3)が行なわれる。このよう
にして、基板の上に着色感光性層の露光部分に対応する
パターン状着色硬化層を得ることができる。
ォトマスクなどを用いる像様露光によりパターン状に露
光させる工程、すなわち工程(2)が施され、次に、現
像液を用いて光照射を受けなかった部分を溶解除去する
現像工程、すなわち工程(3)が行なわれる。このよう
にして、基板の上に着色感光性層の露光部分に対応する
パターン状着色硬化層を得ることができる。
【0123】上記の工程(1)乃至(3)は、感光性転
写材料を用いる画像形成方法において、一般的に用いら
れる方法であり、たとえば、特開平5−173320号
公報に記載されている。代表的な画像形成方法として
は、感光性転写材料の感光性樹脂組成物層を液晶表示素
子に設置する透明基板の表面に重ね、支持体シートを剥
がし取ったのち、その被転写材料上の感光性樹脂組成物
層にフォトマスクを介してパターン状の露光を行なう工
程、露光後に感光性樹脂層を加熱する工程、現像処理し
て未露光部分を溶解除去する工程などを組み合わせた方
法を利用することができる。
写材料を用いる画像形成方法において、一般的に用いら
れる方法であり、たとえば、特開平5−173320号
公報に記載されている。代表的な画像形成方法として
は、感光性転写材料の感光性樹脂組成物層を液晶表示素
子に設置する透明基板の表面に重ね、支持体シートを剥
がし取ったのち、その被転写材料上の感光性樹脂組成物
層にフォトマスクを介してパターン状の露光を行なう工
程、露光後に感光性樹脂層を加熱する工程、現像処理し
て未露光部分を溶解除去する工程などを組み合わせた方
法を利用することができる。
【0124】(フォトマスク)次に、本発明のフォトマ
スクを作製する方法について説明する。フォトマスクの
作製は、前述のフォトマスク材料の感光性樹脂層に、近
紫外光ないし可視光で露光後現像処理をして画像形成を
行う。感光性樹脂転写材料として用いる場合には、例え
ば予め剥離層と酸素遮断層を塗布したPET(ポリエチ
レンテレフタレート)フィルムベース上に着色感光樹脂
層を塗布して形成し、更に保護フィルムをラミネートし
て形成した着色樹脂転写感材などが利用できる。フォト
マスクの作製に当たっては、この転写材料の保護フィル
ムを剥離し、ガラス等の透明基板上に転写感材をラミネ
ートしフォトマスク用ブランクスとした後、PETフィ
ルムベースを剥離して、レーザー描画機などにより露光
を行い、露光終了後に現像して水洗処理を行う。必要に
応じポスト露光やポストベイクを施すことで膜強度を高
めることも出来る。更に形成された画像の耐久性を増す
為に透明な保護膜を形成することも可能である。また仮
支持体を剥離せずに仮支持体あるいは透明基板を通して
露光し、現像の前に仮支持体を剥離することも可能であ
る。
スクを作製する方法について説明する。フォトマスクの
作製は、前述のフォトマスク材料の感光性樹脂層に、近
紫外光ないし可視光で露光後現像処理をして画像形成を
行う。感光性樹脂転写材料として用いる場合には、例え
ば予め剥離層と酸素遮断層を塗布したPET(ポリエチ
レンテレフタレート)フィルムベース上に着色感光樹脂
層を塗布して形成し、更に保護フィルムをラミネートし
て形成した着色樹脂転写感材などが利用できる。フォト
マスクの作製に当たっては、この転写材料の保護フィル
ムを剥離し、ガラス等の透明基板上に転写感材をラミネ
ートしフォトマスク用ブランクスとした後、PETフィ
ルムベースを剥離して、レーザー描画機などにより露光
を行い、露光終了後に現像して水洗処理を行う。必要に
応じポスト露光やポストベイクを施すことで膜強度を高
めることも出来る。更に形成された画像の耐久性を増す
為に透明な保護膜を形成することも可能である。また仮
支持体を剥離せずに仮支持体あるいは透明基板を通して
露光し、現像の前に仮支持体を剥離することも可能であ
る。
【0125】本発明のフォトマスク材料の画像形成に
は、レーザーによる露光が好適に用いられる。具体的に
は442nmのHeCdレーザー、488nmのアルゴ
ンレーザーなどが挙げられるがこれに限られるものでは
無い。
は、レーザーによる露光が好適に用いられる。具体的に
は442nmのHeCdレーザー、488nmのアルゴ
ンレーザーなどが挙げられるがこれに限られるものでは
無い。
【0126】本発明で用いる現像液としては、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩、
炭酸水素塩、アンモニア水、4級アンモニウム塩の水溶
液等が挙げられる。特に好ましくは、炭酸ナトリウム水
溶液である。
金属またはアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩、
炭酸水素塩、アンモニア水、4級アンモニウム塩の水溶
液等が挙げられる。特に好ましくは、炭酸ナトリウム水
溶液である。
【0127】本発明において、透明基材上の感光性層に
画像を形成した後、該感光性層に120℃〜250℃の
範囲で加熱処理を施して膜強度を高めることも可能であ
る。120℃未満では加熱処理の効果はなく、250℃
以上では材料の分解が生じ、逆に脆く弱い膜質になり好
ましくない。処理時間は15〜60分が適当で、加熱に
はドライオーブン、ホットプレートなどの公知の手段を
用いることができる。
画像を形成した後、該感光性層に120℃〜250℃の
範囲で加熱処理を施して膜強度を高めることも可能であ
る。120℃未満では加熱処理の効果はなく、250℃
以上では材料の分解が生じ、逆に脆く弱い膜質になり好
ましくない。処理時間は15〜60分が適当で、加熱に
はドライオーブン、ホットプレートなどの公知の手段を
用いることができる。
【0128】また、本発明のフォトマスクの製造方法に
おいては、作製されたフォトマスクに欠陥がある場合、
以下のようにして欠陥修正を行うことができる。
おいては、作製されたフォトマスクに欠陥がある場合、
以下のようにして欠陥修正を行うことができる。
【0129】フォトマスクの欠陥とは、黒部の場合主と
して黒部の白抜け部分、たとえばピンホールのような光
を透過する欠陥をいい、また、白部の場合、たとえば本
来白部となるべき部分の透明基材上に異物や感光性層が
付着して光透過率が低下する欠陥をいう。
して黒部の白抜け部分、たとえばピンホールのような光
を透過する欠陥をいい、また、白部の場合、たとえば本
来白部となるべき部分の透明基材上に異物や感光性層が
付着して光透過率が低下する欠陥をいう。
【0130】黒部の白抜け部分が発生した場合には、前
述の感光性層の液を欠陥周辺部に塗布するか、または前
述の感光性転写材料をラミネータなどで部分的に貼り付
け、この後、例えばHeCdレーザーで露光、現像を行
い不要の感光層を除去することにより欠陥を修正するこ
とができる。また、HeCdレーザーで露光、現像する
替わりに、YAGレーザーで不要部分をアブレーション
により除去することも可能である。
述の感光性層の液を欠陥周辺部に塗布するか、または前
述の感光性転写材料をラミネータなどで部分的に貼り付
け、この後、例えばHeCdレーザーで露光、現像を行
い不要の感光層を除去することにより欠陥を修正するこ
とができる。また、HeCdレーザーで露光、現像する
替わりに、YAGレーザーで不要部分をアブレーション
により除去することも可能である。
【0131】一方白部の欠陥の場合には、YAGレーザ
ーなどでアブレーションにより除去可能である。この場
合、Emマスクとは異なり、白部には感光性層などの有
機物成分は無いため、レーザーアブレーションに伴う、
新たな欠陥の発生は一切生じない。
ーなどでアブレーションにより除去可能である。この場
合、Emマスクとは異なり、白部には感光性層などの有
機物成分は無いため、レーザーアブレーションに伴う、
新たな欠陥の発生は一切生じない。
【0132】本発明においては、フォトマスク材料の画
像形成後、画像上に熱硬化型のエポキシ樹脂等の保護膜
を設けることが可能で、これにより更に膜強度を向上さ
せることもできる。
像形成後、画像上に熱硬化型のエポキシ樹脂等の保護膜
を設けることが可能で、これにより更に膜強度を向上さ
せることもできる。
【0133】本発明で用いるフォトマスクを紫外感光性
のレジストのパターニング用に用いる際、超高圧水銀灯
などの紫外線露光機にバンドパスフィルターを組み入れ
て、露光波長を選択することも可能である。
のレジストのパターニング用に用いる際、超高圧水銀灯
などの紫外線露光機にバンドパスフィルターを組み入れ
て、露光波長を選択することも可能である。
【0134】本発明の感光性樹脂組成物をフォトマスク
作成に利用するには、紫外領域で吸収を有する着色材を
含有させ、かつ近紫外光ないし可視光で画像形成可能な
感光性層を透明基材上に形成し、近紫外光ないし可視光
で露光、引き続き現像処理を行い不要の感光性層部分を
除去して画像形成できるため、簡便な工程で高歩留まり
であり、更に欠陥修正も容易であり、安価なフォトマス
クを作製できる。特に感光性転写材料を透明基材にラミ
ネートする方式では、更に膜厚が均一で欠陥が少なく、
大サイズの画像再現性に優れるフォトマスクを作製でき
る。また、感度と解像度のバランスもよい。
作成に利用するには、紫外領域で吸収を有する着色材を
含有させ、かつ近紫外光ないし可視光で画像形成可能な
感光性層を透明基材上に形成し、近紫外光ないし可視光
で露光、引き続き現像処理を行い不要の感光性層部分を
除去して画像形成できるため、簡便な工程で高歩留まり
であり、更に欠陥修正も容易であり、安価なフォトマス
クを作製できる。特に感光性転写材料を透明基材にラミ
ネートする方式では、更に膜厚が均一で欠陥が少なく、
大サイズの画像再現性に優れるフォトマスクを作製でき
る。また、感度と解像度のバランスもよい。
【0135】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれからの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれからの実施例に限定されるものではない。
【0136】[合成例1]1−メトキシ−2−プロパノ
ール398.7部を反応容器中に注ぎ、窒素気流下、内
温を70℃に加熱する。ここへメタクリル酸12.9
部、アリルメタクリレート75.7部(組成比は20:
80モル比)、和光純薬製「V−65」(2,2’−ア
ゾビス−(2,4’−ジメチルバレロニトリル))3.
73部を1−メトキシ−2−プロパノール398.7部
に溶解した溶液を2.5時間かけて滴下する。更に70
℃で2時間加熱攪拌を行なう。得られた反応液を水40
00部に注ぎ、生じた固体をろ過、真空乾燥することで
メタクリル酸/アリルメタクリレート共重合体(共重合
体1)を得た。共重合体の重量平均分子量は36000
(ポリスチレン換算)であった。
ール398.7部を反応容器中に注ぎ、窒素気流下、内
温を70℃に加熱する。ここへメタクリル酸12.9
部、アリルメタクリレート75.7部(組成比は20:
80モル比)、和光純薬製「V−65」(2,2’−ア
ゾビス−(2,4’−ジメチルバレロニトリル))3.
73部を1−メトキシ−2−プロパノール398.7部
に溶解した溶液を2.5時間かけて滴下する。更に70
℃で2時間加熱攪拌を行なう。得られた反応液を水40
00部に注ぎ、生じた固体をろ過、真空乾燥することで
メタクリル酸/アリルメタクリレート共重合体(共重合
体1)を得た。共重合体の重量平均分子量は36000
(ポリスチレン換算)であった。
【0137】[合成例2]1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパン180部を反応容器中に注ぎ、窒素気流下、
内温を70℃に加熱する。ここへメタクリル酸17.1
部、アリルメタクリレート42.9部、ベンジルメタク
リレート30.0部(組成比は28:48:24モル
比)ドデシルメルカプタン2.87部、V−65(和光
純薬製 2,2’−アゾビス−(2,4’−ジメチルバ
レロニトリル))3.52部を1−メトキシ−2−アセ
トキシプロパン180部に溶解した溶液を2.5時間か
けて滴下する。更に70℃で2時間加熱攪拌することで
メタクリル酸/アリルメタクリレート/ベンジルメタク
リレート共重合体(共重合体2)を得た。共重合体の重
量平均分子量は33000(ポリスチレン換算)であっ
た。
シプロパン180部を反応容器中に注ぎ、窒素気流下、
内温を70℃に加熱する。ここへメタクリル酸17.1
部、アリルメタクリレート42.9部、ベンジルメタク
リレート30.0部(組成比は28:48:24モル
比)ドデシルメルカプタン2.87部、V−65(和光
純薬製 2,2’−アゾビス−(2,4’−ジメチルバ
レロニトリル))3.52部を1−メトキシ−2−アセ
トキシプロパン180部に溶解した溶液を2.5時間か
けて滴下する。更に70℃で2時間加熱攪拌することで
メタクリル酸/アリルメタクリレート/ベンジルメタク
リレート共重合体(共重合体2)を得た。共重合体の重
量平均分子量は33000(ポリスチレン換算)であっ
た。
【0138】[合成例3]1−メトキシ−2−プロパノ
ール405部を反応容器中に注ぎ、窒素気流下、内温を
70℃に加熱する。ここへメタクリル酸17.4部、ア
リルメタクリレート43.6部、シクロヘキシルメタク
リレート29.1部(組成比は28:48:24モル
比)、V−65(和光純薬製 2,2’−アゾビス−
(2,4’−ジメチルバレロニトリル))3.58部を
1−メトキシ−2−プロパノール405部に溶解した溶
液を2.5時間かけて滴下する。更に70℃で2時間加
熱攪拌を行なう。得られた反応液を水4000部に注
ぎ、生じた固体をろ過、真空乾燥することでメタクリル
酸/アリルメタクリレート/シクロヘキシルメタクリレ
ート共重合体(共重合体3)を得た。共重合体の重量平
均分子量は32000(ポリスチレン換算)であった。
ール405部を反応容器中に注ぎ、窒素気流下、内温を
70℃に加熱する。ここへメタクリル酸17.4部、ア
リルメタクリレート43.6部、シクロヘキシルメタク
リレート29.1部(組成比は28:48:24モル
比)、V−65(和光純薬製 2,2’−アゾビス−
(2,4’−ジメチルバレロニトリル))3.58部を
1−メトキシ−2−プロパノール405部に溶解した溶
液を2.5時間かけて滴下する。更に70℃で2時間加
熱攪拌を行なう。得られた反応液を水4000部に注
ぎ、生じた固体をろ過、真空乾燥することでメタクリル
酸/アリルメタクリレート/シクロヘキシルメタクリレ
ート共重合体(共重合体3)を得た。共重合体の重量平
均分子量は32000(ポリスチレン換算)であった。
【0139】[合成例4]合成例3におけるメタクリル
酸17.4部を16.4部に、アリルメタクリレート4
3.6部を48.6部に、シクロヘキシルメタクリレー
ト29.1部をエチルメタクリレート22.0部に(組
成比は28:48:24モル比)、V−65の3.58
部を3.99部にする以外は合成例3と同様にしてメタ
クリル酸/アリルメタクリレート/エチルメタクリレー
ト共重合体(共重合体4)を得た。共重合体の重量平均
分子量は36000(ポリスチレン換算)であった。
酸17.4部を16.4部に、アリルメタクリレート4
3.6部を48.6部に、シクロヘキシルメタクリレー
ト29.1部をエチルメタクリレート22.0部に(組
成比は28:48:24モル比)、V−65の3.58
部を3.99部にする以外は合成例3と同様にしてメタ
クリル酸/アリルメタクリレート/エチルメタクリレー
ト共重合体(共重合体4)を得た。共重合体の重量平均
分子量は36000(ポリスチレン換算)であった。
【0140】[合成例5]合成例3におけるメタクリル
酸17.4部を16.0部に、アリルメタクリレート4
3.6部を25.1部に、シクロヘキシルメタクリレー
ト29.1部をベンジルメタクリレート49.0部に
(組成比は28:30:42モル比)、V−65の3.
58部を3.29部にする以外は合成例3と同様にして
メタクリル酸/アリルメタクリレート/ベンジルメタク
リレート共重合体(共重合体5)を得た。共重合体の重
量平均分子量は17000(ポリスチレン換算)であっ
た。
酸17.4部を16.0部に、アリルメタクリレート4
3.6部を25.1部に、シクロヘキシルメタクリレー
ト29.1部をベンジルメタクリレート49.0部に
(組成比は28:30:42モル比)、V−65の3.
58部を3.29部にする以外は合成例3と同様にして
メタクリル酸/アリルメタクリレート/ベンジルメタク
リレート共重合体(共重合体5)を得た。共重合体の重
量平均分子量は17000(ポリスチレン換算)であっ
た。
【0141】[比較合成例1]メタクリル酸/ベンジル
メタクリレートの58/42モル比共重合体160部、
トリエチルベンジルアンモニウムクロリド1.1部、ジ
−t−ヘキシルハイドロキノン0.24部を1−メトキ
シ−2−アセトキシプロパン240部に溶解する。内温
を80℃に加熱し、ここへグリシジルメタクリレート3
4.2部を1−メトキシ−2−アセトキシプロパン5
1.3部に溶解した溶液を滴下する。更に80℃で8時
間加熱攪拌することで、メタクリル酸/ベンジルメタク
リレート共重合体のカルボキシル基の一部を側鎖メタア
クリロイル基に変性した樹脂(共重合体6)(組成比は
28:58:20モル比)を得た。共重合体の重量平均
分子量は26000(ポリスチレン換算)であった。
メタクリレートの58/42モル比共重合体160部、
トリエチルベンジルアンモニウムクロリド1.1部、ジ
−t−ヘキシルハイドロキノン0.24部を1−メトキ
シ−2−アセトキシプロパン240部に溶解する。内温
を80℃に加熱し、ここへグリシジルメタクリレート3
4.2部を1−メトキシ−2−アセトキシプロパン5
1.3部に溶解した溶液を滴下する。更に80℃で8時
間加熱攪拌することで、メタクリル酸/ベンジルメタク
リレート共重合体のカルボキシル基の一部を側鎖メタア
クリロイル基に変性した樹脂(共重合体6)(組成比は
28:58:20モル比)を得た。共重合体の重量平均
分子量は26000(ポリスチレン換算)であった。
【0142】[実施例1]厚さ75μmのポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルムの仮支持体上に、下
記の組成(H1)からなる塗布液を塗布し乾燥させ、乾
燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
テレフタレート(PET)フィルムの仮支持体上に、下
記の組成(H1)からなる塗布液を塗布し乾燥させ、乾
燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
【0143】
<熱可塑性樹脂層形成用塗布液の組成:H1>
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリ
レート/メタクリル酸共重合体(共重合モル組成比=55/11.7/4.5/
28.8、重量平均分子量=80000) 15.0質量部
・新中村化学(株)製「BPE−500」(多官能アクリレート)7.0質量部
・大日本インキ(株)製「F177P」(フッ素系界面活性剤) 0.3質量部
・メタノール 30.0質量部
・メチルエチルケトン 19.0質量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.0質量部
次に、上記熱可塑性樹脂層上に下記組成(B1)から成
る塗布液を塗布し乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm厚の
中間層を設けた。
る塗布液を塗布し乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm厚の
中間層を設けた。
【0144】
<中間層形成用塗布液の組成:B1>
・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製の「PVA205」、鹸化度:80モ
ル%) 130質量部
・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製の「K−30」)
60質量部
・蒸留水 2110質量部
・メタノール 1750質量部
【0145】上記熱可塑性樹脂層及び中間層を有する仮
支持体の上に、下記組成(R1)の塗布液を塗布し乾燥
させ、乾燥膜厚が2.5μmの感光性樹脂層を形成し、
更にこの感光性樹脂層の上に、ポリプロピレン(厚さ1
2μm)の被覆シートを圧着して、赤色の多層の感光性
樹脂転写材料を作成した。次いで、塗布液(R1)を
(G1)と(B1)に変更したこと以外は同様にして、
緑色(G)と青色(B)の多層の感光性転写材料を作成
した。
支持体の上に、下記組成(R1)の塗布液を塗布し乾燥
させ、乾燥膜厚が2.5μmの感光性樹脂層を形成し、
更にこの感光性樹脂層の上に、ポリプロピレン(厚さ1
2μm)の被覆シートを圧着して、赤色の多層の感光性
樹脂転写材料を作成した。次いで、塗布液(R1)を
(G1)と(B1)に変更したこと以外は同様にして、
緑色(G)と青色(B)の多層の感光性転写材料を作成
した。
【0146】<着色感光性樹脂層用塗布液>
【表1】
【0147】[実施例2〜5]実施例1における合成例
1に示した共重合体1を、それぞれ合成例2〜5に示し
た共重合体2〜5に変更したこと以外は、実施例1と同
様にして実施例2〜5に係わる転写材料を作製した。
1に示した共重合体1を、それぞれ合成例2〜5に示し
た共重合体2〜5に変更したこと以外は、実施例1と同
様にして実施例2〜5に係わる転写材料を作製した。
【0148】[比較例1]実施例1における合成例1に
示した共重合体1をベンジルメタクリレート/メタクリ
ル酸共重合体(モル組成比=73/27、分子量3万)に変
更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例1の転
写材料を作製した。
示した共重合体1をベンジルメタクリレート/メタクリ
ル酸共重合体(モル組成比=73/27、分子量3万)に変
更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例1の転
写材料を作製した。
【0149】[比較例2]実施例1における合成例1に
示した共重合体1を比較合成例1に示した共重合体6に
変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例2の
転写材料を作製した。
示した共重合体1を比較合成例1に示した共重合体6に
変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例2の
転写材料を作製した。
【0150】(カラーフィルターの作製)以下のように
して、実施例1〜5及び比較例1〜2で得られた着色転
写材料を用いて、実施例1〜5および比較例1〜2のカ
ラーフィルターを作製した。
して、実施例1〜5及び比較例1〜2で得られた着色転
写材料を用いて、実施例1〜5および比較例1〜2のカ
ラーフィルターを作製した。
【0151】厚さ1.1mmで400mm×300mm
の透明ガラス基板(コーニング社#7059)を洗浄
し、シランカップリング剤(信越化学「KBM−60
3」)1%水溶液に3分間浸漬後、30秒間純水で洗浄
して過剰なシランカップリング剤を洗い落とし、水切り
してオーブン中110℃で20分間熱処理した。R層用
着色転写材料(赤色画像形成材料)の被覆シートを剥離
し、感光性樹脂組成物層面をシランカップリング剤処理
した透明ガラス基板にラミネーター(ソマール(株)製
オートカットラミネーター「ASL−24」)を用いて
加圧(10kg/cm)、加熱して貼り合わせ、続いて
仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体
を除去した。次に所定のフォトマスクを介して露光し現
像し、不要部を除去した後、超高圧水銀灯を用いてカラ
ーフィルター形成面の反対側から紫外線を300mJ/
cm2で照射し、透明ガラス基板上に赤色画素パターン
を形成した。続いて、赤色画素パターンが形成されたガ
ラス基板上にG層用着色転写材料(緑色画像形成材料)
を上記と同様にして貼り合わせ、剥離、露光、現像、ポ
スト露光を行い、緑色画素パターンを形成した。同様な
工程をB層用着色転写材料(青色画像形成材料)で繰り
返し、透明ガラス基板上にカラーフィルターを作製し
た。転写、露光、現像、ポスト露光の各条件は、下記の
表2に示す通りである。
の透明ガラス基板(コーニング社#7059)を洗浄
し、シランカップリング剤(信越化学「KBM−60
3」)1%水溶液に3分間浸漬後、30秒間純水で洗浄
して過剰なシランカップリング剤を洗い落とし、水切り
してオーブン中110℃で20分間熱処理した。R層用
着色転写材料(赤色画像形成材料)の被覆シートを剥離
し、感光性樹脂組成物層面をシランカップリング剤処理
した透明ガラス基板にラミネーター(ソマール(株)製
オートカットラミネーター「ASL−24」)を用いて
加圧(10kg/cm)、加熱して貼り合わせ、続いて
仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体
を除去した。次に所定のフォトマスクを介して露光し現
像し、不要部を除去した後、超高圧水銀灯を用いてカラ
ーフィルター形成面の反対側から紫外線を300mJ/
cm2で照射し、透明ガラス基板上に赤色画素パターン
を形成した。続いて、赤色画素パターンが形成されたガ
ラス基板上にG層用着色転写材料(緑色画像形成材料)
を上記と同様にして貼り合わせ、剥離、露光、現像、ポ
スト露光を行い、緑色画素パターンを形成した。同様な
工程をB層用着色転写材料(青色画像形成材料)で繰り
返し、透明ガラス基板上にカラーフィルターを作製し
た。転写、露光、現像、ポスト露光の各条件は、下記の
表2に示す通りである。
【0152】
【表2】
【0153】その他の条件及び表2の補足説明を以下に
記す。 (現像1)熱可塑性樹脂層、中間層を溶解除去するため
の現像で、現像液としてトリエタノールアミン1%水溶
液を用い、33℃でシャワー現像した。 (現像2)着色感光性樹脂組成物層を現像し、現像液と
してカラーモザイク現像液「CD−1000」(富士ハ
ントエレクトロニクステクノロジー社製)1%水溶液を
用い、33℃でシャワー現像した。上述の条件により形
成したカラーフィルターは画素の抜け(白抜け)が無
く、各画素のサイドエッチも小さく、カラーフィルター
として充分な性能を有していた。
記す。 (現像1)熱可塑性樹脂層、中間層を溶解除去するため
の現像で、現像液としてトリエタノールアミン1%水溶
液を用い、33℃でシャワー現像した。 (現像2)着色感光性樹脂組成物層を現像し、現像液と
してカラーモザイク現像液「CD−1000」(富士ハ
ントエレクトロニクステクノロジー社製)1%水溶液を
用い、33℃でシャワー現像した。上述の条件により形
成したカラーフィルターは画素の抜け(白抜け)が無
く、各画素のサイドエッチも小さく、カラーフィルター
として充分な性能を有していた。
【0154】(試験評価)
<耐溶剤性テスト>上記カラーフィルターを裁断し、該裁
断片をN−メチルピロリドンに30分浸漬後、カラーフ
ィルター裁断片の表面状態(クラック発生の有無)を微
分干渉顕微鏡で観察し耐溶剤性を評価した。結果を表3
に示す。
断片をN−メチルピロリドンに30分浸漬後、カラーフ
ィルター裁断片の表面状態(クラック発生の有無)を微
分干渉顕微鏡で観察し耐溶剤性を評価した。結果を表3
に示す。
【0155】
【表3】
【0156】何れの転写材料もアルカリ現像時間は30
秒〜20秒と良好であり、解像度は10〜14μmと高
解像度であった。またこの転写材料を50℃で4日間放
置後に同様な処理を行ったが、現像性などの性能に変化
が無いことが認められた(経時安定性良好)。
秒〜20秒と良好であり、解像度は10〜14μmと高
解像度であった。またこの転写材料を50℃で4日間放
置後に同様な処理を行ったが、現像性などの性能に変化
が無いことが認められた(経時安定性良好)。
【0157】(硬度、耐溶剤性評価用サンプルの作製)
上記の実施例と比較例の方法で得られた着色樹脂転写材
料の被覆シートを剥離し、転写樹脂層をガラス基板上に
100℃、2kg/cmの線圧でラミネートした後、ポ
リエチレンテレフタレートフイルムのみを剥離し、転写
材料をガラス板上に転写する。全面を紫外線を100m
J/cm2で照射し、続いて現像することにより、熱可
塑性樹脂層を除去し、ガラス基板上に着色層のみを形成
した。同様の操作を8回繰り返し、着色層を8回積層
し、次いで温度220℃で1時間、或いは250℃で1
時間ポストベークして硬化膜を得た。
上記の実施例と比較例の方法で得られた着色樹脂転写材
料の被覆シートを剥離し、転写樹脂層をガラス基板上に
100℃、2kg/cmの線圧でラミネートした後、ポ
リエチレンテレフタレートフイルムのみを剥離し、転写
材料をガラス板上に転写する。全面を紫外線を100m
J/cm2で照射し、続いて現像することにより、熱可
塑性樹脂層を除去し、ガラス基板上に着色層のみを形成
した。同様の操作を8回繰り返し、着色層を8回積層
し、次いで温度220℃で1時間、或いは250℃で1
時間ポストベークして硬化膜を得た。
【0158】<膜硬度の測定>得られた硬化膜の荷重に対
する塑性変形量を、(株)アカシ製の硬度計「MZT」
にて測定した。この値が小さい方が好ましい。
する塑性変形量を、(株)アカシ製の硬度計「MZT」
にて測定した。この値が小さい方が好ましい。
【0159】<耐溶剤性>得られた硬化膜をN−メチルピ
ロリドンに30分間浸漬し、膜表面のクラックの発生状
態を観察した。クラックが全く生じないものを○、一部
にクラックが見られたものを△、全面にクラックあるい
は一部膜剥がれが生じたものを×と表示する。結果を下
記の表4に示す。
ロリドンに30分間浸漬し、膜表面のクラックの発生状
態を観察した。クラックが全く生じないものを○、一部
にクラックが見られたものを△、全面にクラックあるい
は一部膜剥がれが生じたものを×と表示する。結果を下
記の表4に示す。
【0160】
【表4】
【0161】表4の結果より、実施例の硬化膜は、比較
例の硬化膜に比較して、硬度が高くなっており、実施例
の220℃×1時間ベークサンプルが、比較例の250
℃×1時間ベークサンプルと同等以上の硬度が得られて
いる。また、実施例は、比較例に対して、良好な耐溶剤
性を示している。
例の硬化膜に比較して、硬度が高くなっており、実施例
の220℃×1時間ベークサンプルが、比較例の250
℃×1時間ベークサンプルと同等以上の硬度が得られて
いる。また、実施例は、比較例に対して、良好な耐溶剤
性を示している。
【0162】[実施例6]
<着色転写感材の作製>厚さ100μmのPET仮支持
体の上に、下記の処方からなる塗布液を塗布し乾燥さ
せ、乾燥膜厚が0.7μmの剥離層を設けた。
体の上に、下記の処方からなる塗布液を塗布し乾燥さ
せ、乾燥膜厚が0.7μmの剥離層を設けた。
【0163】
<剥離層の処方>
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリ
レート/メタクリル酸共重合体(共重合モル組成比=55/12/5/28、重
量平均分子量=9.5万、Tg≒73℃) 7質量部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合モル組成比=63/37、重量平均分
子量=1万、Tg≒100℃) 16.33質量部
・新中村化学(株)製「BPE−500」(ビスフェノールAにオクタエチレン
グリコールモノメタクリレートを2当量脱水縮合した化合物)10.89質量部
・大日本インキ(株)製「F176P」(フッ素系界面活性剤)1.96質量部
・メチルエチルケトン 508.1質量部
・メタノール 13.32質量部
・メトキシプロパノール 7.44質量部
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 231.9質量部
【0164】次に上記剥離層上に下記処方からなる塗布
液を塗布し乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm厚の酸素遮
断層を設けた。 <酸素遮断層の処方> ・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製「PVA205」、鹸化率=80%) 21.2質量部 ・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製の「K−30」) 2.35質量部 ・メタノール 214質量部 ・蒸留水 262質量部
液を塗布し乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm厚の酸素遮
断層を設けた。 <酸素遮断層の処方> ・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製「PVA205」、鹸化率=80%) 21.2質量部 ・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製の「K−30」) 2.35質量部 ・メタノール 214質量部 ・蒸留水 262質量部
【0165】G、Y顔料分散液を用いて調整した下記着
色感光処方を上記酸素遮断層上に乾燥膜厚3μに形成
し、更にこの感光層上に12μ厚のポリプロピレンフィ
ルムをラミネートで設け保護層とし、着色転写感材を得
た。 <着色感光層の処方> ・緑色顔料分散液 67.80質量部 ・黄色顔料分散液 26.89質量部 ・合成例1に示した共重合体1 0.273質量部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製「DPHA」) 8.284質量部 ・下記[化16]の化合物 0.621質量部 ・イルガキュアー784(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製) 1.243質量部 ・下記[化17]の化合物 1.864質量部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.004質量部 ・大日本インキ(株)製の「F176P」(フッ素系界面活性剤) 0.025質量部 ・メチルエチルケトン 82.28質量部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 7.94質量部
色感光処方を上記酸素遮断層上に乾燥膜厚3μに形成
し、更にこの感光層上に12μ厚のポリプロピレンフィ
ルムをラミネートで設け保護層とし、着色転写感材を得
た。 <着色感光層の処方> ・緑色顔料分散液 67.80質量部 ・黄色顔料分散液 26.89質量部 ・合成例1に示した共重合体1 0.273質量部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製「DPHA」) 8.284質量部 ・下記[化16]の化合物 0.621質量部 ・イルガキュアー784(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製) 1.243質量部 ・下記[化17]の化合物 1.864質量部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.004質量部 ・大日本インキ(株)製の「F176P」(フッ素系界面活性剤) 0.025質量部 ・メチルエチルケトン 82.28質量部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 7.94質量部
【0166】
【化16】
【0167】
【化17】
【0168】尚、上記緑色及び黄色の顔料分散液は、以
下の方法で調整した。 <緑色顔料分散液の調整> 下記に示す緑色顔料組成物をモーターミル「M−200」(アイガー社製)で 、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sで5時間分散して緑 色顔料分散液を得た。 ・C.I.ピグメントグリーン36 45質量部 ・下記[化18]の化合物 0.9質量部 ・合成例1に示した共重合体1 45質量部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 359.1質量部
下の方法で調整した。 <緑色顔料分散液の調整> 下記に示す緑色顔料組成物をモーターミル「M−200」(アイガー社製)で 、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sで5時間分散して緑 色顔料分散液を得た。 ・C.I.ピグメントグリーン36 45質量部 ・下記[化18]の化合物 0.9質量部 ・合成例1に示した共重合体1 45質量部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 359.1質量部
【0169】
【化18】
【0170】<黄色顔料分散液の調整>下記に示す黄色顔
料組成物を、前記緑色顔料分散液と同様な方法で分散
し、黄色顔料分散液を得た。 ・C.I.ピグメントイエロー139 45質量部 ・上記[化18]の化合物 2.25質量部 ・合成例2に示した共重合体2 45質量部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 357.25質量部
料組成物を、前記緑色顔料分散液と同様な方法で分散
し、黄色顔料分散液を得た。 ・C.I.ピグメントイエロー139 45質量部 ・上記[化18]の化合物 2.25質量部 ・合成例2に示した共重合体2 45質量部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 357.25質量部
【0171】<フォトマスクの作製>まず保護層のポリ
プロピレンフィルムを剥離した着色転写感材の感光層側
を、アルカリ洗浄したソーダガラス基板上に、ラミネー
タ(室町化学社製「MDL601」)を用いて130℃
の加熱条件下にラミネートして、フォトマスク用ブラン
クスを作製した。この際のガラス基板のアルカリ洗浄は
「セミコクリーンSE10」(フルウチ化学社製)中に
ガラス基板を浸漬し、超音波を15分かけた後、イオン
交換水で水洗し、更に110℃で10分間乾燥させた。
プロピレンフィルムを剥離した着色転写感材の感光層側
を、アルカリ洗浄したソーダガラス基板上に、ラミネー
タ(室町化学社製「MDL601」)を用いて130℃
の加熱条件下にラミネートして、フォトマスク用ブラン
クスを作製した。この際のガラス基板のアルカリ洗浄は
「セミコクリーンSE10」(フルウチ化学社製)中に
ガラス基板を浸漬し、超音波を15分かけた後、イオン
交換水で水洗し、更に110℃で10分間乾燥させた。
【0172】次にフォトマスク用ブランクスのPETベ
ースを剥離して、レーザープロッターとして大日本スク
リーン社製の「FR7000」(光源は532nmのN
dYAGレーザー)を用い露光した。次いで、アルカリ
現像液(富士写真フィルム社製「TCD」の10%水溶
液)に28℃で120秒間浸漬して現像処理を行い、更
にイオン交換水で水洗し乾燥した。引き続き200℃×
30分間加熱処理を行い、所望のフォトマスクを得た。
ースを剥離して、レーザープロッターとして大日本スク
リーン社製の「FR7000」(光源は532nmのN
dYAGレーザー)を用い露光した。次いで、アルカリ
現像液(富士写真フィルム社製「TCD」の10%水溶
液)に28℃で120秒間浸漬して現像処理を行い、更
にイオン交換水で水洗し乾燥した。引き続き200℃×
30分間加熱処理を行い、所望のフォトマスクを得た。
【0173】ライン/スペース=8μm/8μmの解像
度が得られ、露光感度は約0.8mJ/cm2であっ
た。
度が得られ、露光感度は約0.8mJ/cm2であっ
た。
【0174】
【発明の効果】本発明によれば画像形成に十分な露光感
度を有し、弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解
像度が高く、特に熱硬化処理後の画像の硬度、耐溶剤
性、耐損傷性などの各種の耐性に優れた着色画像が得ら
れ、かつ感光材の経時安定性にも優れた着色感光性樹脂
組成物、及び感光性樹脂転写材料を提供することができ
る。更に、これらの耐性を付与する際の後加熱温度を低
くしても、十分な耐性付与が可能な感光性樹脂組成物を
提供することができる。また更に、これらの着色感光性
樹脂組成物はカラーフィルターやマスク材料等の着色画
像の作製に好適である。
度を有し、弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解
像度が高く、特に熱硬化処理後の画像の硬度、耐溶剤
性、耐損傷性などの各種の耐性に優れた着色画像が得ら
れ、かつ感光材の経時安定性にも優れた着色感光性樹脂
組成物、及び感光性樹脂転写材料を提供することができ
る。更に、これらの耐性を付与する際の後加熱温度を低
くしても、十分な耐性付与が可能な感光性樹脂組成物を
提供することができる。また更に、これらの着色感光性
樹脂組成物はカラーフィルターやマスク材料等の着色画
像の作製に好適である。
【図1】 本発明のフォトマスク材料の吸収スペクトル
を示す図である。
を示す図である。
【図2】 本発明の感光性熱硬化性樹脂転写材料の断面
図である。
図である。
【図3】 本発明の多層の感光性熱硬化性樹脂転写材料
の断面図である。
の断面図である。
21 仮支持体
22 感光性樹脂層
23 保護フィルム
31 仮支持体
32 アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層
33 中間層
34 感光性樹脂層
35 保護フィルム
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
G02B 5/20 101 G02B 5/20 101 4J100
G03F 1/08 G03F 1/08 J
L
V
W
7/004 512 7/004 512
7/031 7/031
7/20 501 7/20 501
(72)発明者 今村 直也
静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真
フイルム株式会社内
(72)発明者 山本 瑞木
静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真
フイルム株式会社内
Fターム(参考) 2H025 AA06 AA10 AA13 AB11 AB13
AC01 AD01 BC13 BC19 BC42
BC53 BC85 CA14 CA28 CA39
CC11 FA17 FA35
2H048 BA02 BA11 BA45 BA48 BB02
BB14 BB15 BB42
2H095 BA07 BA12 BC06 BC08 BD32
BD33 BD34
2H097 BA06 CA12 CA17 FA02 FA07
JA02 JA03 JA04 LA09 LA12
4J027 AA01 AA02 BA19 BA20 BA21
BA23 BA24 BA27 BA29 CA34
CB10 CC07 CD10
4J100 AJ02P AL75Q BA40Q BB00Q
BC43Q CA04 CA05 JA38
Claims (25)
- 【請求項1】 少なくとも(1)アルカリ可溶性バイン
ダー、(2)エチレン性不飽和二重結合を2個以上有す
るモノマー又はオリゴマー、(3)光重合開始剤又は光
重合開始剤系、及び(4)着色剤、を含む着色感光性樹
脂組成物であって、 上記アルカリ可溶性バインダーが、少なくともカルボキ
シル基を有する構造単位と下記一般式(I)で示される
構造単位とを有する共重合体であることを特徴とする着
色感光性樹脂組成物。 【化1】 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2〜R6
はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよ
いアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を
表す。〕 - 【請求項2】 前記アルカリ可溶性バインダーが、少な
くともカルボキシル基を有する構造単位を10〜40モ
ル%と一般式(I)で示される構造単位を20〜90モ
ル%有する共重合体である請求項1に記載の着色感光性
樹脂組成物。 - 【請求項3】 前記アルカリ可溶性バインダーとして、
更に側鎖に重合性の不飽和二重結合を有しないアルカリ
可溶性バインダーを含有する請求項1に記載の着色感光
性樹脂組成物。 - 【請求項4】 前記共重合体が、(1)(メタ)アクリ
ル酸とアリル(メタ)アクリレートとの共重合体、或い
は(2)(メタ)アクリル酸とアリル(メタ)アクリレ
ートとアルキル、アリール、又はアラルキル(メタ)ア
クリレート類との共重合体である請求項1に記載の着色
感光性樹脂組成物。 - 【請求項5】 前記光重合開始剤が、トリアジン骨格を
有するハロゲン化炭化水素、オキサジアゾール骨格を有
するハロゲン化炭化水素、ヘキサアリールビイミダゾー
ル、チタノセン誘導体、又はフェニルアクリジン誘導体
である請求項1に記載の着色感光性樹脂組成物。 - 【請求項6】 前記着色剤が、有機顔料である請求項1
〜5のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物。 - 【請求項7】 前記顔料を分散する際に、分散媒体とし
て、請求項1〜4のいずれかに記載のアルカリ可溶性バ
インダーの少なくとも一部を併用することを特徴とする
請求項6に記載の着色感光性樹脂組成物。 - 【請求項8】 前記着色剤が、紫外領域に吸収を有する
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の着色
感光性樹脂組成物。 - 【請求項9】 仮支持体上に、少なくとも、請求項1〜
8のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層
を、設けたことを特徴とする感光性樹脂転写材料。 - 【請求項10】 前記仮支持体と前記着色感光性樹脂組
成物からなる層の間に、更に、アルカリ可溶性熱可塑樹
脂層を設けた請求項9に記載の感光性樹脂転写材料。 - 【請求項11】 前記仮支持体と前記着色感光性樹脂組
成物からなる層の間に、更に、アルカリ可溶性熱可塑樹
脂層及び中間層を、この順に設けた請求項9に記載の感
光性樹脂転写材料。 - 【請求項12】 透明基板上に、少なくとも請求項1〜
8のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層
を設ける工程と、パターン露光及びアルカリ現像の工程
を含むことを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項13】 前記着色感光性樹脂組成物からなる層
が、請求項9〜11のいずれかに記載の感光性樹脂転写
材料の、少なくとも着色感光性樹脂組成物からなる層を
転写したものである請求項12に記載の画像形成方法。 - 【請求項14】 前記アルカリ現像工程の後に、更に加
熱工程を含む請求項12又は13に記載の画像形成方
法。 - 【請求項15】 異なる色相の複数の前記着色感光性樹
脂組成物からなる層を用いて、請求項12〜14のいず
れかに記載の画像形成方法を繰り返すことを特徴とする
カラーフィルター製造方法。 - 【請求項16】 請求項8に記載の着色剤を含む感光性
樹脂組成物からなる層を用い、前記パターン露光を近紫
外光ないし可視光で行なうことを特徴とする請求項12
〜14のいずれかに記載のフォトマスク製造方法。 - 【請求項17】 画像を形成する際の近紫外光ないし可
視光領域における前記感光性樹脂層の吸光度が、フォト
マスクとして用いる際の紫外領域におけるフォトマスク
の吸光度より小さい請求項16に記載のフォトマスク製
造方法。 - 【請求項18】 前記で形成されたフォトマスクの欠陥
部分を、更に、(1)黒部の白抜け欠陥部分には、紫外
領域に吸収を有する着色材を含有し且つ近紫外光ないし
可視光で画像形成が可能な感光性樹脂層を設け、露光し
現像することにより、また(2)白部の欠陥部分には、
レーザーアブレーションにより、修復を行う請求項16
又は17に記載のフォトマスク製造方法。 - 【請求項19】 前記露光工程が、近紫外光ないし可視
光領域のレーザー光により行われる請求項16〜18の
いずれかに記載のフォトマスク製造方法。 - 【請求項20】 透明基板上に、少なくとも請求項1〜
8のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物からなる層
を、異なる色相の複数層につき設け、パターン露光及び
アルカリ現像を行なって多色画像を形成して得られるこ
とを特徴とするカラーフィルター。 - 【請求項21】 前記着色感光性樹脂組成物からなる層
が、請求項9〜11のいずれかに記載の感光性樹脂転写
材料の、少なくとも着色感光性樹脂組成物からなる層を
転写したものである請求項20に記載のカラーフィルタ
ー。 - 【請求項22】 前記アルカリ現像の後に、更に加熱処
理を行なって多色画像を形成して得られる請求項20又
は21に記載のカラーフィルター。 - 【請求項23】 透明基板上に、請求項8に記載の着色
剤を含む感光性樹脂組成物からなる層を設け、パターン
露光を近紫外光ないし可視光で行ないアルカリ現像を行
なって画像を形成して得られることを特徴とするフォト
マスク。 - 【請求項24】 前記感光性樹脂組成物からなる層が、
請求項9〜11のいずれかに記載の感光性樹脂転写材料
の、少なくとも感光性樹脂組成物からなる層を転写した
ものである請求項23に記載のフォトマスク。 - 【請求項25】 前記アルカリ現像の後に、更に加熱処
理を行なって画像を形成して得られる請求項23又は2
4に記載のフォトマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001323647A JP2003131378A (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 感光性樹脂組成物、転写材料、画像形成方法、カラーフィルター及びその製造方法、フォトマスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001323647A JP2003131378A (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 感光性樹脂組成物、転写材料、画像形成方法、カラーフィルター及びその製造方法、フォトマスク及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003131378A true JP2003131378A (ja) | 2003-05-09 |
Family
ID=19140508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001323647A Pending JP2003131378A (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 感光性樹脂組成物、転写材料、画像形成方法、カラーフィルター及びその製造方法、フォトマスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003131378A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005173532A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-30 | Fujifilm Electronic Materials Co Ltd | イメージセンサ用カラーフィルタの製造方法 |
JP2006201730A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-08-03 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用青色着色組成物およびカラーフィルタ |
JP2008046268A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Fujifilm Corp | 光硬化性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
WO2017038339A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色層の製造方法、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子および画像表示装置 |
KR101803991B1 (ko) | 2010-05-03 | 2017-12-01 | 바스프 에스이 | 저온 적용을 위한 컬러 필터 |
WO2019144456A1 (zh) * | 2018-01-23 | 2019-08-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 树脂组合物、固化光阻以及显示面板 |
US10738241B2 (en) | 2018-01-23 | 2020-08-11 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Resin composition, cured photoresist and display panel |
-
2001
- 2001-10-22 JP JP2001323647A patent/JP2003131378A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005173532A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-30 | Fujifilm Electronic Materials Co Ltd | イメージセンサ用カラーフィルタの製造方法 |
JP4597590B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2010-12-15 | 富士フイルム株式会社 | イメージセンサ用カラーフィルタの製造方法 |
US8053149B2 (en) | 2003-11-21 | 2011-11-08 | Fujifilm Corporation | Method for producing color filter for image sensor |
JP2006201730A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-08-03 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用青色着色組成物およびカラーフィルタ |
JP4597693B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2010-12-15 | 東洋インキ製造株式会社 | カラーフィルタ用青色着色組成物およびカラーフィルタ |
JP2008046268A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Fujifilm Corp | 光硬化性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
KR101803991B1 (ko) | 2010-05-03 | 2017-12-01 | 바스프 에스이 | 저온 적용을 위한 컬러 필터 |
WO2017038339A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色層の製造方法、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子および画像表示装置 |
JPWO2017038339A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2018-03-01 | 富士フイルム株式会社 | 着色層の製造方法、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子および画像表示装置 |
WO2019144456A1 (zh) * | 2018-01-23 | 2019-08-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 树脂组合物、固化光阻以及显示面板 |
US10738241B2 (en) | 2018-01-23 | 2020-08-11 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Resin composition, cured photoresist and display panel |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3878451B2 (ja) | 感光性樹脂転写材料、画像形成方法、カラーフィルターとその製造方法、フォトマスクとその製造方法 | |
EP0758097B1 (en) | Polymerizable composition for color filter | |
JPH09145915A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP4902369B2 (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP4153159B2 (ja) | ネガ型感光性熱硬化性樹脂組成物、ネガ型感光性熱硬化性樹脂層転写材料、及びネガ型耐性画像形成方法 | |
JP2002088136A (ja) | 光重合性不飽和樹脂および該樹脂を含有する感光性樹脂組成物 | |
JP2004020917A (ja) | 着色感光性樹脂組成物、これを用いる転写材料、カラーフィルター、フォトマスク及び画像形成方法 | |
JP4298391B2 (ja) | 青紫光感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP2003005357A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写材料、及び画像形成方法 | |
JP2002357901A (ja) | 感光性樹脂組成物、転写材料、及び画像形成方法 | |
JP4108303B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 | |
JP4185245B2 (ja) | ネガ型感光性熱硬化性着色樹脂組成物、それを用いた転写材料、及び画像形成方法 | |
JP2008083228A (ja) | カラーフィルタ用感光性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 | |
JP2003131378A (ja) | 感光性樹脂組成物、転写材料、画像形成方法、カラーフィルター及びその製造方法、フォトマスク及びその製造方法 | |
JP4651800B2 (ja) | 層間絶縁膜用ネガ型感光性熱硬化性転写材料、層間絶縁膜の形成方法、ハイアパーチャー型液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2002062651A (ja) | 光重合性組成物及びそれを用いたカラーフィルタ | |
JP2003172817A (ja) | インクジェット方式カラーフィルタ用隔壁 | |
JP2005189720A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、および、画像形成方法 | |
JP4112272B2 (ja) | スペーサーの高さ調整方法 | |
JP4283987B2 (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物、それを用いた感光性熱硬化性樹脂層転写材料及び画像形成方法 | |
JP2002072475A (ja) | 光重合性組成物及びそれを用いたカラーフィルター | |
JP4043681B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び画像形成方法 | |
JP2003131385A (ja) | 感光性転写材料及びその製造方法並びにカラーフィルタの製造方法 | |
JP2003107677A (ja) | フォトマスク及びその製造方法、並びにフォトマスク材料 | |
JPH11109616A (ja) | 着色樹脂組成物及びカラーフィルター |