JP2003114520A - 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 - Google Patents

光重合性組成物及びそれを用いた記録材料

Info

Publication number
JP2003114520A
JP2003114520A JP2001309358A JP2001309358A JP2003114520A JP 2003114520 A JP2003114520 A JP 2003114520A JP 2001309358 A JP2001309358 A JP 2001309358A JP 2001309358 A JP2001309358 A JP 2001309358A JP 2003114520 A JP2003114520 A JP 2003114520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
color
compound
acid
recording material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001309358A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotaka Matsumoto
浩隆 松本
Shintaro Washisu
信太郎 鷲巣
Kazunori Nigorikawa
和則 濁川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001309358A priority Critical patent/JP2003114520A/ja
Priority to US10/265,102 priority patent/US6919159B2/en
Publication of JP2003114520A publication Critical patent/JP2003114520A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/002Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/115Cationic or anionic
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/118Initiator containing with inhibitor or stabilizer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視光〜赤外光に対して高感度に感応し得る
とともに、生保存性に優れた光重合性組成物、及び高感
度な画像記録が可能でかつ生保存性、湿度依存性に優れ
た記録材料を提供する。 【解決手段】 少なくとも、エチレン性不飽和結合を有
する重合可能な化合物と、光ラジカル発生剤と、下記一
般式(I)で表されるチオール化合物と、を含有する光
重合性組成物、及び該光重合性組成物を用いた記録材料
である。 【化1】 〔R:置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を
有してもよいアリール基、A:N=C−N部分と共に炭
素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する
原子団、Aはさらに置換基を有してもよい。〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性組成物及
び記録材料に関し、詳しくは、シアニン系有機色素、イ
ンキ、カラーフィルタ、ホログラム、プルーフ、封止
剤、接着剤、平板印刷、樹脂凸版、フォトレジスト等を
はじめとする広い分野で好適に使用できる光重合性組成
物及び記録材料に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合性組成物は、基本的に光重合開始
剤と分子中にエチレン性不飽和結合を2個以上含有する
付加重合可能な化合物(以下、「多官能性モノマー」と
称する。)を含み、光を照射すると硬化し、粘着性が変
化したり、溶媒に不溶化する。これらの性質を利用し
て、写真、印刷、金属表面加工、インキ等に広く利用さ
れている。光重合性組成物の機能や応用例は多くの成書
に記載されている。例えば、J.Kosar著「Lig
ht Sensitive Systems」(J.W
iley & Sons,New York,1965
年,158〜193頁)や、K.I.Jacobso
n,R.E.Jacobson著「Imaging S
ystems」(J.Wiley & Sons,Ne
w York,1976年,181〜222頁)等に詳
しい。
【0003】また、近年、光重合性組成物を利用した画
像形成法として、光重合性組成物をマイクロカプセルに
内包した感光性マイクロカプセル利用の画像形成システ
ムが提案されている。例えば、特開昭57−12434
3号、特開昭57−179836号、特開昭57−19
7538号の各公報には、ビニル化合物及び光重合開始
剤よりなる光重合性組成物と色素を含むマイクロカプセ
ルを塗設した発色シートを露光後受像シートと重ねて全
体に圧力を加えることによる色素画像の形成方法が開示
されている。
【0004】さらに、特開平3−87827号公報及び
特開平4−211252号公報には、2成分を含有する
感光感熱発色記録材料が記載され、2成分のうち一方を
マイクロカプセルに内包し、他方を光硬化性組成物の硬
化性化合物とするか、あるいは他方を光硬化性組成物と
ともにマイクロカプセル外に含有させる記録材料が開示
されている。また、後者の記録材料では、電子供与性の
無色染料を内包するマイクロカプセルと、該マイクロカ
プセルの外に電子受容性化合物、重合性ビニルモノマー
及び光重合開始剤を含有する光硬化性組成物とを含有す
る層を設けた感光感熱記録材料が例示されている。
【0005】上記のように、光重合性組成物を利用した
記録材料は、現像液等を用いることなく完全ドライ方式
で画像記録が可能であり、廃棄物の発生がない点で、環
境上、非常に好ましいものである。ところで、感光性記
録材料を画像記録する場合に、UV光、短波可視光のみ
ならず、安価な赤外レーザーや青色〜赤色光を利用でき
れば有利である。しかしながら、光重合性組成物を利用
した記録材料では、紫外光には感光するが、可視光〜赤
外光には感光しない、あるいは感光してもその感度が十
分でないものが多く、その結果、形成画像が不鮮明とな
ったり、画像部と非画像部のコントラストが低くなる場
合があり、更なる高感度化が望まれている。
【0006】一方、本出願人は、以上のような記録材料
に使用し得る光重合性組成物として、重合助剤にチオー
ル基を有する化合物を含有するものを提案し高感度化及
び可視光以上の光源に対する感光性の問題を解決した
(特開昭64−13144号公報)。しかし、この光重
合性組成物を記録材料に適用すると、例えば、ゼラチン
バインダー系で、ビニルスルホン系の硬膜剤を用いる
際、前記重合助剤が該硬膜剤と反応し保存性が悪化する
場合や、感光性が湿度で変動するといった場合があり、
さらなる改善の余地が残されていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、紫外光のみならず可視光〜
赤外光に対して高感度に感応し得るとともに、生保存性
に優れた光重合性組成物を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、現像液等の使用が不要、かつ廃棄物
の発生のない完全ドライの処理系において、紫外光のみ
ならず可視光〜赤外光を用いた高感度な画像記録が可能
でかつ生保存性、湿度依存性に優れた記録材料を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。 <1> 少なくとも、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物と、光ラジカル発生剤と、下記一般式
(I)で表されるチオール化合物と、を含有することを
特徴とする光重合性組成物。
【化4】 〔一般式(I)中、Rは、置換基を有してもよいアルキ
ル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、A
は、N=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は
6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに
置換基を有してもよい。〕 <2> 前記一般式(I)で表されるチオール化合物
が、下記一般式(II)で表されるチオール化合物であ
る前記<1>に記載の光重合性組成物である。
【化5】 〔一般式(II)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、
水素原子、置換基を有してよいアルキル基、又は置換基
を有してもよいアリール基を表し、該アルキル基とアリ
ール基とは互いに結合して環を形成してもよい。R
3は、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を
有してもよいアリール基を表す。〕 <3> 光ラジカル発生剤として、有機ホウ素化合物、
ロフィンダイマー化合物、トリハロメチル化合物、アジ
ニウム塩化合物、及びアシルホスフィンオキシド化合物
からなる群より選択される少なくとも1種を含有する前
記<1>または<2>に記載の光重合性組成物である。 <4> 前記有機ホウ素化合物が、下記一般式(A)で
表される化合物である前記<3>に記載の光重合性組成
物である。
【化6】 〔一般式(A)中、Ra 1、Ra 2、Ra 3、Ra 4は、それぞ
れ独立に脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はSi(Ra
5)(Ra 6)−Ra 7を表し、Ra 5、Ra 6、Ra 7は、それぞれ
独立に脂肪族基、芳香族基を表す。G+は、陽イオンを
形成し得る基を表す。〕 <5> 支持体上に記録層を有する記録材料であって、
前記記録層が前記<1>から<4>のいずれかに記載の
光重合性組成物を含むことを特徴とする記録材料であ
る。 <6> 支持体上に記録層を有してなり、該記録層が、
発色成分Aと、該発色成分Aと反応して発色させる部位
を有する発色成分Bと、前記<1>から<4>のいずれ
かに記載の光重合性組成物と、を少なくとも含有するこ
とを特徴とする記録材料である。 <7> エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物の少なくとも一つが発色成分Bである前記<6>に記
載の記録材料である。 <8> エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物が、同一分子内に前記発色成分AとBとの反応を抑制
する部位を有する発色抑制化合物である前記<6>に記
載の記録材料である。 <9> 発色成分Aが、マイクロカプセルに内包されて
いる前記<6>から<8>のいずれかに記載の記録材料
である。 <10> 中心波長λ1の光に感光する第1の記録層、
中心波長λ2の光に感光し第1の記録層と異なる色に発
色する第2の記録層、・・・、中心波長λiの光に感光
し第1、第2、・・・、及び第i−1の記録層と異なる
色に発色する第iの記録層の順に積層された多層構造を
有する前記<5>から<9>のいずれかに記載の記録材
料である。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の光重合性組成物において
は、少なくともエチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物と、光ラジカル発生剤と、下記一般式(I)で
表されるチオール化合物を含有することを特徴とする。
また、本発明の記録材料においては、支持体上の記録層
が、発色成分等と共に前記本発明の光重合性組成物を含
有することを特徴とする。以下、本発明の光重合性組成
物について説明し、該説明を通じて記録材料の詳細をも
明らかにする。
【0010】<光重合性組成物>本発明の光重合性組成
物は、少なくとも、エチレン性不飽和結合を有する重合
可能な化合物と、光ラジカル発生剤と、重合助剤として
下記一般式(I)で表されるチオール化合物と、を含有
してなり、必要に応じて、他の成分を含有していてもよ
い。
【0011】(エチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物)本発明の光重合性組成物は、エチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物(以下、「重合可能な
化合物」ということがある。)を含有する。前記重合可
能な化合物は、分子中に少なくとも1つのエチレン性不
飽和二重結合を有する重合性化合物であり、該重合可能
な化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜
選択することができるが、例えば、アクリル酸エステル
類、アクリルアミド類等のアクリル酸誘導体、アクリル
酸及びその塩、メタクリル酸エステル類、メタクリルア
ミド類等のメタクリル酸誘導体、メタクリル酸及びその
塩、無水マレイン酸、マレイン酸エステル類、イタコン
酸、イタコン酸エステル類、スチレン類、ビニルエーテ
ル類、ビニルエステル類、N−ビニル複素環類、アリル
エーテル類、アリルエステル類、などが挙げられる。
【0012】前記重合可能な化合物は、1個又は2個以
上のオレフィン性二重結合を含み、低分子量(モノマー
性)、高分子量(オリゴマー性)のいずれであってもよ
い。二重結合を含むモノマーとしては、例えば、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチ
ルメタクリレート又はエチルメタクリレート等のアルキ
ル若しくはヒドロキシアルキルアクリレート又はメタク
リレートなどが挙げられる。また、シリコンアクリレー
トも有利である。他の例としては、アクリロニトリル、
アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換された
(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニルのようなビニルエ
ステル、イソブチルビニルエーテルのようなビニルエー
テル、スチレン、アルキル−及びハロスチレン、N−ビ
ニルピロリドン、塩化ビニル又は塩化ビニリデンなどが
挙げられる。
【0013】二個、又はそれ以上の二重結合を含むモノ
マーの例としては、エチレングリコール、プロピレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレング
リコール又はビスフェノールAなどのジアクリレート、
及び4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエトキ
シ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート
又はテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニ
ルベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレー
ト、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレ
ート又はトリス(2−アクリロイルエチル)イソシアヌ
レート等が挙げられる。
【0014】比較的高分子量(オリゴマー性)の多不飽
和化合物の例としては、(メタ)アクリル基を有するエ
ポキシ樹脂、(メタ)アクリル基を有するポリエステ
ル、ビニルエーテル又はエポキシ基を含むポリエステ
ル、ポリウレタン及びポリエーテルが挙げられる。更
に、不飽和オリゴマーの例として、不飽和ポリエステル
樹脂であって、通常マレイン酸、フタル酸及び1種又は
それ以上のジオールから製造され、約500〜3000
の分子量を有するものが挙げられる。加えて、ビニルエ
ーテルモノマー及びオリゴマー、及びポリエステル、ポ
リウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテル及びエ
ポキシ主鎖を有するマレート終末されたオリゴマーを用
いることも可能である。特に適したものは、ビニルエー
テル基を有するオリゴマーとWO90/01512に記
載のポリマーの組合わせである。また、ビニルエーテル
及びマレイン酸官能化されたモノマーのコポリマーもま
た適している。この種の不飽和オリゴマーはプレポリマ
ーとして属することもできる。
【0015】特に適した例としては、エチレン性不飽和
カルボン酸及びポリオール又はポリエポキシドのエステ
ル、及び主鎖又は側鎖においてエチレン性不飽和基を有
するポリマー、例えば不飽和ポリエステル、ポリアミド
及びポリウレタン及びそれらのコポリマー、アルキド樹
脂、ポリブタジエン及びブタジエンコポリマー、ポリイ
ソプレン及びイソプレンコポリマー、側鎖において(メ
タ)アクリル基を含むポリマー及びコポリマー、並び
に、1種又はそれ以上のそのようなポリマーの混合物で
ある。
【0016】不飽和カルボン酸の例としては、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮
酸、及びリノール酸又はオレイン酸のような不飽和脂肪
酸等が挙げられる。中でも、アクリル酸、メタクリル酸
が好ましい。
【0017】適したポリオールとしては、芳香族及び、
特に脂肪族及び環式脂肪族ポリオールである。芳香族ポ
リオールの例としては、ヒドロキノン、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニル、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、ノボラック及びレゾルシンが挙げられ
る。ポリエポキシドの例としては、上記ポリオール、特
に芳香族ポリオール、及びエピクロロヒドリンをベース
とするものである。他の適したポリオールとしては、ポ
リマー鎖又は側鎖においてヒドロキシル基を含むポリマ
ー及びコポリマーであり、例えば、ポリビニルアルコー
ル及びそれらのコポリマー又はポリヒドロキシアルキル
メタアクリレート又はそれらのコポリマーである。適し
た更なるポリオールは、ヒドロキシル末端基を有するオ
リゴエステルである。
【0018】脂肪族及び環式脂肪族ポリオールの例とし
ては、好ましくは2〜12個の炭素原子を有するアルキ
レンジオール、例えば、エチレングリコール、1,2−
又は1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−又
は1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール;好まし
くは200〜1500の分子量を有するポリエチレング
リコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2
−、1,3−又は1,4−シクロヘキサンジオール、
1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロ
ール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメ
チロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール及びソルビトール
である。
【0019】ポリオールは、1種のカルボン酸で又は異
なる不飽和カルボン酸で部分的に又は完全にエステル化
されることができ、そして部分エステルにおいて遊離ヒ
ドロキシル基は変性されることができ、例えば他のカル
ボン酸でエーテル化又はエステル化され得る。
【0020】エステルとしては、例えば、以下のものが
挙げられる。即ち、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロー
ルエタントリメタクリレート、テトラメチレングリコー
ルジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ
アクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、
【0021】トリペンタエリスリトールオクタメタクリ
レート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ジペン
タエリスリトールトリスイタコネート、ジペンタエリス
リトールペンタイタコネート、ジペンタエリスリトール
ヘキサイタコネート、エチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,3−
ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオ
ールジイタコネート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトー
ル−変性トリアクリレート、ソルビトールテトラメタク
リレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレート
及びメタクリレート、グリセロールジアクリレート及び
トリアクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレ
ート、200〜1500の分子量を有するポリエチレン
グリコールのビスアクリレート及びビスメタクリレー
ト、又はそれらの混合物。
【0022】また、前記重合可能な化合物として適した
ものは、同一の又は異なる不飽和カルボン酸と、好まし
くは2〜6個、特に2〜4個のアミノ基を有する芳香
族、環式脂肪族及び脂肪族ポリアミンとのアミドであ
る。そのようなポリアミンの例としては、エチレンジア
ミン、1,2−又は1,3−プロピレンジアミン、1,
2−、1,3−又は1,4−ブチレンジアミン、1,5
−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、
オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジ
アミノシクロヘキサン、イソフォロンジアミン、フェニ
レンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミ
ノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、ジ(β−アミノエトキシ)−又はジ(β
−アミノプロポキシ)エタンである。その他、好ましく
は側鎖においてさらなるアミノ基を有するポリマー及び
コポリマー、及びアミノ末端基を有するオリゴアミドが
好適である。そのような不飽和アミドの例はメチレンビ
スアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリ
ルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミ
ド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−
メタクリルアミドエチルメタクリレート及びN−[(β
−ヒドロキシエトキシ)エチル]アクリルアミドなどで
ある。
【0023】適した不飽和ポリエステル及びポリアミド
は、例えば、マレイン酸から及びジオール又はジアミン
から誘導される。マレイン酸のいくつかは他のジカルボ
ン酸に置き換えることができる。それらはエチレン性不
飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用されるこ
とができる。ポリエステル及びポリアミドは、ジカルボ
ン酸から、エチレン性不飽和ジオール又はジアミンか
ら、特に相対的に長鎖、例えば、6〜20個の炭素原子
を有するものから誘導され得る。ポリウレタンの例とし
ては、飽和又は不飽和ジイソシアネート及び不飽和、又
はそれぞれ飽和のジオールから構成されるものが挙げら
れる。
【0024】ポリブタジエン及びポリイソプレン及びそ
れらのコポリマーは既知である。適したコモノマーの例
は、オレフィン、例えばエチレン、プロペン、ブテン及
びヘキセン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレン又は塩化ビニルである。側鎖において(メ
タ)アクリレート基を有するポリマーも同様に既知であ
る。例えば、ノボラックをベースとするエポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸との反応生成物として得ることがで
き、又はビニルアルコール若しくは(メタ)アクリル酸
とエステル化されたそのヒドロキシアルキル誘導体との
ホモ−若しくはコポリマーであることができ、又はヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレートでエステル化され
た(メタ)アクリレートのホモ−若しくはコポリマーで
あり得る。
【0025】前記重合可能な化合物は、光重合性組成物
の用途に応じて、その構造中に他の機能を発現する部位
を有する化合物であってもよく、例えば、光重合性組成
物を記録材料に利用する場合は、画像部を構成している
発色成分の発色反応を促進する部位や、発色を抑制する
部位を有していてもよい。これらについては後述する。
【0026】前記エチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物の含有量としては、光重合性組成物の全重量
中、通常、10〜99重量%であり、30〜95重量%
が好ましい。
【0027】(一般式(I)で表される化合物)本発明
においては、重合助剤として下記一般式(I)で表され
る化合物を含有する。
【0028】
【化7】
【0029】一般式(I)中、Rは、置換基を有しても
よいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基
を表し、Aは、N=C−N部分と共に炭素原子を有する
5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、
Aはさらに置換基を有してもよい。
【0030】前記一般式(I)中、Rがアルキル基を表
す場合、該アルキル基としては、直鎖状でも分岐状でも
よく、炭素数3〜20が好ましく、5〜16がより好ま
しい。炭素数を3以上とすることにより、疎水性が高め
られ湿度依存性が軽減できる。これは、湿度に依存した
メルカプト基の解離が抑制されることによると推測され
る。また、水系バインダーを用いた場合や、水系保護層
を積層した場合などでは、バインダー、保護層への拡散
・溶解が起こり湿度依存性、生保存性が悪化するのを防
止することができる。。このようなアルキル基として
は、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキ
サデシル基、オクタデシル基等が挙げられ、中でも、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基が特に好ましい。また、該アルキル基が置換基を有
する場合、該置換基としては、アルキル基、アルケニル
基、アリール基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル
基等が挙げられる。
【0031】前記一般式(I)中、Rがアリール基を表
す場合、該アリール基としては、炭素数6〜14が好ま
しく、6〜10がより好ましい。このようなアリール基
としては、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。
また、該アリール基が置換基を有する場合、該置換基と
しては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヒド
ロキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、アリーロキシ、アシル基等が挙げられる。
【0032】前記一般式(I)中、Aで表される5員環
又は6員環のヘテロ環は、窒素原子、硫黄原子、及び酸
素原子のいずれかを含んでもよい。また、Aが置換基を
有する場合、該置換基としては、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ
基、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アシル基、スルホニ
ル基、スルホニルアミノ基等が挙げられる。
【0033】前記一般式(I)で表されるチオール化合
物の中でも、より疎水性が高められ、湿度依存性、生保
存性が少ない点で、下記一般式(II)で表されるチオ
ール化合物が好ましい。
【0034】
【化8】
【0035】一般式(II)中、R1及びR2は、それぞ
れ独立に、水素原子、置換基を有してよいアルキル基、
又は置換基を有してもよいアリール基を表し、該アルキ
ル基とアリール基とは互いに結合して環を形成してもよ
い。R3は、置換基を有してもよいアルキル基、又は置
換基を有してもよいアリール基を表す。
【0036】前記一般式(II)中、R1、R2がアルキ
ル基を表す場合、該アルキル基としては、直鎖状でも分
岐状でもよく、炭素数1〜20が好ましく、1〜12が
より好ましい。このようなアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等が挙げられ
る。また、該アルキル基が置換基を有する場合、該置換
基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基等が挙げられ
る。
【0037】前記一般式(II)中、R1、R2がアリー
ル基を表す場合、該アリール基としては、炭素数6〜1
4が好ましく、6〜10がより好ましい。このようなア
リール基としては、フェニル基、α−ナフチル基、β−
ナフチル基等が挙げられる。また、該アリール基が置換
基を有する場合、該置換基としては、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シア
ノ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、
アシル基等が挙げられる。
【0038】前記一般式(II)中、R3で表されるア
ルキル基、アリール基としては、前記一般式(1)のR
で表されるアルキル基、アリール基と同義であり、好ま
しい例も同様である。
【0039】以下に、前記一般式(I)、(II)で表
される化合物の具体例(例示化合物(1)〜(27))
を示すが、本発明においてはこれらに限定されるもので
はない。
【0040】
【化9】
【0041】
【化10】
【0042】
【化11】
【0043】
【化12】
【0044】(光ラジカル発生剤)本発明の光重合性組
成物においては、前記分光増感色素と相互作用してラジ
カルを発生しうる光ラジカル発生剤を含有する。この光
ラジカル発生剤を前記分光増感色素と共存させることに
より、その分光吸収波長領域の照射光に敏感に感応し、
高効率にラジカルを発生させうることから高感度化が図
れ、かつ可視光〜赤外光領域にある任意の光源を用いて
ラジカルの発生を制御することができる。前記光ラジカ
ル発生剤は、前記光重合性組成物に含有される重合可能
な化合物の重合を開始し得る光ラジカル発生剤の中か
ら、1種又は2種以上を選択して使用することができ
る。
【0045】前記光ラジカル発生剤としては、ベンゾフ
ェノン、カンファーキノン、4,4−ビス(ジメチルア
ミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチル
アミノベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフ
ェノン、4−ジメチルアミノベンゾフェノン、4−ジメ
チルアミノアセトフェノン、ベンジルアントラキノン、
2−tert−ブチルアントラキノン、2−メチルアン
トラキノン、キサントン、チオキサントン、2−クロル
チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、フ
ルオレノン、アクリドン、ビス(2,4,6−トリメチ
ルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド等のビス
アシルホスフィンオキシド類、Lucirin TPO
等のアシルホスフィンオキシド類、α−ヒドロキシ又は
α−アミノアセトフェノン類、α−ヒドロキシシクロア
ルキルフェニルケトン類、ジアルコキシアセトフェノン
類等の芳香族ケトン類;
【0046】ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル等のベンゾイン及びベンゾイン
エーテル類;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニ
ル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾー
ル二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾール二量体等の2,4,6−トリアリールイミダゾー
ル二量体、その他米国特許第3784557号、同42
52887号、同4311783号、同4459349
号、同4410621号、同4622286号等に記載
のロフィンダイマー化合物;
【0047】四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルス
ルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等のポリハロ
ゲン化合物;特開昭59−133428号、特公昭57
−1819号、特公昭57−6096号、米国特許第3
615455号に記載の化合物;
【0048】2,4,6−トリス(トリクロロメチル)
−S−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(P−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−S−トリアジン等の特開昭58−29803
号記載のトリハロゲン置換メチル基を有するS−トリア
ジン誘導体(トリハロメチル化合物);
【0049】メチルエチルケトンパーオキサイド、シク
ロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキ
サイド、ジターシャリ−ブチルジパーオキシイソフタレ
ート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパー
オキシ)ヘキサン、ターシャリ−ブチルパーオキシベン
ゾエート、a,a’−ビス(ターシャリ−ブチルパーオ
キシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイ
ド、3,3’,4,4’−テトラ−(ターシャリイブチ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等の特開昭5
9−189340号記載の有機過酸化物;
【0050】米国特許第4743530号に記載のアジ
ニウム塩化合物;有機ホウ素化合物;フェニルグリオキ
サル酸メチルエステル等のフェニルグリオキサル酸エス
テル類;ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1
−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピ
ロール−1−イル)−フェニル)チタニウム等のチタノ
セン類;η5−シクロペンタジエニル−η6−クメニル−
アイアン(1+)−ヘキサフルオロホスフェイト(1
−)等の鉄アレン錯体;ジフェニルヨードニウム塩等の
ジアリールヨードニウム塩類;トリフェニルスルホニウ
ム塩等のトリアリールスルホニウム塩類等が挙げられ
る。
【0051】上記ラジカル発生剤のより詳細な化合物
例、及びその他別の種類のラジカル発生剤の例として
は、特開平10−45816号公報の段落[0067]
〜[0132]に記載のものを挙げることができる。
【0052】また、前記ラジカル発生剤としては、二種
以上の化合物の組合わせからなる材料を使用することも
できる。例えば、2,4,5−トリアリールイミダゾー
ル二量体とメルカプトベンズオキサゾール等との組合
せ、米国特許第3427161号明細書に記載の4,
4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンとベンゾ
フェノンとベンゾインメチルエーテルとの組合せ、米国
特許第4239850号明細書に記載のベンゾイル−N
−メチルナフトチアゾリンと2,4−ビス(トリクロロ
メチル)−6−(4’−メトキシフェニル)−トリアゾ
ールとの組合せ、特開昭57−23602号公報に記載
のジアルキルアミノ安息香酸エステルとジメチルチオキ
サントンとの組合せ、特開昭59−78339号公報に
記載の4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ンとベンゾフェノンとポリハロゲン化メチル化合物との
三種組合わせ、等が挙げられる。
【0053】二種以上を組合せてなるラジカル発生剤の
場合、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンとベンゾフェノンとの組合せ、2,4−ジエチルチオ
キサントンと4−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの組
合せ、又は4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノンと2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体
との組合せを用いるのが好ましい。
【0054】上記ラジカル発生剤のうち、露光領域に、
色素と相互作用し効果的にラジカルを発生させることが
でき、より高感度化しうる点で、有機ホウ素化合物、ジ
アリールヨードニウム塩、鉄アレン錯体、トリハロゲン
置換メチル基を有するS−トリアジン誘導体、有機過酸
化物、チタノセン、2,4,5−トリアリールイミダゾ
ール二量体、又はアジニウム塩化合物が好ましく、有機
ホウ素化合物は特に好ましい。該有機ホウ素化合物は、
分光増感化合物として分光増感色素を使用した場合で
も、光照射して画像定着する際に共存する分光増感色素
を良好に消色できる点で好ましい。また、該有機ホウ素
化合物は、前述のラジカル発生剤と併用してもよい。
【0055】有機ホウ素化合物としては、後述の一般式
(A)で表される化合物、及び「機能性色素の化学」
(1981年、CMC出版社、p.393〜p.416)や
「色材」(60〔4〕212−224(1987))等
に記載のカチオン性色素をカチオン部として構造内に有
する分光増感色素系有機ホウ素化合物も挙げられる。こ
の分光増感色素系有機ホウ素化合物としては、特開昭6
2−143044号、特開平1−138204号、特表
平6−505287号、特開平4−261406号等に
記載の化合物が挙げられる。
【0056】前記分光増感色素系有機ホウ素化合物のカ
チオン部を構成している色素としては、300nm以上
の波長領域、好ましくは400〜1100nmの波長領
域に最大吸収波長を有するカチオン性色素を用いること
ができる。中でも、カチオン性のメチン色素、ポリメチ
ン色素、トリアリールメタン色素、インドリン色素、ア
ジン色素、キサンテン色素、シアニン色素、ヘミシアニ
ン色素、ローダミン色素、アゾメチン色素、オキサジン
色素又はアクリジン色素等が好ましく、カチオン性のシ
アニン色素、ヘミシアニン色素、ローダミン色素又はア
ゾメチン色素がより好ましい。
【0057】上記有機ホウ素化合物の中でも、下記一般
式(A)で表される化合物が好ましい。
【化13】
【0058】一般式(A)中、Ra 1、Ra 2、Ra 3及びR
a 4は、それぞれ独立に脂肪族基、芳香族基、複素環基、
又はSi(Ra 5)(Ra 6)−Ra 7を表す。Ra 1〜Ra 4が脂肪
族基を表す場合、該脂肪族基としては、例えば、アルキ
ル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基、
又は置換アラルキル基等が挙げられ、中でも、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アラルキル基、又は置換アラルキル基が好ましく、
アルキル基、置換アルキル基が特に好ましい。また、前
記脂肪族基は、環状脂肪族基でも鎖状脂肪族基でもよ
い。鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。
【0059】前記アルキル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素
原子数としては、1〜30が好ましく、1〜20がより
好ましい。また、該アルキル基は、置換基を有する置換
アルキル基、無置換のアルキル基のいずれであってもよ
く、置換アルキル基のアルキル部分の炭素原子数の好ま
しい範囲はアルキル基の場合と同様である。前記アルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、ネ
オペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロ
ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、デシ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。
【0060】前記置換アルキル基の置換基としては、カ
ルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例
えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシ
基、炭素数30以下のアルコキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基)、炭素数30以下のアルキ
ルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニル
アミノカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、炭素数30以下のアシルアミノスルホニ
ル基、炭素数30以下のアルコキシ基(例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキ
シ基等)、炭素数30以下のアルキルチオ基(例えば、
メチルチオ基、エチルチオ基、メチルチオエチルチオエ
チル基等)、炭素数30以下のアリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、1−ナフトキ
シ基、2−ナフトキシ基等)、ニトロ基、炭素数30以
下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基、
【0061】炭素数30以下のアシルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等)、炭
素数30以下のアシル基(例えば、アセチル基、プロピ
オニル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例え
ば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル
基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基
等)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル基、
N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホ
ニル基、ピペリジノスルホニル基等)、炭素数30以下
のアリール基(例えば、フェニル基、4−クロロフェニ
ル基、4−メチルフェニル基、α−ナフチル基等)、置
換アミノ基(例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジ
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミ
ノ基、アシルアミノ基等)、置換ウレイド基、置換ホス
ホノ基、複素環基等が挙げられる。ここで、カルボキシ
ル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩の状
態であってもよい。その際、塩を形成するカチオンとし
ては、後述のG+等が挙げられる。
【0062】前記アルケニル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルケニル基が挙げられ、該アルケニル基の
炭素原子数としては、2〜30が好ましく、2〜20が
より好ましい。また、該アルケニル基は、置換基を有す
る置換アルケニル基、無置換のアルケニル基のいずれで
あってもよく、置換アルケニル基のアルケニル部分の炭
素原子数の好ましい範囲はアルケニル基の場合と同様で
ある。前記置換アルケニル基の置換基としては、前記置
換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【0063】前記アルキニル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルキニル基が挙げられ、該アルキニル基の
炭素原子数としては、2〜30が好ましく、2〜20が
より好ましい。また、該アルキニル基は、置換基を有す
るアルキニル基、無置換のアルキニル基のいずれであっ
てもよく、置換アルキニル基のアルキニル部分の炭素原
子数の好ましい範囲はアルキニル基の場合と同様であ
る。置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アル
キル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【0064】前記アラルキル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の
炭素原子数としては、7〜35が好ましく、7〜25が
より好ましい。また、該アラルキル基は、置換基を有す
るアラルキル基、無置換のアラルキル基のいずれであっ
てもよく、置換アラルキル基のアラルキル部分の炭素原
子数の好ましい範囲はアラルキル基の場合と同様であ
る。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アル
キル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【0065】前記Ra 1〜Ra 4が芳香族基アルキル基を表
す場合、該芳香族基としては、例えば、アリール基、置
換アリール基が挙げられる。アリール基の炭素原子数と
しては、6〜30が好ましく、6〜20がより好まし
い。置換アリール基のアリール部分の好ましい炭素原子
数の範囲としては、アリール基と同様である。前記アリ
ール基としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル
基、β−ナフチル基等が挙げられる。置換アリール基の
置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置
換基が挙げられる。
【0066】Ra 1〜Ra 4が複素環基を表す場合、該複素
環基としては、置換基を有する複素環基、無置換の複素
環基が挙げられる。置換基を有する複素環基の置換基と
しては、Ra 1〜Ra 4が置換アリール基を表す場合に例示
した置換基と同様の置換基が挙げられる。中でも、Ra 1
〜Ra 4が表す複素環基としては、フラン環、ピロール
環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、
ピリジン環等の窒素原子、硫黄原子、又は酸素原子を含
む複素環基が好ましい。
【0067】Ra 1〜Ra 4が−Si(Ra 5)(Ra 6)−Ra 7
表す場合、Ra 5、Ra 6及びRa 7は、それぞれ独立に脂肪
族基、芳香族基を表す。該脂肪族基、芳香族基は、Ra 1
〜R a 4が表す前記脂肪族基、芳香族基と各々同義であ
り、好ましい例も同様である。
【0068】前記一般式(A)中、Ra 1、Ra 2、Ra 3
及びRa 4のうちの2以上が直接又は置換基を介して連結
し、環を形成していてもよい。環を形成している場合、
該環としては、下記の(C1)〜(C3)の環より選ば
れるいずれかの環が好ましく、中でも、(C2)の環が
好ましい。
【0069】
【化14】
【0070】前記(C1)における環において、R
bは、以下に示す2価の基を表す。
【化15】
【0071】前記一般式(A)で表される有機ホウ素化
合物の中でも、そのRa 1〜Ra 4の少なくとも1つがアル
キル基であるものが好ましく、高感度化と保存性の向上
の観点から、1つがアルキル基であり、他の3つがアリ
ール基であるトリアリールアルキル型の有機ホウ素化合
物が更に好ましい。特に、アリール基に電子吸引性基が
置換したトリアリールアルキル型の有機ホウ素化合物が
好ましく、中でも、3つのアリール基上の置換基(電子
吸引性基)のHammet(σ)値の合計が+0.36
〜+2.58のものがより好ましい。前記電子吸引性基
としては、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基が好ま
しく、特にフッ素原子、塩素原子がより好ましい。
【0072】電子吸引性基が置換したアリール基として
は、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル
基、2−フルオロフェニル基、3−クロロフェニル基、
4−クロロフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニ
ル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、3,5−ジ
フルオロフェニル基、4−ブロモフェニル基、3,4−
ジフルオロフェニル基、5−フルオロ−2−メチルフェ
ニル基、5−フルオロ−4−メチルフェニル基、5−ク
ロロ−2−メチルフェニル基、5−クロロ−4−メチル
フェニル基等が挙げられる。
【0073】前記一般式(A)のアニオン部としては、
例えば、テトラメチルボレート、テトラエチルボレー
ト、テトラブチルボレート、トリイソブチルメチルボレ
ート、ジ−n−ブチル−ジ−t−ブチルボレート、トリ
−m−クロロフェニル−n−ヘキシルボレート、トリフ
ェニルメチルボレート、トリフェニルエチルボレート、
トリフェニルプロピルボレート、トリフェニル−n−ブ
チルボレート、トリメシチルブチルボレート、トリトリ
ルイソプロピルボレート、トリフェニルベンジルボレー
ト、テトラ−m−フルオロベンジルボレート、トリフェ
ニルフェネチルボレート、トリフェニル−p−クロロベ
ンジルボレート、トリフェニルエテニルブチルボレー
ト、ジ(α−ナフチル)−ジプロピルボレート、トリフ
ェニルシリルトリフェニルボレート、トリトルイルシリ
ルトリフェニルボレート、トリ−n−ブチル(ジメチル
フェニルシリル)ボレート、ジフェニルジヘキシルボレ
ート、トリ−m−フルオロフェニルヘキシルボレート、
トリ(5−クロロ−4−メチルフェニル)ヘキシルボレ
ート、トリ−m−フルオロフェニルシクロヘキシルボレ
ート、トリ−(5−フルオロ−2−メチルフェニル)ヘ
キシルボレート等が挙げられる。
【0074】前記一般式(A)中、G+は陽イオンを形
成し得る基を表す。中でも、有機カチオン性化合物、遷
移金属配位錯体カチオン(特許2791143号公報に
記載の化合物等)又は金属カチオン(例えば、Na+
+、Li+、Ag+、Fe2+、Fe3+、Cu+、Cu2+
Zn2+、Al3+、1/2Ca2+等)が好ましい。前記有
機カチオン性化合物としては、例えば、4級アンモニウ
ムカチオン、4級ピリジニウムカチオン、4級キノリニ
ウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカ
チオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等が挙げ
られる。
【0075】前記4級アンモニウムカチオンとしては、
テトラアルキルアンモニウムカチオン(例えば、テトラ
メチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウ
ムカチオン)、テトラアリールアンモニウムカチオン
(例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン)等が
挙げられる。前記4級ピリジニウムカチオンとしては、
N−アルキルピリジニウムカチオン(例えば、N−メチ
ルピリジニウムカチオン)、N−アリールピリジニウム
カチオン(例えば、N−フェニルピリジニウムカチオ
ン)、N−アルコキシピリジニウムカチオン(例えば、
4−フェニル−N−メトキシ−ピリジニウムカチオ
ン)、N−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げら
れる。前記4級キノリニウムカチオンとしては、N−ア
ルキルキノリニウムカチオン(例えば、N−メチルキノ
リニウムカチオン)、N−アリールキノリニウムカチオ
ン(例えば、N−フェニルキノリニウムカチオン)等が
挙げられる。前記ホスホニウムカチオンとしては、テト
ラアリールホスホニウムカチオン(例えば、テトラフェ
ニルホスホニウムカチオン)等が挙げられる。前記ヨー
ドニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカ
チオン(例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン)等
が挙げられる。前記スルホニウムカチオンとしては、ト
リアリールスルホニウムカチオン(例えば、トリフェニ
ルスルホニウムカチオン)等が挙げられる。
【0076】更に、前記G+の具体的な例として、特開
平9−188686号公報の段落[0020]〜[00
38]に記載の化合物等も挙げることができる。
【0077】上記に例示した各カチオン性化合物(例示
化合物)において、そのアルキル基としては、炭素数が
1〜30のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基等の無置換アルキル基や、Ra 1〜Ra 4が表す前
記置換アルキル基が好ましい。中でも特に、炭素数1〜
12のアルキル基が好ましい。また、上記に例示した各
カチオン性化合物において、そのアリール基としては、
例えば、フェニル基、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子)置換フェニル基、アルキル(例えば、メチル基)置
換フェニル基、アルコキシ(例えば、メトキシ基)置換
フェニル基が好ましい。
【0078】前記一般式(A)で表される有機ホウ素化
合物の具体例としては、米国特許第3,567,453
号明細書、同4,343,891号明細書、特開昭62
−143044号公報、特開昭62−150242号公
報、特開平9−188684号公報、特開平9−188
685号公報、特開平9−188686号公報、特開平
9−188710号公報、特公平8−9643号公報、
特開平11−269210号公報に記載されている化合
物、及び以下に例示する化合物が挙げられる。有機ホウ
素化合物は、後述のラジカル発生剤と併用してもよい。
但し、本発明に用いられる前記有機ホウ素化合物は、こ
れに限定されるものではない。
【0079】
【化16】
【0080】
【化17】
【0081】
【化18】
【0082】
【化19】
【0083】
【化20】
【0084】光重合性組成物において、ラジカル発生剤
の含有量としては、前記エチレン性不飽和結合を有する
重合可能な化合物の含有量に対して、0.01〜20重
量%が好ましく、0.1〜10重量%がより好ましい。
但し、好ましい範囲は、併用する「エチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物」の種類に応じて変動する
ので、これに限定されるものではない。
【0085】(他の成分)本発明の光重合性組成物にお
いては、効果を害しない範囲内で、目的に応じてその他
の成分として適宜選択した公知の添加剤等を含有しても
よい。前記その他の成分としては、例えば、光重合開始
剤、酸素除去剤、熱重合阻害剤、紫外線吸収剤、蛍光増
白剤、連鎖移動剤、酸化防止剤等、及びこれらのプレカ
ーサー等が挙げられ、これらは、光重合性組成物の全重
量基準で、0.01〜20重量%添加されるのが好まし
く、0.2〜15重量%添加されるのがより好ましく、
0.5〜10重量%添加されるのが特に好ましい。
【0086】前記連鎖移動剤や酸化防止剤等の添加剤の
具体例としては、特開平10−45816号公報の段落
[0135]〜[0141]、特開平9−188686
号公報の段落[0087]〜[0096]、特開平10
−182621号公報の段落[0079]〜[011
8]、特開平9−95487号公報の段落[0080]
〜[0089]等が挙げられ、更に特開平1−1314
0号、同1−13141号、同1−13143号、同1
−13144号、同1−17048号、同1−2290
03号、同1−298348号、同10−138638
号、同11−269210号、同2−187762号等
の各公報に記載の化合物が挙げられる。
【0087】本発明の光重合性組成物には、バインダを
含有することもできる。特に、光重合性組成物が液体又
は粘稠物質である場合に都合がよい。前記バインダの含
有量としては、総固形分含有量に対して、5〜95重量
%が好ましく、10〜90重量%がより好ましく、15
〜85重量%が最も好ましい。前記バインダの選択は、
適用分野及びその分野のために必要とされる特性、例え
ば、水系若しくは有機溶媒系における現像能力、基材へ
の接着及び酸素への感度に依存してなされる。
【0088】前記バインダとしては、約5000〜20
00000、好ましくは10000〜1000000の
分子量を有するポリマーが望ましい。例えば、アクリレ
ート及びメタクリレートのホモ若しくはコポリマー(例
えば、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メ
タクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリレー
ト)、ポリ(アルキルアクリレート)等)、セルロース
エステル又はセルロールエーテル(例えば、セルロース
アセテート、セルロースアセトブチレート、メチルセル
ロース、エチルセルロース等)、ポリビニルブチラル、
ポリビニルホルマル、環化ゴム、ポリエーテル(例え
ば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、
ポリテトラヒドロフラン)、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル/ビニリデンコポリマー、塩化ビ
ニリデンとアクリロニトリルのコポリマー、メチルメタ
クリレート、酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、コポリ(エ
チレン/酢酸ビニル)、ポリカプロラクタム、ポリ(ヘ
キサメチレンアジパミド)、ポリエステル(例えば、ポ
リ(エチレングリコールテレフタレート)、ポリ(ヘキ
サメチレングリコールスクシネート)等)、ポリアミ
ド、ポリウレアなどが挙げられる。
【0089】また、ゼラチン類、(変性)ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、スチレン−マレイン
酸共重合体加水分解物、ポリスチレンスルホン酸ソー
ダ、アルギン酸ソーダ等の水溶性高分子も挙げられる。
更に、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロ
ニトリル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチ
ル−ブタジエンゴムラテックス等のラテックス類を用い
てもよい。
【0090】不飽和化合物も、非光重合性フィルム形成
成分との混合物として使用でき、例えば、物理的に乾燥
したポリマー、又は有機溶媒中のポリマー溶液であっ
て、例えば、ニトロセルロース、又はセルロースアセト
ブチレートが挙げられる。しかし、それらは化学的に、
及び/又は、熱的に硬化性(熱硬化性)樹脂、例えば、
ポリイソシアネート、ポリエポキシド、メラミン樹脂、
並びに、ポリイミド前駆体であってもよい。同時に熱硬
化性樹脂を使用することは、第一段階において光重合さ
れそして第二段階において熱後処理によって架橋される
ハイブリッド系として既知である系における使用のため
に重要である。また、重合性基を有するバインダも使用
可能である。
【0091】その他、添加剤の例としては、特開平11
−269210号公報に記載のものを挙げることができ
る。
【0092】画像様に露光する際に使用可能な光源とし
ては、可視〜赤外領域に光源波長を有する公知の光源の
中から適宜選択することができ、中でも、最大吸収波長
が300〜1000nmの光源が好ましく、装置の簡易
小型化、低コスト化の点で、青色、緑色、赤色等の(半
導体)レーザー光源又はLEDがより好ましい。尚、よ
り高い感度を得るには、分光増感色素等の光吸収材料の
吸収波長に適合した波長を持つ光源を適宜選択すること
が好ましい。一方、前記光重合性組成物、及び後述する
記録材料の消色の際に使用可能な光源としては、光重合
性組成物の吸収波長に適合した波長を有する光源を適宜
選択することがより好ましい。具体的には、水銀灯、超
高圧水銀灯、無電極放電型水銀灯、キセノンランプ、タ
ングステンランプ、メタルハライドランプ、(半導体)
レーザー光源、LED、蛍光灯等の幅広い光源が好適に
挙げられる。
【0093】本発明の光重合性組成物は、重合助剤とし
て、一般式(I)で表されるチオール化合物を含有させ
ることにより、記録材料に適用した場合、従来のように
ビニルスルホン系の硬膜剤と反応することがないため、
保存性を向上させることができる。また、水溶性の高い
化合物と併用する場合であっても、油溶性基を有する一
般式(I)で表されるチオール化合物により湿度による
悪影響を防止することができる。
【0094】<記録材料>本発明の記録材料は、支持体
上に記録層を有してなり、かつ該記録層が、発色成分A
と、該発色成分Aと反応して発色させる部位を有する発
色成分Bと、既述の本発明の光重合性組成物と、を少な
くとも含有してなり、必要に応じて、下引き層、中間
層、光吸収層、保護層、バックコート層等の他の層を有
していてもよい。
【0095】本発明の記録材料の基本的な構成態様とし
ては、特に制限されるものではなく適宜目的に応じて構
成することができる。基本的態様として、例えば、本発
明の記録材料を、発色成分Aが熱応答性のマイクロカプ
セルに内包された、ポジ型の感光感熱記録材料に適用し
た場合の画像形成を一例に示す。即ち、本態様のポジ型
の感光感熱記録材料では、画像様に光を照射すると、光
照射部の光重合性組成物に含まれるラジカル発生剤から
ラジカルが発生すると共に前記重合可能な化合物の重合
反応が開始され硬化して、光重合性組成物はその場に固
定され、潜像が形成される。前記マイクロカプセルは常
温下では物質非透過性であり、マイクロカプセルに内包
される発色成分Aと該発色成分Aと反応して発色させる
部位を分子内に有する発色成分Bとは接触せず、非発色
状態にある。
【0096】その後、感光感熱記録材料の全面に熱を供
与されると、マイクロカプセルが物質透過性に転移して
非光照射部の発色成分Bはマイクロカプセル内に浸透し
(及び/又は発色成分Aがマイクロカプセル外に放出さ
れ)、発色成分AとBとが反応して、非光照射部におい
てのみ発色する。一方、光照射部においては、光重合性
組成物が重合反応して硬化、固定された状態にあるた
め、発色成分A及びBは共に不動化されて接触しえず、
光照射部では発色しない。その後、さらに前記感光感熱
記録材料を全面露光することにより未重合であった領域
も重合し(定着)、かつ光重合性組成物に含有される色
素成分を消色することができる。
【0097】また、本発明の記録材料は、下記に示す態
様(第一及び第二の態様)の記録材料であってもよく、
その画像形成方法も各態様に応じて適宜選択できる。即
ち、第一の態様の記録材料は、光重合性組成物中に含ま
れる重合可能な化合物の少なくとも一つが、前記発色成
分B自体である態様であって、記録層は、発色成分A
と、該発色成分Aを発色させる発色成分Bを含む本発明
の光重合性組成物とを少なくとも含有してなる。ここ
で、上述した基本的態様のポジ型の感光感熱記録材料を
例に当てはめると、発色成分Bは、既述の通り、発色成
分Aを発色させる部位を有すると共にエチレン性不飽和
結合をも有し、画像様に光照射すると、該発色成分Bが
重合反応を開始し硬化して、該発色成分Bはその場で固
定され潜像を形成する。従って、光照射部では、発色成
分Bは不動化されて発色成分Aと接触できず、光照射部
では発色しない。
【0098】本発明の第二の態様の記録材料は、その記
録層が、発色成分Aと、該発色成分Aと反応して発色さ
せる発色成分Bと、前記本発明の光重合性組成物とを少
なくとも含有し、前記光重合性組成物に含まれるエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物(重合可能な
化合物)が、同一分子内に前記発色成分Aと発色成分B
との反応を抑制する部位(反応抑制部位)を有する発色
抑制化合物である態様である。
【0099】第二の態様の記録材料を、発色成分Aが熱
応答性のマイクロカプセルに内包された、ネガ型の感光
感熱記録材料に適用した場合の画像形成を一例として以
下に示す。本態様のネガ型の感光感熱記録材料において
は、上記第一の態様と同様、マイクロカプセルは常温下
では物質非透過性であり、発色成分AとBとは接触せ
ず、非発色状態にある。この感光感熱記録材料に対して
画像様に光を照射すると、光照射部の重合可能な化合物
の重合反応が開始し硬化して、重合可能な化合物はその
場に固定され潜像が形成される。その後、感光感熱記録
材料の全面に熱が供与されると、マイクロカプセルが物
質透過性に転移して発色成分Bはマイクロカプセル内に
浸透する(及び/又は発色成分Aがマイクロカプセル外
に放出される)が、それと同時に、非光照射部では重合
可能な化合物も発色抑制化合物としてマイクロカプセル
内に浸透し、発色成分AとBとの発色反応は抑制され
る。従って、非光照射部は非発色状態に維持される。一
方、光照射部の重合可能な化合物(発色抑制化合物)
は、重合反応によりその場に固定されているので、発色
成分A及びBの反応には関与せず発色反応が進行し、光
照射部においてのみ発色する。その後、前記感光感熱記
録材料を全面露光することにより、光重合性組成物に含
有される色素を消色することができる。
【0100】本発明の記録材料による画像形成に用いる
光源としては、前記本発明の光重合性組成物の露光に使
用可能な光源と同様の光源を用いることができる。以下
に、本発明の記録材料に用いる構成成分について説明す
る。 (光重合性組成物)前記光重合性組成物は、1)エチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物(重合可能な
化合物)、2)消色可能なシアニン系有機色素(分光増
感色素)、3)該色素と相互作用してラジカルを発生し
得るラジカル発生剤を含有してなり、必要に応じて、
4)他の成分を含有していてもよく、本発明の記録材料
においては、上述した本発明の光重合性組成物を用い
る。前記光重合性組成物に光を照射すると、前記分光増
感色素が光を吸収して前記ラジカル発生剤と相互作用
し、ラジカル発生剤はラジカルを発生する。このラジカ
ルによって、前記重合可能な化合物がラジカル重合して
硬化し像形成する。
【0101】前記重合可能な化合物の詳細については、
既述の通りであり、光重合性組成物中に複数種含有させ
ることもできる。前記第一の態様の記録材料のように、
その少なくとも一つが、発色成分Aを発色させる部位を
有する発色成分Bであってもよく、後述のように同一分
子内にエチレン性不飽和結合(重合性基)を有する発色
成分を用いる。一方、前記第二の態様の記録材料のよう
に、重合可能な化合物は、発色抑制化合物としての機能
をも兼ねるものであってもよく、同一分子内に、発色成
分Aと該発色成分Aを発色させる発色成分Bとの反応を
抑制する部位を有する重合性化合物を用いる。これらの
重合可能な化合物については、記録層中に含有される発
色成分(A及びB)等とともに後述する。
【0102】記録層中における、前記光重合性組成物の
含有量としては、0.1〜50g/m2が好ましく、1
〜30g/m2がより好ましい。
【0103】(発色成分)本発明の記録材料において
は、記録層は、光重合性組成物と共に、発色源として前
記発色成分Aと発色成分Bとを含有する。前記第一の態
様の記録材料の場合には、光重合性組成物と共に発色成
分Aを含有し、該光重合性組成物側に重合可能な化合物
として含まれる発色成分Bが前記発色成分Aと反応して
発色する。画像部を構成する発色源としての発色成分A
と発色成分Bとの組合わせとしては、下記(ア)〜
(テ)の組合わせが挙げられる。尚、下記組合わせは、
発色成分A、発色成分Bの順に示した。
【0104】(ア)電子供与性染料前駆体と電子受容性
化合物との組合せ。 (イ)ジアゾ化合物とカップリング成分(以下、適宜
「カプラー化合物」と称する。)との組合せ。 (ウ)ベヘン酸銀、ステアリン酸銀等の有機酸金属塩
と、プロトカテキン酸、スピロインダン、ハイドロキノ
ン等の還元剤との組合せ。 (エ)ステアリン酸第二鉄、ミリスチン酸第二鉄等の長
鎖脂肪酸鉄塩と、タンニン酸、没食子酸、サリチル酸ア
ンモニウム等のフェノール類との組合せ。 (オ)酢酸、ステアリン酸、パルミチン酸等のニッケ
ル、コバルト、鉛、銅、鉄、水銀、銀塩のような有機酸
重金属塩と、硫化カルシウム、硫化ストロンチウム、硫
化カリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属硫化
物との組合せ、又は前記有機酸重金属塩と、s−ジフェ
ニルカルバジド、ジフェニルカルバゾン等の有機キレー
ト剤との組合せ。
【0105】(カ)銀、鉛、水銀、ナトリウム等の硫酸
塩等の重金属硫酸塩と、ナトリウムテトラチオネート、
チオ硫酸ソーダ、チオ尿素等の硫黄化合物との組合せ。 (キ)ステアリン酸第二鉄等の脂肪族第二鉄塩と、3,
4−ヒドロキシテトラフェニルメタン等の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物との組合せ。 (ク)シュウ酸銀、シュウ酸水銀等の有機酸金属塩と、
ポリヒドロキシアルコール、グリセリン、グリコール等
の有機ポリヒドロキシ化合物との組合せ。 (ケ)ペラルゴン酸第二鉄、ラウリン酸第二鉄等の脂肪
酸第二鉄塩と、チオセシルカルバミドやイソチオセシル
カルバミド誘導体との組合せ。 (コ)カプロン酸鉛、ペラルゴン酸鉛、ベヘン酸鉛等の
有機酸鉛塩と、エチレンチオ尿素、N−ドデシルチオ尿
素等のチオ尿素誘導体との組合せ。
【0106】(サ)ステアリン酸第二鉄、ステアリン酸
銅等の高級脂肪族重金属塩とジアルキルジチオカルバミ
ン酸亜鉛との組合せ。 (シ)レゾルシンとニトロソ化合物との組合せのような
オキサジン染料を形成するもの。 (ス)ホルマザン化合物と還元剤及び/又は金属塩との
組合せ。 (セ)保護された色素(又はロイコ色素)プレカーサと
脱保護剤との組合せ。 (ソ)酸化型発色剤と酸化剤との組合せ。 (タ)フタロニトリル類とジイミノイソインドリン類と
の組合せ。(フタロシアニンが生成する組合せ。) (チ)イソシアナート類とジイミノイソインドリン類と
の組合せ(着色顔料が生成する組合せ)。 (ツ)顔料プレカーサーと酸又は塩基との組合せ(顔料
が形成する組合せ)。 (テ)パラフェニレンジアミン誘導体又はパラアミノフ
ェノール誘導体の酸化体前駆体と、カップリング成分
(カプラー化合物)との組合せ。
【0107】前記発色源としての二成分の組合せとして
は、(ア)電子供与性染料前駆体と電子受容性化合物と
の組合せ、(イ)ジアゾ化合物とカップリング成分(以
下、適宜「カプラー化合物」と称する。)との組合せ、
(セ)保護された色素(又はロイコ色素)プレカーサと
脱保護剤との組合せ、及び(テ)パラフェニレンジアミ
ン誘導体又はパラアミノフェノール誘導体の酸化体前駆
体と、カップリング成分(カプラー化合物)との組合せ
が好ましい。即ち、発色成分Aとしては、電子供与性染
料前駆体、ジアゾ化合物、色素プレカーサ又は酸化体前
駆体が好ましく、発色成分Bとしては、電子受容性化合
物、カプラー化合物又は脱保護剤が好ましい。
【0108】発色成分Aとして電子供与性無色染料前駆
体を用いる場合、電子供与性無色染料前駆体としては、
感熱紙や感圧紙等で既知の、フタリド系化合物、フルオ
ラン系化合物、フェノチアジン系化合物、インドリルフ
タリド系化合物、ロイコオーラミン系化合物、ローダミ
ンラクタム系化合物、トリフェニルメタン系化合物、ト
リアゼン系化合物、スピロピラン系化合物、ピリジン
系、ピラジン系化合物、フルオレン系化合物等の各種化
合物を挙げることができる。
【0109】フタリド系化合物としては、例えば、米国
再発行特許第23,024号、米国特許第3,491,
111号、同第3,491,112号、同第3,49
1,116号及び同第3,509,174号に記載の化
合物が挙げられ、具体的には、3,3−ビス(p−ジメ
チルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、
3,3−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)フタリ
ド、3,3−ビス(2−メチル−1−オクチルインドー
ル−3−イル)フタリド、3−(4−ジプロピルアミノ
−2−アセチルアミノフェニル)−3−(2−メチル−
1−オクチルインドール−3−イル)−4−アザフタリ
ド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニ
ル)−3−(2−メチル−1−オクチルインドール−3
−イル)フタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エ
トキシフェニル)−3−(2−メチル−1−オクチルイ
ンドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(4−
ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−3−(1−エ
チル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフ
タリド、3,3−ビス(4−ジエチルアミノ−2−ブチ
ルオキシフェニル)−4−アザフタリド、3−(4−ジ
エチルアミノ−2−ブチルオキシフェニル)−3−(2
−メチル−1−ペンチルインドール−3−イル)−4−
アザフタリド等が挙げられる。
【0110】フルオラン系化合物としては、例えば、米
国特許第3,624,107号、同第3,627,78
7号、同第3,641,011号、同第3,462,8
28号、同第3,681,390号、同第3,920,
510号、同第3959,571号に記載の化合物が挙
げられ、具体的には、2−アニリノ−3−メチル−6−
ジエチルアミノフルオラン、2−アニリノ−3−メチル
−6−ジブチルアミノフルオラン、2−アニリノ−3−
メチル−6−N−エチル−N−イソアミルアミノフルオ
ラン、2−アニリノ−3−メチル−6−N−メチル−N
−シクロヘキシルアミノフルオラン、2−アニリノ−3
−メチル−6−N−エチル−N−イソプチルアミノフル
オラン、2−アニリノ−6−ジブチルアミノフルオラ
ン、2−アニリノ−3−メチル−6−N−メチル−N−
テトラヒドロフルフリルアミノフルオラン等が挙げられ
る。
【0111】チアジン系化合物としては、例えば、ベン
ゾイルロイコンメチレンブルー、p−ニトロベンジルロ
イコメチレンブルー等が挙げられる。ロイコオーラミン
系化合物としては、例えば、4,4’−ビス−ジメチル
アミノベンズヒドリンベンジルエーテル、N−ハロフェ
ニル−ロイコオーラミン、N−2,4,5−トリクロロ
フェニルロイコオーラミン等が挙げられる。ローダミン
ラクタム系化合物としては、ローダミン−B−アニリノ
ラクタム、ローダミン−(p−ニトリノ)ラクタム等が
挙げられる。
【0112】スピロピラン系化合物としては、例えば、
米国特許第3,971,808号に記載の化合物が挙げ
られ、具体的には、3−メチル−スピロ−ジナフトピラ
ン、3−エチル−スピロ−ジナフトピラン3,3’−ジ
クロロ−スピロ−ジナフトピラン、3−ベンジルスピロ
−ジナフトピラン、3−メチル−ナフト−(3−メトキ
シ−ベンゾ)スピロピラン、3−プロピル−スピロ−ジ
ベンゾピラン等が挙げられる。
【0113】ピリジン系、ピラジン系化合物類として
は、例えば、米国特許第3,775,424号、同第
3,853,869号、同第4,246,318号に記
載の化合物が挙げられる。フルオレン系化合物として
は、例えば、特願昭61−240989号等に記載の化
合物が挙げられる。
【0114】シアン、マゼンタ、イエローを発色する色
素前駆体としては、米国特許第4,800,149号等
に記載の各色素前駆体を使用することができる。さら
に、イエロー発色色素用電子供与性染料前駆体として
は、米国特許第4,800,148号、同512623
3号、特公平7−88105号公報等に記載の染料前駆
体も使用することができ、シアン発色色素用電子供与性
染料前駆体としては、特開平63−53542号等に記
載の染料前駆体も使用することができる。
【0115】前記電子供与性染料前駆体を用いる場合、
該電子供与性染料前駆体を発色させる発色成分Bとして
電子受容性化合物を用いる。前記電子受容性化合物とし
ては、感熱紙や感圧紙等で既知の、フェノール誘導体、
サリチル酸誘導体、芳香族カルボン酸の金属塩、酸性白
土、ベントナイト、ノボラック樹脂、金属処理ノボラッ
ク樹脂、金属錯体等の電子受容性化合物が挙げられる。
具体的には、特公昭40−9309号、特公昭45−1
4039号、特開昭52−140483号、特開昭48
−51510号、特開昭57−210886号、特開昭
58−87089号、特開昭59−11286号、特開
昭60−176795号、特開昭61−95988号等
に記載されている。
【0116】上記のうち、例えば、フェノール誘導体と
しては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、1,1−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキサン、4−ヒドロキシフェニル−4’
−イソプロピルオキシフェニルスルホン、ビス(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、α,α’−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロ
ピルベンゼン、p−ヒドロキシ安息香酸ベンジル等を挙
げることができる。
【0117】サリチル酸誘導体としては、4−ペンタデ
シルサリチル酸、3,5−ジ(α−メチルベンジル)サ
リチル酸、3,5−ジ(tert−オクチル)サリチル
酸、5−オクタデシルサリチル酸、5−α−(p−α−
メチルベンジルフェニル)エチルサリチル酸、3−α−
メチルベンジル−5−tert−オクチルサリチル酸、
5−テトラデシルサリチル酸、4−ヘキシルオキシサリ
チル酸、4−シクロヘキシルオキシサリチル酸、4−デ
シルオキシサリチル酸、4−ドデシルオキシサリチル
酸、4−ペンタデシルオキシサリチル酸、4−オクタデ
シルオキシサリチル酸等、及びこれらの亜鉛、アルミニ
ウム、カルシウム、銅塩等を挙げることができる。
【0118】前記第一の態様の記録材料では、発色成分
Bがエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と
しても機能するものである。従って、第一の態様の記録
材料の重合可能な化合物の少なくとも一つは電子受容性
化合物であって、その分子内には電子受容性基とエチレ
ン性不飽和結合(以下、「重合性基」という。)とを含
む。この場合の発色成分Bとしては、例えば、特開平4
−226455号に記載の3−ハロ−4−ヒドロキシ安
息香酸、特開昭63−173682号に記載のヒドロキ
シ基を有する安息香酸のメタアクリロキシエチルエステ
ル、アクリロキシエチルエステル、同59−83693
号、同60−141587号、同62−99190号に
記載のヒドロキシ基を有する安息香酸とヒドロキシメチ
ルスチレンとのエステル、欧州特許29323号に記載
のヒドロキシスチレン、特開昭62−167077号、
同62−16708号に記載のハロゲン化亜鉛のN−ビ
ニルイミダゾール錯体、同63−317558号に記載
の電子受容性化合物等を参考にして合成できる化合物等
が挙げられる。
【0119】これらの電子受容性基と重合性基とを同一
分子内に有する化合物のうち、下記一般式で表される3
−ハロ−4−ヒドロキシ安息香酸が好ましい。
【0120】
【化21】
【0121】前記式中、Xはハロゲン原子を表し、中で
も塩素原子が好ましい。Yは重合性エチレン基を有する
1価の基を表し、中でもビニル基を有するアラルキル
基、アクリロイルオキシアルキル基又はメタクリロイル
オキシアルキル基が好ましく、炭素数5〜11のアクリ
ロイルオキシアルキル基又は炭素数6〜12のメタクリ
ロイルオキシアルキル基がより好ましい。Zは、水素原
子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。
【0122】前記3−ハロ−4−ヒドロキシ安息香酸と
しては、例えば、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸
エステルビニルフェネチルエステル、3−クロロ−4−
ヒドロキシ安息香酸ビニルフェニルプロピルエステル、
3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(2−アクリロ
イルオキシエチル)エステル、3−クロロ−4−ヒドロ
キシ安息香酸−(2−メタクリロイルオキシエチル)エ
ステル、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(2−
アクリロイルオキシプロピル)エステル、3−クロロ−
4−ヒドロキシ安息香酸−(2−メタクリロイルオキシ
プロピル)エステル、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息
香酸−(3−アクリロイルオキシプロピル)エステル、
3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(3−メタクリ
ロイルオキシプロピル)エステル、
【0123】3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−
(4−アクリロイルオキシブチル)エステル、3−クロ
ロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(4−メタクリロイルオ
キシブチル)エステル、3−クロロ−4−ヒドロキシ安
息香酸−(2−アクリロイルオキシエチル)エステル、
3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(5−アクリロ
イルオキシペンチル)エステル、3−クロロ−4−ヒド
ロキシ安息香酸−(5−メタクリロイルオキシペンチ
ル)エステル、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−
(6−アクリロイルオキシヘキシル)エステル、3−ク
ロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(6−メタクリロイル
オキシヘキシル)エステル、3−クロロ−4−ヒドロキ
シ安息香酸−(8−アクリロイルオキシオクチル)エス
テル、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸−(8−メ
タクリロイルオキシオクチル)エステル等が挙げられ
る。
【0124】さらには、例えば、スチレンスルホニルア
ミノサリチル酸、ビニルベンジルオキシフタル酸、β−
メタクリロキシエトキシサリチル酸亜鉛、β−アクリロ
キシエトキシサリチル酸亜鉛、ビニロキシエチルオキシ
安息香酸、β−メタクリロキシエチルオルセリネート、
β−アクリロキシエチルオルセリネート、β−メタクリ
ロキシエトキシフェノール、β−アクリロキシエトキシ
フェノール、
【0125】β−メタクリロキシエチル−β−レゾルシ
ネート、β−アクリロキシエチル−β−レゾルシネー
ト、ヒドロキシスチレンスルホン酸−N−エチルアミ
ド、β−メタクリロキシプロピル−p−ヒドロキシベン
ゾエート、β−アクリロキシプロピル−p−ヒドロキシ
ベンゾエート、メタクリロキシメチルフェノール、アク
リロキシメチルフェノール、メタクリルアミドプロパン
スルホン酸、アクリルアミドプロパンスルホン酸、β−
メタクリロキシエトキシ−ジヒドロキシベンゼン、β−
アクリロキシエトキシ−ジヒドロキシベンゼン、γ−ス
チレンスルホニルオキシ−β−メタクリロキシプロパン
カルボン酸、
【0126】γ−アクリロキシプロピル−α−ヒドロキ
シエチルオキシサリチル酸、β−ヒドロキシエトキニル
フェノール、β−メタクリロキシエチル−p−ヒドロキ
シシンナメート、β−アクリロキシエチル−p−ヒドロ
キシシンナメート、3,5ジスチレンスルホン酸アミド
フェノール、メタクリロキシエトキシフタル酸、アクリ
ロキシエトキシフタル酸、メタクリル酸、アクリル酸、
メタクリロキシエトキシヒドロキシナフトエ酸、アクリ
ロキシエトキシヒドロキシナフトエ酸、
【0127】3−β−ヒドロキシエトキシフェノール、
β−メタクリロキシエチル−p−ヒドロキシベンゾエー
ト、β−アクリロキシエチル−p−ヒドロキシベンゾエ
ート、β’−メタクリロキシエチル−β−レゾルシネー
ト、β−メタクリロキシエチルオキシカルボニルヒドロ
キシ安息香酸、β−アクリロキシエチルオキシカルボニ
ルヒドロキシ安息香酸、N,N’−ジ−β−メタクリロ
キシエチルアミノサリチル酸、N,N’−ジ−β−アク
リロキシエチルアミノサリチル酸、N,N’−ジ−β−
メタクリロキシエチルアミノスルホニルサリチル酸、
N,N’−ジ−β−アクリロキシエチルアミノスルホニ
ルサリチル酸、及びこれらの金属塩(例えば、亜鉛塩
等)等も好適に挙げることができる。
【0128】発色成分Aとして電子供与性染料前駆体
を、発色成分Bとして電子受容性化合物を使用する場
合、記録層中における、前記電子供与性染料前駆体の含
有量としては、0.05〜5g/m2が好ましく、0.
1〜3g/m2がより好ましい。また、前記電子受容性
化合物の使用量としては、使用する電子供与性無色染料
1重量部に対して、0.5〜20重量部が好ましく、3
〜10重量部がより好ましい。前記使用量が、0.5重
量部未満であると、十分な発色濃度を得ることができな
いことがあり、20重量部を超えると、感度が低下した
り、塗布適性が劣化することがある。
【0129】一方、発色成分Aとして、ジアゾ化合物を
用いる場合には下記式で表される化合物を用いるのが好
ましい。 Ar−N2 + ・Y- 〔式中、Arは芳香族環基を表し、Y-は酸アニオンを
表す。〕
【0130】前記式において、Arは、置換又は無置換
のアリール基を表す。置換基としては、アルキル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、カルボアミド基、スルホニル
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、ウレイド
基、ハロゲン基、アミノ基、ヘテロ環基、等が挙げら
れ、これら置換基は、更に置換されていてもよい。
【0131】また、アリール基としては、炭素原子数6
〜30のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、
2−メチルフェニル基、2−クロロフェニル基、2−メ
トキシフェニル基、2−ブトキシフェニル基、2−(2
−エチルヘキシルオキシ)フェニル基、2−オクチルオ
キシフェニル基、3−(2,4−ジ−t−ペンチルフェ
ノキシエトキシ)フェニル基、4−クロロフェニル基、
2,5−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリメチル
フェニル基、3−クロロフェニル基、3−メチルフェニ
ル基、3−メトキシフェニル基、3−ブトキシフェニル
基、3−シアノフェニル基、3−(2−エチルヘキシル
オキシ)フェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、
3,5−ジクロロフェニル基、3,4−ジメトキシフェ
ニル基、
【0132】3−(ジブチルアミノカルボニルメトキ
シ)フェニル基、4−シアノフェニル基、4−メチルフ
ェニル基、4−メトキシフェニル基、4−ブトキシフェ
ニル基、4−(2−エチルヘキシルオキシ)フェニル
基、4−ベンジルフェニル基、4−アミノスルホニルフ
ェニル基、4−N,N−ジブチルアミノスルホニルフェ
ニル基、4−エトキシカルボニルフェニル基、4−(2
−エチルヘキシルカルボニル)フェニル基、4−フルオ
ロフェニル基、3−アセチルフェニル基、2−アセチル
アミノフェニル基、4−(4−クロロフェニルチオ)フ
ェニル基、4−(4−メチルフェニル)チオ−2,5−
ブトキシフェニル基、4−(N−ベンジル−N−メチル
アミノ)−2−ドデシルオキシカルボニルフェニル基、
等が挙げられる。
【0133】また、これらの基は、さらに、アルキルオ
キシ基、アルキルチオ基、置換フェニル基、シアノ基、
置換アミノ基、ハロゲン原子、ヘテロ環基等により置換
されていてもよい。
【0134】発色成分Aとして、好適に使用し得るジア
ゾ化合物としては、例えば、特開平7−276808号
公報の第44段落欄〜第49段落欄に例示されるジアゾ
化合物が挙げられる。但し、本発明においては、これら
に化合物に限定されるものではない。
【0135】ジアゾ化合物の最大吸収波長λmax として
は、450nm以下であることが効果の点から好まし
く、290〜440nmであることがより好ましい。ま
た、ジアゾ化合物は、炭素原子数が12以上であって、
水に対する溶解度が1%以下であり、かつ酢酸エチルに
対する溶解度が5%以上であることが望ましい。尚、発
色成分Aとしてのジアゾ化合物は、単独で用いてもよい
し色相調整等の諸目的に応じて2種以上を併用してもよ
い。
【0136】前記ジアゾ化合物を使用する場合、発色成
分Bとしては、カプラー化合物(重合性基を有しない)
若しくは重合性基を有するカプラー化合物を用いる。前
記両カプラー化合物は、塩基性雰囲気及び/又は中性雰
囲気でジアゾ化合物とカップリングして色素を形成する
ものであり、色相調整等種々目的に応じて、複数種を併
用することが可能である。前記重合性基を有するカプラ
ー化合物の具体例としては、カルボニル基の隣にメチレ
ン基を有するいわゆる活性メチレン化合物、フェノール
誘導体、ナフトール誘導体、アゾール誘導体、ヘテロ縮
環アゾール誘導体などが挙げられる。これらは、本発明
の目的に合致する範囲で適宜、選択して使用される。
【0137】前記重合性基を有するカプラー化合物にお
けるカプラー骨格化合物(カプラー)としては、カルボ
ニル基の隣にメチレン基を有するいわゆる活性メチレン
化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、アゾー
ル誘導体、ヘテロ縮環アゾール誘導体等のカプラーを用
いるのが好ましい。具体的には、レゾルシン、フロログ
ルシン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジ
ヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸ナトリウム、1
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸モルホリノプロピルアミ
ド、2−ヒドロキシ−3−ナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、2−ヒドロキシ−3−ナフタレンスルホン酸アニ
リド、2−ヒドロキシ−3−ナフタレンスルホン酸モル
ホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシ−3−ナフタレ
ンスルホン酸−2−エチルヘキシルオキシプロピルアミ
ド、2−ヒドロキシ−3−ナフタレンスルホン酸−2−
エチルヘキシルアミド、5−アセトアミド−1−ナフト
ール、
【0138】1−ヒドロキシ−8−アセトアミドナフタ
レン−3,6−ジスルホン酸ナトリウム、1−ヒドロキ
シ−8−アセトアミドナフタレン−3,6−ジスルホン
酸ジアニリド、1,5−ジヒドロキシナフタレン、2−
ヒドロキシ−3−ナフトエ酸モルホリノプロピルアミ
ド、2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸オクチルアミド、
2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸アニリド、5,5−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1,3−シク
ロペンタンジオン、5−(2−n−テトラデシルオキシ
フェニル)−1,3−シクロヘキサンジオン、5−フェ
ニル−4−メトキシカルボニル−1,3−シクロヘキサ
ンジオン、5−(2,5−ジ−n−オクチルオキシフェ
ニル)−1,3−シクロヘキサンジオン、N,N’−ジ
シクロヘキシルバルビツール酸、N,N’−ジ−n−ド
デシルバルビツール酸、
【0139】N−n−オクチル−N’−n−オクタデシ
ルバルビツール酸、N−フェニル−N’−(2,5−ジ
−n−オクチルオキシフェニル)バルビツール酸、N,
N’−ビス(オクタデシルオキシカルボニルメチル)バ
ルビツール酸、1−フェニル−3−メチル−5−ピラゾ
ロン、1−(2,4,6−トリクロロフェニル)−3−
アニリノ−5−ピラゾロン、1−(2,4,6−トリク
ロロフェニル)−3−ベンズアミド−5−ピラゾロン、
6−ヒドロキシ−4−メチル−3−シアノ−1−(2−
エチルヘキシル)−2−ピリドン、2,4−ビス−(ベ
ンゾイルアセトアミド)トルエン、1,3−ビス−(ピ
バロイルアセトアミドメチル)ベンゼン、ベンゾイルア
セトニトリル、テノイルアセトニトリル、アセトアセト
アニリド、ベンゾイルアセトアニリド、ピバロイルアセ
トアニリド、2−クロロ−5−(N−n−ブチルスルフ
ァモイル)−1−ピバロイルアセトアミドベンゼン、1
−(2−エチルヘキシルオキシプロピル)−3−シアノ
−4−メチル−6−ヒドロキシ−1,2−ジヒドロピリ
ジン−2−オン、1−(ドデシルオキシプロピル)−3
−アセチル−4−メチル−6−ヒドロキシ−1,2−ジ
ヒドロピリジン−2−オン、1−(4−n−オクチルオ
キシフェニル)−3−tert−ブチル−5−アミノピ
ラゾール等が挙げられる。
【0140】カプラー化合物の詳細は、特開平4−20
1483号、特開平7−223367号、特開平7−2
23368号、特開平7−323660号、特開平5−
278608号、特開平5−297024号、特開平6
−18669号、特開平6−18670号、特開平7−
316280号、特開平9−216468号、特開平9
−216469号、特開平9−319025号、特開平
10−035113号、特開平10−193801号、
特開平10−264532号公報等に記載されたものも
参照できる。
【0141】カプラー化合物は、塩基性雰囲気及び/又
は中性雰囲気でジアゾ化合物とカップリングして色素を
形成するものであり、色相調整等種々の目的に応じて、
複数種を併用して用いることができる。
【0142】以下に、重合性基を有するカプラーの具体
例を示すが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。
【0143】
【化22】
【0144】
【化23】
【0145】
【化24】
【0146】
【化25】
【0147】
【化26】
【0148】
【化27】
【0149】
【化28】
【0150】重合性基を有しないカプラー化合物として
は、前記重合性基を有するカプラー化合物において、カ
プラー骨格化合物として列挙した化合物が挙げられる。
【0151】発色成分Aとしてジアゾ化合物を、発色成
分Bとしてカプラーを使用する場合、記録層中における
前記ジアゾ化合物の含有量としては、0.02〜5.0
g/m2が好ましく、0.05〜3.0g/m2がより好
ましい。前記含有量が、0.02g/m2 未満である
と、十分な発色濃度を得ることができないことがあり、
5.0g/m2 を超えると、塗布液の塗布適性が劣化す
ることがある。
【0152】また、前記カプラー化合物の使用量として
は、前記ジアゾ化合物1重量部に対して、0.5〜20
重量部が好ましく、1〜10重量部がより好ましい。前
記使用量が、0.5重量部未満であると、十分な発色性
を得ることができないことがあり、20重量部を超える
と、塗布適性が劣化することがある。
【0153】発色成分Bとして用いるカプラー化合物
は、その他の成分と共に水溶性高分子を添加して、サン
ドミル等により固体分散して用いることもできるが、適
当な乳化助剤とともに乳化し、乳化物として用いること
もできる。ここで、固体分散又は乳化する方法として
は、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を使
用することができる。これらの方法の詳細については、
特開昭59−190886号、特開平2−141279
号、特開平7−17145号に記載されている。
【0154】ジアゾ化合物とカプラーとのカップリング
反応を促進する目的で、第3級アミン類、ピペリジン
類、ピペラジン類、アミジン類、フォルムアミジン類、
ピリジン類、グアニジン類、モルホリン類等の有機塩基
を用いることが好ましい。前記有機塩基としては、例え
ば、N,N’−ビス(3−フェノキシ−2−ヒドロキシ
プロピル)ピペラジン、N,N’−ビス〔3−(p−メ
チルフェノキシ)−2−ヒドロキシプロピル〕ピペラジ
ン、N,N’−ビス〔3−(p−メトキシフェノキシ)
−2−ヒドロキシプロピル〕ピペラジン、N,N’−ビ
ス(3−フェニルチオ−2−ヒドロキシプロピル)ピペ
ラジン、N,N’−ビス〔3−(β−ナフトキシ)−2
−ヒドロキシプロピル〕ピペラジン、N−3−(β−ナ
フトキシ)−2−ヒドロキシプロピル−N’−メチルピ
ペラジン、
【0155】1,4−ビス{〔3−(N−メチルピペラ
ジノ)−2−ヒドロキシ〕プロピルオキシ}ベンゼンな
どのピペラジン類、N−〔3−(β−ナフトキシ)−2
−ヒドロキシ〕プロピルモルホリン、1,4−ビス
〔(3−モルホリノ−2−ヒドロキシ)プロピルオキ
シ〕ベンゼン、1,3−ビス〔(3−モルホリノ−2−
ヒドロキシ)プロピルオキシ〕ベンゼンなどのモルホリ
ン類、N−(3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)ピペリジン、N−ドデシルピペリジンなどのピペリ
ジン類、トリフェニルグアニジン、トリシクロヘキシル
グアニジン、ジシクロヘキシルフェニルグアニジン、4
−ヒドロキシ安息香酸2−N−メチル−N−ベンジルア
ミノエチルエステル、4−ヒドロキシ安息香酸2−N,
N−ジ−n−ブチルアミノエチルエステル、4−(3−
N,N−ジブチルアミノプロポキシ)ベンゼンスルホン
アミド、4−(2−N,N−ジブチルアミノエトキシカ
ルボニル)フェノキシ酢酸アミド等が挙げられる。これ
らの有機塩基は、単独で用いてよいし2種以上併用して
用いてもよい。
【0156】これらは、特開昭57−123086号、
特開昭60−49991号、特開昭60−94381
号、特願平7−228731号、特願平7−23515
7号、特願平7−235158号等に記載されている。
【0157】前記有機塩基を用いる場合、有機塩基とし
て、重合性基を有する有機塩基を使用してもよい。前記
第一の態様の記録材料に、重合性基を有する有機塩基を
使用する場合は、発色成分Aとしてジアゾ化合物とカプ
ラーとを共にマイクロカプセル内に含有させ、重合性基
を有する有機塩基を前記発色成分Bとして機能させるこ
ともできる。発色成分Aとしてジアゾ化合物とカプラー
をマイクロカプセルに内包させる場合は、ジアゾ化合物
とカプラーとを、塩基が存在しないと発色反応が起こら
ない組合わせで使用する。また、前記第一の態様の記録
材料において、前記発色成分Aとしてジアゾ化合物を使
用し、前記発色成分Bとして、重合性基を有するカプラ
ーと重合性基を有する有機塩基とを併用することも可能
である。
【0158】前記有機塩基の使用量としては、特に限定
されるものではないが、ジアゾ化合物1モルに対して、
1〜30モルの範囲で使用することが好ましい。
【0159】さらに、発色反応を促進させる目的で、発
色助剤を加えることもできる。発色助剤としては、フェ
ノール誘導体、ナフトール誘導体、アルコキシ置換ベン
ゼン類、アルコキシ置換ナフタレン類、ヒドロキシ化合
物、カルボン酸アミド化合物、スルホンアミド化合物等
が挙げられる。
【0160】次に、第二の態様の記録材料で用いる重合
可能な化合物について説明する。前記第二の態様の記録
材料では、その記録層に、重合可能な化合物として、発
色成分Aと該発色成分Aと反応して発色させる発色成分
Bとの反応を抑制する部位と、エチレン性不飽和結合と
を同一分子内に有する発色抑制化合物(以下、「重合可
能な発色抑制化合物」ということがある。)を含有す
る。前記発色成分Aとして電子供与性染料前駆体を、前
記発色成分Bとして重合性基を有しない電子受容性化合
物を用いる場合、前記重合可能な発色抑制化合物として
は、電子供与性染料前駆体と電子受容性化合物との反応
を抑制する部位と、分子内に少なくとも1つのビニル基
とを有する光重合性モノマー(以下、「光重合性モノマ
ーD1」という場合がある。)を用いるのが好ましい。
【0161】前記光重合性モノマーD1としては、具体
的には、アクリル酸及びその塩、アクリル酸エステル
類、アクリルアミド類;メタクリル酸及びその塩、メタ
クリル酸エステル類、メタクリルアミド類;無水マレイ
ン酸、マレイン酸エステル類;イタコン酸、イタコン酸
エステル類;スチレン類;ビニルエーテル類;ビニルエ
ステル類;N−ビニル複素環類;アリールエーテル類;
アリルエステル類等が挙げられる。
【0162】中でも、分子内に複数のビニル基を有する
化合物が好ましく、具体的には、トリメチロールプロパ
ンやペンタエリスリトール等の多価アルコール類のアク
リル酸エステルやメタクリル酸エステル;レゾルシノー
ル、ピロガロール、フロログルシノール等の多価フェノ
ール類やビスフェノール類のアクリル酸エステルやメタ
クリル酸エステル;アクリレート又はメタクリレート末
端エポキシ樹脂;アクリレート又はメタクリレート末端
ポリエステル等が好ましい。上記のうち、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヒドロキシペンタアクリレート、ヘキサンジ
オール−1,6−ジメタクリレート又はジエチレングリ
コールジメタクリレート等が特に好ましい。
【0163】前記光重合性モノマーD1としては、その
分子量が約100〜約5000のものが好ましく、約3
00〜約2000のものがより好ましい。
【0164】前記重合可能な発色抑制化合物として、上
記光重合性モノマーD1を用いる場合、その使用量とし
ては、重合性基を有しないカプラー化合物と組合わせて
使用される電子供与性化合物1重量部に対して、0.1
〜10重量部が好ましく、0.5〜5重量部がより好ま
しい。前記使用量が、0.1重量部未満であると、露光
工程で潜像を形成することができないことがあり、10
重量部を超えると、発色濃度が低下することがある。
【0165】前記発色成分Aとしてジアゾ化合物を、前
記発色成分Bとして重合性基を有しないカプラー化合物
を用いる場合、前記重合可能な発色抑制化合物として
は、ジアゾ化合物とカプラー化合物とのカップリング反
応を抑制する酸性基と、分子内に少なくとも1つのビニ
ル基とを有する光重合性モノマー(以下、「光重合性モ
ノマーD2」ということがある。)を用いるのが好まし
い。
【0166】前記光重合性モノマーD2としては、例え
ば、スチレンスルホニルアミノサリチル酸、ビニルベン
ジルオキシフタル酸、β−メタクリロキシエトキシサリ
チル酸亜鉛、β−アクリロキシエトキシサリチル酸亜
鉛、ビニロキシエチルオキシ安息香酸、β−メタクリロ
キシエチルオルセリネート、β−アクリロキシエチルオ
ルセリネート、β−メタクリロキシエトキシフェノー
ル、β−アクリロキシエトキシフェノール、β−メタク
リロキシエチル−β−レゾルシネート、β−アクリロキ
シエチル−β−レゾルシネート、ヒドロキシスチレンス
ルホン酸−N−エチルアミド、β−メタクリロキシプロ
ピル−p−ヒドロキシベンゾエート、β−アクリロキシ
プロピル−p−ヒドロキシベンゾエート、メタクリロキ
シメチルフェノール、アクリロキシメチルフェノール、
メタクリルアミドプロパンスルホン酸、アクリルアミド
プロパンスルホン酸、β−メタクリロキシエトキシ−ジ
ヒドロキシベンゼン、β−アクリロキシエトキシ−ジヒ
ドロキシベンゼン、γ−スチレンスルホニルオキシ−β
−メタクリロキシプロパンカルボン酸、
【0167】γ−アクリロキシプロピル−α−ヒドロキ
シエチルオキシサリチル酸、β−ヒドロキシエトキニル
フェノール、β−メタクリロキシエチル−p−ヒドロキ
シシンナメート、β−アクリロキシエチル−p−ヒドロ
キシシンナメート、3,5ジスチレンスルホン酸アミド
フェノール、メタクリロキシエトキシフタル酸、アクリ
ロキシエトキシフタル酸、メタクリル酸、アクリル酸、
メタクリロキシエトキシヒドロキシナフトエ酸、アクリ
ロキシエトキシヒドロキシナフトエ酸、3−β−ヒドロ
キシエトキシフェノール、β−メタクリロキシエチル−
p−ヒドロキシベンゾエート、β−アクリロキシエチル
−p−ヒドロキシベンゾエート、
【0168】β’−メタクリロキシエチル−β−レゾル
シネート、β−メタクリロキシエチルオキシカルボニル
ヒドロキシ安息香酸、β−アクリロキシエチルオキシカ
ルボニルヒドロキシ安息香酸、N,N−ジ−β−メタク
リロキシエチルアミノサリチル酸、N,N−ジ−β−ア
クリロキシエチルアミノサリチル酸、N,N−ジ−β−
メタクリロキシエチルアミノスルホニルサリチル酸、
N,N−ジ−β−アクリロキシエチルアミノスルホニル
サリチル酸等が好適に挙げられる。
【0169】前記重合可能な発色抑制化合物として、前
記光重合性モノマーD2を使用する場合、その使用量と
しては、重合性基を有しないカプラー化合物と組合わせ
て用いられるカプラー化合物1重量部に対して、0.1
〜10重量部が好ましく、0.5〜5重量部がより好ま
しい。前記使用量が、0.1重量部未満であると、露光
工程で潜像が形成できないことがあり、10重量部を超
えると、発色濃度が低下することがある。
【0170】(マイクロカプセル)本発明の記録材料に
おいては、前記記録層中に、発色成分Aをマイクロカプ
セルに内包させた状態で含有することが好ましい。マイ
クロカプセル化する方法としては、従来公知の方法を用
いることができる。例えば、米国特許第2800457
号、同28000458号に記載の親水性壁形成材料の
コアセルベーションを利用した方法、米国特許第328
7154号、英国特許第990443号、特公昭38−
19574号、同42−446号、同42−771号等
に記載の界面重合法、米国特許第3418250号、同
3660304号に記載のポリマー析出による方法、米
国特許第3796669号に記載のイソシアネートポリ
オール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511
号に記載のイソシアネート壁材料を用いる方法、米国特
許第4001140号、同4087376号、同408
9802号に記載の尿素−ホルムアルデヒド系、尿素ホ
ルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる
方法、米国特許第4025455号に記載のメラミン−
ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシブロビルセルロース
等の壁形成材料を用いる方法、特公昭36−9168
号、特開昭51−9079号に記載のモノマーの重合に
よるin situ法、英国特許第952807号、同
965074号に記載の電解分散冷却法、米国特許第3
111407号、英国特許第930422号に記載のス
プレードライング法等が挙げられる。
【0171】マイクロカプセル化する方法はこれらに限
定されるものではないが、特に、発色成分Aをカプセル
の芯となる疎水性の有機溶媒に溶解又は分散させ調製し
た油相を、水溶性高分子を溶解した水相と混合し、ホモ
ジナイザー等の手段により乳化分散した後、加温するこ
とによりその油滴界面で高分子形成反応を起こし、高分
子物質のマイクロカプセル壁を形成させる界面重合法を
採用することが好ましい。この方法によれば、短時間内
に均一な粒径のカプセルを形成することができ、生保存
性にすぐれた記録材料とすることができる。
【0172】高分子を形成するリアクタントは、油滴内
部及び/又は油滴外部に添加される。高分子物質の具体
例としては、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、
ポリエステル、ポリカーボネート、尿素−ホルムアルデ
ヒド樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレン、スチレンメタ
クリレート共重合体、スチレン−アクリレート共重合体
等が挙げられる。中でも、ポリウレタン、ポリウレア、
ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネートが好まし
く、ポリウレタン、ポリウレアが特に好ましい。上記の
高分子物質は、2種以上併用して用いることもできる。
【0173】前記水溶性高分子としては、例えば、ゼラ
チン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール等
が挙げられる。例えば、ポリウレタンをカプセル壁材と
して用いる場合には、多価イソシアネート及びそれと反
応してカプセル壁を形成する第2物質(例えば、ポリオ
ール、ポリアミン)を水溶性高分子水溶液(水相)又は
カプセル化すべき油性媒体(油相)中に混合し、これら
を乳化分散した後、加温することにより油滴界面で高分
子形成反応が生じ、マイクロカプセル壁を形成すること
ができる。
【0174】上記多価イソシアネート及びそれと反応す
る相手のポリオール、ポリアミンとしては、米国特許第
3281383号、同3773695号、同37932
68号、特公昭48−40347号、同49−2415
9号、特開昭48−80191号、同48−84086
号に記載されているものを使用することができる。
【0175】発色成分Aを含有するマイクロカプセルを
調製する際、マイクロカプセルに内包する発色成分A
は、該カプセル中に溶液状態で存在していても、固体状
態で存在していてもよい。発色成分Aをマイクロカプセ
ル中に溶液状態で内包させる場合、発色成分Aを疎水性
の有機溶媒に溶解した状態でカプセル化すればよい。有
機溶媒の使用量としては、発色成分A100重量部に対
して、1〜500重量部が好ましい。
【0176】前記疎水性の有機溶媒としては、一般に、
リン酸エステル、フタル酸エステル、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、その他のカルボン酸エステ
ル、脂肪酸アミド、アルキル化ビフェニル、アルキル化
ターフェニル、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレ
ン、ジアリルエタン、常温で固体の化合物、オリゴマー
オイル、ポリマーオイル等が挙げられる。具体的には、
特開昭59−178451〜同59−178455号、
同59−178457号、同60−242094号、同
63−85633号、特開平6−194825号、同7
−13310号〜同7−13311号、同9−1060
39号の各公報及び特願昭62−75409号明細書に
記載の有機溶剤が挙げられる。
【0177】また、カプセル化しようとする発色成分A
の前記有機溶媒に対する溶解性が劣る場合には、溶解性
の高い低沸点溶媒を補助的に併用することもできる。こ
の低沸点溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、メチレンクロラ
イド等が挙げられる。
【0178】一方、用いる水相には水溶性高分子を溶解
した水溶液を使用し、これに前記油相を投入後、ホモジ
ナイザー等の手段により乳化分散を行うが、該水溶性高
分子は分散を均一に、かつ容易にするとともに、乳化分
散した水溶液を安定化させる分散媒として作用する。こ
こで、更に均一に乳化分散し安定化させるためには、油
相あるいは水相の少なくとも一方に界面活性剤を添加し
てもよい。界面活性剤は周知の乳化用界面活性剤が使用
可能である。また、界面活性剤を添加する場合には、界
面活性剤の添加量は、油相の重量に対して0.1%〜5
%、特に0.5%〜2%であることが好ましい。
【0179】発色成分Aをマイクロカプセル化する場
合、マイクロカプセルの平均粒子径は、20μm以下が
好ましく、高解像度を得る観点から5μm以下であるこ
とがより好ましい。形成したマイクロカプセルが小さす
ぎると、一定固形分に対する表面積が大きくなり多量の
壁剤が必要となるため、上記平均粒子径は0.1μm以
上であることが好ましい。
【0180】本発明の光重合性組成物は、上述の本発明
の記録材料のほか、インキ、カラーフィルタ、ホログラ
ム、プルーフ、封止剤、接着剤、平板印刷、樹脂凸版、
フォトレジスト等をはじめとする広い分野に利用でき、
各々の用途に応じて、その他の成分を添加してもよい。
また、本発明の記録材料以外に利用する場合には、3)
重合可能な化合物は、上述のように発色成分B及び発色
抑制化合物として機能する必要はなく、エチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物を広く利用することが
できる。
【0181】多色の記録材料の場合、支持体上に単色記
録層を複数積層して構成され、各記録層にそれぞれ発色
色相の異なる発色成分A(マイクロカプセルに内包され
ていてもよい。)と、各発色成分Aと反応して発色させ
る部位を分子内に有する発色成分B(重合性基を有して
いてもよい。)と、それぞれ異なる波長の光に感光し潜
像形成する光重合性組成物と、を含有させることにより
多色の記録材料とすることができる。即ち、光重合性組
成物にそれぞれ異なる吸収波長を有する分光増感色素を
使用することにより、異なる波長の光に感光する光重合
性組成物とすることができる。この場合、各単色の記録
層間に中間層を設けることもできる。
【0182】多色の多層記録材料の記録層は、例えば、
以下のようにして形成することができる。イエロー発色
する発色成分AYを内包するマイクロカプセルと、発色
成分AYを発色させる発色成分BYと、光源中心波長λ1
に感光し潜像形成する光重合性組成物とを含有した第1
の記録層を支持体上に設け、その層上に、マゼンタ発色
する発色成分AMを内包するマイクロカプセルと、発色
成分AMを発色させる発色成分BMと、光源中心波長λ2
に感光し潜像形成する光重合性組成物とを含有した第2
の記録層を設け、さらにその層上に、シアン発色する発
色成分ACを内包するマイクロカプセルと、発色成分AC
を発色させる発色成分BCと、光源中心波長λ3に感光し
潜像形成する光重合性組成物とを含有した第3の記録層
を設けて積層構造とした多層記録層α、さらに必要に応
じて、この多層記録層αの各層間に中間層を設けた記録
層β等により構成される。
【0183】前記多色の多層記録層を有する記録材料を
用いて画像形成する場合、画像様に露光する過程で、各
記録層の吸収波長に適合した、波長の異なる複数の光源
を用いて画像露光することにより、光源の吸収波長を有
する記録層が選択的にそれぞれ潜像を形成するため、多
色画像を高感度、かつ高鮮鋭に形成することができ、さ
らに記録層表面全面を光照射することにより、層内に残
存する分光増感色素をはじめとする光重合性組成物によ
る地肌部の着色を消色することができ、コントラストの
高い高画質な多色画像を形成することができる。
【0184】(支持体)前記支持体としては、通常の感
圧紙や感熱紙、乾式や湿式のジアゾ複写紙などに用いら
れる紙支持体はいずれも使用することができる他、酸性
紙、中性紙、コート紙、プラスチックフィルムラミネー
ト紙、合成紙、プラスチックフィルムなどを使用するこ
とができる。
【0185】本発明の記録材料は、平版印刷、樹脂凸
板、プリント基盤作製用レジスト又はフォトマスク、白
黒又はカラーの転写発色用シート若しくは発色シート作
製等の用途に好適に用いられる。例えば、本発明の記録
材料を、感光感熱発色シートに応用する場合は、各成分
を、個々にあるいは数種類の成分を組合わせて、適当な
溶媒に溶解又は分散させて溶液又は分散液を調製し、こ
れを混合して塗布液として、紙やプラスチックフィルム
等の支持体上に塗布し、乾燥することにより作製するこ
とができる。例えば、所定の成分をマイクロカプセル化
する場合は、いずれかの成分が内包されたマイクロカプ
セル分散液を調製し、別途、他の成分を溶媒に分散又は
溶解させた液を調製して、これを混合して塗布液とする
ことができる。塗布液の調製においては、ホモジナイザ
ー等を用いて各成分を好ましい分散状態にすることがで
きる。尚、塗布及び乾燥の方法としては、従来公知の方
法にて行うことができる。
【0186】本発明の記録材料は、潜像を形成するため
の露光と同時に、或いは、露光後に、加熱現像処理を行
うことにより画像形成することができる。加熱現像処理
する際の加熱方法としては、従来公知の方法を用いるこ
とができ、一般に、その加熱温度としては、80〜20
0℃が好ましく、85〜130℃がより好ましい。加熱
時間としては、1秒〜5分が好ましく、3秒〜1分がよ
り好ましい。
【0187】加熱現像処理後、記録層全面を光照射する
ことにより、未重合であった領域も重合し形成画像を定
着し、かつ記録層中に残存する分光増感色素等の地肌部
の白色性を低下させる成分を消色、分解又は失活させる
ことが好ましい。本発明の記録材料は、従来のものと比
較してより短い画像定着処理で、地肌部の残色等を防止
し、地肌部の白色度をより向上させることができる。
【0188】また、上記方法により画像形成する際、上
記画像形成中に材料全面を発色温度未満の所定温度で均
一に予熱する過程を設けることにより、さらに感度を向
上することができる。また、前記記録方法のみならず、
公知の他の記録方法にも使用することができる。
【0189】上記のように、現像液等の使用が不要、か
つ廃棄物の発生のない完全ドライの処理系において、紫
外光のみならず可視光〜赤外光を用いた高感度な画像記
録が可能であり、また生保存性にも優れた記録材料とす
ることができる。特に、多層の記録材料とした場合、層
間拡散を阻止することができ、生保存性の悪化を回避す
ることができる。
【0190】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明するが、本発
明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
尚、以下の実施例において、特に断りのない限り「%」
は「質量%」を意味し、「部」は「質量部」を意味す
る。
【0191】まず、以下の各実施例及び各比較例におい
て使用した有機色素(1)、(2)、及び光ラジカル発
生剤(1)〜(3)を以下に示す。
【0192】
【化29】
【0193】
【化30】
【0194】(実施例1〜実施例7)表1に示す有機色
素、光ラジカル発生剤、及びチオール化合物を用い、下
記組成の光重合性組成物を調製した。尚、下記表1中に
示した有機色素、及び光ラジカル発生剤の欄の数字は前
記各化合物No.に相当し、チオール化合物の欄の数字
は前記例示化合物のNo.に相当する。 〔光重合性組成物〕 ペンタエリスリトールテトラアクリレート・・・・・・・・1.41g メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸・・・・・・・・・・1.29g (モル比73/27共重合体) メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 12g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・8.62g 有機色素・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(表1参照) 光ラジカル発生剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(表1参照) チオール化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(表1参照) メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 6g 調製した光重合性組成物の各々を、100μmのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に2μmの厚みに塗布
し、100℃で5分間乾燥した。さらに、下記保護層用
塗布液(1)を1μmの厚みに塗布し、100℃で2分
間乾燥して、実施例1〜実施例7の記録材料を作製し
た。
【0195】 〔保護層用塗布液(1)〕 水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 98g ポリビニルアルコール・・・・・・・・・・・・・・・・・ 1.7g ヒドロキシプロピルメチルセルロース・・・・・・・・・・ 1.7g ポリビニルピロリドン・・・・・・・・・・・・・・・・・ 8.7g
【0196】(比較例1〜比較例5)有機色素、光ラジ
カル発生剤、及びチオール化合物を、それぞれ、表1に
示すようにした以外は、実施例1と同様にして、比較例
1〜5の記録材料を作製した。なお、比較例1〜5にお
いて使用したチオール化合物は以下に示す。
【0197】
【化31】
【0198】作製した実施例1〜実施例7、および比較
例1〜比較例5の記録材料を、真空焼枠装置を用いて露
光した。記録材料への露光は、ステップウエッジ(濃度
段差0.15、濃度段数1〜15段、「富士ステップガ
イドP」(富士写真フイルム社製)及び「SC38フィ
ルター」(富士写真フイルム社製、380nm以下の光
をカットするシャープカットフィルター))を通して、
500Wキセノンランプ(ウシオ(株)製)で10秒間
光を照射することにより行った。露光後、下記組成の現
像液を用いて、記録材料を各々現像した。
【0199】 〔現像液〕 無水炭酸ソーダ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 10g ブチルセロソルブ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 5g 水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 1l 現像すると、ステップウエッジの高い段数に相当する領
域への露光量は、少ないため、該領域の光重合性組成物
は現像液中に溶出し、ポリエチレンテレフタレート面が
現れた。各々の実施例の記録材料について、光重合性組
成物が完全に溶出した領域を調べ、最も露光量の多かっ
た領域に相当するステップウェッジの段数(クリア段
数)を求めた。求めた段数が高い程、記録材料の感度が
高いことを意味する。結果を表1に示す。感度が低く、
露光した全ての領域にわたって光重合性組成物が現像液
中に溶出した場合は、表中に“流れ”と表示し、感度が
高く、露光した全ての領域にわたって光重合性組成物が
硬化し、現像後も残る場合には、表中に“ベタ”と表示
した。また、上記記録材料を温度40℃、湿度90%の
環境下で1日放置(促進経時)後に同様にして露光・現
像しクリア段数を求めた。作成直後と段数の差が小さい
程、生保存性が良好であることを示す。
【0200】
【表1】
【0201】表1に示した結果から、比較例1〜5と比
較して、実施例1〜7の記録材料は高感度で、生保存性
にも優れることが示された。
【0202】(実施例8) 1.〔電子供与性無色染料カプセル液の調製〕 −1−a.電子供与性無色染料(1)カプセル液の調製
− 下記の電子供与性無色染料(1)8.9gを酢酸エチル
16.9gに溶解し、カプセル化剤である「タケネート
D−110N」(武田薬品工業株式会社製)20gと
「ミリオネートMR200」(日本ポリウレタン工業株
式会社製)2gを添加した。この溶液を8%のフタル化
ゼラチン42gと10%のドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウム溶液1.4gの混合液に添加し、20℃で乳
化分散し乳化液を得た。得られた乳化液に水14gと
2.9%のテトラエチレンペンタミン水溶液72gを加
え、攪拌しながら60℃に加温し、2時間後に電子供与
性無色染料(1)を芯に内包した、平均粒径0.5μm
のカプセル液を得た。
【0203】
【化32】
【0204】2.〔光重合性組成物の乳化液の調製〕 −2−a.光重合性組成物(8)の乳化液の調製− それぞれ表2に示す、有機色素と、光ラジカル発生剤
と、チオール化合物と、下記重合性の電子受容性化合物
(1)4.2gに酢酸イソプロピル5.3gを添加し攪
拌溶解した。
【0205】
【化33】
【0206】この溶液を、8%ゼラチン水溶液13g
と、2%の下記界面活性剤(1)水溶液0.8gと、2
%の下記界面活性剤(2)水溶液0.8gとの混合溶液
中に添加し、ホモジナイザー(日本精機株式会社製)に
て10000回転で5分間乳化し、光重合性組成物
(8)の乳化液を得た。
【0207】
【化34】
【0208】3.〔記録層用塗布液の調製〕 −3−a.記録層(8)用塗布液の調製− 前記電子供与性無色染料(1)カプセル液4gと、光重
合性組成物(8)の乳化液12gと、15%ゼラチン水
溶液12gとを混合し、記録層(8)用塗布液を調製し
た。
【0209】4.〔保護層用塗布液(2)の調製〕 −4−a.保護層用塗布液(2)の調製− 10%ゼラチン水溶液4.5gと、蒸留水4.5gと、
2%の下記界面活性剤(3)水溶液0.5gと、2%の
下記界面活性剤(4)水溶液0.3gと、2%の下記硬
膜剤(1)水溶液0.5gと、「サイロイド72」(F
UJI−DEVISON CHEMICALLTD.
製)を塗布量が50mg/m2 となるだけの量と、「ス
ノーテックスN」1gとを混合し、保護層用塗布液
(2)を調製した。
【0210】
【化35】
【0211】5.〔支持体〕 白色顔料を充填した厚み100μmの白色のポリエステ
ルフィルム(「ルミラーE68L」、東レ社製)を支持
体として用いた。この支持体上に、前記記録層用塗布液
(8)を、コーティングバーを用いて塗布層の乾燥質量
が6g/m2 になるように塗布し、30℃で10分間乾
燥した。この上に、前記保護層用塗布液(2)をコーテ
ィングバーを用いて塗布層の乾燥質量が2g/m2 にな
るように塗布し、30℃で10分間乾燥して実施例8の
記録材料を得た。
【0212】(実施例9〜実施例14)実施例8におい
て用いた有機色素、光ラジカル発生剤、及びチオール化
合物を、各々、表2に示す有機色素、ラジカル発生剤、
チオール化合物に変更した以外は、実施例8と同様にし
て、実施例9の記録材料を得た。
【0213】(比較例6〜比較例11)実施例8におい
て用いた有機色素、光ラジカル発生剤、及びチオール化
合物を、各々、表2に示す有機色素、光ラジカル発生
剤、チオール化合物に変更した以外は、実施例8と同様
にして、比較例6〜比較例11の記録材料を得た。
【0214】作製した実施例8〜実施例14の記録材
料、および比較例6〜比較例11の記録材料を、温度2
4℃、湿度60%の環境下、真空焼枠装置を用いて、ス
テップウェッジ及びSC38フィルターを通して500
Wキセノンランプで30秒間光を照射し、各々、潜像を
形成した。その後、各々の記録材料を、125℃の熱板
で15秒間加熱したところ、未露光部では電子供与性無
色染料(1)と重合性電子受容性化合物(1)とが反応
した際に生じる色の発色を生じ、露光部では発色濃度が
低下ないし発色が起こらなかった。発色が起こらなかっ
た領域を調べ、最も露光量の少なかった領域に相当する
ステップウェッジの段数(クリア段数)を求めた。求め
た段数が高い程、記録材料の感度が高いことを意味す
る。結果を表2に示す。尚、感度が高く、すべての段で
発色が起きなかった場合は、表中に“クリア”と表示し
た。また、感度が低く、全ての段で発色が起きた場合
は、表中に“ベタ”と表示した。また、上記記録材料を
温度24℃、湿度20%に約1時間調湿後、同条件下で
同様にして露光・加熱しクリア段数を求めた。温度24
℃、湿度60%の環境下での段数との差が小さいほど、
湿度依存性が良好であることを示す。さらに、上記記録
材料を温度40℃、湿度90%の環境下で1日放置(促
進経時)後に温度24℃、湿度60%の環境下、同様に
して露光・加熱しクリア段数を求めた。作成直後との段
数の差が小さい程、生保存性が良好であることを示す。
【0215】
【表2】
【0216】表2に示した結果から、比較例6〜11と
比較して、実施例8〜14の記録材料は、高感度で、生
保存性、湿度依存性にも優れていることが示された。
【0217】
【発明の効果】本発明によれば、紫外光のみならず可視
光〜赤外光に対して高感度に感応し得るとともに、生保
存性に優れた光重合性組成物を提供することができる。
また、現像液等の使用が不要、かつ廃棄物の発生のない
完全ドライの処理系において、紫外光のみならず可視光
〜赤外光を用いた高感度な画像記録が可能でかつ生保存
性、湿度依存性に優れた記録材料を提供することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 濁川 和則 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA11 AB02 AB03 AB09 AB13 AB14 AB17 AB20 AC01 AD01 BC13 BC42 CA00 CA14 CA35 CA39 CC20 FA26

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも、エチレン性不飽和結合を有
    する重合可能な化合物と、光ラジカル発生剤と、下記一
    般式(I)で表されるチオール化合物と、を含有するこ
    とを特徴とする光重合性組成物。 【化1】 〔一般式(I)中、Rは、置換基を有してもよいアルキ
    ル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、A
    は、N=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は
    6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに
    置換基を有してもよい。〕
  2. 【請求項2】 前記一般式(I)で表されるチオール化
    合物が、下記一般式(II)で表されるチオール化合物
    である請求項1に記載の光重合性組成物。 【化2】 〔一般式(II)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、
    水素原子、置換基を有してよいアルキル基、又は置換基
    を有してもよいアリール基を表し、該アルキル基とアリ
    ール基とは互いに結合して環を形成してもよい。R
    3は、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を
    有してもよいアリール基を表す。〕
  3. 【請求項3】 光ラジカル発生剤として、有機ホウ素化
    合物、ロフィンダイマー化合物、トリハロメチル化合
    物、アジニウム塩化合物、及びアシルホスフィンオキシ
    ド化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含
    有する請求項1または2に記載の光重合性組成物。
  4. 【請求項4】 前記有機ホウ素化合物が、下記一般式
    (A)で表される化合物である請求項3に記載の光重合
    性組成物。 【化3】 〔一般式(A)中、Ra 1、Ra 2、Ra 3、Ra 4は、それぞ
    れ独立に脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はSi(Ra
    5)(Ra 6)−Ra 7を表し、Ra 5、Ra 6、Ra 7は、それぞれ
    独立に脂肪族基、芳香族基を表す。G+は、陽イオンを
    形成し得る基を表す。〕
  5. 【請求項5】 支持体上に記録層を有する記録材料であ
    って、前記記録層が請求項1から4のいずれか1項に記
    載の光重合性組成物を含むことを特徴とする記録材料。
  6. 【請求項6】支持体上に記録層を有してなり、該記録層
    が、発色成分Aと、該発色成分Aと反応して発色させる
    部位を有する発色成分Bと、請求項1から4のいずれか
    1項に記載の光重合性組成物と、を少なくとも含有する
    ことを特徴とする記録材料。
  7. 【請求項7】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能
    な化合物の少なくとも一つが発色成分Bである請求項6
    に記載の記録材料。
  8. 【請求項8】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能
    な化合物が、同一分子内に前記発色成分AとBとの反応
    を抑制する部位を有する発色抑制化合物である請求項6
    に記載の記録材料。
  9. 【請求項9】 発色成分Aが、マイクロカプセルに内包
    されている請求項6から8のいずれか1項に記載の記録
    材料。
  10. 【請求項10】 中心波長λ1の光に感光する第1の記
    録層、中心波長λ2の光に感光し第1の記録層と異なる
    色に発色する第2の記録層、・・・、中心波長λiの光
    に感光し第1、第2、・・・、及び第i−1の記録層と
    異なる色に発色する第iの記録層の順に積層された多層
    構造を有する請求項5から9のいずれか1項に記載の記
    録材料。
JP2001309358A 2001-10-05 2001-10-05 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 Pending JP2003114520A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001309358A JP2003114520A (ja) 2001-10-05 2001-10-05 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
US10/265,102 US6919159B2 (en) 2001-10-05 2002-10-07 Photopolymerizable composition and recording material using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001309358A JP2003114520A (ja) 2001-10-05 2001-10-05 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003114520A true JP2003114520A (ja) 2003-04-18

Family

ID=19128520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001309358A Pending JP2003114520A (ja) 2001-10-05 2001-10-05 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6919159B2 (ja)
JP (1) JP2003114520A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006309122A (ja) * 2005-03-29 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2007171406A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007233071A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007269886A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp 感光性重合体、感光性組成物及び平版印刷版原版
JP2007316598A (ja) * 2006-03-13 2007-12-06 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP2008015504A (ja) * 2006-06-09 2008-01-24 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP2008107758A (ja) * 2006-09-29 2008-05-08 Fujifilm Corp 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6884568B2 (en) * 2000-10-17 2005-04-26 Kodak Polychrome Graphics, Llc Stabilized infrared-sensitive polymerizable systems
EP2618215B1 (en) * 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
JP4460986B2 (ja) * 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
US20060078802A1 (en) * 2004-10-13 2006-04-13 Chan Kwok P Holographic storage medium
JP4469741B2 (ja) * 2005-03-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4505354B2 (ja) * 2005-03-03 2010-07-21 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版の製版方法
JP4368323B2 (ja) * 2005-03-25 2009-11-18 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4457034B2 (ja) * 2005-03-28 2010-04-28 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4792326B2 (ja) * 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
US20070160935A1 (en) * 2006-01-12 2007-07-12 Keiichi Okajima Lithographic printing plate material for CTP
US20070212641A1 (en) * 2006-03-13 2007-09-13 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method for preparation of lithographic printing plate
US7601482B2 (en) * 2006-03-28 2009-10-13 Az Electronic Materials Usa Corp. Negative photoresist compositions
JP2007293221A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
US8053168B2 (en) * 2006-12-19 2011-11-08 Palo Alto Research Center Incorporated Printing plate and system using heat-decomposable polymers
US8906594B2 (en) 2012-06-15 2014-12-09 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Negative-working thick film photoresist
US9012126B2 (en) 2012-06-15 2015-04-21 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Positive photosensitive material
US10001703B2 (en) * 2013-10-17 2018-06-19 Covestro Deutschland Ag Photopolymer formulation for production of holographic media comprising borates with low TG
TWI731961B (zh) 2016-04-19 2021-07-01 德商馬克專利公司 正向感光材料及形成正向凸紋影像之方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57124343A (en) 1981-01-26 1982-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd Microcapsule and photosensitive material using it
JPS57179836A (en) 1981-04-28 1982-11-05 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive material
JPS57197538A (en) 1981-05-29 1982-12-03 Fuji Photo Film Co Ltd Recording material
JPS614038A (ja) * 1984-06-18 1986-01-09 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規な感光性組成物
JPS6413144A (en) * 1987-07-06 1989-01-18 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPH0387827A (ja) 1989-08-31 1991-04-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光・感熱性記録材料
JP2701994B2 (ja) 1990-01-30 1998-01-21 富士写真フイルム株式会社 感光・感熱性記録材料
JPH10226174A (ja) * 1996-11-19 1998-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光感熱記録材料
US6218076B1 (en) * 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006309122A (ja) * 2005-03-29 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4524235B2 (ja) * 2005-03-29 2010-08-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007171406A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007233071A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007316598A (ja) * 2006-03-13 2007-12-06 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP2007269886A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp 感光性重合体、感光性組成物及び平版印刷版原版
JP2008015504A (ja) * 2006-06-09 2008-01-24 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP2008107758A (ja) * 2006-09-29 2008-05-08 Fujifilm Corp 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版

Also Published As

Publication number Publication date
US20030129523A1 (en) 2003-07-10
US6919159B2 (en) 2005-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003114520A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002139833A (ja) 光重合性組成物および感光感熱記録材料
JP4068809B2 (ja) 光重合性組成物及び記録材料
JP2002363207A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363206A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363208A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363209A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP4244274B2 (ja) 光重合性組成物及び記録材料
US7220529B2 (en) Photopolymerizable composition and recording material using the same
JP2001226417A (ja) シアニン系有機色素、光重合性組成物及び記録材料
JP2003057817A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2007041440A (ja) マイクロカプセル内包カプセル、マイクロカプセル内包カプセル含有組成物、マイクロカプセル内包カプセルの製造方法、および画像形成方法
JP2002293844A (ja) 光重合性組成物及び記録材料
JP2001209176A (ja) 光重合性組成物およびそれを用いた記録材料
JP2002229195A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
US6824953B2 (en) Photopolymerizable composition and recording material
JP4237916B2 (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2003076003A (ja) 記録材料
JP4173645B2 (ja) 光重合性組成物及び記録材料
JP2002189295A (ja) 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP4369032B2 (ja) 光重合性組成物及び感光感熱記録材料
JP2003076002A (ja) 記録材料
JP2002322207A (ja) 光重合性組成物及び記録材料
JP2004361557A (ja) 記録材料
JP2001226605A (ja) 光重合性組成物及び記録材料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040302

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060307

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060322

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060522

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060620

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061024