JP2003093983A - 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄方法および超音波洗浄装置

Info

Publication number
JP2003093983A
JP2003093983A JP2001295312A JP2001295312A JP2003093983A JP 2003093983 A JP2003093983 A JP 2003093983A JP 2001295312 A JP2001295312 A JP 2001295312A JP 2001295312 A JP2001295312 A JP 2001295312A JP 2003093983 A JP2003093983 A JP 2003093983A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
vacuum
solvent
degree
ultrasonic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001295312A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4036626B2 (ja
Inventor
Shigeru Ueno
茂 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Sharp Manufacturing Systems Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Sharp Manufacturing Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp, Sharp Manufacturing Systems Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2001295312A priority Critical patent/JP4036626B2/ja
Publication of JP2003093983A publication Critical patent/JP2003093983A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4036626B2 publication Critical patent/JP4036626B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い洗浄力を確実に発揮し、しかも洗浄槽へ
の圧力付加が軽減される超音波洗浄方法を提供する。 【解決手段】 洗浄槽を真空にした状態で溶剤に超音波
を加える真空洗浄工程と、洗浄槽を大気圧にした状態で
溶剤に超音波を加える常圧洗浄工程をこの順に行うとと
もに、真空洗浄工程での洗浄槽の真空度を複数段階に設
定する。真空洗浄工程に続いて行う常圧洗浄工程でも、
溶剤はある程度脱気した状態に保たれ、高い洗浄力が得
られる。また、真空洗浄工程では、いずれかの真空度
で、溶剤の脱気の度合いをキャビテーションが発生する
程度にすることが可能であり、洗浄槽内を最高の真空度
とする時間は短くてよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬超音波洗浄に
関し、特に、真空下で行う浸漬超音波洗浄に関する。
【0002】
【従来の技術】洗浄対象物を溶剤に浸漬した状態で溶剤
に超音波を加えることにより対象物を洗浄する浸漬超音
波洗浄は、金属、プラスチック加工部品等の洗浄に広く
採用されてきた。環境保護のためにフロンが全廃されて
以来、代替溶剤を用いる洗浄方法が種々提案されている
が、中でもハロゲンを全く含まず乾燥も容易な炭化水素
系の溶剤を用いた洗浄方法が注目されている。炭化水素
系の溶剤を用いる場合も浸漬超音波洗浄は有用であり、
大気圧下で行うことのほか、真空下で行うことも提案さ
れている。
【0003】大気圧下で浸漬超音波洗浄を行う場合、洗
浄対象物であるワークが表面に袋穴や溝等の微細構造を
有すると、溶媒が入り込まなくなって、部分的に十分な
洗浄ができないことがある。また、ワークの表面が平滑
であっても、ワーク同士が接触していると、そこに溶媒
が入り込まなくなって、やはり洗浄が不十分になること
がある。
【0004】浸漬超音波洗浄はキャビテーション作用を
利用したものであるが、液体にキャビテーションを発生
させるためには、液体中の音圧を一定の閾値以上にする
必要があることが知られている(最新洗浄技術総覧、第
3章、第3節、193−196頁)。ここで、空気が飽
和した液体に比べて脱気した液体の方が閾値が高く、し
たがって、真空度を増すほど脱気の度合いが高まって、
閾値も高くなる。
【0005】また、溶剤の閾値が高いほど、キャビテー
ションが発生したときにはその作用が強くなって、洗浄
力も高くなる。これが、真空下で浸漬超音波洗浄を行う
主な理由である。
【0006】従来の浸漬超音波洗浄方法における洗浄処
理の工程と洗浄槽内の圧力の関係を図5に示す。まず、
洗浄槽に溶剤を入れ、これにワークを浸す。このときの
洗浄槽内の圧力は大気圧すなわち約十万Pa(760to
rr)である。次いで、洗浄槽から空気を排出して、洗浄
槽内を所定の真空度、例えば数千Pa(数十torr)とす
る。そして、この真空度を保った状態で溶剤に超音波を
加えてワークを洗浄する。所定時間の洗浄後、超音波を
止め、洗浄槽内を大気圧に戻して、ワークを洗浄槽から
取り出す。これで洗浄が終了する。
【0007】このように、真空下で浸漬超音波洗浄を行
うと、常圧下で行うときよりも洗浄力が高まり、ワーク
表面の微細構造の汚れやワーク同士が接触している部分
の汚れを、より良好に除去することができる。また、洗
浄時間も短縮される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、真空にするこ
とにより、溶剤の閾値が高くなりすぎて、装置に備えた
超音波発生器の発する超音波の強度を超えることもあ
る。その場合、キャビテーションは発生せず、真空によ
る溶媒の浸透と振動だけによる洗浄となってしまい、真
空下で超音波洗浄を行うことによる本来の洗浄力は得ら
れない。また、発振強度の低い超音波発生器を備えた洗
浄装置の場合は、溶剤の脱気の度合いが低い状態つまり
真空度の低い状態でしかキャビテーションを発生させる
ことができなくなり、発生したキャビテーションの作用
が弱く、高い洗浄力は得られない。
【0009】真空下での超音波洗浄では、キャビテーシ
ョン発生のための閾値が溶剤に実際に加える超音波の音
圧よりも僅かに低くなるように、真空度を設定するのが
理想的である。しかし、その理想的な真空度は超音波発
生器の能力や溶剤の種類によって変動するため、常に確
実に理想的な真空度とすることは難しい。
【0010】内部を真空にする洗浄槽には、当然、耐圧
性が要求される。ここで、洗浄槽を真空度の高い状態に
長時間耐え得るようにしようとすると、装置のコスト増
を招き、また、構造や大きさに制約が生じて、一度に洗
浄できるワークの量が限られてしまう。
【0011】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、高い洗浄力を確実に発揮し、しかも洗浄槽
への圧力付加が軽減される超音波洗浄方法および超音波
洗浄装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、洗浄槽内で洗浄の対象物を溶剤に浸
し、溶剤に超音波を加えることにより対象物を洗浄する
超音波洗浄方法において、洗浄槽を真空にした状態で溶
剤に超音波を加える真空洗浄工程と、洗浄槽を大気圧に
した状態で溶剤に超音波を加える常圧洗浄工程を、この
順に行うとともに、真空洗浄工程での洗浄槽の真空度を
少なくとも2段階に設定するようにする。
【0013】この方法では、浸漬超音波洗浄を真空下と
常圧下で行う。最初の真空洗浄工程では、溶剤が脱気さ
れてキャビテーション発生のための閾値が高くなり、高
い洗浄力が得られる。次の常圧洗浄工程では洗浄槽内は
大気圧に戻されるが、洗浄槽への空気の導入を静かに行
うことにより、溶剤をある程度脱気した状態に保つこと
が可能である。したがって、常圧洗浄工程でも高い洗浄
力が得られる。また、真空洗浄工程を洗浄槽の真空度を
2段階以上に設定して行うため、真空洗浄工程の途中で
キャビテーション発生のための閾値を変えることが可能
である。これにより、溶剤に加える超音波の音圧を一定
にする場合でも、閾値がその音圧よりも低くなり易く、
キャビテーションを発生させて高い洗浄力を得ることが
容易になる。また、洗浄槽内を高い真空度に保つ時間が
短くなって、洗浄槽に必要な耐圧性を低減することがで
きる。
【0014】ここで、真空洗浄工程と常圧洗浄工程とを
1サイクルとして、複数サイクルを行うようにしてもよ
い。対象物をより良好に洗浄することが可能になる。
【0015】その場合、真空洗浄工程での洗浄槽の真空
度をサイクルごとに変化させるとよい。このようにする
と、真空洗浄工程でキャビテーションを発生させて高い
洗浄力を得ることがより確実にできるようになる。ま
た、対象物の洗浄の進行の程度に応じて各サイクルの洗
浄力を変えることができ、洗浄槽の真空度を必要以上に
高めるという無駄も避けられる。
【0016】溶剤としては炭化水素系のものを使用する
とよい。高い洗浄力の確保と環境の保護を両立させるこ
とが可能になる。
【0017】上記目的を達成するために、本発明ではま
た、超音波洗浄装置は、対象物を出し入れするための開
閉可能な蓋を有する洗浄槽と、洗浄槽内に超音波を発生
させる超音波発生器と、洗浄槽を真空にする真空ポンプ
と、洗浄槽に大気を導き入れるバルブとを備え、上記の
いずれかの超音波洗浄方法によって対象物を洗浄するも
のとする。
【0018】真空洗浄工程から常圧洗浄工程に移行する
際にはバルブを介して空気を洗浄槽内に導入することが
可能であり、洗浄槽の蓋は、洗浄開始前に対象物を洗浄
槽に入れるときと洗浄終了後に対象物を洗浄槽から取り
出すとき以外、開く必要がない。したがって、工程の移
行を能率よく行うことができる。また、バルブの開き具
合によって洗浄槽に導入する空気の量を調節することが
可能であり、真空洗浄工程における洗浄槽の真空度の設
定も容易である。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態の超音
波洗浄装置について図面を参照しながら説明する。本実
施形態の超音波洗浄装置1の構成を図1に模式的に示
す。超音波洗浄装置1は、開閉可能な蓋12を有する洗
浄槽11、超音波振動子13、超音波発振器14、ポン
プ15、加温タンク16、濾過器17、真空ポンプ1
8、セパレータ19、2つの空気バルブ20、21、お
よび圧力計22を備えている。
【0020】洗浄槽11は溶剤Sおよび洗浄対象物であ
るワークWを収容する。洗浄槽11と蓋12の接触部に
はパッキングが設けられており、蓋12を閉じることよ
り洗浄槽11は密閉される。超音波振動子13は洗浄槽
11内の下部に配設されており、洗浄槽11に収容され
た溶剤Sに超音波を加える。超音波発振器14は、所定
周波数の信号を超音波振動子13に与えて振動させ、超
音波振動子13に超音波を発生させる。
【0021】ポンプ15はパイプを介して洗浄槽11の
下部に接続されており、自己と洗浄槽11の間で溶剤S
を循環させる。加温タンク16と濾過器17は、洗浄槽
11とポンプ15を接続するパイプの途中、つまり、溶
剤Sの循環路上に配置されている。加温タンク16はヒ
ータ16aを有しており、溶剤Sを加温する。濾過器1
7は内部にフィルタ17aを有しており、溶剤Sに含ま
れる異物を除去する。
【0022】真空ポンプ18は水封式であり、パイプを
介して洗浄槽11の上部に接続されている。真空ポンプ
18は洗浄槽11の空気を吸引して外部に排出し、洗浄
槽11を真空にする。セパレータ19は真空ポンプ18
を水封するためのもので、これにより、真空ポンプ18
によって得られる真空度は数千Pa(数十torr)とな
る。
【0023】バルブ20は洗浄槽11と真空ポンプ18
を接続するパイプの途中に設けられており、洗浄槽11
からの空気の排出路を開閉する。バルブ21は、洗浄槽
11の上部に空気の導入路として設けられたパイプに設
けられており、導入路を開閉する。圧力計22は、洗浄
槽11と真空ポンプ18を接続するパイプのうち、洗浄
槽11とバルブ20の間の部位に取り付けられており、
洗浄槽11内の気圧を検出する。
【0024】超音波洗浄装置1では、溶剤Sを洗浄槽1
1に入れて溶剤SにワークWを浸し、超音波振動子13
から溶剤Sに超音波を加えて溶剤Sにキャビテーション
を発生させることにより、ワークWの洗浄を行う。ワー
クWを洗浄している間ポンプ15によって溶剤Sを循環
させることにより、ワークWから分離し溶剤Sに含まれ
るようになった汚れは異物として濾過器17によって除
去され、溶剤Sの清浄度は略一定に保たれる。また、加
熱タンク16において循環する溶剤Sを加熱することに
より、洗浄槽11内の溶剤の温度を略一定にすることも
できる。
【0025】このような構成の超音波洗浄装置1では、
洗浄時の洗浄槽11内(溶剤Sの上の空間)の真空度
を、真空ポンプ18の能力の範囲内で任意に設定するこ
とができる。洗浄槽11内を真空にして洗浄を行うとき
には蓋12、バルブ20、21を閉じておき、常圧で洗
浄を行うときは、バルブ21を開け、蓋12、バルブ2
0を閉じておく。なお、溶剤Sは、ワークWや汚れの種
類に応じて選択すればよいが、金属、プラスチック加工
部品等を洗浄するときは炭化水素系の溶剤を用いるとよ
い。
【0026】超音波洗浄装置1で実施する本発明の洗浄
方法について説明する。本発明では、洗浄槽11を真空
にした状態で溶剤Sに超音波を加える真空洗浄工程と、
洗浄槽11を大気圧にした状態で溶剤Sに超音波を加え
る常圧洗浄工程とを続けて行う。また、真空洗浄工程で
は、洗浄槽11の真空度を2段階以上にして、各段階の
真空度で溶剤Sに超音波を加える。真空洗浄工程の開始
から常圧洗浄工程の終了まで、洗浄槽11の蓋12は閉
じたままにしておき、真空度の調節は、バルブ21の開
閉と真空ポンプ18の駆動によって行う。
【0027】洗浄処理の工程と洗浄槽11内の圧力の関
係を示す図2を参照して、洗浄処理の流れを説明する。
これは真空洗浄工程での真空度を2段階とする場合の例
である。なお、洗浄に先立ち、洗浄槽11に清浄な溶剤
Sを入れておき、全体が浸るようにワークWを溶剤S中
に入れて、蓋12を閉じておく。また、ポンプ15によ
る溶剤Sの循環を開始しておき、洗浄槽11内の溶剤S
が所定の温度に保たれるように、加熱タンク16による
溶剤Sの加熱も開始しておく。真空ポンプ18も駆動し
て、いつでも減圧可能なようにしておく。
【0028】まず、バルブ21を閉じたままバルブ20
を開いて、洗浄槽11から排気する(減圧工程)。圧力
計22によって検出される洗浄槽11内の圧力が数千P
a(数十torr)に定めた第1の所定値PAになった時点
で、バルブ20を閉じる。次いで、超音波振動子13よ
り溶剤Sに超音波を加えて、ワークWを洗浄する(真空
洗浄工程A)。
【0029】所定時間経過後、溶剤Sに超音波を加える
ことを休止し、バルブ21を少し開いて洗浄槽11に空
気を徐々に導き入れる(加圧工程)。洗浄槽11内の圧
力が数千Paないし数万Pa(数百torr)に定めた第2
の所定値PBになった時点で、バルブ21を閉じる。そ
して、溶剤Sに超音波を加えることを再開し、ワークW
を洗浄する(真空洗浄工程B)。
【0030】所定時間経過後、溶剤Sに超音波を加える
ことを休止し、バルブ21を少し開いて真空槽11に空
気を徐々に導き入れる(加圧工程)。洗浄槽11内の圧
力が大気圧(約十万Pa)に戻った時点で、バルブ21
を閉じる。そして、溶剤Sに超音波を加えることを再開
し、ワークWを洗浄する(常圧洗浄工程)。所定時間経
過後、溶剤Sに超音波を加えることを止めて洗浄を終了
し、蓋12を開けてワークWを取り出す。取り出したワ
ークWは、真空乾燥等の適当な方法で乾燥する。
【0031】減圧工程で洗浄槽11内を真空にすること
により溶剤Sは高度に脱気され、その状態で真空洗浄工
程が行われる。ここで、溶剤Sに生じるキャビテーショ
ンの作用が強くなるようにキャビテーション発生の閾値
を高くするのが望ましく、そのためには洗浄槽11内の
真空度はできるだけ高くするのがよい。しかし、その一
方で、溶剤Sの脱気の度合いをあまりに高めると、キャ
ビテーション発生の閾値が超音波振動子13から溶剤S
に加える超音波の音圧を超えるおそれがあり、洗浄槽1
1内の真空度を高くしすぎるとキャビテーションを発生
させることができなくなる。したがって、真空洗浄工程
における真空度を最適に設定するのは難しく、そのため
には超音波振動子13の能力、溶剤の種類、温度等も考
慮する必要がある。
【0032】しかし、真空洗浄工程を2段階以上の真空
度で行うことで、溶剤Sの脱気の度合いを変化させるこ
とが可能であり、これにより、ほぼ確実に溶剤Sにキャ
ビテーションを発生させることができる。特に、洗浄槽
11内の圧力を数万Paとする場合は、超音波振動子1
3として特に高出力のものを用いなくても、炭化水素系
の溶剤に確実にキャビテーションを発生させることがで
きる。
【0033】図2に示した例では、仮に最初の真空洗浄
工程Aでキャビテーションが発生しなかったとしても、
次の真空洗浄工程Bにおいて確実にキャビテーションが
発生する。また、真空洗浄工程Aでキャビテーションが
発生すれば、その作用は強いから、より高い洗浄力が得
られることになる。
【0034】常圧洗浄工程は真空洗浄工程に続いて行わ
れ、しかも、常圧に戻すための真空槽11への空気の導
入は徐々になされて溶剤Sに乱れを生じさせないため、
常圧洗浄工程でも溶剤Sの脱気度はある程度以上に保た
れる。したがって、常圧洗浄工程においても、発生した
キャビテーションの作用は強く、高い洗浄力が得られ
る。
【0035】洗浄槽11は、最も高い真空度に耐え得る
だけの耐圧性を有しなければならないが、洗浄中常に最
も高い真空度とされるわけではないので、特殊な構造と
する必要はない。したがって、洗浄槽11は比較的低コ
ストとなり、また、大型化も容易である。洗浄槽11を
大型化すると、一度に洗浄できるワークWの量が増し
て、洗浄効率が向上する。
【0036】なお、図2に示した例では、最初の真空洗
浄工程Aの真空度を高くし、これに続く真空洗浄工程B
の真空度を低下させているが、逆にしてもかまわない。
ただし、最初の真空洗浄工程Aの真空度を高くする方
が、制御が容易である。また、ここでは、工程と工程の
間の期間は溶剤Sに超音波を加えるのを休止している
が、工程間の期間に超音波を加えるようにしてもかまわ
ない。
【0037】真空洗浄工程と常圧洗浄工程とを1サイク
ルとし、蓋12を開くことなく、複数サイクルを続けて
行うようにしてもよい。ワークWを一層良好に洗浄する
ことが可能になる。この例を図3に示す。これは、各サ
イクルの真空洗浄工程の真空度を、図2の例と同様に、
2段階に設定するとともに、最初のサイクルの真空洗浄
工程A、Bと次のサイクルの真空洗浄工程C、Dの真空
度を異ならせたときのものである。
【0038】真空洗浄工程の2段階以上の真空度をサイ
クル間で同じに設定してもよい。しかし、図3に示した
例のように、真空洗浄工程での真空度をサイクル間で相
違させるようにすると、溶剤Sを種類の異なるものに替
えるときでも、確実にキャビテーションを発生させて高
い洗浄力を得ることができる。また、ワークWの洗浄の
進行の程度に応じて各サイクルの洗浄力を変えることも
可能になって、洗浄槽の真空度を必要以上に高めるとい
う無駄を避けることもできる。さらに、洗浄槽11に最
高の圧力が加わる時間を短くすることも可能になる。
【0039】真空洗浄工程および常圧洗浄工程の時間は
任意に定めることができる。例えば、溶剤Sとして炭化
水素系のものを用いて、金属製やプラスチック製のワー
クWを洗浄する場合、真空洗浄工程と常圧洗浄工程をそ
れぞれ2分行えば、従来よりも短い時間でより良好な洗
浄結果を得ることが可能である。真空洗浄工程の全時間
の各真空度の工程への配分も任意に定めてよい。例え
ば、図2のように真空洗浄工程の真空度を2段階とし
て、真空洗浄工程A、Bの時間の和を2分とする場合、
真空洗浄工程A、Bをそれぞれ1分とすることもできる
し、真空洗浄工程Aを30秒、真空洗浄工程Bを1分3
0秒とすることもできる。
【0040】真空洗浄工程に続いて常圧洗浄工程を行う
ことの有用性を確認するために、次の試験を行った。ワ
ークWとしては、M5×L50のキャップボルトを平ワ
ッシャ20枚に通し、ワッシャを2つのナットで両側か
ら挟んで締め付けたものを用いた。ワークWは、個々の
構成部品を、脱脂洗浄した後JIS1種1号品の油に一
定時間浸し、次いで一定時間油切りを行って、上記のよ
うに組み合わせることにより調製した。
【0041】溶剤SとしてはHC−250を用い、溶剤
Sの温度は35℃とした。また、超音波振動子13が発
する超音波の周波数は40kHzとした。真空洗浄工程
での洗浄槽11内の圧力は9330Pa(70torr)と
し、真空洗浄工程の時間は1分、常圧洗浄工程の時間は
4分とした。試験における工程と洗浄槽11内の真空度
の関係を図4に示す。洗浄後、ワークWを乾燥し、フー
リエ変換赤外(FT−IR)分光光度計によって、ワー
クWに残存している油の量を測定して、洗浄による除去
率を算出した。
【0042】比較のために、同一条件で調製したワーク
Wを従来の2通りの洗浄方法で洗浄して、同様に除去率
を算出した。比較例1では、洗浄槽11を真空にするこ
となく、したがって、溶剤Sを脱気することなく、常圧
で5分間洗浄した。比較例2では、洗浄槽11内の圧力
を9330Paとし、5分間洗浄した。溶剤Sの種類、
温度、溶剤Sに加える超音波等の他の条件は、上記の試
験例と同じ設定である。
【0043】結果をまとめて表に示す。 <表> 比較例1 比較例2 試験例 (常圧洗浄) (真空洗浄)(真空洗浄+常圧洗浄) 油分除去率(%) 4.7 77.7 80.3
【0044】比較例1と比較例2より明らかなように、
真空洗浄では、脱気を行わない常圧洗浄に比べて、はる
かに高い清浄力が得られる。また、比較例2と試験例よ
り判るように、真空洗浄に続いて常圧洗浄を行うと、一
層高い洗浄力が得られる。しかも、試験例での真空洗浄
工程の時間は1分のみであり、試験例の洗浄力は、主と
して、溶剤Sから脱気した状態での常圧洗浄工程で発揮
されたことが判る。この試験例では真空洗浄工程の真空
度を1段階のみとしているが、真空洗浄工程の真空度を
2段階以上とすると、各真空度ごとに固有の洗浄力が定
まり、しかもそれらの洗浄力は常圧洗浄工程での洗浄力
以上であるから、さらに高い洗浄力が得られることにな
る。
【0045】なお、本実施形態で示した装置構成や真空
度等の具体的な値は例にすぎず、他の構成や値とするこ
とも可能である。特に、真空洗浄工程における真空度お
よびその段階数ならびに各工程の時間は、使用する溶剤
Sに応じて設定するのが好ましい。
【0046】
【発明の効果】洗浄槽を真空にした状態で溶剤に超音波
を加える真空洗浄工程と、洗浄槽を大気圧にした状態で
溶剤に超音波を加える常圧洗浄工程を、この順に行うと
ともに、真空洗浄工程での洗浄槽の真空度を少なくとも
2段階に設定するようにした本発明の超音波洗浄方法で
は、真空洗浄工程だけでなくこれに続く常圧洗浄工程も
溶剤を脱気した状態で洗浄を行うことができるため、高
い洗浄力が得られる。また、真空洗浄工程を洗浄槽の真
空度を2段階以上に設定して行うから、真空洗浄工程の
途中でキャビテーション発生のための閾値を変えること
が可能であり、溶剤に加える超音波の音圧を一定にする
場合でも、キャビテーションを発生させて高い洗浄力を
得ることが容易になる。
【0047】しかも、洗浄槽内を高い真空度に保つ時間
を短くすることが可能であり、洗浄槽にあまり高度な耐
圧性が必要でなくなる。したがって、低コストで実施す
ることが可能であり、また、洗浄槽を大きくして一度に
洗浄できる対象物の量を増すことも容易になる。
【0048】真空洗浄工程と常圧洗浄工程とを1サイク
ルとして、複数サイクルを行うようにすると、対象物を
より良好に洗浄することができる。
【0049】その際、真空洗浄工程での洗浄槽の真空度
をサイクルごとに変化させるようにすると、キャビテー
ションを発生させて高い洗浄力を得ることがより確実に
できるようになる上、対象物の洗浄の進行の程度に応じ
て各サイクルの洗浄力を変えることができて、洗浄槽の
真空度を必要以上に高めるという無駄も避けられる。
【0050】炭化水素系の溶剤を使用すると、高い洗浄
力の確保と環境の保護を両立させることができる。
【0051】対象物を出し入れするための開閉可能な蓋
を有する洗浄槽と、洗浄槽内に超音波を発生させる超音
波発生器と、洗浄槽を真空にする真空ポンプと、洗浄槽
に大気を導き入れるバルブとを備え、上記のいずれかの
超音波洗浄方法によって対象物を洗浄するようにした本
発明の超音波洗浄装置では、対象物を良好にかつ能率よ
く洗浄することが可能である。また、洗浄槽にあまり高
度な耐圧性が必要でないから、低コストで実現すること
ができ、洗浄槽を大型化して一度に多量の対象物を洗浄
することも可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の構成
を模式的に示す図。
【図2】 上記超音波洗浄装置での洗浄処理の工程と洗
浄槽の真空度の関係の例を示す図。
【図3】 上記超音波洗浄装置での洗浄処理の工程と洗
浄槽の真空度の関係の他の例を示す図。
【図4】 上記超音波洗浄装置で試験に採用した洗浄処
理の工程と洗浄槽の真空度の関係を示す図。
【図5】 従来の洗浄処理の工程と洗浄槽の真空度の関
係の例を示す図。
【符号の説明】
1 超音波洗浄装置 11 洗浄槽 12 蓋 13 超音波振動子 14 超音波発振器 15 ポンプ 16 加温タンク 16a ヒータ 17 濾過器 17a フィルタ 18 真空ポンプ 19 セパレータ 20 バルブ 21 バルブ 22 圧力計 S 溶剤 W ワーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 茂 大阪府八尾市跡部本町4丁目1番33号 シ ャープマニファクチャリングシステム株式 会社内 Fターム(参考) 3B201 AA20 AB01 BB01 BB72 BB82 BB83 BB92 BB95 CD11 CD41

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄槽内で洗浄の対象物を溶剤に浸し、
    溶剤に超音波を加えることにより対象物を洗浄する超音
    波洗浄方法において、 洗浄槽を真空にした状態で溶剤に超音波を加える真空洗
    浄工程と、洗浄槽を大気圧にした状態で溶剤に超音波を
    加える常圧洗浄工程を、この順に行うとともに、真空洗
    浄工程での洗浄槽の真空度を少なくとも2段階に設定す
    ることを特徴とする超音波洗浄方法。
  2. 【請求項2】 真空洗浄工程と常圧洗浄工程とを1サイ
    クルとして、複数サイクルを行うことを特徴とする請求
    項1に記載の超音波洗浄方法。
  3. 【請求項3】 真空洗浄工程での洗浄槽の真空度をサイ
    クルごとに変化させることを特徴とする請求項2に記載
    の超音波洗浄方法。
  4. 【請求項4】 炭化水素系の溶剤を使用することを特徴
    とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載
    の超音波洗浄方法。
  5. 【請求項5】 対象物を出し入れするための開閉可能な
    蓋を有する洗浄槽と、洗浄槽内に超音波を発生させる超
    音波発生器と、洗浄槽を真空にする真空ポンプと、洗浄
    槽に大気を導き入れるバルブとを備え、請求項1から請
    求項4までのいずれか1項に記載の超音波洗浄方法によ
    って対象物を洗浄することを特徴とする超音波洗浄装
    置。
JP2001295312A 2001-09-27 2001-09-27 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置 Expired - Lifetime JP4036626B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001295312A JP4036626B2 (ja) 2001-09-27 2001-09-27 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001295312A JP4036626B2 (ja) 2001-09-27 2001-09-27 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003093983A true JP2003093983A (ja) 2003-04-02
JP4036626B2 JP4036626B2 (ja) 2008-01-23

Family

ID=19116771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001295312A Expired - Lifetime JP4036626B2 (ja) 2001-09-27 2001-09-27 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4036626B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007250726A (ja) * 2006-03-15 2007-09-27 Tokyo Electron Ltd 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体
JP2008228863A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 超音波洗浄装置および同装置を用いた食器洗い機および超音波洗浄方法
CN103170476A (zh) * 2011-12-26 2013-06-26 硅电子股份公司 超声波清洁法
CN103894366A (zh) * 2012-12-28 2014-07-02 赫菲斯热处理系统江苏有限公司 一种真空清洗室
CN104550113A (zh) * 2014-12-25 2015-04-29 重庆渝江压铸有限公司 超声波工件清洗机
CN113731937A (zh) * 2021-09-10 2021-12-03 山东新华医疗器械股份有限公司 真空超声波清洗机压力控制优化方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103894367A (zh) * 2012-12-28 2014-07-02 赫菲斯热处理系统江苏有限公司 一种热处理生产线用真空清洗机
CN104889104A (zh) * 2015-06-05 2015-09-09 无锡市羊尖盛裕机械配件厂 一种超声波清洗装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007250726A (ja) * 2006-03-15 2007-09-27 Tokyo Electron Ltd 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体
KR101191549B1 (ko) * 2006-03-15 2012-10-15 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 세정 방법, 기판 세정 장치 및 프로그램 기록 매체
US8347901B2 (en) 2006-03-15 2013-01-08 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning method, substrate cleaning system and program storage medium
US9358588B2 (en) 2006-03-15 2016-06-07 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning method, substrate cleaning system and program storage medium
JP2008228863A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 超音波洗浄装置および同装置を用いた食器洗い機および超音波洗浄方法
CN103170476A (zh) * 2011-12-26 2013-06-26 硅电子股份公司 超声波清洁法
CN103170476B (zh) * 2011-12-26 2016-03-30 硅电子股份公司 超声波清洁法
CN103894366A (zh) * 2012-12-28 2014-07-02 赫菲斯热处理系统江苏有限公司 一种真空清洗室
CN104550113A (zh) * 2014-12-25 2015-04-29 重庆渝江压铸有限公司 超声波工件清洗机
CN113731937A (zh) * 2021-09-10 2021-12-03 山东新华医疗器械股份有限公司 真空超声波清洗机压力控制优化方法
CN113731937B (zh) * 2021-09-10 2023-04-14 山东新华医疗器械股份有限公司 真空超声波清洗机压力控制优化方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4036626B2 (ja) 2008-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940702773A (ko) 인벌류우트된 미세 부분의 울트라클리이닝(ultracleaning of involuted microparts)
JPH0833877A (ja) 超音波処理装置
JP4272193B2 (ja) 部品洗浄乾燥方法、及び部品洗浄乾燥装置
JP2003093983A (ja) 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
KR100734698B1 (ko) 공압을 이용한 진동과 스프레이 겸용 자동세척장치
CN101154558A (zh) 刻蚀设备组件的清洗方法
JP2007130037A (ja) 医療用器具洗浄装置、及び、医療用器具洗浄方法
JP2007287790A (ja) 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体
JP2003080187A (ja) 部品洗浄乾燥方法、及び部品洗浄乾燥装置
JP2977922B2 (ja) 圧力スイング洗浄方法および装置
JP2005324177A (ja) 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置
JP4636840B2 (ja) 洗浄方法、及び、洗浄装置
JP2009113028A (ja) 洗浄方法および洗浄装置
JPH05169039A (ja) 超音波洗浄方法
JP3397241B2 (ja) 部品類の乾燥方法及び乾燥装置
JP2000325893A (ja) 洗浄装置
JPH11329241A (ja) ランプ用管体の洗浄方法
JPH1034097A (ja) 洗浄装置
JP3184672B2 (ja) 金属品洗浄方法及び金属品洗浄装置
JP3052103B2 (ja) 真空脱脂洗浄装置
JPH1022245A (ja) 半導体素子の異物除去方法及びその装置
JP3186751B2 (ja) 洗浄方法
JPH0517887A (ja) ワーク洗浄方法及び洗浄装置
JPH0780425A (ja) 脱脂洗浄方法
JPH09806A (ja) 脱気液製造方法及び装置及び超音波洗浄方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040618

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070201

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070626

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070719

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070910

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20071015

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071030

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071030

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4036626

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131109

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350