JP2003098324A - 光散乱パターン - Google Patents
光散乱パターンInfo
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Abstract
精巧で多彩な表現を可能とし、デザインの自由度を向上
させると共に、一層高度な偽造防止効果を向上させ、そ
の真偽判定を容易にする。 【解決手段】基板表面に形成した凹部または凸部を光散
乱要素として、前記光散乱要素の集まりにより、表示画
像が規定される光散乱パターンにおいて、少なくとも一
部の前記光散乱要素は、回折格子とは異なる凹凸構造で
あり、単独あるいは複数の組み合わせで意味を持つ記号
もしくは文字の形状とする。パターンの装飾効果を向上
するために、同一パターン内に回折格子によるパターン
を混在させても良い。
Description
の装飾画像を表示する光散乱パターンに関する。特に、
一層高度な偽造防止効果と共に、デザインの自由度の向
上した光散乱パターンに関する。
(以下、光散乱パターンと称する)は、通常、基材の表
面を凹凸形状に加工することで実現される。その加工方
法として、エッチングによる方法や表面部を薬品等で荒
らす方法、EB描画装置により凹凸を形成する方法等が
ある。
の各微小領域において形成する各々の凹凸の比率を変え
ることにより散乱の度合いを変えることは困難である。
と、凹凸で形成されて光を散乱する光散乱パターンとの
組み合わせにより構成されるディスプレイに関しては、
特開平5−273500号公報(特許2751721
号)に記載されている。前記特許は、回折格子パターン
に上記光散乱パターンを組み合わせることにより、 (a)回折光のみによる表示でないため、観察条件の制
約が少ない。 (b)きらきらとした印象を与える画像表現だけではな
い。 (c)双方のパターンが凹凸で形成されるため、作製工
程が増えない(エンボス成形のみで良い)と共に、双方
のパターンの位置合わせが容易となるなどの効果を奏す
ることが記載されている。
て、EB描画装置を用いれば、微小領域に形成する各々
の凹凸の比率,凹部や凸部の形状などを任意に制御し、
基材表面にパターニングすることが可能であり、任意形
状の光散乱要素(凹凸)を形成できるが、上記特許にお
いても、矩形や円形などの比較的単純な形状の光散乱要
素についてしか開示されていない。
の特許の凹凸により形成される光散乱パターンを改良
し、精巧で多彩な表現を可能とし、デザインの自由度を
向上させると共に、一層高度な偽造防止効果を向上さ
せ、その真偽判定を容易にすることにある。
ーンは、基板表面に形成した凹部または凸部を光散乱要
素として、前記光散乱要素の集まりにより、表示画像が
規定される光散乱パターンにおいて、少なくとも一部の
前記光散乱要素は、回折格子とは異なる凹凸構造であ
り、単独あるいは複数の組み合わせで意味を持つ記号も
しくは文字の形状であることを特徴とする。
偽造防止効果を向上させると共に、真偽判別を容易にす
る目的で、少なくとも一部の光散乱要素を、記号もしく
は文字(の一部)を構成する形状とする。
形態を説明する。光散乱パターンは、図1に示すように
基板10の表面に形成した凹部または凸部を光散乱要素
としての構成単位とするものであり、図1(a)は凸部
1のみで構成される場合、図1(b)は凹部2のみで構
成される場合であるが、凸部と凹部が混在しても良い。
な形状とし、拡大観察した場合に、真偽判定のための識
別が可能な意味を持つ形状にする。上記形状としては、
記号,文字(あるいはその一部)を成す形状とする。
ターンの一例を示す説明図であり、各光散乱要素を凸部
1(黒で示す)により形成した場合が図2(a)であ
り、各光散乱要素を凹部2(白で示す)により形成した
場合が図2(b)である。同図に示すように、各光散乱
要素は、文字,記号,図柄などの任意な形状からなり、
パターンを形成するための画素であるドット20を、光
散乱要素の集まりによって構成するように配置する。同
図は、光散乱パターンとして、全て同一形状・同一サイ
ズの矩形状ドットを、2×2のマトリクス配列で整然と
並べた場合に係る説明であるが、形成するパターンに応
じて、ドットの形状・サイズあるいはドットの配置は任
意に変更され、以後の実施形態においても同様である。
で、光散乱性の異なる凹凸毎に光散乱要素の形状が異な
る場合の実施形態を示す説明図である。以後、主に光散
乱要素を凸部11(黒で示す)により形成する場合で説
明するが、凹部で形成する場合も、また、凸部と凹部が
混在する場合についても、同様に説明できる。
ット)について、各領域内に配置する光散乱要素の数が
等しく(5個)、各領域内の光散乱要素の形状が異なっ
ている。右側の図面で、21→22→23→24の順
に、各領域(ドット)の輝度が上がっていくことが分か
るが、各領域(ドット)内の光散乱要素による光散乱性
は、左側の図面で、11→12→13→14の順に高く
なっていく。左側の図面では、説明の便宜上、光散乱要
素の数や形状が認識できるように図示しているが、光散
乱要素のサイズは、肉眼では認識できない程度に微小で
あり、実際のパターンは、右側の図面のように濃淡とし
て視覚される。
で、光散乱性の異なる凹凸毎に光散乱要素の形状は等し
いがサイズが異なる場合の実施形態を示す説明図であ
る。
ット)について、各領域内に配置する光散乱要素が等し
く(5個)、各領域内の光散乱要素の形状(文字
「A」)は等しいが、各領域内の光散乱要素のサイズが
異なっている。右側の図面で、21→22→23→24
の順に、各領域(ドット)の輝度が上がっていくことが
分かるが、各領域(ドット)内の光散乱要素による光散
乱性は、左側の図面で、11→12→13→14の順に
高くなっていく。左側の図面では、説明の便宜上、光散
乱要素の数や形状が認識できるように図示しているが、
光散乱要素のサイズは、肉眼では認識できない程度に微
小であり、実際のパターンは、右側の図面のように濃淡
として視覚される。すなわち、肉眼で一見した場合に
は、図3のパターンも図4のパターンも、観察者には同
様のパターンとして認識され、拡大観察した場合に、両
者の差異が識別できる。
で、光散乱性の異なる凹凸毎に光散乱要素の形状もサイ
ズも等しく、領域(ドット)毎に配置する数が異なる場
合の実施形態を示す説明図である。
ット)について、各領域内に配置する光散乱要素の形状
(文字「A」)・サイズが共に等しいが、各領域内の光
散乱要素の数が異なっている。右側の図面で、21→2
2→23→24の順に、各領域(ドット)の輝度が上が
っていくことが分かるが、前記の順に、各領域の光散乱
性が高くなっていく。左側の図面では、説明の便宜上、
光散乱要素の数や形状が認識できるように図示している
が、光散乱要素のサイズは、肉眼では認識できない程度
に微小であり、実際のパターンは、右側の図面のように
濃淡として視覚される。図5のパターンも、肉眼で一見
した場合には、観察者には、図3・図4のパターンと同
様に認識され、拡大観察した場合に差異が識別できる。
図3〜図5の光散乱パターンも、拡大してそれぞれのパ
ターンを観察すると、それぞれを構成する光散乱要素の
形状,サイズ,数などの違いが明確に識別できる。この
ことを利用して、真偽判定を図るパターンを構成する光
散乱要素の中に真正品であることを意味する特殊な光散
乱要素を混入したり、近接する複数の光散乱要素の組み
合わせによって意味を持たせるようにするなど、各種の
手法を用いることで、デザインの自由度が向上すると共
に真偽判定が容易となり、セキュリティ性が向上する。
尚、何れの場合でも、本発明で目的とするセキュリティ
性および光散乱性を十分にするためには、光散乱要素の
サイズが5μm以下であることが望ましい。
与するために、光散乱パターンと同一基板上に、回折格
子によるパターンを共存させることも可能である。
ターンによれば、精巧で多彩な表現が可能であると共
に、一層高度な偽造防止効果を持ち、真偽判定が容易と
なる。
散乱要素を構成単位とする光散乱パターンを示す説明
図。
図。
に光散乱要素の形状が異なる場合の実施形態を示す説明
図。
に光散乱要素の形状は等しいがサイズが異なる場合の実
施形態を示す説明図。
に光散乱要素の形状もサイズも等しく、領域(ドット)
毎に配置する数が異なる場合の実施形態を示す説明図。
する画素(ドット)
Claims (6)
- 【請求項1】基板表面に形成した凹部または凸部を光散
乱要素として、前記光散乱要素の集まりにより、表示画
像が規定される光散乱パターンにおいて、 少なくとも一部の前記光散乱要素は、回折格子とは異な
る凹凸構造であり、単独あるいは複数の組み合わせで意
味を持つ記号もしくは文字の形状であることを特徴とす
る光散乱パターン。 - 【請求項2】光散乱パターン内で、光散乱性の異なる凹
凸毎に光散乱要素の形状が異なることを特徴とする請求
項1記載の光散乱パターン。 - 【請求項3】光散乱パターン内で、光散乱性の異なる凹
凸毎に光散乱要素のサイズが異なることを特徴とする請
求項1記載の光散乱パターン。 - 【請求項4】光散乱パターン内で、光散乱性の異なる領
域毎に配置される光散乱要素の数が異なることを特徴と
する請求項1〜3の何れかに記載の光散乱パターン。 - 【請求項5】光散乱要素のサイズが、5μm以下である
ことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の光散乱
パターン。 - 【請求項6】前記光散乱要素とは別に、基材表面に凹凸
構造による回折格子が形成されていることを特徴とする
請求項1〜5の何れかに記載の光散乱パターン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001293242A JP2003098324A (ja) | 2001-09-26 | 2001-09-26 | 光散乱パターン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001293242A JP2003098324A (ja) | 2001-09-26 | 2001-09-26 | 光散乱パターン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003098324A true JP2003098324A (ja) | 2003-04-03 |
Family
ID=19115079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001293242A Pending JP2003098324A (ja) | 2001-09-26 | 2001-09-26 | 光散乱パターン |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2003098324A (ja) |
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-
2001
- 2001-09-26 JP JP2001293242A patent/JP2003098324A/ja active Pending
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A521 | Written amendment |
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