JP2003121854A - スペーサー散布方法及び装置 - Google Patents
スペーサー散布方法及び装置Info
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- JP2003121854A JP2003121854A JP2001311690A JP2001311690A JP2003121854A JP 2003121854 A JP2003121854 A JP 2003121854A JP 2001311690 A JP2001311690 A JP 2001311690A JP 2001311690 A JP2001311690 A JP 2001311690A JP 2003121854 A JP2003121854 A JP 2003121854A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 配向処理されたガラス基板の配向膜上に吐出
されたスペーサーキャリア液の乾燥過程において、スペ
ーサーがスペーサーキャリア液２１の半球状ドット内
で、ランダムに移動することなく、乾燥終了後に所定位
置に残留させるようにすることである。 【解決手段】 貯溜槽１２３内のスペーサーキャリア液
１２２に含まれるスペーサー１２１の比重がスペーサー
キャリア液１２２の比重より若干大きい。これによりガ
ラス基板１３２上において、スペーサー１２１はほぼ半
球状のスペーサーキャリア液１２２のドット１２２’の
中央上面に移動して乾燥が進み、所定の位置に残留す
る。
されたスペーサーキャリア液の乾燥過程において、スペ
ーサーがスペーサーキャリア液２１の半球状ドット内
で、ランダムに移動することなく、乾燥終了後に所定位
置に残留させるようにすることである。 【解決手段】 貯溜槽１２３内のスペーサーキャリア液
１２２に含まれるスペーサー１２１の比重がスペーサー
キャリア液１２２の比重より若干大きい。これによりガ
ラス基板１３２上において、スペーサー１２１はほぼ半
球状のスペーサーキャリア液１２２のドット１２２’の
中央上面に移動して乾燥が進み、所定の位置に残留す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラー液晶ディスプ
レー用ガラス基板へのスペーサー散布方法及び装置の改
良に関する。
レー用ガラス基板へのスペーサー散布方法及び装置の改
良に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置（ＬＣＤ）の表示面
の構造は概略図６のように構成されている。同図におい
て、１及び１’は偏光板、２及び３はガラス基板、４及
び５は透明電極、６及び７は配向膜、８はカラーフィル
ター、９は液晶、１０はスペーサーである。
の構造は概略図６のように構成されている。同図におい
て、１及び１’は偏光板、２及び３はガラス基板、４及
び５は透明電極、６及び７は配向膜、８はカラーフィル
ター、９は液晶、１０はスペーサーである。
【０００３】而してカラーフィルター８は図９に示すよ
うに、Ｒ，Ｇ，Ｂの三種類の区域が交互に存在し、その
域分はブラックマトリクス１１で区切られている。ま
た、スペーサー１０は液晶９のギャップを均一に保つた
めに用いられる球状の粒子で、キャリア液中に混入され
ていて、配向処理されたガラス基板上に散布される。こ
こで配向処理とはガラス基板に透明電極、配向膜などを
設けることで、ガラス基板に必要な処理を施すことであ
る。
うに、Ｒ，Ｇ，Ｂの三種類の区域が交互に存在し、その
域分はブラックマトリクス１１で区切られている。ま
た、スペーサー１０は液晶９のギャップを均一に保つた
めに用いられる球状の粒子で、キャリア液中に混入され
ていて、配向処理されたガラス基板上に散布される。こ
こで配向処理とはガラス基板に透明電極、配向膜などを
設けることで、ガラス基板に必要な処理を施すことであ
る。
【０００４】しかるに従来、上記スペーサー１０の散布
方法はスペーサーキャリア液を、ノズルによって基板上
に全面的に散布するものであった。このためスペーサー
１０は図１０に示すようにカラーフィルター８のＲ，
Ｇ，Ｂの各区域の中にも散布されてしまい、その結果、
発色の明るさが減少したり、発色むらが生じるという欠
点があった。
方法はスペーサーキャリア液を、ノズルによって基板上
に全面的に散布するものであった。このためスペーサー
１０は図１０に示すようにカラーフィルター８のＲ，
Ｇ，Ｂの各区域の中にも散布されてしまい、その結果、
発色の明るさが減少したり、発色むらが生じるという欠
点があった。
【０００５】そこで本発明者はかかる従来技術の欠点を
改良するため、先に特願２０００−２５４１９４におい
て、カラーフィルターのブラックマトリクスの部位のみ
にスペーサーを散布することのできる方法及び装置を提
供した。
改良するため、先に特願２０００−２５４１９４におい
て、カラーフィルターのブラックマトリクスの部位のみ
にスペーサーを散布することのできる方法及び装置を提
供した。
【０００６】図７に示すように、上記先願のスペーサー
散布方法は、カラーフィルター８のＲ，Ｇ，Ｂを区切る
ブラックマトリクス１１の中だけにスペーサー１０が散
布されるように、例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの区域の横幅と同
一の間隔の開口からスペーサー１０をガラス基板上に散
布するものである。
散布方法は、カラーフィルター８のＲ，Ｇ，Ｂを区切る
ブラックマトリクス１１の中だけにスペーサー１０が散
布されるように、例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの区域の横幅と同
一の間隔の開口からスペーサー１０をガラス基板上に散
布するものである。
【０００７】図８は上記方法を実施するためのスペーサ
ー散布装置を示す。同図において、１２０はスペーサー
キャリア液１２２の供給タンクで、該タンク内で多数の
スペーサー１２１が混入されているキャリア液１２２が
超音波振動装置から成る攪拌器（プロペラでもよい）１
３４により攪拌されている。
ー散布装置を示す。同図において、１２０はスペーサー
キャリア液１２２の供給タンクで、該タンク内で多数の
スペーサー１２１が混入されているキャリア液１２２が
超音波振動装置から成る攪拌器（プロペラでもよい）１
３４により攪拌されている。
【０００８】１２３はスペーサーキャリア液１２２が流
通する開口室で、シールゴム１３１を介して連結された
流通路１２４を介してタンク１２０と連通しており、流
通路１２４に設けたポンプ１２５によってタンク１２０
からスペーサーキャリア液１２２が供給され循環してい
る。
通する開口室で、シールゴム１３１を介して連結された
流通路１２４を介してタンク１２０と連通しており、流
通路１２４に設けたポンプ１２５によってタンク１２０
からスペーサーキャリア液１２２が供給され循環してい
る。
【０００９】開口室１２３の一方の側には開口板１２６
が設けられていて、該開口板１２６には開口１２７が形
成され、該開口１２７の径は前述したようにブラックマ
トリクスの幅に一致するものである。開口室１２３の他
方の側にはハンマー１２８、ピエゾ効果素子１２９、ベ
ース１３０が設けられている。１３２は配向処理された
ガラス基板で、前記開口板１２６に対向近接して移動可
能に配置されて、スペーサーキャリア液１２２が上方に
向けて吐出され（ガラス基板１３２の下方より噴射さ
れ）るようになっており、ガラス基板１３２は各ブラッ
クマトリクスの部位にスペーサーキャリア液１２２が散
布されるように、図示していない位置決め装置により矢
印１３３方向に搬送され開口１２７に対し位置決めされ
る。
が設けられていて、該開口板１２６には開口１２７が形
成され、該開口１２７の径は前述したようにブラックマ
トリクスの幅に一致するものである。開口室１２３の他
方の側にはハンマー１２８、ピエゾ効果素子１２９、ベ
ース１３０が設けられている。１３２は配向処理された
ガラス基板で、前記開口板１２６に対向近接して移動可
能に配置されて、スペーサーキャリア液１２２が上方に
向けて吐出され（ガラス基板１３２の下方より噴射さ
れ）るようになっており、ガラス基板１３２は各ブラッ
クマトリクスの部位にスペーサーキャリア液１２２が散
布されるように、図示していない位置決め装置により矢
印１３３方向に搬送され開口１２７に対し位置決めされ
る。
【００１０】上述した本発明の装置において、ピエゾ効
果素子１２９は電圧が印加されると、ハンマー１２８は
ピエゾ効果素子１２９で駆動されてスペーサーキャリア
液１２２をプッシュすることによりスペーサー１２１が
スペーサーキャリア液１２２とともに開口１２７から上
方に向かって吐出される。吐出されたスペーサー１２１
とスペーサーキャリア液１２２は下面が配向処理された
ガラス基板１３２のその配向膜が塗布された面に付着す
る。このときガラス基板１３２は矢印方向に移動してお
り、スペーサー１２１とスペーサーキャリア液１２２は
ガラス基板１３２の所定の位置に付着することになる。
スペーサーキャリア液１２２はほぼ半球状のドット１２
２’となって付着し、その中にスペーサー１２１が格納
される形で付着する。その後、スペーサーキャリア液１
２２は蒸発、つまり乾燥されてスペーサー１２１のみが
ガラス基板１３２上に残留する。
果素子１２９は電圧が印加されると、ハンマー１２８は
ピエゾ効果素子１２９で駆動されてスペーサーキャリア
液１２２をプッシュすることによりスペーサー１２１が
スペーサーキャリア液１２２とともに開口１２７から上
方に向かって吐出される。吐出されたスペーサー１２１
とスペーサーキャリア液１２２は下面が配向処理された
ガラス基板１３２のその配向膜が塗布された面に付着す
る。このときガラス基板１３２は矢印方向に移動してお
り、スペーサー１２１とスペーサーキャリア液１２２は
ガラス基板１３２の所定の位置に付着することになる。
スペーサーキャリア液１２２はほぼ半球状のドット１２
２’となって付着し、その中にスペーサー１２１が格納
される形で付着する。その後、スペーサーキャリア液１
２２は蒸発、つまり乾燥されてスペーサー１２１のみが
ガラス基板１３２上に残留する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】図１２は上述したガラ
ス基板１３２上に付着したスペーサーキャリア液１２２
のドット１２２’の乾燥推移過程を示す。図１２から明
らかなように、先願のスペーサー散布方法によると、上
記過程において、スペーサー１２１がスペーサーキャリ
ア液１２２のドット１２２’の中で、不規則に移動し、
スペーサーキャリア液乾燥後においてスペーサー１２１
が図１２の（ｄ）のようにばらばらの位置に残留するこ
とになってしまい、ガラス基板上の所定の部位に散布す
ることができない。
ス基板１３２上に付着したスペーサーキャリア液１２２
のドット１２２’の乾燥推移過程を示す。図１２から明
らかなように、先願のスペーサー散布方法によると、上
記過程において、スペーサー１２１がスペーサーキャリ
ア液１２２のドット１２２’の中で、不規則に移動し、
スペーサーキャリア液乾燥後においてスペーサー１２１
が図１２の（ｄ）のようにばらばらの位置に残留するこ
とになってしまい、ガラス基板上の所定の部位に散布す
ることができない。
【００１２】本発明の目的はスペーサーキャリア液乾燥
後においてもスペーサーが定位置に残留するようにして
ガラス基板の配向膜の面の所定の部位に散布することが
できるようにすることにある。
後においてもスペーサーが定位置に残留するようにして
ガラス基板の配向膜の面の所定の部位に散布することが
できるようにすることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明のスペーサー散布方法は、多数のス
ペーサーを含むスペーサーキャリア液を、開口を介して
ドット状にその上方の配向処理されたガラス基板に吐出
することにより、該ガラス基板上の所定の部位に上記ス
ペーサーを散布するスペーサー散布方法において、上記
スペーサーの比重が、上記スペーサーキャリア液の比重
より大きいことを特徴とする。
め、請求項１の発明のスペーサー散布方法は、多数のス
ペーサーを含むスペーサーキャリア液を、開口を介して
ドット状にその上方の配向処理されたガラス基板に吐出
することにより、該ガラス基板上の所定の部位に上記ス
ペーサーを散布するスペーサー散布方法において、上記
スペーサーの比重が、上記スペーサーキャリア液の比重
より大きいことを特徴とする。
【００１４】請求項２の発明のスペーサー散布方法は、
多数のスペーサーを含むスペーサーキャリア液を、開口
を介してドット状にその下方の配向処理されたガラス基
板に吐出することにより、該ガラス基板の配向膜の面の
所定の部位に上記スペーサーを散布するスペーサー散布
方法において、可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基
板上のスペーサーキャリア液を乾燥することを特徴とす
る。
多数のスペーサーを含むスペーサーキャリア液を、開口
を介してドット状にその下方の配向処理されたガラス基
板に吐出することにより、該ガラス基板の配向膜の面の
所定の部位に上記スペーサーを散布するスペーサー散布
方法において、可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基
板上のスペーサーキャリア液を乾燥することを特徴とす
る。
【００１５】請求項３の発明のスペーサー散布方法は、
請求項２の発明において、可視光線を遮蔽した状態で上
記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥すること
を特徴とする。
請求項２の発明において、可視光線を遮蔽した状態で上
記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥すること
を特徴とする。
【００１６】請求項４の発明のスペーサー散布方法は、
請求項１〜３のいずれかの発明において、可視光成分の
少ない赤外線ヒーターにより上記ガラス基板上のスペー
サーキャリア液を乾燥することを特徴とする。
請求項１〜３のいずれかの発明において、可視光成分の
少ない赤外線ヒーターにより上記ガラス基板上のスペー
サーキャリア液を乾燥することを特徴とする。
【００１７】また請求項５の発明のスペーサー散布装置
は、多数のスペーサーを含むスペーサーキャリア液を貯
溜する貯溜手段と、上記貯溜手段から開口を介してその
上方の配向処理されたガラス基板に上記スペーサーキャ
リア液をドット状に吐出することにより上記ガラス基板
の配向膜の面の所定部位にスペーサーを散布する散布手
段とを備え、上記スペーサーの比重が上記スペーサーキ
ャリア液の比重より大きいことを特徴とする。
は、多数のスペーサーを含むスペーサーキャリア液を貯
溜する貯溜手段と、上記貯溜手段から開口を介してその
上方の配向処理されたガラス基板に上記スペーサーキャ
リア液をドット状に吐出することにより上記ガラス基板
の配向膜の面の所定部位にスペーサーを散布する散布手
段とを備え、上記スペーサーの比重が上記スペーサーキ
ャリア液の比重より大きいことを特徴とする。
【００１８】請求項６の発明のスペーサー散布装置は、
多数のスペーサーを含むスペーサーキャリア液を貯溜す
る貯溜手段と、上記貯溜手段から開口を介してその上方
の配向処理されたガラス基板に上記スペーサーキャリア
液をドット状に吐出することにより上記ガラス基板の配
向膜の面の所定部位にスペーサーを散布する散布手段
と、可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基板上のスペ
ーサーキャリア液を乾燥させる乾燥手段と、を備えたこ
とを特徴とする。
多数のスペーサーを含むスペーサーキャリア液を貯溜す
る貯溜手段と、上記貯溜手段から開口を介してその上方
の配向処理されたガラス基板に上記スペーサーキャリア
液をドット状に吐出することにより上記ガラス基板の配
向膜の面の所定部位にスペーサーを散布する散布手段
と、可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基板上のスペ
ーサーキャリア液を乾燥させる乾燥手段と、を備えたこ
とを特徴とする。
【００１９】請求項７の発明のスペーサー散布装置は、
請求項６の発明において、可視光線を遮蔽した状態で上
記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥させる乾
燥手段、を備えたことを特徴とする。
請求項６の発明において、可視光線を遮蔽した状態で上
記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥させる乾
燥手段、を備えたことを特徴とする。
【００２０】請求項８の発明のスペーサー散布装置は、
請求項５〜７のいずれかの発明において、可視光成分の
少ない赤外線ヒーターにより上記ガラス基板上のスペー
サーキャリア液を乾燥させる乾燥手段を備えたことを特
徴とする
請求項５〜７のいずれかの発明において、可視光成分の
少ない赤外線ヒーターにより上記ガラス基板上のスペー
サーキャリア液を乾燥させる乾燥手段を備えたことを特
徴とする
【００２１】
【発明の実施の形態】図１及び図２は本発明のスペーサ
ー散布方法を実施するための装置の一実施例で、図８に
示す装置と同一の構成を有する。またこの装置によるス
ペーサー散布方法は前述したものと同様なので、その説
明は省略する。
ー散布方法を実施するための装置の一実施例で、図８に
示す装置と同一の構成を有する。またこの装置によるス
ペーサー散布方法は前述したものと同様なので、その説
明は省略する。
【００２２】而して、前述した先願技術の問題点を解決
するため、本発明の方法及び装置においては、使用され
るスペーサー１２１とスペーサーキャリア液１２２が次
の特徴を有するものとする。即ち、（ａ）スペーサー１
２１の比重が、スペーサーキャリア液１２２の比重より
大きいこと、好適には、若干小さい（重い）ものとす
る。
するため、本発明の方法及び装置においては、使用され
るスペーサー１２１とスペーサーキャリア液１２２が次
の特徴を有するものとする。即ち、（ａ）スペーサー１
２１の比重が、スペーサーキャリア液１２２の比重より
大きいこと、好適には、若干小さい（重い）ものとす
る。
【００２３】このようなスペーサー１２１及びスペーサ
ーキャリア液１２２を使用すれば、図３に示すようにス
ペーサー１２１は半球状のスペーサーキャリア液１２２
のドット１２２’の中央下面に移動しそのままの位置で
乾燥が進み、ガラス基板１３２の下面の所定の位置に正
しく残留させることができる。ここで、例えば、スペー
サーキャリア液１２２として比重１．１のエチレングリ
コールを選んだ場合、スペーサー１２１は比重約１．３
程度のプラスチック球が好適である。但し、比重の差が
大きすぎると、開口室１２３の中におけるスペーサー１
２１の分散性が悪くなるので、比重の違いは若干の程度
とし、実験的に定める。
ーキャリア液１２２を使用すれば、図３に示すようにス
ペーサー１２１は半球状のスペーサーキャリア液１２２
のドット１２２’の中央下面に移動しそのままの位置で
乾燥が進み、ガラス基板１３２の下面の所定の位置に正
しく残留させることができる。ここで、例えば、スペー
サーキャリア液１２２として比重１．１のエチレングリ
コールを選んだ場合、スペーサー１２１は比重約１．３
程度のプラスチック球が好適である。但し、比重の差が
大きすぎると、開口室１２３の中におけるスペーサー１
２１の分散性が悪くなるので、比重の違いは若干の程度
とし、実験的に定める。
【００２４】次に前記（ａ）に代えて、又はこれと共に
下記（ｂ）の方法を採用する。即ち、（ｂ）スペーサー
キャリア液１２２の乾燥中、つまり蒸発中は可視光線を
遮蔽する。例えば、図４に示すように、暗室１４０内で
スペーサーキャリア液１２２の乾燥を行う。
下記（ｂ）の方法を採用する。即ち、（ｂ）スペーサー
キャリア液１２２の乾燥中、つまり蒸発中は可視光線を
遮蔽する。例えば、図４に示すように、暗室１４０内で
スペーサーキャリア液１２２の乾燥を行う。
【００２５】ガラス基板１３２上面の配向膜は、例え
ば、ポリイミドで代表されるように、可視光線が照射さ
れると、光学反応が誘起される物性を有している。従っ
て、スペーサーキャリア液１２２の乾燥中に可視光線が
照射されると、配向膜から与えられるエネルギーにより
スペーサーキャリア液１２２の中のスペーサー１２１が
ランダムに移動して、乾燥終了後におけるスペーサー１
２１の位置は図３に示すようにばらばらとなり、所定の
位置に残留しない。
ば、ポリイミドで代表されるように、可視光線が照射さ
れると、光学反応が誘起される物性を有している。従っ
て、スペーサーキャリア液１２２の乾燥中に可視光線が
照射されると、配向膜から与えられるエネルギーにより
スペーサーキャリア液１２２の中のスペーサー１２１が
ランダムに移動して、乾燥終了後におけるスペーサー１
２１の位置は図３に示すようにばらばらとなり、所定の
位置に残留しない。
【００２６】そこで上述したように可視光線を遮蔽した
状態で乾燥を行えば、乾燥中でのスペーサー１２１のラ
ンダムな移動が抑制され、ガラス基板１３２上の所定の
位置に残留させることができる。（ｂ）の方法は（ａ）
の方法と併用すると、一層効果的である。
状態で乾燥を行えば、乾燥中でのスペーサー１２１のラ
ンダムな移動が抑制され、ガラス基板１３２上の所定の
位置に残留させることができる。（ｂ）の方法は（ａ）
の方法と併用すると、一層効果的である。
【００２７】更に、スペーサーキャリア液１２２を迅速
に乾燥して生産性を上げるためには、図５に示すよう
に、（ｂ）の方法において可視光成分の少ない、又は皆
無の赤外線ヒーター１５０で乾燥を行うのがよい。
に乾燥して生産性を上げるためには、図５に示すよう
に、（ｂ）の方法において可視光成分の少ない、又は皆
無の赤外線ヒーター１５０で乾燥を行うのがよい。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スペーサーキャリア液の乾燥によりスペーサーがランダ
ムに移動することなく、所定位置に残留させることがで
きるので、ガラス基板の配向まくの面の所定の部位にス
ペーサーを散布することが可能となる。
スペーサーキャリア液の乾燥によりスペーサーがランダ
ムに移動することなく、所定位置に残留させることがで
きるので、ガラス基板の配向まくの面の所定の部位にス
ペーサーを散布することが可能となる。
【図１】本発明に使用される装置の一実施例を示す概略
構成図である。
構成図である。
【図２】上記装置の一部の構成を示す概略図である。
【図３】本発明においてスペーサーキャリア液の乾燥推
移過程を示す図である。
移過程を示す図である。
【図４】本発明の方法の一例を示す説明図である。
【図５】本発明の方法の他の例を示す説明図である。
【図６】カラー液晶表示装置の概略構成図である。
【図７】先願の方法の説明図である。
【図８】先願の装置の構成概略図である。
【図９】図８の装置の一部の構成を示す概略図である。
【図１０】カラーフィルターとブラックマトリクスを示
す図である。
す図である。
【図１１】従来のスペーサーの散布方法の説明図であ
る。
る。
【図１２】先願のスペーサー散布方法におけるスペーサ
ーキャリア液の乾燥推移過程を示す図である。
ーキャリア液の乾燥推移過程を示す図である。
１２０ タンク
１２１ スペーサー
１２２ スペーサーキャリア液
１２３ 開口室
１２４ 流通路
１２５ ポンプ
１２６ 開口板
１２７ 開口
１２８ ハンマー
１２９ ピエゾ効果素子
１３２ ガラス基板
１３４ プロペラ
１４０ 暗室
１５０ 赤外線ヒーター
Claims (8)
- 【請求項１】 多数のスペーサーを含むスペーサーキャ
リア液を、開口を介してドット状にその上方の配向処理
されたガラス基板に吐出することにより、該ガラス基板
の配向膜の面の所定の部位に上記スペーサーを散布する
スペーサー散布方法において、上記スペーサーの比重
が、上記スペーサーキャリア液の比重より大きいことを
特徴とするスペーサー散布方法。 - 【請求項２】 多数のスペーサーを含むスペーサーキャ
リア液を、開口を介してドット状にその上方の配向処理
されたガラス基板に吐出することにより、該ガラス基板
上の配向膜の面の所定の部位に上記スペーサーを散布す
るスペーサー散布方法において、可視光線を遮蔽した状
態で上記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥す
ることを特徴とするスペーサー散布方法。 - 【請求項３】 可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基
板上のスペーサーキャリア液を乾燥することを特徴とす
る請求項１記載のスペーサー散布方法。 - 【請求項４】 可視光成分の少ない赤外線ヒーターによ
り上記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかのスペーサー
散布方法。 - 【請求項５】 多数のスペーサーを含むスペーサーキャ
リア液を貯溜する貯溜手段と、 上記貯溜手段から開口を介してその上方の配向処理され
たガラス基板に上記スペーサーキャリア液をドット状に
吐出することにより上記ガラス基板の配向膜の面の所定
部位にスペーサーを散布する散布手段とを備え、 上記スペーサーの比重が上記スペーサーキャリア液の比
重より大きいことを特徴とするスペーサー散布装置。 - 【請求項６】 多数のスペーサーを含むスペーサーキャ
リア液を貯溜する貯溜手段と、 上記貯溜手段から開口を介してその下方の配向処理され
たガラス基板に上記スペーサーキャリア液をドット状に
吐出することにより上記ガラス基板の配向膜の面の所定
部位にスペーサーを散布する散布手段と、 可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基板上のスペーサ
ーキャリア液を乾燥させる乾燥手段と、を備えたことを
特徴とするスペーサー散布装置。 - 【請求項７】 可視光線を遮蔽した状態で上記ガラス基
板上のスペーサーキャリア液を乾燥させる乾燥手段、を
備えたことを特徴とする請求項６記載のスペーサー散布
装置。 - 【請求項８】 可視光成分の少ない赤外線ヒーターによ
り上記ガラス基板上のスペーサーキャリア液を乾燥させ
る乾燥手段を備えたことを特徴とする請求項５〜７のい
ずれかのスペーサー散布装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001311690A JP3641450B2 (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | スペーサー散布方法及び装置 |
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