JP2003117792A - 端面研磨方法 - Google Patents
端面研磨方法Info
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- JP2003117792A JP2003117792A JP2001308566A JP2001308566A JP2003117792A JP 2003117792 A JP2003117792 A JP 2003117792A JP 2001308566 A JP2001308566 A JP 2001308566A JP 2001308566 A JP2001308566 A JP 2001308566A JP 2003117792 A JP2003117792 A JP 2003117792A
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- polishing
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ファイバの研磨精度を向上すると共に研磨
時間及び研磨作業を短縮することができる端面研磨方法
を提供する。 【解決手段】 装置本体に支持された研磨盤12と光フ
ァイバ1を保持する治具30とを具備し、前記治具30
に保持された光ファイバ1の先端を前記研磨盤12に装
着された研磨部材12aにより研磨する端面研磨方法に
おいて、前記光ファイバ1の先端を研磨加工中に前記光
ファイバ1に検査光を導通し、前記検査光の戻り光を検
出することにより研磨状態を確認する。
時間及び研磨作業を短縮することができる端面研磨方法
を提供する。 【解決手段】 装置本体に支持された研磨盤12と光フ
ァイバ1を保持する治具30とを具備し、前記治具30
に保持された光ファイバ1の先端を前記研磨盤12に装
着された研磨部材12aにより研磨する端面研磨方法に
おいて、前記光ファイバ1の先端を研磨加工中に前記光
ファイバ1に検査光を導通し、前記検査光の戻り光を検
出することにより研磨状態を確認する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光接続等に用いら
れる光ファイバの先端面を研磨する端面研磨方法に関す
る。
れる光ファイバの先端面を研磨する端面研磨方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、光ファイバ同士を対向接続さ
せる場合には、一方の光ファイバの先端側に設けられて
光ファイバからの光を照射する半導体レーザと、半導体
レーザからの光を平行ビームとすると共に他方の光ファ
イバに収束させる一対の光学系とを具備する装置によっ
て一対の光ファイバの光接続を行っている。
せる場合には、一方の光ファイバの先端側に設けられて
光ファイバからの光を照射する半導体レーザと、半導体
レーザからの光を平行ビームとすると共に他方の光ファ
イバに収束させる一対の光学系とを具備する装置によっ
て一対の光ファイバの光接続を行っている。
【0003】このような装置では、一対の光ファイバに
対して半導体レーザ及び光学系を高精度で配置しなくて
はならず、配置する位置精度が悪いと損入損失等が大き
くなってしまうという問題がある。
対して半導体レーザ及び光学系を高精度で配置しなくて
はならず、配置する位置精度が悪いと損入損失等が大き
くなってしまうという問題がある。
【0004】このため、一方の光ファイバの先端に半導
体レーザを配置せずに光ファイバの先端をくさび形状に
研磨し、その先端面から半導体レーザによる光と同様の
光の照射を行うようにする方法が提案されている。
体レーザを配置せずに光ファイバの先端をくさび形状に
研磨し、その先端面から半導体レーザによる光と同様の
光の照射を行うようにする方法が提案されている。
【0005】ここで、先端をくさび形状とした光ファイ
バについて説明する。
バについて説明する。
【0006】図6は、光ファイバの斜視図及び端面方向
からの平面図である。
からの平面図である。
【0007】図示するように、光ファイバ1は、クラッ
ド2とその中心に設けられたコア3とを具備し、クラッ
ド2がくさび形状に形成されている。また、コア3の設
けられた先端面は、R形状に突出するように形成されて
いる。
ド2とその中心に設けられたコア3とを具備し、クラッ
ド2がくさび形状に形成されている。また、コア3の設
けられた先端面は、R形状に突出するように形成されて
いる。
【0008】このような、先端をくさび形状とした光フ
ァイバ1を用いた場合には、半導体レーザを配置する位
置合わせを行う必要がなく組立工程を簡略化することが
できる。
ァイバ1を用いた場合には、半導体レーザを配置する位
置合わせを行う必要がなく組立工程を簡略化することが
できる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな光ファイバでは、コアの偏心を0.5μm以下とし
なくてはならないが、光ファイバの先端の研磨は、研磨
装置によってある程度研磨をした後、光ファイバを研磨
装置から取り外して研磨精度を確認していた。このた
め、光ファイバを再度研磨装置に取り付けて研磨を行っ
ても研磨位置決めが困難であり、取付位置のばらつきに
よって研磨精度が悪化してしまうという問題がある。
うな光ファイバでは、コアの偏心を0.5μm以下とし
なくてはならないが、光ファイバの先端の研磨は、研磨
装置によってある程度研磨をした後、光ファイバを研磨
装置から取り外して研磨精度を確認していた。このた
め、光ファイバを再度研磨装置に取り付けて研磨を行っ
ても研磨位置決めが困難であり、取付位置のばらつきに
よって研磨精度が悪化してしまうという問題がある。
【0010】また、光ファイバを度々取り外すことによ
って、光ファイバに傷が発生したり折れてしまったりと
歩留まりが悪いという問題がある。
って、光ファイバに傷が発生したり折れてしまったりと
歩留まりが悪いという問題がある。
【0011】さらに、取り付け及び取り外しを繰り返し
て研磨精度の確認を行うことで、研磨時間及び研磨作業
が多くなってしまうという問題がある。
て研磨精度の確認を行うことで、研磨時間及び研磨作業
が多くなってしまうという問題がある。
【0012】本発明は、このような事情に鑑み、光ファ
イバの研磨精度を向上すると共に研磨時間及び研磨作業
を短縮することができる端面研磨方法を提供することを
課題とする。
イバの研磨精度を向上すると共に研磨時間及び研磨作業
を短縮することができる端面研磨方法を提供することを
課題とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、装置本体に支持された研磨盤と光フ
ァイバを保持する治具とを具備し、前記治具に保持され
た光ファイバの先端を前記研磨盤に装着された研磨部材
により研磨する端面研磨方法において、前記光ファイバ
の先端を研磨加工中に前記光ファイバに検査光を導通
し、前記検査光の戻り光を検出することにより、研磨状
態を確認することを特徴とする端面研磨方法にある。
明の第1の態様は、装置本体に支持された研磨盤と光フ
ァイバを保持する治具とを具備し、前記治具に保持され
た光ファイバの先端を前記研磨盤に装着された研磨部材
により研磨する端面研磨方法において、前記光ファイバ
の先端を研磨加工中に前記光ファイバに検査光を導通
し、前記検査光の戻り光を検出することにより、研磨状
態を確認することを特徴とする端面研磨方法にある。
【0014】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記研磨部材の表面には、光を分散させる液体、例
えばマッチングオイルが塗布されていることを特徴とす
る端面研磨方法にある。
て、前記研磨部材の表面には、光を分散させる液体、例
えばマッチングオイルが塗布されていることを特徴とす
る端面研磨方法にある。
【0015】本発明の第3の態様は、第1又は2の態様
において、前記光ファイバの研磨される先端に金属膜を
形成した後に研磨を行うことを特徴とする端面研磨方法
にある。ここで金属膜としては、反射率の高く反射光に
よる観察が容易な金属、たとえば、金が好ましい。
において、前記光ファイバの研磨される先端に金属膜を
形成した後に研磨を行うことを特徴とする端面研磨方法
にある。ここで金属膜としては、反射率の高く反射光に
よる観察が容易な金属、たとえば、金が好ましい。
【0016】本発明の第4の態様は、第3の態様におい
て、前記金属膜を蒸着またはスパッタリングにより形成
することを特徴とする端面研磨方法にある。
て、前記金属膜を蒸着またはスパッタリングにより形成
することを特徴とする端面研磨方法にある。
【0017】本発明の第5の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記光ファイバの先端をくさび形状又
は球形状に研磨することを特徴とする端面研磨方法にあ
る。
の態様において、前記光ファイバの先端をくさび形状又
は球形状に研磨することを特徴とする端面研磨方法にあ
る。
【0018】かかる本発明では、光ファイバの研磨加工
中に検査光の戻り光を検出することにより、戻り光の減
衰量を測定して光ファイバの研磨状態を把握することが
できるため、光ファイバの研磨状態を確認するために光
ファイバの取り外し及び取り付けを繰り返し行う必要が
なく、高精度研磨を短い時間で行うことができる。
中に検査光の戻り光を検出することにより、戻り光の減
衰量を測定して光ファイバの研磨状態を把握することが
できるため、光ファイバの研磨状態を確認するために光
ファイバの取り外し及び取り付けを繰り返し行う必要が
なく、高精度研磨を短い時間で行うことができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を実施の形態に基
づいて詳細に説明する。
づいて詳細に説明する。
【0020】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係る端面研磨装置の正面図及び側面図であり、図2
は、実施形態1に係る治具の斜視図及び一部を切り欠い
た分解斜視図である。
1に係る端面研磨装置の正面図及び側面図であり、図2
は、実施形態1に係る治具の斜視図及び一部を切り欠い
た分解斜視図である。
【0021】図示するように、本発明の端面研磨装置1
0は、回転揺動自在に設けられて研磨部材12aの設け
られた研磨盤12を有する装置本体11と、光ファイバ
1を保持する治具30と、この治具30を研磨盤12方
向に移動自在に支持する支持機構60と、光ファイバ1
の研磨状態を確認する検査手段70とを具備する。
0は、回転揺動自在に設けられて研磨部材12aの設け
られた研磨盤12を有する装置本体11と、光ファイバ
1を保持する治具30と、この治具30を研磨盤12方
向に移動自在に支持する支持機構60と、光ファイバ1
の研磨状態を確認する検査手段70とを具備する。
【0022】治具30は、光ファイバ1を保持してその
先端を研磨盤12に保持された研磨部材12aに当接で
きれば特に限定されないが、本実施形態では、図2に示
すように、四角柱状の治具本体31と、治具本体31の
後端部に設けられて光ファイバ心線を挿入保持する保持
部材40と、保持部材40の外周に設けられた締結部材
50とを具備する。
先端を研磨盤12に保持された研磨部材12aに当接で
きれば特に限定されないが、本実施形態では、図2に示
すように、四角柱状の治具本体31と、治具本体31の
後端部に設けられて光ファイバ心線を挿入保持する保持
部材40と、保持部材40の外周に設けられた締結部材
50とを具備する。
【0023】治具本体31は、四角柱形状を有し、且つ
長手方向に亘って略中心に光ファイバ1を挿入保持する
光ファイバ挿入孔32が設けられている。
長手方向に亘って略中心に光ファイバ1を挿入保持する
光ファイバ挿入孔32が設けられている。
【0024】また、治具本体31の先端部は、光ファイ
バ挿入孔32が先端で開口するくさび形状に設けられて
いる。
バ挿入孔32が先端で開口するくさび形状に設けられて
いる。
【0025】ここで、光ファイバ1は、例えば、ガラス
又はプラスチック等からなり、研磨砥石等からなる研磨
部材12aは、例えば、酸化セリウム、シリカ、ジルコ
ニア等からなる。このため、少なくとも治具本体31の
先端部は、研磨部材に当接しても研磨されない材料、例
えば、ジルコニア又はアルミナ等の材料で形成されてい
る。
又はプラスチック等からなり、研磨砥石等からなる研磨
部材12aは、例えば、酸化セリウム、シリカ、ジルコ
ニア等からなる。このため、少なくとも治具本体31の
先端部は、研磨部材に当接しても研磨されない材料、例
えば、ジルコニア又はアルミナ等の材料で形成されてい
る。
【0026】また、治具本体31の基端部側には、光フ
ァイバ1の外周に被覆を施した光ファイバ心線を挿入保
持する保持部材40が設けられている。
ァイバ1の外周に被覆を施した光ファイバ心線を挿入保
持する保持部材40が設けられている。
【0027】保持部材40は、軸方向に亘って光ファイ
バ心線を挿通可能な光ファイバ心線挿入孔41を有する
円筒形状を有し、基端部側の外周には締結部材50が螺
合している。
バ心線を挿通可能な光ファイバ心線挿入孔41を有する
円筒形状を有し、基端部側の外周には締結部材50が螺
合している。
【0028】この保持部材40の先端部が、治具本体3
1の基端部側に設けられて光ファイバ挿入孔32の内径
よりも大きな内径を有する嵌合孔35に嵌合すること
で、光ファイバ挿入孔32と光ファイバ心線挿入孔41
とを連通した状態で固定されている。
1の基端部側に設けられて光ファイバ挿入孔32の内径
よりも大きな内径を有する嵌合孔35に嵌合すること
で、光ファイバ挿入孔32と光ファイバ心線挿入孔41
とを連通した状態で固定されている。
【0029】また、保持部材40の基端部側は、外径が
端部に向かって漸小するテーパ状の絞り部42となって
おり、この絞り部42には、軸方向に向かって複数の切
り欠き部43が設けられている。
端部に向かって漸小するテーパ状の絞り部42となって
おり、この絞り部42には、軸方向に向かって複数の切
り欠き部43が設けられている。
【0030】このような保持部材40は、切り欠き部4
3の設けられた絞り部42が光ファイバ心線挿入孔41
側に弾性変形することにより光ファイバ心線を挟持する
ようになっている。この保持部材40は、絞り部42が
弾性変形して光ファイバ心線を挟持できる部材であれ
ば、特に限定されない。
3の設けられた絞り部42が光ファイバ心線挿入孔41
側に弾性変形することにより光ファイバ心線を挟持する
ようになっている。この保持部材40は、絞り部42が
弾性変形して光ファイバ心線を挟持できる部材であれ
ば、特に限定されない。
【0031】また、保持部材40の基端部側の外周に
は、締結部材50が螺合するため、締結部材50と螺合
する雄ねじ44が切られている。
は、締結部材50が螺合するため、締結部材50と螺合
する雄ねじ44が切られている。
【0032】ここで、締結部材50は、保持部材40の
外周と略同等の内径を有し、内面に保持部材40の雄ね
じ44と螺合する雌ねじ51の切られた挿通孔52を有
する円筒形状からなり、挿通孔52の一端には、挿通孔
52の内径よりも小さな内径を有する押しつけ部53が
設けられている。
外周と略同等の内径を有し、内面に保持部材40の雄ね
じ44と螺合する雌ねじ51の切られた挿通孔52を有
する円筒形状からなり、挿通孔52の一端には、挿通孔
52の内径よりも小さな内径を有する押しつけ部53が
設けられている。
【0033】この締結部材50を保持部材40の外周に
螺合させることによって、押しつけ部53は保持部材4
0の絞り部42の外面に摺接して、絞り部42を光ファ
イバ心線挿入孔41側に弾性変形させて光ファイバ心線
を保持するようになっている。
螺合させることによって、押しつけ部53は保持部材4
0の絞り部42の外面に摺接して、絞り部42を光ファ
イバ心線挿入孔41側に弾性変形させて光ファイバ心線
を保持するようになっている。
【0034】このような治具30では、光ファイバ1を
確実に保持固定して、光ファイバ1の先端を研磨部材1
2aに摺接させることによって、高精度に研磨すること
ができる。
確実に保持固定して、光ファイバ1の先端を研磨部材1
2aに摺接させることによって、高精度に研磨すること
ができる。
【0035】また、このような治具30を保持する支持
機構60について説明する。
機構60について説明する。
【0036】図1に示すように、装置本体11には、研
磨盤12に対向する位置に延設された支持部61を有
し、この支持部61に研磨盤12方向に移動自在に設け
られた急速送り用テーブル62と、この急速送り用テー
ブル62に保持されて治具30が光ファイバ1の半径方
向に回転自在に設けられた精密送り用テーブル63とか
らなる支持機構60が設けられている。
磨盤12に対向する位置に延設された支持部61を有
し、この支持部61に研磨盤12方向に移動自在に設け
られた急速送り用テーブル62と、この急速送り用テー
ブル62に保持されて治具30が光ファイバ1の半径方
向に回転自在に設けられた精密送り用テーブル63とか
らなる支持機構60が設けられている。
【0037】急速送り用テーブル62は、支持部61に
設けられた急速送り用ハンドル64によって研磨盤12
側に粗動することができる。
設けられた急速送り用ハンドル64によって研磨盤12
側に粗動することができる。
【0038】また、精密送り用テーブル63は、急速送
り用テーブル62に対して研磨盤12の上下方向に移動
自在に保持されており、急速送り用テーブル62に設け
られたマイクロメータヘッド等からなる調整手段65に
よって研磨盤12側に微動できるようになっている。
り用テーブル62に対して研磨盤12の上下方向に移動
自在に保持されており、急速送り用テーブル62に設け
られたマイクロメータヘッド等からなる調整手段65に
よって研磨盤12側に微動できるようになっている。
【0039】また、精密送り用テーブル63には、治具
30の側面が固定された回転部材66が設けられてい
る。この回転部材66は、治具30を研磨盤12に対し
て光ファイバ1の半径方向に回転移動させるものであ
り、これにより、治具30に保持された光ファイバ1の
先端に二面からなるくさび形状を形成するために、くさ
び形状のそれぞれの面が研磨部材12aに相対向するよ
うに移動することができる。
30の側面が固定された回転部材66が設けられてい
る。この回転部材66は、治具30を研磨盤12に対し
て光ファイバ1の半径方向に回転移動させるものであ
り、これにより、治具30に保持された光ファイバ1の
先端に二面からなるくさび形状を形成するために、くさ
び形状のそれぞれの面が研磨部材12aに相対向するよ
うに移動することができる。
【0040】このような精密送り用テーブル63は、調
整手段65により研磨盤12側に押圧されることによ
り、研磨盤12に光ファイバ1の先端を所定の圧力で押
圧して光ファイバ1の先端を研磨するようになってい
る。
整手段65により研磨盤12側に押圧されることによ
り、研磨盤12に光ファイバ1の先端を所定の圧力で押
圧して光ファイバ1の先端を研磨するようになってい
る。
【0041】また、これらの急速送り用テーブル62及
び精密送り用テーブル63によって、治具30の粗動及
び微動を容易に行うことができるため、治具30の位置
決め移動を短時間で行うことができると共に光ファイバ
1の先端を研磨盤12に押圧する圧力の微調整を容易に
行うことができる。
び精密送り用テーブル63によって、治具30の粗動及
び微動を容易に行うことができるため、治具30の位置
決め移動を短時間で行うことができると共に光ファイバ
1の先端を研磨盤12に押圧する圧力の微調整を容易に
行うことができる。
【0042】一方、検査手段70は、光ファイバ1に検
査光を導通し、検査光の戻り光を検出することで光ファ
イバ1の研磨状態を確認するものであり、本実施形態で
は、戻り光の減衰量を測定するようにした。
査光を導通し、検査光の戻り光を検出することで光ファ
イバ1の研磨状態を確認するものであり、本実施形態で
は、戻り光の減衰量を測定するようにした。
【0043】また、この検査手段70には、モニタ等の
表示装置71が設けられており、光ファイバ1の研磨加
工中に常に減衰量を測定して表示することで、光ファイ
バ1の研磨状態を確認することができる。
表示装置71が設けられており、光ファイバ1の研磨加
工中に常に減衰量を測定して表示することで、光ファイ
バ1の研磨状態を確認することができる。
【0044】このような検査手段70による戻り光の減
衰量の測定は、研磨加工中に常に行うようにしてもよ
く、研磨が光ファイバ1のコア3近傍になってから行う
ようにしてもよい。
衰量の測定は、研磨加工中に常に行うようにしてもよ
く、研磨が光ファイバ1のコア3近傍になってから行う
ようにしてもよい。
【0045】ここで、戻り光は、照射された検査光が光
ファイバ1の端面又は研磨砥石等の研磨部材12aによ
って反射した光であり、光ファイバ1の端面の形状又は
研磨部材12aの材質や荒さ等によって反射率は変動す
るが、同一の研磨部材12aにより研磨を始めると、光
ファイバ1の端面形状の変化でのみ減衰量が変化する。
このような光ファイバ1の端面形状の変化では、研磨が
コア3部分に達した瞬間に減衰量の変化が大きくなる。
このため、研磨加工中に減衰量を測定することによって
研磨がコア3に達したか等の研磨状態を容易に確認する
ことができる。
ファイバ1の端面又は研磨砥石等の研磨部材12aによ
って反射した光であり、光ファイバ1の端面の形状又は
研磨部材12aの材質や荒さ等によって反射率は変動す
るが、同一の研磨部材12aにより研磨を始めると、光
ファイバ1の端面形状の変化でのみ減衰量が変化する。
このような光ファイバ1の端面形状の変化では、研磨が
コア3部分に達した瞬間に減衰量の変化が大きくなる。
このため、研磨加工中に減衰量を測定することによって
研磨がコア3に達したか等の研磨状態を容易に確認する
ことができる。
【0046】また、戻り光の減衰量は、上述したように
光ファイバ1の端面の形状又は研磨部材12aの材質や
荒さによって異なるが、研磨部材12aの表面に光の屈
折率整合を行うマッチングオイルを塗布してもよい。こ
のようなマッチングオイルを塗布することによって、光
を分散させて戻り光の減衰量の変化を計測し易くするこ
とができる。なお、研磨部材12aの表面にマッチング
オイルを塗布して光ファイバ1の研磨を行った場合は、
研磨加工後に光ファイバ1の先端を洗浄してマッチング
オイルを除去する必要がある。ここでマッチングオイル
とは、インデックスマッチングオイルや屈折率液とも呼
ばれ、屈折率1.4250から15330のメチルフェニルシリコ
ンオイルで特に1.4960の屈折率のものが好ましい。
光ファイバ1の端面の形状又は研磨部材12aの材質や
荒さによって異なるが、研磨部材12aの表面に光の屈
折率整合を行うマッチングオイルを塗布してもよい。こ
のようなマッチングオイルを塗布することによって、光
を分散させて戻り光の減衰量の変化を計測し易くするこ
とができる。なお、研磨部材12aの表面にマッチング
オイルを塗布して光ファイバ1の研磨を行った場合は、
研磨加工後に光ファイバ1の先端を洗浄してマッチング
オイルを除去する必要がある。ここでマッチングオイル
とは、インデックスマッチングオイルや屈折率液とも呼
ばれ、屈折率1.4250から15330のメチルフェニルシリコ
ンオイルで特に1.4960の屈折率のものが好ましい。
【0047】さらに、研磨加工前に光ファイバ1の先端
に金からなる膜を、例えば、蒸着により形成するように
してもよい。この他に、スパッタリングにより成膜する
ことも可能である。
に金からなる膜を、例えば、蒸着により形成するように
してもよい。この他に、スパッタリングにより成膜する
ことも可能である。
【0048】このような金からなる膜を光ファイバ1の
研磨面に設けることによって、クラッド2の研磨では、
戻り光が減衰されないが、コア3の研磨での微少な減衰
量の変化を容易に計測することができる。なお、このよ
うな膜は光ファイバ1の先端を研磨加工することにより
除去することができる。金の他に、アルミ、クロムなど
の金属も使用可能である。さらに、金属膜を多層にする
ことにより、光ファイバ1との密着性を高めることがで
き、最表層により反射率の高い金属膜をもうけることが
でき、測定精度が向上する。
研磨面に設けることによって、クラッド2の研磨では、
戻り光が減衰されないが、コア3の研磨での微少な減衰
量の変化を容易に計測することができる。なお、このよ
うな膜は光ファイバ1の先端を研磨加工することにより
除去することができる。金の他に、アルミ、クロムなど
の金属も使用可能である。さらに、金属膜を多層にする
ことにより、光ファイバ1との密着性を高めることがで
き、最表層により反射率の高い金属膜をもうけることが
でき、測定精度が向上する。
【0049】ここで、このような端面研磨装置の駆動系
の一例について説明する。なお、図3は、実施形態1に
係る端面研磨装置の要部断面図である。
の一例について説明する。なお、図3は、実施形態1に
係る端面研磨装置の要部断面図である。
【0050】図3に示すように、自転用モータ13の回
転軸には第1自転伝達盤14の中心部が固結され、この
第1自転伝達盤14には回転中心を支点とする同心円上
に複数の第1連結ピン15が固定されている。そして、
この各第1連結ピン15は対応する各回転伝達盤16の
偏心部に回転自在に連結され、この各回転伝達盤16に
は偏心部に第2連結ピン17が固定されている。各第2
連結ピン17は第2自転伝達盤18に回転自在に連結さ
れている。
転軸には第1自転伝達盤14の中心部が固結され、この
第1自転伝達盤14には回転中心を支点とする同心円上
に複数の第1連結ピン15が固定されている。そして、
この各第1連結ピン15は対応する各回転伝達盤16の
偏心部に回転自在に連結され、この各回転伝達盤16に
は偏心部に第2連結ピン17が固定されている。各第2
連結ピン17は第2自転伝達盤18に回転自在に連結さ
れている。
【0051】一方、公転用モータ19の回転軸には駆動
歯車20の中心部が固結され、この駆動歯車20には従
動歯車21がかみ合っている。この従動歯車21は公転
伝達軸22の下部外周に固結され、この公転伝達軸22
の上部外周には装置本体11の軸受筒部23が嵌合して
いる。そして、この公転伝達軸22には回転中心より所
定量偏心した位置に自転用回転軸24が回転自在に嵌入
し、この自転用回転軸24の下端部は第2自転伝達盤1
8の中心部に固結されている。
歯車20の中心部が固結され、この駆動歯車20には従
動歯車21がかみ合っている。この従動歯車21は公転
伝達軸22の下部外周に固結され、この公転伝達軸22
の上部外周には装置本体11の軸受筒部23が嵌合して
いる。そして、この公転伝達軸22には回転中心より所
定量偏心した位置に自転用回転軸24が回転自在に嵌入
し、この自転用回転軸24の下端部は第2自転伝達盤1
8の中心部に固結されている。
【0052】また、自転用回転軸24の上端部は、結合
部材25を介して研磨盤12に結合されており、さらに
研磨盤12の上面部には研磨シート等の研磨部材12a
が取り付けられている。
部材25を介して研磨盤12に結合されており、さらに
研磨盤12の上面部には研磨シート等の研磨部材12a
が取り付けられている。
【0053】このような端面研磨装置では、図3に示す
ように、まず、公転運動については、公転用モータ19
を駆動することによって歯車20,21を介して公転伝
達軸22を回転させ、研磨盤12は、所定偏心量だけ公
転運動する。この場合、公転伝達軸22の中に自転用回
転軸24があるが、第1自転伝達盤14との間に複数の
回転伝達盤16を配しているので、回転伝達盤16は公
転伝達軸22の回転と同じ位相で第1連結ピン15回り
でそれぞれ回転する。従って、第1自転伝達盤14が止
まっていても、または回転していても公転伝達軸22の
回転が規制されることはない。
ように、まず、公転運動については、公転用モータ19
を駆動することによって歯車20,21を介して公転伝
達軸22を回転させ、研磨盤12は、所定偏心量だけ公
転運動する。この場合、公転伝達軸22の中に自転用回
転軸24があるが、第1自転伝達盤14との間に複数の
回転伝達盤16を配しているので、回転伝達盤16は公
転伝達軸22の回転と同じ位相で第1連結ピン15回り
でそれぞれ回転する。従って、第1自転伝達盤14が止
まっていても、または回転していても公転伝達軸22の
回転が規制されることはない。
【0054】一方、自転運動については、自転用モータ
13を駆動することによって第1自転伝達盤14を回転
させるが、第1連結ピン15は第1自転伝達盤14の同
心円上にあるので、前述と同じ軌跡を通り、自転用回転
軸24は所定量偏心しているが、回転伝達盤16を介し
て連結しているので、第1自転伝達盤14と同じ回転数
の回転が自転用回転軸24に伝達される。
13を駆動することによって第1自転伝達盤14を回転
させるが、第1連結ピン15は第1自転伝達盤14の同
心円上にあるので、前述と同じ軌跡を通り、自転用回転
軸24は所定量偏心しているが、回転伝達盤16を介し
て連結しているので、第1自転伝達盤14と同じ回転数
の回転が自転用回転軸24に伝達される。
【0055】このようにして公転伝達軸22及び自転用
回転軸24の回転運動によって研磨盤12が回転しなが
ら公転する。
回転軸24の回転運動によって研磨盤12が回転しなが
ら公転する。
【0056】一方、この研磨盤12に対して本実施形態
の多心光ファイバを固定した治具30は、支持機構60
によって研磨盤12方向に移動されて、光ファイバの端
面を研磨盤12に押しつける。これにより光ファイバの
先端を高精度に研磨することができる。
の多心光ファイバを固定した治具30は、支持機構60
によって研磨盤12方向に移動されて、光ファイバの端
面を研磨盤12に押しつける。これにより光ファイバの
先端を高精度に研磨することができる。
【0057】ここで、このような端面研磨装置によって
光ファイバの先端を研磨する研磨方法について詳細に説
明する。なお、図4は、光ファイバの端面研磨方法を示
す要部拡大図であり、図5は、光ファイバの研磨量と戻
り光の減衰量との関係の一例を示すグラフである。
光ファイバの先端を研磨する研磨方法について詳細に説
明する。なお、図4は、光ファイバの端面研磨方法を示
す要部拡大図であり、図5は、光ファイバの研磨量と戻
り光の減衰量との関係の一例を示すグラフである。
【0058】まず、図4(a)に示すように、光ファイ
バ1の先端にくさび形状の一方面を研磨により形成す
る。
バ1の先端にくさび形状の一方面を研磨により形成す
る。
【0059】詳しくは、光ファイバ1を固定した治具3
0を支持機構60により移動させて光ファイバ1の先端
を研磨部材12aに当接させることにより研磨する。
0を支持機構60により移動させて光ファイバ1の先端
を研磨部材12aに当接させることにより研磨する。
【0060】このとき、検査手段70によって光ファイ
バ1に検査光を導通し、検査光の戻り光を検出すると、
検出手段70の測定する戻り光の減衰量の変化は最初の
クラッド2の研磨では、図5に示すグラフのAの領域に
示すように、略一定の減衰量となる。
バ1に検査光を導通し、検査光の戻り光を検出すると、
検出手段70の測定する戻り光の減衰量の変化は最初の
クラッド2の研磨では、図5に示すグラフのAの領域に
示すように、略一定の減衰量となる。
【0061】次いで、クラッド2の研磨からコア3の研
磨にさしかかると、検査手段70が測定する減衰量は、
Bの領域に示すように急激に変化する。これにより、研
磨がコア3の縁部まで達したことが分かる。
磨にさしかかると、検査手段70が測定する減衰量は、
Bの領域に示すように急激に変化する。これにより、研
磨がコア3の縁部まで達したことが分かる。
【0062】その後のコア3の研磨では、Cの領域に示
すように減衰量の変化が微小に現れるようになってい
る。
すように減衰量の変化が微小に現れるようになってい
る。
【0063】このように、光ファイバの先端を検査手段
70によって研磨状態を確認しながら研磨することで、
くさび形状の一方面を高精度に研磨加工することができ
る。
70によって研磨状態を確認しながら研磨することで、
くさび形状の一方面を高精度に研磨加工することができ
る。
【0064】次いで、図4(b)に示すように、治具3
0を回転移動させることにより、光ファイバ1の先端面
にくさび形状の他方面を形成する。
0を回転移動させることにより、光ファイバ1の先端面
にくさび形状の他方面を形成する。
【0065】このときも、上述した一方面の研磨と同様
に、検査手段70によって光ファイバ1に検査光を導通
し、検査光の戻り光を検出して減衰量を測定すること
で、減衰量の変化によって研磨状態を確認しながらくさ
び形状の他方面を形成することで、高精度な研磨加工を
行うことができる。
に、検査手段70によって光ファイバ1に検査光を導通
し、検査光の戻り光を検出して減衰量を測定すること
で、減衰量の変化によって研磨状態を確認しながらくさ
び形状の他方面を形成することで、高精度な研磨加工を
行うことができる。
【0066】このように検査手段70によって戻り光の
減衰量を測定しながら研磨加工を行うことで、一連の研
磨工程中に治具30から光ファイバ1を取り外すことな
く、光ファイバ1の先端をくさび形状に容易に且つ高精
度に形成することができる。このため、取り付け及び取
り外しを繰り返すことによる精度ずれや研磨面に傷等が
発生するのを防止して高精度に研磨することができると
共に研磨工程を簡略化して研磨時間を短縮することがで
きる。
減衰量を測定しながら研磨加工を行うことで、一連の研
磨工程中に治具30から光ファイバ1を取り外すことな
く、光ファイバ1の先端をくさび形状に容易に且つ高精
度に形成することができる。このため、取り付け及び取
り外しを繰り返すことによる精度ずれや研磨面に傷等が
発生するのを防止して高精度に研磨することができると
共に研磨工程を簡略化して研磨時間を短縮することがで
きる。
【0067】なお、このような研磨方法では、クラッド
2からコア3を研磨するまでを高精度に研磨することが
できるが、コア3の研磨では、微少な減衰量を測定する
必要があるため、従来と同様の研磨方法でコア3を研磨
するようにしてもよく、クラッド2だけを研磨しても研
磨時間を大幅に短縮することができる。
2からコア3を研磨するまでを高精度に研磨することが
できるが、コア3の研磨では、微少な減衰量を測定する
必要があるため、従来と同様の研磨方法でコア3を研磨
するようにしてもよく、クラッド2だけを研磨しても研
磨時間を大幅に短縮することができる。
【0068】(他の実施形態)以上、本発明の実施形態
1を説明したが、端面研磨方法は上述したものに限定さ
れるものではない。
1を説明したが、端面研磨方法は上述したものに限定さ
れるものではない。
【0069】上述した実施形態1では、光ファイバ1の
先端をくさび形状となるように研磨加工する端面研磨方
法を例示したが、例えば、球形状等、特に限定されるも
のではなく、光ファイバ1の先端がどのような形状であ
っても、戻り光の減衰量を測定することで研磨状態を確
認しながら、高精度な研磨加工を行うことができる。
先端をくさび形状となるように研磨加工する端面研磨方
法を例示したが、例えば、球形状等、特に限定されるも
のではなく、光ファイバ1の先端がどのような形状であ
っても、戻り光の減衰量を測定することで研磨状態を確
認しながら、高精度な研磨加工を行うことができる。
【0070】また、上述した実施形態1では、端面研磨
装置10の駆動系として公転軸伝達軸22内の所定量偏
心した位置に自転用回転軸24を設けるようにしたが、
例えば、自転用回転軸内に公転伝達軸を配置するような
端面研磨装置としてもよく、端面研磨装置は特に限定さ
れるものではない。
装置10の駆動系として公転軸伝達軸22内の所定量偏
心した位置に自転用回転軸24を設けるようにしたが、
例えば、自転用回転軸内に公転伝達軸を配置するような
端面研磨装置としてもよく、端面研磨装置は特に限定さ
れるものではない。
【0071】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の端面研磨
方法によれば、光ファイバの研磨加工中に光ファイバに
検査光を導通し、検査光の戻り光を検出することにより
研磨状態を確認するようにしたため、研磨精度を向上し
て研磨作業を短縮することができる。また、検査手段に
よる確認を治具から光ファイバを取り外すことなく行う
ことによって、光ファイバの先端面に傷を付けたり光フ
ァイバ自体が折れるのを防止することができる。
方法によれば、光ファイバの研磨加工中に光ファイバに
検査光を導通し、検査光の戻り光を検出することにより
研磨状態を確認するようにしたため、研磨精度を向上し
て研磨作業を短縮することができる。また、検査手段に
よる確認を治具から光ファイバを取り外すことなく行う
ことによって、光ファイバの先端面に傷を付けたり光フ
ァイバ自体が折れるのを防止することができる。
【図1】本発明の実施形態1に係る端面研磨装置の正面
図及び側面図である。
図及び側面図である。
【図2】本発明の実施形態1に係る治具の斜視図及び一
部を切り欠いた分解斜視図である。
部を切り欠いた分解斜視図である。
【図3】本発明の実施形態1に係る端面研磨装置の駆動
系を示す断面図である。
系を示す断面図である。
【図4】本発明の実施形態1に係る光ファイバの端面研
磨方法を示す要部拡大図である。
磨方法を示す要部拡大図である。
【図5】本発明の実施形態1に係る光ファイバの研磨量
と戻り光の減衰量との関係の一例を示すグラフである。
と戻り光の減衰量との関係の一例を示すグラフである。
【図6】従来技術に係る光ファイバの斜視図及び端面側
からの平面図である。
からの平面図である。
1 光ファイバ
2 クラッド
3 コア
10 端面研磨装置
11 装置本体
30 治具
31 治具本体
40 保持部材
50 締結部材
60 支持機構
70 検査手段
71 表示装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 3C034 AA13 BB93 CA02 CA05 CA22
CB01 DD08
3C049 AA04 AA07 AC02 BA01 BA09
BC02 CA01 CB01 CB03
Claims (5)
- 【請求項1】 装置本体に支持された研磨盤と光ファイ
バを保持する治具とを具備し、前記治具に保持された光
ファイバの先端を前記研磨盤に装着された研磨部材によ
り研磨する端面研磨方法において、 前記光ファイバの先端を研磨加工中に前記光ファイバに
検査光を導通し、前記検査光の戻り光を検出することに
より、研磨状態を確認することを特徴とする端面研磨方
法。 - 【請求項2】 請求項1記載の端面研磨方法において、
前記研磨部材の表面に液体が塗布されていることを特徴
とする端面研磨方法。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載の端面研磨方法にお
いて、前記光ファイバの研磨される先端に金属膜を形成
した後に研磨を行うことを特徴とする端面研磨方法。 - 【請求項4】 請求項3記載の端面研磨方法において、
前記金属膜を蒸着またはスパッタリングにより形成する
ことを特徴とする端面研磨方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4の何れか記載の端面研磨方
法において、前記光ファイバの先端をくさび形状又は球
形状に研磨することを特徴とする端面研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001308566A JP2003117792A (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | 端面研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001308566A JP2003117792A (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | 端面研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003117792A true JP2003117792A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19127855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001308566A Pending JP2003117792A (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | 端面研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003117792A (ja) |
-
2001
- 2001-10-04 JP JP2001308566A patent/JP2003117792A/ja active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040304 |