JP2003077652A - エレクトロルミネッセント素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、ＥＬ素子の製造にあたり、有機Ｅ
Ｌ層を塗工液を用いて形成した場合でも、有機ＥＬ層上
に蒸着法で形成する第２電極層のパターニング不良が生
じることのないＥＬ素子の製造方法を提供することを主
目的とするものである。 【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、
基材表面にストライプ状に形成された第１電極層上に、
上記第1電極層に対して直交するように形成され、上部
にオーバーハング部を有する隔壁を形成する工程と、上
記隔壁間に有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて有機ＥＬ層
を形成する工程と、上記有機ＥＬ層上に第２電極層を形
成する工程とを有するＥＬ素子の製造方法において、上
記隔壁表面が撥液性を有することを特徴とするＥＬ素子
の製造方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセント（以下ＥＬと略称する場合がある。）層形
成用材料を塗工液化して有機ＥＬ層を形成するＥＬ素子
の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＥＬ素子は、対向する電極から注入され
た正孔および電子が発光層内で結合し、そのエネルギー
で発光層中の蛍光物質を励起し、蛍光物質に応じた色の
発光を行うものであり、自発光の面状表示素子として注
目されている。その中でも、有機物質を発光材料として
用いた有機薄膜ＥＬディスプレイは、印加電圧が１０Ｖ
弱であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高
く、単純な素子構造で発光が可能で、特定のパターンを
発光表示させる広告その他低価格の簡易表示ディスプレ
イへの応用が期待されている。

【０００３】このような有機ＥＬ素子としては、複数の
陽極電極ラインと複数の陰極電極ラインを交差させたマ
トリクス構造が一般に用いられている。この場合、基材
上に第１電極層をストライプ状に形成し、発光媒体であ
る有機ＥＬ層を挟んで第１電極ラインと直交するように
ストライプ状の第２電極層が形成される。

【０００４】この第２電極層の形成に際して、有機ＥＬ
層上に微細なパターンを形成する必要があることから種
々の課題があった。

【０００５】例えば、フォトリソグラフィ法で第２電極
層をパターニングすると、フォトレジストの溶剤や現像
液などが下地の有機ＥＬ層へ侵入してしまい、素子の破
壊や劣化を招いてしまうといった問題があった。

【０００６】一方、マスク蒸着法では、有機ＥＬ層を蒸
着マスクで傷つけることができないことから、蒸着マス
クと基材との間の密着性の問題が生じてしまう。

【０００７】このような課題を解決したのが、特開平８
−３１５９８１号公報等により提案されたオーバーハン
グ隔壁法である。この方法は、基材上に上部にオーバー
ハング部を有する隔壁を形成し、このような基材に対し
て第２電極層形成用材料を蒸着させることにより、第２
電極層のパターニングを行うものである。

【０００８】しかしながら、このように隔壁を用いる方
法は有機ＥＬ層を例えば蒸着法により形成する場合は問
題無く形成できるが、有機ＥＬ層を塗工液化して塗布す
る場合には問題が生じる場合がある。すなわち、このよ
うな有機ＥＬ層形成用塗工液を隔壁が形成された基材上
に塗布した際に、このオーバーハング部を有する隔壁の
基部に有機ＥＬ層形成用塗工液が溜まり、固化すること
により隔壁のオーバーハング部を埋めてしまい、この状
態で第２電極層を蒸着したとしても、隔壁上端面に蒸着
された電極層材料と、有機ＥＬ層上端面に蒸着された電
極層材料とが分離することなく連なってしまい、結果と
して第２電極層のパターニングができないという問題が
生じるのである。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたものであり、ＥＬ素子の製造にあた
り、有機ＥＬ層を塗工液を用いて形成した場合でも、有
機ＥＬ層上に蒸着法で形成する第２電極層のパターニン
グ不良が生じることのないＥＬ素子の製造方法を提供す
ることを主目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、請求項１に記載するように、基材表面に
ストライプ状に形成された第１電極層上に、上記第1電
極層に対して直交するように形成され、上部にオーバー
ハング部を有する第２電極層パターニング用隔壁（以
下、隔壁と称する場合がある。）を形成する工程と、上
記隔壁間に有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて有機ＥＬ層
を形成する工程と、上記有機ＥＬ層上に第２電極層を形
成する工程とを有するＥＬ素子の製造方法において、上
記隔壁表面が撥液性を有することを特徴とするＥＬ素子
の製造方法を提供することにより上記課題を解決するよ
うにした。

【００１１】このように、隔壁表面を撥液性とすること
により、有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて有機ＥＬ層を
形成した場合でも、隔壁側面が上記有機ＥＬ層形成用塗
工液に対して濡れ難いため、隔壁下部に有機ＥＬ層形成
用塗工液が溜まることがなく、したがってその後第２電
極層を上面からの蒸着により形成した際にも、問題なく
パターン化することが可能となる。

【００１２】上記請求項１に記載された発明において
は、請求項２に記載するように、上記隔壁表面の水に対
する接触角が９０°以上であることが好ましい。有機Ｅ
Ｌ層形成用塗工液を塗布する際の塗布面の濡れ性にもよ
るが、少なくとも上述した値以上の接触角を有するもの
であれば、塗布した有機ＥＬ素子形成用塗工液が隔壁の
基部に溜まり、第２電極層のパターニングに悪影響を及
ぼす可能性を大きく低下させることができるからであ
る。

【００１３】上記請求項１または請求項２に記載された
発明においては、請求項３に記載するように、上記隔壁
が、撥液性を有する材料から形成されていてもよい。材
料自体が撥液性を有するものであれば、隔壁に形成後撥
液性を付与するための表面処理を施す等の手間が無く、
工程上好ましいからである。

【００１４】上記請求項３に記載された発明において
は、請求項４に記載するように、上記撥液性を有する材
料が、撥液性を有する樹脂であってもよく、また請求項
５に記載するように、撥液性を有する添加剤が添加され
た材料であってもよく、さらにはこれらの組み合わせで
あってもよい。

【００１５】また、上記請求項１から請求項５までのい
ずれかの請求項に記載された発明においては、請求項６
に記載するように、上記隔壁表面を、撥液性が生じるよ
うに表面処理するようにしてもよい。

【００１６】隔壁形成後の処理により隔壁表面を撥液性
とすることが可能であれば、隔壁材料の選択の幅が広が
る。また、隔壁材料自体が撥液性を有するものであって
も、さらに撥液性を増加させるために、撥液性を付与す
る処理を行うことが好ましい場合もあるからである。

【００１７】上記請求項６に記載された発明において
は、請求項７に記載するように、上記撥液性が生じるよ
うな表面処理が、フルオロカーボンガスのプラズマを用
いた処理であることが好ましい。フルオロカーボンガス
によるプラズマ処理を施すことにより、隔壁等の材料の
選択によっては、隔壁表面のみを撥液性にする処理が可
能だからである。

【００１８】上記請求項７に記載された発明において
は、請求項８に記載するように、酸素ガスのプラズマを
用いた表面処理を行った後、上記フルオロカーボンガス
を用いた表面処理が行なわれることが好ましい。酸素ガ
スを用いたプラズマ処理を先に施すことにより、有機Ｅ
Ｌ層形成用塗工液の塗布面に親液性を付与し、次いでフ
ルオロカーボンガスを用いたプラズマ処理を施すことに
より、隔壁表面を撥液性とすれば、上記塗布面と隔壁表
面との濡れ性の差が大きくなり、隔壁の基部に有機ＥＬ
層形成用塗工液が付着することが無く、第２電極層のパ
ターニング不良を大幅に低減させることができるからで
ある。

【００１９】上記請求項１から請求項８までのいずれか
の請求項に記載された発明おいては、請求項９に記載す
るように、少なくとも光触媒およびバインダから成り、
かつエネルギーの照射により液体との接触角が低下する
ように濡れ性が変化する光触媒含有層が形成された後、
上記隔壁が形成されることが好ましい。このような光触
媒含有層を露光することにより、有機ＥＬ層形成用塗工
液の塗布面を非常に高い程度の親液性領域とすることが
できる。したがって、これにより隔壁表面との濡れ性の
差を大きくとることが可能となり、隔壁基部への有機Ｅ
Ｌ層形成用塗工液の付着を防止することができるからで
ある。

【００２０】上記請求項１から請求項９までのいずれか
の請求項に記載された発明においては、請求項１０に記
載するように、上記隔壁が、上記隔壁の底面より幅広に
形成された絶縁層上に形成されていることが好ましい。
隔壁の形状およびその撥液性の程度にもよるが、有機Ｅ
Ｌ層形成用塗工液を塗布した際に、塗工液が後退する可
能性もある。この際に第１電極層と第２電極層とが短絡
しないように、隔壁底面より幅広の絶縁層が形成されて
いることが好ましいのである。

【００２１】上記請求項１０に記載された発明において
は、請求項１１に記載するように、上記絶縁層表面が撥
液性を有することが好ましい。このように、絶縁層表面
を撥液性とすることにより、有機ＥＬ層形成用塗工液が
隔壁基部に付着する可能性をより低減させることができ
るからである。

【００２２】本発明はさらに、請求項１２に記載するよ
うに、基材と、上記基材表面にストライプ状に形成され
た第１電極層と、上記第1電極層に対して直交するよう
に形成され、上部にオーバーハング部を有する隔壁と、
上記隔壁間に有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて形成され
た有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成された第２電
極層とを有し、上記隔壁表面が撥液性を有することを特
徴とするＥＬ素子を提供する。

【００２３】本発明のＥＬ素子は、隔壁表面が上述した
ように撥液性を有するものであるので、有機ＥＬ層形成
用塗工液を用いて形成された有機ＥＬ層が隔壁基部に付
着することがなく、したがって第２電極層のパターニン
グが良好になされており、高精細な画像を高品質で表示
できるものである。

【００２４】上記請求項１２に記載された発明において
は、請求項１３に記載するように、上記第２電極層パタ
ーニング用隔壁表面の水に対する接触角が９０°以上で
あることが好ましい。有機ＥＬ層形成用塗工液を塗布す
る際の塗布面の濡れ性にもよるが、少なくとも上述した
値以上の接触角を有するものであれば、塗布した有機Ｅ
Ｌ素子形成用塗工液が隔壁の基部に溜まり、第２電極層
のパターニングに悪影響を及ぼす可能性を大きく低下さ
せることができるからである。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明のＥＬ素子の製造方
法について詳細に説明する。本発明のＥＬ素子の製造方
法は、基材表面にストライプ状に形成された第１電極層
上に、上記第1電極層に対して直交するように形成さ
れ、上部にオーバーハング部を有する隔壁を形成する工
程と、上記隔壁間に有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて有
機ＥＬ層を形成する工程と、上記有機ＥＬ層上に第２電
極層を形成する工程とを有するＥＬ素子の製造方法にお
いて、上記隔壁表面が撥液性を有することを特徴とする
ものである。

【００２６】このような本発明のＥＬ素子の製造方法に
ついて、図1を用いて具体的に説明する。図１は、本発
明のＥＬ素子の製造方法により得られたＥＬ素子の一例
を示すものである。本発明においては、まず透明な基材
１上に、ストライプ状に形成された第１電極層２を形成
する。なお、図１ではストライプに平行な断面を示すも
のである。この第１電極層２は通常透明な電極層とされ
る。そして、この第１電極層２上には、発光層を含む有
機ＥＬ層３が形成される。この有機ＥＬ層は、有機ＥＬ
層形成用塗工液を用いて塗布され、固化されたものであ
る。そして、この有機ＥＬ層３を挟むようにオーバーハ
ング部を有する隔壁４が形成されている。このように隔
壁４が形成された後、上面から垂直に第２電極層の電極
層材料を蒸着させることにより、隔壁４の上端面と、有
機ＥＬ層３の上面とにそれぞれ電極層蒸着物５ａおよび
５ｂが形成される。この際、隔壁４は上部にオーバーハ
ング部を有するものであるので、上記電極層蒸着物５ａ
および５ｂは通常分離され、有機ＥＬ層上の電極層蒸着
物５ｂがパターニングされた第２電極層として用いられ
る。

【００２７】しかしながら、上述したように、本発明に
おいては、有機ＥＬ層３が有機ＥＬ層形成用塗工液を塗
布して形成されるものである。この有機ＥＬ層形成用塗
工液の塗布に際して、上記隔壁４の基部４ａにこの有機
ＥＬ層形成用塗工液が通常付着してしまう。この隔壁４
の基部４ａに有機ＥＬ層形成用塗工液が付着すると、隔
壁の下方部分が太くなることになり、結果的に隔壁４上
部のオーバーハング部が無い形状としてしまう。このよ
うな状態で、第２電極層の電極層材料を蒸着させても、
隔壁４の上面に形成される電極層蒸着物５ａと有機ＥＬ
層上面に形成される電極層蒸着物５ｂとが分離されず、
繋がった状態となる可能性がある。その場合は、有機Ｅ
Ｌ層上に形成される第２電極層がパターニングされてい
ないことになり、発光に際して不具合が生じることにな
る。

【００２８】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、上記隔壁４の表面に撥液性を有するように
した。このように隔壁４の表面が撥液性を有するように
することにより、有機ＥＬ層形成用塗工液を塗布した場
合でも、上記隔壁４の基部４ａに有機ＥＬ層形成用塗工
液が付着することがなく、よって第２電極層材料を蒸着
させた場合でも、有機ＥＬ層表面への第２電極層のパタ
ーニングを行なうことができるのである。

【００２９】以下、このような本発明のＥＬ素子の製造
方法について、具体的に説明する。

【００３０】１．隔壁 本発明の特徴は、上述したように隔壁の表面が撥液性と
されている点である。

【００３１】（１）隔壁表面の撥液性について 本発明においては、少なくとも有機ＥＬ層が塗布される
側の側面が撥液性を発現するものであれば、特に全表面
に撥液性を有する必要性は無いが、加工の容易性等の観
点から、一般的には隔壁の全表面が撥液性を発現するよ
うに形成される。

【００３２】ここで、本発明における撥液性とは、基本
的には、隔壁表面の水に対する接触角が９０°以上、特
に１００°以上、中でも１０５°以上である場合をい
う。水に対する接触角が上記範囲より低い場合は、撥液
性が不十分であることから、隔壁の基部に有機ＥＬ層形
成用塗工液が付着する可能性が生じるため好ましくな
い。

【００３３】また、例えば有機ＥＬ層が発光層である場
合等においては、用いる発光層形成用塗工液の溶媒は、
通常キシレン等の無極性溶媒である。したがって、この
ような無極性溶媒に対しても高い接触角を有することが
好ましい。

【００３４】したがって、本発明においては、上記隔壁
表面の表面張力２８．１ｍＮ／ｍ（常温にて）の液体
（キシレン）に対する接触角が、４０°以上であること
が好ましく、特に５０°以上であることが好ましい。

【００３５】また、本発明においては、上述したように
隔壁表面自体の撥液性も重要であるが、実際に有機ＥＬ
層形成用塗工液が塗布される塗布面の濡れ性と隔壁表面
の濡れ性との差も大きな要因となる。具体的には、塗布
面の水との接触角より隔壁表面の水との接触角が７０°
以上大きいことが好ましく、特に８０°以上大きいこと
が好ましい。また、表面張力２８．１ｍＮ／ｍ（常温に
て）の液体（キシレン）に対する隔壁表面の接触角が塗
布面の接触角より、３０°以上大きいことが好ましく、
特に４０°以上大きいことが好ましい。濡れ性の差が上
記範囲より小さい場合は、隔壁基部における有機ＥＬ層
形成用塗工液の付着が生じる可能性があることから好ま
しくない。

【００３６】なお、ここでいう液体との接触角は、液体
との接触角を接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ
−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから水滴を滴
下して３０秒後）し、その結果から得たものである。

【００３７】本発明において、隔壁に対して上述したよ
うな撥液性を付与する方法としては、隔壁自体を撥液性
を有する材料で形成する方法と、隔壁表面を隔壁形成後
表面処理することにより撥液性を付与する方法に分ける
ことができる。以下、各方法に分けて説明する。

【００３８】ａ．隔壁自体を撥液性を有する材料で形成
する方法 撥液性を有する材料としては、樹脂材料自体を選択する
ことにより隔壁表面に撥液性を付与する場合と、樹脂材
料に添加剤を付与して撥液性を付与する場合とがある。

【００３９】まず、樹脂材料自体が撥液性を有する材料
としては、フッ素系のポリテトラフルオロエチレン（Ｐ
ＴＦＥ）、シリコーン系樹脂等を挙げることができる。

【００４０】本発明においては、上述したような材料の
みで隔壁を形成して撥液性を付与するようにしてもよい
し、他の汎用の材料とブレンドして用いるようにしても
よい。この場合のブレンドの比率は、混合後の樹脂材料
が、上述した濡れ性の条件を満たすように適宜調整して
用いられるものである。添加剤としてモディバーＦ２０
０（日本油脂製）を用いた場合、混合する樹脂に対して
１ｗｔ％から樹脂が発現するが、１０ｗｔ％添加するこ
とが好ましい。

【００４１】また、樹脂材料に添加することにより、そ
の樹脂材料により形成される隔壁表面の撥液性を向上さ
せる添加剤としては、発光層等の有機ＥＬ層に対して悪
影響を及ぼさない材料であれば特に限定されるものでは
ないが、具体的にはフッ素系樹脂、シリコン系樹脂、パ
ーフルオロアルキル基含有アクリレートまたはメタクリ
レートを主成分とする共重合オリゴマー等を挙げること
ができ、中でもパーフルオロアルキル基含有アクリレー
トまたはメタクリレートを主成分とする共重合オリゴマ
ーを用いることが好ましい。また市販品としては、サー
フロン（ランダム型オリゴマー；セイミケミカル社
製）、アロンＧ（グラフト型オリゴマー；東亜合成化学
社製）、モディバーＦ（ブロック型オリゴマー；日本油
脂社製）等を挙げることができる。

【００４２】このような添加剤の樹脂材料に対する添加
量としては、添加剤の種類および樹脂の種類によっても
大きく異なるものであるが、用いる樹脂材料を１００重
量部とした場合、１〜２０重量部、好ましくは５〜１０
重量部の範囲内で用いられる。

【００４３】本発明においては、上記樹脂材料自体が撥
液性を有する材料で形成した場合であっても、必要があ
る場合はさらに上述した撥液性を付与する添加剤を加え
るようにしてもよい。

【００４４】ｂ．隔壁表面を隔壁形成後表面処理する方
法 隔壁表面を撥液性とするための他の方法としては、隔壁
を汎用の樹脂で形成した後、表面処理を施して撥液性と
する方法である。このように隔壁の表面を撥液性とする
ための処理方法としては、特に限定されるものではな
く、例えば表面をシリコーン化合物や含フッ素化合物等
の撥液処理剤でパターン状に処理する等の方法であって
もよい。

【００４５】しかしながら、本発明においては、フルオ
ロカーボンガスのプラズマを用いた表面処理であること
が好ましい。

【００４６】このフルオロカーボンガスのプラズマを用
いた表面処理であれば、有機物の部分を選択的に撥液性
処理を行なうことが可能である。したがって、ＩＴＯ膜
等の透明な第１電極層上に隔壁を設けた場合において
は、上記第１電極層自体は撥液性の処理がなされず、隔
壁表面のみ撥液性処理がなされる。したがって、全面に
このような処理を施すことにより、隔壁の部分のみパタ
ーン状に撥液性付与処理を行なうことができるからであ
る。

【００４７】これは、フルオロカーボンガスのプラズマ
を用いた場合は、有機物としか化学反応しないため選択
的に有機物の部分が処理され、無機酸化物であるＩＴＯ
膜は処理されず通常の状態が保たれるからである。

【００４８】このフルオロカーボンガスのプラズマを用
いた処理とは、チャンバー内に基板を入れ、真空にした
後にＣＦ_４を導入して（流量：５０ｓｃｃｍ）内圧を一
定に保ち（１５０ｍＴｏｒｒ）、ＲＦパワーを１５０Ｗ
とし、５分間ほどプラズマ処理を行った。なお、用いる
ドライエッチング装置としては、例えば、DEA-506T(ANE
LVA社製)等を挙げることができる。

【００４９】本発明においては、この際用いるフルオロ
カーボンガスとしては、ＣＦ_４、Ｃ _２Ｆ_６、Ｃ_３Ｆ_８、
ｃ−Ｃ_４Ｆ_８、ＣＣｌ_２Ｆ_２、ＣＣｌＦ_３、Ｃ_２Ｃｌ_２
Ｆ_４、Ｃ_２ＣｌＦ_５、ＣＢｒＦ_３、ＣＨＦ_３、Ｃ_２Ｈ_３
Ｆ_３、ＣＨ_３ＣＨＦ_２、ＮＦ _３、ＳＦ_６等を用いること
が可能であり、中でも、ＣＦ_４ガスが好適に用いられ
る。

【００５０】また、フルオロカーボンガスのプラズマを
用いた表面処理を行なうに際して、予め酸素ガスのプラ
ズマを用いた表面処理を施すことが好ましい。このよう
に酸素ガスのプラズマを用いた表面処理を施して基材上
を親液性としておき、その後フルオロカーボンガスのプ
ラズマを用いた表面処理を施して隔壁部分のみ撥液性と
することにより、隔壁表面と有機ＥＬ層形成用塗工液の
塗布面との濡れ性の差を大きくすることが可能となり、
隔壁の基部への有機ＥＬ層形成用塗工液の付着をより効
果的に防止することができるからである。

【００５１】（２）隔壁の形状について 本発明に用いられる隔壁の形状は、上部にオーバーハン
グ部を有するものであれば特に制限されるものではな
い。具体的には、基材に垂直な側壁と基材に平行な頂部
を有するＴ字状のものであっても、また図1に示すよう
な底部から頂部にかけて広がるような、いわゆる逆テー
パ形状であってもよい。

【００５２】（３）隔壁の材料について 隔壁を形成する材料は、上述したように材料自体で撥液
性を発揮させる場合は、上述したような材料を用いるこ
とが可能であり、また表面処理で撥液性を付加させる場
合は、従来より用いられてきた樹脂材料により形成され
る。このような樹脂材料としては、絶縁性の材料であれ
ば特に制限されるものではないが、例えばノボラック系
樹脂、ポリイミド等を挙げることができる。

【００５３】（４）隔壁の形成方法について 本発明に用いられる隔壁の製造方法は、例えば、基材上
に隔壁材料層を成膜し、その上にフォトリソグラフィ法
によって第１電極層の一部を露出させることができるよ
うなフォトレジストマスクを形成し、ドライエッチング
法またはウェットエッチング法により、上述したような
オーバーハング部を上部に有する隔壁を食刻するもので
ある。

【００５４】２．基材 本発明に用いられる基材は、特に限定されるものではな
いが、この基材面側に通常発光させるものであることか
ら、透明性が高いものが好ましく、ガラス等の無機材料
や、透明樹脂等を用いることができる。

【００５５】上記透明樹脂としては、フィルム状に成形
が可能であれば特に限定されるものではないが、透明性
が高く、耐溶媒性、耐熱性の比較的高い高分子材料が好
ましい。具体的には、ポリエーテルスルホン、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリ
フッ化ビニル（ＰＦＶ）、ポリアクリレート（ＰＡ）、
ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、非晶
質ポリオレフィン、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ
スチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、
ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレン
エーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテ
ルイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポ
リエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリミクロイキシレンジメチレンテ
レフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルスル
ホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレー
ト、アクリロニトリル−スチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、フ
ェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン
樹脂、および非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。

【００５６】３．第1電極層 本発明のＥＬ素子の製造方法においては、ストライプ状
に形成された第１電極層が上記基材上に形成される。上
述したように、一般には基材面側に発光させるものであ
るので、基材上に形成される第１電極層は透明電極であ
ることが好ましい。具体的には、酸化錫膜、ＩＴＯ膜、
酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物膜等が挙げら
れるが、本発明においては、ＩＴＯ膜が好適に用いられ
る。

【００５７】このような第１電極層は、基材上において
ライン状（ストライプ状）に形成される。通常はフォト
リソグラフィ法等によりライン状のパターニングが施さ
れて形成される。

【００５８】４．有機ＥＬ層 本発明においては、上記第１電極層が形成された基材上
に、上述したような本発明の特徴部分である隔壁を形成
した後、有機ＥＬ層を形成する工程が行われる。

【００５９】本発明は、このような有機ＥＬ層を形成す
る工程が、有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて行なわれる
ところに特徴を有するものである。有機ＥＬ層の形成が
蒸着法による場合は、隔壁基部への有機ＥＬ層の付着と
いった問題が生じないからであり、本発明は有機ＥＬ層
形成用塗工液を用いた際に生じる特有の課題を解決する
ものだからである。

【００６０】（１）有機ＥＬ層の形成方法 本発明における有機ＥＬ層の形成方法は、上記有機ＥＬ
層形成用塗工液を用いて行なう方法であれば特に限定さ
れるものではないが、隔壁基部に有機ＥＬ層が付着する
可能性の高い形成法ほど、本発明の利点を活かすことが
できる。このような観点からすると、印刷法による場
合、インクジェット法による場合等のパターン状に有機
ＥＬ層を形成する方法であってもよく、また全面に有機
ＥＬ層形成用塗工液を塗布する方法で有機ＥＬ層を形成
する方法であってもよい。全面に有機ＥＬ層を塗布する
方法としては、具体的には、スピンコーティング法、キ
ャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレ
ードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フ
レキソ印刷法、スプレーコート法等の塗布方法をあげる
ことができ、本発明においてはスピンコーティング法が
最も好適に用いられる。

【００６１】（２）有機ＥＬ層形成用塗工液 本発明における有機ＥＬ層とは、発光層、バッファー
層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層
等を挙げることができ、これらの各層を形成する際の塗
工液が本発明でいう有機ＥＬ層形成用塗工液となる。し
かしながら、有機ＥＬ層において、発光層を有すること
が必須であり、また発光効率を向上させる等の目的でバ
ッファー層も好適に形成される。したがって、本発明の
おいては、特に限定されるものではないが、有機ＥＬ層
形成用塗工液として、発光層形成用塗工液およびバッフ
ァー層形成用塗工液を挙げることとし、これらについて
以下説明する。

【００６２】（発光層形成用塗工液）ＥＬ素子におい
て、発光層は必須の層であり、かつフルカラーおよびマ
ルチカラーのディスプレイを製造する際には、パターニ
ングを必要とする層である。したがって、本発明におい
ては、有機ＥＬ層形成用塗工液が発光層形成用塗工液で
ある場合が、発明の有効性の面で最も好ましい態様であ
るといえる。

【００６３】本発明に用いられる発光層形成用塗工液
は、通常、発光材料、溶媒、およびドーピング剤等の添
加剤により構成されるものである。なお、フルカラー化
等を行なう場合は、複数色の発光層が形成されるもので
あるので、複数種類の発光層形成用塗工液が通常用いら
れる。以下、これら発光層形成用塗工液を構成する各材
料について説明する。

【００６４】Ａ．発光材料 本発明に用いられる発光材料としては、色素系材料、金
属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができ
る。

【００６５】色素系材料 色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラ
フェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導
体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導
体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン
誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジ
ン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴ
チオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサ
ジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げるこ
とができる。

【００６６】金属錯体系材料 金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベ
ンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール
亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛
錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中
心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄ
ｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、
チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイ
ミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げ
ることができる。

【００６７】高分子系材料 高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン
誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘
導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポ
リフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、
上記色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したもの等
を挙げることができる。

【００６８】本発明は、発光層形成用塗工液を用いた際
の課題を解決するものであるので、このような発光層形
成用塗工液でのみ形成することができるという観点か
ら、発光材料として上記高分子系材料を用いたものがよ
り好ましい。

【００６９】Ｂ．溶媒 上述した発光材料を溶解もしくは分散させ、発光層形成
用塗工液とする溶媒としては、上述した発光材料を溶解
もしくは分散し、かつ所定の粘度とすることができる溶
媒であれば特に限定されるものではない。

【００７０】具体的には、クロロホルム、塩化メチレ
ン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、
キシレン等を挙げることができる。

【００７１】Ｃ．添加剤 本発明に用いられる発光層形成用塗工液には、上述した
ような発光材料および溶媒に加えて種々の添加剤を添加
することが可能である。例えば、発光層中の発光効率の
向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピング材料
が添加される場合がある。このドーピング材料としては
例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘
導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポル
フィレン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、
ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等を
挙げることができる。

【００７２】（バッファー層形成用塗工液）本発明でい
うバッファー層とは、発光層に電荷の注入が容易に行わ
れるように、陽極と発光層との間または陰極と発光層と
の間に設けられ、有機物、特に有機導電体などを含む層
である。例えば、発光層への正孔注入効率を高めて、電
極などの凹凸を平坦化する機能を有する導電性高分子と
することができる。

【００７３】本発明に用いられるバッファー層を形成す
る材料としては、具体的にはポリアルキルチオフェン誘
導体、ポリアニリン誘導体、トリフェニルアミン等の正
孔輸送性物質の重合体、無機酸化物のゾルゲル膜、トリ
フルオロメタン等の有機物の重合膜、ルイス酸を含む有
機化合物膜等を挙げることができ、これらを、水、メタ
ノール、エタノールをはじめとするアルコール類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の溶媒に溶
解もしくは分散させたものが本発明でいうバッファー層
形成用塗工液である。

【００７４】５．第２電極層 このようにして形成された有機ＥＬ層上に、蒸着法によ
り第２電極層が形成される。この第２電極層は、蒸着法
により形成される材料で構成されるものであれば特に限
定されるものではない。具体的には、ＭｇＡｇ等のマグ
ネシウム合金、ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等のアル
ミニウム合金、Ｌｉ、Ｃａをはじめとするアルカリ金属
類およびアルカリ土類金属類、それらアルカリ金属類お
よびアルカリ土類金属類の合金のような仕事関数の小さ
な金属等を挙げることができる。

【００７５】６．その他 （１）光触媒含有層 本発明においては、少なくとも光触媒およびバインダか
ら成り、かつエネルギーの照射により液体との接触角が
低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層が形成さ
れた後、上記隔壁が形成されるようにしてもよい。すな
わち、第１電極層を基材上に形成した後、上述したよう
な光触媒含有層を形成し、その上に隔壁および有機ＥＬ
層を形成することができる。なおここでいうエネルギー
とは、光触媒含有層を親液性領域にし得るエネルギーで
あれば特に限定されるものではないが、一般的には紫外
光を含む光が好適に用いられる。

【００７６】本発明においては、このように光触媒含有
層を形成することにより、まず隔壁を形成する際、隔壁
形成部のみをパターン状に露光することにより、親液性
領域とすることが可能となり、これにより隔壁の形成が
容易となる。そして、隔壁形成後は、全面露光すること
により有機ＥＬ層形成用塗工液を塗布する塗工面を親液
性領域とすることができる。したがって、隔壁の表面と
の濡れ性の差を大きくとることが可能となるので、より
効果的に隔壁基部への有機ＥＬ層形成用塗工液の付着を
防止することができる。

【００７７】また、このように形成した光触媒含有層
は、バッファー層として機能する場合もあるので、その
点からも効果的であるといえる。

【００７８】本発明に用いられる光触媒含有層は、上述
したように、光触媒とバインダとを有するものである。

【００７９】この際用いられる光触媒としては、光半導
体として知られる例えば酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化
亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、チタン酸スト
ロンチウム（ＳｒＴｉＯ_３）、酸化タングステン（ＷＯ
_３）、酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）、および酸化鉄（Ｆ
ｅ_２Ｏ_３）を挙げることができ、これらから選択して１
種または２種以上を混合して用いることができる。

【００８０】本発明においては、特に酸化チタンが、バ
ンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性も
なく、入手も容易であることから好適に使用される。酸
化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明で
はいずれも使用することができるが、アナターゼ型の酸
化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波
長が３８０ｎｍ以下にある。

【００８１】このようなアナターゼ型酸化チタンとして
は、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル
（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、
石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平
均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。

【００８２】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径は５０ｎｍ以下が
好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好
ましい。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された
光触媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光
触媒の粒径が１００ｎｍを越えると光触媒含有層の中心
線平均表面粗さが粗くなり、光触媒含有層の非露光部の
撥液性が低下し、また露光部の親液性の発現が不十分と
なるため好ましくない。

【００８３】また、光触媒含有層に使用するバインダと
しては、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解され
ないような高い結合エネルギーを有するものが好まし
く、例えば、（１）ゾルゲル反応等によりクロロまたは
アルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度
を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）撥液牲や撥
油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリ
シロキサン等を挙げることができる。

【００８４】上記の（１）の場合、一般式： Ｙ_ｎＳｉＸ_{（４−ｎ）} （ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化
合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共
加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
とが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は
１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示
されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。

【００８５】また、バインダとして、特にフルオロアル
キル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いること
ができ、具体的には、フルオロアルキルシランの１種ま
たは２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙
げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知
られたものを使用することができる。

【００８６】また、上記の（２）の反応性シリコーンと
しては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げ
ることができる。

【００８７】

【化１】

【００８８】ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ^１，
Ｒ^２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ^１、Ｒ^２が
メチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので
好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが
好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に
少なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。

【００８９】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合して
もよい。

【００９０】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダの他に、界面活性剤を含有させることが
できる。具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫ
ＯＬ、ＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水
素系、デュポン社製ＺＯＮＹＬ、ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝
子（株）製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本イン
キ化学工業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、
ネオス（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、
ダイキン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０
２、スリーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７
６等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活
性剤を挙げることかでき、また、カチオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いるこ
ともできる。

【００９１】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。

【００９２】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、５〜
６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、０．
０５〜１０μｍの範囲内が好ましい。

【００９３】上記光触媒含有層は、光触媒とバインダを
必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布
液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成する
ことができる。使用する溶剤としては、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
い。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディッブコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型
の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理
を行うことにより光触媒含有層を形成することかでき
る。

【００９４】（２）絶縁層 本発明においては、上記第１電極層上の隔壁が形成され
る部分に予め絶縁層を形成し、その上に隔壁を形成する
ようにしてもよい。

【００９５】従来より、ライン状の有機ＥＬ層側部にお
ける短絡防止のためこのような絶縁層は形成されている
が、本発明においては、特に隔壁の側面が撥液性を有す
るものであるので、隔壁の形状およびその撥液性の程度
にもよるが、有機ＥＬ層形成用塗工液を塗布した際に、
塗工液が塗布部より後退する可能性もある。この際に第
１電極層と第２電極層とが短絡しないように、隔壁底面
より幅広の絶縁層が形成されていることが好ましいので
ある。

【００９６】ここで、絶縁層の幅としては、その端部が
発光部の開口部を画する部分まで延設されていてもよ
く、具体的には、隔壁上部より幅広に形成することが好
ましい。陰極は隔壁上部の幅の間に形成されるので、陰
極エッジ部から少しでも陰極中央よりに形成されていれ
ば短絡は防止できるからである。

【００９７】本発明に用いられる絶縁層の材料として
は、従来より用いられているノボラック系樹脂、ポリイ
ミド等を挙げることができる。

【００９８】また、本発明においては、上記絶縁層が撥
液性を有するように形成されていることが好ましい。こ
のように形成することにより、より隔壁基部への有機Ｅ
Ｌ層の付着を防止することができるからである。

【００９９】絶縁層への撥液性の付与は、上述した隔壁
への撥液性の付与と同様の方法を用いることが可能であ
る。この際の撥液性の程度は、塗布された有機ＥＬ層形
成用塗工液が後退して短絡を起さない程度である必要が
ある。したがって、有機ＥＬ層形成用塗工液の塗布面の
濡れ性と、隔壁表面の濡れ性との中間程度の濡れ性であ
ることが好ましいといえる。

【０１００】具体的には、水との接触角が７０°〜９０
°の範囲内であることが好ましい。

【０１０１】なお、この絶縁層は必ずしも隔壁の底部全
面に形成されている必要はなく、少なくとも隔壁間に形
成される有機ＥＬ層ラインの両側の側部に存在するよう
に形成されていればよい。

【０１０２】７．ＥＬ素子 本発明においては、さらに有機ＥＬ層が有機ＥＬ層形成
用塗工液で形成されたものであるにもかかわらず、隔壁
により第２電極層のパターニングを行なうことができる
ＥＬ素子を提供する。

【０１０３】このようなＥＬ素子は、基材と、上記基材
表面にストライプ状に形成された第１電極層と、上記第
1電極層に対して直交するように形成され、上部にオー
バーハング部を有する隔壁と、上記隔壁間に有機ＥＬ層
形成用塗工液を用いて形成された有機ＥＬ層と、上記有
機ＥＬ層上に形成された第２電極層とを有し、上記隔壁
表面が撥液性を有することを特徴とするものであり、中
でも隔壁表面の水に対する接触角が、９０°以上、好ま
しくは１００°以上、中でも１０５°以上であることが
好ましい。

【０１０４】本発明のＥＬ素子の各構成については、上
述したＥＬ素子の製造方法において説明したものと同様
であるので、ここでの説明は省略する。

【０１０５】本発明のＥＬ素子は、隔壁表面が上述した
ような撥液性を有するものであるので、有機ＥＬ層形成
用塗工液を用いて形成された有機ＥＬ層が隔壁基部に付
着することがなく、したがって第２電極層のパターニン
グが良好になされており、高精細な画像を高品質で表示
できるものである。

【０１０６】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の
特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一
な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかな
るものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【０１０７】

【実施例】以下に実施例を示し、本発明をさらに説明す
る。

【０１０８】［実施例１］厚さ１．１ｍｍの所望のパタ
ーニングを施したＩＴＯ付き基材上にポリイミドからな
る絶縁層で各画素間を保護し、ノボラック樹脂からなる
陰極パターニング用の隔壁をＩＴＯと直交するように設
けた。その後、酸素プラズマにて表面処理を行い親液性
を付与した後、連続してＣＦ_４プラズマによって隔壁に
撥液性を付与して基材を作製した。

【０１０９】このようにして作製した基材上にスピンコ
ート法を用いて正孔輸送層としてＰＥＤＴ／ＰＳＳ水溶
液、発光層としてポリフルオレン１．５重量％キシレン
溶液を成膜し、陰極としてカルシウム２００オングスト
ローム、銀１５００オングストロームを全面蒸着するこ
とによりＥＬ素子を形成した。

【０１１０】［実施例２］厚さ１．１ｍｍの所望のパタ
ーニングを施したＩＴＯ付き基材上にポリイミドからな
る絶縁層で各画素間を保護し、ノボラック樹脂からなる
陰極パターニング用の隔壁材料を１００重量部に対して
表面改質材（モディバーＦ２００；日本油脂製）１０重
量部を溶解し、ＩＴＯと直交するように隔壁を形成し
た。この混合樹脂の接触角は水に対して１０８°、キシ
レンに対して６０°であった。

【０１１１】このようにして作製した基材上にスピンコ
ート法を用いて正孔輸送層としてＰＥＤＴ／ＰＳＳ、発
光層としてポリフルオレン１．５重量％キシレン溶液を
成膜し、陰極としてカルシウム２００オングストロー
ム、銀１５００オングストロームを全面蒸着することに
よりＥＬ素子を形成した。

【０１１２】

【発明の効果】本発明によれば、隔壁表面を撥液性とす
ることにより、有機ＥＬ層形成用塗工液を用いて有機Ｅ
Ｌ層を形成した場合でも、隔壁側面が上記有機ＥＬ層形
成用塗工液に対して濡れ難いため、隔壁下部に有機ＥＬ
層形成用塗工液が溜まることがなく、したがってその後
第２電極層を上面からの蒸着により形成した際にも、問
題なくパターン化することが可能となるという効果を奏
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＥＬ素子の製造方法で得られたＥＬ素
子の一例を示す概略断面図である。

【符号の説明】 １ … 基材 ２ … 第1電極層 ３ … 有機ＥＬ層 ４ … 隔壁 ５ … 第２電極層

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材表面にストライプ状に形成された第
   １電極層上に、前記第1電極層に対して直交するように
   形成され、上部にオーバーハング部を有する第２電極層
   パターニング用隔壁を形成する工程と、 前記隔壁間に有機エレクトロルミネッセント層形成用塗
   工液を用いて有機エレクトロルミネッセント層を形成す
   る工程と、 前記有機エレクトロルミネッセント層上に第２電極層を
   形成する工程と を有するエレクトロルミネッセント素子の製造方法にお
   いて、 前記第２電極層パターニング用隔壁表面が撥液性を有す
   ることを特徴とするエレクトロルミネッセント素子の製
   造方法。
2. 【請求項２】 前記第２電極層パターニング用隔壁表面
   の水に対する接触角が９０°以上であることを特徴とす
   る請求項１に記載のエレクトロルミネッセント素子の製
   造方法。
3. 【請求項３】 前記第２電極層パターニング用隔壁が、
   撥液性を有する材料から形成されていることを特徴とす
   る請求項１または請求項２に記載のエレクトロルミネッ
   セント素子の製造方法。
4. 【請求項４】 前記撥液性を有する材料が、撥液性を有
   する樹脂であることを特徴とする請求項３に記載のエレ
   クトロルミネッセント素子の製造方法。
5. 【請求項５】 前記撥液性を有する材料が、撥液性を有
   する添加剤が添加された材料であることを特徴とする請
   求項３または請求項４に記載のエレクトロルミネッセン
   ト素子の製造方法。
6. 【請求項６】 前記第２電極層パターニング用隔壁表面
   を、撥液性が生じるように表面処理することを特徴とす
   る請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載
   のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。
7. 【請求項７】 前記撥液性が生じるような表面処理が、
   フルオロカーボンガスのプラズマを用いた処理であるこ
   とを特徴とする請求項６に記載のエレクトロルミネッセ
   ント素子の製造方法。
8. 【請求項８】 酸素ガスのプラズマを用いた表面処理を
   行った後、前記フルオロカーボンガスを用いた表面処理
   が行なわれることを特徴とする請求項７に記載のエレク
   トロルミネッセント素子の製造方法。
9. 【請求項９】 少なくとも光触媒およびバインダから成
   り、かつエネルギーの照射により液体との接触角が低下
   するように濡れ性が変化する光触媒含有層が形成された
   後、前記第２電極層パターニング用隔壁が形成されるこ
   とを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれかの
   請求項に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方
   法。
10. 【請求項１０】 前記第２電極層パターニング用隔壁
    が、前記隔壁の底面より幅広に形成された絶縁層上に形
    成されていることを特徴とする請求項１から請求項９ま
    でのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセン
    ト素子の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記絶縁層表面が撥液性を有すること
    を特徴とする請求項１０に記載のエレクトロルミネッセ
    ント素子の製造方法。
12. 【請求項１２】 基材と、前記基材表面にストライプ状
    に形成された第１電極層と、前記第1電極層に対して直
    交するように形成され、上部にオーバーハング部を有す
    る第２電極層パターニング用隔壁と、前記隔壁間に有機
    エレクトロルミネッセント層形成用塗工液を用いて形成
    された有機エレクトロルミネッセント層と、前記有機エ
    レクトロルミネッセント層上に形成された第２電極層と
    を有し、前記第２電極層パターニング用隔壁表面が撥液
    性を有することを特徴とするエレクトロルミネッセント
    素子。
13. 【請求項１３】 前記第２電極層パターニング用隔壁表
    面の水に対する接触角が９０°以上であることを特徴と
    する請求項１２に記載のエレクトロルミネッセント素
    子。