JP2003068450A - Ｏｌｅｄディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents
Ｏｌｅｄディスプレイパネルおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 公知の受動マトリックス有機発光ダイオード
ディスプレイパネルの有するクロストークの問題を解決
し、製造工程を簡略化できる新規なＯＬＥＤディスプレ
イパネルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 垂直方向に対して平行である、複数の溝
を基材に形成し；該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；該第一の電極ラインにキャビティマトリックスを形
成し；該キャビティマトリックスのキャビティ中に有機
発光層を充填して、有機発光マトリックスを形成し；さ
らに、該有機発光層を同一の水平位置で接続するために
水平方向に対して平行である、複数の第二の電極ライン
を基材及び有機発光層に形成する工程からなる、発光デ
ィスプレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディス
プレイパネルの製造方法。
ディスプレイパネルの有するクロストークの問題を解決
し、製造工程を簡略化できる新規なＯＬＥＤディスプレ
イパネルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 垂直方向に対して平行である、複数の溝
を基材に形成し；該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；該第一の電極ラインにキャビティマトリックスを形
成し；該キャビティマトリックスのキャビティ中に有機
発光層を充填して、有機発光マトリックスを形成し；さ
らに、該有機発光層を同一の水平位置で接続するために
水平方向に対して平行である、複数の第二の電極ライン
を基材及び有機発光層に形成する工程からなる、発光デ
ィスプレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディス
プレイパネルの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機発光ダイオー
ド（ＯＬＥＤ）ディスプレイパネルおよびその製造方法
に関するものである。より詳しくは、本発明は、３次元
構造を有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプ
レイパネルおよびその製造方法に関するものである。
ド（ＯＬＥＤ）ディスプレイパネルおよびその製造方法
に関するものである。より詳しくは、本発明は、３次元
構造を有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプ
レイパネルおよびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子製品は、より軽くより小さくなって
きている。また、様々な種類の平面ディスプレイが従来
のブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイにとってかわって
きており、様々な分野の多くのディスプレイ装置に使用
されている。平面ディスプレイは、様々な種類のポータ
ブルな通信情報機器を考慮すると、ヒト及び機械の間の
重要な通信のインターフェイスである。ＯＬＥＤディス
プレイは、低い活性化電圧、高い応答速度、低い電力消
費量、視野角の限定がない、広範な用途及び適当な稼動
温度などの、利点を有する平面ディスプレイである。Ｏ
ＬＥＤはまた、近年、大企業及び大学の重要な研究対象
となっている。ＯＬＥＤは、ディスプレイの個々の画素
毎の光源として有機発光ダイオードを使用している。Ｏ
ＬＥＤは低い活性化電圧及び小さな発光電流しか必要と
しないため、低電力消費量という利点が達成できる。従
来のＯＬＥＤの主要な構造は図１に示されるとおりであ
る。すなわち、図１に示されるように、ＯＬＥＤは、ア
ノード２を有し、例えば、インジウム・スズ酸化物（Ｉ
ＴＯ）透明電極膜が、スパッタ法または蒸着法によって
ガラス基材１（または透明プラスチック基材）上に被覆
される。有機発光層３及びカソード４がアノード２上に
順次形成される。ＯＬＥＤの発光理論によると、正孔及
び電子がアノード２及びカソード４から生じる駆動力に
よって２電極間にある有機発光層３中に導入される。有
機発光層３は、有機薄膜の一以上の層であってもよい。
例えば、有機発光層３は、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔
輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＬ）及び電子輸送層（Ｅ
ＴＬ）を有していてもよい。上記層に加えて、有機発光
層３はまた、特定の機能を付加するために、他の種類の
膜を有していてもよい。公知のＯＬＥＤディスプレイパ
ネルの製造方法としては、スパッタ法によってまたは蒸
着法によって透明基材上にインジウム・スズ酸化物（Ｉ
ＴＯ）層を形成する方法がある。多くの有機発光層が金
属マスク法、フォトリソグラフィー法及びエッチング法
の組み合わせによってインジウム・スズ酸化物層上に形
成される。次に、金属電極が蒸着法によって形成され
る。上記したような従来の２次元法によって製造される
ＯＬＥＤディスプレイパネルとしては、例えば、受動マ
トリックス有機発光ダイオード(passive matrix organi
c light-emitting diode)（ＰＭＯＬＥＤ）がある。公
知の製造方法は、画素の有機材料の厚みの制御が困難で
ある、各画素の眼視等級が均一でない、電流漏れにより
クロストークの問題が生じやすい、および多くのマスク
合わせやフォトリソグラフィー工程が必要であるため操
作が複雑であるなどの、多くの欠点を有する。
きている。また、様々な種類の平面ディスプレイが従来
のブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイにとってかわって
きており、様々な分野の多くのディスプレイ装置に使用
されている。平面ディスプレイは、様々な種類のポータ
ブルな通信情報機器を考慮すると、ヒト及び機械の間の
重要な通信のインターフェイスである。ＯＬＥＤディス
プレイは、低い活性化電圧、高い応答速度、低い電力消
費量、視野角の限定がない、広範な用途及び適当な稼動
温度などの、利点を有する平面ディスプレイである。Ｏ
ＬＥＤはまた、近年、大企業及び大学の重要な研究対象
となっている。ＯＬＥＤは、ディスプレイの個々の画素
毎の光源として有機発光ダイオードを使用している。Ｏ
ＬＥＤは低い活性化電圧及び小さな発光電流しか必要と
しないため、低電力消費量という利点が達成できる。従
来のＯＬＥＤの主要な構造は図１に示されるとおりであ
る。すなわち、図１に示されるように、ＯＬＥＤは、ア
ノード２を有し、例えば、インジウム・スズ酸化物（Ｉ
ＴＯ）透明電極膜が、スパッタ法または蒸着法によって
ガラス基材１（または透明プラスチック基材）上に被覆
される。有機発光層３及びカソード４がアノード２上に
順次形成される。ＯＬＥＤの発光理論によると、正孔及
び電子がアノード２及びカソード４から生じる駆動力に
よって２電極間にある有機発光層３中に導入される。有
機発光層３は、有機薄膜の一以上の層であってもよい。
例えば、有機発光層３は、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔
輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＬ）及び電子輸送層（Ｅ
ＴＬ）を有していてもよい。上記層に加えて、有機発光
層３はまた、特定の機能を付加するために、他の種類の
膜を有していてもよい。公知のＯＬＥＤディスプレイパ
ネルの製造方法としては、スパッタ法によってまたは蒸
着法によって透明基材上にインジウム・スズ酸化物（Ｉ
ＴＯ）層を形成する方法がある。多くの有機発光層が金
属マスク法、フォトリソグラフィー法及びエッチング法
の組み合わせによってインジウム・スズ酸化物層上に形
成される。次に、金属電極が蒸着法によって形成され
る。上記したような従来の２次元法によって製造される
ＯＬＥＤディスプレイパネルとしては、例えば、受動マ
トリックス有機発光ダイオード(passive matrix organi
c light-emitting diode)（ＰＭＯＬＥＤ）がある。公
知の製造方法は、画素の有機材料の厚みの制御が困難で
ある、各画素の眼視等級が均一でない、電流漏れにより
クロストークの問題が生じやすい、および多くのマスク
合わせやフォトリソグラフィー工程が必要であるため操
作が複雑であるなどの、多くの欠点を有する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、公知の方法による上記したような問題を解決できる
新規なＯＬＥＤディスプレイパネルおよびその製造方法
を提供することを目的とするものである。
は、公知の方法による上記したような問題を解決できる
新規なＯＬＥＤディスプレイパネルおよびその製造方法
を提供することを目的とするものである。
【０００４】本発明の他の目的は、公知の受動マトリッ
クス有機発光ダイオードディスプレイパネルの有するク
ロストークの問題を解決し、製造工程を簡略化できる新
規なＯＬＥＤディスプレイパネルおよびその製造方法を
提供することを目的とするものである。
クス有機発光ダイオードディスプレイパネルの有するク
ロストークの問題を解決し、製造工程を簡略化できる新
規なＯＬＥＤディスプレイパネルおよびその製造方法を
提供することを目的とするものである。
【０００５】本発明の別の目的は、画素の有機発光層の
位置、形状及び厚みを正確に制御して良好なディスプレ
イの品質が得られる新規なＯＬＥＤディスプレイパネル
およびその製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
位置、形状及び厚みを正確に制御して良好なディスプレ
イの品質が得られる新規なＯＬＥＤディスプレイパネル
およびその製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
【０００６】本発明のさらなる目的は、次の実装工程で
生じる問題を抑制でき、これによりＯＬＥＤディスプレ
イパネルの収率及び寿命を向上できる新規なＯＬＥＤデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを
目的とするものである。
生じる問題を抑制でき、これによりＯＬＥＤディスプレ
イパネルの収率及び寿命を向上できる新規なＯＬＥＤデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを
目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記諸目
的を達成するために鋭意検討を行なった結果、複数の溝
を基材に形成し、溝に第一の電極ラインを、さらに第一
の電極ラインにキャビティマトリックスを順次形成し、
このようにして形成されたキャビティマトリックスのキ
ャビティ中に有機発光層を充填して、有機発光マトリッ
クスを形成した後、第二の電極ラインを基材及び有機発
光層に形成することによって、３次元キャビティ構造物
を有するＯＬＥＤディスプレイパネルを製造し、これに
より、画素の有機発光層の位置、形状及び厚みを正確に
制御してディスプレイパネルの良好な条件を設定でき
る；各画素の有機発光層を別個に形成できるため、ＰＭ
ＯＬＥＤディスプレイパネルによる従来のクロストーク
問題が解消できる；有機発光層は実装工程後にキャビテ
ィ中に充填されるため、実装の不良から生じる問題が解
消でき、ゆえに有機発光層は簡単に減衰せず、ディスプ
レイパネルの収率及び寿命を向上できるなどの利点が達
成でき、ゆえに上記諸目的が解決できることを知得し
た。上記知見に基づいて、本発明を解決するに至った。
的を達成するために鋭意検討を行なった結果、複数の溝
を基材に形成し、溝に第一の電極ラインを、さらに第一
の電極ラインにキャビティマトリックスを順次形成し、
このようにして形成されたキャビティマトリックスのキ
ャビティ中に有機発光層を充填して、有機発光マトリッ
クスを形成した後、第二の電極ラインを基材及び有機発
光層に形成することによって、３次元キャビティ構造物
を有するＯＬＥＤディスプレイパネルを製造し、これに
より、画素の有機発光層の位置、形状及び厚みを正確に
制御してディスプレイパネルの良好な条件を設定でき
る；各画素の有機発光層を別個に形成できるため、ＰＭ
ＯＬＥＤディスプレイパネルによる従来のクロストーク
問題が解消できる；有機発光層は実装工程後にキャビテ
ィ中に充填されるため、実装の不良から生じる問題が解
消でき、ゆえに有機発光層は簡単に減衰せず、ディスプ
レイパネルの収率及び寿命を向上できるなどの利点が達
成でき、ゆえに上記諸目的が解決できることを知得し
た。上記知見に基づいて、本発明を解決するに至った。
【０００８】すなわち、上記諸目的は、下記（１）〜
（１５）によって達成される。
（１５）によって達成される。
【０００９】（１） 垂直方向に対して平行である、複
数の溝を基材に形成し；上記溝に複数の第一の電極ライ
ンを形成し；上記第一の電極ラインにキャビティマトリ
ックスを形成し；上記キャビティマトリックスのキャビ
ティ中に有機発光層を充填して、有機発光マトリックス
を形成し；さらに、上記有機発光層を同一の水平位置で
接続するために水平方向に対して平行である、複数の第
二の電極ラインを基材及び有機発光層に形成する工程か
らなる、発光ディスプレイアレイが基材に形成される、
ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造方法。
数の溝を基材に形成し；上記溝に複数の第一の電極ライ
ンを形成し；上記第一の電極ラインにキャビティマトリ
ックスを形成し；上記キャビティマトリックスのキャビ
ティ中に有機発光層を充填して、有機発光マトリックス
を形成し；さらに、上記有機発光層を同一の水平位置で
接続するために水平方向に対して平行である、複数の第
二の電極ラインを基材及び有機発光層に形成する工程か
らなる、発光ディスプレイアレイが基材に形成される、
ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造方法。
【００１０】（２） 上記第一の電極ラインはインジウ
ム・スズ酸化物膜から作製されかつ上記第二の電極ライ
ンは金属薄膜から作製される、前記（１）に記載の方
法。
ム・スズ酸化物膜から作製されかつ上記第二の電極ライ
ンは金属薄膜から作製される、前記（１）に記載の方
法。
【００１１】（３） 上記溝及び上記キャビティマトリ
ックスはエキシマーレーザーを用いて形成される、前記
（１）または（２）に記載の方法。
ックスはエキシマーレーザーを用いて形成される、前記
（１）または（２）に記載の方法。
【００１２】（４） 溝に第一の電極ライン及びキャビ
ティマトリックスを形成する工程が、基材にインジウム
・スズ酸化物薄膜を被覆することにより、溝をインジウ
ム・スズ酸化物薄膜で充填し、さらに化学機械研摩を用
いて基材表面上におよび溝の上面より下にあるインジウ
ム・スズ酸化物薄膜の余分な部分を除去することからな
る、前記（１）〜（３）のいずれか一に記載の方法。
ティマトリックスを形成する工程が、基材にインジウム
・スズ酸化物薄膜を被覆することにより、溝をインジウ
ム・スズ酸化物薄膜で充填し、さらに化学機械研摩を用
いて基材表面上におよび溝の上面より下にあるインジウ
ム・スズ酸化物薄膜の余分な部分を除去することからな
る、前記（１）〜（３）のいずれか一に記載の方法。
【００１３】（５） 上記有機発光層はインクジェット
印刷によってキャビティ毎に形成される、前記（１）〜
（４）のいずれか一に記載の方法。
印刷によってキャビティ毎に形成される、前記（１）〜
（４）のいずれか一に記載の方法。
【００１４】（６） キャビティマトリックスのキャビ
ティ中に有機発光層を充填することにより有機発光マト
リックスを形成する工程が、熱蒸発を用いて基材に有機
発光層を形成することにより、キャビティを有機発光層
で充填し；さらに化学機械研摩を用いて基材表面上にお
よびキャビティの上面より下にある有機発光層の余分な
部分を除去することからなる、前記（１）〜（５）のい
ずれか一に記載の方法。
ティ中に有機発光層を充填することにより有機発光マト
リックスを形成する工程が、熱蒸発を用いて基材に有機
発光層を形成することにより、キャビティを有機発光層
で充填し；さらに化学機械研摩を用いて基材表面上にお
よびキャビティの上面より下にある有機発光層の余分な
部分を除去することからなる、前記（１）〜（５）のい
ずれか一に記載の方法。
【００１５】（７） （ａ）垂直方向に対して平行であ
る、複数の溝を基材に形成し；（ｂ）上記溝に複数の第
一の電極ラインを形成し；（ｃ）上記第一の電極ライン
にキャビティマトリックスを形成し；（ｄ）上記キャビ
ティマトリックスのキャビティ中に有機発光層を充填し
て、有機発光マトリックスを形成し；上記（ａ）から
（ｄ）の工程を３回繰り返して、赤−緑−青の３原色の
有機発光マトリックスを形成し；さらに、上記有機発光
層を同一の水平位置で接続するために水平方向に対して
平行である、複数の第二の電極ラインを基材及び有機発
光層に形成する工程からなる、フルカラーの発光ディス
プレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディスプレ
イアレイの製造方法。
る、複数の溝を基材に形成し；（ｂ）上記溝に複数の第
一の電極ラインを形成し；（ｃ）上記第一の電極ライン
にキャビティマトリックスを形成し；（ｄ）上記キャビ
ティマトリックスのキャビティ中に有機発光層を充填し
て、有機発光マトリックスを形成し；上記（ａ）から
（ｄ）の工程を３回繰り返して、赤−緑−青の３原色の
有機発光マトリックスを形成し；さらに、上記有機発光
層を同一の水平位置で接続するために水平方向に対して
平行である、複数の第二の電極ラインを基材及び有機発
光層に形成する工程からなる、フルカラーの発光ディス
プレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディスプレ
イアレイの製造方法。
【００１６】（８） 上記第一の電極ラインはインジウ
ム・スズ酸化物膜から作製されかつ上記第二の電極ライ
ンは金属薄膜から作製される、前記（７）に記載の方
法。
ム・スズ酸化物膜から作製されかつ上記第二の電極ライ
ンは金属薄膜から作製される、前記（７）に記載の方
法。
【００１７】（９） 上記溝及び上記キャビティマトリ
ックスはエキシマーレーザーを用いて形成される、前記
（７）または（８）に記載の方法。
ックスはエキシマーレーザーを用いて形成される、前記
（７）または（８）に記載の方法。
【００１８】（１０） 溝に第一の電極ライン及びキャ
ビティマトリックスを形成する工程が、基材にインジウ
ム・スズ酸化物薄膜を被覆することにより、溝をインジ
ウム・スズ酸化物薄膜で充填し、さらに化学機械研摩を
用いて基材表面上におよび溝の上面より下にあるインジ
ウム・スズ酸化物薄膜の余分な部分を除去することから
なる、前記（７）〜（９）のいずれか一に記載の方法。
ビティマトリックスを形成する工程が、基材にインジウ
ム・スズ酸化物薄膜を被覆することにより、溝をインジ
ウム・スズ酸化物薄膜で充填し、さらに化学機械研摩を
用いて基材表面上におよび溝の上面より下にあるインジ
ウム・スズ酸化物薄膜の余分な部分を除去することから
なる、前記（７）〜（９）のいずれか一に記載の方法。
【００１９】（１１） 上記有機発光層はインクジェッ
ト印刷によってキャビティ毎に形成される、前記（７）
〜（１０）のいずれか一に記載の方法。
ト印刷によってキャビティ毎に形成される、前記（７）
〜（１０）のいずれか一に記載の方法。
【００２０】（１２） キャビティマトリックスのキャ
ビティ中に有機発光層を充填することにより有機発光マ
トリックスを形成する工程が、熱蒸発を用いて基材に有
機発光層を形成することにより、キャビティを有機発光
層で充填し；さらに化学機械研摩を用いて基材表面上に
およびキャビティの上面より下にある有機発光層の余分
な部分を除去することからなる、前記（７）〜（１１）
のいずれか一に記載の方法。
ビティ中に有機発光層を充填することにより有機発光マ
トリックスを形成する工程が、熱蒸発を用いて基材に有
機発光層を形成することにより、キャビティを有機発光
層で充填し；さらに化学機械研摩を用いて基材表面上に
およびキャビティの上面より下にある有機発光層の余分
な部分を除去することからなる、前記（７）〜（１１）
のいずれか一に記載の方法。
【００２１】（１３） 垂直方向に対して平行である、
複数の溝が形成される基材；上記溝に充填される複数の
第一の電極ライン；キャビティマトリックスの各キャビ
ティは有機発光層で充填される、上記電極ライン上に形
成されるキャビティマトリックス；および上記有機発光
層を同一の水平位置で接続するために水平方向に対して
平行であり、基材及び有機発光層に形成される複数の第
二の電極ラインからなる、ＯＬＥＤディスプレイパネ
ル。
複数の溝が形成される基材；上記溝に充填される複数の
第一の電極ライン；キャビティマトリックスの各キャビ
ティは有機発光層で充填される、上記電極ライン上に形
成されるキャビティマトリックス；および上記有機発光
層を同一の水平位置で接続するために水平方向に対して
平行であり、基材及び有機発光層に形成される複数の第
二の電極ラインからなる、ＯＬＥＤディスプレイパネ
ル。
【００２２】（１４） 上記第一の電極ラインはインジ
ウム・スズ酸化物膜から作製されかつ上記第二の電極ラ
インは金属薄膜から作製される、前記（１３）に記載の
ＯＬＥＤディスプレイパネル。
ウム・スズ酸化物膜から作製されかつ上記第二の電極ラ
インは金属薄膜から作製される、前記（１３）に記載の
ＯＬＥＤディスプレイパネル。
【００２３】（１５） 上記有機発光層は複数の有機薄
膜からなる、前記（１３）または（１４）に記載のＯＬ
ＥＤディスプレイパネル。
膜からなる、前記（１３）または（１４）に記載のＯＬ
ＥＤディスプレイパネル。
【００２４】
【発明の実施の形態および実施例】第一の態様による
と、本発明は、垂直方向に対して平行である、複数の溝
を基材に形成し；該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；該第一の電極ラインにキャビティマトリックスを形
成し；該キャビティマトリックスのキャビティ中に有機
発光層を充填して、有機発光マトリックスを形成し；さ
らに、該有機発光層を同一の水平位置で接続するために
水平方向に対して平行である、複数の第二の電極ライン
を基材及び有機発光層に形成する工程からなる、発光デ
ィスプレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディス
プレイパネルの製造方法を提供するものである。
と、本発明は、垂直方向に対して平行である、複数の溝
を基材に形成し；該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；該第一の電極ラインにキャビティマトリックスを形
成し；該キャビティマトリックスのキャビティ中に有機
発光層を充填して、有機発光マトリックスを形成し；さ
らに、該有機発光層を同一の水平位置で接続するために
水平方向に対して平行である、複数の第二の電極ライン
を基材及び有機発光層に形成する工程からなる、発光デ
ィスプレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディス
プレイパネルの製造方法を提供するものである。
【００２５】本発明はまた、赤−緑−青の３原色の有機
発光マトリックスが基材上に形成される、フルカラーの
ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造方法を提供するもの
である。すなわち、第二の態様によると、本発明は、
（ａ）垂直方向に対して平行である、複数の溝を基材に
形成し；（ｂ）該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；（ｃ）該第一の電極ラインにキャビティマトリック
スを形成し；（ｄ）該キャビティマトリックスのキャビ
ティ中に有機発光層を充填して、有機発光マトリックス
を形成し；上記（ａ）から（ｄ）の工程を３回繰り返し
て、赤−緑−青の３原色の有機発光マトリックスを形成
し；さらに、該有機発光層を同一の水平位置で接続する
ために水平方向に対して平行である、複数の第二の電極
ラインを基材及び有機発光層に形成する工程からなる、
フルカラーの発光ディスプレイアレイが基材に形成され
る、ＯＬＥＤディスプレイアレイの製造方法を提供する
ものである。
発光マトリックスが基材上に形成される、フルカラーの
ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造方法を提供するもの
である。すなわち、第二の態様によると、本発明は、
（ａ）垂直方向に対して平行である、複数の溝を基材に
形成し；（ｂ）該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；（ｃ）該第一の電極ラインにキャビティマトリック
スを形成し；（ｄ）該キャビティマトリックスのキャビ
ティ中に有機発光層を充填して、有機発光マトリックス
を形成し；上記（ａ）から（ｄ）の工程を３回繰り返し
て、赤−緑−青の３原色の有機発光マトリックスを形成
し；さらに、該有機発光層を同一の水平位置で接続する
ために水平方向に対して平行である、複数の第二の電極
ラインを基材及び有機発光層に形成する工程からなる、
フルカラーの発光ディスプレイアレイが基材に形成され
る、ＯＬＥＤディスプレイアレイの製造方法を提供する
ものである。
【００２６】以下、本発明を、図面を参照しながら具体
的に説明するが、本発明は下記具体的な説明や図面によ
って制限されるものではなく、これらは好ましい実施態
様を説明したのみであり、溝や第二の電極ラインの数な
どは単に説明するために適宜記載されているのみであ
り、公知の数などが同様にして使用できる。また、様々
な変更や修飾が下記詳細な説明から本発明の概念におい
て可能であることは、当業者には明らかである。また、
下記実施態様は、本発明の実施態様である、単色（紅燈
有機発光層）のおよびフルカラーのＯＬＥＤディスプレ
イパネルの製造工程に関するものであるが、他の色また
は２色のＯＬＥＤディスプレイパネルの製造工程は、下
記実施態様における工程から所望の色を適宜選択する以
外は下記実施態様の工程と同様にして行なわれる。
的に説明するが、本発明は下記具体的な説明や図面によ
って制限されるものではなく、これらは好ましい実施態
様を説明したのみであり、溝や第二の電極ラインの数な
どは単に説明するために適宜記載されているのみであ
り、公知の数などが同様にして使用できる。また、様々
な変更や修飾が下記詳細な説明から本発明の概念におい
て可能であることは、当業者には明らかである。また、
下記実施態様は、本発明の実施態様である、単色（紅燈
有機発光層）のおよびフルカラーのＯＬＥＤディスプレ
イパネルの製造工程に関するものであるが、他の色また
は２色のＯＬＥＤディスプレイパネルの製造工程は、下
記実施態様における工程から所望の色を適宜選択する以
外は下記実施態様の工程と同様にして行なわれる。
【００２７】図２〜６は、本発明の一実施態様である、
単色の（即ち、赤、緑または青色のいずれかの発光アレ
イを有する）ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造工程を
示す図であり、図７及び８は、本発明の他の実施態様で
ある、フルカラーの（即ち、赤、緑及び青色すべての発
光アレイを有する）ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造
工程を示す図である。本実施態様によると、垂直方向に
対して平行でありかつ相互に平行な複数の長い溝をエキ
シマーレーザーで図２に示される基材に形成した（図
３）後、導電性材料で溝を充填し、複数の第一の電極ラ
インを形成する（図４）。さらに、キャビティマトリッ
クスをエキシマーレーザーで第一の電極ラインに形成す
る（図５Ａ及びＢ）。この際、キャビティマトリックス
の各キャビティが画素に相当する。このようにして、３
次元キャビティ構造物が製造される。続いて、有機発光
層をキャビティ中に充填する（図６Ａ及びＢ）。この
際、画素の有機発光層の位置、形状及び厚みを正確に制
御してディスプレイパネルの良好な条件を設定できるよ
うに、キャビティが形成されている際に、キャビティの
位置、形状及び深さを正確に制御することが好ましい。
また、このような方法を使用することによって、各画素
の有機発光層を別個に形成でき、ＰＭＯＬＥＤディスプ
レイパネルのクロストーク問題を防止できる。また、有
機発光層は実装工程後にキャビティ中に充填されるた
め、実装の不良から生じる問題が解消できる。換言する
と、有機発光層は簡単に減衰せず、ディスプレイパネル
の収率及び寿命を向上することが可能である。このよう
にして、最終的に、３次元キャビティ構造物が基材に形
成される。なお、本発明の他の実施態様である、フルカ
ラーの（即ち、赤、緑及び青色すべての発光アレイを有
する）ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造の場合には、
上記した工程と同様の工程を計３回繰り返すことによっ
て、紅燈有機発光層、緑灯有機発光層及び青灯有機発光
層が所望のキャビティ中にそれぞれ充填（形成）される
（図７Ａ及びＢ）。最後に、複数の第二の電極ラインが
同一の水平位置で接続するように有機発光層上に形成さ
れる（図８）。
単色の（即ち、赤、緑または青色のいずれかの発光アレ
イを有する）ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造工程を
示す図であり、図７及び８は、本発明の他の実施態様で
ある、フルカラーの（即ち、赤、緑及び青色すべての発
光アレイを有する）ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造
工程を示す図である。本実施態様によると、垂直方向に
対して平行でありかつ相互に平行な複数の長い溝をエキ
シマーレーザーで図２に示される基材に形成した（図
３）後、導電性材料で溝を充填し、複数の第一の電極ラ
インを形成する（図４）。さらに、キャビティマトリッ
クスをエキシマーレーザーで第一の電極ラインに形成す
る（図５Ａ及びＢ）。この際、キャビティマトリックス
の各キャビティが画素に相当する。このようにして、３
次元キャビティ構造物が製造される。続いて、有機発光
層をキャビティ中に充填する（図６Ａ及びＢ）。この
際、画素の有機発光層の位置、形状及び厚みを正確に制
御してディスプレイパネルの良好な条件を設定できるよ
うに、キャビティが形成されている際に、キャビティの
位置、形状及び深さを正確に制御することが好ましい。
また、このような方法を使用することによって、各画素
の有機発光層を別個に形成でき、ＰＭＯＬＥＤディスプ
レイパネルのクロストーク問題を防止できる。また、有
機発光層は実装工程後にキャビティ中に充填されるた
め、実装の不良から生じる問題が解消できる。換言する
と、有機発光層は簡単に減衰せず、ディスプレイパネル
の収率及び寿命を向上することが可能である。このよう
にして、最終的に、３次元キャビティ構造物が基材に形
成される。なお、本発明の他の実施態様である、フルカ
ラーの（即ち、赤、緑及び青色すべての発光アレイを有
する）ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造の場合には、
上記した工程と同様の工程を計３回繰り返すことによっ
て、紅燈有機発光層、緑灯有機発光層及び青灯有機発光
層が所望のキャビティ中にそれぞれ充填（形成）される
（図７Ａ及びＢ）。最後に、複数の第二の電極ラインが
同一の水平位置で接続するように有機発光層上に形成さ
れる（図８）。
【００２８】以下、各工程を図面を参照しながらより詳
細に説明する。
細に説明する。
【００２９】図２は、基材１０を示すものである。本発
明において使用される基材１０は、特に制限されるもの
ではなく、公知の基材が使用されるが、好ましくは当面
ガラス基材または透明プラスチック基材である。
明において使用される基材１０は、特に制限されるもの
ではなく、公知の基材が使用されるが、好ましくは当面
ガラス基材または透明プラスチック基材である。
【００３０】図３は、基材１０に形成された複数の溝１
２を示すものである。図３に示されるように、複数の溝
１２は、垂直方向に対して平行に基材１０に形成され、
好ましくは相互に平行であり、この際、隣り合う２列の
溝間の間隔は一定であることが好ましく、溝間の間隔
は、特に制限されず、公知の有機発光層について使用さ
れる間隔が同様にして使用できるが、好ましくは１〜１
００μｍ、より好ましくは３〜３０μｍである。また、
溝１２の深さ及び幅は、特に制限されず、キャビティマ
トリックスの各キャビティの深さ（厚み）及び幅［即
ち、第一の電極ライン及び有機発光層のそれぞれの深さ
（厚み）及び幅］によって適宜選択されるが、具体的に
は、溝１２の深さが、好ましくは０．１〜１０μｍ、よ
り好ましくは０．２〜２μｍ、特に好ましくは約３００
０Åであり、溝１２の幅が、好ましくは１０〜１０００
μｍ、より好ましくは３０〜３００μｍである。本発明
において、溝１２の形成方法もまた、特に制限されるも
のではなく、公知の方法が使用されるが、エキシマーレ
ーザーを用いた方法が好ましい。
２を示すものである。図３に示されるように、複数の溝
１２は、垂直方向に対して平行に基材１０に形成され、
好ましくは相互に平行であり、この際、隣り合う２列の
溝間の間隔は一定であることが好ましく、溝間の間隔
は、特に制限されず、公知の有機発光層について使用さ
れる間隔が同様にして使用できるが、好ましくは１〜１
００μｍ、より好ましくは３〜３０μｍである。また、
溝１２の深さ及び幅は、特に制限されず、キャビティマ
トリックスの各キャビティの深さ（厚み）及び幅［即
ち、第一の電極ライン及び有機発光層のそれぞれの深さ
（厚み）及び幅］によって適宜選択されるが、具体的に
は、溝１２の深さが、好ましくは０．１〜１０μｍ、よ
り好ましくは０．２〜２μｍ、特に好ましくは約３００
０Åであり、溝１２の幅が、好ましくは１０〜１０００
μｍ、より好ましくは３０〜３００μｍである。本発明
において、溝１２の形成方法もまた、特に制限されるも
のではなく、公知の方法が使用されるが、エキシマーレ
ーザーを用いた方法が好ましい。
【００３１】図４は、複数の溝中に形成される複数の第
一の電極ラインを示すものである。図４に示されるよう
に、各溝１２中に導電性材料が充填されることにより、
第一の電極ライン１４が形成される。この際使用される
導電性材料は、導電性を示すものであれば特に制限され
ず、公知の導電性材料が使用できるが、好ましくはイン
ジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電性材料
が使用される。第一の電極ラインの形成方法としては、
特に制限されず公知の方法が使用できるが、例えば、第
一の電極ラインがＩＴＯ膜から作製される場合には、Ｉ
ＴＯからなる第一の電極ライン（以下、「ＩＴＯ電極ラ
イン」とも称する）は、好ましくは、スパッタ法または
蒸着法によって基材１０にＩＴＯ薄膜を形成し、溝を充
填した後、基材１０表面上におよび溝１２の上面より下
にある余分なＩＴＯ薄膜を、好ましくは化学機械研摩を
用いて、除去（研磨）することによって形成される。本
明細書において、「溝の上面より下にあるインジウム・
スズ酸化物（ＩＴＯ）薄膜の余分な部分を除去する」と
いうことばは、溝に形成された第一の電極の上面（溝と
接しない面）が溝の形成されていない基材の表面と同等
の位置になるように、溝の上面（淵）より下にあるイン
ジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）薄膜の余分な部分を除去
するという意味である。上記工程によって、ＩＴＯ電極
ライン１４は溝中に形成される。
一の電極ラインを示すものである。図４に示されるよう
に、各溝１２中に導電性材料が充填されることにより、
第一の電極ライン１４が形成される。この際使用される
導電性材料は、導電性を示すものであれば特に制限され
ず、公知の導電性材料が使用できるが、好ましくはイン
ジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電性材料
が使用される。第一の電極ラインの形成方法としては、
特に制限されず公知の方法が使用できるが、例えば、第
一の電極ラインがＩＴＯ膜から作製される場合には、Ｉ
ＴＯからなる第一の電極ライン（以下、「ＩＴＯ電極ラ
イン」とも称する）は、好ましくは、スパッタ法または
蒸着法によって基材１０にＩＴＯ薄膜を形成し、溝を充
填した後、基材１０表面上におよび溝１２の上面より下
にある余分なＩＴＯ薄膜を、好ましくは化学機械研摩を
用いて、除去（研磨）することによって形成される。本
明細書において、「溝の上面より下にあるインジウム・
スズ酸化物（ＩＴＯ）薄膜の余分な部分を除去する」と
いうことばは、溝に形成された第一の電極の上面（溝と
接しない面）が溝の形成されていない基材の表面と同等
の位置になるように、溝の上面（淵）より下にあるイン
ジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）薄膜の余分な部分を除去
するという意味である。上記工程によって、ＩＴＯ電極
ライン１４は溝中に形成される。
【００３２】図５Ａは、基材に形成されたキャビティマ
トリックスを示すものであり、図５Ｂは、図５ＡのＡ−
Ａ’方向の断面図である。図５Ａ及びＢに示されるよう
に、キャビティマトリックスが第一の電極ライン１４に
形成される。この際、キャビティマトリックスは複数の
キャビティ１６を有するが、この際、キャビティマトリ
ックスの各キャビティ１４は画素に相当する。キャビテ
ィ１６の大きさは同一であってもあるいは異なるもので
あってもよいが、ほぼ同一の大きさであることが好まし
い。これらのキャビティはまた、第一の電極ライン１４
に均等に配置されることが好ましい。本発明において、
キャビティマトリックスの形成方法は、特に制限されず
公知の方法が使用できるが、例えば、エキシマーレーザ
ーで第一の電極ライン１４の表面を部分的に除去するこ
とによってキャビティマトリックスを形成する方法が好
ましく挙げられる。エキシマーレーザーは高精度を達成
できることにより、各キャビティの位置、形状及び深さ
が正確に制御でき、キャビティ１６の形成中に良好な条
件を提供できるからである。キャビティ１６の深さは、
特に制限されず、キャビティマトリックスの各キャビテ
ィ中に形成される有機発光層の深さ（厚み）によって適
宜選択されるが、好ましくは０．０５〜９μｍ、より好
ましくは０．０５〜１μｍ、特に好ましくは約１５００
Åである。なお、キャビティ１６の幅は、溝１２と同等
である。
トリックスを示すものであり、図５Ｂは、図５ＡのＡ−
Ａ’方向の断面図である。図５Ａ及びＢに示されるよう
に、キャビティマトリックスが第一の電極ライン１４に
形成される。この際、キャビティマトリックスは複数の
キャビティ１６を有するが、この際、キャビティマトリ
ックスの各キャビティ１４は画素に相当する。キャビテ
ィ１６の大きさは同一であってもあるいは異なるもので
あってもよいが、ほぼ同一の大きさであることが好まし
い。これらのキャビティはまた、第一の電極ライン１４
に均等に配置されることが好ましい。本発明において、
キャビティマトリックスの形成方法は、特に制限されず
公知の方法が使用できるが、例えば、エキシマーレーザ
ーで第一の電極ライン１４の表面を部分的に除去するこ
とによってキャビティマトリックスを形成する方法が好
ましく挙げられる。エキシマーレーザーは高精度を達成
できることにより、各キャビティの位置、形状及び深さ
が正確に制御でき、キャビティ１６の形成中に良好な条
件を提供できるからである。キャビティ１６の深さは、
特に制限されず、キャビティマトリックスの各キャビテ
ィ中に形成される有機発光層の深さ（厚み）によって適
宜選択されるが、好ましくは０．０５〜９μｍ、より好
ましくは０．０５〜１μｍ、特に好ましくは約１５００
Åである。なお、キャビティ１６の幅は、溝１２と同等
である。
【００３３】このような工程によって、キャビティマト
リックスは３次元キャビティ構造物として製造される。
以下に詳述するが、次工程として有機発光層をキャビテ
ィ中に充填するが、この工程において画素の有機発光層
の位置、形状及び厚みを正確に制御してディスプレイパ
ネルの良好な条件を設定できるように、キャビティ１６
の形成工程中に、キャビティの位置、形状及び深さを正
確に制御することが好ましいが、この点を考慮すると、
エキシマーレーザーを用いてキャビティマトリックスを
形成することが特に好ましい。また、上記工程によっ
て、各画素の有機発光層を別個に形成できるため、ＰＭ
ＯＬＥＤディスプレイパネルが従来有していたクロスト
ーク問題を防止することができる。さらに、有機発光層
は実装工程後にキャビティ中に充填されるため、実装の
不良から生じる問題もまた解消できるという利点もあ
る。換言すると、有機発光層は簡単に減衰せず、ディス
プレイパネルの収率及び寿命を向上できるのである。
リックスは３次元キャビティ構造物として製造される。
以下に詳述するが、次工程として有機発光層をキャビテ
ィ中に充填するが、この工程において画素の有機発光層
の位置、形状及び厚みを正確に制御してディスプレイパ
ネルの良好な条件を設定できるように、キャビティ１６
の形成工程中に、キャビティの位置、形状及び深さを正
確に制御することが好ましいが、この点を考慮すると、
エキシマーレーザーを用いてキャビティマトリックスを
形成することが特に好ましい。また、上記工程によっ
て、各画素の有機発光層を別個に形成できるため、ＰＭ
ＯＬＥＤディスプレイパネルが従来有していたクロスト
ーク問題を防止することができる。さらに、有機発光層
は実装工程後にキャビティ中に充填されるため、実装の
不良から生じる問題もまた解消できるという利点もあ
る。換言すると、有機発光層は簡単に減衰せず、ディス
プレイパネルの収率及び寿命を向上できるのである。
【００３４】図６Ａは、キャビティマトリックスの各キ
ャビティに形成された有機発光層を示すものであり、図
６Ｂは、図６ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。図６Ａ
及びＢに示されるように、本実施態様では、紅燈有機発
光層２０ａを形成するものであるが、紅燈有機発光層２
０ａである必要はなく、紅燈有機発光層、青灯有機発光
層及び緑灯有機発光層から適宜選択され、また、本実施
態様によるように単色の有機発光層（有機発光マトリッ
クス）である必要もなく、下記図７で説明されるような
３原色（フルカラー）の有機発光マトリックス、または
紅燈有機発光層、青灯有機発光層及び緑灯有機発光層か
ら適宜選択された２色の有機発光マトリックスが基材に
形成されてもよい。なお、本明細書では、紅燈有機発光
層２０ａ、青灯有機発光層２０ｂ及び緑灯有機発光層２
０ｃを一括して「有機発光層２０」とも称する。さら
に、本発明において、紅燈有機発光層、青灯有機発光層
及び緑灯有機発光層の材料も特に制限されず、各色に関
して公知である有機発光層用の材料が使用される。
ャビティに形成された有機発光層を示すものであり、図
６Ｂは、図６ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。図６Ａ
及びＢに示されるように、本実施態様では、紅燈有機発
光層２０ａを形成するものであるが、紅燈有機発光層２
０ａである必要はなく、紅燈有機発光層、青灯有機発光
層及び緑灯有機発光層から適宜選択され、また、本実施
態様によるように単色の有機発光層（有機発光マトリッ
クス）である必要もなく、下記図７で説明されるような
３原色（フルカラー）の有機発光マトリックス、または
紅燈有機発光層、青灯有機発光層及び緑灯有機発光層か
ら適宜選択された２色の有機発光マトリックスが基材に
形成されてもよい。なお、本明細書では、紅燈有機発光
層２０ａ、青灯有機発光層２０ｂ及び緑灯有機発光層２
０ｃを一括して「有機発光層２０」とも称する。さら
に、本発明において、紅燈有機発光層、青灯有機発光層
及び緑灯有機発光層の材料も特に制限されず、各色に関
して公知である有機発光層用の材料が使用される。
【００３５】本発明において、有機発光層２０は、公知
の方法、例えば、インクジェット印刷法によって、各キ
ャビティ１６中に被覆して、有機発光マトリックスを形
成できる。または、有機発光マトリックスを形成する工
程として、熱蒸発法を化学機械研摩法と組み合わせた方
法を使用してもよい。より具体的には、熱蒸発を用い
て、有機発光層２０を基材１０及びキャビティ１６に形
成し（即ち、基材に有機発光層を形成して、キャビティ
には有機発光層を充填し）、基材１０表面におよびキャ
ビティ１６の上面を超えてある有機発光層の余分な部分
を化学機械研摩を用いて除去することによって、有機発
光マトリックスを形成する。
の方法、例えば、インクジェット印刷法によって、各キ
ャビティ１６中に被覆して、有機発光マトリックスを形
成できる。または、有機発光マトリックスを形成する工
程として、熱蒸発法を化学機械研摩法と組み合わせた方
法を使用してもよい。より具体的には、熱蒸発を用い
て、有機発光層２０を基材１０及びキャビティ１６に形
成し（即ち、基材に有機発光層を形成して、キャビティ
には有機発光層を充填し）、基材１０表面におよびキャ
ビティ１６の上面を超えてある有機発光層の余分な部分
を化学機械研摩を用いて除去することによって、有機発
光マトリックスを形成する。
【００３６】また、本発明において、有機発光層２０は
一の有機材料薄膜のみからなるものに限定されるもので
はなく、有機材料薄膜の一以上の層を有するものであっ
てもよい。特に、異なる製品が必要である場合には、有
機発光層２０は、有機薄膜の複数の層から積層体として
構成されるものであってもよい。有機薄膜２０は、例え
ば、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、発
光層（ＥＬ）及び電子輸送層（ＥＴＬ）であってもよ
い。
一の有機材料薄膜のみからなるものに限定されるもので
はなく、有機材料薄膜の一以上の層を有するものであっ
てもよい。特に、異なる製品が必要である場合には、有
機発光層２０は、有機薄膜の複数の層から積層体として
構成されるものであってもよい。有機薄膜２０は、例え
ば、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、発
光層（ＥＬ）及び電子輸送層（ＥＴＬ）であってもよ
い。
【００３７】上記したような工程は、多くのマスク合わ
せ工程やフォトリソグラフィー工程を必要としないた
め、製造プロセスが非常に簡略化できる。
せ工程やフォトリソグラフィー工程を必要としないた
め、製造プロセスが非常に簡略化できる。
【００３８】図７Ａは、基材上に形成されたフルカラー
の（即ち、赤、緑及び青色すべての３原色発光アレイを
有する）有機発光マトリックスを示すものであり、図７
Ｂは、図７ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。図７Ａ及
びＢに示されるように、上記した工程と同様の工程を繰
り返すことによって、緑灯有機発光マトリックスでは緑
灯有機発光層２０ｂが、及び青灯有機発光マトリックス
では青灯有機発光層２０ｃが、それぞれ形成される。
の（即ち、赤、緑及び青色すべての３原色発光アレイを
有する）有機発光マトリックスを示すものであり、図７
Ｂは、図７ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。図７Ａ及
びＢに示されるように、上記した工程と同様の工程を繰
り返すことによって、緑灯有機発光マトリックスでは緑
灯有機発光層２０ｂが、及び青灯有機発光マトリックス
では青灯有機発光層２０ｃが、それぞれ形成される。
【００３９】図８は、同一の水平位置で接続するために
有機発光層に形成された複数の第二の電極ラインを示す
ものである。図８に示されるように、基材１０及び有機
発光層２０ａ、２０ｂ、２０ｃに第二の電極ライン２２
が形成される。この際使用される第二の電極ライン２２
の材料としては、特に制限されず公知の材料が使用でき
るが、例えば、公知の導電性金属が挙げられ、金属薄膜
から作製されることが好ましい。これらの電極ライン２
２は、有機発光層２０ａ、２０ｂ及び２０ｃを接続する
ために水平方向に対して平行に形成される。本発明にお
いて、第二の電極ライン２２の形成方法は、公知の方法
が同様にして使用でき、特に制限されるものではない
が、例えば、熱蒸発やインクジェット印刷が使用でき
る。
有機発光層に形成された複数の第二の電極ラインを示す
ものである。図８に示されるように、基材１０及び有機
発光層２０ａ、２０ｂ、２０ｃに第二の電極ライン２２
が形成される。この際使用される第二の電極ライン２２
の材料としては、特に制限されず公知の材料が使用でき
るが、例えば、公知の導電性金属が挙げられ、金属薄膜
から作製されることが好ましい。これらの電極ライン２
２は、有機発光層２０ａ、２０ｂ及び２０ｃを接続する
ために水平方向に対して平行に形成される。本発明にお
いて、第二の電極ライン２２の形成方法は、公知の方法
が同様にして使用でき、特に制限されるものではない
が、例えば、熱蒸発やインクジェット印刷が使用でき
る。
【００４０】
【発明の効果】上述したように、本発明は、（ｉ）垂直
方向に対して平行である、複数の溝を基材に形成し；該
溝に複数の第一の電極ラインを形成し；該第一の電極ラ
インにキャビティマトリックスを形成し；該キャビティ
マトリックスのキャビティ中に有機発光層を充填して、
有機発光マトリックスを形成し；さらに、該有機発光層
を同一の水平位置で接続するために水平方向に対して平
行である、複数の第二の電極ラインを基材及び有機発光
層に形成する工程からなる、発光ディスプレイアレイが
基材に形成される、ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造
方法；（ｉｉ）（ａ）垂直方向に対して平行である、複
数の溝を基材に形成し；（ｂ）該溝に複数の第一の電極
ラインを形成し；（ｃ）該第一の電極ラインにキャビテ
ィマトリックスを形成し；（ｄ）該キャビティマトリッ
クスのキャビティ中に有機発光層を充填して、有機発光
マトリックスを形成し；上記（ａ）から（ｄ）の工程を
３回繰り返して、赤−緑−青の３原色の有機発光マトリ
ックスを形成し；さらに、該有機発光層を同一の水平位
置で接続するために水平方向に対して平行である、複数
の第二の電極ラインを基材及び有機発光層に形成する工
程からなる、フルカラーの発光ディスプレイアレイが基
材に形成される、ＯＬＥＤディスプレイアレイの製造方
法；ならびに（ｉｉｉ）垂直方向に対して平行である、
複数の溝が形成される基材；該溝に充填される複数の第
一の電極ライン；キャビティマトリックスの各キャビテ
ィは有機発光層で充填される、該電極ライン上に形成さ
れるキャビティマトリックス；および該有機発光層を同
一の水平位置で接続するために水平方向に対して平行で
あり、基材及び有機発光層に形成される複数の第二の電
極ラインからなる、ＯＬＥＤディスプレイパネルに関す
るものである。
方向に対して平行である、複数の溝を基材に形成し；該
溝に複数の第一の電極ラインを形成し；該第一の電極ラ
インにキャビティマトリックスを形成し；該キャビティ
マトリックスのキャビティ中に有機発光層を充填して、
有機発光マトリックスを形成し；さらに、該有機発光層
を同一の水平位置で接続するために水平方向に対して平
行である、複数の第二の電極ラインを基材及び有機発光
層に形成する工程からなる、発光ディスプレイアレイが
基材に形成される、ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造
方法；（ｉｉ）（ａ）垂直方向に対して平行である、複
数の溝を基材に形成し；（ｂ）該溝に複数の第一の電極
ラインを形成し；（ｃ）該第一の電極ラインにキャビテ
ィマトリックスを形成し；（ｄ）該キャビティマトリッ
クスのキャビティ中に有機発光層を充填して、有機発光
マトリックスを形成し；上記（ａ）から（ｄ）の工程を
３回繰り返して、赤−緑−青の３原色の有機発光マトリ
ックスを形成し；さらに、該有機発光層を同一の水平位
置で接続するために水平方向に対して平行である、複数
の第二の電極ラインを基材及び有機発光層に形成する工
程からなる、フルカラーの発光ディスプレイアレイが基
材に形成される、ＯＬＥＤディスプレイアレイの製造方
法；ならびに（ｉｉｉ）垂直方向に対して平行である、
複数の溝が形成される基材；該溝に充填される複数の第
一の電極ライン；キャビティマトリックスの各キャビテ
ィは有機発光層で充填される、該電極ライン上に形成さ
れるキャビティマトリックス；および該有機発光層を同
一の水平位置で接続するために水平方向に対して平行で
あり、基材及び有機発光層に形成される複数の第二の電
極ラインからなる、ＯＬＥＤディスプレイパネルに関す
るものである。
【００４１】したがって、本発明の方法によれば、各画
素の有機発光層が分離して形成されるので、従来、受動
マトリックス有機発光ダイオード（ＰＭＯＬＥＤ）が有
していたクロストークの問題が解消できる。これによ
り、従来多くのマスク工程を必要としていた複雑な方法
が顕著に簡略化することが可能になった。
素の有機発光層が分離して形成されるので、従来、受動
マトリックス有機発光ダイオード（ＰＭＯＬＥＤ）が有
していたクロストークの問題が解消できる。これによ
り、従来多くのマスク工程を必要としていた複雑な方法
が顕著に簡略化することが可能になった。
【００４２】また、本発明の方法において、溝及びキャ
ビティマトリックスをエキシマーレーザーを用いて形成
する際には、キャビティの位置、形状及び厚みを正確に
制御できるため、画素の有機発光層の位置、形状及び厚
みが正確に制御することが可能になった。これにより、
高品質のディスプレイパネルが製造できる。
ビティマトリックスをエキシマーレーザーを用いて形成
する際には、キャビティの位置、形状及び厚みを正確に
制御できるため、画素の有機発光層の位置、形状及び厚
みが正確に制御することが可能になった。これにより、
高品質のディスプレイパネルが製造できる。
【００４３】さらに、有機発光層は実装工程後にキャビ
ティ中に充填されるので、実装の不良から生じる問題が
解消できる。これにより、実装性能が改善され、ゆえ
に、ＯＬＥＤがより優れた品質になり、及びより寿命が
長くなるという利点がある。
ティ中に充填されるので、実装の不良から生じる問題が
解消できる。これにより、実装性能が改善され、ゆえ
に、ＯＬＥＤがより優れた品質になり、及びより寿命が
長くなるという利点がある。
【００４４】本発明を、このように説明してきたが、多
様に変更できることは自明である。このような変更は本
発明の概念を逸脱しないものと考えられ、当業者に自明
であるようなすべてのこのような修飾は本発明の概念い
含まれるものと解される。
様に変更できることは自明である。このような変更は本
発明の概念を逸脱しないものと考えられ、当業者に自明
であるようなすべてのこのような修飾は本発明の概念い
含まれるものと解される。
【図１】図１は、公知のＯＬＥＤの構造を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】図２は、基材を示すものである。
【図３】図３は、基材に形成された複数の溝を示すもの
である。
である。
【図４】図４は、複数の溝中に形成される複数の第一の
電極ラインを示すものである。
電極ラインを示すものである。
【図５】図５Ａは、基材に形成されたキャビティマトリ
ックスを示すものであり、図５Ｂは、図５ＡのＡ−Ａ’
方向の断面図である。
ックスを示すものであり、図５Ｂは、図５ＡのＡ−Ａ’
方向の断面図である。
【図６】図６Ａは、キャビティマトリックスの各キャビ
ティに形成された有機発光層を示すものであり、図６Ｂ
は、図６ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。
ティに形成された有機発光層を示すものであり、図６Ｂ
は、図６ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。
【図７】図７Ａは、基材上に形成されたフルカラーの
（即ち、赤、緑及び青色すべての３原色発光アレイを有
する）有機発光マトリックスを示すものであり、図７Ｂ
は、図７ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。
（即ち、赤、緑及び青色すべての３原色発光アレイを有
する）有機発光マトリックスを示すものであり、図７Ｂ
は、図７ＡのＡ−Ａ’方向の断面図である。
【図８】図８は、有機発光層を同一の水平位置で接続す
るために有機発光層に形成された複数の第二の電極ライ
ンを示すものである。
るために有機発光層に形成された複数の第二の電極ライ
ンを示すものである。
１…基材、
２…アノード、
３…有機発光層、
４…カソード、
１０…基材、
１２…溝、
１４…第一の電極ライン、
１６…キャビティ、
２０ａ…紅燈有機発光層、
２０ｂ…緑灯有機発光層、
２０ｃ…青灯有機発光層、
２２…第二の電極ライン。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ
33/22 33/22 Ｚ
(72)発明者 陳 保 宏
台灣高雄縣鳳山市▲過▼常路251巷７號
Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB11 AB17 AB18 BA06
CA00 CB01 CC04 DA01 DB03
EB00 FA01
5C094 AA09 AA31 AA42 AA43 BA12
BA27 CA19 CA20 CA24 DA13
DB01 DB04 EA05 EB02 FA01
FA02 FB01 FB12 FB20 GB10
5G435 AA02 AA04 AA14 AA17 BB05
CC09 CC12 HH12 HH20 KK05
KK10
Claims (15)
- 【請求項１】 垂直方向に対して平行である、複数の溝
を基材に形成し；該溝に複数の第一の電極ラインを形成
し；該第一の電極ラインにキャビティマトリックスを形
成し；該キャビティマトリックスのキャビティ中に有機
発光層を充填して、有機発光マトリックスを形成し；さ
らに、該有機発光層を同一の水平位置で接続するために
水平方向に対して平行である、複数の第二の電極ライン
を基材及び有機発光層に形成する工程からなる、発光デ
ィスプレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤディス
プレイパネルの製造方法。 - 【請求項２】 該第一の電極ラインはインジウム・スズ
酸化物膜から作製されかつ該第二の電極ラインは金属薄
膜から作製される、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 該溝及び該キャビティマトリックスはエ
キシマーレーザーを用いて形成される、請求項１または
２に記載の方法。 - 【請求項４】 溝に第一の電極ライン及びキャビティマ
トリックスを形成する工程が、基材にインジウム・スズ
酸化物薄膜を被覆することにより、溝をインジウム・ス
ズ酸化物薄膜で充填し、さらに化学機械研摩を用いて基
材表面上におよび溝の上面より下にあるインジウム・ス
ズ酸化物薄膜の余分な部分を除去することからなる、請
求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５】 該有機発光層はインクジェット印刷によ
ってキャビティ毎に形成される、請求項１〜４のいずれ
か１項に記載の方法。 - 【請求項６】 キャビティマトリックスのキャビティ中
に有機発光層を充填することにより有機発光マトリック
スを形成する工程が、熱蒸発を用いて基材に有機発光層
を形成し、キャビティを有機発光層で充填し；さらに化
学機械研摩を用いて基材表面上におよびキャビティの上
面より下にある有機発光層の余分な部分を除去すること
からなる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項７】 （ａ）垂直方向に対して平行である、複
数の溝を基材に形成し； （ｂ）該溝に複数の第一の電極ラインを形成し； （ｃ）該第一の電極ラインにキャビティマトリックスを
形成し； （ｄ）該キャビティマトリックスのキャビティ中に有機
発光層を充填して、有機発光マトリックスを形成し；上
記（ａ）から（ｄ）の工程を３回繰り返して、赤−緑−
青の３原色の有機発光マトリックスを形成し；さらに、
該有機発光層を同一の水平位置で接続するために水平方
向に対して平行である、複数の第二の電極ラインを基材
及び有機発光層に形成する工程からなる、フルカラーの
発光ディスプレイアレイが基材に形成される、ＯＬＥＤ
ディスプレイアレイの製造方法。 - 【請求項８】 該第一の電極ラインはインジウム・スズ
酸化物膜から作製されかつ該第二の電極ラインは金属薄
膜から作製される、請求項７に記載の方法。 - 【請求項９】 該溝及び該キャビティマトリックスはエ
キシマーレーザーを用いて形成される、請求項７または
８に記載の方法。 - 【請求項１０】 溝に第一の電極ライン及びキャビティ
マトリックスを形成する工程が、基材にインジウム・ス
ズ酸化物薄膜を被覆することにより、溝をインジウム・
スズ酸化物薄膜で充填し、さらに化学機械研摩を用いて
基材表面上におよび溝の上面より下にあるインジウム・
スズ酸化物薄膜の余分な部分を除去することからなる、
請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１１】 該有機発光層はインクジェット印刷に
よってキャビティ毎に形成される、請求項７〜１０のい
ずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１２】 キャビティマトリックスのキャビティ
中に有機発光層を充填することにより有機発光マトリッ
クスを形成する工程が、熱蒸発を用いて基材に有機発光
層を形成し、キャビティを有機発光層で充填し；さらに
化学機械研摩を用いて基材表面上におよびキャビティの
上面より下にある有機発光層の余分な部分を除去するこ
とからなる、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の方
法。 - 【請求項１３】 垂直方向に対して平行である、複数の
溝が形成される基材；該溝に充填される複数の第一の電
極ライン；キャビティマトリックスの各キャビティは有
機発光層で充填される、該電極ライン上に形成されるキ
ャビティマトリックス；および該有機発光層を同一の水
平位置で接続するために水平方向に対して平行であり、
基材及び有機発光層に形成される複数の第二の電極ライ
ンからなる、ＯＬＥＤディスプレイパネル。 - 【請求項１４】 該第一の電極ラインはインジウム・ス
ズ酸化物膜から作製されかつ該第二の電極ラインは金属
薄膜から作製される、請求項１３に記載のＯＬＥＤディ
スプレイパネル。 - 【請求項１５】 該有機発光層は複数の有機薄膜からな
る、請求項１３または１４に記載のＯＬＥＤディスプレ
イパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001246708A JP2003068450A (ja) | 2001-08-15 | 2001-08-15 | Ｏｌｅｄディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001246708A JP2003068450A (ja) | 2001-08-15 | 2001-08-15 | Ｏｌｅｄディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003068450A true JP2003068450A (ja) | 2003-03-07 |
Family
ID=19076197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001246708A Pending JP2003068450A (ja) | 2001-08-15 | 2001-08-15 | Ｏｌｅｄディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003068450A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100770576B1 (ko) | 2004-12-15 | 2007-10-26 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 유기 전계 발광 소자 |
| JP2015052742A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 画像表示装置およびその製造方法 |
| CN105303969A (zh) * | 2015-11-19 | 2016-02-03 | 合一智能科技（深圳）有限公司 | 显示模组及其制造方法 |
| WO2020237827A1 (zh) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 有机发光二极管显示面板 |
-
2001
- 2001-08-15 JP JP2001246708A patent/JP2003068450A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100770576B1 (ko) | 2004-12-15 | 2007-10-26 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 유기 전계 발광 소자 |
| JP2015052742A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 画像表示装置およびその製造方法 |
| CN105303969A (zh) * | 2015-11-19 | 2016-02-03 | 合一智能科技（深圳）有限公司 | 显示模组及其制造方法 |
| CN105303969B (zh) * | 2015-11-19 | 2017-11-24 | 合一智能科技（深圳）有限公司 | 显示模组及其制造方法 |
| WO2020237827A1 (zh) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 有机发光二极管显示面板 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050502 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060606 |