JP2000056707A - 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
有機elディスプレイパネル及びその製造方法Info
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Abstract
ELディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 有機ELディスプレイパネルは、(m×
n)個のサブパネルに分離されたカラム(column)とロー
(row)のマトリックス(matrix)に、互いに電気的に絶縁
された複数個の導電層からなる複数個の第1、第2電極
がそれぞれ配列され、複数個の第1、第2電極の間に複
数個の発光部が積層される。
Description
時に光を発する有機EL素子からなる有機EL(electro
luminescent)ディスプレイパネルに関する。
mitting Diode: LED)とも呼ばれる有機EL素子の技術
が速い速度で発展しており、既にいくつかの試製品が発
表されている。
ス状にアドレス可能であり、15V以上の低電圧でも駆
動可能であるという長所があった。また、有機EL素子
は、視野角が広く、プラスティックのように可撓性(fle
xible)のある透明基板上にも形成可能であり、このため
次代の平板ディスプレイ(Flat Panel Display: FPD)に
適した素子である。更に、よく知られているLCD(Liq
uid Crystal Display)に比べてバックライト(backligh
t)を必要としないため、電力消耗が少ないという長所も
あった。
一般的に無機EL素子とは動作原理の面で大きな違いが
ある。
れた電子が発光体(luminescent impurity)に衝突して励
起され、励起された発光体が基底状態に落ちながら発光
するのに対して、有機EL素子は、陰極及び陽極から各
々注入された電子と正孔とが結合して生成されたエクス
ィトン(exciton)が励起状態から基底状態に落ちながら
発光する。このような有機EL素子は、今まで発光効率
を改善させ且つ多様な色を作り出すために活発に研究さ
れ、今後有機EL素子の商業化のために生産性、均一
性、信頼性等の研究に更に努力を注がなければならな
い。
用するためには、全体的なディスプレイ画面から均一な
光が発散されなければならない。このためには、まず適
切な蒸着装備を用いて多層膜からなる有機機能層(organ
ic function layers)をパネルの全面に均一に形成する
必要がある。次に、パネル駆動による問題点を解決しな
ければならない。これについて更に詳細に説明する。有
機ELディスプレイパネルを駆動する最も簡単な方法
は、シンプルパッシブマトリックス(simple passive ma
trix)方式であり、直交する二つの電極の間に有機EL
層を形成する構造を有する。この駆動方式では、各々の
有機EL素子がディスプレイ素子及びスイッチング素子
の役割を共に行う。このような駆動モードでは、各々の
有機EL素子がダイオードのような非線形電流−電圧の
特性を有するため、理論的にはマルチプレックス(multi
plexing)による駆動が可能である。
ブマトリックスアドレシング(passive matrix addressi
ng)形態の大型有機ELディスプレイパネルを駆動する
には下記のような難しさがあった。
ないため、非常に高い瞬間最高輝度(peak luminance)を
必要とし、ディスプレイパネルのロー(row)の個数が制
限を受ける。必要な瞬間最高輝度は(ロー電極の数×平
均輝度)に比例する。例えば、パネルの平均輝度の10
0cd/m2を得ようとするとき、もしも瞬間最高輝度
が50、000cd/m2であればロー電極の数は最大
500個、瞬間最高輝度が10、000cd/m2であ
れば最大100個となる。現在の技術の水準では、1
0、000cd/m2程度の輝度で長時間駆動しても寿
命が急激に減少し、将来発光効率が改善されるとしても
50、000cd/m2で駆動するのは無理である。従
って、パッシブマトリックス方式によって駆動可能な最
大のロー電極の数は100〜200個程度と見た方が妥
当である。
umn)及びロー(row)のバス電極に沿って極めて大きなI
R電圧降下が発生してパネルの明るさが均一でなくな
る。
遅延時間の問題である。典型的な透明電極物質であるI
TO(Indium Tin Oxide)は一般金属に比べて抵抗がかな
り大きく、有機層は非常に薄く(通常、100nm程
度)静電容量(capacitance)が比較的に大きいため、全
体的に素子のRC定数が大きい。パネルのサイズが大き
くなる程もっと問題が大きくなる。
ンジスタ液晶表示装置(TFT-LCD)のようなアクティブア
ドレシング(active addressing)駆動方式を導入しなけ
ればならない。しかし、アクティブマトリックスEL
(AM−EL)の制作には費用が高くかかるため、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)等の他のディスプレ
イ技術との競争から劣る。このため、パッシブマトリッ
クス駆動方式を採っても上記問題点を解決する必要があ
る。
されたものであり、その目的は、パッシブマトリックス
駆動の可能な大型有機ELディスプレイパネル及びその
製造方法を提供することにある。
プレイパネルは、(m×n)個のサブパネルに分離され
たカラム(column)とロー(row)のマトリックス(matrix)
に、互いに電気的に絶縁された複数個の導電層で形成さ
れる複数個の第1、第2電極がそれぞれ配列され、複数
個の第1、第2電極の間に複数個の発光部が積層される
ことを特徴とし、そのことにより、上記の目的が達成さ
れる。
と、前記基板上に形成され、第1バス電極にそれぞれ電
気的に連結される複数個の第1電極と、前記第1電極上
に形成され、少なくとも一つの有機EL層を含む有機機
能層と、そして前記有機機能層上に形成され、第2バス
電極にそれぞれ電気的に連結される複数個の第2電極と
を備えることを特徴としてもよい。前記第1、第2バス
電極の各々は各層の間に電気絶縁層を有する積層構造の
一部をなし、積層された前記各層は、1つの第1、第2
電極を備えるか、或いは絶縁物質を挟んだ多数個の前記
第1、第2バス電極を備えることを特徴としてもよい。
前記第1電極の各帯(stripe)に対応する第1バス電極は
少なくとも一位置で電気的にコンタクトされることを特
徴としてもよい。前記第1及び第2バス電極は少なくと
も一つの伝導性物質で形成され、前記基板は透明物質で
形成されることを特徴としてもよい。前記伝導性物質
は、金属、合金、伝導性ポリマーのうち少なくとも一つ
であることを特徴としてもよい。
ル、クローム、銀、金のうち何れか一つであることを特
徴としてもよい。複数個の発光部を備える複数個のサブ
パネルと、 前記サブパネルに対応する複数個の第1電
極と、前記各第1電極に対応してカップリング(couplin
g)される複数個の第1シグナルバスとが形成された基板
と、前記第1電極の最小領域がそれぞれ露出される前記
基板から絶縁されて突出された複数個の第2シグナルバ
スと、前記第1電極の露出された領域上に形成され、少
なくとも一つの有機EL層を含む第1、第2、第3有機
機能層のうち少なくとも一層と、そして前記第1、第
2、第3有機機能層のうち少なくとも一層上に形成さ
れ、前記第2シグナルバスに対応してカップリングされ
る複数個の第2電極と、を備えることを特徴としてもよ
い。
(ここで、n、mは2よりも大きな整数)に配列される
ことを特徴としてもよい。前記第2シグナルバス上に各
々対応して形成される複数個の隔壁を更に備えることを
特徴としてもよい。
されることを特徴としてもよい。
前記第1、第2、第3有機機能層のうち少なくとも何れ
か一つが対応して形成されることを特徴としてもよい。
1シグナルバス上に各々対応して形成される隔壁を更に
備えることを特徴としてもよい。
いに電気的に絶縁された複数個の第1、第2導電層で形
成され、それぞれカラムとローに配列されることを特徴
としてもよい。
成されることを特徴としてもよい。
e)であることを特徴としてもよい。
してもよい。
徴としてもよい。
導電層は、前記長方形状の一面上に複数個の切欠き(not
ch)が形成されることを特徴としてもよい。
属、合金のうち何れか一つで形成されることを特徴とし
てもよい。
り、前記合金はMg:Ag、Al:Liのうち何れか一
つであることを特徴としてもよい。
とも何れか一つの隣接する第1導電層の間にカラム方向
に形成され、対応する第1導電層の第1面と対応する第
1導電層の第2面にそれぞれカップリングされることを
特徴としてもよい。
とも何れか一つの隣接する第2導電層の間にロー方向に
形成され、対応する第2導電層の第1面と対応する第2
導電層の第2面にそれぞれカップリングされることを特
徴としてもよい。
上に形成される少なくとも一本の第1連結線と、前記第
1連結線を覆っている第1絶縁層とを備え、前記各々の
第2シグナルバスは、前記第1導電層上に形成される第
2絶縁層と、前記第1導電層上に形成される少なくとも
一本の第2連結線と、前記第2連結線上に形成される第
3絶縁層とから構成されることを特徴としてもよい。
も一つの伝導性物質で形成されることを特徴としてもよ
い。
リマーのうち少なくとも一つであることを特徴としても
よい。
クローム、銀、金のうち何れか一つであることを特徴と
してもよい。
本は前記対応する第1導電層の第1面の全体にコンタク
トされ、前記第2連結線は対応する第2導電層の第1面
の全体にコンタクトされることを特徴としてもよい。
第1連結線が一本以上の時に隣接する第1連結線を絶縁
させてやり、前記第3絶縁層は、各第2シグナルバスの
第2連結線が一本以上の時に隣接する第2連結線を絶縁
させてやることを特徴としてもよい。
くとも何れか一本は垂直に積層されることを特徴として
もよい。
造方法は、基板上に互いに電気的に絶縁された複数個の
第1電極をロー及びカラムの配列状に形成する段階と、
前記対応する第1電極にカップリングされるように、カ
ラム方向に隣接する第1電極の間に複数個の第1シグナ
ルバスを形成する段階と、前記第1電極の最小領域がそ
れぞれ露出される前記基板から絶縁されて突出されるよ
うに、前記ロー方向に複数個の第2シグナルバスを形成
する段階と、前記第1電極の露出された領域上に、少な
くとも一つの有機EL層を含む第1、第2、第3有機機
能層のうち少なくとも一層を形成する段階と、第1、第
2、第3有機機能層のうち少なくとも一層上に、前記第
2シグナルバスに対応してカップリングされるように複
数個の第2電極を形成する段階とを備えることを特徴と
し、そのことにより、上記の目的が達成される。前記少
なくとも一本の第2連結線の先端には、前記対応する第
1、第2、第3有機機能層内に形成された開口部を介し
て対応する第2電極がカップリングされることを特徴と
してもよい。
角にバス電極が形成されることを特徴としてもよい。
するサブピクセルに対応する第1導電層は前記長方形状
の一面上に複数個の切欠き(notch)を含むことを特徴と
してもよい。
て限定された領域へ突出されることを特徴としてもよ
い。
スプレイパネル及びその製造方法を添付図面に基づいて
説明する。
パネルを示す平面図である。同図に示すように、有機E
Lディスプレイパネル1は、2m個のカラム(column)と
2n個のロー(row)とを有する、つまり(2m×2n)
個のサブパネル(sub-panel)2からなる。大型パネルを
パッシブアドレシング(passive addressing)方式で駆動
するに際して生じる問題点を除去するべく、各サブパネ
ル2は分離駆動される。
ルを有するディスプレイパネルを示す断面図である。こ
の一実施例の制作過程を図3〜図14を参照して説明す
る。まず、図3に示すように、透明絶縁基板3上にIT
O(Indium Tin Oxide)のような透明導電膜を形成し、フ
ォトリソグラフィ(photolithography)工程で透明導電膜
をパターニングしてそれぞれ複数個の帯(stripe)4を有
する第1電極を形成する。ここで、長さ方向から見ると
き、一電極の帯が4本の短い帯に分離されている点か
ら、一般的なマトリックスアドレシング(matrix addres
sing)駆動方式で形成される第1電極の帯とは構造的に
相違する。第1電極の各帯4は後続工程で形成される第
2電極の帯とともにサブパネル2をなして個別に駆動さ
れ、このためには各々の第1、第2電極の帯は互いに電
気的に絶縁されなければならない。次に、透明基板3上
に、第1、第2電極との電気的な連結のための複数個の
コンタクトパッド(contact pad)5、6を形成する。こ
のコンタクトパッド5、6は第1電極の帯4の形成時に
共に形成してもよい。
を形成して第1電極の帯4とそれに対応するコンタクト
パッド5、6とを連結させる。この際、外側の帯4−a
とそれに対応するコンタクトパッド5とは短い第1バス
電極7−aにより連結される。この短い連結線7−a
は、このステップで別に作らずに、図3の工程において
第1電極の帯の形成のためのITOのパターニング時
に、外側の帯4−aとそれに対応するコンタクトパッド
5とを連結している形態に予め形成してもよい。内側の
帯4−bとそれに対応するコンタクトパッド5とは長い
第1バス電極7−bにより連結される。ここで、第1バ
ス電極としての連結線7−a、7−bは、アルミニウム
又はその合金等のように導電性に優れた金属から形成す
ればよい。
あるが、その中でもリフトオフ(lift-off)工程を用いて
所定の位置にのみ第1バス電極を形成する方法が好まし
い。そして、この過程での第1バス電極のための膜成長
(film growth)方法には、蒸気蒸着(vapor deposition)
法、電子線蒸着(e-beam evaporation)法、RFスパッタ
リング(RF sputtering)法、化学気相蒸着(chemical vap
or deposition)法、スピンコーティング(spin coatin
g)、ディッピング(dipping)、ドクターブレード(Dr. bl
ade)法、電気鍍金(electroplating)、無電解鍍金(elect
roless plating)、スクリーンプリンティング(screen p
rinting)法等を使用可能である。
あり、図5Aの(b)は図5Aの(a)のA−A’線上
の断面図である。
第1バス電極7−a、7−bと第1電極の帯4とが重な
る面積が小さい場合、第1電極の帯4の長辺に沿ってI
R電圧降下現象が表れることがあるが、この現象は第1
バス電極とそれに対応する第1電極の帯4との電気的接
触面積を広げることで解決可能である。すなわち、図5
Bの(a)に示すように、各々の第1バス電極を、対応
する第1電極の帯4の長辺に沿って形成して2つの間の
電気的接触面積を広げることにより、長さ方向の電圧降
下を最小化する。ある意味では、第1バス電極は第1電
極の帯の抵抗を低めてやる補助電極として用いられてい
るとも見られる。これは、第1バス電極の物質に比べ
て、第1電極の帯によく用いられるITOの電気抵抗が
遥かに大きいからである。2つの間の接触は、連続的で
なく、一定の距離おきに一定の長さずつ反復配列する形
態であっても良い。構造設計時、所与の条件内で2つの
間の総接触面積をつまり並んで接触して形成される総長
さを、できるだけ長く且つ長さ方向に均等に分配された
形態に調節することが、電圧降下による明るさの偏差を
減少させるのに有利である。
ス電極上に電気絶縁物質層8を形成する。ここで、電気
絶縁物質層8は機械的且つ化学的な安定性が要求されて
おり、有機又は無機絶縁物質からなり、酸化ケイ素(sil
icon oxide)、窒化ケイ素(silicon nitride)等の無機化
合物が好ましい。この電気絶縁物質層8は、蒸気蒸着(v
apor deposition)法、電子線蒸着(e-beam evaporation)
法、RFスパッタリング(RF sputtering)法、化学気相
蒸着(chemical vapor deposition)法、スピンコーティ
ング(spin coating)、ディッピング(dipping)、ドクタ
ーブレード(Dr. blade)法、電気鍍金(electroplatin
g)、無電解鍍金(electroless plating)、スクリーンプ
リンティング(screen printing)法等を用いて覆える。
れる第2バス電極のための絶縁バッファ層9を形成する
過程を示す図であり、図7Aの(b)は図7Aの(a)
のB−B’線上の断面図である。ここで、バッファ層9
の役割は、第1電極から第2バス電極を電気的に絶縁さ
せるためのことである。このバッファ層9の物質並びに
膜成長方法は、図6の電気絶縁物質層8の場合と同一又
は類似である。さらに、バッファ層9は、図7Bの
(a)、図7Bの(b)、図7Bの(c)に示すよう
に、図6(a)の工程段階で電気絶縁物質層8と共に形
成されてもよい。
(c)に示すように、第2バス電極を第1バス電極に直
交するように形成する。ここで、第2バス電極の役割
は、後続工程で形成される第2電極とコンタクトパッド
6とを電気的に連結させるためのことである。又、第1
バス電極7−aの場合と同じ理由によって短い第2バス
電極10−aは省略可能である。図8(b)に示すよう
に、長い第2バス電極10−bの大部分はバッファ層9
上に形成され、残りの部分は第1電極の帯4にて覆われ
てないオープン領域11上にまで延長されて形成され
る。電気的な短絡を防ぐべく、第2バス電極10−bが
第1電極の帯にて覆われた領域12に接しないように、
注意を払う必要がある。第2バス電極は、第1バス電極
と同一又は類似の物質並びに膜成長方法で形成可能であ
る。
に絶縁層13を形成するが、構造設計に応じてこの絶縁
層13は省略してもよい。この絶縁層13の物質並びに
製造方法は前述した電気絶縁物質層8の場合と同一又は
類似である。構造設計に応じては第2バス電極が第1バ
ス電極よりも先に形成されてもよい。
方法及びディスプレイモード(mode)により様々に選択可
能である。例えば、米国特許第5、701、055号に
提示した電気絶縁隔壁を用いて隣接するピクセルを分離
しようとする場合、第1又は第2バス電極のうち後形成
されたバス電極上に形成された絶縁層上に前記隔壁を形
成する。また、単色ディスプレイ(monochrome display)
用のパネルを制作するためには一連の有機機能層を単純
積層すればよいが、マルチカラー(multi color)又はフ
ルカラー(full color)ディスプレイパネルを制作するた
めには追加的にシャドーマスク(shadow mask)が必要な
場合がある。
ディスプレイパネルを造る工程を察してみると、 (1)まず、隔壁表面上にシャドーマスクを配置する。
ここで、シャドーマスクは、隔壁の間にある第1電極又
は第2電極が露出されるように複数個の開口部を有して
おり、その開口部は各々の電極に整列されている; (2)隔壁の間にある各々の電極上に整列された開口部
を介して第1有機EL物質を蒸着する。例えば、赤色(r
ed)光を発する第1有機機能層を形成する; (3)シャドーマスクを再整列し、前記(2)の過程を
繰り返し行って緑色(green)及び青色(blue)光を発する
第2、第3有機機能層を順次形成する; (4)隔壁及び有機機能層上に少なくとも一つ以上の第
2電極層を形成する。
ーションのための電気絶縁隔壁を形成する過程を示す図
である。同図に示すように、隔壁14は前記絶縁層13
上に形成される。ここで、前記絶縁層13は一種のバッ
ファ層の役割を果たす。次いで、図11に示すように、
A領域とB領域の第2電極を電気的に絶縁させるべく追
加的に隔壁15を形成する。
12(c)に示すように、有機機能層16を積層する。
例えば、緑色発光素子の有機機能層をよく見れば以下の
通りである。
pper phthalocyanine(CuPc)
からなる正孔注入バッファ層; (2)約30nm〜50nmの厚さのN,N’−dip
henyl−N,N’−bis(3−methylph
enyl)−(1,1’−biphenyl)−4,
4’−diamine(TPD)からなる正孔輸送層;
そして (3)約40nm〜60nmの厚さのtris(8−h
ydroxy−quinolate)aluminiu
m(Alq3)からなる発光層; からなる。
nacridone等の発光染料をドープ剤(dopant)と
して約1%程度添加することもある。もしも、フルカラ
ーディスプレイパネルを制作する場合、前述したように
複数個の隔壁及びシャドーマスクを用いて対応するピク
セル上にそれぞれ赤色、緑色、青色の発光物質を順次積
層する方法を用いることもできる。
極10−b’上の有機機能層16をエッチングして第2
バス電極10−b’を露出させる過程を示す図であり、
これは後工程で形成される第2電極と既に形成された第
2バス電極10−b’とを電気的に連結させるためであ
る。ここで、エッチングは、反応性イオンエッチングや
レーザビームエッチング等のドライエッチングを用いる
ことが好ましい。
的なコンタクトのための窓(contactwindow)又は連結パ
ッド(connection pad)10−b’が一つずつ形成された
かに図示されているが、実際には窓の個数は必要に応じ
て例えば各ピクセル当たり一つずつと増えることもでき
る。しかし、大方の場合、窓が各第2バス電極当たり一
つずつあれば足りる。この理由は、一般的にAl、M
g:Ag、Al:Li等の第2電極用物質が第1電極
(ITO)に比べて抵抗が遥かに低いからである。
14(c)に示すように、第2電極17を形成してか
ら、保護膜を覆って一般的なencapsulatio
n工程を行うことにより、パネル制作を完成する。
ディスプレイパネルの制作工程について説明したが、同
じ工程概念を図15に示すような(6×6)個のサブパ
ネルを有する大型ディスプレイパネルの制作にも同じく
適用可能である。このパネルの対称性により、図16に
示すような(3×3)個のサブパネルの制作工程だけで
もその制作工程を充分に説明できる。
ネル用の制作工程に関する図であり、基本的に(4×
4)個のサブパネルの制作工程と類似する。しかし、次
のようないくつかの相違点がある。
サブパネルに比べて各々の第1電極当たりバス電極がも
う1つ形成される必要がある(7−a、7−b、7−
c)。
形成されているが、図25(b)の例に示すように各層
当たりの一バス電極が2層に形成されてもよい。
ブパネルに比べて各々の第2電極当たりバス電極がもう
1つ形成される必要がある(10−a、10−b、10
−c)。
n)個のサブパネルを有する大型ディスプレイパネルの
制作にもそのまま適用できるが、単にこの場合には図2
5(a)、図25(b)のようにバス電極が多層構造に
形成される必要があるだけである。この多層バス電極を
形成するためには薄膜又は厚膜工程技術を用いることが
できる。参考として、図26(a)、図26(b)は第
1、第2バス電極を立体的に示す図である。
は、個別の駆動回路を用いて駆動させるが、さりとて他
の駆動回路から完全に独立的になるものではない。すな
わち、各サブパネルが個別のスキャン及びデータライン
を有しているとしても、他の回路と同期しなければなら
ない。
ル及びその製造方法においては以下のような効果があ
る。
ルに分割されており、各々のサブパネルは個別に駆動可
能であり、大画面ディスプレイの全面にわたって均一の
画面を具現できるという利点がある。
を低コストに大量生産するに適する。
面図である。
パネルを示す平面図である。
コンタクトパッドを形成する過程を示す図である。
ッドとを電気的に連結する過程を示す図である。
5Aの(b)は(a)のA−A’線上の断面図である。
するコンタクトパッドとを電気的に連結する第2方法を
示す図、図5Bの(b)は(a)のA−A’線上の断面
図である。
を示す図、図6(b)は図6(a)のA−A’線上の断
面図である。
ァ層を形成する過程を示す図、図7Aの(b)は図7A
の(a)のB−B’線上の断面図である。
の絶縁層と図7Aの(a)の第2バス電極用の絶縁バッ
ファ層を一度に形成する過程を示す図、図7B(b)、
図7B(c)はそれぞれ図7B(a)のA−A’、B−
B’線上の断面図である。
す図、図8(b)は拡大図、図8(c)は図8(a)の
B−B’線上の断面図である。
過程を示す図、図9(b)は拡大図、図9(c)は図9
(a)のB−B’線上の断面図である。
絶縁させて各サブパネルをピクセレーションするべく電
気絶縁隔壁を形成する過程を示す図、図10(b)は拡
大図、図10(c)は図10(a)のB−B’線上の断
面図である。
させるための電気絶縁隔壁を形成する過程を示す図であ
る。
示す図、図12(b)拡大図、図12(c)は図12
(a)のB−B’線上の断面図である。
有機機能層をエッチングして第2バス電極10−b’を
露出させる過程を示す図、図13(b)は拡大図であ
る。
す図、図14(b)は拡大図、図14(c)は図14
(a)のB−B’線上の断面図である。
パネルを示す図である。
のコンタクトパッドを形成する過程を拡大して示す図で
ある。
るコンタクトパッドとを電気的に連結する過程を示す
図、図17(b)は図17(a)のA−A’線上の断面
図である。
過程を示す図、図18(b)は図18(a)のA−A’
線上の断面図である。
層を形成する過程を示す図、図19(b)は図19
(a)のB−B’線上の断面図である。
を示す図、図20(b)は拡大図、 図20(c)は図
20(a)のB−B’線上の断面図である。
する過程を示す図、図21(b)は拡大図、図21
(c)は図21(a)のB−B’線上の断面図である。
絶縁させて各サブパネルをピクセレーションするための
電気絶縁隔壁、及びC、D、E領域の第2電極をそれぞ
れ電気的に絶縁させるための電気絶縁隔壁を形成する過
程を示す図、図22(b)は拡大図、 図22(c)は
図22(a)のB−B’線上の断面図である。
及び第2バス電極10−b’上の有機機能層をエッチン
グして第2バス電極10−b’を露出させる過程を示す
図、図23(b)は拡大図、図23(c)は図23
(a)のB−B’線上の断面図である。
す図、図24(b)は拡大図、図24(c)は図24
(a)のB−B’線上の断面図である。
つの第2バス電極を有する積層構造を示す図、図25
(b)は一層当たり1つの第2バス電極を有する積層構
造を示す図である。
5(a)及び図25(b)の第1、第2バス電極を立体
的に示す図である。
Claims (35)
- 【請求項1】 (m×n)個のサブパネルに分離された
カラム(column)とロー(row)のマトリックス(matrix)
に、互いに電気的に絶縁された複数個の導電層で形成さ
れる複数個の第1、第2電極がそれぞれ配列され、 複数個の第1、第2電極の間に複数個の発光部が積層さ
れることを特徴とする有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項2】 前記有機ELディスプレイパネルは、 基板と、 前記基板上に形成され、第1バス電極にそれぞれ電気的
に連結される複数個の第1電極と、 前記第1電極上に形成され、少なくとも一つの有機EL
層を含む有機機能層と、そして前記有機機能層上に形成
され、第2バス電極にそれぞれ電気的に連結される複数
個の第2電極とを備えることを特徴とする請求項1記載
の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項3】 前記第1、第2バス電極の各々は各層の
間に電気絶縁層を有する積層構造の一部をなし、 積層された前記各層は、1つの第1、第2電極を備える
か、或いは絶縁物質を挟んだ多数個の前記第1、第2バ
ス電極を備えることを特徴とする請求項2記載の有機E
Lディスプレイパネル。 - 【請求項4】 前記第1電極の各帯(stripe)に対応する
第1バス電極は少なくとも一位置で電気的にコンタクト
されることを特徴とする請求項2記載の有機ELディス
プレイパネル。 - 【請求項5】 前記第1及び第2バス電極は少なくとも
一つの伝導性物質で形成され、前記基板は透明物質で形
成されることを特徴とする請求項2記載の有機ELディ
スプレイパネル。 - 【請求項6】 前記伝導性物質は、金属、合金、伝導性
ポリマーのうち少なくとも一つであることを特徴とする
請求項5記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項7】 前記金属は、アルミニウム、銅、ニッケ
ル、クローム、銀、金のうち何れか一つであることを特
徴とする請求項6記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項8】 複数個の発光部を備える複数個のサブパ
ネルと、 前記サブパネルに対応する複数個の第1電極と、前記各
第1電極に対応してカップリング(coupling)される複数
個の第1シグナルバスとが形成された基板と、前記第1
電極の最小領域がそれぞれ露出される前記基板から絶縁
されて突出された複数個の第2シグナルバスと、 前記第1電極の露出された領域上に形成され、少なくと
も一つの有機EL層を含む第1、第2、第3有機機能層
のうち少なくとも一層と、そして前記第1、第2、第3
有機機能層のうち少なくとも一層上に形成され、前記第
2シグナルバスに対応してカップリングされる複数個の
第2電極と、を備えることを特徴とする有機ELディス
プレイパネル。 - 【請求項9】 前記複数個のサブパネルは(n×m)個
(ここで、n、mは2よりも大きな整数)に配列される
ことを特徴とする請求項8記載の有機ELディスプレイ
パネル。 - 【請求項10】 前記第2シグナルバス上に各々対応し
て形成される複数個の隔壁を更に備えることを特徴とす
る請求項8記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項11】 前記各隔壁上には対応する第2電極が
形成されることを特徴とする請求項10記載の有機EL
ディスプレイパネル。 - 【請求項12】 前記対応する第2電極と各隔壁との間
には前記第1、第2、第3有機機能層のうち少なくとも
何れか一つが対応して形成されることを特徴とする請求
項11記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項13】 前記隣接するサブピクセル間に位置す
る第1シグナルバス上に各々対応して形成される隔壁を
更に備えることを特徴とする請求項8記載の有機ELデ
ィスプレイパネル。 - 【請求項14】 前記複数個の第1、第2電極はそれぞ
れ互いに電気的に絶縁された複数個の第1、第2導電層
で形成され、それぞれカラムとローに配列されることを
特徴とする請求項8記載の有機ELディスプレイパネ
ル。 - 【請求項15】 前記複数個の第1導電層は透光性物質
で形成されることを特徴とする請求項14記載の有機E
Lディスプレイパネル。 - 【請求項16】 前記透光性物質はITO(Indium Tin
Oxide)であることを特徴とする請求項15記載の有機E
Lディスプレイパネル。 - 【請求項17】 前記基板は、光が透過されることを特
徴とする請求項8記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項18】 前記第1導電層は長方形状であること
を特徴とする請求項14記載の有機ELディスプレイパ
ネル。 - 【請求項19】 前記対応するサブピクセルに対応する
第1導電層は、前記長方形状の一面上に複数個の切欠き
(notch)が形成されることを特徴とする請求項18記載
の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項20】 前記複数個の第2導電層は、抵抗の低
い金属、合金のうち何れか一つで形成されることを特徴
とする請求項14記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項21】 前記抵抗の低い金属はアルミニウムで
あり、前記合金はMg:Ag、Al:Liのうち何れか
一つであることを特徴とする請求項20記載の有機EL
ディスプレイパネル。 - 【請求項22】 前記複数個の第1シグナルバスは、少
なくとも何れか一つの隣接する第1導電層の間にカラム
方向に形成され、対応する第1導電層の第1面と対応す
る第1導電層の第2面にそれぞれカップリングされるこ
とを特徴とする請求項14記載の有機ELディスプレイ
パネル。 - 【請求項23】 前記複数個の第2シグナルバスは、少
なくとも何れか一つの隣接する第2導電層の間にロー方
向に形成され、対応する第2導電層の第1面と対応する
第2導電層の第2面にそれぞれカップリングされること
を特徴とする請求項22記載の有機ELディスプレイパ
ネル。 - 【請求項24】 前記各々の第1シグナルバスは、前記
基板上に形成される少なくとも一本の第1連結線と、前
記第1連結線を覆っている第1絶縁層とを備え、 前記各々の第2シグナルバスは、前記第1導電層上に形
成される第2絶縁層と、前記第1導電層上に形成される
少なくとも一本の第2連結線と、前記第2連結線上に形
成される第3絶縁層とから構成されることを特徴とする
請求項23記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項25】 前記第1、第2連結線はそれぞれ少な
くとも一つの伝導性物質で形成されることを特徴とする
請求項24記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項26】 前記伝導性物質は、金属、合金、伝導
性ポリマーのうち少なくとも一つであることを特徴とす
る請求項25記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項27】 前記金属はアルミニウム、銅、ニッケ
ル、クローム、銀、金のうち何れか一つであることを特
徴とする請求項26記載の有機ELディスプレイパネ
ル。 - 【請求項28】 前記第1連結線のうち少なくとも何れ
か一本は前記対応する第1導電層の第1面の全体にコン
タクトされ、前記第2連結線は対応する第2導電層の第
1面の全体にコンタクトされることを特徴とする請求項
24記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項29】 前記第1絶縁層は、各第1シグナルバ
スの第1連結線が一本以上の時に隣接する第1連結線を
絶縁させてやり、 前記第3絶縁層は、各第2シグナルバスの第2連結線が
一本以上の時に隣接する第2連結線を絶縁させてやるこ
とを特徴とする請求項24記載の有機ELディスプレイ
パネル。 - 【請求項30】 前記隣接する第1、第2連結線のうち
少なくとも何れか一本は垂直に積層されることを特徴と
する請求項29記載の有機ELディスプレイパネル。 - 【請求項31】 基板上に互いに電気的に絶縁された複
数個の第1電極をロー及びカラムの配列状に形成する段
階と、 前記対応する第1電極にカップリングされるように、カ
ラム方向に隣接する第1電極の間に複数個の第1シグナ
ルバスを形成する段階と、 前記第1電極の最小領域がそれぞれ露出される前記基板
から絶縁されて突出されるように、前記ロー方向に複数
個の第2シグナルバスを形成する段階と、 前記第1電極の露出された領域上に、少なくとも一つの
有機EL層を含む第1、第2、第3有機機能層のうち少
なくとも一層を形成する段階と、 第1、第2、第3有機機能層のうち少なくとも一層上
に、前記第2シグナルバスに対応してカップリングされ
るように複数個の第2電極を形成する段階とを備えるこ
とを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方
法。 - 【請求項32】 前記少なくとも一本の第2連結線の先
端には、前記対応する第1、第2、第3有機機能層内に
形成された開口部を介して対応する第2電極がカップリ
ングされることを特徴とする請求項31記載の有機EL
ディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項33】 前記連結線の先端には前記第2連結線
に直角にバス電極が形成されることを特徴とする請求項
32記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項34】 前記第1導電層は長方形状からなり、
対応するサブピクセルに対応する第1導電層は前記長方
形状の一面上に複数個の切欠き(notch)を含むことを特
徴とする請求項33記載の有機ELディスプレイパネル
の製造方法。 - 【請求項35】 前記バス電極は前記対応する切欠きに
よって限定された領域へ突出されることを特徴とする請
求項34記載の有機ELディスプレイパネルの製造方
法。
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JP22089298A JP4361978B2 (ja) | 1998-08-04 | 1998-08-04 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
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