JP2003130413A - クリーンルーム装置 - Google Patents
クリーンルーム装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークの搬送経路を簡単な構造で局所的に高
グレードな清浄度とすることができ、クリーンルーム全
体を高グレードな清浄度とする必要をなくして、大掛か
りな空調設備を不要とし得、設備費並びに運転費を削減
し得るクリーンルーム装置を提供する。 【解決手段】 プロセス側受渡口１８の上下縁部に外方
へ張り出すプロセス側庇部材１を取り付けると共に、搬
送側受渡口２２の上下縁部に、ワーク１５の移載時に搬
送側受渡口２２をプロセス側受渡口１８へ対向させた際
に前記プロセス側庇部材１に対し上下方向へ所要の隙間
をあけて重なり合うよう外方へ張り出す搬送側庇部材２
を取り付け、ワーク１５の移載時に搬送側受渡口２２を
プロセス側受渡口１８に対向させた状態でその間の空間
にクリーンフローによるエアパージが行われるよう構成
する。
グレードな清浄度とすることができ、クリーンルーム全
体を高グレードな清浄度とする必要をなくして、大掛か
りな空調設備を不要とし得、設備費並びに運転費を削減
し得るクリーンルーム装置を提供する。 【解決手段】 プロセス側受渡口１８の上下縁部に外方
へ張り出すプロセス側庇部材１を取り付けると共に、搬
送側受渡口２２の上下縁部に、ワーク１５の移載時に搬
送側受渡口２２をプロセス側受渡口１８へ対向させた際
に前記プロセス側庇部材１に対し上下方向へ所要の隙間
をあけて重なり合うよう外方へ張り出す搬送側庇部材２
を取り付け、ワーク１５の移載時に搬送側受渡口２２を
プロセス側受渡口１８に対向させた状態でその間の空間
にクリーンフローによるエアパージが行われるよう構成
する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム装
置に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】一般に、半導体、液晶、医薬品、食料品
等を製造するために、ワークの加工を行う工場には、内
部を所望の清浄度に保持したクリーンルーム装置が設け
られている。 【０００３】図８は従来のクリーンルーム装置の一例を
表わすものであって、これは、低グレードな清浄度に保
持されるクリーンルーム１１内に、高グレードな清浄度
に保持される複数のプロセス装置１２を設置すると共
に、該複数のプロセス装置１２間を、クリーンブースで
囲われたトンネル状のコンベヤ１３でつなぎ、最初のプ
ロセス装置１２で加工されたワークをコンベヤ１３で次
のプロセス装置１２へ搬送し、順次、ワークの加工を行
うようにしたものである。 【０００４】しかし、図８に示されるようなクリーンル
ーム装置では、ワークの搬送方向が一方向に限定され、
工程の組換え等が困難となって融通が利かないため、近
年においては、図９に示されるように、ＡＧＶ（Ａｕｔ
ｏｍａｔｉｃ ＧｕｉｄｅｄＶｅｈｉｃｌｅ）等の搬送
台車１４によりワーク１５を搬送してプロセス装置１２
へ受け渡すようにし、これに伴い、搬送台車１４とプロ
セス装置１２との間におけるワーク１５の受け渡し時に
ワーク１５が汚染されることを防止すべく、クリーンル
ーム１１全体を高グレードな清浄度としたものが開発さ
れている。 【０００５】尚、前記プロセス装置１２は、内部が高グ
レードな清浄度に保持され且つワーク１５を受台１６上
に載置する形で収容可能な受渡部１７と、該受渡部１７
の側面に開口され且つワーク１５を出し入れ可能なプロ
セス側受渡口１８と、該プロセス側受渡口１８を開閉可
能なプロセス側気密扉１９と、前記受渡部１７に搬入さ
れたワーク１５の加工を行う加工部２０とを有してい
る。 【０００６】又、前記搬送台車１４は、内部が高グレー
ドな清浄度に保持され且つワーク１５を収容可能な搬送
室２１と、該搬送室２１の側面に開口され且つワーク１
５を出し入れ可能な搬送側受渡口２２と、該搬送側受渡
口２２を開閉可能な搬送側気密扉２３と、前記搬送室２
１とプロセス装置１２の受渡部１７との間でワーク１５
を受け渡し可能な移載装置２４とを有し、前記クリーン
ルーム１１内に走行可能に配設されている。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
如く、ワーク１５の搬送経路となるクリーンルーム１１
全体を高グレードな清浄度とするのでは、大掛かりな空
調設備が必要となり、その設備費並びに運転費が嵩むと
いう欠点を有していた。 【０００８】このような欠点を解消するものとしては、
従来、例えば、特開平９−１３３３８５号公報に開示さ
れたようなものが存在し、これは、図１０に示される如
く、搬送台車１４の高グレードな清浄度に保持される搬
送室２１全体をせり出すように進退可能に設け、搬送台
車１４とプロセス装置１２との間におけるワーク１５の
受け渡し時には、搬送室２１全体をせり出すように前進
させることにより、搬送側受渡口２２をプロセス側受渡
口１８に密着させ、この状態で、プロセス側気密扉１９
と搬送側気密扉２３とを開き、移載装置２４によりワー
ク１５を受け渡すようにしたものである。 【０００９】しかしながら、特開平９−１３３３８５号
公報に開示されたようなものでは、搬送台車１４の一側
にしか搬送側受渡口２２を形成できなくなると共に、高
グレードな清浄度に保持される搬送室２１全体をせり出
すように進退可能とするための機構が必要となり、搬送
台車１４の構造が非常に複雑化し、コストアップにつな
がるという不具合があった。 【００１０】本発明は、斯かる実情に鑑み、ワークの搬
送経路を簡単な構造で局所的に高グレードな清浄度とす
ることができ、クリーンルーム全体を高グレードな清浄
度とする必要をなくして、大掛かりな空調設備を不要と
し得、設備費並びに運転費を削減し得るクリーンルーム
装置を提供しようとするものである。 【００１１】 【課題を解決するための手段】本発明は、内部が低グレ
ードな清浄度に保持されるクリーンルームと、内部が前
記クリーンルームの内圧より陽圧となるよう高グレード
な清浄度に保持され且つワークを収容可能な受渡部と、
該受渡部の側面に開口され且つワークを出し入れ可能な
プロセス側受渡口と、該プロセス側受渡口を開閉可能な
プロセス側気密扉とを有し、前記クリーンルーム内に設
置されるプロセス装置と、内部が前記クリーンルームの
内圧より陽圧となるよう高グレードな清浄度に保持され
且つワークを収容可能な搬送室と、該搬送室の側面に開
口され且つワークを出し入れ可能な搬送側受渡口と、該
搬送側受渡口を開閉可能な搬送側気密扉と、前記搬送室
とプロセス装置の受渡部との間でワークを受け渡し可能
な移載装置とを有し、前記クリーンルーム内に走行可能
に配設される搬送台車とを備え、前記プロセス側受渡口
の上下縁部に外方へ張り出すプロセス側庇部材を取り付
けると共に、前記搬送側受渡口の上下縁部に、ワークの
移載時に搬送側受渡口をプロセス側受渡口へ対向させた
際に前記プロセス側庇部材に対し上下方向へ所要の隙間
をあけて重なり合うよう外方へ張り出す搬送側庇部材を
取り付け、ワークの移載時に搬送側受渡口をプロセス側
受渡口に対向させた状態でその間の空間にクリーンフロ
ーによるエアパージが行われるよう構成したことを特徴
とするクリーンルーム装置にかかるものである。 【００１２】上記手段によれば、以下のような作用が得
られる。 【００１３】ワークの移載時に搬送側受渡口をプロセス
側受渡口に対向させた状態でその間の空間にクリーンフ
ローによるエアパージが行われると、ワークの搬送経路
となる搬送側受渡口とプロセス側受渡口との間の空間が
局所的に高グレードな清浄度に保持される形となり、ク
リーンルーム全体を高グレードな清浄度としなくて済
み、大掛かりな空調設備が不要となり、設備費並びに運
転費を削減可能となる。 【００１４】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図示
例と共に説明する。 【００１５】図１〜図７は本発明を実施する形態の一例
であって、図中、図９と同一の符号を付した部分は同一
物を表わしており、基本的な構成は図９に示す従来のも
のと同様であるが、本図示例の特徴とするところは、図
１〜図７に示す如く、プロセス側受渡口１８の上下縁部
に外方へ張り出すプロセス側庇部材１を取り付けると共
に、搬送側受渡口２２の上下縁部に、ワーク１５の移載
時に搬送側受渡口２２をプロセス側受渡口１８へ対向さ
せた際に前記プロセス側庇部材１に対し上下方向へ所要
の隙間をあけて重なり合うよう外方へ張り出す搬送側庇
部材２を取り付け、ワーク１５の移載時に搬送側受渡口
２２をプロセス側受渡口１８に対向させた状態でその間
の空間にクリーンフローによるエアパージが行われるよ
う構成した点にある。 【００１６】次に、上記図示例の作動を説明する。 【００１７】先ず、図１に示す如く、搬送室２１にワー
ク１５を収容した搬送台車１４を走行させ、図２に示す
如く、搬送台車１４をプロセス装置１２に接近させて搬
送側受渡口２２をプロセス側受渡口１８に対向させる
と、搬送側気密扉２３が開き始める。 【００１８】前記搬送側気密扉２３が開き始めると、搬
送室２１の内部はクリーンルーム１１の内圧より陽圧と
なっているため、搬送側受渡口２２とプロセス側受渡口
１８との間の空間には、図３に示す如く、クリーンフロ
ーによるエアパージが行われる形となり、該空間が局所
的に高グレードな清浄度に保持される。ここで、クリー
ンルーム１１における気流は主に上方から下方へ向かう
流れとなっているが、前記搬送側受渡口２２をプロセス
側受渡口１８へ対向させた際には、該搬送側庇部材２が
プロセス側庇部材１に対し上下方向へ所要の隙間をあけ
て重なり合うようになっており、搬送側庇部材２とプロ
セス側庇部材１とによっていわゆるラビリンス構造が搬
送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８との間の空間の
上下に形成されているため、クリーンルーム１１におけ
る上方から下方へ向かう気流にごく僅かに含まれる微小
な塵埃等が搬送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８と
の間の空間に侵入する心配はなく、プロセス側庇部材１
と搬送側庇部材２が、プロセス側受渡口１８と搬送側受
渡口２２の上下縁部にそれぞれ取り付けられているだけ
で、プロセス側受渡口１８と搬送側受渡口２２の左右縁
部が開放されていても、搬送側受渡口２２とプロセス側
受渡口１８との間の空間を高グレードな清浄度に保持す
ることに関して支障を来たすことはない。尚、この点に
ついては、実際に気流可視化装置（水蒸気式）を用い、
搬送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８との間の空間
にダーティー領域を形成するように模擬して行った実験
においても、白く目視される水蒸気がクリーンフローに
よるエアパージにより除去され、透明となることが確認
されている。 【００１９】続いて、図４に示す如く、搬送側気密扉２
３とプロセス側気密扉１９が完全に開放されると、ワー
ク１５の移載が開始され、図５に示す如く、移載装置２
４のフォークがスライドするように張り出されてワーク
１５がプロセス装置１２の受渡部１７へ移載され、図６
に示す如く、ワーク１５が受渡部１７の受台１６の上に
載置され、前記移載装置２４のフォークがスライドする
ように引き戻された後、図７に示す如く、プロセス側気
密扉１９と搬送側気密扉２３が閉じられ、ワーク１５の
移載が完了する。このような動作が行われている間、搬
送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８との間の空間
は、クリーンエアで満たされたまま保持されている。 【００２０】このように、ワーク１５の移載時に搬送側
受渡口２２をプロセス側受渡口１８に対向させた状態で
その間の空間にクリーンフローによるエアパージが行わ
れると、ワーク１５の搬送経路となる搬送側受渡口２２
とプロセス側受渡口１８との間の空間が局所的に高グレ
ードな清浄度に保持される形となり、クリーンルーム１
１全体を高グレードな清浄度としなくて済み、大掛かり
な空調設備が不要となり、設備費並びに運転費を削減可
能となる。又、図示したように両側に搬送側受渡口２２
が形成された搬送台車１４への適用も容易に行うことが
可能となる。 【００２１】こうして、ワーク１５の搬送経路を簡単な
構造で局所的に高グレードな清浄度とすることができ、
クリーンルーム１１全体を高グレードな清浄度とする必
要をなくして、大掛かりな空調設備を不要とし得、設備
費並びに運転費を削減し得る。 【００２２】尚、本発明のクリーンルーム装置は、上述
の図示例にのみ限定されるものではなく、搬送側受渡口
２２とプロセス側受渡口１８との間の空間にクリーンフ
ローによるエアパージを行うための専用のノズルを別途
設けるようにしてもよいこと等、その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは
勿論である。 【００２３】 【発明の効果】以上、説明したように本発明のクリーン
ルーム装置によれば、ワークの搬送経路を簡単な構造で
局所的に高グレードな清浄度とすることができ、クリー
ンルーム全体を高グレードな清浄度とする必要をなくし
て、大掛かりな空調設備を不要とし得、設備費並びに運
転費を削減し得るという優れた効果を奏し得る。
置に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】一般に、半導体、液晶、医薬品、食料品
等を製造するために、ワークの加工を行う工場には、内
部を所望の清浄度に保持したクリーンルーム装置が設け
られている。 【０００３】図８は従来のクリーンルーム装置の一例を
表わすものであって、これは、低グレードな清浄度に保
持されるクリーンルーム１１内に、高グレードな清浄度
に保持される複数のプロセス装置１２を設置すると共
に、該複数のプロセス装置１２間を、クリーンブースで
囲われたトンネル状のコンベヤ１３でつなぎ、最初のプ
ロセス装置１２で加工されたワークをコンベヤ１３で次
のプロセス装置１２へ搬送し、順次、ワークの加工を行
うようにしたものである。 【０００４】しかし、図８に示されるようなクリーンル
ーム装置では、ワークの搬送方向が一方向に限定され、
工程の組換え等が困難となって融通が利かないため、近
年においては、図９に示されるように、ＡＧＶ（Ａｕｔ
ｏｍａｔｉｃ ＧｕｉｄｅｄＶｅｈｉｃｌｅ）等の搬送
台車１４によりワーク１５を搬送してプロセス装置１２
へ受け渡すようにし、これに伴い、搬送台車１４とプロ
セス装置１２との間におけるワーク１５の受け渡し時に
ワーク１５が汚染されることを防止すべく、クリーンル
ーム１１全体を高グレードな清浄度としたものが開発さ
れている。 【０００５】尚、前記プロセス装置１２は、内部が高グ
レードな清浄度に保持され且つワーク１５を受台１６上
に載置する形で収容可能な受渡部１７と、該受渡部１７
の側面に開口され且つワーク１５を出し入れ可能なプロ
セス側受渡口１８と、該プロセス側受渡口１８を開閉可
能なプロセス側気密扉１９と、前記受渡部１７に搬入さ
れたワーク１５の加工を行う加工部２０とを有してい
る。 【０００６】又、前記搬送台車１４は、内部が高グレー
ドな清浄度に保持され且つワーク１５を収容可能な搬送
室２１と、該搬送室２１の側面に開口され且つワーク１
５を出し入れ可能な搬送側受渡口２２と、該搬送側受渡
口２２を開閉可能な搬送側気密扉２３と、前記搬送室２
１とプロセス装置１２の受渡部１７との間でワーク１５
を受け渡し可能な移載装置２４とを有し、前記クリーン
ルーム１１内に走行可能に配設されている。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
如く、ワーク１５の搬送経路となるクリーンルーム１１
全体を高グレードな清浄度とするのでは、大掛かりな空
調設備が必要となり、その設備費並びに運転費が嵩むと
いう欠点を有していた。 【０００８】このような欠点を解消するものとしては、
従来、例えば、特開平９−１３３３８５号公報に開示さ
れたようなものが存在し、これは、図１０に示される如
く、搬送台車１４の高グレードな清浄度に保持される搬
送室２１全体をせり出すように進退可能に設け、搬送台
車１４とプロセス装置１２との間におけるワーク１５の
受け渡し時には、搬送室２１全体をせり出すように前進
させることにより、搬送側受渡口２２をプロセス側受渡
口１８に密着させ、この状態で、プロセス側気密扉１９
と搬送側気密扉２３とを開き、移載装置２４によりワー
ク１５を受け渡すようにしたものである。 【０００９】しかしながら、特開平９−１３３３８５号
公報に開示されたようなものでは、搬送台車１４の一側
にしか搬送側受渡口２２を形成できなくなると共に、高
グレードな清浄度に保持される搬送室２１全体をせり出
すように進退可能とするための機構が必要となり、搬送
台車１４の構造が非常に複雑化し、コストアップにつな
がるという不具合があった。 【００１０】本発明は、斯かる実情に鑑み、ワークの搬
送経路を簡単な構造で局所的に高グレードな清浄度とす
ることができ、クリーンルーム全体を高グレードな清浄
度とする必要をなくして、大掛かりな空調設備を不要と
し得、設備費並びに運転費を削減し得るクリーンルーム
装置を提供しようとするものである。 【００１１】 【課題を解決するための手段】本発明は、内部が低グレ
ードな清浄度に保持されるクリーンルームと、内部が前
記クリーンルームの内圧より陽圧となるよう高グレード
な清浄度に保持され且つワークを収容可能な受渡部と、
該受渡部の側面に開口され且つワークを出し入れ可能な
プロセス側受渡口と、該プロセス側受渡口を開閉可能な
プロセス側気密扉とを有し、前記クリーンルーム内に設
置されるプロセス装置と、内部が前記クリーンルームの
内圧より陽圧となるよう高グレードな清浄度に保持され
且つワークを収容可能な搬送室と、該搬送室の側面に開
口され且つワークを出し入れ可能な搬送側受渡口と、該
搬送側受渡口を開閉可能な搬送側気密扉と、前記搬送室
とプロセス装置の受渡部との間でワークを受け渡し可能
な移載装置とを有し、前記クリーンルーム内に走行可能
に配設される搬送台車とを備え、前記プロセス側受渡口
の上下縁部に外方へ張り出すプロセス側庇部材を取り付
けると共に、前記搬送側受渡口の上下縁部に、ワークの
移載時に搬送側受渡口をプロセス側受渡口へ対向させた
際に前記プロセス側庇部材に対し上下方向へ所要の隙間
をあけて重なり合うよう外方へ張り出す搬送側庇部材を
取り付け、ワークの移載時に搬送側受渡口をプロセス側
受渡口に対向させた状態でその間の空間にクリーンフロ
ーによるエアパージが行われるよう構成したことを特徴
とするクリーンルーム装置にかかるものである。 【００１２】上記手段によれば、以下のような作用が得
られる。 【００１３】ワークの移載時に搬送側受渡口をプロセス
側受渡口に対向させた状態でその間の空間にクリーンフ
ローによるエアパージが行われると、ワークの搬送経路
となる搬送側受渡口とプロセス側受渡口との間の空間が
局所的に高グレードな清浄度に保持される形となり、ク
リーンルーム全体を高グレードな清浄度としなくて済
み、大掛かりな空調設備が不要となり、設備費並びに運
転費を削減可能となる。 【００１４】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図示
例と共に説明する。 【００１５】図１〜図７は本発明を実施する形態の一例
であって、図中、図９と同一の符号を付した部分は同一
物を表わしており、基本的な構成は図９に示す従来のも
のと同様であるが、本図示例の特徴とするところは、図
１〜図７に示す如く、プロセス側受渡口１８の上下縁部
に外方へ張り出すプロセス側庇部材１を取り付けると共
に、搬送側受渡口２２の上下縁部に、ワーク１５の移載
時に搬送側受渡口２２をプロセス側受渡口１８へ対向さ
せた際に前記プロセス側庇部材１に対し上下方向へ所要
の隙間をあけて重なり合うよう外方へ張り出す搬送側庇
部材２を取り付け、ワーク１５の移載時に搬送側受渡口
２２をプロセス側受渡口１８に対向させた状態でその間
の空間にクリーンフローによるエアパージが行われるよ
う構成した点にある。 【００１６】次に、上記図示例の作動を説明する。 【００１７】先ず、図１に示す如く、搬送室２１にワー
ク１５を収容した搬送台車１４を走行させ、図２に示す
如く、搬送台車１４をプロセス装置１２に接近させて搬
送側受渡口２２をプロセス側受渡口１８に対向させる
と、搬送側気密扉２３が開き始める。 【００１８】前記搬送側気密扉２３が開き始めると、搬
送室２１の内部はクリーンルーム１１の内圧より陽圧と
なっているため、搬送側受渡口２２とプロセス側受渡口
１８との間の空間には、図３に示す如く、クリーンフロ
ーによるエアパージが行われる形となり、該空間が局所
的に高グレードな清浄度に保持される。ここで、クリー
ンルーム１１における気流は主に上方から下方へ向かう
流れとなっているが、前記搬送側受渡口２２をプロセス
側受渡口１８へ対向させた際には、該搬送側庇部材２が
プロセス側庇部材１に対し上下方向へ所要の隙間をあけ
て重なり合うようになっており、搬送側庇部材２とプロ
セス側庇部材１とによっていわゆるラビリンス構造が搬
送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８との間の空間の
上下に形成されているため、クリーンルーム１１におけ
る上方から下方へ向かう気流にごく僅かに含まれる微小
な塵埃等が搬送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８と
の間の空間に侵入する心配はなく、プロセス側庇部材１
と搬送側庇部材２が、プロセス側受渡口１８と搬送側受
渡口２２の上下縁部にそれぞれ取り付けられているだけ
で、プロセス側受渡口１８と搬送側受渡口２２の左右縁
部が開放されていても、搬送側受渡口２２とプロセス側
受渡口１８との間の空間を高グレードな清浄度に保持す
ることに関して支障を来たすことはない。尚、この点に
ついては、実際に気流可視化装置（水蒸気式）を用い、
搬送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８との間の空間
にダーティー領域を形成するように模擬して行った実験
においても、白く目視される水蒸気がクリーンフローに
よるエアパージにより除去され、透明となることが確認
されている。 【００１９】続いて、図４に示す如く、搬送側気密扉２
３とプロセス側気密扉１９が完全に開放されると、ワー
ク１５の移載が開始され、図５に示す如く、移載装置２
４のフォークがスライドするように張り出されてワーク
１５がプロセス装置１２の受渡部１７へ移載され、図６
に示す如く、ワーク１５が受渡部１７の受台１６の上に
載置され、前記移載装置２４のフォークがスライドする
ように引き戻された後、図７に示す如く、プロセス側気
密扉１９と搬送側気密扉２３が閉じられ、ワーク１５の
移載が完了する。このような動作が行われている間、搬
送側受渡口２２とプロセス側受渡口１８との間の空間
は、クリーンエアで満たされたまま保持されている。 【００２０】このように、ワーク１５の移載時に搬送側
受渡口２２をプロセス側受渡口１８に対向させた状態で
その間の空間にクリーンフローによるエアパージが行わ
れると、ワーク１５の搬送経路となる搬送側受渡口２２
とプロセス側受渡口１８との間の空間が局所的に高グレ
ードな清浄度に保持される形となり、クリーンルーム１
１全体を高グレードな清浄度としなくて済み、大掛かり
な空調設備が不要となり、設備費並びに運転費を削減可
能となる。又、図示したように両側に搬送側受渡口２２
が形成された搬送台車１４への適用も容易に行うことが
可能となる。 【００２１】こうして、ワーク１５の搬送経路を簡単な
構造で局所的に高グレードな清浄度とすることができ、
クリーンルーム１１全体を高グレードな清浄度とする必
要をなくして、大掛かりな空調設備を不要とし得、設備
費並びに運転費を削減し得る。 【００２２】尚、本発明のクリーンルーム装置は、上述
の図示例にのみ限定されるものではなく、搬送側受渡口
２２とプロセス側受渡口１８との間の空間にクリーンフ
ローによるエアパージを行うための専用のノズルを別途
設けるようにしてもよいこと等、その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは
勿論である。 【００２３】 【発明の効果】以上、説明したように本発明のクリーン
ルーム装置によれば、ワークの搬送経路を簡単な構造で
局所的に高グレードな清浄度とすることができ、クリー
ンルーム全体を高グレードな清浄度とする必要をなくし
て、大掛かりな空調設備を不要とし得、設備費並びに運
転費を削減し得るという優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施する形態の一例におけるワーク搬
送状態を表わす概要側面図である。 【図２】本発明を実施する形態の一例において、搬送台
車をプロセス装置に接近させて搬送側受渡口をプロセス
側受渡口に対向させ、搬送側気密扉を開き始めた状態を
表わす概要側面図である。 【図３】図２のＩＩＩ部拡大図である。 【図４】本発明を実施する形態の一例において、搬送側
気密扉とプロセス側気密扉を完全に開放し、ワークの移
載を開始する直前の状態を表わす概要側面図である。 【図５】本発明を実施する形態の一例において、ワーク
の移載途中の状態を表わす概要側面図である。 【図６】本発明を実施する形態の一例において、ワーク
を受渡部へ移載した状態を表わす概要側面図である。 【図７】本発明を実施する形態の一例において、ワーク
の移載が完了した状態を表わす概要側面図である。 【図８】従来のクリーンルーム装置の一例を表わす概要
平面図である。 【図９】従来のクリーンルーム装置の他の例を表わす概
要側面図である。 【図１０】従来のクリーンルーム装置の更に他の例を表
わす概要側面図である。 【符号の説明】 １ プロセス側庇部材 ２ 搬送側庇部材 １１ クリーンルーム １２ プロセス装置 １４ 搬送台車 １５ ワーク １７ 受渡部 １８ プロセス側受渡口 １９ プロセス側気密扉 ２１ 搬送室 ２２ 搬送側受渡口 ２３ 搬送側気密扉 ２４ 移載装置
送状態を表わす概要側面図である。 【図２】本発明を実施する形態の一例において、搬送台
車をプロセス装置に接近させて搬送側受渡口をプロセス
側受渡口に対向させ、搬送側気密扉を開き始めた状態を
表わす概要側面図である。 【図３】図２のＩＩＩ部拡大図である。 【図４】本発明を実施する形態の一例において、搬送側
気密扉とプロセス側気密扉を完全に開放し、ワークの移
載を開始する直前の状態を表わす概要側面図である。 【図５】本発明を実施する形態の一例において、ワーク
の移載途中の状態を表わす概要側面図である。 【図６】本発明を実施する形態の一例において、ワーク
を受渡部へ移載した状態を表わす概要側面図である。 【図７】本発明を実施する形態の一例において、ワーク
の移載が完了した状態を表わす概要側面図である。 【図８】従来のクリーンルーム装置の一例を表わす概要
平面図である。 【図９】従来のクリーンルーム装置の他の例を表わす概
要側面図である。 【図１０】従来のクリーンルーム装置の更に他の例を表
わす概要側面図である。 【符号の説明】 １ プロセス側庇部材 ２ 搬送側庇部材 １１ クリーンルーム １２ プロセス装置 １４ 搬送台車 １５ ワーク １７ 受渡部 １８ プロセス側受渡口 １９ プロセス側気密扉 ２１ 搬送室 ２２ 搬送側受渡口 ２３ 搬送側気密扉 ２４ 移載装置
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 内部が低グレードな清浄度に保持される
クリーンルームと、内部が前記クリーンルームの内圧よ
り陽圧となるよう高グレードな清浄度に保持され且つワ
ークを収容可能な受渡部と、該受渡部の側面に開口され
且つワークを出し入れ可能なプロセス側受渡口と、該プ
ロセス側受渡口を開閉可能なプロセス側気密扉とを有
し、前記クリーンルーム内に設置されるプロセス装置
と、 内部が前記クリーンルームの内圧より陽圧となるよう高
グレードな清浄度に保持され且つワークを収容可能な搬
送室と、該搬送室の側面に開口され且つワークを出し入
れ可能な搬送側受渡口と、該搬送側受渡口を開閉可能な
搬送側気密扉と、前記搬送室とプロセス装置の受渡部と
の間でワークを受け渡し可能な移載装置とを有し、前記
クリーンルーム内に走行可能に配設される搬送台車とを
備え、 前記プロセス側受渡口の上下縁部に外方へ張り出すプロ
セス側庇部材を取り付けると共に、前記搬送側受渡口の
上下縁部に、ワークの移載時に搬送側受渡口をプロセス
側受渡口へ対向させた際に前記プロセス側庇部材に対し
上下方向へ所要の隙間をあけて重なり合うよう外方へ張
り出す搬送側庇部材を取り付け、 ワークの移載時に搬送側受渡口をプロセス側受渡口に対
向させた状態でその間の空間にクリーンフローによるエ
アパージが行われるよう構成したことを特徴とするクリ
ーンルーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001329410A JP3852570B2 (ja) | 2001-10-26 | 2001-10-26 | クリーンルーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001329410A JP3852570B2 (ja) | 2001-10-26 | 2001-10-26 | クリーンルーム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003130413A true JP2003130413A (ja) | 2003-05-08 |
| JP3852570B2 JP3852570B2 (ja) | 2006-11-29 |
Family
ID=19145316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001329410A Expired - Fee Related JP3852570B2 (ja) | 2001-10-26 | 2001-10-26 | クリーンルーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3852570B2 (ja) |
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-
2001
- 2001-10-26 JP JP2001329410A patent/JP3852570B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3852570B2 (ja) | 2006-11-29 |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
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