JP2003071697A - カラーフィルター基板の修正方法 - Google Patents
カラーフィルター基板の修正方法Info
- Publication number
- JP2003071697A JP2003071697A JP2001266897A JP2001266897A JP2003071697A JP 2003071697 A JP2003071697 A JP 2003071697A JP 2001266897 A JP2001266897 A JP 2001266897A JP 2001266897 A JP2001266897 A JP 2001266897A JP 2003071697 A JP2003071697 A JP 2003071697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- filter substrate
- polishing
- scratches
- repairing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】カラーフィルター製造工程で発生したガラス面
のキズ、汚れを効率よく、安全に除去・修正することに
より、良品化させる修正方法を提供する。 【解決手段】カラーフィルター基板に生じたキズ、汚れ
を修正するカラーフィルター基板の修正方法であって、
金属酸化物を水を使用しながらカラーフィルター基板に
回転接触させることにより修正することを特徴とするカ
ラーフィルター基板の修正方法。
のキズ、汚れを効率よく、安全に除去・修正することに
より、良品化させる修正方法を提供する。 【解決手段】カラーフィルター基板に生じたキズ、汚れ
を修正するカラーフィルター基板の修正方法であって、
金属酸化物を水を使用しながらカラーフィルター基板に
回転接触させることにより修正することを特徴とするカ
ラーフィルター基板の修正方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
基板に発生するキズ、汚れを研磨し、修正する方法に関
する。
基板に発生するキズ、汚れを研磨し、修正する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】現在、液晶表示などに使用されるカラー
フィルターは、ガラス基板、ブラックマトリックス（Ｂ
Ｍ）、着色層（赤、青、緑）、場合によってはオーバー
コート層、さらにＩＴＯ透明電極膜より構成される。カ
ラーフィルターに使用されるガラス基板は、ガラスから
のアルカリ溶出が薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）性能に大
きく影響する懸念や、ＴＦＴ素子の形成の際のガラス自
体の熱収縮を抑える目的、さらにパターニングのさいに
用いる酸やアルカリに対する耐薬品性の配慮から耐薬品
性や耐熱性に優れた無アルカリガラスが使用される。
フィルターは、ガラス基板、ブラックマトリックス（Ｂ
Ｍ）、着色層（赤、青、緑）、場合によってはオーバー
コート層、さらにＩＴＯ透明電極膜より構成される。カ
ラーフィルターに使用されるガラス基板は、ガラスから
のアルカリ溶出が薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）性能に大
きく影響する懸念や、ＴＦＴ素子の形成の際のガラス自
体の熱収縮を抑える目的、さらにパターニングのさいに
用いる酸やアルカリに対する耐薬品性の配慮から耐薬品
性や耐熱性に優れた無アルカリガラスが使用される。
【０００３】ここで、カラーフィルタ製造の際に発生す
るキズについては異物などと基板との吸着打痕キズや、
あるいは設備機器との接触キズ等であり、また汚れにつ
いては搬送ロールのコロ跡等である。前者については、
ライン内の異物付着防止・除去あるいは設備機器の改
良、搬送ロールのアルカリ洗浄あるいは、有機溶剤によ
る洗浄によりガラス面のキズ、汚れの無いカラーフィル
ターを製造することは可能ではあるが、製造工程を厳重
に管理してこれらの原因を完全に排除することは工業的
に有利とは言えない。
るキズについては異物などと基板との吸着打痕キズや、
あるいは設備機器との接触キズ等であり、また汚れにつ
いては搬送ロールのコロ跡等である。前者については、
ライン内の異物付着防止・除去あるいは設備機器の改
良、搬送ロールのアルカリ洗浄あるいは、有機溶剤によ
る洗浄によりガラス面のキズ、汚れの無いカラーフィル
ターを製造することは可能ではあるが、製造工程を厳重
に管理してこれらの原因を完全に排除することは工業的
に有利とは言えない。
【０００４】さらに、ガラス基板上の汚れの除去につい
ては、例えばエタノール、アセトンなど有機溶剤を用い
たワイピング、あるいは剃刀などでの擦りによって除去
することは可能であるが、作業性、安全性、環境面から
好ましいものではない。さらに、ガラス表面のキズや凹
凸、異物や汚れなどの欠陥は、スイッチング素子の断線
や薄膜の密着性の劣化を引き起こす原因になる。
ては、例えばエタノール、アセトンなど有機溶剤を用い
たワイピング、あるいは剃刀などでの擦りによって除去
することは可能であるが、作業性、安全性、環境面から
好ましいものではない。さらに、ガラス表面のキズや凹
凸、異物や汚れなどの欠陥は、スイッチング素子の断線
や薄膜の密着性の劣化を引き起こす原因になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の欠点に
鑑み、本発明は作業性、安全性、環境面で優れた基板の
修正方法を提供することをその課題とする。
鑑み、本発明は作業性、安全性、環境面で優れた基板の
修正方法を提供することをその課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は以下の構成からなる。すなわち、「カラーフィ
ルター基板に生じたキズ、汚れを修正するカラーフィル
ター基板の修正方法であって、金属酸化物を水を使用し
ながらカラーフィルター基板に回転接触させることによ
り修正することを特徴とするカラーフィルター基板の修
正方法。」である。
本発明は以下の構成からなる。すなわち、「カラーフィ
ルター基板に生じたキズ、汚れを修正するカラーフィル
ター基板の修正方法であって、金属酸化物を水を使用し
ながらカラーフィルター基板に回転接触させることによ
り修正することを特徴とするカラーフィルター基板の修
正方法。」である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明におけるキズについては発
生の形態が多種存在するが深さ２μｍ以下のものがこの
ましく、より好ましくは１μm以下である。２μm以上の
深さでは研磨周辺部の平坦性が保たれず良好に修正でき
ないためである。
生の形態が多種存在するが深さ２μｍ以下のものがこの
ましく、より好ましくは１μm以下である。２μm以上の
深さでは研磨周辺部の平坦性が保たれず良好に修正でき
ないためである。
【０００８】また汚れにおいて、カラーフィルター製造
工程で生じるものは、主として高さ０．２μｍ程の固着
物であり基板搬送ロールのコロ跡が大半を占める。これ
らの特徴を持つキズ、汚れについては液晶ディスプレイ
としての機能に障害を与えるためにカラーフィルターに
とって好ましいものではない。上記のガラス面のキズ、
汚れを効率良く、安全に修正・除去する手段として研磨
材を高速回転させ、水を使用しながらキズおよび汚れ部
へ接触させる修正方法が好ましい。
工程で生じるものは、主として高さ０．２μｍ程の固着
物であり基板搬送ロールのコロ跡が大半を占める。これ
らの特徴を持つキズ、汚れについては液晶ディスプレイ
としての機能に障害を与えるためにカラーフィルターに
とって好ましいものではない。上記のガラス面のキズ、
汚れを効率良く、安全に修正・除去する手段として研磨
材を高速回転させ、水を使用しながらキズおよび汚れ部
へ接触させる修正方法が好ましい。
【０００９】ここで、研磨材としては布紙表面にダイヤ
モンド粒子を散布した研磨布紙あるいは金属酸化物が好
ましい。金属酸化物としては、酸化鉄、酸化クロム（II
I）、酸化セリウム等があげられるが、中でも耐化学
性、加工性の点で酸化セリウムが最も好ましい。金属酸
化物の研磨剤は主成分としては金属酸化物そのものであ
り使用形態に応じ固形成分で成形する。
モンド粒子を散布した研磨布紙あるいは金属酸化物が好
ましい。金属酸化物としては、酸化鉄、酸化クロム（II
I）、酸化セリウム等があげられるが、中でも耐化学
性、加工性の点で酸化セリウムが最も好ましい。金属酸
化物の研磨剤は主成分としては金属酸化物そのものであ
り使用形態に応じ固形成分で成形する。
【００１０】上記研磨剤のうち、金属酸化物は研磨機に
装着して使用する訳であるが、研磨特性を考慮するとそ
の形状は砲弾型、円盤型が好ましく、中でも砲弾型が特
に好ましい。その径は１０ｍｍが好ましく、長さは２５
ｍｍが好ましい。
装着して使用する訳であるが、研磨特性を考慮するとそ
の形状は砲弾型、円盤型が好ましく、中でも砲弾型が特
に好ましい。その径は１０ｍｍが好ましく、長さは２５
ｍｍが好ましい。
【００１１】また、高速回転接触により生じる摩擦熱が
引き起こすカラーフィルター着色層の熱収縮などの二次
的欠陥を防止するために研磨材に水を含ませることで冷
却効果を持たせる。この水についてはカラーフィルター
のクリーン度を考慮すると超純水を用いることが望まし
い。この際超純水の比抵抗は純度を計る点で重要であ
る。ここで好ましい比抵抗は１５．５ｍΩ・ｃｍ以上で
あり、より好ましくは１５．５ｍΩ・ｃｍ〜１８．３ｍ
Ω・ｃｍである。比抵抗が１５．５ｍΩ・ｃｍよりも小
さいと純水中の不純物の問題が生じる。水を使用するこ
とで研磨時の粉塵を抑制することが可能である。特にク
リーンルームでの作業に関しては該作業時の粉塵が懸念
されるため、水により周囲への飛散を防ぐことが好まし
い。
引き起こすカラーフィルター着色層の熱収縮などの二次
的欠陥を防止するために研磨材に水を含ませることで冷
却効果を持たせる。この水についてはカラーフィルター
のクリーン度を考慮すると超純水を用いることが望まし
い。この際超純水の比抵抗は純度を計る点で重要であ
る。ここで好ましい比抵抗は１５．５ｍΩ・ｃｍ以上で
あり、より好ましくは１５．５ｍΩ・ｃｍ〜１８．３ｍ
Ω・ｃｍである。比抵抗が１５．５ｍΩ・ｃｍよりも小
さいと純水中の不純物の問題が生じる。水を使用するこ
とで研磨時の粉塵を抑制することが可能である。特にク
リーンルームでの作業に関しては該作業時の粉塵が懸念
されるため、水により周囲への飛散を防ぐことが好まし
い。
【００１２】また、修正の順序は特に限定されないが、
ダイヤモンド研磨紙で研磨後、回転接触方式で研磨する
ことが、キズ修正度、作業性の点で好ましい。
ダイヤモンド研磨紙で研磨後、回転接触方式で研磨する
ことが、キズ修正度、作業性の点で好ましい。
【００１３】回転接触方式の場合はその回転数が非常に
重要であり、好ましい回転数は８０００ｒｐｍ以下であ
り、さらに好ましくは６０００ｒｐｍ以下である。回転
数が８０００ｒｐｍよりも大きいと摩擦熱の問題が生じ
やすいためである。
重要であり、好ましい回転数は８０００ｒｐｍ以下であ
り、さらに好ましくは６０００ｒｐｍ以下である。回転
数が８０００ｒｐｍよりも大きいと摩擦熱の問題が生じ
やすいためである。
【００１４】以下、本発明を用いたカラーフィルタの製
造方法について説明する。カラーフィルターを作る基板
にはガラス、プラスチックなどの基板が使用される。ま
ず金属クロムまたは黒色顔料分散樹脂でパターンをガラ
ス基板上につくり、その後着色層パターンを形成する。
基板に着色層パターンを形成する方法としては、感光性
着色樹脂を基板の全面あるいは部分的に塗布・乾燥し、
露光・現像する方法と非感光性樹脂を同様に塗布・乾燥
し、その上から感光性樹脂を塗布・乾燥し、露光・現像
を行うフォトリソ法が一般的である。本発明において
は、用いる感光性樹脂のネガ型、ポジ型の選択は露光マ
スクの設計にあわせてどちらであっても構わない。
造方法について説明する。カラーフィルターを作る基板
にはガラス、プラスチックなどの基板が使用される。ま
ず金属クロムまたは黒色顔料分散樹脂でパターンをガラ
ス基板上につくり、その後着色層パターンを形成する。
基板に着色層パターンを形成する方法としては、感光性
着色樹脂を基板の全面あるいは部分的に塗布・乾燥し、
露光・現像する方法と非感光性樹脂を同様に塗布・乾燥
し、その上から感光性樹脂を塗布・乾燥し、露光・現像
を行うフォトリソ法が一般的である。本発明において
は、用いる感光性樹脂のネガ型、ポジ型の選択は露光マ
スクの設計にあわせてどちらであっても構わない。
【００１５】樹脂の塗布方式としてはスピンコート、ス
リットダイコート、ロールコートなどがあり、いずれも
採用できる。塗布ではないが着色フィルムにより基板転
写する方法でも採用できる。
リットダイコート、ロールコートなどがあり、いずれも
採用できる。塗布ではないが着色フィルムにより基板転
写する方法でも採用できる。
【００１６】現像液には無機アルカリ系、有機アルカリ
系のものを用いることができる。また、着色層を形成す
る樹脂材料としては、アクリル系、ポリイミド系、ポリ
ビニールアルコール系、エポキシ系、ウレタン系、ポリ
カーボネート系などが用いられる。さらに、樹脂内に分
散混入される顔料としては、有機顔料、無機顔料などが
用いられ、所望の分光特性を得られるものであればどの
ような組み合わせで作られた着色樹脂層であっても構わ
ない。場合によっては着色層パターンの段差を小さくす
るためにオーバーコートを塗布し、最後にＩＴＯ膜を形
成する。
系のものを用いることができる。また、着色層を形成す
る樹脂材料としては、アクリル系、ポリイミド系、ポリ
ビニールアルコール系、エポキシ系、ウレタン系、ポリ
カーボネート系などが用いられる。さらに、樹脂内に分
散混入される顔料としては、有機顔料、無機顔料などが
用いられ、所望の分光特性を得られるものであればどの
ような組み合わせで作られた着色樹脂層であっても構わ
ない。場合によっては着色層パターンの段差を小さくす
るためにオーバーコートを塗布し、最後にＩＴＯ膜を形
成する。
【００１７】本発明の修正方法に適用するカラーフィル
ターは製造に使用される塗布方式、現像液、感光性・非
感光性着色樹脂材料、感光性樹脂は限定しない。また、
どのような組み合わせで製造したカラーフィルターにも
適用される。このように長い工程を経て出来上がったカ
ラーフィルターのガラス面にはキズ、汚れなどの欠陥が
生じ、不良基板となるため歩留まりが低下している現状
である。
ターは製造に使用される塗布方式、現像液、感光性・非
感光性着色樹脂材料、感光性樹脂は限定しない。また、
どのような組み合わせで製造したカラーフィルターにも
適用される。このように長い工程を経て出来上がったカ
ラーフィルターのガラス面にはキズ、汚れなどの欠陥が
生じ、不良基板となるため歩留まりが低下している現状
である。
【００１８】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。 本実施例
ではカラーフィルター製造工程で発生したキズ、汚れを
サンプルとして、研磨機に研磨材を取り付け回転接触方
式で研磨修正を実施した。 ＜研磨機＞ 装置メーカー：ミニター株式会社 機種 ：Ｄ．Ｃ．パワーパック Ｃ３０１ スタンダードロータリー Ｍ２１Ｈ ＜研磨材＞ 研磨材メーカー：日本コーテット゛アフ゛レーシフ゛株式会社 研磨材種 ：(1)超精密研磨用ダイヤモンド研磨布紙 ＳＤ３０００ＡＧ−ＰＭＳ（表面粗度３,０００μｍ） ＳＤ６０００ＡＧ−ＰＭＳ（表面粗度６,０００μｍ） ＳＤ６０００ＡＧ−ＸＭＳ（表面粗度６,０００μｍ） (2)軸付き砥石酸化セリウムツール（砲弾型） 実施例１ カラーフィルター製造工程で発生したガラス面のキズ、
汚れを、酸化セリウム（砲弾型）を回転接触方式で水を
使用しながら研磨・修正を実施した。回転数は４,００
０ｒｐｍ、６,０００ｒｐｍ、８,０００ｒｐｍ、１０,
０００ｒｐｍで研磨修正を実施した。
明するが、本発明はこれらに限定されない。 本実施例
ではカラーフィルター製造工程で発生したキズ、汚れを
サンプルとして、研磨機に研磨材を取り付け回転接触方
式で研磨修正を実施した。 ＜研磨機＞ 装置メーカー：ミニター株式会社 機種 ：Ｄ．Ｃ．パワーパック Ｃ３０１ スタンダードロータリー Ｍ２１Ｈ ＜研磨材＞ 研磨材メーカー：日本コーテット゛アフ゛レーシフ゛株式会社 研磨材種 ：(1)超精密研磨用ダイヤモンド研磨布紙 ＳＤ３０００ＡＧ−ＰＭＳ（表面粗度３,０００μｍ） ＳＤ６０００ＡＧ−ＰＭＳ（表面粗度６,０００μｍ） ＳＤ６０００ＡＧ−ＸＭＳ（表面粗度６,０００μｍ） (2)軸付き砥石酸化セリウムツール（砲弾型） 実施例１ カラーフィルター製造工程で発生したガラス面のキズ、
汚れを、酸化セリウム（砲弾型）を回転接触方式で水を
使用しながら研磨・修正を実施した。回転数は４,００
０ｒｐｍ、６,０００ｒｐｍ、８,０００ｒｐｍ、１０,
０００ｒｐｍで研磨修正を実施した。
【００１９】実施例２
カラーフィルターのガラス面に意図的にキズ（深さ約１
０μｍ）を作り、ダイヤモンド研磨布紙（表面粗度３,
０００μｍ）で研磨後、酸化セリウム（砲弾型）を用い
回転数６,０００ｒｐｍで水を使用しながら研磨修正を
実施した。
０μｍ）を作り、ダイヤモンド研磨布紙（表面粗度３,
０００μｍ）で研磨後、酸化セリウム（砲弾型）を用い
回転数６,０００ｒｐｍで水を使用しながら研磨修正を
実施した。
【００２０】比較例１
カラーフィルター製造工程で発生したガラス面のキズ、
汚れを、酸化セリウム（砲弾型）を回転接触方式で水を
使用せず、研磨・修正を実施した。
汚れを、酸化セリウム（砲弾型）を回転接触方式で水を
使用せず、研磨・修正を実施した。
【００２１】比較例２
カラーフィルター製造工程で発生したガラス面のキズ、
汚れを、ダイヤモンド研磨布紙（表面粗度６，０００μ
ｍ、３，０００μｍ）を回転接触方式で水を使用せず、
研磨・修正を実施した。
汚れを、ダイヤモンド研磨布紙（表面粗度６，０００μ
ｍ、３，０００μｍ）を回転接触方式で水を使用せず、
研磨・修正を実施した。
【００２２】実施例または比較例において研磨修正した
カラーフィルターについて以下の評価を実施した。 （１）修正度 研磨修正したカラーフィルターのガラス面及び色層面を
顕微鏡（約１００倍）で観察し以下の判定基準に基づき
目視判定した。
カラーフィルターについて以下の評価を実施した。 （１）修正度 研磨修正したカラーフィルターのガラス面及び色層面を
顕微鏡（約１００倍）で観察し以下の判定基準に基づき
目視判定した。
【００２３】○：研磨跡及びキズ、汚れが無く、色層面
にも変化がみられない。
にも変化がみられない。
【００２４】△：研磨跡及びキズ、汚れは無いが、色層
面に変化がみられる。
面に変化がみられる。
【００２５】×：研磨跡あるいはキズ、汚れがみられ
る。 （２）キズ深さ 修正前と修正後のキズについて表面形状測定機（DEKTAK
FPD-500：日本真空製）を使用し、キズ深さを測定し
た。
る。 （２）キズ深さ 修正前と修正後のキズについて表面形状測定機（DEKTAK
FPD-500：日本真空製）を使用し、キズ深さを測定し
た。
【００２６】
【表１】
【００２７】カラーフィルター製造工程で生じるキズ、
汚れの研磨修正条件は、酸化セリウムを含水させ回転数
８,０００ｒｐｍ以下で回転接触方式により修正可能で
あった。
汚れの研磨修正条件は、酸化セリウムを含水させ回転数
８,０００ｒｐｍ以下で回転接触方式により修正可能で
あった。
【００２８】また、意図的に作ったキズ（深さ約１０μ
ｍ）は、ダイヤモンド研磨布紙（表面粗度３,０００μ
ｍ）で粗研磨後、酸化セリウムで仕上げ研磨すると効果
的に研磨修正可能であった。
ｍ）は、ダイヤモンド研磨布紙（表面粗度３,０００μ
ｍ）で粗研磨後、酸化セリウムで仕上げ研磨すると効果
的に研磨修正可能であった。
【００２９】さらに、実施例１、２及び比較例１、２に
おいて研磨後のキズ深さは０μｍであった。
おいて研磨後のキズ深さは０μｍであった。
【００３０】
【発明の効果】本発明により、カラーフィルター製造工
程でのキズ、汚れによる不良基板を効率良く修正するこ
とができる。修正したカラーフィルターは、製品として
仕様を満足するため収率向上に寄与する。
程でのキズ、汚れによる不良基板を効率良く修正するこ
とができる。修正したカラーフィルターは、製品として
仕様を満足するため収率向上に寄与する。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１
Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１
1/1335 ５００ 1/1335 ５００
Ｆターム(参考） 2H048 BA00 BA60 BB42
2H088 FA14 HA08 HA12 MA20
2H091 FA02X FA02Y FA02Z FC15
LA30
3C058 AA02 AA06 AA09 CA01 CB03
DA02
3C063 AA02 AB07 AB08 BB01 BB02
EE10 EE26 FF23
Claims (6)
- 【請求項１】 カラーフィルター基板に生じたキズ、汚
れを修正するカラーフィルター基板の修正方法であっ
て、金属酸化物を水を使用しながらカラーフィルター基
板に回転接触させることにより修正することを特徴とす
るカラーフィルター基板の修正方法。 - 【請求項２】 金属酸化物が酸化セリウムであることを
特徴とする請求項１記載のカラーフィルター基板の修正
方法。 - 【請求項３】 ダイヤモンド研磨布紙で研磨後、酸化セ
リウムを使用することを特徴とする請求項１または２の
いずれかに記載のカラーフィルター基板の修正方法。 - 【請求項４】 回転接触時の回転数が８,０００ｒｐｍ
以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに
記載のカラーフィルター基板の修正方法。 - 【請求項５】 使用する水が比抵抗１５．５〜１８．３
ｍΩ・ｃｍの超純水であることを特徴とする請求項１〜
４のいずれかに記載のカラーフィルター基板の修正方
法。 - 【請求項６】 金属酸化物およびダイヤモンド研磨布紙
で修正したことを特徴とするカラーフィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266897A JP2003071697A (ja) | 2001-09-04 | 2001-09-04 | カラーフィルター基板の修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266897A JP2003071697A (ja) | 2001-09-04 | 2001-09-04 | カラーフィルター基板の修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003071697A true JP2003071697A (ja) | 2003-03-12 |
Family
ID=19093107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001266897A Pending JP2003071697A (ja) | 2001-09-04 | 2001-09-04 | カラーフィルター基板の修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003071697A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008543577A (ja) * | 2005-06-13 | 2008-12-04 | バスフ エスイー | カラーフィルタ研磨用のスラリー組成物 |
| JP2021133497A (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-13 | 上海東競自動化系統有限公司 | 表面傷を修復する方法及び装置 |
-
2001
- 2001-09-04 JP JP2001266897A patent/JP2003071697A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008543577A (ja) * | 2005-06-13 | 2008-12-04 | バスフ エスイー | カラーフィルタ研磨用のスラリー組成物 |
| JP2021133497A (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-13 | 上海東競自動化系統有限公司 | 表面傷を修復する方法及び装置 |
| JP7248991B2 (ja) | 2020-02-26 | 2023-03-30 | 上海東競自動化系統有限公司 | 表面傷を修復する方法及び装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2010015123A (ja) | 基板欠陥の修理方法 | |
| TWI680347B (zh) | 光罩基板、光罩基底、光罩、光罩基板之製造方法、光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法 | |
| JP5578708B2 (ja) | Ｆｐｄ製造用再生フォトマスク基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、ペリクル付再生フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 | |
| JP2011183541A (ja) | 基板端面付着レジスト研磨装置 | |
| JPH06308312A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JP2003071697A (ja) | カラーフィルター基板の修正方法 | |
| CN112703172B (zh) | 玻璃基板、黑色矩阵基板和显示面板 | |
| TWI413573B (zh) | 遮罩胚板用基板的製造方法、製造遮罩胚板的方法及製造遮罩的方法 | |
| JP2018049199A (ja) | 局所ウェットエッチング装置及びフォトマスク用基板の製造方法 | |
| JP2009237288A (ja) | カラーフィルタの製造方法とカラーフィルタ | |
| KR100675732B1 (ko) | 액정패널 연마장치 및 그의 연마방법 | |
| JP4556474B2 (ja) | カラーフィルタの研磨方法 | |
| JP6368364B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
| JP4438346B2 (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法 | |
| Yen et al. | An effective fabrication method for producing color filters of liquid crystal displays | |
| JP4706328B2 (ja) | 表示素子用カラーフィルタの製造方法 | |
| JP2001021873A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP4422400B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| CN216351768U (zh) | 一种基于回收处理的再生光刻掩膜版 | |
| JP2002243926A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法並びに液晶表示装置 | |
| JP5261953B2 (ja) | カラーフィルタ研磨装置およびその製造方法 | |
| TW546265B (en) | Recycle manufacturing in glass substrate of color filter | |
| JP2001124913A (ja) | カラーフィルター用ガラス基板の再生方法 | |
| JP2006334737A (ja) | カラーフィルタ基板用研磨装置 | |
| JP2006267822A (ja) | カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ |