JP2003058133A - Image display device and its driving method - Google Patents

Image display device and its driving method

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JP2003058133A
JP2003058133A JP2002159149A JP2002159149A JP2003058133A JP 2003058133 A JP2003058133 A JP 2003058133A JP 2002159149 A JP2002159149 A JP 2002159149A JP 2002159149 A JP2002159149 A JP 2002159149A JP 2003058133 A JP2003058133 A JP 2003058133A
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signal line
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宗広 浅見
Yasushi Kubota
靖 久保田
Hajime Washio
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide technology advantageous for downsizing a image display device by reducing an occupancy area of a signal line driving circuit. SOLUTION: N lines of (where n is a natural number equal to or greater than two) signal line are commonly used for a storage circuit and a D/A converting circuit in a signal line driving circuit. By dividing one horizontal scanning interval into n intervals, the storage circuit and the D/A converting circuit conduct processes for respective different signal lines in the divided intervals so that all signal lines are property driven. Thus, the number of the storage circuits in the signal line driving circuit and the number of the D/A converting circuits are reduced to 1/n of a conventional case.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル映像信号
を入力する画像表示装置の駆動方法に関し、前記駆動方
法を用いた画像表示装置に関する。さらに、前記画像表
示装置を用いた電子機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a driving method of an image display device for inputting a digital video signal, and to an image display device using the driving method. Furthermore, the present invention relates to an electronic device using the image display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、多結晶シリコン膜を活性層に用い
た薄膜トランジスタ(TFT)の研究開発が活発に行わ
れている。多結晶シリコン膜を用いたTFTは、非晶質
シリコン膜を用いたTFTと比べて移動度が2桁以上高
いため、TFTのゲート幅を小さく微細化しても回路の
動作に必要な電流値を十分確保できる。よって、アクテ
ィブマトリクス型のフラットパネルディスプレイの画素
部とその駆動回路を同一基板上に一体形成した、システ
ム・オン・パネルの実現が可能である。
2. Description of the Related Art In recent years, research and development of thin film transistors (TFTs) using a polycrystalline silicon film as an active layer have been actively conducted. Since a TFT using a polycrystalline silicon film has a mobility higher than that of a TFT using an amorphous silicon film by two digits or more, even if the gate width of the TFT is made small, the current value necessary for the circuit operation can be reduced. You can secure enough. Therefore, it is possible to realize a system-on-panel in which a pixel portion of an active matrix type flat panel display and its driving circuit are integrally formed on the same substrate.

【0003】システム・オン・パネルの実現は、ディス
プレイの組立工程や検査工程の削減によるコストダウン
を可能にし、また、フラットパネルディスプレイの小型
化、高精細化をも可能にする。
The realization of a system-on-panel makes it possible to reduce the cost by reducing the assembling process and the inspection process of the display, and also enables the miniaturization and high definition of the flat panel display.

【0004】ところで、画像表示装置の駆動回路には、
アナログのビデオ信号を用いて駆動するものと、デジタ
ルのビデオ信号を用いて駆動するものとがある。デジタ
ルのビデオ信号を用いて駆動する駆動回路は、デジタル
方式の放送電波をアナログに変換せずにそのまま駆動回
路に入力することが可能であり、近年のデジタル放送に
対応することができるので有望視されている。
By the way, in the drive circuit of the image display device,
Some are driven by using an analog video signal, and some are driven by using a digital video signal. The drive circuit driven by using a digital video signal can be input to the drive circuit as it is without converting the digital broadcasting radio waves into analog, and it can be applied to recent digital broadcasting, so it is a promising candidate. Has been done.

【0005】デジタルのビデオ信号を用いて駆動するア
クティブマトリクス型画像表示装置の一種である、アク
ティブマトリクス型液晶表示装置の一般的な構成を、図
20に示す。図20に示すように、液晶表示装置は信号
線駆動回路9001、走査線駆動回路9002、画素部
9003、信号線9004、走査線9005、画素TF
T9006、液晶セル9007などによって構成されて
いる。液晶セル9007は、画素電極と、対向電極と、
画素電極と対向電極の間に設けられた液晶とを有してい
る。
FIG. 20 shows a general structure of an active matrix type liquid crystal display device which is a kind of active matrix type image display device driven by using a digital video signal. As shown in FIG. 20, the liquid crystal display device includes a signal line driver circuit 9001, a scan line driver circuit 9002, a pixel portion 9003, a signal line 9004, a scan line 9005, and a pixel TF.
T9006, liquid crystal cell 9007 and the like. The liquid crystal cell 9007 includes a pixel electrode, a counter electrode,
It has a liquid crystal provided between the pixel electrode and the counter electrode.

【0006】信号線駆動回路9001の詳細な構成を図
21に示す。図22は図21に示した信号線駆動回路に
おけるタイミングチャートである。ここでは、k(水
平)×l(垂直)の画素を持つ画像表示装置を例に取っ
て説明する。説明をわかりやすくするため、デジタル映
像信号が3ビットの場合を例示するが、実際の画像表示
装置ではビット数は3には限定しない。また、図21、
図22ではk=640と具体的な数値を用いて示した。
A detailed configuration of the signal line driving circuit 9001 is shown in FIG. FIG. 22 is a timing chart in the signal line drive circuit shown in FIG. Here, an image display device having k (horizontal) × l (vertical) pixels will be described as an example. In order to make the description easy to understand, the case where the digital video signal has 3 bits is illustrated, but the number of bits is not limited to 3 in an actual image display device. In addition, FIG.
In FIG. 22, it is shown by using a specific numerical value of k = 640.

【0007】一般的な信号線駆動回路は主に、シフトレ
ジスタ9100、第1及び第2の記憶回路群9101、
9102、D/A変換回路群9103を有している。シ
フトレジスタ9100は複数のディレイ型フリップフロ
ップ(DFF)を有している。また、第1の記憶回路群
9101及び第2の記憶回路群9102は、それぞれ複
数の第1の記憶回路及び複数の第2の記憶回路を有して
いる。なお、図21では第1の記憶回路として第1のラ
ッチ(LAT1)、第2の記憶回路として第2のラッチ
(LAT2)を用いている。そしてD/A変換回路群9
103は複数のD/A変換回路(DAC)を有してい
る。
A general signal line drive circuit mainly includes a shift register 9100, first and second memory circuit groups 9101,
9102 and a D / A conversion circuit group 9103. The shift register 9100 has a plurality of delay flip-flops (DFF). The first memory circuit group 9101 and the second memory circuit group 9102 each include a plurality of first memory circuits and a plurality of second memory circuits. Note that in FIG. 21, a first latch (LAT1) is used as the first memory circuit and a second latch (LAT2) is used as the second memory circuit. And D / A conversion circuit group 9
Reference numeral 103 has a plurality of D / A conversion circuits (DAC).

【0008】シフトレジスタ9100は、入力された信
号線駆動回路用クロック信号(S−CLK)および信号
線駆動回路用スタートパルス(S−SP)によって、出
力信号のパルスを順次シフトしていく。第1の記憶回路
群9101は、シフトレジスタ9100の出力信号に同
期して、デジタル映像信号を順次記憶する。第2の記憶
回路群9102は、第1の記憶回路群9101の出力を
ラッチパルスに同期して記憶する。D/A変換回路群9
103は、第2の記憶回路群9102の出力信号をアナ
ログ信号に変換する。
The shift register 9100 sequentially shifts the pulse of the output signal in response to the input signal line drive circuit clock signal (S-CLK) and signal line drive circuit start pulse (S-SP). The first memory circuit group 9101 sequentially stores digital video signals in synchronization with the output signal of the shift register 9100. The second memory circuit group 9102 stores the output of the first memory circuit group 9101 in synchronization with the latch pulse. D / A conversion circuit group 9
103 converts the output signal of the second memory circuit group 9102 into an analog signal.

【0009】以下、上記信号線駆動回路のより詳しい構
成及び動作について説明する。前述したシフトレジスタ
9101のDFFの段数(図21に示すDFFの個数に
相当)は、水平方向の画素数がkなので、k+1段とな
る。シフトレジスタの出力信号である制御信号(図21
ではSR−001〜SR−640)は、図22に示すよ
うに、S−CLKの1周期分ずつシフトしたパルスを有
している。制御信号(SR−001〜SR−640)
は、直接またはバッファを介して第1の記憶回路群91
01の第1のラッチ(LAT1)に入力される。
The detailed structure and operation of the signal line drive circuit will be described below. The number of DFF stages of the shift register 9101 (corresponding to the number of DFFs shown in FIG. 21) is k + 1 since the number of pixels in the horizontal direction is k. A control signal which is an output signal of the shift register (see FIG.
Then, SR-001 to SR-640) have pulses shifted by one cycle of S-CLK, as shown in FIG. Control signal (SR-001 to SR-640)
Is a first memory circuit group 91 directly or via a buffer.
01 is input to the first latch (LAT1).

【0010】第1のラッチ(LAT1)は前記制御信号
に同期して、入力された3ビットのデジタル映像信号
(D0〜D2)を記憶する。シフトレジスタ9100か
ら出力される制御信号のパルスが、1ライン分の画素数
kと同じ数だけシフトすることによって、1ライン分の
画素に対応するデジタル映像信号が第1のラッチ(LA
T1)に記憶される。よって、第1のラッチ(LAT
1)は、3(デジタル映像信号のビット数)×k(水平
方向における画素数)必要である。
The first latch (LAT1) stores the input 3-bit digital video signal (D0 to D2) in synchronization with the control signal. The pulse of the control signal output from the shift register 9100 is shifted by the same number as the number k of pixels for one line, so that the digital video signal corresponding to the pixels for one line is transferred to the first latch (LA).
Stored in T1). Therefore, the first latch (LAT
1) requires 3 (the number of bits of the digital video signal) × k (the number of pixels in the horizontal direction).

【0011】次に、帰線期間の間に、入力されたラッチ
パルス(LP)によって、第2の記憶回路群9102の
第2のラッチ(LAT2)が動作し、第1のラッチ(L
AT1)に記憶されたデジタル映像信号(図21、図2
2ではL1−001〜L1−640)が、第2のラッチ
(LAT2)に記憶される。よって、第2のラッチ(L
AT2)も同じく3×k必要である。なお、図21で
は、L1−001〜L1−640を、ビット数の区別は
せずに、対応する画素ごとに番号を付して示した。
Next, during the blanking period, the input latch pulse (LP) causes the second latch (LAT2) of the second memory circuit group 9102 to operate and the first latch (L).
Digital video signal stored in AT1) (FIGS. 21 and 2)
2, L1-001 to L1-640) are stored in the second latch (LAT2). Therefore, the second latch (L
AT2) also requires 3 × k. In FIG. 21, L1-001 to L1-640 are shown by numbering corresponding pixels without distinguishing the number of bits.

【0012】帰線期間が終了し、次の水平走査期間にな
ると、再び、シフトレジスタ9100は動作を始めて制
御信号を出力し、第1のラッチ(LAT1)へのデジタ
ル映像信号(D0〜D2)の入力が開始される。一方、
第2のラッチ(LAT2)に記憶されていたデジタル映
像信号(L2−001〜L2−640)は、D/A変換
回路群9103のD/A変換回路(DAC)においてア
ナログ信号に変換され、各ソース信号線(S1〜S64
0)にアナログ映像信号として入力される。このアナロ
グ映像信号は、各画素の画素TFTがオンすると、液晶
セルの画素電極に書き込まれる。
When the retrace line period ends and the next horizontal scanning period starts, the shift register 9100 again starts operation and outputs a control signal, and the digital video signal (D0 to D2) to the first latch (LAT1). The input of is started. on the other hand,
The digital video signals (L2-001 to L2-640) stored in the second latch (LAT2) are converted into analog signals in the D / A conversion circuit (DAC) of the D / A conversion circuit group 9103, and Source signal line (S1 to S64
0) is input as an analog video signal. This analog video signal is written in the pixel electrode of the liquid crystal cell when the pixel TFT of each pixel is turned on.

【0013】以上の動作によって、画像表示装置は表示
を行なう。
By the above operation, the image display device displays.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上記動作を行うデジタ
ル方式の駆動回路は、アナログ方式に比べてその占有面
積が非常に大きいという欠点がある。デジタル方式で
は、信号が“Hi”または“Lo”の2値であらわせる
というメリットがあるが、その代わりデータ量が膨大に
なり、該データを処理するため回路素子の数も多くな
る。よって、基板における駆動回路の占有面積の増大が
抑えられなくなり、画像表示装置における小型化の大き
な妨げとなっている。
The digital drive circuit that performs the above operation has a drawback that its occupied area is much larger than that of an analog drive circuit. The digital method has an advantage that the signal can be represented by two values of “Hi” or “Lo”, but instead, the amount of data becomes enormous and the number of circuit elements also increases to process the data. Therefore, an increase in the occupied area of the drive circuit on the substrate cannot be suppressed, which greatly hinders downsizing of the image display device.

【0015】また近年、扱う情報量の急激な増加に伴
い、画素数の増大化および画素の高精細化が図られてい
る。しかし、画素数の増加にあわせて、駆動回路が有す
る回路素子の数も増加し、駆動回路の面積が増大するこ
とが予想される。
Further, in recent years, along with the rapid increase in the amount of information to be handled, the number of pixels and the definition of pixels have been increased. However, it is expected that as the number of pixels increases, the number of circuit elements included in the drive circuit also increases and the area of the drive circuit increases.

【0016】ここで、一般に用いられているコンピュー
タの表示解像度の例を画素数と規格名とによって以下に
示す。 画素数 規格名 640×480 VGA 800×600 SVGA 1024×768 XGA 1280×1024 SXGA 1600×1200 UXGA
Here, an example of the display resolution of a commonly used computer is shown below by the number of pixels and the standard name. Number of pixels Standard name 640 × 480 VGA 800 × 600 SVGA 1024 × 768 XGA 1280 × 1024 SXGA 1600 × 1200 UXGA

【0017】例えば、SXGA規格の場合、ビット数を
8とすると、上述した従来の駆動回路では1280本の
信号線に対して、第1の記憶回路、第2の記憶回路がそ
れぞれ10240(8×1280)個必要になる。ま
た、ハイビジョンTV(HDTV)などのような高精細
なテレビ受像機が普及し、コンピュータの世界のみなら
ず、AVの分野においても、高精細な画像が必要になっ
てきている。米国では、地上波デジタル放送がはじま
り、日本においても、デジタル放送の時代が始まること
になる。デジタル放送では画素数1920×1080の
規格が有力であり、駆動回路の縮小が早急に求められて
いる。
For example, in the case of the SXGA standard, assuming that the number of bits is 8, in the above-described conventional drive circuit, for the 1280 signal lines, the first storage circuit and the second storage circuit each have 10240 (8 ×). 1280) are required. Further, high-definition television receivers such as high-definition TV (HDTV) have become widespread, and high-definition images are required not only in the computer world but also in the field of AV. Terrestrial digital broadcasting has begun in the United States, and the age of digital broadcasting will also begin in Japan. In digital broadcasting, the standard of 1920 × 1080 pixels is influential, and reduction of the drive circuit is urgently required.

【0018】しかし、前述したように、信号線駆動回路
の占有面積は大きく、これが画像表示装置の小型化の妨
げになっている。本発明は、そのような問題点を解決す
るために、信号線駆動回路の占有面積を削減し、小型化
に有利な技術を提供するものである。
However, as described above, the signal line drive circuit occupies a large area, which hinders downsizing of the image display device. In order to solve such a problem, the present invention reduces the area occupied by the signal line drive circuit and provides a technique advantageous for downsizing.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は上記問題に鑑
み、信号線駆動回路内の記憶回路やD/A変換回路をn
本(nは2以上の自然数)の信号線で共用する。そし
て、1水平走査期間をn個に分割し、その分割された各
期間に、記憶回路やD/A変換回路がそれぞれ異なる信
号線に対して処理を行なうことで、1水平走査期間内
に、全ての信号線に映像信号を入力することができる。
こうして信号線駆動回路内の記憶回路やD/A変換回路
の数を従来例のn分の1にすることが可能となる。
In view of the above problems, the present invention provides a memory circuit and a D / A conversion circuit in a signal line driving circuit,
It is shared by the signal lines of the book (n is a natural number of 2 or more). Then, one horizontal scanning period is divided into n pieces, and in each of the divided periods, the memory circuit and the D / A conversion circuit perform processing on different signal lines, so that within one horizontal scanning period, Video signals can be input to all signal lines.
In this way, the number of storage circuits and D / A conversion circuits in the signal line drive circuit can be reduced to 1 / n of the conventional example.

【0020】さらに本発明では、該n本の信号線に映像
信号を入力する順序を、1水平走査期間毎または複数の
水平走査期間毎に変えるようにした。
Further, according to the present invention, the order of inputting the video signals to the n signal lines is changed every horizontal scanning period or every plural horizontal scanning periods.

【0021】隣り合う信号線は、直接的あるいは間接的
に容量結合されている。そのため、1つの信号線に映像
信号が書き込まれると、該信号線に隣接する信号線に保
持されていた電位が影響を受け、変化する。つまり、最
初に映像信号を書き込まれた信号線ほど、後から映像信
号が書き込まれた信号線の書き込みの影響を受けて変化
しやすい。
Adjacent signal lines are capacitively coupled directly or indirectly. Therefore, when a video signal is written in one signal line, the potential held in the signal line adjacent to the signal line is affected and changes. That is, the signal line in which the video signal is written first is more likely to change due to the influence of the writing in the signal line in which the video signal is written later.

【0022】よって、映像信号を入力する順序が固定さ
れていると、常に特定の信号線の電位だけが、その理想
値からのずれが大きくなる。そして、電位が変化した信
号線に接続された画素においては、常に他の信号線に接
続された画素と相対的な階調表現が異なってしまい、人
間の目に信号線と平行な縦縞が視認されてしまう。
Therefore, when the order of inputting the video signals is fixed, only the potential of the specific signal line is largely deviated from its ideal value. Then, in the pixel connected to the signal line with the changed potential, the relative gradation expression is always different from the pixel connected to the other signal line, and vertical stripes parallel to the signal line are visually recognized by human eyes. Will be done.

【0023】しかし、本発明では、一定の期間毎(具体
的には1水平走査期間毎、または複数の水平走査期間
毎)に、書き込み電位に変調を受けた画素の水平方向に
おける位置が変わるため、人間の目に縦縞が視認されに
くい。
However, according to the present invention, the position of the pixel modulated in the write potential in the horizontal direction changes every fixed period (specifically, every horizontal scanning period or every plural horizontal scanning periods). , Vertical stripes are hard to see by human eyes.

【0024】なお、映像信号を入力する信号線の順序
は、ランダムでも良いし、ある一定の規則性を有してい
ても良い。また、1水平走査期間ごとに順序を変えなく
とも良く、2水平走査期間ごと、またはそれ以上の水平
走査期間毎に順序を変えるようにしても良い。ただし、
人間の目に縦縞が視認されにくくなる程度に、水平走査
期間の数を設定することが肝要である。フレーム周波数
を高くすると縦縞が見えにくくなることから、フレーム
周波数との兼ね合いで、順序を変える水平走査期間の数
を設定することが好ましい。
The order of the signal lines for inputting the video signals may be random or may have a certain regularity. Further, the order does not have to be changed for every one horizontal scanning period, and the order may be changed for every two horizontal scanning periods or every other horizontal scanning period. However,
It is important to set the number of horizontal scanning periods to the extent that vertical stripes are less visible to the human eye. Since vertical stripes are hard to see when the frame frequency is increased, it is preferable to set the number of horizontal scanning periods in which the order is changed in consideration of the frame frequency.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。ここでは、一般に水平方向と垂直方向の画
素数をそれぞれk、lとした画像表示装置を例にとって
説明する。本実施の形態では、デジタル映像信号が3ビ
ットの場合について説明するが、本発明は3ビットに限
らず、6ビット、8ビットまたはそれ以外のビット数に
ついても適用可能である。また、以下の説明において、
1つのD/A変換回路を共用している信号線の数を示す
パラメータとしてnを用いるが、水平方向の画素数kが
nの倍数ではないとき、新たに画素を適当に付け加え、
水平方向の画素数をkよりも大きいnの倍数k’にす
る。この場合、画素数k’を新たにkと定義すれば良
い。そして、付け加えた画素を仮想的なものとして取り
扱えば、実際の動作には何ら支障をきたさない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. Here, in general, an image display device in which the numbers of pixels in the horizontal direction and the number of pixels in the vertical direction are k and 1 respectively will be described as an example. In this embodiment, the case where the digital video signal has 3 bits will be described, but the present invention is not limited to 3 bits, and can be applied to 6 bits, 8 bits, or any other number of bits. Also, in the following description,
N is used as a parameter indicating the number of signal lines sharing one D / A conversion circuit, but when the number of pixels k in the horizontal direction is not a multiple of n, new pixels are appropriately added,
The number of pixels in the horizontal direction is set to a multiple k'of n larger than k. In this case, the number of pixels k ′ may be newly defined as k. If the added pixel is treated as a virtual one, it does not hinder the actual operation.

【0026】図1に本実施の形態の信号線駆動回路の構
成を、図2にはそのタイミングチャートを示す。ただ
し、図1、図2では水平方向の画素数k=640の具体
例を示している。以下では、一般的な説明としてkなど
の記号を用いるが、〔 〕内にはk=640の場合の具
体的な数字を示すことにする。また図1ではn=4の場
合について示しているが、nは2以上の自然数であれ
ば、この数値に限定されない。
FIG. 1 shows the configuration of the signal line drive circuit of this embodiment, and FIG. 2 shows its timing chart. However, FIGS. 1 and 2 show a specific example in which the number of horizontal pixels k = 640. In the following, symbols such as k will be used for general description, but specific numbers in the case of k = 640 will be shown in []. Although FIG. 1 shows the case where n = 4, n is not limited to this numerical value as long as it is a natural number of 2 or more.

【0027】本実施の形態の信号線駆動回路は、複数の
ディレイ型フリップフロップ(DFF)を有するシフト
レジスタ101と、複数の第1の記憶回路を有する第1
の記憶回路群102と、複数の第2の記憶回路を有する
第2の記憶回路群103と、複数のD/A変換回路(D
AC)を有するD/A変換回路群104と、複数の信号
線選択回路(SEL)とを有する信号線選択回路群10
5とを有している。なお、図1では第1の記憶回路とし
て第1のラッチ(LAT1)、第2の記憶回路として第
2のラッチ(LAT2)を用いている。図1では図21
で示した画像表示装置とは異なり、2種類のラッチ信号
線(LPa、LPb)が供給され、第2の記憶回路の前
半部(1〜80〔1〜k/2n〕段目のDFFに対応す
るLAT2)に第1のラッチ信号線(LPa)が、後半
部(81〜160〔1+(k/2n)〜k/n〕段目の
DFFに対応するLAT2)に第2のラッチ信号線(L
Pb)がそれぞれ接続されている。なお、本発明におい
てラッチ信号線は1つでも良い。
The signal line driver circuit of this embodiment mode has a shift register 101 having a plurality of delay flip-flops (DFF) and a first memory circuit having a plurality of first memory circuits.
Memory circuit group 102, a second memory circuit group 103 having a plurality of second memory circuits, and a plurality of D / A conversion circuits (D
AC) D / A conversion circuit group 104 and a plurality of signal line selection circuits (SEL) signal line selection circuit group 10
5 and 5. Note that in FIG. 1, a first latch (LAT1) is used as the first memory circuit and a second latch (LAT2) is used as the second memory circuit. In FIG. 1, FIG.
Unlike the image display device shown in, two types of latch signal lines (LPa, LPb) are supplied, and the first half of the second memory circuit (corresponding to the DFF in the 1st to 80th [1 to k / 2n] stage) The first latch signal line (LPa) is connected to the second latch signal line (LPa) and the second latch signal line (LATa corresponding to the DFF of the 81st to 160th [1+ (k / 2n) to k / n] stages) is connected to the second latch signal line L
Pb) are respectively connected. In the present invention, the number of latch signal lines may be one.

【0028】具体的には、図1ではシフトレジスタ10
1は、DFFが(k/n)+1段〔161段〕、第1の
記憶回路(LAT1)と第2の記憶回路(LAT2)が
それぞれ3k/n個〔480個〕、そしてD/A変換回
路(DAC)がk/n個〔160個〕で構成されてい
る。図1から判るように、信号線駆動回路を構成する回
路の数が図21に示した信号線駆動回路に比べ、およそ
n分の1〔4分の1〕になる。
Specifically, in FIG. 1, the shift register 10
1, the DFF has (k / n) +1 stages [161 stages], the first memory circuit (LAT1) and the second memory circuit (LAT2) each have 3k / n [480], and D / A conversion. The circuit (DAC) is composed of k / n [160]. As can be seen from FIG. 1, the number of circuits forming the signal line drive circuit is about 1 / n [1/4] of that of the signal line drive circuit shown in FIG.

【0029】次にその動作について、図2を参照しなが
ら説明する。シフトレジスタ101には信号線駆動回路
用スタートパルス(S−SP)と信号線駆動回路用クロ
ック信号(S−CLK)が入力される。図22では1水
平走査期間にS−SPのパルスが1回出現するのに対
し、本実施の形態ではn回〔4回〕出現する。シフトレ
ジスタ101は図22と同様に、入力されたS−SPと
S−CLKによって、出力信号のパルスを順次シフトし
ていく。出力信号は制御信号〔SR−001〜SR−1
60〕として第1の記憶回路(LAT1)に入力する。
Next, the operation will be described with reference to FIG. To the shift register 101, a signal line driver circuit start pulse (S-SP) and a signal line driver circuit clock signal (S-CLK) are input. In FIG. 22, the S-SP pulse appears once in one horizontal scanning period, whereas in the present embodiment, it appears n times [4 times]. As in FIG. 22, the shift register 101 sequentially shifts the pulse of the output signal according to the input S-SP and S-CLK. The output signal is a control signal [SR-001 to SR-1
60] to the first memory circuit (LAT1).

【0030】シフトレジスタ101から出力される制御
信号のパルスに同期して、デジタル映像信号(D0〜D
2)が第1の記憶回路(LAT1)に順次記憶される。
そしてDFFの段数は図21のおよそn分の1〔4分の
1〕になり、本発明では、第1の記憶回路が1水平走査
期間の間にn回〔4回〕の記憶動作を行なう。なお、図
1では、第1の記憶回路群102から第2の記憶回路群
103に入力するデジタル映像信号L1−001〜L1
−160を、ビット数の区別はせずに、対応する信号線
ごとに番号を付して示した。
The digital video signals (D0 to D) are synchronized with the pulses of the control signal output from the shift register 101.
2) are sequentially stored in the first storage circuit (LAT1).
The number of stages of the DFF is about 1 / n [1/4] of FIG. 21, and in the present invention, the first memory circuit performs n [4] memory operations during one horizontal scanning period. . In FIG. 1, digital video signals L1-001 to L1 input from the first memory circuit group 102 to the second memory circuit group 103.
-160 is shown by numbering each corresponding signal line without distinguishing the number of bits.

【0031】図21と異なり、デジタル映像信号L1−
001〜L1−160はそれぞれ、n本の信号線に対応
している。例えば図2では、デジタル映像信号L1−0
01は信号線S1〜Sn〔S1〜S4〕に順に対応して
いる。同様に、デジタル映像信号L1−001〜L1−
160は、対応する信号線の番号によって表すと、順
に、S1〜Sn、Sn+1〜S2n、S2n+1〜S3
n、…、Sk−n+1〜Sk〔S1〜S4、S5〜S
8、S9〜S12、…、S637〜S640〕と表され
る。
Unlike FIG. 21, the digital video signal L1-
Each of 001 to L1-160 corresponds to n signal lines. For example, in FIG. 2, the digital video signal L1-0
01 corresponds in order to the signal lines S1 to Sn [S1 to S4]. Similarly, digital video signals L1-001 to L1-
160 is represented by the numbers of the corresponding signal lines, in order, S1 to Sn, Sn + 1 to S2n, S2n + 1 to S3.
n, ..., Sk-n + 1 to Sk [S1 to S4, S5 to S
8, S9 to S12, ..., S637 to S640].

【0032】1水平走査期間に、デジタル映像信号L1
−i(i=1〜160)は対応するn本の信号線の情報を
出力するが、その対応する信号線の順序は必ずしも固定
されてはいない。本発明では、1水平走査期間毎に、デ
ジタル映像信号L1−i(i=1〜160)が信号線に関
して出力する順番を変える。言い換えると、デジタル映
像信号L1−001〜L1−160のそれぞれに対応す
る信号線の順序を、1水平走査期間毎に変える。この順
序は、後述する信号線選択回路の信号線の選択順と同一
になるようにデジタル映像信号(D0〜D2)のデータ
並びを変換することで実現する。
In one horizontal scanning period, the digital video signal L1
-I (i = 1 to 160) outputs the information of the corresponding n signal lines, but the order of the corresponding signal lines is not necessarily fixed. In the present invention, the order in which the digital video signal L1-i (i = 1 to 160) is output with respect to the signal line is changed every horizontal scanning period. In other words, the order of the signal lines corresponding to each of the digital video signals L1-001 to L1-160 is changed every horizontal scanning period. This order is realized by converting the data arrangement of the digital video signals (D0 to D2) so that it becomes the same as the selection order of the signal lines of the signal line selection circuit described later.

【0033】1水平走査期間に2種類のラッチ信号線
(LPa、LPb)を介してそれぞれ第2の記憶回路群
103に入力されるラッチパルスは、n個づつ、合計で
2n個〔8個〕のパルスが出現する。ラッチパルスは帰
線期間だけでなく、デジタル映像信号が入力されている
期間も入力される。
The number of latch pulses input to the second memory circuit group 103 via the two types of latch signal lines (LPa, LPb) in one horizontal scanning period is n, respectively, 2n in total [8]. The pulse of appears. The latch pulse is input not only during the blanking period but also during the period during which the digital video signal is being input.

【0034】本実施の形態では、(k/2n)段目〔8
0段目〕の第1の記憶回路(LAT1)への、先の信号
線に対応するデジタル映像信号の書き込みが終了してか
ら、1段目の第1の記憶回路(LAT1)に書き込まれ
たデータが、次の信号線に対応するデジタル映像信号に
書き換えられる前に、ラッチパルスが第1のラッチ信号
線(LPa)に入力される。また、(k/n)段目〔1
60段目〕の第1の記憶回路(LAT1)への、先の信
号線に対応するデジタル映像信号の書き込みが終了して
から、(k/2n)+1段目〔81段目〕の第1の記憶
回路(LAT1)に書き込まれたデータが、次の信号線
に対応するデジタル映像信号に書き換えられる前に、ラ
ッチパルスが第2のラッチ信号線(LPb)に入力され
る。
In the present embodiment, the (k / 2n) th stage [8
0th stage] The first storage circuit (LAT1) is written to the first storage circuit (LAT1) at the first stage after the writing of the digital video signal corresponding to the preceding signal line is completed. The latch pulse is input to the first latch signal line (LPa) before the data is rewritten to the digital video signal corresponding to the next signal line. In addition, the (k / n) th stage [1
(60th stage), after writing of the digital video signal corresponding to the preceding signal line to the first storage circuit (LAT1) is completed, the first (k / 2n) + 1st stage (81st stage) The latch pulse is input to the second latch signal line (LPb) before the data written in the storage circuit (LAT1) is rewritten into the digital video signal corresponding to the next signal line.

【0035】つまり、前半の第1の記憶回路へのデジタ
ル映像信号の書き込みが終了すると、後半の第1の記憶
回路へのデジタル映像信号の書き込みが開始される。後
半の第1の記憶回路へのデジタル映像信号の書き込みが
行われている間に、前半の第1の記憶回路に書き込まれ
ているデジタル映像信号は、前半の第2の記憶回路に転
送される。後半の第1の記憶回路へのデジタル映像信号
の書き込みが終了すると、前半の第1の記憶回路への、
次のデジタル映像信号の書き込みが開始される。前半の
第1の記憶回路へのデジタル映像信号の書き込みが行わ
れている間に、後半の第1の記憶回路に書き込まれてい
るデジタル映像信号は、後半の第2の記憶回路に転送さ
れる。
That is, when the writing of the digital video signal to the first storage circuit in the first half is completed, the writing of the digital video signal to the first storage circuit in the second half is started. While the digital video signal is being written to the first storage circuit in the second half, the digital video signal written in the first storage circuit in the first half is transferred to the second storage circuit in the first half. . When the writing of the digital video signal to the first memory circuit in the latter half is completed,
Writing of the next digital video signal is started. While the digital video signal is being written to the first storage circuit in the first half, the digital video signal written in the first storage circuit in the second half is transferred to the second storage circuit in the second half. .

【0036】これらの動作により、各信号線に対応する
デジタル映像信号が第2の記憶回路群103へ順次転送
される。
By these operations, the digital video signal corresponding to each signal line is sequentially transferred to the second memory circuit group 103.

【0037】なお、図1では、ラッチパルス線を2つ設
け、ラッチパルスを1水平走査期間に2n回〔8回〕入
力した例を示したが、本発明はこの構成に限定されな
い。全ての第2の記憶回路(LAT2)を1つのラッチ
パルス線に接続するようにしても良い。この場合、シフ
トレジスタ101が1回走査を終了するごとに帰線期間
を設け、デジタル映像信号の第1の記憶回路への書き込
みを前記帰線期間において中断する必要がある。そして
該帰線期間において、全ての第1の記憶回路(LAT
1)から全ての第2の記憶回路(LAT2)への転送を
行う。そして、ラッチパルスの入力は1水平走査期間中
にn回〔4回〕となる。
Although FIG. 1 shows an example in which two latch pulse lines are provided and the latch pulse is input 2n times [8 times] in one horizontal scanning period, the present invention is not limited to this configuration. All the second memory circuits (LAT2) may be connected to one latch pulse line. In this case, it is necessary to provide a blanking period each time the shift register 101 finishes scanning once, and to interrupt the writing of the digital video signal to the first memory circuit in the blanking period. Then, in the blanking period, all the first memory circuits (LAT
Transfer from 1) to all the second storage circuits (LAT2). Then, the latch pulse is input n times [4 times] in one horizontal scanning period.

【0038】第2の記憶回路(LAT2)から出力され
る3ビットのデジタル映像信号は、D/A変換回路(D
AC)に入力され、アナログ映像信号に変換される。な
お、第2の記憶回路とD/A変換回路の間に、バッファ
回路、レベルシフト回路、出力の期間を制限するイネー
ブル回路などを入れても良い。変換されたアナログ映像
信号は、信号線選択回路群105が有する信号線選択回
路(SEL)を介して、適切な信号線へ書き込まれる。
The 3-bit digital video signal output from the second storage circuit (LAT2) is a D / A conversion circuit (D
AC) and converted into an analog video signal. Note that a buffer circuit, a level shift circuit, an enable circuit for limiting the output period, or the like may be provided between the second memory circuit and the D / A conversion circuit. The converted analog video signal is written to an appropriate signal line through the signal line selection circuit (SEL) included in the signal line selection circuit group 105.

【0039】信号線選択回路(SEL)によって、適切
な信号線へアナログ映像信号が書き込まれるタイミング
は、ラッチパルスの入力されるタイミングによって決ま
る。1水平走査期間内に、シフトレジスタがn回走査す
るのに対応し、上記のように第2の記憶回路もn回記憶
動作を繰り返す。よって、ある信号線に対応するデジタ
ル映像信号が第2の記憶回路に記憶されている間に、D
/A変換回路(DAC)から出力されるアナログ映像信
号を対応する信号線を選択して書き込みを完了させなけ
ればならない。
The timing at which the analog video signal is written to the appropriate signal line by the signal line selection circuit (SEL) is determined by the timing at which the latch pulse is input. Corresponding to the shift register scanning n times in one horizontal scanning period, the second memory circuit repeats the memory operation n times as described above. Therefore, while the digital video signal corresponding to a certain signal line is stored in the second storage circuit, D
Writing must be completed by selecting the corresponding signal line for the analog video signal output from the / A conversion circuit (DAC).

【0040】信号線選択回路(SEL)から信号線への
アナログ映像信号の入力は、信号線選択回路(SEL)
に入力される選択信号のパルスに同期して行われる。選
択信号のパルスは、1水平走査期間にn回出現する。
Input of an analog video signal from the signal line selection circuit (SEL) to the signal line is performed by the signal line selection circuit (SEL).
It is performed in synchronization with the pulse of the selection signal input to. The pulse of the selection signal appears n times in one horizontal scanning period.

【0041】なお本発明では、n本の信号線の、アナロ
グ映像信号が入力される順番を1水平走査期間毎または
複数の水平走査期間毎に変える。なお信号線の選択順
は、信号線選択回路(SEL)に入力される選択信号S
S1〜SS4〔SS1〜SSn〕によって制御される。
In the present invention, the order of inputting the analog video signals of the n signal lines is changed for each horizontal scanning period or for each of a plurality of horizontal scanning periods. The order of selecting the signal lines is the selection signal S input to the signal line selection circuit (SEL).
It is controlled by S1 to SS4 [SS1 to SSn].

【0042】アナログ映像信号を入力する信号線の順序
は、ランダムでも良いし、ある一定の規則性を有してい
ても良い。また、1水平走査期間ごとに順序を変えなく
とも良く、2水平走査期間ごと、またはそれ以上の水平
走査期間毎に順序を変えるようにしても良い。例えば、
1フレーム期間毎に順序を変えても良い。ただし、人間
の目に縦縞が視認されにくくなる程度に、水平走査期間
の数を設定することが肝要である。フレーム周波数を高
くすると縦縞が見えにくくなることから、フレーム周波
数との兼ね合いで、順序を変える水平走査期間の数を設
定することが好ましい。
The order of the signal lines for inputting the analog video signal may be random or may have a certain regularity. Further, the order does not have to be changed for every one horizontal scanning period, and the order may be changed for every two horizontal scanning periods or every other horizontal scanning period. For example,
The order may be changed for each frame period. However, it is important to set the number of horizontal scanning periods to such an extent that vertical stripes are less visible to the human eye. Since vertical stripes are hard to see when the frame frequency is increased, it is preferable to set the number of horizontal scanning periods in which the order is changed in consideration of the frame frequency.

【0043】表1に本実施の形態の信号線の選択順を示
す。
Table 1 shows the order of selecting the signal lines of this embodiment.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】信号線が表1に示した順序で選択された場
合に、画素にアナログ映像信号が書き込まれる順序を、
図3(A)に模式図で示す。なお比較のため、画素にア
ナログ映像信号が書き込まれる一般的な順序を、図3
(B)に模式図で示す。
When the signal lines are selected in the order shown in Table 1, the order in which the analog video signals are written in the pixels is
A schematic view is shown in FIG. For comparison, the general order in which analog video signals are written to pixels is shown in FIG.
A schematic view is shown in FIG.

【0046】図3(A)に示すとおり、表1に示す順序
で信号線を選択した場合、アナログ映像信号が最初に書
き込まれる信号線が、1水平走査期間毎に異なる。一
方、図3(B)に示すとおり、信号線の選択順が固定さ
れている場合は、各水平走査期間において常に同じ信号
線に最初にアナログ映像信号が書き込まれる。
As shown in FIG. 3A, when the signal lines are selected in the order shown in Table 1, the signal line to which the analog video signal is first written differs every horizontal scanning period. On the other hand, as shown in FIG. 3B, when the selection order of the signal lines is fixed, the analog video signal is always written to the same signal line first in each horizontal scanning period.

【0047】よって、表1に示した駆動方法では、最初
に映像信号が書き込まれる信号線の電位が変化しても、
1水平走査期間毎に変調を受けた電位が書き込まれる画
素の水平方向における位置が変わるため、人間の目に縦
縞が視認されにくい。なお、図3(A)の駆動例におい
て、アナログ映像信号が最初に書きこまれる信号線が、
複数の水平走査期間毎に異なっていても良い。
Therefore, in the driving method shown in Table 1, even if the potential of the signal line to which the video signal is first written changes,
Since the position in the horizontal direction of the pixel to which the modulated potential is written changes every one horizontal scanning period, it is difficult for the human eye to visually recognize vertical stripes. In the driving example of FIG. 3A, the signal line in which the analog video signal is first written is
It may be different for each of a plurality of horizontal scanning periods.

【0048】なお本発明の信号線の選択順は、表1に示
した順序に限定されない。表1に示すようにある一定の
規則性を有していても良いし、ランダムであっても良
い。表2に、本発明の信号線の選択順の、表1とは異な
る例を示す。
The order of selecting the signal lines of the present invention is not limited to the order shown in Table 1. It may have a certain regularity as shown in Table 1 or may be random. Table 2 shows an example of the signal line selection order of the present invention different from that of Table 1.

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】表2では表1と異なり、1水平走査期間毎
に、最初に選択される信号線の番号が異なっており、な
おかつ、全ての信号線が、必ずいずれかの水平走査期間
において最初に選択されている。上記構成では、最初に
選択される期間が全ての信号線において設けられている
ので、表1の駆動方法に比べ、フレーム周波数が同じで
も縦縞がより視認されにくくなる。
Unlike Table 1, in Table 2, the number of the signal line selected first is different every horizontal scanning period, and all the signal lines are always first in any horizontal scanning period. It is selected. In the above configuration, since the first selected period is provided in all the signal lines, vertical stripes are more difficult to be visually recognized even if the frame frequency is the same, as compared with the driving method in Table 1.

【0051】また、1水平走査期間毎または複数の水平
走査期間毎に信号線の選択順を変え、さらに各フレーム
期間毎に信号線の選択順を変えるようにしても良い。例
えば、先のフレーム期間においては表1に示した順序で
信号線を選択し、次に出現するフレーム期間において
は、表2に示した順序で信号線を選択するようにしても
良い。この構成により、単に水平走査期間毎に順序を変
える駆動方法に比べて、フレーム周波数が同じでも縦縞
がより視認されにくくなる。
Further, the selection order of the signal lines may be changed for each horizontal scanning period or for each of a plurality of horizontal scanning periods, and the selection order of the signal lines may be changed for each frame period. For example, the signal lines may be selected in the order shown in Table 1 in the previous frame period, and the signal lines may be selected in the order shown in Table 2 in the next frame period. With this configuration, vertical stripes are more difficult to be visually recognized even if the frame frequency is the same, as compared with a driving method in which the order is simply changed for each horizontal scanning period.

【0052】なお、本発明の実施の形態では、デジタル
映像信号を入力し、各信号線に対応するアナログ映像信
号を出力する信号線駆動回路(いわゆるデジタル信号線
駆動回路)を例に挙げて示しているが、本発明はこれに
限定されない。例えば、アナログ映像信号を入力し、各
信号線に対応するアナログ映像信号を出力する信号線駆
動回路(いわゆるアナログ信号線駆動回路)を用いてい
ても良い。
In the embodiments of the present invention, a signal line drive circuit (so-called digital signal line drive circuit) that inputs a digital video signal and outputs an analog video signal corresponding to each signal line is shown as an example. However, the present invention is not limited to this. For example, a signal line drive circuit (so-called analog signal line drive circuit) that inputs an analog video signal and outputs an analog video signal corresponding to each signal line may be used.

【0053】本発明は上記構成により、信号線駆動回路
内の回路素子の数を従来例のn分の1にすることが可能
である。また、階調の異なる画素の水平方向における位
置が変わるため、フレーム周波数を変えなくとも人間の
目に縦縞が視認されにくくなる。
With the above structure, the present invention can reduce the number of circuit elements in the signal line drive circuit to 1 / n of the conventional example. Further, since the positions of pixels having different gradations in the horizontal direction are changed, it is difficult for the human eye to visually recognize vertical stripes without changing the frame frequency.

【0054】また、以上の実施の形態の説明において、
第1の記憶回路を制御する回路としてシフトレジスタを
用いたが、シフトレジスタではなく、デコーダ回路を使
用しても良い。また、D/A変換回路はランプ型D/A
変換回路を用いても良い。その場合、D/A変換回路の
個数はk/nとは限定されない。
In the above description of the embodiment,
Although the shift register is used as a circuit for controlling the first memory circuit, a decoder circuit may be used instead of the shift register. Further, the D / A conversion circuit is a lamp type D / A
A conversion circuit may be used. In that case, the number of D / A conversion circuits is not limited to k / n.

【0055】[0055]

【実施例】以下、本発明の実施例を示す。EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below.

【0056】(実施例1)本実施例では、本発明の画像
表示装置において用いられる信号線選択回路の詳しい構
成について説明する。
(Embodiment 1) In this embodiment, a detailed configuration of a signal line selection circuit used in the image display device of the present invention will be described.

【0057】図4(A)に本実施例の信号線選択回路
(SEL)の回路図を示す。なお本実施例では、1つの
D/A変換回路を共用している信号線の数を示すパラメ
ータとしてnを用いる。ただし図4では説明を簡単にす
るために、1つのDACが4つの信号線に対応している
場合について示す。以下、一般的な説明にnを用いる
が、〔 〕内にn=4の場合の具体的な数字を示す。
FIG. 4A shows a circuit diagram of the signal line selection circuit (SEL) of this embodiment. In the present embodiment, n is used as a parameter indicating the number of signal lines sharing one D / A conversion circuit. However, FIG. 4 shows a case where one DAC corresponds to four signal lines in order to simplify the description. In the following, n is used for general description, but specific numbers in the case of n = 4 are shown in [].

【0058】本実施例では、アナログスイッチがpチャ
ネル型トランジスタとnチャネル型トランジスタを有し
ている。しかし本発明はこれに限定されず、pチャネル
型トランジスタのみを用いたアナログスイッチでも良い
し、nチャネル型トランジスタのみを用いたアナログス
イッチであってもい。
In this embodiment, the analog switch has a p-channel type transistor and an n-channel type transistor. However, the present invention is not limited to this, and may be an analog switch using only p-channel type transistors or an analog switch using only n-channel type transistors.

【0059】本実施例の信号線駆動回路(SEL)は、
n個〔4個〕のアナログスイッチ400_1〜400_
n〔400_1〜400_4〕を有している。そして各
アナログスイッチには、スイッチングを制御する選択信
号が入力されている。
The signal line drive circuit (SEL) of this embodiment is
n [four] analog switches 400_1 to 400_
n [400_1 to 400_4]. A selection signal for controlling switching is input to each analog switch.

【0060】スイッチングを制御する選択信号は、選択
信号線を介してアナログスイッチ400_1〜400_
n〔400_1〜400_4〕に入力される。各アナロ
グスイッチに異なる電位を有する選択信号が入力されて
おり、選択信号線は各アナログスイッチごとに設ける。
A selection signal for controlling switching is supplied to the analog switches 400_1 to 400_ through the selection signal line.
n [400_1 to 400_4]. A selection signal having a different potential is input to each analog switch, and a selection signal line is provided for each analog switch.

【0061】本実施例では、アナログスイッチがpチャ
ネル型トランジスタとnチャネル型トランジスタを有し
ており、選択信号の極性を反転させた信号もアナログス
イッチに入力する。よって、本実施例では選択信号SS
1〜SSn〔SS1〜SS4〕と、各選択信号の極性を
反転させた信号SSb1〜SSbn〔SSb1〜SSb
4〕を、各アナログスイッチに入力する。なお、本実施
例では、選択信号の極性を反転させた信号も併せて選択
信号と総称する。
In this embodiment, the analog switch has a p-channel type transistor and an n-channel type transistor, and a signal obtained by inverting the polarity of the selection signal is also input to the analog switch. Therefore, in this embodiment, the selection signal SS
1 to SSn [SS1 to SS4] and signals SSb1 to SSbn [SSb1 to SSb] in which the polarities of the selection signals are inverted.
4] is input to each analog switch. In the present embodiment, signals in which the polarities of the selection signals are inverted are also collectively referred to as selection signals.

【0062】図4(B)に、信号線Si〜S(i+n−
1)〔S(i+3)〕を選択するときの、選択信号のタ
イミングチャートを示す。なお選択信号SSb1〜SS
b4は、選択信号SS1〜SS4の極性を反転させただ
けなので、ここでは選択信号SS1〜SS4のみ示す。
FIG. 4B shows the signal lines Si to S (i + n-).
1) A timing chart of a selection signal when [S (i + 3)] is selected is shown. Note that the selection signals SSb1 to SS
Since b4 only reverses the polarities of the selection signals SS1 to SS4, only the selection signals SS1 to SS4 are shown here.

【0063】図4(B)では、同じDACに接続された
n本〔4本〕の信号線Si、S(i+1)、S(i+
2)、S(i+n−1)〔S(i+3)〕を、表1に示
した順序で選択する例を示している。なお本実施例の信
号線の選択順は、表1に示した順序に限定されない。
In FIG. 4B, n [4] signal lines Si, S (i + 1), S (i +) connected to the same DAC are used.
2) and S (i + n-1) [S (i + 3)] are selected in the order shown in Table 1. The order of selecting the signal lines in this embodiment is not limited to the order shown in Table 1.

【0064】まず水平走査期間が開始されると、選択信
号SS1、SSb1のパルスに同期して信号線Siが選
択される。そして、DACから出力されたアナログ映像
信号がアナログスイッチ400_1を介して信号線Si
に入力される。
First, when the horizontal scanning period is started, the signal line Si is selected in synchronization with the pulses of the selection signals SS1 and SSb1. Then, the analog video signal output from the DAC is transmitted through the analog switch 400_1 to the signal line Si.
Entered in.

【0065】そして同様に、選択信号SS2〜SSn
〔SS2〜SS4〕、SSb2〜SSbn〔SS2〜S
S4〕のパルスに同期して、順に信号線S(i+1)〜
S(i+n−1)〔S(i+3)〕が選択される。そし
て、DACから出力されたアナログ映像信号がアナログ
スイッチ400_2〜400_4〔400_n〕を介し
て信号線S(i+1)〜S(i+3)に入力される。
Similarly, the selection signals SS2 to SSn
[SS2-SS4], SSb2-SSbn [SS2-S
S4] of the signal lines S (i + 1) to
S (i + n-1) [S (i + 3)] is selected. Then, the analog video signal output from the DAC is input to the signal lines S (i + 1) to S (i + 3) via the analog switches 400_2 to 400_4 [400_n].

【0066】そして1水平走査期間が終了し、次の水平
走査期間が開始されると、選択信号SSn、SSbn
〔SS4、SSb4〕のパルスに同期して信号線S(i
+n−1)〔S(i+3)〕が選択される。そして、D
ACから出力されたアナログ映像信号がアナログスイッ
チ400_n〔400_4〕を介して信号線S(i+n
−1)〔S(i+3)〕に入力される。
When one horizontal scanning period ends and the next horizontal scanning period starts, the selection signals SSn and SSbn are selected.
In synchronization with the pulse of [SS4, SSb4], the signal line S (i
+ N-1) [S (i + 3)] is selected. And D
The analog video signal output from the AC is transmitted through the analog switch 400_n [400_4] to the signal line S (i + n).
-1) is input to [S (i + 3)].

【0067】そして同様に、選択信号SS(n−1)〜
SS1〔SS3〜SS1〕、SSb(n−1)〜SSb
1〔SS(n−1)〜SS1〕のパルスに同期して、順
に信号線S(i+n−2)〜Si〔S(i+2)〜S
i〕が選択される。そして、DACから出力されたアナ
ログ映像信号がアナログスイッチ400_(n−1)
〔400_3〕〜400_1を介して信号線S(i+
2)〜Siに入力される。
Similarly, the selection signals SS (n-1) to
SS1 [SS3 to SS1], SSb (n-1) to SSb
1 [SS (n-1) to SS1] in synchronization with the signal lines S (i + n-2) to Si [S (i + 2) to S.
i] is selected. The analog video signal output from the DAC is analog switch 400_ (n-1).
Signal lines S (i +) via [400_3] to 400_1
2) to Si are input.

【0068】上述したように、信号線の選択順は選択信
号によって制御することが可能である。
As described above, the selection order of the signal lines can be controlled by the selection signal.

【0069】(実施例2)本実施例では、駆動に関わる
各種信号を生成する、本発明の画像表示装置のコントロ
ーラの構成について説明する。
(Embodiment 2) In this embodiment, the configuration of the controller of the image display apparatus of the present invention for generating various signals related to driving will be described.

【0070】図5に本実施例の画像表示装置の構成をブ
ロック図で示す。500は画素部、501は信号線駆動
回路、502は走査線駆動回路を示している。503は
信号線選択回路群であり、信号線駆動回路501に含ま
れる。
FIG. 5 is a block diagram showing the arrangement of the image display apparatus of this embodiment. Reference numeral 500 denotes a pixel portion, 501 denotes a signal line driving circuit, and 502 denotes a scanning line driving circuit. A signal line selection circuit group 503 is included in the signal line driver circuit 501.

【0071】504はコントローラであり各種回路を有
している。具体的には主に、バッファ505、表示用メ
モリ506、タイミング発生回路507、選択回路用タ
イミング発生回路508、フォーマット回路509を有
してる。なおこの他に、バイアス電圧発生回路、シリア
ルインターフェース等を有していても良い。
A controller 504 has various circuits. Specifically, it mainly has a buffer 505, a display memory 506, a timing generation circuit 507, a selection circuit timing generation circuit 508, and a format circuit 509. In addition to this, a bias voltage generating circuit, a serial interface, and the like may be included.

【0072】コントローラ504は主に映像信号(Vi
deo Signals)と、基準クロック信号(Do
t CLK)と、水平同期信号(Hsync)と、垂直
同期信号(Vsync)とが入力される。
The controller 504 mainly outputs the video signal (Vi
deo Signals) and a reference clock signal (Do
t CLK), the horizontal synchronization signal (Hsync), and the vertical synchronization signal (Vsync) are input.

【0073】映像信号はバッファ505において増幅ま
たは緩衝増幅され、表示用メモリ506に書き込まれ
る。なお、必ずしも映像信号をバッファ505において
増幅または緩衝増幅する必要はなく、バッファ505を
設けることは必須ではない。
The video signal is amplified or buffer-amplified in the buffer 505 and written in the display memory 506. Note that the video signal does not necessarily have to be amplified or buffer-amplified in the buffer 505, and the provision of the buffer 505 is not essential.

【0074】また、基準クロック信号、水平同期信号
(Hsync)及び垂直同期信号(Vsync)は、タ
イミング発生回路507に入力される。なお本実施例で
は、基準クロック信号を画像表示装置の外部から入力し
ているが、本実施例はこの構成に限定されない。基準ク
ロック信号を外部から入力せずに、画像表示装置に入力
された水平同期信号(Hsync)をもとに生成するよ
うにしても良い。
The reference clock signal, the horizontal synchronizing signal (Hsync) and the vertical synchronizing signal (Vsync) are input to the timing generation circuit 507. In this embodiment, the reference clock signal is input from outside the image display device, but the present embodiment is not limited to this configuration. The reference clock signal may be generated based on the horizontal synchronizing signal (Hsync) input to the image display device without being input from the outside.

【0075】タイミング発生回路507では、入力され
た基準クロック信号、水平同期信号(Hsync)及び
垂直同期信号(Vsync)に従って、各種回路の動作
のタイミングを決定する信号を生成する。
The timing generation circuit 507 generates a signal for determining the operation timing of various circuits according to the input reference clock signal, horizontal synchronization signal (Hsync) and vertical synchronization signal (Vsync).

【0076】具体的には、信号線駆動回路501用のク
ロック信号(S−CLK)及びスタートパルス信号(S
−SP)と、走査線駆動回路502用のクロック信号
(G−CLK)及びスタートパルス信号(G−SP)
が、タイミング発生回路507において生成される。
Specifically, the clock signal (S-CLK) and the start pulse signal (S) for the signal line drive circuit 501 are used.
-SP), a clock signal (G-CLK) and a start pulse signal (G-SP) for the scan line driver circuit 502.
Are generated in the timing generation circuit 507.

【0077】さらに、映像信号を表示用メモリ506に
書き込むタイミングと、表示用メモリ506が保持する
映像信号をフォーマット回路509に入力するタイミン
グが、タイミング発生回路507において決定される。
Further, the timing generation circuit 507 determines the timing of writing the video signal to the display memory 506 and the timing of inputting the video signal held by the display memory 506 to the format circuit 509.

【0078】また、信号線選択回路群503において信
号線の選択されるタイミングが、タイミング発生回路5
07において決定される。なお、各水平走査期間内にn
本の信号線が選択されるため、信号線の選択されるタイ
ミングは、各水平走査期間内にn回出現する。ただしn
は1つのDACを共用している信号線の数を意味する。
信号線の選択されるタイミングを決める信号は、タイミ
ング発生回路507から選択回路用タイミング発生回路
508に入力される。
The timing at which the signal lines are selected in the signal line selection circuit group 503 is determined by the timing generation circuit 5.
It is decided at 07. In addition, within each horizontal scanning period, n
Since the book signal line is selected, the signal line selection timing appears n times in each horizontal scanning period. However, n
Means the number of signal lines sharing one DAC.
A signal that determines the timing for selecting the signal line is input from the timing generation circuit 507 to the selection circuit timing generation circuit 508.

【0079】選択回路用タイミング発生回路508は、
選択信号を生成する選択信号生成回路510と、信号線
の選択順のデータが蓄積されている選択順決定レジスタ
511とを有している。選択信号生成回路510には、
タイミング発生回路507から、信号線の選択されるタ
イミングを決める信号が入力される。また選択信号生成
回路510には、選択順決定レジスタ511から、信号
線の選択順のデータが入力される。
The selection circuit timing generation circuit 508
It has a selection signal generation circuit 510 for generating a selection signal and a selection order determination register 511 in which data of the selection order of signal lines is accumulated. The selection signal generation circuit 510 includes
From the timing generation circuit 507, a signal that determines the timing for selecting the signal line is input. Further, the selection signal generation circuit 510 is supplied with data in the selection order of the signal lines from the selection order determination register 511.

【0080】選択信号生成回路510は、信号線の選択
順のデータと、n回出現する信号線の選択されるタイミ
ングを決める信号をもとに、選択信号SS1〜SSnを
生成する。選択信号SS1〜SSnのそれぞれは、1水
平走査期間内にパルスが1回出現する。該パルスに同期
して、信号線が選択される。
The selection signal generation circuit 510 generates selection signals SS1 to SSn based on the data in the selection order of the signal lines and the signal that determines the selection timing of the signal line that appears n times. For each of the selection signals SS1 to SSn, a pulse appears once within one horizontal scanning period. The signal line is selected in synchronization with the pulse.

【0081】一方、フォーマット回路509にも、選択
順決定レジスタ511に蓄積されている信号線の選択順
のデータが送られる。そして、フォーマット回路509
に入力された映像信号は、該信号線の選択順のデータに
従って並び替えられ、信号線駆動回路501の第1の記
憶回路群(図示せず)に入力される。なお、フォーマッ
ト部509において、映像信号をシリアル−パラレル変
換して複数に分割してから、第1の記憶回路群(図示せ
ず)に入力に入力しても良い。
On the other hand, the data of the selection order of the signal lines stored in the selection order determination register 511 is also sent to the format circuit 509. Then, the format circuit 509
The video signals input to are rearranged according to the data of the selection order of the signal lines, and input to the first memory circuit group (not shown) of the signal line driver circuit 501. The format unit 509 may serial-parallel convert the video signal to divide the video signal into a plurality of signals, and then input the video signals to the first storage circuit group (not shown).

【0082】なお図5では、タイミング発生回路507
と選択回路用タイミング発生回路508とを区別して示
したが、選択回路用タイミング発生回路508を、タイ
ミング発生回路507の一部とみなしても良い。また図
5では、表示用メモリ506をコントローラ504の一
部とみなして示したが、表示用メモリ506をコントロ
ーラ504と別にしても良い。
In FIG. 5, the timing generation circuit 507
However, the selection circuit timing generation circuit 508 may be regarded as a part of the timing generation circuit 507. Although the display memory 506 is shown as a part of the controller 504 in FIG. 5, the display memory 506 may be separated from the controller 504.

【0083】また、図5は表示用メモリがコントローラ
504としか接続されておらず、CPU(図示せず)が
管理するシステムバスとは独立しているが、本実施例は
この構成に限定されない。CPUとコントローラ504
とが同一の表示用メモリを共用していても良い。
Further, in FIG. 5, the display memory is connected only to the controller 504 and is independent of the system bus managed by the CPU (not shown), but this embodiment is not limited to this configuration. . CPU and controller 504
And may share the same display memory.

【0084】また、選択順決定レジスタ511に記憶さ
れている、信号線の選択順のデータは、マスク等の設計
により決められた固定データであっても良いし、CPU
やディップスイッチ等による書き換えが可能なデータで
あっても良い。
The signal line selection order data stored in the selection order determination register 511 may be fixed data determined by the design of a mask or the like, or CPU.
Alternatively, the data may be rewritable by a DIP switch or the like.

【0085】本実施例の構成は、実施例1と自由に組み
合わせて実施することが可能である。
The configuration of this embodiment can be implemented by freely combining it with that of the first embodiment.

【0086】(実施例3)本実施例では、本発明の信号
線駆動回路で用いられる第1及び第2の記憶回路の具体
的な構成について説明する。
(Embodiment 3) In this embodiment, a specific configuration of the first and second memory circuits used in the signal line driver circuit of the present invention will be described.

【0087】記憶回路の具体例を図6に示す。図6
(A)はクロックドインバータを用いたものであり、図
6(B)はSRAM型のものであり、図6(C)はDR
AM型のものである。これらは代表例であり、本発明は
これらの形式に限定されない。
A concrete example of the memory circuit is shown in FIG. Figure 6
6A is a clock type inverter, FIG. 6B is an SRAM type, and FIG. 6C is a DR.
It is of the AM type. These are representative examples and the invention is not limited to these formats.

【0088】なお、制御信号2は、制御信号1の極性を
反転させた信号に相当する。また、第2の記憶回路の場
合、制御信号にラッチパルスを入力する。
The control signal 2 corresponds to a signal obtained by inverting the polarity of the control signal 1. In the case of the second memory circuit, a latch pulse is input to the control signal.

【0089】本実施例の構成は、実施例1または2と自
由に組み合わせて実施することが可能である。
The structure of this embodiment can be implemented by being freely combined with Embodiment 1 or 2.

【0090】(実施例4)本実施例では、D/A変換回
路にランプ型D/A変換回路を採用した場合の、信号線
駆動回路の構成について説明する。
(Embodiment 4) In this embodiment, a configuration of a signal line drive circuit when a ramp type D / A conversion circuit is adopted as a D / A conversion circuit will be described.

【0091】図7にランプ型D/A変換回路を用いた場
合の信号線駆動回路の概略図を示す。なお、本実施例で
はXGA規格の画像表示装置で3ビットのデジタル映像
信号に対応した場合を説明するが、本発明は3ビットに
限らず、それ以外のビット数に対応した場合やXGA以
外の規格の画像表示装置についても有効である。
FIG. 7 shows a schematic diagram of a signal line drive circuit in the case of using a lamp type D / A conversion circuit. Although the present embodiment describes a case in which an XGA standard image display device is compatible with a 3-bit digital video signal, the present invention is not limited to 3-bit, and a case in which any other number of bits is supported or a case other than XGA is used. It is also effective for standard image display devices.

【0092】本実施例において、シフトレジスタ70
1、第1の記憶回路群702、第2の記憶回路群70
3、信号線選択回路群706の構成及び動作は、実施の
形態と同じである。本実施例は、第2の記憶回路703
の下段に、ビット比較パルス幅変換回路群704及びア
ナログスイッチ群705を有している点が実施の形態の
場合と異なる。ビット比較パルス幅変換回路群704と
アナログスイッチ群705との二つの回路が、ランプ型
D/A変換回路として機能する。
In this embodiment, the shift register 70
1, first memory circuit group 702, second memory circuit group 70
3. The configuration and operation of the signal line selection circuit group 706 are the same as those in the embodiment. In this embodiment, the second memory circuit 703 is used.
This is different from the case of the embodiment in that a bit comparison pulse width conversion circuit group 704 and an analog switch group 705 are provided in the lower stage. Two circuits of the bit comparison pulse width conversion circuit group 704 and the analog switch group 705 function as a ramp type D / A conversion circuit.

【0093】ビット比較パルス幅変換回路群には、本実
施例では256個のビット比較パルス幅変換回路(BP
C)が設けられている。BPCには、第2の記憶回路群
703に記憶されていた3ビットのデジタル映像信号、
カウント信号(C0〜C2)、セット信号(ST)が入
力される。
In this embodiment, the bit comparison pulse width conversion circuit group includes 256 bit comparison pulse width conversion circuits (BP).
C) is provided. The BPC has a 3-bit digital video signal stored in the second storage circuit group 703,
The count signal (C0 to C2) and the set signal (ST) are input.

【0094】アナログスイッチ群705には、本実施例
では256個のアナログスイッチ(ASW)が設けられ
ている。アナログスイッチ群705には、ビット比較パ
ルス幅変換回路群704の出力(PW−i、iは001
〜256)と、階調電源(VR)が入力される。信号線
選択回路群706にはアナログスイッチ群705の出力
と選択信号(SS1〜SS4)が入力される。
The analog switch group 705 is provided with 256 analog switches (ASW) in this embodiment. The analog switch group 705 has outputs from the bit comparison pulse width conversion circuit group 704 (PW-i and i are 001).
~ 256), the gradation power source (VR) is input. The output of the analog switch group 705 and selection signals (SS1 to SS4) are input to the signal line selection circuit group 706.

【0095】第i段目のBPCの構成を図8に例示す
る。BPCは排他的論理和ゲート、3入力NANDゲー
ト、インバータ、セットリセットフリップフロップ(R
S−FF)を有する。図8では、i段目の第2の記憶回
路の出力を、ビットを区別して、L2−i(0)、L2
−i(1)L2−i(2)(括弧内はビット番号を表
す)とした。
The structure of the i-th stage BPC is illustrated in FIG. BPC is an exclusive OR gate, a 3-input NAND gate, an inverter, a set-reset flip-flop (R
S-FF). In FIG. 8, the output of the second memory circuit in the i-th stage is L2-i (0), L2 by distinguishing bits.
-I (1) L2-i (2) (bit numbers in parentheses).

【0096】次に、本実施例の信号線駆動回路の動作に
ついて説明する。図7の回路動作の概略を理解するため
に必要な信号系のタイミングチャートを図9に示した。
シフトレジスタ701から第2の記憶回路群703まで
の動作も、実施の形態で示した信号線駆動回路と同じで
ある。また、信号線選択回路群706に入力される選択
信号(SS1〜SS4)についても、実施の形態の図2
で示した信号線駆動回路の場合と同じである。
Next, the operation of the signal line drive circuit of this embodiment will be described. FIG. 9 shows a timing chart of the signal system necessary for understanding the outline of the circuit operation of FIG.
The operation from the shift register 701 to the second memory circuit group 703 is also the same as that of the signal line driver circuit described in the embodiment. The selection signals (SS1 to SS4) input to the signal line selection circuit group 706 are also shown in FIG.
This is the same as the case of the signal line drive circuit shown in.

【0097】図9において、信号線選択回路群706に
より4本の信号線が順次選択されていくたびに、カウン
ト信号(C0〜C2)、セット信号(ST)、階調電源
(VR)が周期的に入力される。これにより信号線全て
に情報の書き込みを同等に行なうことができる。
In FIG. 9, every time four signal lines are sequentially selected by the signal line selection circuit group 706, the count signal (C0 to C2), the set signal (ST), and the gradation power supply (VR) are cycled. Input As a result, it is possible to equally write information on all the signal lines.

【0098】ランプ型D/A変換回路の詳細な動作を説
明するために、4本の信号線のうち1本が信号線選択回
路により選択されている期間の、タイミングチャートを
図10に示す。
To explain the detailed operation of the ramp type D / A conversion circuit, FIG. 10 shows a timing chart during a period in which one of the four signal lines is selected by the signal line selection circuit.

【0099】まず、セット信号のパルスに同期して、R
S−FF30がセットされ、出力PW−iがHiレベル
になる。次に、第2の記憶回路群703に記憶されてい
たデジタル映像信号は、排他的論理和ゲートによってカ
ウント信号(C0〜C2)とビット毎に比較される。3
ビット全てが一致した場合には、全ての排他的論理和ゲ
ートの出力がHiレベルになり、その結果、3入力NA
NDゲートの出力(反転RC−i)はLoレベルになる
(したがって、RC−iはHiレベルになる)。この3
入力NANDの出力もRS−FF30に入力され、RC
−iがHiレベルになるとリセットされ、出力PW−i
がLoレベルに戻る。図10には、3ビットのデジタル
映像信号{L2−i(0)、L2−i(1)L2−i
(2)}が{0、0、1}の場合についてのRC−i、
PW−i、DA−iの出力例を示した。こうして、デジ
タル映像信号の情報はBPCの出力PW−iのパルス幅
に変換される。
First, R is synchronized with the pulse of the set signal.
The S-FF 30 is set, and the output PW-i becomes Hi level. Next, the digital video signal stored in the second memory circuit group 703 is compared with the count signal (C0 to C2) by the exclusive OR gate for each bit. Three
When all the bits match, the output of all the exclusive OR gates becomes Hi level, and as a result, the 3-input NA
The output of the ND gate (inverted RC-i) becomes Lo level (hence RC-i becomes Hi level). This 3
The output of the input NAND is also input to the RS-FF 30, and RC
-I is reset to Hi level and reset, and output PW-i
Returns to Lo level. In FIG. 10, a 3-bit digital video signal {L2-i (0), L2-i (1) L2-i.
RC-i for the case (2)} is {0, 0, 1},
Output examples of PW-i and DA-i are shown. In this way, the information of the digital video signal is converted into the pulse width of the output PW-i of the BPC.

【0100】BPCの出力PW−iは、アナログスイッ
チ群705の開閉を制御する。本実施例では、アナログ
スイッチ群705はBPCの出力PW−iがHiレベル
の間だけオンになり、PW−iがLoレベルになるとオ
フになる。アナログスイッチ群705にはカウント信号
(C0〜C2)に同期した階段状の電圧レベルをもつ階
調電源(VR)が印加されており、PW−iがLoレベ
ルになる瞬間の階調電源(VR)の電圧が後段の信号線
選択回路を経由して、信号線に書き込まれる。
The output PW-i of the BPC controls the opening / closing of the analog switch group 705. In this embodiment, the analog switch group 705 is turned on only while the BPC output PW-i is at the Hi level, and is turned off when PW-i is at the Lo level. A gradation power supply (VR) having a stepwise voltage level synchronized with the count signals (C0 to C2) is applied to the analog switch group 705, and the gradation power supply (VR) at the moment when PW-i becomes Lo level is applied. ) Is written in the signal line via the signal line selection circuit in the subsequent stage.

【0101】以上の動作により、デジタル映像信号をア
ナログ映像信号に変換し、信号線を駆動する。なお、階
調電源(VR)は階段状である必要はなく、連続的に単
調に変化するものでもよい。また、ビット比較パルス幅
変換回路群704の出力とアナログスイッチ群705の
間に、バッファ回路、レベルシフト回路などを入れても
よい。
By the above operation, the digital video signal is converted into the analog video signal and the signal line is driven. The gradation power supply (VR) does not have to be stepwise, and may be continuously and monotonously changing. Further, a buffer circuit, a level shift circuit, or the like may be provided between the output of the bit comparison pulse width conversion circuit group 704 and the analog switch group 705.

【0102】以上のように、本発明では、D/A変換回
路としてランプ型D/A変換回路を用いることもでき、
その回路構成は従来の約4分の1で済み、駆動回路の占
有面積および、素子数の大幅な削減が可能となる。
As described above, in the present invention, the ramp type D / A conversion circuit can be used as the D / A conversion circuit,
The circuit configuration is only about 1/4 of the conventional one, and the area occupied by the drive circuit and the number of elements can be greatly reduced.

【0103】本実施例の構成は、実施例1〜3と自由に
組み合わせて実施することが可能である。
The structure of this embodiment can be implemented by freely combining with Embodiments 1 to 3.

【0104】(実施例5)本実施例では、本発明の画像
表示装置の具体的な作製方法例として、アクティブマト
リクス型液晶表示装置の作製方法を例に採りあげる。特
にここでは、画素部のスイッチング素子である画素TF
Tと、画素部の周辺に設けられる駆動回路(信号線駆動
回路、走査線駆動回路等)のTFTを同一基板上に作製
する方法について工程に従って詳細に説明する。但し、
説明を簡単にするために、駆動回路部としてはその基本
構成回路であるCMOS回路を、画素TFT部としては
nチャネル型TFTとを図示することにする。
(Embodiment 5) In this embodiment, a method for manufacturing an active matrix type liquid crystal display device will be taken as an example of a specific method for manufacturing the image display device of the present invention. In particular, here, the pixel TF which is the switching element of the pixel unit
A method of manufacturing T and a TFT of a driver circuit (a signal line driver circuit, a scanning line driver circuit, or the like) provided around the pixel portion over the same substrate will be described in detail in accordance with steps. However,
For simplification of description, a CMOS circuit, which is a basic constituent circuit of the drive circuit section, and an n-channel type TFT are shown as the pixel TFT section.

【0105】図11(A)において、基板(アクティブ
マトリクス基板)6001には低アルカリガラス基板や
石英基板を用いることができる。本実施例では低アルカ
リガラス基板を用いた。この場合、ガラス歪み点よりも
10〜20℃程度低い温度であらかじめ熱処理しておい
ても良い。この基板6001のTFTを形成する表面に
は、基板6001からの不純物拡散を防ぐために、酸化
シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜
などの下地膜6002を形成する。例えば、プラズマC
VD法でSiH4、NH3、N2Oから作製される酸化窒
化シリコン膜を100nm、同様にSiH4、N2Oから
作製される酸化窒化シリコン膜を200nmの厚さに積
層形成する。
In FIG. 11A, a low alkali glass substrate or a quartz substrate can be used as the substrate (active matrix substrate) 6001. In this example, a low alkali glass substrate was used. In this case, heat treatment may be performed in advance at a temperature lower than the glass strain point by about 10 to 20 ° C. A base film 6002 such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a silicon oxynitride film is formed on the surface of the substrate 6001 on which the TFT is formed in order to prevent the diffusion of impurities from the substrate 6001. For example, plasma C
A silicon oxynitride film made of SiH 4 , NH 3 , and N 2 O is formed to a thickness of 100 nm by the VD method, and a silicon oxynitride film made of SiH 4 and N 2 O is also formed to a thickness of 200 nm.

【0106】次に、20〜150nm(好ましくは30
〜80nm)の厚さで非晶質構造を有する半導体膜60
03aを、プラズマCVD法やスパッタ法などの公知の
方法で形成する。本実施例では、プラズマCVD法で非
晶質シリコン膜を54nmの厚さに形成した。非晶質構
造を有する半導体膜としては、非晶質半導体膜や微結晶
半導体膜があり、非晶質シリコンゲルマニウム膜などの
非晶質構造を有する化合物半導体膜を適用しても良い。
また、下地膜6002と非晶質シリコン膜6003aと
は同じ成膜法で形成することが可能であるので、両者を
連続形成しても良い。その場合、下地膜を形成した後、
一旦大気雰囲気に晒さないことでその表面の汚染を防ぐ
ことが可能となり、作製するTFTの特性バラツキやし
きい値電圧の変動を低減させることができる(図11
(A))。
Next, 20 to 150 nm (preferably 30 nm)
To 80 nm) and a semiconductor film 60 having an amorphous structure
03a is formed by a known method such as a plasma CVD method or a sputtering method. In this embodiment, an amorphous silicon film having a thickness of 54 nm is formed by the plasma CVD method. The semiconductor film having an amorphous structure includes an amorphous semiconductor film and a microcrystalline semiconductor film, and a compound semiconductor film having an amorphous structure such as an amorphous silicon germanium film may be applied.
Further, since the base film 6002 and the amorphous silicon film 6003a can be formed by the same film formation method, both may be formed continuously. In that case, after forming the base film,
By not exposing it to the air atmosphere once, it becomes possible to prevent the surface from being contaminated, and it is possible to reduce the variations in the characteristics of the TFT to be manufactured and the variations in the threshold voltage (FIG. 11).
(A)).

【0107】そして、公知の結晶化技術を使用して非晶
質シリコン膜6003aから結晶質シリコン膜6003
bを形成する。例えば、レーザー結晶化法や熱結晶化法
(固相成長法)を適用すれば良いが、ここでは、特開平
7−130652号公報で開示された技術に従って、触
媒元素を用いる結晶化法で結晶質シリコン膜6003b
を形成した。結晶化の工程に先立って、非晶質シリコン
膜の含有水素量にもよるが、400〜500℃で1時間
程度の熱処理を行ない、含有水素量を5atom%以下にし
てから結晶化させることが望ましい。非晶質シリコン膜
を結晶化させると原子の再配列が起こり緻密化するの
で、作製される結晶質シリコン膜の厚さは当初の非晶質
シリコン膜の厚さ(本実施例では54nm)よりも1〜
15%程度減少する(図11(B))。
Then, the amorphous silicon film 6003a to the crystalline silicon film 6003 are formed by using a known crystallization technique.
b is formed. For example, a laser crystallization method or a thermal crystallization method (solid-phase growth method) may be applied, but here, according to the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-130652, crystallization is performed by a crystallization method using a catalytic element. Quality silicon film 6003b
Was formed. Prior to the crystallization process, it may be possible to perform heat treatment at 400 to 500 ° C. for about 1 hour to reduce the content of hydrogen to 5 atom% or less before crystallization, depending on the content of hydrogen in the amorphous silicon film. desirable. When the amorphous silicon film is crystallized, atoms are rearranged and become dense, so that the thickness of the produced crystalline silicon film is smaller than the initial thickness of the amorphous silicon film (54 nm in this embodiment). Also 1
It is reduced by about 15% (FIG. 11 (B)).

【0108】そして、結晶質シリコン膜6003bを島
状にパターンニングして、島状半導体層6004〜60
07を形成する。その後、プラズマCVD法またはスパ
ッタ法により50〜150nmの厚さの酸化シリコン膜
によるマスク層6008を形成する。(図11
(C))。
Then, the crystalline silicon film 6003b is patterned into an island shape to form island-shaped semiconductor layers 6004-60.
07 is formed. After that, a mask layer 6008 made of a silicon oxide film with a thickness of 50 to 150 nm is formed by a plasma CVD method or a sputtering method. (Fig. 11
(C)).

【0109】そしてレジストマスク6009を設け、n
チャネル型TFTを形成することとなる島状半導体層6
005〜6007の全面に1×1016〜5×1017atom
s/cm3程度の濃度でp型を付与する不純物元素としてボ
ロン(B)を添加する。このボロン(B)の添加は、し
きい値電圧を制御する目的でなされる。ボロン(B)の
添加はイオンドープ法で実施しても良いし、非晶質シリ
コン膜を成膜するときに同時に添加しておくこともでき
る。ここでのボロン(B)添加は必ずしも必要ではない
(図11(D))。その後、レジストマスク6009を
除去する。
Then, a resist mask 6009 is provided, and n
Island-shaped semiconductor layer 6 for forming a channel type TFT
1 × 10 16 to 5 × 10 17 atom on the entire surface of 005 to 6007
Boron (B) is added as an impurity element imparting p-type at a concentration of about s / cm 3 . The boron (B) is added for the purpose of controlling the threshold voltage. The boron (B) may be added by an ion doping method, or may be added at the same time when the amorphous silicon film is formed. The addition of boron (B) here is not always necessary (FIG. 11 (D)). After that, the resist mask 6009 is removed.

【0110】駆動回路のnチャネル型TFTのLDD領
域を形成するために、n型を付与する不純物元素を島状
半導体層6010〜6012に選択的に添加する。その
ため、あらかじめレジストマスク6013〜6016を
形成する。n型を付与する不純物元素としては、リン
(P)や砒素(As)を用いれば良く、ここではリン
(P)を添加すべく、フォスフィン(PH3)を用いた
イオンドープ法を適用した。形成された不純物領域60
17、6018のリン(P)濃度は2×1016〜5×1
19atoms/cm3の範囲とすれば良い。本明細書中では、
ここで形成された不純物領域6017〜6019に含ま
れるn型を付与する不純物元素の濃度を(n -)と表
す。また、不純物領域6019は、画素部の保持容量を
形成するための半導体層であり、この領域にも同じ濃度
でリン(P)を添加する(図12(A))。その後、レ
ジストマスク6013〜6016を除去する。
LDD region of n-channel TFT of drive circuit
In order to form a region, an impurity element imparting n-type is formed into an island shape.
It is selectively added to the semiconductor layers 6010 to 6012. That
Therefore, the resist masks 6013 to 6016 are previously formed.
Form. As the impurity element imparting n-type, phosphorus
(P) or arsenic (As) may be used.
To add (P), phosphine (PH3) Was used
The ion doping method was applied. Impurity region 60 formed
The phosphorus (P) concentration of 17,6018 is 2 × 1016~ 5 x 1
019atoms / cm3The range should be In this specification,
Included in the impurity regions 6017 to 6019 formed here
The concentration of the impurity element imparting n-type -) And table
You Further, the impurity region 6019 functions as a storage capacitor of the pixel portion.
It is a semiconductor layer for forming, and the same concentration is
Phosphorus (P) is added at (FIG. 12 (A)). After that,
The ghost masks 6013 to 6016 are removed.

【0111】次に、マスク層6008をフッ酸などによ
り除去した後、図11(D)と図12(A)で添加した
不純物元素を活性化させる工程を行なう。活性化は、5
00〜600℃の窒素雰囲気中で1〜4時間の熱処理
や、レーザー活性化の方法により行なうことができる。
また、両者を併用しておこなっても良い。本実施例で
は、レーザー活性化の方法を用いる。レーザー光にはK
rFエキシマレーザー光(波長248nm)を用いる。
本実施例では、レーザー光の形状を線状ビームに加工し
て用い、発振周波数5〜50Hz、エネルギー密度10
0〜500mJ/cm2として線状ビームのオーバーラ
ップ割合を80〜98%で走査することによって島状半
導体層が形成された基板全面を処理する。尚、レーザー
光の照射条件には何ら限定される事項はなく適宣決定す
ることができる。
Next, after removing the mask layer 6008 with hydrofluoric acid or the like, a step of activating the impurity element added in FIGS. 11D and 12A is performed. Activation is 5
It can be carried out by a heat treatment for 1 to 4 hours in a nitrogen atmosphere at 00 to 600 ° C. or a laser activation method.
Alternatively, both may be used together. In this embodiment, a laser activation method is used. K for laser light
rF excimer laser light (wavelength 248 nm) is used.
In this embodiment, the shape of the laser beam is processed into a linear beam and used, and the oscillation frequency is 5 to 50 Hz and the energy density is 10
The entire surface of the substrate on which the island-shaped semiconductor layer is formed is processed by scanning the linear beam with an overlap ratio of 0 to 500 mJ / cm 2 at 80 to 98%. The conditions for irradiating the laser light are not limited in any way and can be appropriately determined.

【0112】そして、ゲート絶縁膜6020をプラズマ
CVD法またはスパッタ法を用いて10〜150nmの
厚さでシリコンを含む絶縁膜で形成する。例えば、12
0nmの厚さで酸化窒化シリコン膜を形成する。ゲート
絶縁膜には、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積
層構造として用いても良い。(図12(B))
Then, the gate insulating film 6020 is formed of an insulating film containing silicon with a thickness of 10 to 150 nm by a plasma CVD method or a sputtering method. For example, 12
A silicon oxynitride film is formed to a thickness of 0 nm. As the gate insulating film, another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a laminated structure. (Fig. 12 (B))

【0113】次に、ゲート電極を形成するために第1の
導電層を成膜する。この第1の導電層は単層で形成して
も良いが、必要に応じて二層あるいは三層といった積層
構造としても良い。本実施例では、導電性の窒化物金属
膜から成る導電層(A)6021と金属膜から成る導電
層(B)6022とを積層させた。導電層(B)602
2はタンタル(Ta)、チタン(Ti)、モリブデン
(Mo)、タングステン(W)から選ばれた元素、また
は前記元素を主成分とする合金か、前記元素を組み合わ
せた合金膜(代表的にはMo−W合金膜、Mo−Ta合
金膜)で形成すれば良く、導電層(A)6021は窒化
タンタル(TaN)、窒化タングステン(WN)、窒化
チタン(TiN)膜、窒化モリブデン(MoN)で形成
する。また、導電層(A)6021は代替材料として、
タングステンシリサイド、チタンシリサイド、モリブデ
ンシリサイドを適用しても良い。導電層(B)は低抵抗
化を図るために含有する不純物濃度を低減させると良
く、特に酸素濃度に関しては30ppm以下とすると良
い。例えば、タングステン(W)は酸素濃度を30pp
m以下とすることで20μΩcm以下の比抵抗値を実現
することができる。
Next, a first conductive layer is formed to form a gate electrode. The first conductive layer may be formed of a single layer, but may have a laminated structure of two layers or three layers as required. In this embodiment, a conductive layer (A) 6021 made of a conductive nitride metal film and a conductive layer (B) 6022 made of a metal film are laminated. Conductive layer (B) 602
2 is an element selected from tantalum (Ta), titanium (Ti), molybdenum (Mo), and tungsten (W), an alloy containing the above element as a main component, or an alloy film (typically, a combination of the above elements). The conductive layer (A) 6021 is made of tantalum nitride (TaN), tungsten nitride (WN), titanium nitride (TiN) film, or molybdenum nitride (MoN). Form. In addition, the conductive layer (A) 6021 is used as an alternative material.
Tungsten silicide, titanium silicide, or molybdenum silicide may be applied. The impurity concentration of the conductive layer (B) is preferably reduced in order to reduce the resistance, and particularly, the oxygen concentration is preferably 30 ppm or less. For example, tungsten (W) has an oxygen concentration of 30 pp
By setting it to be m or less, a specific resistance value of 20 μΩcm or less can be realized.

【0114】導電層(A)6021は10〜50nm
(好ましくは20〜30nm)とし、導電層(B)60
22は200〜400nm(好ましくは250〜350
nm)とすれば良い。本実施例では、導電層(A)60
21に30nmの厚さの窒化タンタル膜を、導電層
(B)6022には350nmのTa膜を用い、いずれ
もスパッタ法で形成した。このスパッタ法による成膜で
は、スパッタ用のガスのArに適量のXeやKrを加え
ておくと、形成する膜の内部応力を緩和して膜の剥離を
防止することができる。尚、図示しないが、導電層
(A)6021の下に2〜20nm程度の厚さでリン
(P)をドープしたシリコン膜を形成しておくことは有
効である。これにより、その上に形成される導電膜の密
着性向上と酸化防止を図ると同時に、導電層(A)また
は導電層(B)が微量に含有するアルカリ金属元素がゲ
ート絶縁膜6020に拡散するのを防ぐことができる
(図12(C))。
The conductive layer (A) 6021 has a thickness of 10 to 50 nm.
(Preferably 20 to 30 nm) and the conductive layer (B) 60
22 is 200 to 400 nm (preferably 250 to 350 nm)
nm). In this embodiment, the conductive layer (A) 60
21 was a tantalum nitride film having a thickness of 30 nm, and the conductive layer (B) 6022 was a Ta film having a thickness of 350 nm. In the film formation by this sputtering method, if an appropriate amount of Xe or Kr is added to Ar, which is a gas for sputtering, the internal stress of the film to be formed can be relaxed and the film can be prevented from peeling. Although not shown, it is effective to form a silicon film doped with phosphorus (P) in a thickness of about 2 to 20 nm under the conductive layer (A) 6021. Accordingly, the adhesion of the conductive film formed thereon is improved and the oxidation is prevented, and at the same time, a small amount of the alkali metal element contained in the conductive layer (A) or the conductive layer (B) diffuses into the gate insulating film 6020. Can be prevented (FIG. 12 (C)).

【0115】次に、レジストマスク6023〜6027
を形成し、導電層(A)6021と導電層(B)602
2とを一括でエッチングしてゲート電極6028〜60
31と容量配線6032を形成する。ゲート電極602
8〜6031と容量配線6032は、導電層(A)から
成る6028a〜6032aと、導電層(B)から成る
6028b〜6032bとが一体として形成されてい
る。この時、駆動回路を構成するTFTのゲート電極6
028〜6030は不純物領域6017、6018の一
部と、ゲート絶縁膜6020を介して重なるように形成
する(図12(D))。
Next, resist masks 6023-6027.
To form a conductive layer (A) 6021 and a conductive layer (B) 602
2 and are collectively etched to form gate electrodes 6028-60
31 and a capacitor wiring 6032 are formed. Gate electrode 602
8 to 6031 and the capacitor wiring 6032 are integrally formed of conductive layers (A) 6028a to 6032a and conductive layers (B) 6028b to 6032b. At this time, the gate electrode 6 of the TFT that constitutes the drive circuit
028 to 6030 are formed so as to overlap with part of the impurity regions 6017 and 6018 with the gate insulating film 6020 interposed therebetween (FIG. 12D).

【0116】次いで、駆動回路のpチャネル型TFTの
ソース領域およびドレイン領域を形成するために、p型
を付与する不純物元素を添加する工程を行なう。ここで
は、ゲート電極6028をマスクとして、自己整合的に
不純物領域を形成する。このとき、nチャネル型TFT
が形成される領域はレジストマスク6033で被覆して
おく。そして、ジボラン(B26)を用いたイオンドー
プ法で不純物領域6034を形成した。この領域のボロ
ン(B)濃度は3×1020〜3×1021atoms/cm3とな
るようにする。その後、レジストマスク6033を除去
する。本明細書中では、ここで形成された不純物領域6
034に含まれるp型を付与する不純物元素の濃度を
(p++)と表す(図13(A))。
Then, in order to form the source region and the drain region of the p-channel TFT of the driving circuit, a step of adding an impurity element imparting p-type is performed. Here, the impurity region is formed in a self-aligned manner using the gate electrode 6028 as a mask. At this time, the n-channel TFT
The region in which is formed is covered with a resist mask 6033. Then, the impurity region 6034 was formed by an ion doping method using diborane (B 2 H 6 ). The boron (B) concentration in this region is set to 3 × 10 20 to 3 × 10 21 atoms / cm 3 . After that, the resist mask 6033 is removed. In this specification, the impurity region 6 formed here is used.
The concentration of the impurity element imparting p-type contained in 034 is represented by (p ++ ) (FIG. 13A).

【0117】次に、nチャネル型TFTにおいて、ソー
ス領域またはドレイン領域として機能する不純物領域の
形成を行った。レジストのマスク6035〜6037を
形成し、n型を付与する不純物元素を添加して不純物領
域6039〜6042を形成した。これは、フォスフィ
ン(PH3)を用いたイオンドープ法で行ない、この領
域のリン(P)濃度を1×1020〜1×1021atoms/c
m3とした。本明細書中では、ここで形成された不純物領
域6039〜6042に含まれるn型を付与する不純物
元素の濃度を(n+)と表す(図13(B))。
Next, in the n-channel TFT, an impurity region functioning as a source region or a drain region was formed. Resist masks 6035 to 6037 were formed, and an impurity element imparting n-type was added to form impurity regions 6039 to 6042. This is performed by an ion doping method using phosphine (PH 3 ), and the phosphorus (P) concentration in this region is 1 × 10 20 to 1 × 10 21 atoms / c.
m 3 In this specification, the concentration of the impurity element imparting n-type contained in the impurity regions 6039 to 6042 formed here is expressed as (n + ) (FIG. 13B).

【0118】不純物領域6039〜6042には、既に
前工程で添加されたリン(P)またはボロン(B)が含
まれているが、それに比して十分に高い濃度でリン
(P)が添加されるので、前工程で添加されたリン
(P)またはボロン(B)の影響は考えなくても良い。
また、不純物領域6038に添加されたリン(P)濃度
は図13(A)で添加されたボロン(B)濃度の1/2
〜1/3なのでp型の導電性が確保され、TFTの特性
に何ら影響を与えることはなかった。
The impurity regions 6039 to 6042 already contain phosphorus (P) or boron (B) added in the previous step, but phosphorus (P) is added at a sufficiently higher concentration than that. Therefore, it is not necessary to consider the influence of phosphorus (P) or boron (B) added in the previous step.
The concentration of phosphorus (P) added to the impurity region 6038 is 1/2 of the concentration of boron (B) added in FIG.
Since it is ⅓, p-type conductivity is ensured and the characteristics of the TFT are not affected at all.

【0119】レジストマスク6035〜6037を除去
した後、画素部のnチャネル型TFTのLDD領域を形
成するためのn型を付与する不純物添加の工程を行っ
た。ここではゲート電極6031をマスクとして自己整
合的にn型を付与する不純物元素をイオンドープ法で添
加した。添加するリン(P)の濃度は1×1016〜5×
1018atoms/cm3であり、図12(A)および図13
(A)と図13(B)で添加する不純物元素の濃度より
も低濃度で添加することで、実質的には不純物領域60
43、6044のみが形成される。本明細書中では、こ
の不純物領域6043、6044に含まれるn型を付与
する不純物元素の濃度を(n--)と表す。(図13
(C))
After removing the resist masks 6035 to 6037, an impurity adding step for imparting n-type for forming the LDD region of the n-channel TFT in the pixel portion was performed. Here, an impurity element imparting n-type in a self-aligning manner is added by an ion doping method using the gate electrode 6031 as a mask. The concentration of phosphorus (P) added is 1 × 10 16 to 5 ×
10 18 atoms / cm 3, which is shown in FIGS.
By adding at a concentration lower than that of the impurity element added in FIGS. 13A and 13B, the impurity region 60 is substantially added.
Only 43 and 6044 are formed. In this specification, the concentration of the impurity element imparting n-type contained in the impurity regions 6043 and 6044 is represented by (n ). (Fig. 13
(C))

【0120】その後、それぞれの濃度で添加されたn型
またはp型を付与する不純物元素を活性化するために熱
処理工程を行なう。この工程はファーネスアニール法、
レーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール
法(RTA法)で行なうことができる。ここではファー
ネスアニール法で活性化工程を行った。熱処理は酸素濃
度が1ppm以下、好ましくは0.1ppm以下の窒素
雰囲気中で400〜800℃、代表的には500〜60
0℃で行なうものであり、本実施例では500℃で4時
間の熱処理を行った。また、基板6001に石英基板の
ような耐熱性を有するものを使用した場合には、800
℃で1時間の熱処理としても良く、不純物元素の活性化
と、該不純物元素が添加された不純物領域とチャネル形
成領域との接合を良好に形成することができる。なお、
上述のゲート電極であるTaのピーリングを防止するた
めに層間膜を形成した場合には、この効果は得られない
場合がある。
Then, a heat treatment step is performed to activate the impurity element imparting n-type or p-type added at each concentration. This step is a furnace annealing method,
It can be performed by a laser annealing method or a rapid thermal annealing method (RTA method). Here, the activation process was performed by the furnace annealing method. The heat treatment is performed at 400 to 800 ° C. in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 1 ppm or less, preferably 0.1 ppm or less, typically 500 to 60.
The heat treatment is performed at 0 ° C., and in this embodiment, the heat treatment is performed at 500 ° C. for 4 hours. Further, when a substrate having heat resistance such as a quartz substrate is used as the substrate 6001, 800
The heat treatment may be performed at 1 ° C. for 1 hour, so that the activation of the impurity element and the junction between the impurity region to which the impurity element is added and the channel formation region can be favorably formed. In addition,
This effect may not be obtained when an interlayer film is formed to prevent peeling of Ta that is the gate electrode.

【0121】この熱処理において、ゲート電極6028
〜6031と容量配線6032を形成する金属膜602
8b〜6032bは、表面から5〜80nmの厚さで導
電層(C)6028c〜6032cが形成される。例え
ば、導電層(B)6028b〜6032bがタングステ
ン(W)の場合には窒化タングステン(WN)が形成さ
れ、タンタル(Ta)の場合には窒化タンタル(Ta
N)を形成することができる。また、導電層(C)60
28c〜6032cは、窒素またはアンモニアなどを用
いた窒素を含むプラズマ雰囲気にゲート電極6028〜
6031及び容量配線6032を晒しても同様に形成す
ることができる。さらに、3〜100%の水素を含む雰
囲気中で、300〜450℃で1〜12時間の熱処理を
行ない、島状半導体層を水素化する工程を行った。この
工程は熱的に励起された水素により半導体層のダングリ
ングボンドを終端する工程である。水素化の他の手段と
して、プラズマ水素化(プラズマにより励起された水
素、プラズマ化した水素を用いる)をおこなっても良
い。
In this heat treatment, the gate electrode 6028
To 6031 and the metal film 602 forming the capacitor wiring 6032.
8b to 6032b, conductive layers (C) 6028c to 6032c are formed with a thickness of 5 to 80 nm from the surface. For example, when the conductive layers (B) 6028b to 6032b are tungsten (W), tungsten nitride (WN) is formed, and when the conductive layers (B) 6028b to 6032b are tantalum (Ta), tantalum nitride (Ta) is formed.
N) can be formed. In addition, the conductive layer (C) 60
28c to 6032c are gate electrodes 6028 to 6028 in a plasma atmosphere containing nitrogen using nitrogen or ammonia.
The same can be formed by exposing 6031 and the capacitor wiring 6032. Further, heat treatment was performed at 300 to 450 ° C. for 1 to 12 hours in an atmosphere containing hydrogen of 3 to 100% to perform a step of hydrogenating the island-shaped semiconductor layer. This step is a step of terminating the dangling bond of the semiconductor layer by thermally excited hydrogen. As another means of hydrogenation, plasma hydrogenation (using hydrogen excited by plasma or hydrogen plasmatized) may be performed.

【0122】島状半導体層が、非晶質シリコン膜から触
媒元素を用いる結晶化の方法で作製された場合、島状半
導体層中には微量の触媒元素が残留した。勿論、そのよ
うな状態でもTFTを完成させることが可能であるが、
残留する触媒元素を少なくともチャネル形成領域から除
去する方がより好ましかった。この触媒元素を除去する
手段の一つにリン(P)によるゲッタリング作用を利用
する手段があった。ゲッタリングに必要なリン(P)の
濃度は図13(B)で形成した不純物領域(n +)と同
程度であり、ここで実施される活性化工程の熱処理によ
り、nチャネル型TFTおよびpチャネル型TFTのチ
ャネル形成領域から触媒元素をゲッタリングすることが
できた(図13(D))。
The island-shaped semiconductor layer is touched by the amorphous silicon film.
When made by the crystallization method using a medium element, the island-shaped half
A trace amount of catalytic element remained in the conductor layer. Of course
It is possible to complete the TFT even in such a state,
Remove residual catalytic elements from at least the channel formation region.
It was better to leave. Remove this catalytic element
Utilizing the gettering action by phosphorus (P) as one of the means
There was a way to do it. Of phosphorus (P) necessary for gettering
The concentration is the impurity region (n +Same as
The heat treatment of the activation process performed here is
Of the n-channel TFT and p-channel TFT
It is possible to getter the catalytic element from the channel formation region.
It was possible (FIG. 13 (D)).

【0123】活性化および水素化の工程が終了したら、
ゲート配線(走査線)とする第2の導電膜を形成する。
この第2の導電膜は低抵抗材料であるアルミニウム(A
l)や銅(Cu)を主成分とする導電層(D)と、にチ
タン(Ti)やタンタル(Ta)、タングステン
(W)、モリブデン(Mo)から成る導電層(E)とで
形成すると良い。本実施例では、チタン(Ti)を0.
1〜2重量%含むアルミニウム(Al)膜を導電層
(D)6045とし、チタン(Ti)膜を導電層(E)
6046として形成した。導電層(D)6045は20
0〜400nm(好ましくは250〜350nm)とす
れば良く、導電層(E)6046は50〜200(好ま
しくは100〜150nm)で形成すれば良い。(図1
4(A))
When the activation and hydrogenation steps are complete,
A second conductive film to be a gate wiring (scanning line) is formed.
This second conductive film is made of aluminum (A
l) or a conductive layer (D) containing copper (Cu) as a main component and a conductive layer (E) made of titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), or molybdenum (Mo). good. In the present embodiment, titanium (Ti) is added to 0.
An aluminum (Al) film containing 1 to 2% by weight is used as the conductive layer (D) 6045, and a titanium (Ti) film is used as the conductive layer (E).
Formed as 6046. The conductive layer (D) 6045 is 20
The thickness may be 0 to 400 nm (preferably 250 to 350 nm), and the conductive layer (E) 6046 may be 50 to 200 (preferably 100 to 150 nm). (Fig. 1
4 (A))

【0124】そして、ゲート電極に接続するゲート配線
(走査線)を形成するために導電層(E)6046と導
電層(D)6045とをエッチング処理して、ゲート配
線(走査線)6047、6048と容量配線6049を
形成した。エッチング処理は最初にSiCl4とCl2
BCl3との混合ガスを用いたドライエッチング法で導
電層(E)の表面から導電層(D)の途中まで除去し、
その後リン酸系のエッチング溶液によるウエットエッチ
ングで導電層(D)を除去することにより、下地との選
択加工性を保ってゲート配線(走査線)を形成すること
ができた。
Then, the conductive layer (E) 6046 and the conductive layer (D) 6045 are etched to form gate wirings (scanning lines) connected to the gate electrodes, and gate wirings (scanning lines) 6047 and 6048. A capacitor wiring 6049 was formed. The etching treatment is first performed by dry etching using a mixed gas of SiCl 4 , Cl 2 and BCl 3 to remove from the surface of the conductive layer (E) to the middle of the conductive layer (D).
After that, the conductive layer (D) was removed by wet etching with a phosphoric acid-based etching solution, whereby the gate wiring (scanning line) could be formed while maintaining the selective workability with the base.

【0125】第1の層間絶縁膜6050は500〜15
00nmの厚さで酸化シリコン膜または酸化窒化シリコ
ン膜で形成され、その後、それぞれの島状半導体層に形
成されたソース領域またはドレイン領域に達するコンタ
クトホールを形成し、ソース配線(信号線)6051〜
6054と、ドレイン配線6055〜6058を形成す
る。図示していないが、本実施例ではこの電極を、Ti
膜を100nm、Tiを含むアルミニウム膜300n
m、Ti膜150nmをスパッタ法で連続して形成した
3層構造の積層膜とした。
The first interlayer insulating film 6050 is 500 to 15
A contact hole reaching a source region or a drain region formed in each island-shaped semiconductor layer is formed with a silicon oxide film or a silicon oxynitride film with a thickness of 00 nm, and source wiring (signal line) 6051 to
6054 and drain wirings 6055 to 6058 are formed. Although not shown, in this embodiment, this electrode is
The film is 100 nm, and the aluminum film containing Ti is 300 n
m and a Ti film having a thickness of 150 nm were continuously formed by a sputtering method to form a laminated film having a three-layer structure.

【0126】次に、パッシベーション膜6059とし
て、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、または窒化酸化
シリコン膜を50〜500nm(代表的には100〜3
00nm)の厚さで形成する。この状態で水素化処理を
行なうとTFTの特性向上に対して好ましい結果が得ら
れた。例えば、3〜100%の水素を含む雰囲気中で、
300〜450℃で1〜12時間の熱処理を行なうと良
く、あるいはプラズマ水素化法を用いても同様の効果が
得られた。なお、ここで後に画素電極とドレイン配線を
接続するためのコンタクトホールを形成する位置におい
て、パッシベーション膜6059に開口部を形成してお
いても良い。(図14(C))
Next, as the passivation film 6059, a silicon nitride film, a silicon oxide film, or a silicon oxynitride film is 50 to 500 nm (typically 100 to 3).
It is formed with a thickness of 00 nm). When hydrogenation treatment is performed in this state, favorable results are obtained for improving the characteristics of the TFT. For example, in an atmosphere containing 3 to 100% hydrogen,
The same effect can be obtained by performing heat treatment at 300 to 450 ° C. for 1 to 12 hours, or by using the plasma hydrogenation method. Note that an opening may be formed in the passivation film 6059 at a position where a contact hole for connecting the pixel electrode and the drain wiring will be formed later. (Figure 14 (C))

【0127】その後、有機樹脂からなる第2の層間絶縁
膜6060を1.0〜1.5μmの厚さに形成する。有
機樹脂としては、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、
ポリイミドアミド、BCB(ベンゾシクロブテン)等を
使用することができる。ここでは、基板に塗布後、熱重
合するタイプのポリイミドを用い、300℃で焼成して
形成した。そして、第2の層間絶縁膜6060にドレイ
ン配線6058に達するコンタクトホールを形成し、画
素電極6061、6062を形成する。画素電極は、透
過型液晶表示装置とする場合には透明導電膜を用いれば
良く、反射型の液晶表示装置とする場合には金属膜を用
いれば良い。本実施例では透過型の液晶表示装置とする
ために、酸化インジウム・スズ(ITO)膜を100n
mの厚さにスパッタ法で形成した。(図15)
Then, a second interlayer insulating film 6060 made of organic resin is formed to a thickness of 1.0 to 1.5 μm. As the organic resin, polyimide, acrylic, polyamide,
Polyimide amide, BCB (benzocyclobutene), etc. can be used. Here, a polyimide of a type that is thermally polymerized after being applied to the substrate is used, and is baked at 300 ° C. Then, a contact hole reaching the drain wiring 6058 is formed in the second interlayer insulating film 6060, and pixel electrodes 6061 and 6062 are formed. For the pixel electrode, a transparent conductive film may be used in the case of a transmissive liquid crystal display device, and a metal film may be used in the case of a reflective liquid crystal display device. In this embodiment, an indium tin oxide (ITO) film having a thickness of 100 n is used to form a transmissive liquid crystal display device.
The thickness of m was formed by the sputtering method. (Figure 15)

【0128】こうして同一基板上に、駆動回路のTFT
と画素部の画素TFTとを有した基板を完成させること
ができた。駆動回路にはpチャネル型TFT6101、
第1のnチャネル型TFT6102、第2のnチャネル
型TFT6103、画素部には画素TFT6104、保
持容量6105が形成した。本明細書では便宜上このよ
うな基板をアクティブマトリクス基板と呼ぶ。
Thus, the TFT of the drive circuit is formed on the same substrate.
It was possible to complete the substrate having the pixel TFT of the pixel portion. The drive circuit includes a p-channel TFT 6101,
A first n-channel TFT 6102, a second n-channel TFT 6103, a pixel TFT 6104 and a storage capacitor 6105 were formed in the pixel portion. In this specification, such a substrate is referred to as an active matrix substrate for convenience.

【0129】駆動回路のpチャネル型TFT6101に
は、島状半導体層6004にチャネル形成領域610
6、ソース領域6107a、6107b、ドレイン領域
6108a、6108bを有している。第1のnチャネ
ル型TFT6102には、島状半導体層6005にチャ
ネル形成領域6109、ゲート電極6029と重なるL
DD領域6110(以降、このようなLDD領域をLov
と記す)、ソース領域6111、ドレイン領域6112
を有している。このLov領域のチャネル長方向の長さは
0.5〜3.0μm、好ましくは1.0〜1.5μmと
した。第2のnチャネル型TFT6103には、島状半
導体層6006にチャネル形成領域6113、LDD領
域6114、6115、ソース領域6116、ドレイン
領域6117を有している。このLDD領域はLov領域
とゲート電極6030と重ならないLDD領域(以降、
このようなLDD領域をLoffと記す)とが形成され、
このLoff領域のチャネル長方向の長さは0.3〜2.
0μm、好ましくは0.5〜1.5μmである。画素T
FT6104には、島状半導体層6007にチャネル形
成領域6118、6119、Loff領域6120〜61
23、ソースまたはドレイン領域6124〜6126を
有している。Loff領域のチャネル長方向の長さは0.
5〜3.0μm、好ましくは1.5〜2.5μmであ
る。さらに、容量配線6032、6049と、ゲート絶
縁膜と同じ材料から成る絶縁膜と、画素TFT6104
のドレイン領域6126に接続し、n型を付与する不純
物元素が添加された半導体層6127とから保持容量6
105が形成されている。図15では画素TFT610
4をダブルゲート構造としたが、シングルゲート構造で
も良いし、複数のゲート電極を設けたマルチゲート構造
としても差し支えない。
In the p-channel TFT 6101 of the driver circuit, the channel formation region 610 is formed in the island-shaped semiconductor layer 6004.
6, source regions 6107a and 6107b, and drain regions 6108a and 6108b. In the first n-channel TFT 6102, an L-shaped semiconductor layer 6005 is overlapped with a channel formation region 6109 and a gate electrode 6029.
DD area 6110 (hereinafter, such an LDD area is referred to as Lov
Source region 6111 and drain region 6112.
have. The length of the Lov region in the channel length direction is 0.5 to 3.0 μm, preferably 1.0 to 1.5 μm. The second n-channel TFT 6103 has a channel formation region 6113, LDD regions 6114 and 6115, a source region 6116, and a drain region 6117 in the island-shaped semiconductor layer 6006. This LDD region is an LDD region that does not overlap the Lov region and the gate electrode 6030 (hereinafter,
Such an LDD region is referred to as Loff) is formed,
The length of this Loff region in the channel length direction is 0.3 to 2.
It is 0 μm, preferably 0.5 to 1.5 μm. Pixel T
In the FT 6104, the island-shaped semiconductor layer 6007 has channel formation regions 6118 and 6119 and Loff regions 6120 to 61.
23, and has source or drain regions 6124 to 6126. The length of the Loff region in the channel length direction is 0.
It is 5 to 3.0 μm, preferably 1.5 to 2.5 μm. Furthermore, the capacitor wirings 6032 and 6049, an insulating film made of the same material as the gate insulating film, and the pixel TFT 6104.
Of the semiconductor layer 6127 to which the impurity element imparting n-type is added and which is connected to the drain region 6126 of the storage capacitor 6
105 is formed. In FIG. 15, the pixel TFT 610 is shown.
Although 4 has a double gate structure, it may have a single gate structure or a multi-gate structure provided with a plurality of gate electrodes.

【0130】以上のように本実施例では、画素TFTお
よび駆動回路が要求する仕様に応じて各回路を構成する
TFTの構造を最適化し、画像表示装置の動作性能と信
頼性を向上させることを可能とすることができる。
As described above, in this embodiment, the structure of the TFTs forming each circuit is optimized in accordance with the specifications required by the pixel TFT and the driving circuit, and the operation performance and reliability of the image display device are improved. It can be possible.

【0131】次に、上記の工程によって作製されたアク
ティブマトリクス基板をもとに、透過型液晶表示装置を
作製する工程を説明する。
Next, a process of manufacturing a transmissive liquid crystal display device based on the active matrix substrate manufactured by the above process will be described.

【0132】図16を参照する。図15の状態のアクテ
ィブマトリクス基板に配向膜6201を形成する。本実
施例では、配向膜6201にはポリイミドを用いた。次
に、対向基板を用意する。対向基板は、ガラス基板62
02、遮光膜6203、透明導電膜からなる対向電極6
204、配向膜6205とで構成される。
Referring to FIG. An alignment film 6201 is formed on the active matrix substrate in the state of FIG. In this embodiment, polyimide is used for the alignment film 6201. Next, a counter substrate is prepared. The counter substrate is a glass substrate 62.
02, a light-shielding film 6203, and a counter electrode 6 made of a transparent conductive film.
And an alignment film 6205.

【0133】なお、本実施例では、配向膜には、液晶分
子が基板に対して平行に配向するようなポリイミド膜を
用いた。なお、配向膜形成後、ラビング処理を施すこと
により、液晶分子がある一定のプレチルト角を持って平
行配向するようにした。
In this embodiment, the alignment film is a polyimide film in which liquid crystal molecules are aligned in parallel with the substrate. After forming the alignment film, a rubbing process was performed so that the liquid crystal molecules were aligned in parallel with a certain pretilt angle.

【0134】次に、上記の工程を経たアクティブマトリ
クス基板と対向基板とを公知のセル組み工程によって、
シール材やスペーサ(共に図示せず)などを介して貼り
合わせる。その後、両基板の間に液晶6206を注入
し、封止剤(図示せず)によって完全に封止する。よっ
て、図16に示すような透過型液晶表示装置が完成す
る。
Next, the active matrix substrate and the counter substrate which have undergone the above steps are subjected to a known cell assembling step.
It attaches via a sealing material and a spacer (both are not shown). After that, liquid crystal 6206 is injected between both substrates and completely sealed with a sealant (not shown). Thus, the transmissive liquid crystal display device as shown in FIG. 16 is completed.

【0135】なお、上記の行程により作製されるTFT
はトップゲート構造であるが、ボトムゲート構造のTF
Tやその他の構造のTFTに対しても本発明は適用され
得る。
A TFT manufactured by the above process
Is a top gate structure, but a bottom gate structure TF
The present invention can be applied to TFTs having T and other structures.

【0136】また、上記の行程により作製される画像表
示装置は透過型の液晶表示装置であるが、本発明は反射
型の液晶表示装置に対しても適用され得る。
Although the image display device produced by the above process is a transmissive liquid crystal display device, the present invention can be applied to a reflective liquid crystal display device.

【0137】本実施例の構成は、実施例1〜4と自由に
組み合わせて実施することが可能である。
The structure of this embodiment can be implemented by freely combining with Embodiments 1 to 4.

【0138】(実施例6)本発明の画像表示装置を用い
た電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴ
ーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレ
イ)、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオ
ーディオ、オーディオコンポ等)、ノート型パーソナル
コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコ
ンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍
等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはデジ
タルビデオディスク(DVD)等の記録媒体を再生し、
その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)など
が挙げられる。それら電子機器の具体例を図17に示
す。
(Embodiment 6) As electronic equipment using the image display device of the present invention, a video camera, a digital camera, a goggle type display (head mount display), a navigation system, a sound reproducing device (car audio system, audio component system, etc.) , Notebook personal computers, game machines, personal digital assistants (mobile computers, mobile phones, portable game machines, electronic books, etc.), image reproducing devices equipped with recording media (specifically, digital video discs (DVDs), etc.) Play the recording medium,
A device including a display capable of displaying the image) and the like. Specific examples of these electronic devices are shown in FIGS.

【0139】図17(A)は液晶表示装置であり、筐体
2001、支持台2002、表示部2003、スピーカ
ー部2004、ビデオ入力端子2005等を含む。本発
明の画像表示装置は表示部2003に用いることができ
る。なお、液晶表示装置は、パソコン用、TV放送受信
用、広告表示用などの全ての情報表示用表示装置が含ま
れる。
FIG. 17A shows a liquid crystal display device, which includes a housing 2001, a supporting base 2002, a display portion 2003, a speaker portion 2004, a video input terminal 2005, and the like. The image display device of the present invention can be used for the display portion 2003. The liquid crystal display device includes all information display devices for personal computers, TV broadcast reception, advertisement display, and the like.

【0140】図17(B)はデジタルスチルカメラであ
り、本体2101、表示部2102、受像部2103、
操作キー2104、外部接続ポート2105、シャッタ
ー2106等を含む。本発明の画像表示装置は表示部2
102に用いることができる。
FIG. 17B shows a digital still camera including a main body 2101, a display portion 2102, an image receiving portion 2103,
An operation key 2104, an external connection port 2105, a shutter 2106 and the like are included. The image display device of the present invention includes the display unit 2.
102 can be used.

【0141】図17(C)はノート型パーソナルコンピ
ュータであり、本体2201、筐体2202、表示部2
203、キーボード2204、外部接続ポート220
5、ポインティングマウス2206等を含む。本発明の
画像表示装置は表示部2203に用いることができる。
FIG. 17C shows a laptop personal computer, which has a main body 2201, a housing 2202, and a display section 2.
203, keyboard 2204, external connection port 220
5, including a pointing mouse 2206 and the like. The image display device of the present invention can be used for the display portion 2203.

【0142】図17(D)はモバイルコンピュータであ
り、本体2301、表示部2302、スイッチ230
3、操作キー2304、赤外線ポート2305等を含
む。本発明の画像表示装置は表示部2302に用いるこ
とができる。
FIG. 17D shows a mobile computer, which has a main body 2301, a display portion 2302, and a switch 230.
3, an operation key 2304, an infrared port 2305 and the like. The image display device of the present invention can be used for the display portion 2302.

【0143】図17(E)は記録媒体を備えた携帯型の
画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本
体2401、筐体2402、表示部A2403、表示部
B2404、記録媒体(DVD等)読み込み部240
5、操作キー2406、スピーカー部2407等を含
む。表示部A2403は主として画像情報を表示し、表
示部B2404は主として文字情報を表示するが、本発
明の画像表示装置はこれら表示部A、B2403、24
04に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画
像再生装置には家庭用ゲーム機器なども含まれる。
FIG. 17E shows a portable image reproducing device (specifically, a DVD reproducing device) provided with a recording medium, which includes a main body 2401, a casing 2402, a display portion A2403, a display portion B2404, a recording medium ( DVD, etc.) reading unit 240
5, an operation key 2406, a speaker portion 2407, and the like. The display unit A2403 mainly displays image information, and the display unit B2404 mainly displays character information. However, the image display device of the present invention has these display units A, B2403, and 24.
04 can be used. Note that the image reproducing device provided with the recording medium includes a home game machine and the like.

【0144】図17(F)はゴーグル型ディスプレイ
(ヘッドマウントディスプレイ)であり、本体250
1、表示部2502、アーム部2503を含む。本発明
の画像表示装置は表示部2502に用いることができ
る。
FIG. 17F shows a goggle type display (head mounted display), which is a main body 250.
1, a display portion 2502 and an arm portion 2503 are included. The image display device of the present invention can be used for the display portion 2502.

【0145】図17(G)はビデオカメラであり、本体
2601、表示部2602、筐体2603、外部接続ポ
ート2604、リモコン受信部2605、受像部260
6、バッテリー2607、音声入力部2608、操作キ
ー2609等を含む。本発明の画像表示装置は表示部2
602に用いることができる。
FIG. 17G shows a video camera, which includes a main body 2601, a display portion 2602, a housing 2603, an external connection port 2604, a remote control receiving portion 2605, and an image receiving portion 260.
6, a battery 2607, a voice input unit 2608, operation keys 2609, and the like. The image display device of the present invention includes the display unit 2.
602 can be used.

【0146】ここで図17(H)は携帯電話であり、本
体2701、筐体2702、表示部2703、音声入力
部2704、音声出力部2705、操作キー2706、
外部接続ポート2707、アンテナ2708等を含む。
本発明の画像表示装置は表示部2703に用いることが
できる。
[0146] Here, FIG. 17H shows a mobile phone, which includes a main body 2701, a housing 2702, a display portion 2703, a voice input portion 2704, a voice output portion 2705, operation keys 2706,
An external connection port 2707, an antenna 2708, and the like are included.
The image display device of the present invention can be used for the display portion 2703.

【0147】次に、本発明の画像表示装置を用いたプロ
ジェクター(リア型またはフロント型)について説明す
る。それらの一例を図18及び図19に示す。
Next, a projector (rear type or front type) using the image display device of the present invention will be described. Examples of these are shown in FIGS. 18 and 19.

【0148】図18(A)はフロント型プロジェクター
であり、光源光学系及び表示部7601、スクリーン7
602で構成される。本発明は表示部7601に適用す
ることができる。
FIG. 18A shows a front type projector, which includes a light source optical system, a display portion 7601, and a screen 7.
602. The present invention can be applied to the display portion 7601.

【0149】図18(B)はリア型プロジェクターであ
り、本体7701、光源光学系及び表示部7702、ミ
ラー7703、ミラー7704、スクリーン7705で
構成される。本発明は表示部7702に適用することが
できる。
FIG. 18B shows a rear type projector, which is composed of a main body 7701, a light source optical system and display portion 7702, a mirror 7703, a mirror 7704, and a screen 7705. The present invention can be applied to the display portion 7702.

【0150】なお、図18(C)は、図18(A)及び
図18(B)中における光源光学系及び表示部760
1、7702の構造の一例を示した図である。光源光学
系及び表示部7601、7702は、光源光学系780
1、ミラー7802、7804〜7806、ダイクロイ
ックミラー7803、光学系7807、表示部780
8、位相差板7809、投射光学系7810で構成され
る。投射光学系7810は、投射レンズを備えた複数の
光学レンズで構成される。この構成は、表示部7808
を三つ使用しているため三板式と呼ばれている。また、
図18(C)中において矢印で示した光路に実施者が適
宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相
差を調節するためのフィルム、IRフィルム等を設けて
もよい。
Note that FIG. 18C shows the light source optical system and the display section 760 in FIGS. 18A and 18B.
It is the figure which showed an example of the structure of 1,7702. The light source optical system and display portions 7601 and 7702 are the light source optical system 780.
1, mirrors 7802, 7804 to 7806, dichroic mirror 7803, optical system 7807, display unit 780
8, a retardation plate 7809, and a projection optical system 7810. The projection optical system 7810 is composed of a plurality of optical lenses including a projection lens. This configuration has a display portion 7808.
It is called three-plate type because it uses three. Also,
The practitioner may appropriately provide an optical lens, a film having a polarization function, a film for adjusting the phase difference, an IR film, or the like in the optical path indicated by the arrow in FIG. 18C.

【0151】また、図18(D)は、図18(C)中に
おける光源光学系7801の構造の一例を示した図であ
る。本実施例では、光源光学系7801は、リフレクタ
ー7811、光源7812、レンズアレイ7813、7
814、偏光変換素子7815、集光レンズ7816で
構成される。なお、図18(D)に示した光源光学系は
一例であって、この構成に限定されない。例えば、光源
光学系に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有す
るフィルムや、位相差を調節するフィルム、IRフィル
ム等を設けてもよい。
Further, FIG. 18D is a diagram showing an example of the structure of the light source optical system 7801 in FIG. 18C. In this embodiment, the light source optical system 7801 includes a reflector 7811, a light source 7812, lens arrays 7813, 7
814, a polarization conversion element 7815, and a condenser lens 7816. Note that the light source optical system shown in FIG. 18D is an example, and the present invention is not limited to this configuration. For example, the practitioner may appropriately provide an optical lens, a film having a polarization function, a film for adjusting a phase difference, an IR film, or the like in the light source optical system.

【0152】図18(C)は三板式の例を示したが、図
19(A)は単板式の一例を示した図である。図19
(A)に示した光源光学系及び表示部は、光源光学系7
901、表示部7902、投射光学系7903、位相差
板7904で構成される。投射光学系7903は、投射
レンズを備えた複数の光学レンズで構成される。図19
(A)に示した光源光学系及び表示部は図18(A)及
び図18(B)中における光源光学系及び表示部760
1、7702に適用できる。また、光源光学系7901
は図18(D)に示した光源光学系を用いればよい。な
お、表示部7902にはカラーフィルター(図示しな
い)が設けられており、表示映像をカラー化している。
FIG. 18C shows an example of a three-plate type, whereas FIG. 19A shows an example of a single-plate type. FIG. 19
The light source optical system and the display unit shown in FIG.
901, a display portion 7902, a projection optical system 7903, and a retardation plate 7904. The projection optical system 7903 is composed of a plurality of optical lenses including a projection lens. FIG. 19
The light source optical system and the display unit shown in FIG. 18A are the light source optical system and the display unit 760 in FIGS. 18A and 18B.
1,7702 can be applied. Also, the light source optical system 7901
May use the light source optical system shown in FIG. Note that the display portion 7902 is provided with a color filter (not shown) so that a display image is colorized.

【0153】また、図19(B)に示した光源光学系及
び表示部は、図19(A)の応用例であり、カラーフィ
ルターを設ける代わりに、RGBの回転カラーフィルタ
ー円板7905を用いて表示映像をカラー化している。
図19(B)に示した光源光学系及び表示部は図18
(A)及び図18(B)中における光源光学系及び表示
部7601、7702に適用できる。
The light source optical system and display section shown in FIG. 19B is an application example of FIG. 19A. Instead of providing a color filter, an RGB rotating color filter disk 7905 is used. The display image is colorized.
The light source optical system and the display unit shown in FIG.
It can be applied to the light source optical system and the display portions 7601 and 7702 in (A) and FIG.

【0154】また、図19(C)に示した光源光学系及
び表示部は、カラーフィルターレス単板式と呼ばれてい
る。この方式は、表示部7916にマイクロレンズアレ
イ7915を設け、ダイクロイックミラー(緑)791
2、ダイクロイックミラー(赤)7913、ダイクロイ
ックミラー(青)7914を用いて表示映像をカラー化
している。投射光学系7917は、投射レンズを備えた
複数の光学レンズで構成される。図19(C)に示した
光源光学系及び表示部は図18(A)及び図18(B)
中における光源光学系及び表示部7601、7702に
適用できる。また、光源光学系7911としては、光源
の他に結合レンズ、コリメータレンズを用いた光学系を
用いればよい。
The light source optical system and the display section shown in FIG. 19C are called a color filterless single plate type. In this system, a microlens array 7915 is provided on the display portion 7916, and a dichroic mirror (green) 791
2. A display image is colorized using a dichroic mirror (red) 7913 and a dichroic mirror (blue) 7914. The projection optical system 7917 is composed of a plurality of optical lenses including a projection lens. The light source optical system and the display portion shown in FIG. 19C are shown in FIGS. 18A and 18B.
It can be applied to the light source optical system and the display portions 7601 and 7702 in the inside. Further, as the light source optical system 7911, an optical system using a coupling lens and a collimator lens in addition to the light source may be used.

【0155】以上の様に、本発明の画像表示装置の適用
範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に適用する
ことが可能である。また、本実施例の電子機器は実施例
1〜5のどのような組み合わせからなる構成を用いても
実現することができる。
As described above, the applicable range of the image display device of the present invention is extremely wide, and the image display device of the present invention can be applied to electronic devices in all fields. Further, the electronic device of the present embodiment can be realized by using any configuration of the first to fifth embodiments.

【0156】[0156]

【発明の効果】本発明は上記構成により、信号線駆動回
路内の回路素子の数を従来例のn分の1にすることが可
能である。よって、信号線駆動回路の面積を大幅に縮小
でき、画像表示装置の小型化に有効であり、さらには、
画像表示装置のコスト低減、歩留まり向上に効果があ
る。また、階調の異なる画素の水平方向における位置が
変わるため、フレーム周波数を変えなくとも人間の目に
縦縞が視認されにくくなる。
According to the present invention, with the above configuration, the number of circuit elements in the signal line drive circuit can be reduced to 1 / n of the conventional example. Therefore, the area of the signal line driver circuit can be significantly reduced, which is effective for downsizing the image display device.
This is effective in reducing the cost and improving the yield of the image display device. Further, since the positions of pixels having different gradations in the horizontal direction are changed, it is difficult for the human eye to visually recognize vertical stripes without changing the frame frequency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の信号線駆動回路の構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a signal line driver circuit of the present invention.

【図2】 本発明の信号線駆動回路のタイミングチャー
トを示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a timing chart of a signal line driver circuit of the present invention.

【図3】 アナログ映像信号を画素に入力する順序を示
す模式図。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the order of inputting analog video signals to pixels.

【図4】 信号線選択回路の回路図及びタイミングチャ
ート。
4A and 4B are a circuit diagram and a timing chart of a signal line selection circuit.

【図5】 本発明の画像表示装置のブロック図。FIG. 5 is a block diagram of an image display device of the present invention.

【図6】 記憶回路の具体例を示す図。FIG. 6 illustrates a specific example of a memory circuit.

【図7】 本発明の信号線駆動回路の構成を示す図。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a signal line driver circuit of the present invention.

【図8】 ビット比較パルス幅変換回路(BPC)の構
成を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a bit comparison pulse width conversion circuit (BPC).

【図9】 図7の駆動回路のタイミングチャートを示す
図。
9 is a diagram showing a timing chart of the drive circuit in FIG.

【図10】 ランプ型D/A変換回路の動作を説明する
図。
FIG. 10 is a diagram illustrating an operation of a ramp type D / A conversion circuit.

【図11】 実施例3によるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の作製工程例を示す図。
FIG. 11 is a diagram showing an example of a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図12】 実施例3によるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の作製工程例を示す図。
FIG. 12 is a diagram showing an example of a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図13】 実施例3によるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の作製工程例を示す図。
FIG. 13 is a diagram showing an example of a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図14】 実施例3によるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の作製工程例を示す図。
FIG. 14 is a diagram showing an example of a manufacturing process of an active matrix type liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図15】 実施例3によるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の作製工程例を示す図。
FIG. 15 is a diagram showing an example of a manufacturing process of an active matrix type liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図16】 実施例3によるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の作製工程例を示す図。
FIG. 16 is a diagram showing an example of a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図17】 本発明を用いた電子機器の一例を示す図。FIG. 17 is a diagram showing an example of an electronic device using the present invention.

【図18】 投影型液晶表示装置の構成を示す図。FIG. 18 is a diagram showing a configuration of a projection type liquid crystal display device.

【図19】 投影型液晶表示装置の構成を示す図。FIG. 19 is a diagram showing a configuration of a projection type liquid crystal display device.

【図20】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の構
成図。
FIG. 20 is a configuration diagram of an active matrix liquid crystal display device.

【図21】 従来のデジタル方式の信号線駆動回路の構
成図。
FIG. 21 is a configuration diagram of a conventional digital signal line drive circuit.

【図22】 従来のデジタル方式の信号線駆動回路のタ
イミングチャート。
FIG. 22 is a timing chart of a conventional digital signal line drive circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 G09G 3/20 623G 623V (72)発明者 久保田 靖 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 鷲尾 一 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 2H092 KA03 KA04 PA06 2H093 NB07 NC11 NC22 NC24 NC26 NC34 ND42 ND49 5C006 AA01 AC21 AF43 AF82 BB16 BC12 BC16 BC23 BF03 BF04 BF24 BF26 BF27 BF34 EB05 FA41 FA52 5C080 AA10 BB05 DD22 DD27 EE29 FF11 JJ02 JJ03 JJ04 JJ06 KK02 KK07 KK43 KK47 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09G 3/20 G09G 3/20 623G 623V (72) Inventor Yasushi Kubota 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka No. 22 within Sharp Co., Ltd. (72) Inventor Hajime Washio 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Prefecture (Reference) 2H092 KA03 KA04 PA06 2H093 NB07 NC11 NC22 NC24 NC26 NC34 ND42 ND49 5C006 AA01 AC21 AF43 AF82 BB16 BC12 BC16 BC23 BF03 BF04 BF24 BF26 BF27 BF34 EB05 FA41 FA52 5C080 AA10 BB05 DD22 DD27 EE29 FF11 JJ02 JJ03 JJ04 JJ06 KK02 KK07 KK43 KK47

Claims (34)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】信号線駆動回路と、n×k本(n、kは共
に自然数)の信号線とを有する画像表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線の選択される順番が、可変である
ことを特徴とする画像表示装置。
1. An image display device having a signal line drive circuit and n × k (n and k are natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit has the n × k signals. An image display device, comprising: a signal line selection circuit for selecting k lines each for inputting an analog video signal, wherein a selection order of the n × k signal lines is variable.
【請求項2】請求項1において、前記信号線選択回路は
アナログスイッチを有し、前記アナログスイッチに入力
される選択信号により前記n×k本の信号線が選択され
る順番が決定されていることを特徴とする画像表示装
置。
2. The signal line selection circuit according to claim 1, wherein the signal line selection circuit has an analog switch, and an order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal input to the analog switch. An image display device characterized by the above.
【請求項3】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現する水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
3. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. The signal line selection circuit for selecting the n × k signal lines is different from each other in a horizontal scanning period that appears consecutively, and the n × k signal lines are selected. The image display device is characterized in that the order of turning is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項4】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現するフレーム期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
4. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. The selection order of the n × k signal lines is different from each other in consecutively appearing frame periods, and the n × k signal lines are selected. The image display device, wherein the order is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項5】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現する水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現するフレーム期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
5. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. The selection order of the n × k signal lines is different from each other in consecutive horizontal scanning periods, and the n × k signal lines are selected. The order in which the n × k signal lines are selected is different from each other in consecutively appearing frame periods, and the order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated in the controller. Image display device.
【請求項6】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現する水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラが有するレジスタにおいてデータとして記憶され
ており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記レジス
タに記憶されているデータに従って、前記コントローラ
において生成される選択信号によって、決定されている
ことを特徴とする画像表示装置。
6. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. The signal line selection circuit for selecting the n × k signal lines is different from each other in a horizontal scanning period that appears consecutively, and the n × k signal lines are selected. The order in which the n × k signal lines are selected is stored as data in a register included in the controller, and the order in which the n × k signal lines are selected is selected by the controller according to the data stored in the register. An image display device characterized by being determined by.
【請求項7】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記信号線選択回路はアナログスイッチを有しており、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現する水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
おり、 前記選択信号は前記アナログスイッチに入力されること
を特徴とする画像表示装置。
7. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. The signal line selection circuit has an analog switch, and the order in which the n × k signal lines are selected is different from each other in the horizontal scanning period that appears consecutively. The order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated in the controller, and the selection signal is input to the analog switch. apparatus.
【請求項8】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記信号線選択回路はアナログスイッチを有しており、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現する水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラが有するレジスタにおいてデータとして記憶され
ており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記レジス
タに記憶されているデータに従って、前記コントローラ
において生成される選択信号によって決定されており、 前記選択信号は前記アナログスイッチに入力されること
を特徴とする画像表示装置。
8. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. The signal line selection circuit has an analog switch, and the order in which the n × k signal lines are selected is different from each other in the horizontal scanning period that appears consecutively. The order in which the n × k signal lines are selected is stored as data in a register included in the controller, and the order in which the n × k signal lines are selected is stored in the register. The image display device is characterized in that it is determined by a selection signal generated in the controller according to the stored data, and the selection signal is input to the analog switch.
【請求項9】信号線駆動回路と、コントローラと、n×
k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像表
示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
最初に選択される信号線は、連続して出現する水平走査
期間において異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
9. A signal line drive circuit, a controller, and n ×
An image display device having k signal lines (n and k are both natural numbers), wherein the signal line drive circuit selects k of the n × k signal lines and inputs an analog video signal. A signal line selection circuit for selecting the signal line selected from among the n × k signal lines, the signal line selected first in one horizontal scanning period is different in the horizontal scanning periods that appear consecutively. The image display device, wherein the order in which the × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項10】信号線駆動回路と、コントローラと、n
×k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像
表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
最初に選択される信号線は、連続して出現する水平走査
期間において異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラが有するレジスタにおいてデータとして記憶され
ており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記レジス
タに記憶されているデータに従って、前記コントローラ
において生成される選択信号によって、決定されている
ことを特徴とする画像表示装置。
10. A signal line drive circuit, a controller, and n.
An image display device having × k (n and k are both natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit selects k × n number of the signal lines for each analog video signal. A signal line selection circuit for inputting, wherein among the n × k signal lines, a signal line selected first in one horizontal scanning period is different in a horizontal scanning period that appears consecutively, The order in which the n × k signal lines are selected is stored as data in the register included in the controller, and the order in which the n × k signal lines are selected is the data stored in the register. According to the above, the image display device is determined by the selection signal generated in the controller.
【請求項11】信号線駆動回路と、コントローラと、n
×k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像
表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
前記n×k本の信号線が選択される順番は、1水平走査
期間毎にランダムに変わっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
11. A signal line drive circuit, a controller, and n.
An image display device having × k (n and k are both natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit selects k × n number of the signal lines for each analog video signal. A signal line selection circuit for inputting, and the order of selecting the n × k signal lines in one horizontal scanning period among the n × k signal lines is random in each horizontal scanning period. The image display device is different in that the order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項12】信号線駆動回路と、コントローラと、n
×k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像
表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、前記n×k本の信号線をk本づ
つ選択してアナログ映像信号を入力する信号線選択回路
とを有し、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
前記n×k本の信号線が選択される順番は、1水平走査
期間毎にランダムに変わっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラが有するレジスタにおいてデータとして記憶され
ており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記レジス
タに記憶されているデータに従って、前記コントローラ
において生成される選択信号によって、決定されている
ことを特徴とする画像表示装置。
12. A signal line drive circuit, a controller, and n.
An image display device having × k (n and k are both natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit selects k × n number of the signal lines for each analog video signal. A signal line selection circuit for inputting, and the order of selecting the n × k signal lines in one horizontal scanning period among the n × k signal lines is random in each horizontal scanning period. The order in which the n × k signal lines are selected is stored as data in a register included in the controller, and the order in which the n × k signal lines are selected is different in the register. An image display device characterized by being determined by a selection signal generated in the controller according to stored data.
【請求項13】請求項9乃至請求項12のいずれか1項
において、 前記信号線選択回路はアナログスイッチを有しており、 前記選択信号は前記アナログスイッチに入力されること
を特徴とする画像表示装置。
13. The image according to claim 9, wherein the signal line selection circuit has an analog switch, and the selection signal is input to the analog switch. Display device.
【請求項14】請求項1乃至請求項13のいずれか1項
において、 デジタル映像信号を前記アナログ映像信号に変換するD
/A変換回路を有することを特徴とする画像表示装置。
14. The D according to claim 1, wherein a digital video signal is converted into the analog video signal.
An image display device having an A / A conversion circuit.
【請求項15】信号線駆動回路と、コントローラと、n
×k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像
表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、mビット(mは自然数)のデジ
タル映像信号を記憶する第1の記憶回路と、該第1の記
憶回路の出力信号を記憶する第2の記憶回路と、該第2
の記憶回路の出力信号をアナログ映像信号に変換するD
/A変換回路と、前記n×k本の信号線をk本づつ選択
して前記アナログ映像信号を入力する信号線選択回路と
を有し、 前記第1の記憶回路と前記第2の記憶回路のそれぞれの
数はm×kであり、 前記n×k本の信号線の選択される順番は、連続して出
現する水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
15. A signal line drive circuit, a controller, and n.
An image display device having × k (n and k are both natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit stores a m-bit (m is a natural number) digital video signal. A second memory circuit for storing an output signal of the first memory circuit;
D that converts the output signal of the memory circuit of to the analog video signal
An A / A conversion circuit, and a signal line selection circuit that selects k of the n × k signal lines and inputs the analog video signal, the first storage circuit and the second storage circuit , M × k, and the selection order of the n × k signal lines is different from each other in the horizontal scanning period that appears continuously, and the n × k signal lines are selected. The image display device according to claim 1, wherein the order to be performed is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項16】信号線駆動回路と、コントローラと、n
×k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像
表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、mビット(mは自然数)のデジ
タル映像信号を記憶する第1の記憶回路と、該第1の記
憶回路の出力信号を記憶する第2の記憶回路と、該第2
の記憶回路の出力信号をアナログ映像信号に変換するD
/A変換回路と、前記n×k本の信号線をk本づつ選択
して前記アナログ映像信号を入力する信号線選択回路と
を有し、 前記第1の記憶回路と前記第2の記憶回路のそれぞれの
数はm×kであり、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
最初に選択される信号線は、連続して出現する水平走査
期間において異なっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
16. A signal line drive circuit, a controller, and n.
An image display device having × k (n and k are both natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit stores a m-bit (m is a natural number) digital video signal. A second memory circuit for storing an output signal of the first memory circuit;
D that converts the output signal of the memory circuit of to the analog video signal
An A / A conversion circuit, and a signal line selection circuit that selects k of the n × k signal lines and inputs the analog video signal, the first storage circuit and the second storage circuit Of the n × k signal lines, the signal line selected first in one horizontal scanning period is different in consecutive horizontal scanning periods. The image display device, wherein the order of selecting n × k signal lines is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項17】信号線駆動回路と、コントローラと、n
×k本(n、kは共に自然数)の信号線とを有する画像
表示装置であって、 前記信号線駆動回路は、mビット(mは自然数)のデジ
タル映像信号を記憶する第1の記憶回路と、該第1の記
憶回路の出力信号を記憶する第2の記憶回路と、該第2
の記憶回路の出力信号をアナログ映像信号に変換するD
/A変換回路と、前記n×k本の信号線をk本づつ選択
して前記アナログ映像信号を入力する信号線選択回路と
を有し、 前記第1の記憶回路と前記第2の記憶回路のそれぞれの
数はm×kであり、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
前記n×k本の信号線が選択される順番は、1水平走査
期間毎にランダムに変わっており、 前記n×k本の信号線が選択される順番は、前記コント
ローラにおいて生成される選択信号によって決定されて
いることを特徴とする画像表示装置。
17. A signal line drive circuit, a controller, and n.
An image display device having × k (n and k are both natural numbers) signal lines, wherein the signal line drive circuit stores a m-bit (m is a natural number) digital video signal. A second memory circuit for storing an output signal of the first memory circuit;
D that converts the output signal of the memory circuit of to the analog video signal
An A / A conversion circuit, and a signal line selection circuit that selects k of the n × k signal lines and inputs the analog video signal, the first storage circuit and the second storage circuit Is m × k, and the order in which the n × k signal lines are selected from the n × k signal lines in one horizontal scanning period is random in each horizontal scanning period. The image display device is different in that the order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated in the controller.
【請求項18】請求項15乃至請求項17のいずれか1
項において、前記第1の記憶回路と前記第2の記憶回路
はラッチであることを特徴とする画像表示装置。
18. The method according to any one of claims 15 to 17.
The image display device according to the item 1, wherein the first memory circuit and the second memory circuit are latches.
【請求項19】請求項18において、前記ラッチはアナ
ログスイッチおよび保持容量で構成されていることを特
徴とする画像表示装置。
19. The image display device according to claim 18, wherein the latch includes an analog switch and a storage capacitor.
【請求項20】請求項18において、前記ラッチはクロ
ックドインバータで構成されていることを特徴とする画
像表示装置。
20. The image display device according to claim 18, wherein the latch comprises a clocked inverter.
【請求項21】請求項18において、前記ラッチはアナ
ログスイッチおよび複数のインバータで構成されている
ことを特徴とする画像表示装置。
21. The image display device according to claim 18, wherein the latch includes an analog switch and a plurality of inverters.
【請求項22】請求項14乃至請求項21のいずれか1
項において、前記D/A変換回路はランプ型D/A変換
回路であることを特徴とする画像表示装置。
22. Any one of claims 14 to 21.
The image display device according to the item 1, wherein the D / A conversion circuit is a lamp type D / A conversion circuit.
【請求項23】請求項1乃至請求項22のいずれか1項
において、前記信号線駆動回路はポリシリコン薄膜トラ
ンジスタで構成されていることを特徴とする画像表示装
置。
23. The image display device according to claim 1, wherein the signal line drive circuit is composed of a polysilicon thin film transistor.
【請求項24】請求項1乃至請求項23のいずれか1項
において、前記信号線駆動回路は単結晶トランジスタで
構成されていることを特徴とする画像表示装置。
24. The image display device according to claim 1, wherein the signal line drive circuit is composed of a single crystal transistor.
【請求項25】請求項1乃至請求項24のいずれか1項
に記載の前記画像表示装置を用いることを特徴とする電
子機器。
25. An electronic device using the image display device according to claim 1.
【請求項26】アナログ映像信号により画像を表示する
画像表示装置の駆動方法であって、 1水平走査期間において、前記アナログ映像信号を、全
てのn×k本(n、kは共に自然数)の信号線に、k本
づつ順に入力し、 前記n×k本の信号線を選択する順番は、連続して出現
する2つの水平走査期間において互いに異なっているこ
とを特徴とする画像表示装置の駆動方法。
26. A method of driving an image display device for displaying an image by an analog video signal, wherein the analog video signals are all n × k (n and k are natural numbers) in one horizontal scanning period. Driving of an image display device, characterized in that k lines are sequentially input to signal lines and the order of selecting the n × k signal lines is different in two consecutive horizontal scanning periods. Method.
【請求項27】アナログ映像信号により画像を表示する
画像表示装置の駆動方法であって、 1水平走査期間において、前記アナログ映像信号を、全
てのn×k本(n、kは共に自然数)の信号線に、k本
づつ順に入力し、 前記n×k本の信号線を選択する順番は、連続して出現
する2つのフレーム期間において互いに異なっているこ
とを特徴とする画像表示装置の駆動方法。
27. A driving method of an image display device for displaying an image by an analog video signal, wherein the analog video signals are all n × k (n and k are natural numbers) in one horizontal scanning period. A method for driving an image display device, characterized in that the order of inputting k lines to signal lines in order and selecting the n × k signal lines is different from each other in two consecutive frame periods. .
【請求項28】アナログ映像信号により画像を表示する
画像表示装置の駆動方法であって、 1水平走査期間において、前記アナログ映像信号を、全
てのn×k本(n、kは共に自然数)の信号線に、k本
づつ順に入力し、 前記n×k本の信号線を選択する順番は、連続して出現
する2つの水平走査期間において互いに異なっており、 前記n×k本の信号線を選択する順番は、連続して出現
する2つのフレーム期間において互いに異なっているこ
とを特徴とする画像表示装置の駆動方法。
28. A driving method of an image display device for displaying an image by an analog video signal, wherein the analog video signals are all n × k (n and k are natural numbers) in one horizontal scanning period. The order of inputting k lines to the signal lines in order and selecting the n × k signal lines is different in two consecutive horizontal scanning periods, and the n × k signal lines are input. The driving method of the image display device, wherein the selection order is different from each other in two consecutive frame periods.
【請求項29】アナログ映像信号により画像を表示する
画像表示装置の駆動方法であって、 1水平走査期間において、前記アナログ映像信号を、全
てのn×k本(n、kは共に自然数)の信号線に、k本
づつ順に入力し、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
最初に選択される信号線は、連続して出現する2つの水
平走査期間において互いに異なっていることを特徴とす
る画像表示装置の駆動方法。
29. A method of driving an image display device for displaying an image by an analog video signal, wherein the analog video signals are all n × k (n and k are natural numbers) in one horizontal scanning period. The k signal lines are sequentially input to the signal lines, and the signal line selected first in one horizontal scanning period among the n × k signal lines is different from each other in two consecutive horizontal scanning periods. A method for driving an image display device, characterized in that
【請求項30】アナログ映像信号により画像を表示する
画像表示装置の駆動方法であって、 1水平走査期間において、前記アナログ映像信号を、全
てのn×k本(n、kは共に自然数)の信号線に、k本
づつ順に入力し、 前記n×k本の信号線のうち、1水平走査期間において
前記n×k本の信号線が選択される順番は、1水平走査
期間毎にランダムに変わっていることを特徴とする画像
表示装置の駆動方法。
30. A method of driving an image display device for displaying an image by an analog video signal, wherein all of the analog video signals are n × k (n and k are natural numbers) in one horizontal scanning period. K lines are sequentially input to the signal lines, and among the n × k signal lines, the n × k signal lines are selected at random in each horizontal scanning period in one horizontal scanning period. A method for driving an image display device, which is characterized by being changed.
【請求項31】請求項26乃至請求項30のいずれか1
項において、前記n×k本の信号線が選択される順番
は、コントローラにおいて生成される選択信号によって
決定されていることを特徴とする画像表示装置の駆動方
法。
31. Any one of claims 26 to 30.
In the item, the order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated by a controller.
【請求項32】請求項26乃至請求項30のいずれか1
項において、前記n×k本の信号線が選択される順番
は、コントローラが有するレジスタに記憶されているデ
ータに従って、前記コントローラにおいて生成される選
択信号によって、決定されていることを特徴とする画像
表示装置の駆動方法。
32. Any one of claims 26 to 30.
In the item, the order in which the n × k signal lines are selected is determined by a selection signal generated in the controller in accordance with data stored in a register included in the controller. Driving method of display device.
【請求項33】請求項26乃至請求項30のいずれか1
項において、前記n×k本の信号線が選択される順番
は、コントローラが有するレジスタに記憶されているデ
ータに従って、前記コントローラにおいて生成される選
択信号が、前記信号線選択回路が有するアナログスイッ
チに入力されることによって、決定されていることを特
徴とする画像表示装置の駆動方法。
33. Any one of claims 26 to 30.
In the section, the order in which the n × k signal lines are selected is that the selection signal generated in the controller is set to the analog switch included in the signal line selection circuit according to the data stored in the register included in the controller. A method for driving an image display device, which is determined by being input.
【請求項34】請求項26乃至請求項33のいずれか1
項において、 前記アナログ映像信号はデジタル映像信号をD/A変換
回路により変換することで得ていることを特徴とする画
像表示装置の駆動方法。
34. Any one of claims 26 to 33.
Item 3. A driving method of an image display device, wherein the analog video signal is obtained by converting a digital video signal by a D / A conversion circuit.
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