JP2003075200A

JP2003075200A - パルス信号発生システムおよびパルス信号発生方法

Info

Publication number: JP2003075200A
Application number: JP2001268101A
Authority: JP
Inventors: Shinji Hama; 信治濱
Original assignee: Tamagawa Seiki Co Ltd
Current assignee: Tamagawa Seiki Co Ltd
Priority date: 2001-09-04
Filing date: 2001-09-04
Publication date: 2003-03-12

Abstract

(57)【要約】【課題】回転検出システムにおいて、二個のフォトセ
ンサを設けることによる高精度な位置関係管理の必要性
や、二個のフォトセンサの感度の相違に由来する検出不
良を解消し、かつ消費電力の低減とコスト削減を実現す
ること。【解決手段】円周方向に沿って、パルス信号を発生さ
せるためのスリット等光処理構造１が複数列設された回
転板３と、該回転板３に光を投光する発光ダイオード等
発光手段４と、該回転板３の回転により処理された光を
受光するフォトセンサ等受光手段５とを有するパルス信
号発生システムにおいて、該光処理構造１の幅の種類、
または該光処理構造間部２の間隔の種類のうち、少なく
とも一方が複数であって該回転板の回転方向により異な
るパターンをとる光処理構造列設パターンとし、かつ、
設けられた該受光手段５の数を一個とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はパルス信号発生シス
テムおよびパルス信号発生方法に関し、特に、変則的な
スリットのパターンまたは反射パターンを有する回転板
と単一の受光手段を用いることにより、従来の二個の受
光手段間における間隔ずれや感度の相違に由来する検出
不良を解消し、かつ消費電力の低減とコスト削減を実現
する、パルス信号発生システムおよびパルス信号発生方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポインティングデバイス、エンコーダ等
の回転検出システムは、回転運動により発生したパルス
信号を演算回路で処理することにより、回転の方向と移
動量を検出するシステムであり、コンピュータや各種制
御装置等に幅広く使用されている。

【０００３】図７は、従来の回転検出システムにおける
パルス信号発生システムの例を示した説明図である。図
において従来のシステムは、同一のスリット幅を有する
複数のスリットが列設された回転板１３と、図示しない
発光ダイオード等の発光手段と、基板１７上に二個設け
られたフォトセンサ１５Ａ、１５Ｂ等の受光手段とから
主として構成されている。伝動された検出すべき回転運
動が顕現する回転板１３が回転すると、発光ダイオード
等の発光手段により該回転板１３に光が照射され、該回
転板１３上に列設されたスリットによる遮光と透過のパ
ターンが、二個のフォトセンサ１５Ａ、１５Ｂによっ
て、位相のずれた二つのパルス信号として検知される。
そして、これら発生したパルス信号は演算回路で処理さ
れて、回転角度に基づく角度パルス信号と、二個のフォ
トセンサ１５Ａ、１５Ｂが検知したパルス信号の位相の
ずれに基づく方向信号とを発生させ、回転の方向と移動
量が検出される。

【０００４】図８は、図７のパルス信号発生システムの
フォトセンサ部分の概略構成を示した説明図である。図
においてフォトセンサ１５Ａ、１５Ｂにそれぞれ設けら
れたフォトセンサ中心１６Ａ、１６Ｂを通過するスリッ
トの動きにより、パルス信号が検知される。フォトセン
サ１５Ａにより検知されるパルス信号Ａ相と、フォトセ
ンサ１５Ｂにより検知されるパルス信号Ｂ相間には、９
０度の位相ずれが設けられている。図中の斜線部は、後
述する図９におけるパルス信号Ａ相が出力レベルＨへの
立ち上がる時点からの、各パルス信号Ａ相、Ｂ相の一周
期に対応する該回転板１３上の領域を示す。

【０００５】図９は、回転方向の相違による発生パルス
信号の出力波形を示した図である。Ａ相とＢ相の間の位
相ずれにより、回転板１３の回転方向がプラス（＋）方
向の場合とマイナス（−）方向の場合では位相のずれ方
に相違が生じる。回転方向が＋方向の場合は、Ａ相が出
力レベルＨに立ち上がる時はＢ相は常に出力レベルＬで
あり、−方向の場合は、Ａ相がＨに立ち上がる時はＢ相
は常にＨである。したがって、Ａ相、Ｂ相の各信号によ
って、方向信号を作り出すことができる。

【０００６】しかし、係る従来のパルス信号発生システ
ムにおいては、少なくとも二個のセンサを設けることが
必要であり、しかも演算回路において方向信号化し得る
パルス信号を発生させるための二個のセンサの設置間隔
など、高精度な位置関係の管理が必要であった。また、
二個のセンサの感度に相違がある場合は、検出不良を発
生させることもあった。さらに、二個のセンサを設ける
ことにより、相応の消費電力および製造コストがかかる
ものであった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、回転
検出システムにおける上記従来技術の欠点を除き、二個
のフォトセンサを設けることによる高精度な位置関係管
理の必要性や、二個のフォトセンサの感度の相違に由来
する検出不良を解消し、かつ消費電力の低減とコスト削
減を実現する、パルス信号発生システムおよびパルス信
号発生方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願発明者は、単一のフ
ォトセンサのみによって、方向信号化し得るパルス信号
を発生させることのできる回転検出方法について鋭意検
討した結果、スリット等回転板に設ける光処理構造の列
設パターンを変則的なパターンとすることにより、上記
課題が解決できることを見出した。すなわち、上記課題
を解決するための手段として、本願で特許請求される発
明は以下のとおりである。

【０００９】（１）円周方向に沿って、パルス信号を発
生させるための光処理構造が複数列設された回転板と、
該回転板に光を照射する発光手段と、該回転板の回転に
より処理された光を受光する受光手段とを有するパルス
信号発生システムにおいて、該光処理構造の幅の種類ま
たは該光処理構造間部間隔の種類のうち少なくとも一方
が複数であって該回転板の回転方向により異なるパター
ンをとる光処理構造列設パターンを有し、かつ、設けら
れた該受光手段の数が一個であることを特徴とする、パ
ルス信号発生システム。

【００１０】（２）前記光処理構造が、スリットまたは
光反射体であることを特徴とする、（１）のパルス信号
発生システム。

【００１１】（３）前記光処理構造列設パターンが、二
個の前記光処理構造および二個の前記光処理構造間部か
らなる周期パターンの繰り返しからなることを特徴とす
る、（１）または（２）のパルス信号発生システム。

【００１２】（４）前記光処理構造列設パターンが、三
個以上の光処理構造と、該光処理構造の数と同数の光処
理構造間部からなる周期パターンの繰り返しからなるこ
とを特徴とする、（１）または（２）のパルス信号発生
システム。

【００１３】（５）（１）ないし（４）のいずれかのパ
ルス信号発生システムと、該パルス信号発生システムに
より発生した信号から回転の方向と移動量を検出するた
めの演算回路とを備えた、回転検出システム。

【００１４】（６）（１）ないし（４）のいずれかのパ
ルス信号発生システムによるパルス信号発生方法におい
て、該発光手段により発せられた光を、前記光処理構造
幅の種類または該光処理構造間部間隔の種類の少なくと
も一方が複数であって該回転板の回転方向により異なる
パターンをとる光処理構造列設パターンを有する回転板
の回転により遮光しおよび透過し、または反射し、得ら
れた遮光および透過のパターン、または反射のパターン
を、単一の受光手段により受光してパルス信号を検知す
ることを特徴とする、パルス信号発生方法。

【００１５】本発明において、光処理構造とは、たとえ
ばスリットや光反射体であり、回転板の円周方向に沿っ
て列設される、パルス信号を発生させるための構造をい
う。光処理構造は、発光ダイオード等の発光手段により
発せられた光を遮光しまたは透過させたり、あるいは反
射して、フォトセンサ等の受光手段に光を到達させる機
能を有する。

【００１６】また、本発明において光処理構造の幅と
は、前記光処理構造の円周方向上の距離をいい、スリッ
トの場合は円周方向上のスリットの幅、光反射体の場合
は光反射体の円周方向上の光反射体の幅である。幅の大
きさ、すなわち角度の大きさによって、発生するパルス
信号の出力レベルＬの持続時間が定まる。したがって、
光処理構造の幅の種類、すなわち角度の種類を複数とす
ることにより、光処理構造の列設された回転板の回転方
向が逆になればパルス信号出力波形のパターンを異なる
ものとし得るため、フォトセンサ等受光手段を複数設け
なくても、演算回路において方向信号化し得るパルス信
号を発生させることができる。

【００１７】また、本発明において光処理構造間部と
は、回転板の前記光処理構造が設けられている円周方向
上において、スリットや、あるいは光反射体等の光処理
構造が設けられていない部分をいう。

【００１８】また、本発明において光処理構造列設パタ
ーンとは、回転板の円周方向上に列設されたスリットあ
るいは光反射体等の光処理構造と、前記光処理構造間部
との繰り返しにより構成されるパターンを、直線状に引
き伸ばしたパターンをいう。従来のパルス信号発生シス
テムにおいては、光処理構造の幅、光処理構造間部間隔
ともに一種類のみが設けられていたため、光処理構造列
設パターンは、一の光処理構造および一の光処理構造間
部による列設単位が繰り返されるものであった。したが
って、単一のフォトセンサ等受光手段が検知するパルス
信号出力波形パターンは、回転方向によらず同一とな
り、各フォトセンサ等が検知するパルス信号Ａ相のみ、
またはＢ相のみから、方向信号化し得るパルス信号を得
ることは不可能であった。

【００１９】本発明のパルス信号発生システムでは、光
処理構造の幅、または光処理構造間部間隔のうち、少な
くともいずれか一方を複数の種類とすることにより、フ
ォトセンサ等受光手段が一個のみであっても、回転方向
が異なれば検知するパルス信号出力波形パターンを異な
るものとすることが可能であるため、方向信号化し得る
パルス信号を得ることが可能となる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面により詳細に
説明する。図１は、本発明のパルス信号発生システムの
一例の概略構成を示す説明図である。図において本シス
テムは、円周方向に沿ってパルス信号を発生させるため
の光処理構造１が変則的なパターンで複数列設されてい
て、検出すべき回転運動が顕現する回転板３と、該回転
板３に光を照射するための図示しない発光手段４と、該
回転板３の回転により処理された光を受光して、発生し
たパルス信号を検知するための一個の受光手段５とか
ら、主として構成される。なお、該光処理構造１は、ス
リットまたは光反射体とすることができる。

【００２１】図２は、本システムの光処理構造列設パタ
ーンを示す概念図である。前記回転板３上に、前記光処
理構造１と前記光処理構造間部２が、交互に設けられて
いる。本システムにおける、該回転板３上に設けられた
変則的な光処理構造列設パターンには、図の（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）に示した三類型がある。それぞれの類型
は次の通りである。

【００２２】（Ａ）該光処理構造１の幅の種類が、図の
Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３のように複数あり、かつ該回転板３の
回転方向により異なるパターンをとる、光処理構造列設
パターン。すなわち、すべての該光処理構造１が唯一の
一定の値をとらずに二種類以上の値をとり、したがって
前記回転板３上には、幅に広狭の差異のある光処理構造
が列設され、該回転板の回転方向が逆になれば、光処理
構造列設パターンは異なったものとなる。

【００２３】（Ｂ）該光処理構造間部２の間隔の種類
が、図のＸ１、Ｘ２、Ｘ３のように複数あり、かつ該回
転板３の回転方向により異なるパターンをとる、光処理
構造列設パターン。すなわち、すべての該光処理構造間
部２が唯一の一定の値をとらずに二種類以上の値をと
り、したがって前記回転板３上には、幅に広狭の差異の
ある光処理構造間部が列設され、該回転板の回転方向が
逆になれば、光処理構造列設パターンは異なったものと
なる。

【００２４】（Ｃ）該光処理構造１の幅の種類、および
該光処理構造間部２の間隔の種類が、図のＸ１、Ｘ２、
Ｘ３、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３のようにともに複数あり、かつ
該回転板３の回転方向により異なるパターンをとる、光
処理構造列設パターン。すなわち、すべての該光処理構
造１、およびすべての該光処理構造間部２が、いずれも
唯一の一定の値をとらずに二種類以上の値をとり、した
がって前記回転板３上には、いずれも幅に広狭の差異の
ある、光処理構造および光処理構造間部が列設され、該
回転板の回転方向が逆になれば、光処理構造列設パター
ンは異なったものとなる。なお、（Ａ)、（Ｂ）、
（Ｃ）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３はすべて異なる値を
とり、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３はすべて異なる値をとる。

【００２５】上記（Ａ)、（Ｂ）、（Ｃ）いずれの類型
においても、光処理構造列設パターンは、回転方向によ
って異なるパルス信号出力波形パターンを発生させるた
め、フォトセンサ等受光手段４が一個のみであっても、
演算回路において方向信号化し得るパルス信号を得るこ
とができる。

【００２６】本システムは上述のように構成されている
ため、伝動された検出すべき回転運動が顕現する回転板
３が回転すると、発光ダイオード等の発光手段４により
該回転板３に照射された光は、上述した変則的な光処理
構造列設パターンを有する該回転板３の回転によって、
前記光処理構造１がスリットの場合は照射された光を遮
光しおよび透過することにより、また該光処理構造が光
反射体の場合は反射することにより、該光処理構造列設
パターンを反映した、方向信号化し得るパルス信号を発
生させる。発生した該パルス信号は、単一のフォトセン
サ等受光手段５により受光され、検知される。

【００２７】前記光処理構造列設パターンは、前記光処
理構造１の幅の種類、および前記光処理構造間部２の間
隔の種類をいずれも二種類として、種類の異なる二個の
光処理構造１と、種類の異なる二個の光処理構造間部２
からなる列設パターンによって一周期を形成せしめ、形
成された周期パターンを繰り返し連続的に設けることに
より、構成することができる。この場合、該光処理構造
列設パターンとして、次に示す（Ｃ２）がある。

【００２８】（Ｃ２）後掲表１に示すように、幅Ｗ１の
光処理構造、間隔Ｘ１の光処理構造間部、幅Ｗ２の光処
理構造、間隔Ｘ２の光処理構造間部、の順に併設された
周期パターンの繰り返しからなる、光処理構造列設パタ
ーン。Ｗ１、Ｗ２、Ｘ１、Ｘ２は長さの単位を有する任
意の数値であり、Ｗ１とＷ２、Ｘ１とＸ２は、それぞれ
異なる数値をとる。

【００２９】図３は、前記（Ｃ２）の光処理構造列設パ
ターンを設けた場合の、発生パルス信号出力波形の一例
を示す説明図である。図において、スリット等の光処理
構造１がフォトセンサ５中心を通過した時に発生したパ
ルス信号は、出力波形のパルス高が出力レベルＨとなっ
ている。一方、光処理構造間部２がフォトセンサ５中心
を通過した時に発生したパルス信号は、出力波形のパル
ス高が出力レベルＬとなっている。パルス信号出力波形
のパターンは、スリット等の光処理構造列設パターン
（Ｃ２）を反映したものとなり、図においては、回転方
向が＋方向の場合、（ア）レベルＨ、（イ)レベルＬ、
（ウ）レベルＨ、（エ）レベルＬの出力が、それぞれ３
５対１５対２５対２５の時間比で連続的に生じて一周期
が形成され、同一の回転方向において、形成された同一
の周期パターンが連続的に繰り返される。

【００３０】回転方向が逆方向（−方向）になった場合
は、パルス信号出力波形のパターンは、（アＲ）レベル
Ｈ、（イＲ)レベルＬ、（ウＲ）レベルＨ、（エＲ）レ
ベルＬの出力が、それぞれ３５対２５対２５対１５の時
間比で連続的に生じて一周期が形成され、同一の回転方
向において、形成された同一の周期パターンが連続的に
繰り返される。すなわち、前記（Ｃ２）の光処理構造列
設パターンによれば、回転方向が変化すれば、発生する
パルス信号出力波形パターンが異なるものとなるため、
方向信号化し得るパルス信号を発生させることができ
る。

【００３１】前記光処理構造列設パターンは、該光処理
構造１の幅の種類、または該光処理構造間部２の間隔の
種類の少なくともいずれか一方を三種類として、各三個
ずつの光処理構造１と光処理構造間部２からなる列設パ
ターンによって一周期を形成せしめ、形成された周期パ
ターンを繰り返し連続的に設けることにより、構成する
ことができる。この場合、該光処理構造列設パターンに
は、次に示す（Ａ３）、（Ｂ３）、（Ｃ３）の類型があ
る。

【００３２】（Ａ３）後掲表１に示すように、幅ＷＡ１
の光処理構造、間隔ＸＡの光処理構造間部、幅ＷＡ２の
光処理構造、間隔ＸＡの光処理構造間部、幅ＷＡ３の光
処理構造、間隔ＸＡの光処理構造間部、の順に併設され
た周期パターンの繰り返しからなる、光処理構造列設パ
ターン。ＷＡ１、ＷＡ２、ＷＡ３、ＸＡは長さの単位を
有する任意の数値であり、ＷＡ１、ＷＡ２、ＷＡ３は、
すべて異なる数値をとる。

【００３３】（Ｂ３）後掲表１に示すように、幅ＷＢの
光処理構造、間隔ＸＢ１の光処理構造間部、幅ＷＢの光
処理構造、間隔ＸＢ２の光処理構造間部、幅ＷＢの光処
理構造、間隔ＸＢ３の光処理構造間部、の順に併設され
た周期パターンの繰り返しからなる、光処理構造列設パ
ターン。ＷＢ、ＸＢ１、ＸＢ２、ＸＢ３は長さの単位を
有する任意の数値であり、ＸＢ１、ＸＢ２、ＸＢ３は、
すべて異なる数値をとる。

【００３４】（Ｃ３）後掲表１に示すように、幅ＷＣ１
の光処理構造、間隔ＸＣ１の光処理構造間部、幅ＷＣ２
の光処理構造、間隔ＸＣ２の光処理構造間部、幅ＷＣ３
の光処理構造、間隔ＸＣ３の光処理構造間部、の順に併
設された周期パターンの繰り返しからなる、光処理構造
列設パターン。ＷＣ１、ＷＣ２、ＷＣ３、ＸＣ１、ＸＣ
２、ＸＣ３は長さの単位を有する任意の数値であり、Ｗ
Ｃ１、ＷＣ２、ＷＣ３は、すべて異なる数値をとり、ま
た、ＸＣ１、ＸＣ２、ＸＣ３は、すべて異なる数値をと
る。

【００３５】図４は、前記（Ａ３）の光処理構造列設パ
ターンを設けた場合の、発生パルス信号出力波形の一例
を示す説明図である。パルス信号出力波形のパターン
は、スリット等の光処理構造列設パターンを反映したも
のとなり、図においては、回転方向が＋方向の場合、
（ア）レベルＨ、（イ)レベルＬ、（ウ）レベルＨ、
（エ）レベルＬ、（オ）レベルＨ、（カ）レベルＬの出
力が、それぞれ１２対１０対１０対１０対８対１０の時
間比で連続的に生じて一周期が形成され、同一の回転方
向において、形成された同一の周期パターンが連続的に
繰り返される。

【００３６】回転方向が逆方向（−方向）になった場合
は、パルス信号出力波形のパターンは、（アＲ）レベル
Ｈ、（イＲ)レベルＬ、（ウＲ）レベルＨ、（エＲ）レ
ベルＬ、（オＲ）レベルＨ、（カＲ）レベルＬの出力
が、それぞれ１２対１０対８対１０対１０対１０の時間
比で連続的に生じて一周期が形成され、同一の回転方向
において、形成された同一の周期パターンが連続的に繰
り返される。すなわち、前記（Ａ３）の光処理構造列設
パターンによれば、回転方向が変化すれば、発生するパ
ルス信号出力波形パターンが異なるものとなるため、方
向信号化し得るパルス信号を発生させることができる。

【００３７】図５は、前記（Ｂ３）の光処理構造列設パ
ターンを設けた場合の、発生パルス信号出力波形の一例
を示す説明図である。図においては、回転方向が＋方向
の場合、（ア）レベルＨ、（イ)レベルＬ、（ウ）レベ
ルＨ、（エ）レベルＬ、（オ）レベルＨ、（カ）レベル
Ｌの出力が、それぞれ１０対１４対１０対９対１０対７
の時間比で連続的に生じて一周期が形成され、同一の回
転方向において、形成された同一の周期パターンが連続
的に繰り返され、回転方向が逆方向（−方向）になった
場合は、パルス信号出力波形のパターンは、（アＲ）レ
ベルＨ、（イＲ)レベルＬ、（ウＲ）レベルＨ、（エ
Ｒ）レベルＬ、（オＲ）レベルＨ、（カＲ）レベルＬの
出力が、それぞれ１０対１４対１０対７対１０対９の時
間比で連続的に生じて一周期が形成され、同一の回転方
向において、形成された同一の周期パターンが連続的に
繰り返される。すなわち、前記（Ｂ３）の光処理構造列
設パターンによれば、回転方向が変化すれば、発生する
パルス信号出力波形パターンが異なるものとなるため、
方向信号化し得るパルス信号を発生させることができ
る。

【００３８】図６は、前記（Ｃ３）の光処理構造列設パ
ターンを設けた場合の、発生パルス信号出力波形の一例
を示す説明図である。図においては、回転方向が＋方向
の場合、（ア）レベルＨ、（イ)レベルＬ、（ウ）レベ
ルＨ、（エ）レベルＬ、（オ）レベルＨ、（カ）レベル
Ｌの出力が、それぞれ１２対１４対１０対９対８対７の
時間比で連続的に生じて一周期が形成され、同一の回転
方向において、形成された同一の周期パターンが連続的
に繰り返され、回転方向が逆方向（−方向）になった場
合は、パルス信号出力波形のパターンは、（アＲ）レベ
ルＨ、（イＲ)レベルＬ、（ウＲ）レベルＨ、（エＲ）
レベルＬ、（オＲ）レベルＨ、（カＲ）レベルＬの出力
が、それぞれ１２対７対８対９対１０対１４の時間比で
連続的に生じて一周期が形成され、同一の回転方向にお
いて、形成された同一の周期パターンが連続的に繰り返
される。すなわち、前記（Ｃ３）の光処理構造列設パタ
ーンによれば、回転方向が変化すれば、発生するパルス
信号出力波形パターンが異なるものとなるため、方向信
号化し得るパルス信号を発生させることができる。

【００３９】表１は、上述した各光処理構造列設パター
ンにおける周期パターンの例をまとめたものである。表
中、光処理構造はスリット、光処理構造間部は間部と表
記している。また、Ｗ１、Ｘ１等は、それぞれの幅、間
隔を表す。

【００４０】

【表１】

【００４１】なお、上述したすべての光処理構造列設パ
ターン、および上述したすべての信号出力波形パターン
における各出力レベルごとの時間比はいずれも例示であ
り、本発明はこれらに限定されるものではなく、光処理
構造の幅の種類または光処理構造間部間隔の種類のうち
少なくとも一方が複数であって、回転方向により異なる
パターンをとる光処理構造列設パターンは、すべて本発
明の範囲に含まれる。

【００４２】請求項５に係る回転検出システムは、上述
したパルス信号発生システムと、該システムに連接し、
該パルス信号発生システムにより発生した信号から回転
の方向と移動量を検出するための演算回路とから、主と
して構成される。該演算回路は、上述した本発明のパル
ス信号発生システムにより発生したパルス信号から回転
の移動量を検出するための回路と、回転の方向を検出す
るための回路とから、主として構成される。

【００４３】上述した本発明のパルス信号発生システム
により発生したパルス信号は、前記演算回路において角
度パルス信号と方向信号に変換され、演算処理により、
回転の移動量と方向が検出される。

【００４４】たとえば一例として、本システムにより発
生したパルス信号は、ワンショットマルチ回路により角
度パルス信号に変換され、該角度パルス信号は二進アッ
プダウンカウンタにより処理されて、回転の移動量が検
出される。一方、該パルス信号はまた、Ｄ型フリップフ
ロップにより方向信号に変換され、該方向信号は二進ア
ップダウンカウンタにより処理されて、回転の方向が検
出される。

【００４５】

【発明の効果】本発明によれば、上述のように構成され
ているため、従来の二個のフォトセンサを設けることに
よる高精度な位置関係管理を不要とし、二個のフォトセ
ンサの感度の相違に由来する検出不良を解消し、かつ消
費電力の低減とコスト削減を実現することができる。ま
た、設けるフォトセンサの数を一個としたため、製造工
程において工数を低減することができ、かつ、フォトセ
ンサを二個設ける場合に発生し得る、設置間隔ずれのあ
るセンサの廃棄処分が不要となるため、歩留まりを改善
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のパルス信号発生システムの一例の概略
構成を示す説明図。

【図２】本発明のシステムの光処理構造列設パターン
Ａ、Ｂ、Ｃを示す説明図。

【図３】光処理構造列設パターンＣ２による発生パルス
信号出力波形の一例を示す説明図。

【図４】光処理構造列設パターンＡ３による発生パルス
信号出力波形の一例を示す説明図。

【図５】光処理構造列設パターンＢ３による発生パルス
信号出力波形の一例を示す説明図。

【図６】光処理構造列設パターンＣ３による発生パルス
信号出力波形の一例を示す説明図。

【図７】従来のパルス信号発生システムの概略構成を示
す説明図。

【図８】図６のパルス信号発生システムのフォトセンサ
部分の概略構成を示した説明図。

【図９】従来のシステムにおける発生パルス信号の出力
波形を示す説明図。

【符号の説明】

１…光処理構造（スリット等）、２…光処理構造間部、
３…回転板、４…発光手段（発光ダイオード等）、５…
受光手段（フォトセンサ等）、６…フォトセンサ中心、
７…基板、１３…回転板、１５Ａ、１５Ｂ…フォトセン
サ、１６Ａ、１６Ｂ…フォトセンサ中心、１７…基板、
Ｒ…回転板の回転方向

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円周方向に沿って、パルス信号を発生さ
せるための光処理構造が複数列設された回転板と、該回
転板に光を照射する発光手段と、該回転板の回転により
処理された光を受光する受光手段とを有するパルス信号
発生システムにおいて、該光処理構造の幅の種類または
該光処理構造間部間隔の種類のうち少なくとも一方が複
数であって該回転板の回転方向により異なるパターンを
とる光処理構造列設パターンを有し、かつ、設けられた
該受光手段の数が一個であることを特徴とする、パルス
信号発生システム。
【請求項２】前記光処理構造が、スリットまたは光反
射体であることを特徴とする、請求項１記載のパルス信
号発生システム。
【請求項３】前記光処理構造列設パターンが、二個の
前記光処理構造および二個の前記光処理構造間部からな
る周期パターンの繰り返しからなることを特徴とする、
請求項１または２記載のパルス信号発生システム。
【請求項４】前記光処理構造列設パターンが、三個以
上の光処理構造と、該光処理構造の数と同数の光処理構
造間部からなる周期パターンの繰り返しからなることを
特徴とする、請求項１または２記載のパルス信号発生シ
ステム。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれかに記載のパ
ルス信号発生システムと、該パルス信号発生システムに
より発生した信号から回転の方向と移動量を検出するた
めの演算回路とを備えた、回転検出システム。
【請求項６】請求項１ないし４のいずれかに記載のパ
ルス信号発生システムによるパルス信号発生方法におい
て、該発光手段により発せられた光を、前記光処理構造
幅の種類または該光処理構造間部間隔の種類の少なくと
も一方が複数であって該回転板の回転方向により異なる
パターンをとる光処理構造列設パターンを有する回転板
の回転により遮光しおよび透過し、または反射し、得ら
れた遮光および透過のパターン、または反射のパターン
を、単一の受光手段により受光してパルス信号を検知す
ることを特徴とする、パルス信号発生方法。