JP2003077988A - Semiconductor wafer mounting method and cassette used therefor - Google Patents

Semiconductor wafer mounting method and cassette used therefor

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JP2003077988A
JP2003077988A JP2001269946A JP2001269946A JP2003077988A JP 2003077988 A JP2003077988 A JP 2003077988A JP 2001269946 A JP2001269946 A JP 2001269946A JP 2001269946 A JP2001269946 A JP 2001269946A JP 2003077988 A JP2003077988 A JP 2003077988A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor wafer mounting method handling a thin semiconductor wafer and a cassette used for it. SOLUTION: The wafers W processed thin by finishing background processing are mounted on a support plate 20 in the state that reverses are upward in the cassette C1 and stored in multiple stages in the state that they are sucked and held. The wafers W are taken out to be sucked and held from upward (reverse side of wafer) by an edge ring-like arm 2 from the cassette C1 charged in a mounting device, and consistently handled in the state that the reverses of the wafers W are upward in transferring and mounting them to an alignment stage 4 and transferring and mounting them from the alignment stage 4 to a mounting table 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハの
マウント方法およびこれに用いるカセットに係り、特
に、厚みの薄いウエハを取り扱う技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer mounting method and a cassette used therefor, and more particularly to a technique for handling thin wafers.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、処理対象である半導体ウエハは次
のようにしてマウントテーブル(粘着テープを介してリ
ング状のフレームに半導体ウエハをマウントするための
テーブル)に搬送されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor wafer to be processed is transported to a mount table (a table for mounting a semiconductor wafer on a ring-shaped frame via an adhesive tape) as follows.

【0003】パターン形成処理が済んで裏面を研磨(以
下、単に「バックグラインド」という)された半導体ウ
エハ(以下、適宜「ウエハ」という)は、ロボットアー
ムを備えた搬送機構によって搬送され、パターン面を上
向きにした状態でカセットに多段に収納されている。
A semiconductor wafer (hereinafter, referred to as "wafer" as appropriate) whose back surface is polished (hereinafter, simply referred to as "back grinding") after pattern formation processing is carried by a carrying mechanism equipped with a robot arm to form a pattern surface. It is stored in multiple stages in a cassette with the face up.

【0004】このとき、図6に示すようなカセットCa
が使用される。つまり、カセットCaは、ウエハの周縁
部および中央部を保持する支持プレート31が設けられ
ている。
At this time, the cassette Ca as shown in FIG.
Is used. That is, the cassette Ca is provided with the support plate 31 that holds the peripheral portion and the central portion of the wafer.

【0005】そして、カセットCaからウエハを取り出
すロボットアームの先端部32は、図7に示すように、
先端部33が櫛状のものが使用されている。
Then, as shown in FIG. 7, the tip portion 32 of the robot arm for taking out the wafer from the cassette Ca is
A comb-shaped tip 33 is used.

【0006】このようにウエハが多段に収納されたカセ
ットは、マウント工程へと搬送される。次いでマウント
工程では、搬送機構のロボットアームの先端部がウエハ
の下方に挿入され、ウエハをすくい上げるとともに吸着
保持して取り出し、アライメントステージに搬送する。
The cassette in which the wafers are stored in multiple stages as described above is transported to the mounting step. Next, in the mounting step, the tip of the robot arm of the transfer mechanism is inserted below the wafer, and the wafer is picked up, sucked and held, taken out, and transferred to the alignment stage.

【0007】アライメントステージにパターン面を上向
きに載置されて位置合わせ処理が済んだウエハは、下方
からロボットアームによって吸着保持されてマウントテ
ーブルへと搬送される。この搬送過程でロボットアーム
が旋回し、ウエハ面を反転、つまりウエハの裏面を上向
きしてマウントテーブルに搬送している。
The wafer, which is placed on the alignment stage with its pattern surface facing upward and has undergone the alignment process, is adsorbed and held by the robot arm from below and is conveyed to the mount table. In this transfer process, the robot arm is rotated and the wafer surface is reversed, that is, the back surface of the wafer is transferred upward and transferred to the mount table.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】現在の市場では、厚み
が200μm以上の半導体ウエハが使用されている。し
かし、近年、半導体ウエハは高密度実装の要求に伴い、
ウエハの厚みが200μm未満の150〜50μmと、
次第に薄くなる傾向にある。
In the present market, semiconductor wafers having a thickness of 200 μm or more are used. However, in recent years, with the demand for high-density mounting of semiconductor wafers,
The thickness of the wafer is 150 to 50 μm, which is less than 200 μm,
It tends to become thinner gradually.

【0009】そこで、ウエハの厚みが200μm未満に
なると現状の半導体ウエハのマウント方法では、次のよ
うな問題が発生する。ウエハが薄くなるとバックグライ
ンド後に残る加工応力に対する剛性が低下しているので
ウエハの歪みが大きくなる。
Therefore, when the thickness of the wafer is less than 200 μm, the following problems occur in the current semiconductor wafer mounting method. As the wafer becomes thinner, the rigidity of the wafer against the processing stress remaining after back grinding decreases, so that the distortion of the wafer increases.

【0010】ウエハの歪みが大きくなると、ロボットア
ームの先端部をウエハの下に挿入してすくい上げなら吸
着保持する際、吸着保持が確実に行なえずに取り出しエ
ラーになったり、または吸着が不十分のまま取り出され
たりする。吸着保持が不十分のまま取り出されたウエハ
を各工程に搬送する際、例えば、マウントンテーブルに
搬送される過程でロボットアームを旋回させて裏面が上
向きになるようウエハを反転させるとき、ウエハが落下
してしまうといった問題が発生する。
When the distortion of the wafer becomes large, when the tip portion of the robot arm is inserted under the wafer and suction-holding by scooping, the suction-holding cannot be performed reliably and a take-out error occurs, or the suction is insufficient. It is taken out as it is. When a wafer that has been taken out with insufficient suction and hold is transferred to each process, for example, when the wafer is turned upside down by rotating the robot arm in the process of being transferred to the mount table, the wafer Problems such as falling will occur.

【0011】また、薄く加工されたウエハのエッジは先
鋭となっているので、カセットに収納されたのち、カセ
ットを移送する最中にカセット壁面にウエハの周端(エ
ッジ)が当たると、ウエハのエッジが損傷したり、カセ
ット壁面にウエハが食い込んだりする。また、ウエハが
カセット壁面に食い込むと、ウエハを取り出すときに取
り出しエラーや、エッジに損傷を与えるといった問題が
発生する恐れがある。
Further, since the edge of the thinly processed wafer is sharp, if the wafer is stored in the cassette and the peripheral edge (edge) of the wafer hits the wall surface of the cassette during transfer of the cassette, the wafer is The edge may be damaged or the wafer may get stuck in the cassette wall. Further, if the wafer bites into the wall surface of the cassette, problems such as a take-out error when taking out the wafer and damage to the edge may occur.

【0012】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、厚みの薄い半導体ウエハを取り扱う
ことのできる半導体ウエハのマウント方法およびこれに
用いるカセットを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor wafer mounting method and a cassette used therefor which can handle a thin semiconductor wafer.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、粘着テープを介してリン
グ状フレームに半導体ウエハを保持する半導体ウエハの
マウント方法であって、裏面を上向きにしてカセット内
に多段収納された複数枚の半導体ウエハを取り出して搬
送し、裏面を上向きにした状態で位置合わせ行なう過程
と、前記位置合わせを行った半導体ウエハを搬送し、裏
面を上向きにした状態でマウントテーブルに載置して粘
着テープを貼り付けることにより、粘着テープを介して
リング状フレームに半導体ウエハを保持する過程とを備
えたものである。
The present invention has the following constitution in order to achieve such an object. That is, the invention according to claim 1 is a method of mounting a semiconductor wafer in which a semiconductor wafer is held in a ring-shaped frame via an adhesive tape, wherein a plurality of semiconductors are stored in a cassette with a back surface facing upward. The process of taking out the wafer, transporting it, and aligning it with the back surface facing upward, and transporting the aligned semiconductor wafer, placing it on the mount table with the back surface facing upward, and applying adhesive tape By attaching the semiconductor wafer to the ring-shaped frame via the adhesive tape, the semiconductor wafer is held.

【0014】また、請求項2に記載の発明は、さらに、
半導体ウエハのパターン面に貼られた保護テープを剥離
する過程を備えたものである。
Further, the invention according to claim 2 further comprises:
It is provided with a process of peeling off the protective tape attached to the pattern surface of the semiconductor wafer.

【0015】また、請求項3に記載の発明は、複数枚の
半導体ウエハを多段に収納するカセットであって、前記
カセットは、半導体ウエハの裏面を上向きにして載置す
る支持部を備えたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a cassette for accommodating a plurality of semiconductor wafers in multiple stages, the cassette having a support portion for mounting the semiconductor wafer with its back surface facing upward. Is.

【0016】さらに、請求項4に記載の発明は、請求項
3に記載のカセットにおいて、前記カセットは、半導体
ウエハを吸着保持する吸着手段を支持部に備えたもので
ある。
Further, in the invention described in claim 4, in the cassette described in claim 3, the cassette is provided with a suction means for sucking and holding a semiconductor wafer in a supporting portion.

【0017】本明細書は、次のような解決手段も開示し
ている。
The present specification also discloses the following solutions.

【0018】(1)半導体ウエハを搬送する搬送機構で
あって、半導体ウエハの周縁領域を吸着保持する吸着手
段を備えたことを特徴とする半導体マウント装置。
(1) A semiconductor mounting device which is a transfer mechanism for transferring a semiconductor wafer, and is provided with a suction means for suction-holding a peripheral region of the semiconductor wafer.

【0019】前記(1)の発明によれば、周縁領域を吸
着保持する吸着手段を備えているので、半導体ウエハを
撓ますことなく吸着保持することができる、結果、半導
体ウエハを安定保持して搬送することができる。
According to the invention of (1), since the suction means for sucking and holding the peripheral area is provided, the semiconductor wafer can be sucked and held without bending, and as a result, the semiconductor wafer can be stably held. Can be transported.

【0020】[0020]

【作用】請求項1に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。すなわち、裏面を上向きにした状態で複数枚の半導
体ウエハがカセットに多段に収納されているので、取り
出し対象の半導体ウエハを上方から吸着保持してカセッ
トから取り出せる。また、取り出した半導体ウエハは、
裏面を上向きにした状態で位置合わせが行われるので、
マウントテーブルに搬送されるまでの間、常に半導体ウ
エハの裏面が上向きになるようにされている。つまり、
従来装置の半導体ウエハの搬送機構には、半導体ウエハ
を反転させる反転機構が備わっていたがこの機構が不要
となる。したがって、半導体ウエハ反転時にともなう半
導体ウエハの落下が防止される。
The operation of the invention described in claim 1 is as follows. That is, since a plurality of semiconductor wafers are stored in a cassette in multiple stages with the back surface facing upward, the semiconductor wafers to be taken out can be sucked and held from above and taken out from the cassette. Also, the semiconductor wafer taken out is
Since the alignment is done with the back side facing up,
The back surface of the semiconductor wafer is always directed upward until it is transported to the mount table. That is,
The semiconductor wafer transfer mechanism of the conventional apparatus has a reversing mechanism for reversing the semiconductor wafer, but this mechanism is not necessary. Therefore, the semiconductor wafer is prevented from dropping when the semiconductor wafer is turned over.

【0021】また、請求項2に記載の発明によれば、マ
ウントテーブルで粘着テープを介して半導体ウエハとリ
ング状フレームとが一体化され、払い出された半導体ウ
エハの表面(パターン面)から保護テープが剥離され
る。
According to the second aspect of the invention, the semiconductor wafer and the ring-shaped frame are integrated with each other via the adhesive tape on the mount table, and the semiconductor wafer and the ring-shaped frame are protected from the surface (pattern surface) of the dispensed semiconductor wafer. The tape is peeled off.

【0022】また、請求項3に記載の発明によれば、半
導体ウエハの裏面を上向きにしてカセット内に多段に収
納することができる。つまり、請求項1の方法を好適に
実現することができる。
According to the third aspect of the invention, it is possible to store the semiconductor wafers in multiple stages in the cassette with the back surface facing upward. That is, the method of claim 1 can be preferably realized.

【0023】さらに、請求項4に記載の発明によれば、
支持部に載置された半導体ウエハが吸着保持されるの
で、カセット内で半導体ウエハが移動することなく安定
した状態で保持される。
Further, according to the invention of claim 4,
Since the semiconductor wafer placed on the supporting portion is sucked and held, the semiconductor wafer is held in a stable state without moving in the cassette.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
一実施例を説明する。図1は本発明の半導体ウエハ(以
下、単に「ウエハ」という)のマウント装置の全体構成
を示した図、図2はウエハを多段に収納するカセットの
図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a semiconductor wafer (hereinafter, simply referred to as “wafer”) mounting device of the present invention, and FIG. 2 is a diagram of a cassette for accommodating wafers in multiple stages.

【0025】この半導体ウエハのマウント装置は、バッ
クグラインド処理を受けたウエハWを多段に収納したカ
セットC1が装填されるウエハ供給部1、第1ロボット
アーム2が装備されたウエハ搬送機構3、ウエハWを位
置合わせするアライメントステージ4、リング状フレー
ムであるフレームfの位置合わせをするアライメントス
テージ5、フレームfとウエハWを載置するマウントテ
ーブル6、粘着テープTをマウントテーブル6に供給す
るテープ供給部7、粘着テープTの貼付け後の残存テー
プを回収するテープ回収部8、ウエハWとフレームfと
が一体化したマウントフレームFを搬送する第2ロボッ
トアーム9が装備された搬送機構10、パターン面に貼
付けられた保護テープPを剥離する剥離部位11、剥離
テープTpを剥離部位11へ供給するテープ供給部1
2、剥離された処理済みの剥離テープTpを巻き取り回
収するテープ回収部14、処理済みのウエハWの製造番
号を読み取る文字認識部15、マウントフレームFにバ
ーコードラベルを貼り付けるプリンタ16、マウントフ
レームFを多段に収納するためのカセットC2が装填さ
れるマウントフレーム回収部17などが基台18の上部
に備えられている。
This semiconductor wafer mounting apparatus includes a wafer supply unit 1 in which a cassette C1 in which a plurality of wafers W subjected to back grinding processing are stored is loaded, a wafer transfer mechanism 3 equipped with a first robot arm 2, and a wafer. Alignment stage 4 for aligning W, alignment stage 5 for aligning frame f, which is a ring-shaped frame, mount table 6 for mounting frame f and wafer W, adhesive tape T for supplying to mount table 6 Part 7, a tape collecting part 8 for collecting the residual tape after the adhesive tape T is attached, a transfer mechanism 10 equipped with a second robot arm 9 for transferring the mount frame F in which the wafer W and the frame f are integrated, and a pattern The peeling site 11 for peeling off the protective tape P attached to the surface and the peeling tape Tp Place tape supply unit 1 for supplying to 11
2, a tape collecting unit 14 that winds and collects the peeled and processed peeling tape Tp, a character recognition unit 15 that reads the serial number of the processed wafer W, a printer 16 that attaches a barcode label to the mount frame F, and a mount A mount frame recovery unit 17 in which the cassettes C2 for accommodating the frames F in multiple stages are loaded is provided on the upper portion of the base 18.

【0026】ここで、ウエハ供給部1、ウエハ搬送機構
3、アライメントステージ4,5、マウントテーブル
6、ウエハ搬送機構10、剥離部位11、文字認識部1
5、プリンタ15、およびウエハ回収部17が基台18
の上面に配備されているのに対して、テープ貼り付けユ
ニットなどからなるテープ供給部7とテープ回収8は、
マウントテーブル6を跨ぐ形で図示しない部材に摺動自
在に配備されている。また剥離テープTpを供給するテ
ープ供給部12とテープ回収部14とが基台12の上面
に立設した図示しない縦壁の前面に装備される。
Here, the wafer supply unit 1, the wafer transfer mechanism 3, the alignment stages 4 and 5, the mount table 6, the wafer transfer mechanism 10, the peeling portion 11, and the character recognition unit 1 are provided.
5, the printer 15, and the wafer recovery unit 17 are the base 18
On the other hand, the tape supply unit 7 and the tape recovery unit 8 which are composed of a tape attaching unit
The mount table 6 is slidably arranged on a member (not shown) so as to straddle the mount table 6. Further, a tape supply unit 12 for supplying the peeling tape Tp and a tape recovery unit 14 are provided on the front surface of a vertical wall (not shown) standing on the upper surface of the base 12.

【0027】ウエハ供給部1は、保護テープPが貼付け
られた面を下向き、つまり裏面を上向きにした水平姿勢
のウエハWをカセットC1の各段に設けられた支持プレ
ート20上に載置し、これら複数枚のウエハWが多段収
納されたカセットC1をカセット台の上に装填するよう
になっている。カセット台は図示しないエアーシリンダ
よって旋回されて向き変更可能となっている。
The wafer supply unit 1 places a wafer W in a horizontal position with the surface on which the protective tape P is attached facing downward, that is, the back surface facing upward, on a support plate 20 provided at each stage of the cassette C1, A cassette C1 in which a plurality of these wafers W are stored in multiple stages is loaded on a cassette table. The cassette base can be rotated by an air cylinder (not shown) to change its direction.

【0028】また、カセットC1は、本実施例の特徴的
な構成を有している。以下、図2および図3を参照しな
がら、さらに具体的に説明する。カセットC1は、パタ
ーン面が保護テープPによって保護された状態のウエハ
Wがパターン面を下向きにした状態で載置することがで
きるように、カセットC1の内面積と略同形状をした平
板状の支持プレート20が多段に設けられている。この
支持プレート20の中央部にはウエハWを真空吸着して
保持するための吸着孔21が設けられている。この吸着
孔21は、支持プレート20の内部の管22を介して電
磁弁23と接続されている。
The cassette C1 has the characteristic structure of this embodiment. Hereinafter, a more specific description will be given with reference to FIGS. 2 and 3. The cassette C1 has a flat plate shape that is substantially the same as the internal area of the cassette C1 so that the wafer W whose pattern surface is protected by the protective tape P can be placed with the pattern surface facing downward. The support plates 20 are provided in multiple stages. A suction hole 21 for vacuum-sucking and holding the wafer W is provided in the center of the support plate 20. The suction hole 21 is connected to a solenoid valve 23 via a pipe 22 inside the support plate 20.

【0029】電磁弁23は、各支持プレート20に設け
られており、カセットC1の上部からエアー継ぎ手24
を介して真空源25と接続されている。エアー継ぎ手2
4は、例えばワンタッチで着脱可能なものが使用され
る。また、カセットC1の後部側面にウエハWの収納段
数、つまり支持プレート20の数に応じたコネクタ26
が設けられている。このコネクタ26は各段の電磁弁2
3を独立に制御する信号を伝えるためのものである。
A solenoid valve 23 is provided on each support plate 20, and an air joint 24 is provided from the top of the cassette C1.
It is connected to the vacuum source 25 via. Air joint 2
For example, one that can be attached / detached with one touch is used as 4. Further, on the rear side surface of the cassette C1, the connectors 26 corresponding to the number of storage stages of the wafer W, that is, the number of the support plates 20 are provided.
Is provided. This connector 26 is for each stage of the solenoid valve 2
It is for transmitting a signal for controlling 3 independently.

【0030】つまり、任意の箇所の支持プレート20に
載置されるウエハWは、支持プレート20に載置される
と同時に電磁弁23が開放(オン)にされて、吸着孔2
1によって吸着保持されるようになっている。また、ウ
エハWを収納する装置からカセットC1を取り外すと
き、先ず電磁弁23を閉塞し、次いでコネクタ26に接
続された配線(制御信号伝達用)を外し、さらにエアー
継ぎ手24から真空源25を外すと、カセットC1を自
在に移動させることができる。
That is, the wafer W placed on the support plate 20 at an arbitrary position is placed on the support plate 20, and at the same time, the electromagnetic valve 23 is opened (turned on) to cause the suction holes 2
It is adapted to be held by suction. Further, when the cassette C1 is removed from the apparatus for storing the wafer W, the electromagnetic valve 23 is first closed, then the wiring (for control signal transmission) connected to the connector 26 is removed, and the vacuum source 25 is removed from the air joint 24. Then, the cassette C1 can be freely moved.

【0031】なお、ウエハWが吸着孔21を密封してい
るので、電磁弁23をオフにした状態から一定期間は、
真空吸着状態が維持され、ウエハWは安定保持されるよ
うになっている。
Since the wafer W seals the suction hole 21, the electromagnetic valve 23 is turned off for a certain period of time.
The vacuum suction state is maintained and the wafer W is stably held.

【0032】ウエハWをカセットC1内に収納した状態
で長時間保管するような場合は、保管場所に設けられた
真空源25をエアー継ぎ手24に接続し、必要な箇所の
電磁弁23を開放(オン)すればカセットC1に加えら
れる不用意な振動から収納保持されているウエハWは免
れることができる。なお、支持プレート20および吸着
孔21は、本発明の支持部に相当する。
When the wafer W is stored in the cassette C1 for a long time, the vacuum source 25 provided at the storage location is connected to the air joint 24, and the solenoid valve 23 at the required location is opened ( When turned on, the wafer W accommodated and held can be escaped from the careless vibration applied to the cassette C1. The support plate 20 and the suction holes 21 correspond to the support portion of the present invention.

【0033】次に、搬送機構3の第1ロボットアーム2
は、図4に示すように、その先端部27がリング状をし
ており、リング中央の円周に沿って複数個の吸着孔28
が設けられている。つまり、先端部27がウエハWに当
接したときに先端部27と支持プレート20によってウ
エハWが挟み込まれるかたちとなって、ウエハWの歪み
が矯正されるとともに、先端部27でウエハWの円周領
域を真空吸着して保持するようになっている。
Next, the first robot arm 2 of the transfer mechanism 3
As shown in FIG. 4, the tip 27 has a ring shape, and a plurality of suction holes 28 are formed along the circumference of the center of the ring.
Is provided. That is, when the tip portion 27 abuts on the wafer W, the wafer W is sandwiched between the tip portion 27 and the support plate 20, the distortion of the wafer W is corrected, and the tip portion 27 circles the wafer W. The peripheral area is vacuum-adsorbed and held.

【0034】また、第1ロボットアーム2は、水平進退
可能に構成されており、ウエハ供給部1に先端部27を
挿入し、ウエハWの上方、つまり裏面を吸着保持して取
り出し、アライメントステージ4へのウエハWの供給、
アライメントステージ4からマウントテーブル6へのウ
エハWの供給を行うようになっている。このとき、アラ
イメントステージ4の図示しない支持部と先端部27に
よってウエハWが挟み込まれるかたちとなってウエハW
の歪みが矯正されるようになっている。
Further, the first robot arm 2 is constructed so as to be capable of moving horizontally and horizontally, and the front end portion 27 is inserted into the wafer supply portion 1, and the upper side of the wafer W, that is, the rear surface is sucked and held and taken out, and the alignment stage 4 is arranged. Supply of the wafer W to the
The wafer W is supplied from the alignment stage 4 to the mount table 6. At this time, the wafer W is sandwiched between the support portion (not shown) of the alignment stage 4 and the tip portion 27.
The distortion of is corrected.

【0035】マウントテーブル6は、アライメントステ
ージ5で位置合わせ処理されたフレームfが可動台で搬
送されて保持されるとともに、第1ロボットアーム2に
よって所定の位置および姿勢に載置されたウエハWを吸
着保持するようになっている。
On the mount table 6, the frame f subjected to the alignment processing by the alignment stage 5 is carried and held by the movable table, and the wafer W placed on the predetermined position and posture by the first robot arm 2 is placed. It is designed to be adsorbed and held.

【0036】また、テープ供給部12は、原反ロールか
ら導出した粘着テープTをマウントテーブル6の上方を
通るテープ貼付けユニットと、粘着テープを裁断するカ
ッター機構Kとから構成されている。また、裁断された
残存テープを回収するテープ回収部8をも備えている。
The tape supply unit 12 is composed of a tape attaching unit which passes the adhesive tape T drawn from the original roll over the mount table 6, and a cutter mechanism K which cuts the adhesive tape. The tape recovery unit 8 also includes a tape recovery unit 8 for recovering the cut residual tape.

【0037】第2ロボットアーム9は、水平進退および
旋回可能に構成されており、マウントテーブル6で粘着
テープの貼り付けによってウエハWとフレームfが一体
化したマウントフレームFを吸着保持し、パターン面を
上向きになるようにアームを旋回させてマウントフレー
ムFを反転させて剥離テーブルへ搬入するようになって
いる。
The second robot arm 9 is constructed so that it can be moved forward and backward and swung horizontally. By attaching an adhesive tape to the mount table 6, the mount frame F in which the wafer W and the frame f are integrated is sucked and held, and the pattern surface is formed. The mount frame F is turned upside down by turning the arm so as to face upward, and the mount frame F is carried into the peeling table.

【0038】テープ供給部12は、原反ロールから導出
した剥離テープTpを剥離テーブルの上方通って供給す
るようになっている。つまり、ウエハWのパターン面に
貼り付けられた保護テープPの表面に剥離ローラR2が
転動して剥離テープTpを貼り付けるとともに、剥離テ
ープTpと保護テープPが一体になって剥離されるよう
に構成されている。なお、剥離テープTpは、ウエハW
の径よりも幅狭のものが利用される。
The tape supply unit 12 is adapted to supply the peeling tape Tp drawn from the original roll through the upper side of the peeling table. That is, the peeling roller R2 rolls on the surface of the protective tape P attached to the pattern surface of the wafer W to attach the peeling tape Tp, and the peeling tape Tp and the protective tape P are integrally peeled. Is configured. The peeling tape Tp is the wafer W.
The narrower than the diameter of is used.

【0039】文字認識部15は、ウエハWに刻印された
製造番号などの文字を読み取るCCDと、読み取った文
字を解析するコンピュータとから構成されている。
The character recognition section 15 is composed of a CCD for reading characters such as a serial number stamped on the wafer W and a computer for analyzing the read characters.

【0040】プリンタ16は、文字認識部15で認識し
た文字に応じて新たに製造管理番号をバーコード化し、
マウントフレームFにバーコードラベルを印字出力して
貼り付けるようになっている。
The printer 16 converts the manufacturing control number into a bar code according to the character recognized by the character recognition unit 15,
A bar code label is printed out and attached to the mount frame F.

【0041】マウントフレーム回収部17は、保護テー
プ剥離処理が済み、バーコードが貼り付けられたマウン
トフレームFを、上下に適当な間隔をもった状態でカセ
ットC2に差込み収納して、カセット台の上に装填する
ようになっている。このカセット台も図示しないエアー
シリンダによって旋回されて向き変更可能となってい
る。
The mount frame recovery unit 17 inserts and stores the mount frame F, to which the protective tape has been peeled off and the bar code is affixed, into the cassette C2 with an appropriate space above and below it, and It is designed to be loaded on top. This cassette stand can also be turned by an air cylinder (not shown) to change its direction.

【0042】以下、上述の実施例装置の基本的な工程
を、図1を参照しながら説明する。先ず、第1ロボット
アーム2の先端部がウエハ供給部1のカセットC1の隙
間に挿入され、裏面を上にしたウエハWを上方から1枚
吸着保持して取り出し、アライメントステージ4上に移
載する。ここで、ウエハWのオリエンテーションフラッ
トやノッチなどを検出に基づいて、ウエハWの位置合わ
せが行われる。位置合わせが行われたウエハWは、再び
第1ロボットアーム2で裏面を吸着保持されてマウント
テーブル6に移送される。
The basic steps of the apparatus of the above embodiment will be described below with reference to FIG. First, the front end of the first robot arm 2 is inserted into the gap of the cassette C1 of the wafer supply unit 1, one backside wafer W is adsorbed and held from above, and is taken out and placed on the alignment stage 4. . Here, the alignment of the wafer W is performed based on the detection of the orientation flat or the notch of the wafer W. The wafer W that has been aligned is again suction-held on the back surface by the first robot arm 2 and transferred to the mount table 6.

【0043】マウントテーブル6は、図示しないフレー
ムチャック部を備えている。そして、このフレームチャ
ック部には、アライメントステージ5から位置合わせさ
れたフレームfが供給され吸着保持される。このとき、
ウエハWは、マウントテーブル6に所定の姿勢および位
置で載置され、吸着保持される。また、このとき,粘着
テープTの貼付けローラR1はフレームfから後方の待
機位置にある。
The mount table 6 has a frame chuck portion (not shown). Then, the aligned frame f is supplied from the alignment stage 5 to the frame chuck portion and suction-held. At this time,
The wafer W is placed on the mount table 6 in a predetermined posture and position, and is suction-held. At this time, the sticking roller R1 for the adhesive tape T is at the standby position behind the frame f.

【0044】次に、貼付けローラR1が、ウエハWとフ
レームf上を転動移動して粘着テープTを貼り付けてゆ
く。そして、カッター機構Kによって粘着テープTがフ
レーム上で円形に切断され、裁断後の残存テープはテー
プ回収部8に回収される。
Next, the sticking roller R1 rolls on the wafer W and the frame f to stick the adhesive tape T thereon. Then, the adhesive tape T is cut into a circle on the frame by the cutter mechanism K, and the residual tape after cutting is collected by the tape collecting unit 8.

【0045】粘着テープTが貼り付けられフレームfと
ウエハWとが一体化したマウントフレームFは、マウン
トテーブル6から払い出され、第2ロボットアーム9に
よって吸着保持されて剥離テーブルに搬送される。この
搬送過程で、第2ロボットアーム9が旋回し、ウエハW
のパターン面が上向きにされる。
The mount frame F in which the adhesive tape T is attached and the frame f and the wafer W are integrated is ejected from the mount table 6, sucked and held by the second robot arm 9, and conveyed to the peeling table. During this transfer process, the second robot arm 9 turns and the wafer W
The pattern surface of is turned up.

【0046】剥離テーブルに搬送されたウエハWは、図
示しない吸着パッドに所定の姿勢および位置で載置さ
れ、保護テープPが貼り付けられているパターン面が上
向きの姿勢で吸着保持される。このとき、剥離ローラR
2は剥離テーブルから離れた待機位置にある。
The wafer W transferred to the peeling table is placed on a suction pad (not shown) in a predetermined posture and position, and is held by suction with the pattern surface to which the protective tape P is attached facing upward. At this time, the peeling roller R
2 is at a standby position apart from the peeling table.

【0047】剥離テーブル上にマウントフレームFが装
填されると、剥離ローラR2がウエハW上を転動移動し
て剥離テープTpを保護テープPの表面に貼り付けてゆ
くとともに、保護テープPと一体に接着した状態の剥離
テープTpをウエハWの表面から剥離してゆく。このと
き、テープ供給部12からは剥離テープTpが適時に供
給されるとともに、剥離テープTpと一緒に剥離された
保護テープPはテープ回収部14によって回収される。
When the mount frame F is loaded on the peeling table, the peeling roller R2 rolls on the wafer W to stick the peeling tape Tp on the surface of the protective tape P and to be integrated with the protective tape P. The peeling tape Tp adhered to is peeled from the surface of the wafer W. At this time, the peeling tape Tp is timely supplied from the tape supply unit 12, and the protective tape P peeled together with the peeling tape Tp is collected by the tape collecting unit 14.

【0048】剥離テープTpによって保護テープPが除
去処理されたウエハWは、搬送台によって文字認識部1
5に搬送され、ウエハW上に印字された製造番号の認識
処理が行われる。そして、プリンタ16によって新たに
バーコード化された製造管理番号のラベルがマウントフ
レームFに貼り付けられる。
The wafer W from which the protective tape P has been removed by the peeling tape Tp is transferred to the character recognition unit 1 by the carrier.
5, the manufacturing number is printed on the wafer W, and the recognition process is performed. Then, the printer 16 affixes the label of the manufacturing control number, which is newly bar-coded, to the mount frame F.

【0049】バーコードラベルの貼り付け処理が施され
たマウントフレームFは、搬送台によって搬送され、カ
セットC2に差込み収納される。
The mount frame F, to which the bar code label is attached, is carried by the carrying table and inserted into the cassette C2 for storage.

【0050】なお、マウント工程の構成は、上述の実施
形態の構成に限定されるものではい。
The structure of the mounting process is not limited to the structure of the above embodiment.

【0051】以上のように、バックグラインド処理が施
されたウエハWを先端部27と支持プレート20によっ
て挟み込むようなかたちで吸着保持することによって、
ウエハWに発生する歪みを防止し、ひいては先端部27
でウエハWを確実に吸着保持することができ、安定した
ウエハWの搬送を実現できる。
As described above, the backgrinded wafer W is sucked and held by being sandwiched between the tip portion 27 and the support plate 20.
The distortion generated in the wafer W is prevented, and by extension, the tip portion 27
Thus, the wafer W can be surely sucked and held, and the stable transfer of the wafer W can be realized.

【0052】また、ウエハWの全領域を覆うような支持
プレート20と、支持プレート20に設けた吸着孔21
によってウエハWを真空吸着させることによって、カセ
ットC1を移動させる際にも、カセットC1内でウエハ
Wを安定保持することができる。
Further, the supporting plate 20 covering the whole area of the wafer W and the suction holes 21 provided in the supporting plate 20.
By sucking the wafer W in vacuum, the wafer W can be stably held in the cassette C1 even when the cassette C1 is moved.

【0053】また、裏面を上向きにしてカセットC1に
収納されているウエハWを、リング状の先端部27を備
えた第1ロボットアーム2でウエハWの上方(裏面)か
ら吸着保持して取り出し、アライメントステージ4への
供給、位置合わせ、位置合わせ処理後にマウントテーブ
ル6への移送の全てにおいてウエハWの裏面を上向きに
して取り扱う、結果、ウエハWの反転などによる落下を
回避することができる。
Further, the wafer W housed in the cassette C1 with the back surface facing upward is sucked and held from above (the back surface) the wafer W by the first robot arm 2 having the ring-shaped tip 27, When the wafer W is handled with the back surface facing upward in all of the supply to the alignment stage 4, the alignment, and the transfer to the mount table 6 after the alignment processing, it is possible to avoid the wafer W from being dropped due to being inverted.

【0054】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れるものではなく、以下のように変形実施することがで
きる。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be modified as follows.

【0055】(1) 上記実施例では、カセットC1か
らウエハWを第1ロボットアーム2の先端部で1枚吸着
保持して取り出しているが、この取り出し時にカセット
C1のウエハWの支持プレートに設けた吸着孔からエア
ーを供給し、第1ロボットアーム2での吸着保持をサポ
ートするようにしてもよい。
(1) In the above embodiment, one wafer W is sucked and held by the tip of the first robot arm 2 and taken out from the cassette C1. At this time, the wafer W is provided on the support plate of the wafer W of the cassette C1. Alternatively, air may be supplied from the suction holes to support suction holding by the first robot arm 2.

【0056】(2) 上記実施例のカセットC1の支持
プレート20は、ウエハWの全領域を保持するようにな
っているが、この形態に限定されるものでなく、例え
ば、図5に示すように、ウエハWが支持プレートに載置
した際に撓まない程度に中央部に開口部Hを設けて軽量
化したものを用いてもよい。
(2) The support plate 20 of the cassette C1 in the above embodiment is designed to hold the entire area of the wafer W, but the present invention is not limited to this form, and for example, as shown in FIG. In addition, it is possible to use a wafer W that is lightened by providing an opening H in the center thereof so that the wafer W does not bend when it is placed on the support plate.

【0057】(3) 上記実施例では、第1ロボットア
ーム2の先端部27がリング状をし、吸着孔28を複数
個設けたものであったが、上記実施例の形態に限定され
るものではなく、ウエハWの吸着時および搬送時にウエ
ハWが撓むことなく安定した状態で搬送できる構成であ
ればよい。
(3) In the above embodiment, the tip end portion 27 of the first robot arm 2 has a ring shape and a plurality of suction holes 28 are provided, but it is not limited to the above embodiment. Instead, it is sufficient if the wafer W can be transported in a stable state without being bent during suction and transportation.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、パターン面とは反対の裏面を
上向きにした状態でカセットに多段に収納されているウ
エハを上方から吸着保持して取り出すとともに、裏面を
上向きにした状態で位置合わせを行なうことによって、
マウントテーブルにウエハが載置されるまでの間、常
に、裏面を上向きにした状態でウエハを取り扱うことが
できる。その結果、搬送過程でウエハを反転させる際に
発生するウエハの落下を回避することができる。
As is apparent from the above description, according to the first aspect of the present invention, the wafers stored in the cassette in multiple stages are arranged from above with the back surface opposite to the pattern surface facing upward. By adsorbing and holding and taking out, and by aligning with the back side facing up,
Until the wafer is placed on the mount table, the wafer can be always handled with the back surface facing upward. As a result, it is possible to prevent the wafer from dropping when the wafer is turned over during the transfer process.

【0059】また、請求項2に記載の発明によれば、ウ
エハのパターン面に貼付けられた保護テープを剥離する
ことができる。
According to the second aspect of the present invention, the protective tape attached to the pattern surface of the wafer can be peeled off.

【0060】また、請求項3に記載の発明によれば、ウ
エハの裏面を上向きにして多段に収納することができる
ので、ウエハの上方から搬送アームで吸着して取り出す
ことができる。このとき、支持部とアームの先端部によ
ってウエハが挟み込まれるかたちとなるので、ウエハの
歪みを矯正してカセットから取り出すことができる。す
なわち、請求項1の方法を好適に実現することができ
る。
According to the third aspect of the present invention, since the back surface of the wafer can be stored in multiple stages with the back surface facing upward, the wafer can be adsorbed and taken out from above the wafer. At this time, since the wafer is sandwiched between the support portion and the tip of the arm, the distortion of the wafer can be corrected and the wafer can be taken out from the cassette. That is, the method of claim 1 can be preferably realized.

【0061】さらに、請求項4に記載の発明によれば、
ウエハを吸着手段によって支持部に保持することができ
るので、カセット内でウエハが移動することなく安定し
た状態で保持することができる。
Further, according to the invention described in claim 4,
Since the wafer can be held on the supporting portion by the suction means, the wafer can be held in a stable state without moving in the cassette.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施例に係る半導体ウエハのマウント装置の
全体構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a semiconductor wafer mounting apparatus according to an embodiment.

【図2】本実施例装置に用いられるカセットの部分破断
斜視図である。
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view of a cassette used in the apparatus of this embodiment.

【図3】カセットの要部構成を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a main configuration of a cassette.

【図4】実施例に係るロボットアームの先端部を示した
図である。
FIG. 4 is a diagram showing a tip portion of a robot arm according to an embodiment.

【図5】変形例のカセットの斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a modified cassette.

【図6】従来のカセットの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a conventional cassette.

【図7】従来のロボット−アームの先端部の図である。FIG. 7 is a view of a tip portion of a conventional robot-arm.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … ウエハ供給部 2 … 第1ロボットアーム 3 … ウエハ搬送機構 4 … アライメントステージ 6 … マウントテーブル 20 … 支持プレート 21 … 吸着孔 22 … 管 23 … 電磁弁 24 … エアー継ぎ手 25 … 真空原 26 … コネクタ 27 … ロボットアーム先端部 28 … 吸着孔 C1 … カセット f … フレーム(リング状フレーム) F … マウントフレーム W … 半導体ウエハ 1 ... Wafer supply unit 2 ... 1st robot arm 3 ... Wafer transfer mechanism 4… Alignment stage 6… Mount table 20 ... Support plate 21 ... Adsorption hole 22 ... Tube 23 ... Solenoid valve 24 ... Air fitting 25 ... Vacuum source 26 ... Connector 27 ... Robot arm tip 28 ... Adsorption hole C1 ... cassette f ... Frame (ring frame) F ... Mount frame W ... Semiconductor wafer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 DA01 DA13 DA15 EA06 EA16 EA19 FA01 FA03 FA07 FA11 FA12 FA20 FA21 GA05 GA08 GA24 GA25 GA46 GA47 HA13 HA46 JA04 JA34 JA35 JA50 KA13 KA14 MA16 MA37 MA38 PA13    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 5F031 CA02 DA01 DA13 DA15 EA06                       EA16 EA19 FA01 FA03 FA07                       FA11 FA12 FA20 FA21 GA05                       GA08 GA24 GA25 GA46 GA47                       HA13 HA46 JA04 JA34 JA35                       JA50 KA13 KA14 MA16 MA37                       MA38 PA13

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 粘着テープを介してリング状フレームに
半導体ウエハを保持する半導体ウエハのマウント方法で
あって、 裏面を上向きにしてカセット内に多段収納された複数枚
の半導体ウエハを取り出して搬送し、裏面を上向きにし
た状態で位置合わせ行なう過程と、 前記位置合わせを行った半導体ウエハを搬送し、裏面を
上向きにした状態でマウントテーブルに載置して粘着テ
ープを貼り付けることにより、粘着テープを介してリン
グ状フレームに半導体ウエハを保持する過程とを備えた
ことを特徴とする半導体ウエハのマウント方法。
1. A method of mounting a semiconductor wafer in which a semiconductor wafer is held on a ring-shaped frame via an adhesive tape, wherein a plurality of semiconductor wafers stored in a cassette are taken out and conveyed with the back side facing upward. , A process of aligning with the back surface facing upward, and carrying the aligned semiconductor wafer, placing the semiconductor wafer on the mount table with the back surface facing upward, and adhering the adhesive tape to the adhesive tape. And a step of holding the semiconductor wafer on the ring-shaped frame via the.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体ウエハのマウン
ト方法において、 さらに、半導体ウエハのパターン面に貼られた保護テー
プを剥離する過程を備えたことを特徴とする半導体ウエ
ハのマウント方法。
2. The method of mounting a semiconductor wafer according to claim 1, further comprising a step of peeling off a protective tape attached to a pattern surface of the semiconductor wafer.
【請求項3】 複数枚の半導体ウエハを多段に収納する
カセットであって、 前記カセットは、半導体ウエハの裏面を上向きにして載
置する支持部を備えたことを特徴とするカセット。
3. A cassette for accommodating a plurality of semiconductor wafers in multiple stages, wherein the cassette includes a supporting portion for mounting the semiconductor wafer with the back surface of the semiconductor wafer facing upward.
【請求項4】 請求項3に記載のカセットにおいて、 前記カセットは、半導体ウエハを吸着保持する吸着手段
を支持部に備えたことを特徴とするカセット。
4. The cassette according to claim 3, wherein the cassette is provided with suction means for sucking and holding a semiconductor wafer in a supporting portion.
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