JP2003117809A - 両面同時平面研磨装置 - Google Patents

両面同時平面研磨装置

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JP2003117809A
JP2003117809A JP2001319505A JP2001319505A JP2003117809A JP 2003117809 A JP2003117809 A JP 2003117809A JP 2001319505 A JP2001319505 A JP 2001319505A JP 2001319505 A JP2001319505 A JP 2001319505A JP 2003117809 A JP2003117809 A JP 2003117809A
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surface plate
change rate
dimensional change
work
voltage signal
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JP2001319505A
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Yukimitsu Kijima
幸光 鬼島
Katsuhei Ito
勝平 伊藤
Hiroshi Ebihara
弘 海老原
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ワークを目的寸法に加工するまでの加工時間
の短縮を図ることができ、かつ、割れ、欠け等の不良品
の発生率を低減させることができる両面同時平面加工装
置を提供する。 【解決手段】 両面同時平面研磨装置50は、下定盤2
と、下定盤2上に載置された複数のワークW,Wを保持
するキャリア4と、下定盤2と対向して配置され、キャ
リア4に保持されたワークWに接触しながら下定盤2に
倣い回転駆動する上定盤7と、上定盤7を昇降させる昇
降手段14とを具備する研磨装置20と、昇降手段14
による上定盤7のワークWに対する負荷荷重および下定
盤2または上定盤7の回転数からなる加工条件を制御す
る制御装置30と、ワークWの厚み寸法Lwを検出する
寸法検出手段42と、寸法検出手段42の検出結果に基
づいて単位時間t当たりのワークWの厚み寸法Lwの変
化率Pnを算出する寸法変化率演算手段43とを具備す
る定寸装置40と、を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平板状ワークの両
面を同時に加工する両面同時加工平面ラップ盤、両面同
時加工平面ポリッシング盤等の両面同時平面研磨装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】この種の両面同時平面研磨装置として
は、その一例として、例えば、図10に示したような平
面研磨装置が知られている。
【0003】同図に示すように、この両面同時平面研磨
装置は、中空の下定盤回転軸1に固定された下定盤2
が、下定盤回転軸1に取り付けられた下定盤駆動ギア3
により低速で回転駆動され、この下定盤2上に載置さ
れ、複数のワーク装着用貫通穴4a,4aにワークW,
Wを装着した複数のキャリア4,4の外周のキャリアギ
ア4bが、サンギア5とインナーギア6に噛み合うよう
に構成されている。
【0004】そして、サンギア5とインナーギア6のそ
れぞれの回転により、キャリア4,4は自転しながらサ
ンギア5の回りを公転し、更に、上定盤7が上記ワーク
W,Wを上記下定盤2との間に挟み、ワークWに対して
荷重を加え、下定盤2と同心かつ別の回転速度で回転す
るように構成されており、下定盤2、キャリア4,4、
上定盤7をそれぞれ回転させ、研磨剤に溶媒を加えて調
合した研磨液をワークWと上下定盤2、7との間に供給
してワークWの両面を同時に研磨するようになってい
る。
【0005】ところで、研磨加工に使用する上記研磨剤
は、長期間に亘る継続的な使用によって、その加工効率
が低下するものであり、定期的に研磨剤の交換を行なう
必要があるが、この研磨剤の交換作業における交換時期
の判断、すなわち研磨剤の寿命の判断は、作業者の経験
的判断や、タイマーによる時間設定のように一律的に設
定されているのが実情である。
【0006】また、上記のような両面同時平面研磨装置
における研磨加工のプロセスは、大別して2段階で行な
われており、一般に、第1段階では、キャリア4,4に
装着される複数のワークW,Wにおける各々の厚みにバ
ラツキがあるため、上定盤7のワークWに対する荷重を
低荷重とし、下定盤2の回転数を低速に設定して、厚み
の大きいワークWに対して局部的に生じる荷重の応力集
中を防止する馴らし加工が行なわれる。
【0007】そして、上記馴らし加工を行なった後、第
2段階では、各ワークに対する荷重が均等になったと判
断し、上定盤7のワークWに対する荷重を高荷重とし、
下定盤2の回転数を高速に設定して、高荷重かつ高速回
転により目的寸法になるまでワークWの加工が行なわれ
る。
【0008】上記第1段階から第2段階への加工条件の
切換え時点の判断についても、作業者の経験的判断や、
タイマーによる一律的な時間設定等によって行なわれて
いるのが実情である。
【0009】しかしながら、上述した研磨剤の交換時期
の判断については、研磨剤の寿命判定における明確な基
準がなく、作業者により交換時期が異なるため、作業者
によって早期に交換作業が行なわれると、砥粒の浪費に
繋がる可能性がある。
【0010】また、研磨剤の寿命が近づくにつれて加工
効率が低下するにもかかわらず、加工条件が一定である
と、ワークWに対する研磨抵抗が上昇し、ワークWに対
して局部的に荷重の応力集中が生じ、割れ、欠け等の不
良が生じた不良品が発生してしまうという問題がある。
【0011】また、上述した加工条件の切換え時点の判
断についても同様で、同一の加工条件で加工を行なって
しまうと、上記のような不良品を発生させてしまうた
め、低荷重、低速回転の加工条件による加工時間を長め
に設定する必要が生じ、全体としてワークWの加工時間
の長時間化を招いている。
【0012】逆に、低荷重、低速回転の加工条件による
加工時間を短めに設定した場合には、キャリア4に装着
された複数のワークW,W間において厚みのバラツキが
残っていても、作業者が設定した加工時間を経過すると
自動的に加工条件が切換わるため、荷重増大時に、目的
重量を超過した荷重がワークWに加わり、上記したよう
な不良品が発生してしまう。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、両面同時加工平面ラップ盤、両面同時加工平
面ポリッシング盤等の両面同時平面研磨装置において、
特に、ワークを目的寸法に加工するまでの加工時間の短
縮を図ることができ、かつ、割れ、欠け等の不良品の発
生率を低減させることができる両面同時平面加工装置を
提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る両面同時平面研磨装置は、定盤軸線を
中心に回転駆動する下定盤と、上記下定盤上に載置され
た複数のワークを保持し、自転しながら公転運動するキ
ャリアと、上記下定盤と対向して配置され、上記キャリ
アに保持されたワークに接触しながら上記下定盤に倣い
回転駆動する上定盤と、上記上定盤を昇降させるための
昇降手段と、を具備する研磨装置と、上記昇降手段によ
る上記上定盤のワークに対する負荷荷重および上記下定
盤または上定盤の回転数からなる加工条件を制御する制
御装置と、上記ワークの厚み寸法を検出する寸法検出手
段と、該寸法検出手段による検出結果に基づいて単位時
間当たりのワークの厚み寸法の変化率を算出する寸法変
化率演算手段とを具備する定寸装置と、を備えることを
特徴とするものである。
【0015】また、本発明は、上記制御装置が、上記寸
法変化率演算手段による寸法変化率を基に、上記上定盤
の負荷荷重および上記下定盤または上定盤の回転数を次
の加工段階の負荷荷重および回転数に切換える加工条件
切換手段を具備することとしてもよい。
【0016】また、本発明は、上記制御装置が、上記寸
法検出手段により検出された寸法を利用して加工プロセ
スを細分化し、各加工プロセス毎に最適な負荷荷重およ
び回転数からなる加工条件を設定する加工条件設定手段
を具備することとしてもよい。
【0017】また、本発明は、上記定寸装置が、上記寸
法変化率演算手段により所定サイクル毎に算出された寸
法変化率の現在値と、予め設定された寸法変化率の限界
値とを比較し、上記現在値が上記限界値を下回った場合
に研磨剤交換時期である旨を報知する報知手段を具備す
ることを特徴とするものである。
【0018】なお、上記寸法検出手段は、上記上定盤に
埋設された渦電流式変位センサにより所定サンプル数検
出された下定盤表面の電圧信号、下定盤表面を除く溝表
面の電圧信号、およびキャリア表面の電圧信号のうち、
上記下定盤表面の電圧信号のみを抽出することとしても
よい。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る両面同時平面
研磨装置の実施形態について、添付図面を参照しながら
詳細に説明する。
【0020】図1は本発明に係る両面同時平面研磨装置
の一実施形態の構成を示す縦断面図、図2は図1に示し
た下定盤およびキャリアの構成を示す拡大平面図であ
る。
【0021】図1に示すように、本実施形態における両
面同時平面研磨装置50は、ワークWを目標寸法に加工
するための研磨装置20と、ワークWの加工条件を制御
する制御装置30と、定寸装置40とを具備し、定寸装
置40は、渦電流式変位センサ41によりワークWの厚
み寸法を検出する寸法検出手段42と、寸法検出手段4
2による検出結果に基づいて単位時間当たりのワークW
の厚み寸法の変化率を算出する寸法変化率演算手段43
とを具備して構成されている。
【0022】研磨装置20において、中空の下定盤回転
軸1に固定された下定盤2は、下定盤回転軸1下端に取
り付けられた下定盤駆動ギア3により定盤軸線を中心に
回転駆動させるための駆動モータM1に対し、変換した
所定の周波数電源を供給するインバータ31によってそ
の回転数が決定され、インバータ31は制御装置30に
より制御される。
【0023】図2に示すように、下定盤2上に載置さ
れ、複数のワーク装着用貫通穴4a,4aに複数のワー
クW,Wを保持した複数のキャリア4,4の外周のキャ
リアギア4b,4bは、サンギア5の外歯5aとインナ
ーギア6の内歯6aに噛み合っていて、サンギア5とイ
ンナーギア6のそれぞれの回転により、各キャリア4は
自転しながらサンギア5の周囲を公転運動するように構
成されている。
【0024】サンギア5は、下定盤回転軸1の中空穴に
回転自在に挿通されたサンギア回転軸8と一体に形成さ
れており、サンギア回転軸8下端に取り付けられたサン
ギア駆動ギア9により定盤軸線を中心に回転駆動させる
ための駆動モータM2に対し、変換した所定の周波数電
源を供給するインバータ32によってその回転数が決定
され、インバータ32は制御装置30により制御され
る。
【0025】インナーギア6は、インナーギア回転軸1
0の上向きカップ状の取付部10a上面に固定され、イ
ンナーギア回転軸10は、下定盤回転軸1を回転自在に
保持する固定円筒フレーム11の外周に回転自在に保持
されており、図示しないインナーギア用伝動ギアにより
インナーギア回転軸10が回転駆動されると、インナー
ギア6は、定盤軸線を中心に回転駆動する。
【0026】下定盤2と対向する位置には上定盤7が配
置され、上定盤7上面には取付円環12aを介してフォ
ーク状の上定盤昇降具12が取り付けられ、上定盤昇降
具12のロッド12bは、本実施形態では球面軸受13
を介して昇降手段である空圧シリンダ14のピストンロ
ッド14aに接続されており、上定盤7は、球面軸受1
5により吊り下げられた状態で、空圧シリンダ14の作
動によって上下に昇降する。
【0027】すなわち、上定盤7が下定盤2上に降下す
ると、上定盤昇降具12の取付円環12aにピン16を
支軸として揺動可能に取り付けられた爪16aが上定盤
回転軸18に固定されたセレーション17と係合し、上
定盤7が上昇すると、セレーション17から離脱するよ
うに構成されており、セレーション17は、サンギア回
転軸8の中空穴に回転自在に挿通された上定盤回転軸1
8の下端に固定された上定盤駆動ギア19が定盤軸線を
中心に回転駆動するための駆動モータM3に対し、変換
した所定の周波数電源を供給するインバータ33によっ
てその回転数が決定され、インバータ33は制御装置3
0により制御される。
【0028】すなわち、インバータ31,32,33か
ら所定周波数電源を供給された駆動モータM1,M2,
M3によって回転駆動される下定盤駆動ギア3、サンギ
ア駆動ギア9、上定盤駆動ギア19は、上記各インバー
タ31,32,33に接続された制御装置30によって
その回転数が制御されるとともに、制御装置30は、上
定盤7を吊り上げている空圧シリンダ14内の空気圧を
調整することにより、上定盤7のワークWに対する負荷
荷重を制御する。
【0029】研磨加工する際には、下定盤2上にキャリ
ア4に保持されたワークWを載置し、空圧シリンダ14
を作動させることにより、上定盤7を下降させてワーク
Wに接触させ、上定盤7と下定盤2との間にワークWを
挟み込み、研磨液をワークWと上下定盤7,2との間に
供給し、下定盤2、キャリア4、上定盤7の回転および
空圧シリンダ14の負荷荷重を制御装置30によって制
御し、各ワークWの両面を同時に研磨するというもので
ある。
【0030】一方、上記研磨装置20による研磨加工動
作と並行して、図3に示すように、定寸装置40におい
て、上定盤7内に埋設された渦電流式変位センサ41が
キャリア4側に向けて磁場を形成することによって、上
記上定盤7と上記下定盤2の端面間の距離Lを測定し、
所定加工サイクル毎のワークWの厚み寸法Lwを検出す
る。
【0031】ここで、所定加工サイクル毎のワークWの
厚み寸法Lwの検出方法について図4および図5に基づ
き説明する。
【0032】図4(a)は上定盤に埋設された渦電流式
変位センサの信号を説明するための模式図、同図(b)
はサンプリングされた電圧信号データの度数分布を示す
グラフである。
【0033】同図に示すように、上定盤7内に埋設され
た渦電流式変位センサ41がキャリア4側に向けて磁場
を形成することによって検出される電圧信号は、 1)下定盤2表面の電圧信号(A1) 2)下定盤2表面を除く溝2a表面の電圧信号(A2) 3)キャリア4表面の電圧信号(A3) の3種類に分けることができるが、本発明においては、
上記各電圧信号A1〜A3のうちから下定盤2表面の電
圧信号A1のみを抽出し、ワークWの厚み寸法Lwとし
て検出する。
【0034】次に、その検出方法の一例について、図5
に示したフローチャート図に基づき説明する。
【0035】図5において、まず、定盤1回転中でN個
(Nは任意の整数)の電圧信号データをサンプリングす
る(ステップ501)。
【0036】次に、サンプリングされたN個の電圧信号
データのうち、所定値X以上の電圧信号データは下定盤
2表面を除く溝2a表面の電圧信号A2であるとみな
し、X以上の値である電圧信号データをすべて取り除く
(ステップ502)。
【0037】これは、溝2a表面の電圧信号A2は、下
定盤2表面の電圧信号A1よりも大きい値として検出さ
れることは明らかであり、この溝2a表面の電圧信号A
2をワークWの厚み寸法の電圧信号データとして採用す
ると、最終的に抽出されたワークWの厚み寸法に測定誤
差が生じるためである。
【0038】次に、溝2a表面の電圧信号A2が取り除
かれた電圧信号データは、電圧信号データの測定値の大
きい順にソートされる(ステップ503)。
【0039】サンプリングされたN個の電圧信号データ
の度数分布は、図4(b)に示したように、溝2a表面
の電圧信号A2およびキャリア4表面の電圧信号A3の
データが少なく、この溝2a表面の電圧信号A2および
キャリア4表面の電圧信号A3の中間に位置する下定盤
2表面の電圧信号データA1が最も多いため、N個の電
圧信号データの度数分布の中央M個のデータの平均値B
を求める(ステップ504)。
【0040】このようにして求められた平均値Bは、溝
2a表面の電圧信号A2およびキャリア4表面の電圧信
号A3のデータが取り除かれた下定盤2表面の電圧信号
A1に近似した値となるため、この平均値BはワークW
の厚み寸法Lwとして信頼性の高いデータとして使用す
ることができる。
【0041】なお、ワークWの厚み寸法Lwは平均値B
として算出しているため、任意にサンプリングしたサン
プル数Nの数値が多くなれば実際のワークWの厚み寸法
の値に近似する。
【0042】このようにして検出されたワークWの厚み
寸法Lwに基づいて、定寸装置40における寸法変化率
演算手段43において、単位時間t当たりのワークWの
厚み寸法Lwの変化速度Vnを求め、寸法変化率Pnを
算出する寸法変化率の演算が行なわれる。
【0043】本発明では、定寸装置40において、寸法
変化率演算手段43により算出された寸法変化率Pnを
使用して、第一に、上定盤7の負荷荷重および下定盤2
または上定盤7の回転数を次の加工段階の負荷荷重およ
び回転数に切換える加工段階の切換え時点、第二に、上
定盤7および下定盤2とワークW間に供給される研磨剤
の交換時期のメルクマール(指標)とするものである。
【0044】図6は定寸装置の寸法変化率演算手段にお
ける砥粒交換時期の報知動作を説明するためのフローチ
ャート図である。
【0045】同図において、まず、所定の上定盤7の負
荷荷重および下定盤2の回転数により研磨加工が開始さ
れる(ステップ601)と、定寸装置40の寸法変化率
演算手段43は、所定の加工サイクル毎に各ワークWの
単位時間t当たりの寸法変化率Pn(Pn=Ln−L1
/t(nは任意のサンプリング数))を計算する(ステ
ップ602)。
【0046】次に、寸法変化率Pnと予め設定された寸
法変化率の限界値Lとを比較する(ステップ603)。
ここで、寸法変化率の限界値Lとは、研磨剤の摩耗によ
る加工効率低下の限界値であり、ユーザーが任意に設定
することができる。
【0047】寸法変化率Pnが予め設定された寸法変化
率の限界値Lよりも大きい(ステップ604でNO)
と、上定盤7と下定盤2の研磨剤は交換時期ではないと
判断され、所定の負荷荷重および回転数により研磨加工
が継続される。
【0048】これに対して、寸法変化率Pnが予め設定
された寸法変化率の限界値Lよりも小さい(ステップ6
04でYES)と、上定盤7と下定盤2の研磨剤は交換
時期であると判断され、定寸装置40の寸法変化率演算
手段43から制御装置30に対して研磨剤交換時期であ
る旨の報知信号を出力し(ステップ605)、制御装置
30は、各インバータ31,32,33を介して駆動モ
ータM1,M2,M3の駆動を制御し、駆動モータM
1,M2,M3により駆動される下定盤駆動ギア3、サ
ンギア駆動ギア9、上定盤駆動ギア9の駆動を停止さ
せ、研磨装置20の動作を停止して処理を終了する。
【0049】なお、研磨剤交換時期である旨の報知手段
としては、研磨装置20の動作を停止させずに、定寸装
置40に接続された図示しない表示装置にアラーム表示
をしたり、制御装置30に接続されたMMIに取り付け
られたシグナルを点灯させたり、ブザーによって警報す
る構成とすることもできる。
【0050】このように、寸法変化率の限界値L、すな
わち研磨剤の摩耗による加工効率低下の限界値に達した
時点で、研磨装置の動作を停止させたり、アラーム表
示、シグナル点灯、ブザーの警報等の報知手段によって
研磨剤の交換時期を作業者に知らせることが可能とな
り、作業者によって研磨剤の交換時期が異なるようなこ
とはない。
【0051】したがって、研磨剤の早期交換による砥粒
の浪費を防止することができるとともに、研磨剤の交換
時期が遅れることによる加工効率の低下も防止すること
ができるため、ワークに対して安定した研磨加工を行な
うことができ、割れ、欠け等の不良品の発生率を低減す
ることができる。
【0052】次に、図7は定寸装置の寸法変化率演算手
段における加工条件の切換え動作を説明するためのフロ
ーチャート図である。
【0053】同図において、まず、所定の上定盤7の負
荷荷重および下定盤2の回転数による加工条件P1の研
磨加工が開始される(ステップ701)と、定寸装置4
0の寸法変化率演算手段43は、所定の加工サイクル毎
に各ワークWの単位時間t当たりの寸法変化速度Vn
(Vn=Ln−L1/t(nは任意のサンプリング
数))を計算する(ステップ702)。
【0054】次に、寸法変化速度Vnの変化率Pn(P
n=Vn/V(n−1))を計算し(ステップ70
3)、寸法変化率Pnと予め設定された寸法変化率の限
界値L’とを比較する(ステップ704)。
【0055】ここで、寸法変化率の限界値L’とは、加
工条件P1におけるワークWの加工終了時の寸法変化率
の値であり、ユーザーが任意に設定することができるも
のであるが、通常、加工条件P1におけるワークWの加
工終了時の寸法変化速度の変化率は0(零)に近い値で
ある。
【0056】寸法変化率Pnが予め設定された寸法変化
率の限界値L’よりも大きい(ステップ705でNO)
と、加工条件P1による加工段階はまだ完了していない
と判断され、上記ステップ701に戻り、所定の負荷荷
重および回転数により加工条件P1の研磨加工が継続さ
れる。
【0057】寸法変化率Pnが予め設定された寸法変化
率の限界値L’よりも小さい(ステップ705でYE
S)と、加工条件P1による加工段階は完了したものと
判断され、加工条件P1における負荷荷重および回転数
を次の加工段階である加工条件P2における負荷荷重お
よび回転数に切換えるように、定寸装置40の寸法変化
率演算手段43から制御装置30に対して加工条件切換
信号を出力し(ステップ706)、制御装置30は、加
工条件切換回路34によって各インバータ31,32,
33を介して駆動モータM1,M2,M3の駆動を制御
し、駆動モータM1,M2,M3により駆動される下定
盤駆動ギア3、サンギア駆動ギア9、上定盤駆動ギア1
9の回転数を次段階の加工条件P2における回転数に変
更し、上定盤7の昇降手段である空圧シリンダ14内の
空気圧を制御して、次段階の加工条件P2の負荷荷重に
変更して研磨加工を開始する(ステップ707)。
【0058】以降、ワークWが目標厚みに達するまで、
上記加工条件P2による研磨加工が継続され、ワークW
が目標厚みに達すると(ステップ708でYES)、処
理を終了する。
【0059】なお、上記加工条件P1は、上定盤7の負
荷荷重と下定盤2の回転数であるが、下定盤2の回転数
は所定の比率の回転数比で上定盤7に同期して伝達され
る。したがって、加工条件P1を上定盤7の負荷荷重と
上定盤7の回転数として設定してもよい。
【0060】以上が定寸装置40の寸法変化率演算手段
43における加工条件の切換え動作であるが、加工条件
を切換える段階は、上記P1,P2のように2段階であ
る必要はなく、以下に説明するように、3段階以上の多
段階に切換えるようにプロセス制御してもよい。
【0061】図8は加工サイクル中のプロセス制御の一
例を説明するためのフローチャート図である。
【0062】同図において、上述した定盤1回転中のサ
ンプリング値Aを抽出し(ステップ801)、このサン
プリング値Aを用いてワークWの目標厚みに対する残り
削りシロC(C=目標厚み−定盤1回転中のサンプリン
グ値A)を計算する(ステップ802)。
【0063】次に、上記残り削りシロCが0(零)より
も大きいかどうかを判断する(ステップ803)。
【0064】残り削りシロCが0(零)よりも小である
場合(ステップ803でYES)、ワークWは目標厚み
に達したものと判断され、加工を完了する(ステップ8
13)。
【0065】残り削りシロCが0(零)よりも大である
場合(ステップ803でNO)、次に、残り削りシロC
と第1段階(本実施形態においては過渡的研磨領域)に
おける目標残り削りシロX1との値を比較する(ステッ
プ804)。
【0066】残り削りシロCが第1段階における目標残
り削りシロX1よりも小さい場合(ステップ805でN
O)、予め設定された上定盤荷重および下定盤回転数か
らなる加工条件P1による加工が行なわれ(ステップ8
06)、残り削りシロCが第1段階における目標残り削
りシロX1よりも大きい場合(ステップ805でYE
S)には、第1段階における加工は完了したものと判断
し、上記加工条件切換回路34によって第2段階(本実
施形態においては定常粗研磨領域)に切換えられ、残り
削りシロCと第2段階における目標残り削りシロX2と
の値を比較する(ステップ807)。
【0067】以下同様に、第3段階(本実施形態におい
ては定常精研磨領域)、…、第n段階と、残り削りシロ
Cが0(零)よりも小になるまで上記ステップが繰り返
され、残り削りシロCが0(零)よりも小になる(ステ
ップ803でYES)と、ワークWは目標厚みに達した
ものと判断され加工を完了する(ステップ813)。
【0068】このように、本実施形態によれば、定寸装
置40の寸法検出手段42により検出された寸法を利用
して、過渡的領域、定常粗研磨領域、定常精研磨領域に
加工プロセスを細分化し、各加工プロセス毎に最適な上
定盤7の負荷荷重および下定盤2または上定盤7の回転
数からなる加工条件を設定することが可能となる。
【0069】図9は、時間に対するワークの厚み寸法の
変化と寸法変化率の関係を示すグラフであり、同図
(a)は加工条件の切換えを従来のようにタイマーによ
り判断することとした場合、同図(b)は加工条件の切
換えを本願の寸法変化率により自動的に切換えることと
した場合を示し、両者のワーク厚みが目的寸法に達する
までの加工時間を比較したものである。
【0070】なお、同図において、加工前寸法から仕上
がり寸法までの加工プロセスを2段階とし、第1段階で
は上定盤のワークに対する荷重を低荷重、下定盤の回転
数を低速に設定し、第2段階では上記荷重を高荷重、上
記回転数を高速に設定した例を示しており、同図(a)
および同図(b)における上定盤荷重および下定盤回転
数からなる加工条件は同一のものとする。
【0071】また、同図中、実線で示すものはワーク厚
みの寸法、点線で示すものはワーク厚みの寸法変化率を
それぞれ表わす。
【0072】まず、ワーク厚みの加工前寸法をS1と
し、第1段階の加工条件により研磨加工が行なわれる
と、同図(a)(b)に示すように、ワーク厚みの寸法
は同一の寸法変化率でもって徐々に小さくなり、やがて
第1段階の目的寸法に達すると、ワーク厚みの寸法変化
率はほぼ一定となる。
【0073】ここで、同図(a)に示すように、タイマ
ーの時間設定により加工条件を切換えることとした場
合、ワーク厚みの寸法変化率が一定になったにもかかわ
らず、第1段階の加工条件による研磨加工が継続され、
始めに設定した時間が経過しなければ、加工条件は第2
段階には切換わらない。
【0074】これに対して、同図(b)に示すように、
寸法変化率により加工条件を切換えることとした場合、
ワーク厚みの寸法変化率が一定になった時点で自動的に
加工条件が切換わるため、寸法変化率による加工条件切
換時点T12は、タイマーによる加工条件切換時点T1
よりも時間的に早く到来する。これ以降、第2段階の加
工条件により研磨加工が行なわれると、ワーク厚みの寸
法は、同図(a)(b)ともに同一の寸法変化率、つま
り同一の寸法変化速度により仕上がり寸法S2に到達す
るまで加工されるが、仕上がり寸法S2に到達する完了
時点T2を比較すると、同図(b)における完了時点T
2は、同図(a)における完了時点T2に比べ、時間的
に早く到来し、寸法変化率による加工条件切換えによれ
ば、仕上がり寸法に達するまでの加工時間を短縮できる
ことが分かる。
【0075】このように、本発明によれば、加工プロセ
スの次段階への加工条件の切換えは、従来のような作業
者の経験的判断やタイマーの設定時間による切換えでは
なく、ワーク厚みの寸法変化率による自動切換えである
ため、加工条件の切換時点における時間的なロスを解消
することができ、ワーク厚みを目的寸法に加工するまで
の加工時間の短縮を図ることができる。
【0076】なお、上述した実施形態においては、上定
盤の昇降手段として空圧シリンダを用いているが、これ
に代えて油圧シリンダ、ボールネジ等を選択して使用す
ることも可能である。
【0077】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る両面同時平面研磨装置によれば、以下のような効果
を奏する。
【0078】(1)研磨剤の摩耗による加工効率低下の
限界値に達した時点で、研磨装置の動作を停止させた
り、アラーム表示、シグナル点灯、ブザーの警報等の報
知手段によって研磨剤の交換時期を作業者に知らせるこ
とが可能となり、作業者によって研磨剤の交換時期が異
なるようなことはないため、研磨剤の早期交換による砥
粒の浪費および遅延交換による加工効率の低下を防止
し、ワークに対して安定した研磨加工を行なうことがで
き、割れ、欠け等の不良品の発生率を低減することがで
きる。
【0079】(2)各加工プロセスの次段階への切換え
は、従来のような作業者の経験的判断や設定時間による
切換えではなく、ワークの厚み寸法による切換えである
ため、加工段階の切換えのための時間的なロスを解消す
ることができ、ワークを目的寸法に加工するまでの加工
時間の短縮を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る両面同時平面研磨装置の一実施形
態の構成を示す縦断面図である。
【図2】図1に示した下定盤およびキャリアの構成を示
す拡大平面図である。
【図3】図1に示した上定盤内に埋設された渦電流式変
位センサの構成を示す拡大断面図である。
【図4】(a)は上定盤に埋設された渦電流式変位セン
サの信号を説明するための模式図、(b)はサンプリン
グされた電圧信号データの度数分布を示すグラフであ
る。
【図5】ワークの厚み寸法検出方法の一例について説明
するためのフローチャート図である。
【図6】定寸装置の寸法変化率演算手段における砥粒交
換時期の報知動作を説明するためのフローチャート図で
ある。
【図7】定寸装置の寸法変化率演算手段における加工条
件の切換え動作を説明するためのフローチャート図であ
る。
【図8】加工サイクル中のプロセス制御の一例を説明す
るためのフローチャート図である。
【図9】時間に対するワークの厚み寸法の変化と寸法変
化率の関係を示すグラフである。
【図10】従来の両面同時平面研磨装置の構成を示す縦
断面図である。
【符号の説明】
2 下定盤 3 下定盤駆動ギア 4 キャリア 5 サンギア 6 インナーギア 7 上定盤 9 サンギア駆動ギア 14 空圧シリンダ(昇降手段) 19 上定盤駆動ギア 20 研磨装置 30 制御装置 34 加工条件切換手段 40 定寸装置 41 渦電流式変位センサ 42 寸法検出手段 43 寸法変化率演算手段 50 両面同時平面研磨装置 A1 下定盤表面の電圧信号 A2 溝表面の電圧信号 A3 キャリア表面の電圧信号 B 電圧信号の平均値 C 残り削りシロ Vn 寸法変化速度 L 寸法変化率の限界値 Pn 寸法変化率 L’ 寸法変化率の限界値 W ワーク Lw ワークの厚み寸法 S1 加工前寸法 S2 仕上がり寸法 T1 タイマーによる加工条件の切換時点 T2 加工完了時点 T12 寸法変化率による加工条件の切換時点
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/304 622 H01L 21/304 622R (72)発明者 海老原 弘 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 Fターム(参考) 3C047 FF08 GG00 3C058 AA07 AA12 AC02 BA01 BA02 BA07 BB02 BB09 BC01 BC02 BC03 CB03 DA18

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 定盤軸線を中心に回転駆動する下定盤
    と、上記下定盤上に載置された複数のワークを保持し、
    自転しながら公転運動するキャリアと、上記下定盤と対
    向して配置され、上記キャリアに保持されたワークに接
    触しながら上記下定盤に倣い回転駆動する上定盤と、上
    記上定盤を昇降させるための昇降手段と、を具備する研
    磨装置と、 上記昇降手段による上記上定盤のワークに対する負荷荷
    重および上記下定盤または上定盤の回転数からなる加工
    条件を制御する制御装置と、 上記ワークの厚み寸法を検出する寸法検出手段と、該寸
    法検出手段による検出結果に基づいて単位時間当たりの
    ワークの厚み寸法の変化率を算出する寸法変化率演算手
    段とを具備する定寸装置と、 を備えることを特徴とする両面同時平面研磨装置。
  2. 【請求項2】 上記制御装置は、上記寸法変化率演算手
    段による寸法変化率を基に、上記上定盤の負荷荷重およ
    び上記下定盤または上定盤の回転数を次の加工段階の負
    荷荷重および回転数に切換える加工条件切換手段を具備
    することを特徴とする請求項1に記載の両面同時平面研
    磨装置。
  3. 【請求項3】 上記制御装置は、上記寸法検出手段によ
    り検出された寸法を利用して加工プロセスを細分化し、
    各加工プロセス毎に最適な負荷荷重および回転数からな
    る加工条件を設定する加工条件設定手段を具備すること
    を特徴とする請求項1に記載の両面同時平面研磨装置。
  4. 【請求項4】 上記定寸装置は、上記寸法変化率演算手
    段により所定サイクル毎に算出された寸法変化率の現在
    値と、予め設定された寸法変化率の限界値とを比較し、
    上記現在値が上記限界値を下回った場合に研磨剤交換時
    期である旨を報知する報知手段を具備することを特徴と
    する請求項1に記載の両面同時平面研磨装置。
  5. 【請求項5】 上記寸法検出手段は、上記上定盤に埋設
    された渦電流式変位センサにより所定サンプル数検出さ
    れた下定盤表面の電圧信号、下定盤表面を除く溝表面の
    電圧信号、およびキャリア表面の電圧信号のうち、上記
    下定盤表面の電圧信号のみを抽出することを特徴とする
    請求項1乃至請求項4に記載の両面同時平面研磨装置。
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