JP2003071399A

JP2003071399A - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JP2003071399A
Application number: JP2001264139A
Authority: JP
Inventors: Kazuma Taniwaki; 和磨谷脇
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2001-08-31
Filing date: 2001-08-31
Publication date: 2003-03-11

Abstract

(57)【要約】【課題】紫外線照射による基板洗浄装置において、省ス
ペース、低コスト型で、更に無機イオン汚染等カラーフ
ィルター表面への品質上の弊害も与えず、かつ人体に有
害となる排オゾンガスの一括処理する基板洗浄装置の提
供にある。【解決手段】チャンバー４内に紫外線照射ランプ２とそ
の下方にある紫外線照射窓３でなる紫外線照射装置３０
により、紫外線を照射して、被洗浄基板１の有機物を除
去する基板洗浄装置１００であって、紫外線照射窓３と
被洗浄基板１の間に、酸素ガスまたはオゾンガスを供給
するガス供給口８と、そのガスを回収するガス回収口９
とを有し、ガス回収手段で回収された排オゾンガスを、
前記紫外線照射ランプ２からの紫外線に暴露されるオゾ
ン分解流路６を具備している基板洗浄装置１００とする
ものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平板状基板を洗浄
対象とするエレクトロニクス分野全般、とりわけカラー
フィルター製造における透明平板基板受入洗浄工程、及
び着色パターン付基板の中間洗浄工程に使用される基板
洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ等に用いられるカラー
フィルターは、微細な赤、緑、青等のパターン（以下、
着色パターンという）からなる光学素子である。そして
その製造は、ガラス等の透明基板に感光性のレジストを
塗布、露光、現像等の工程からなり、各色について同様
の工程が繰り返される。洗浄工程はクリーンルームへ基
板搬入の際の受入洗浄に始まり、レジスト各色の塗布前
洗浄、さらには着色パターン後の研磨等における洗浄か
ら最終洗浄に至るまで、カラーフィルター製造において
は最も数の多い工程である。以下カラーフィルター洗浄
工程の観点から従来の技術及び課題について説明する。

【０００３】洗浄工程の目的は主に付着塵埃（以下パー
ティクルという）の除去である。そのため、ブラシやシ
ャワー等様々な洗浄ツールがあり、各工程の目的に合わ
せたそれらの組合せで洗浄機が構成されている。

【０００４】上記洗浄ツールの１つに紫外線照射装置が
ある。通常、ガラス基板はクリーンルーム内を含めて放
置時間とともに表面に油脂類が堆積する。したがって長
時間放置した場合、表面は非常に疎水性の高い状態とな
る。紫外線照射は、表面の油脂類を除去して親水性に
し、ウェット洗浄の効果を高めるための表面改質手段と
して一般に使用される。

【０００５】従来の多灯式紫外線照射装置は、図４の側
面図に示すように、洗浄工程で使用される紫外線照射ラ
ンプ２は、波長１８５ｎｍ、２５４ｎｍの２つの主ピー
クを持つ低圧水銀ランプが現在主流である。前述の通
り、紫外線照射は基板１表面の油脂類を除去して親水性
にする目的で使用される。したがって、油脂類の除去に
充分な光量の紫外線を照射しなくては意味が無い。その
ため、図１に示すように、使用する紫外線照射ランプ２
の本数は最低でも５本、多い場合は２０本以上使用され
る場合が通常である。

【０００６】年々、より多灯式での紫外線照射が求めら
れる背景には、タクトアップに伴う洗浄装置の基板搬送
スピードアップが大きな要因として存在する。高搬送ス
ピードで従来と同等の光量の紫外線を照射するためには
紫外線照射ランプ２の本数を増やすしかない。結果とし
て紫外線照射装置のサイズは大型化し、貴重なクリーン
ルームスペースの占有率を上げることになる。このこと
はランプ本数の増加と併せてランニングコスト上昇の原
因につながる。

【０００７】なお、図４に示すように、紫外線照射装置
のサイズが大きくなると、基板１を搬送するための基板
搬送ローラー５の数も必然的に多くなる。紫外線照射に
よる表面改質の原理は、紫外線そのもののエネルギー、
及び大気に紫外線が照射されることによって発生するオ
ゾンガス、活性酸素によるとされる。したがってこれら
に耐え得る基板搬送ローラー５の材質は限られ、特殊加
工の必要性が生じたり費用も高くなる。その本数が増え
ればなおさらである。

【０００８】前述の通り、紫外線照射によってオゾンガ
スが発生する。これは表面改質にも効果があるが、同時
に人体には有毒である。最近Ｘｅガスを使用したエキシ
マランプが開発されているが、この場合さらに発生する
オゾン濃度は増加する。ランプ本数の増加、紫外線照度
のアップを図る背景で、近年オゾンガスの処理が無視出
来ないレベルに達している。オゾンガスは０．１ｐｐｍ
以下での排出を規定されており、そのため、オゾン分解
触媒、または紫外線照射による強制分解等、本体以外の
付帯設備が要求されることになる。

【０００９】そこで上記カラーフィルター製造工程にお
いて、紫外線照射は着色パターンへも行われる。ここで
障害となるのが無機イオン汚染である。紫外線照射によ
って、着色パターン表面に無機イオン汚染が生じ、この
ことは製品の品質上好ましくない。いわば紫外線照射の
弊害であり、解決が急がれている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の問題点を解決するものであり、その課題とすると
ころは、紫外線照射による基板洗浄装置において、省ス
ペース、低コスト型で、更に無機イオン汚染等カラーフ
ィルター表面への品質上の弊害も与えず、かつ人体に有
害となる排オゾンガスやオゾン水排水の一括処理手段を
付設して人体に無害となる基板洗浄装置を提供すること
にある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項１の発明では、不活性ガ
スが導入されているチャンバー内に紫外線照射ランプと
その下方にある紫外線照射窓でなる紫外線照射装置によ
り、搬送される被洗浄基板上に紫外線を照射して、該被
洗浄基板の有機物を除去する基板洗浄装置において、前
記紫外線照射窓と被洗浄基板の間に、酸素ガスまたはオ
ゾンガスを含む気体を供給するガス供給手段と、該供給
されたガスを回収するガス回収手段とを有し、該ガス回
収手段で回収された排オゾンガスを、前記紫外線照射ラ
ンプより照射された紫外線に暴露されるオゾン分解流路
を具備していることを特徴とする基板洗浄装置としたも
のである。

【００１２】また、請求項２の発明では、前記ガス供給
手段は、前記紫外線照射装置の一端から酸素ガスまたは
オゾンガスを含む気体の供給を行い、前記ガス回収手段
は、もう一方の一端から回収を行い、該気体の供給方向
および回収方向は、被洗浄基板の搬送方向と同一にする
ことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置としたも
のである。

【００１３】また、請求項３の発明では、前記紫外線照
射装置の被洗浄基板を介した下側に遮蔽板を具備するこ
とを特徴とする請求項１または２記載の基板洗浄装置と
したものである。

【００１４】また、請求項４の発明では、前記紫外線照
射窓と搬送される被洗浄基板との間隔を５ｍｍ以下、１
ｍｍ以上とすることを特徴とする請求項１乃至３のいず
れか１項に記載の基板洗浄装置としたものである。

【００１５】また、請求項５の発明では、前記ガス供給
手段は、酸素ガスまたはオゾンガスを含む気体の酸素、
およびオゾン濃度を調節して供給する機構を有すること
を特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基
板洗浄装置としたものである。

【００１６】また、請求項６の発明では、前記ガス供給
手段は、酸素ガスまたはオゾンガスを含む気体の供給圧
力、流量を調節する機構を有することを特徴とする請求
項１乃至５のいずれか１項に記載の基板洗浄装置とした
ものである。

【００１７】また、請求項７の発明では、前記ガス回収
手段は、紫外線照射後のオゾンガスを含む気体の回収圧
力、流量を調節する機構を有することを特徴とする請求
項１乃至６のいずれか１項に記載の基板洗浄装置とした
ものである。

【００１８】また、請求項８の発明では、前記オゾン分
解流路は、チャンバー内の紫外線照射窓面に対して紫外
線照射ランプをはさんだ上側に設けた構成とし、更に耐
紫外線性の透明配管でなることを特徴とする請求項１記
載の基板洗浄装置としたものである。

【００１９】また、請求項９の発明では、前記紫外線照
射装置より後の工程にオゾン水処理ユニットを設けたこ
とを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の
基板洗浄装置としたものである。

【００２０】また、請求項１０の発明では、前記オゾン
水処理ユニットは、紫外線が照射された搬送する基板上
にオゾン水を供給するオゾン水供給手段と、該供給され
たオゾン水を回収するオゾン水回収手段とを有し、該オ
ゾン水回収手段で回収された排オゾン水と前記ガス回収
手段で回収された排オゾンガスとが合流し、前記オゾン
分解流路に導入されることを特徴とする請求項９記載の
基板洗浄装置としたものである。

【００２１】また、請求項１１の発明では、前記オゾン
水供給手段は、オゾン水供給口より被洗浄基板の搬送方
向と逆方向にオゾン水を供給することを特徴とする請求
項１０記載の基板洗浄装置としたものである。

【００２２】さらにまた、請求項１２の発明では、前記
オゾン分解流路から排出された気体、液体ないし気液混
合体は場合によっては気液分離し、気体は一般排気へ、
液体は一般排水へ直接流すことを特徴とする請求項１０
記載の基板洗浄装置としたものである。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
用いながら詳細に説明する。本発明は、例えば図１の側
面概略図に示すように、搬送される被洗浄基板１に紫外
線を照射する紫外線照射装置３０でなる基板洗浄装置１
００、さらに図２の側面概略図に示すように、紫外線照
射装置３０の後工程に、紫外線が照射された被洗浄基板
１をオゾン水で処理するオゾン水処理ユニット４０を付
加した構成からなる基板洗浄装置１００に関するもので
ある。

【００２４】上記紫外線は大気中に含まれる酸素ガスか
らオゾンガス、活性酸素を発生させるが、大気中の酸素
の存在率は周知のように約２０％程度である。したがっ
て紫外線照射装置３０により照射された紫外線エネルギ
ーから効率よくオゾンガス、活性酸素を発生させるため
には、図１に示すように、ガス供給口８より被洗浄基板
１と紫外線照射窓３の間に濃度の高い酸素ガス、または
直接オゾンガスを送り込んでやれば良い。さらにその被
洗浄基板１と紫外線照射窓３間の間隔を出来るだけ狭く
することによって、体積を小さくし、これによってオゾ
ンガス、または酸素ガスを流す量を少なくするととも
に、ガス回収口９を設けることによって気体の流れを作
り出し、常に新鮮なオゾンガス、または酸素ガスを供給
し、および被洗浄基板１の表面での反応によって生じる
副産物であるＣＯ₂、Ｈ₂Ｏガスの排気を促すことがで
きる。

【００２５】そこでまず、本発明の基板洗浄装置１００
を構成する紫外線照射装置３０は、図２に示すように、
例えば窒素ガスが導入されているチャンバー４内に紫外
線照射ランプ２と、その下方にある耐紫外線性に優れ、
かつ紫外線を吸収しない（例えば透明な石英ガラス）紫
外線照射窓３とでなり、ガス供給口８から導入されたオ
ゾンガスまたは酸素ガスは、この紫外線照射窓３と被洗
浄基板１の間を通ってガス回収口９から排出される。そ
の過程においてオゾンガス、または酸素ガスは紫外線の
照射を受けて、励起された酸素原子、つまり活性酸素を
発生して被洗浄基板１表面を親水性に改質する。導入す
るガスにオゾンガスを採用した場合、オゾンガス自体も
表面改質作用を持つものである。

【００２６】前記ガス供給口８の供給流路、ガス回収口
９の回収流路の構成や形状は特に限定するものではない
が、例えば紫外線照射ランプ２方向に奥行きを持つスリ
ットタイプのもの、または微細な多孔式ノズルによる供
給、回収方法等を採用し、被洗浄基板１に対してムラ無
く、均一な供給、回収できる設計が望ましい。

【００２７】本発明の基板洗浄装置１００では、図４に
示す従来の多灯式紫外線照射装置と異なり、図１に示す
ように、例えば使用する紫外線照射ランプ２は１本で充
分であり、その種類は特に限定するものではないが、酸
素ガス、及びオゾンガスの両方に作用して活性酸素を生
じさせる波長領域を持つものが望ましい。さらに本発明
では、図１に示すように、ガス回収手段が、ガス回収口
９より回収された排オゾンガスが排オゾンガス回収流路
１２を通り、チャンバー４内の紫外線照射ランプ２より
照射される紫外線に暴露されて分解するオゾン分解流路
６を備えている基板洗浄装置１００とするものである。

【００２８】また、本発明では、図１に示すように、酸
素ガス、またはオゾンガスの供給方向Ｐ、つまり供給ガ
スの気流の向きは、被洗浄基板１の搬送方向Ｏと同一と
するものである。これによって、搬送されてきた被洗浄
基板１の先端からガスを供給することが可能となり、基
板全体に常に同一の条件で紫外線照射を行うことができ
る。

【００２９】また、本発明では、図１に示すように、紫
外線照射装置３０および被洗浄基板１の下に遮蔽板７を
設けてある。これは、枚葉式の基板洗浄装置１００であ
るため、搬送タクトによって必ず被洗浄基板１が紫外線
照射装置３０下に存在しないインターバルタイムが生じ
てしまう。その場合、供給されたガスがそのまま下方へ
流れてしまい、回収が困難となる。したがって遮蔽板７
を設けることによって、被洗浄基板１が存在しない場合
も供給ガスの気流の流れを維持し、上下に設けられたガ
ス回収口９によって排出することを可能とする。なお、
この遮蔽板７は、常に気流の流れを維持することによっ
て、被洗浄基板１が搬送されてきた際の気流の乱れなく
し、安定したガス供給による紫外線照射を行う効果をも
図るものである。

【００３０】また、本発明では、図１に示すように、紫
外線照射窓３と被洗浄基板１との間隔Ｄを、５ｍｍ以
下、１ｍｍ以上とするもので、その間隔Ｄが５ｍｍを越
えると使用するランプの種類によっては洗浄効果が悪く
なり、かつその間隔の体積が広くなるので供給する気体
（ガス）の量が多くなり、１ｍｍに満たないと酸素ガス
またはオゾンガスの供給ガスが少なくなり、かつ被洗浄
基板１が紫外線照射窓３に触れたりして洗浄操作の妨げ
になるので好ましくない。

【００３１】前記供給されるガスの圧力、流量、同時に
回収されるガスの排気圧力、流量は重要なパラメーター
である。高圧力、高流量のガス供給を行うと、被洗浄基
板１表面での改質効果も低減してしまうとともに、供
給、回収のバランスがくずれることによって系外にガス
が漏洩してしまい、人体への影響も及ぼしかねない。し
たがって圧力、流量を制御する構成をもつものとし、適
切な条件で実施することが好ましい。

【００３２】また、供給ガスの濃度についても同様であ
る。濃度を制御する構成をもつものとし、紫外線との反
応効率、及び安全性を充分考慮した上で、適切な条件で
実施することが望ましい。

【００３３】また、被洗浄基板１を搬送する基板搬送ロ
ーラー５は、紫外線照射ランプ２の方向に奥行きを持つ
搬送シャフトに取り付けられているものである。本実施
例における紫外線照射工程は、オゾンガスの酸化作用、
及び活性酸素の酸化作用、さらには紫外線自体の光子エ
ネルギーによる化学結合断絶作用を伴うものであるた
め、これらに耐え得る材質は限られる。したがって図１
に示すように、紫外線照射エリアからは外した位置に設
置することを前程とし、ガスの供給、回収流路にも関わ
らない、ごく一般の材質による基板搬送ローラー５を使
用することができる。このように材質選定の枠を広げる
ことによって、より無発塵、より低コストの装置設計を
行うことができる。

【００３４】また、本発明では、図２に示すように、紫
外線照射装置３０の後の工程においてオゾン水洗浄の組
合せたオゾン水処理ユニット４０を具備した基板洗浄装
置１００である。これは、例えば着色パターン無しの基
板洗浄では油脂類除去効果、つまり表面改質の効果を充
分発揮させるためのものである。本発明の基板洗浄装置
１００を構成する紫外線照射装置３０でも除去できない
ような強固な油脂汚染基板の洗浄に際した場合、さらに
オゾン水の酸化作用によって充分な表面改質効果が得ら
れるものである。

【００３５】なお、着色パターンの洗浄におけるオゾン
水洗浄の目的は、紫外線照射によって着色パターン上に
発生した無機イオンの除去にある。無機イオンの発生は
紫外線照射の弊害であり、オゾン水洗浄はその弊害を防
ぐためのものである。

【００３６】このように紫外線照射とオゾン水洗浄の組
合せは、上記２つの効果を目的とするものであり、この
ことは同時に着色パターン無しの基板、及び着色パター
ン後の基板、両方の洗浄プロセスにおいての採用が可能
であることを意味するものである。

【００３７】上記紫外線照射の後のオゾン水洗浄は必ず
しも連続された工程で行われる必要はないが、油脂類除
去効果の向上を目的とする場合、紫外線照射とオゾン水
洗浄を１つの連続工程とした洗浄プロセス設計が望まし
い。

【００３８】図２にオゾン水の供給と、その回収方法の
一例を示すが、オゾン水洗浄の方法は特に限定するもの
ではない。ただし、被洗浄基板１の表面に供給したオゾ
ン水が高効率で回収できる洗浄方法が望ましい。

【００３９】また、本発明では、図２に示すように、オ
ゾン水処理ユニット４０で洗浄され排水された排オゾン
水が、ガス回収口９から通じる排オゾンガス回収流路１
２に合流し、オゾン分解流路６に通じて排オゾン水をも
分解するようにしたものである。このオゾン分解流路６
は、耐紫外線性に優れ、かつ紫外線を吸収しない例えば
透明な石英ガラスの配管でなり、図１および図２に示す
ように紫外線照射ランプの上方に設け、被洗浄基板１へ
の紫外線照射の妨げとならない配置とし、これによって
紫外線照射装置３０に基板洗浄効果と排オゾンガス、排
オゾン水の分解という２つの効果を併せ持たせることが
できる基板洗浄装置１００である。

【００４０】本発明の洗浄工程におけるオゾンガス及び
オゾン水の流通経路は、図３のブロック図に示すよう
に、発生装置による生成、または他の方法により供給さ
れたオゾンガス、または酸素ガスは、紫外線照射装置へ
供給される。他方でオゾンガスはガス溶解モジュールを
通して超純水中へ溶かし込み、オゾン水を生成、オゾン
水供給装置へ送り込まれる。両装置で使用され、排出さ
れた排オゾンガス及び排オゾン水は、同紫外線照射装置
の紫外線に暴露されて分解され、一般排気、一般排水と
して廃棄される。図２に示したような排オゾンガスと排
オゾン水を混合して回収し、紫外線を照射する方法を採
用した場合は、気液分離装置によって気体と液体に分類
し、同様に一般排気、一般排水として廃棄するようにし
たものである。

【００４１】

【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。即ち、本発明の基板洗浄装置によ
れば、従来の多灯式紫外線照射装置を用いた基板洗浄装
置と異なり、一本の紫外線照射ランプのみで充分な洗浄
が可能となり、これによって省スペース、低コスト、メ
ンテナンス時間の短縮を図ることができる。さらに紫外
線照射の弊害とされてきた無機イオン汚染の回避をも可
能にする基板洗浄装置とすることができる。

【００４２】また、本発明の基板洗浄装置によれば、オ
ゾン分解流路を紫外線照射ランプに暴露するオゾン分解
手段を設けることによって、回収され排出された排オゾ
ンガス、及び排オゾン水のオゾン濃度を、規定された濃
度まで下げて廃棄するためのオゾン分解処理装置を別途
設置する必要なく、装置からそのまま一般排気、一般排
水へ廃棄することが出来る。

【００４３】従って本発明は、平板状基板を洗浄対象と
するエレクトロニクス分野全般、とりわけカラーフィル
ター製造における透明平板基板の受入洗浄工程および着
色パターン付基板の中間洗浄工程に使用される基板洗浄
装置として、優れた実用上の効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板洗浄装置の一実施の形態を側面で
表した概略図である。

【図２】本発明の基板洗浄装置の他の一実施の形態を側
面で表した概略図である。

【図３】本発明の基板洗浄装置における洗浄工程のオゾ
ンガス及びオゾン水の流通経路の一事例を説明するブロ
ック図である。

【図４】従来の多灯式紫外線照射による基板洗浄装置の
一事例を側面で表した説明図である。

【符号の説明】

１‥‥被洗浄基板２‥‥紫外線照射ランプ３‥‥紫外線照射窓４‥‥チャンバー５‥‥基板搬送ローラー６‥‥オゾン分解流路７‥‥遮蔽板８‥‥ガス供給口９‥‥ガス回収口１０‥‥オゾン水供給口１１‥‥オゾン回収給口１２‥‥排オゾンガス回収流路３０‥‥紫外線照射装置４０‥‥オゾン水処理ユニット１００‥‥基板洗浄装置Ｄ‥‥紫外線照射窓と被洗浄基板との間隔Ｏ‥‥被洗浄基板の搬送方向Ｐ‥‥オゾンガス供給の方向Ｑ‥‥オゾン水供給の方向

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/13357 Ｇ０２Ｆ 1/13357 Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４５Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４５Ｄ６４５ＺＦターム(参考） 2H088 FA17 FA30 HA12 HA28 MA20 2H090 JC19 LA15 LA16 2H091 FA02Y FA41Z GA01 LA30 3B116 AA01 AB14 BB21 BB89 BB90 BC01 CD11 CD22 CD33 3B201 AA01 AB14 BB21 BB38 BB89 BB90 BB92 BB98 BC01 CD11 CD22 CD33

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】不活性ガスが導入されているチャンバー内
に紫外線照射ランプとその下方にある紫外線照射窓でな
る紫外線照射装置により、搬送される被洗浄基板上に紫
外線を照射して、該被洗浄基板の有機物を除去する基板
洗浄装置において、前記紫外線照射窓と被洗浄基板の間
に、酸素ガスまたはオゾンガスを含む気体を供給するガ
ス供給手段と、該供給されたガスを回収するガス回収手
段とを有し、該ガス回収手段で回収された排オゾンガス
を前記紫外線照射ランプより照射された紫外線に暴露さ
れるオゾン分解流路を具備していることを特徴とする基
板洗浄装置。
【請求項２】前記ガス供給手段は、前記紫外線照射装置
の一端から酸素ガスまたはオゾンガスを含む気体の供給
を行い、前記ガス回収手段は、もう一方の一端から回収
を行い、該気体の供給方向および回収方向は、被洗浄基
板の搬送方向と同一にすることを特徴とする請求項１記
載の基板洗浄装置。
【請求項３】前記紫外線照射装置の被洗浄基板を介した
下側に遮蔽板を具備することを特徴とする請求項１また
は２記載の基板洗浄装置。
【請求項４】前記紫外線照射窓と搬送される被洗浄基板
との間隔を、５ｍｍ以下、１ｍｍ以上とすることを特徴
とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の基板洗浄
装置。
【請求項５】前記ガス供給手段は、酸素ガスまたはオゾ
ンガスを含む気体の酸素およびオゾン濃度を調節して供
給する機構を有することを特徴とする請求項１乃至４の
いずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】前記ガス供給手段は、酸素ガスまたはオゾ
ンガスを含む気体の供給圧力、流量を調節する機構を有
することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に
記載の基板洗浄装置。
【請求項７】前記ガス回収手段は、紫外線照射後のオゾ
ンガスを含む気体の回収圧力、流量を調節する機構を有
することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に
記載の基板洗浄装置。
【請求項８】前記オゾン分解流路は、チャンバー内の紫
外線照射窓面に対して紫外線照射ランプをはさんだ上側
に設けた構成とし、更に耐紫外線性の透明配管でなるこ
とを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項９】前記紫外線照射装置より後の工程にオゾン
水処理ユニットを設けたことを特徴とする請求項１乃至
８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】前記オゾン水処理ユニットは、紫外線が
照射された被洗浄基板上にオゾン水を供給するオゾン水
供給手段と、該供給されたオゾン水を回収するオゾン水
回収手段とを有し、該オゾン水回収手段で回収された排
オゾン水と前記ガス回収手段で回収された排オゾンガス
とが合流し、前記オゾン分解流路に導入されることを特
徴とする請求項９記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】前記オゾン水供給手段は、オゾン水供給
口より被洗浄基板の搬送方向と逆方向にオゾン水を供給
することを特徴とする請求項１０記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】前記オゾン分解流路から排出された気
体、液体ないし気液混合体は場合によっては気液分離
し、気体は一般排気へ、液体は一般排水へ直接流すこと
を特徴とする請求項１０記載の基板洗浄装置。