JP2003048893A - 1,3−二置換インデン錯体 - Google Patents

1,3−二置換インデン錯体

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JP2003048893A
JP2003048893A JP2002165982A JP2002165982A JP2003048893A JP 2003048893 A JP2003048893 A JP 2003048893A JP 2002165982 A JP2002165982 A JP 2002165982A JP 2002165982 A JP2002165982 A JP 2002165982A JP 2003048893 A JP2003048893 A JP 2003048893A
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phenyl
alkyl
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JP2002165982A
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Sigurd Becke
ジグルト・ベッケ
Thomas Weiss
トーマス・ヴァイス
Heinrich Lang
ハインリヒ・ラング
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Bayer AG
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Bayer AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F17/00Metallocenes

Abstract

(57)【要約】 【課題】 2位で架橋したインデニル配位子を有する遷
移金属の有機金属化合物を効率的に合成する方法および
高分子量のEP(D)M製造に適した触媒を提供する。 【解決手段】 1,3−位に置換されたインデン中間体
をハロゲン化し、周期表中I族またはII族金属存在
下、架橋基と第2の配位子を同時に反応させることによ
り、1,3−位に置換され2位で架橋したインデニル配
位子を合成し、更にこの配位子を周期表中I族II族金
属と反応後、IV族〜VI遷移金属ハロゲン化物と更に
反応して2位で架橋したインデニル配位子を有する遷移
金属の有機金属化合物を得る。それらをα-オレフィン
の重合触媒として使用して高分子量のアタクティックポ
リマーおよび高分子量のEPDMを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、1,3−位に置換
基を有し2位に結合されたインデニル配位子を持つ遷移
金属の有機金属化合物、それらの製造方法、オレフィン
および/またはジオレフィンモノマー(共)重合のため
の触媒としての用途に関する。
【0002】
【従来の技術】IUPACの命名法に従って、本発明で
は、インデンの環原子の位置は以下のように表示する:
【化18】 置換インデンの製造方法は、関連文献にて既知である
[Spaleck, W., Rohrmann, J., Antberg, M., ; EP-A1-
0530647]、また置換インデンは、例えば1−インダノ
ンから出発して製造されてもよい[Smonou, I.; Ofrano
popuolos, M. Synth. Commun. 1990, 20(9), 1387]。
【0003】2−ブロモインデンの合成は、既知の製造
方法に基づいている[Billups, W.;J. Org. Chem. 198
0, 23, 4638; Porter, H. D.; Suter, C. M. J. Am. Ch
em. Soc. 1935, 57, 2022; Koelsch, C. J. Org. Chem.
1960, 25, 130; Weiss, R.;Luft, S; Monatsh. Chem.
1927,48, 341]。架橋インデニル配位子を有する立体剛
直なキラルメタロセンは,ポリオレフィン製造用の触媒
として知られている。関連して、インデニルアニオンの
置換基の位置や特質、および架橋基の位置や特質が、触
媒活性やポリマーの物性にも影響を与えることが見出さ
れてきた。多くのインデニルメタロセンは1位に架橋基
を有している(1-インデニルメタロセン)。
【0004】インデニル基の2−および/または4位に
置換基を有し、1位で架橋されたビス(1−インデニ
ル)メタロセンは、高い結晶化度と高い融点を持つ高ア
イソタクティックポリプロピレンの製造に特に重要であ
る。(EP-A1-485821, EP-A1-485823, EP-A2-519237)。
4,5位でベンゼン化されたビス(1−インデニル)メ
タロセンも重要である(Organometallics 1994, 13, 96
4-970参照)。
【0005】触媒として、ただ一つのインデニルアニオ
ンを持つ有機金属化合物(1−インデニル配位子を持つ
幾何拘束錯体、US-5026798,WO-97/15583-A1参照)の使
用も知られている。インデニル配位子とシクロペンタジ
エニル配位子を含む遷移金属の有機金属化合物が、WO-9
4/11406-A1により知られており、インデニル配位子は2
位に置換基を持ち、この置換基は第2の配位子と架橋基
を形成してもよい。方法の例は、非常に不満足な収率で
の多段階製造を示しており、これは、架橋化合物の場合
には、不純物をなお含んでいる1−シクロペンタジエニ
ル−2−(2−インデニル)−エタンジルコニウムジク
ロリドまたはビス−(2−インデニル)シランジルコニ
ウムジクロリドまたはジメチル−ビス−(2−インデニ
ル)−シランジルコニウムジクロリドを生じる。エチレ
ン−ビス(2−インデニル)チタニウムジクロリドの多
段階合成方法が、Organometallics, 1993, 12, 5012-50
15に記載されている。多段階合成および非常に多くの精
製操作のために、達成可能な収率は非常に低い。合成経
路の理由から、構造の多様性はエチレン架橋配位子に限
られている。
【0006】エチレン架橋ビス(2−インデニル)ジル
コノセンはEP-A2-941997に開示されている。これらのジ
ルコノセンは、低分子量の特定のポリオレフィン製造に
用いられている。シリル架橋の2−インデニルメタロセ
ンと2位で結合したインデニル配位子を持つ有機金属配
位子の製造方法は、EP-A1-0940408に記載されている。
更に、モノシクロペンタジエニル遷移金属錯体を基本と
した触媒系を使用する、非晶性のポリプロピレンの製造
方法が、US-5504169に記載されている。遷移金属錯体に
結合したシクロペンタジエニル環は、無置換であるか、
対称的に二置換または四置換されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】2位で架橋された1,
3−二置換インデニル配位子を有する遷移金属錯体は知
られていない。少なくとも1つの1,3−二置換インデ
ニルアニオンに2位で架橋基が結合したような有機金属
触媒は、重合触媒として特異な性質を持つことが示され
た。実際、それらは、α-オレフィンの(共)重合にお
いて、主として高分子量のアタクティックポリマーを製
造する。ゆえに、少なくとも1つの1,3−二置換イン
デニルアニオンにより2位で架橋されたそのような触媒
を製造する方法を見出すことは望ましいことである。本
発明のもう一つの目的は、高分子量のEPDMを合成す
るのに適した触媒を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
(I):
【化19】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違し
て、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
−アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
−アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
−アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
による元素周期表IV族、V族またはVI族の遷移金属
である。Xは、アニオンを表す。nは、Mの価数と結
合状態によって決定される0〜4の数である。mは、Q
基の数によって決定される0〜4の数である。Yは、
−C(R)−、−Si(R)−、−Ge
(R)−、−C(R)−C(R
−、−C(R)−Si(R)−、−Si
(R)−Si(R)−から成る群より選ば
れる架橋基であって、R、R、R、およびR
は、相互に独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐
のC〜C10−アルキル基、C〜C−シクロアル
キル基、C〜C14−アリール基、或いはC〜C
10−アラルキル基である。Zは、開鎖状および環状
の、場合によりアニオン性のπシステム、−N(R
−、−P(R)−、|N(R)−、|P(R
)−、−O−、−S−、|OR−、または|SR
−から選ばれる第2配位子であり(元素記号N、P、
OおよびSの左の縦線は電子対を示す)、ZとMの間
の結合はイオン結合、共有結合または配位結合であり、
、R、RおよびRは、相互に独立に、R
と同じ意味を持ち、加えて、RとRは−Si
(R)を表すことができ、RとRは−S
i(R)、−OR、−SR、または−N
(R)を表す。]で示される1,3−位に二置換
された2−インデニル配位子を有する、遷移金属の有機
金属化合物の製造方法であって、式(II):
【化20】 [式中、Halは、Cl,BrまたはIを表し、
,Q,Qおよびmは、上記と同意義である]で
示される1,3−位に置換されたハロゲン化インデン
を、IUPAC1985による周期表のI,IIまたは
XII族から選ばれる金属元素、或いは対応するその金
属化合物とを、金属元素/金属化合物が式(II)の1
モルに対して1〜100モルの範囲の量で反応させ、か
つ、式(III):
【化21】Hal−Y−Hal (III) [式中、HalおよびHalは相互に独立にCl,
Br,Iであり、Yは上記と同意義である]で示される
架橋基Yのジハライドと、(III)が(II)の1モ
ルに対して1から20モルの量で反応させ、ここで、Y
が−Si(R)−,−Ge(R)−または
−Si(R )−Si(R)−であれば、
(II)と金属元素/金属化合物の反応(i)、それと
(III)との反応(ii)も同時におこなうことがあ
り、次いで、式(IV):
【化22】 [式中、Q,Q,Q,Y,およびHalは上記
と同意義である]で示される反応生成物を、任意に分離
された後、任意に補助塩基の存在下、式:
【化23】 ZM (Va) または ZR (Vb) [式中、MはLi,Na,K、または−MgHal
を表し、HalはHalと同様である。pは1また
は2の数を示す。Rは、水素,−Si(R
)またはSn(R)を表す。Z,
,RおよびRは上記と同意義である。]で示さ
れるZ誘導体と、式:
【化24】 MHal (VIa) または RHal (VIb) [式中、M,RおよびHalは上記と同意義であ
る。]を放出しながら、反応させて、式(VII):
【化25】 [式中、Q,Q,Q,Y,Zおよびmは上記と同意義
である。この化合物は、ジアニオンとして存在してもよ
く、Zは、さらにM、Rまたは電子対を伴ってもよ
い]で示される2−インデニル化合物を形成し、次いで
この2−インデニル化合物を、式(VIII):
【化26】M (VIII) [式中、MおよびXは、上記と同意義であり、qはM
の酸化状態によって決定される2から6の数であ
る。]で示される遷移金属化合物とさらに反応させる工
程を含む製造方法を提供する。
【0009】本方法は、有利には、−100℃〜120
℃の温度範囲で行われる。I族、II族またはXII族
の金属として、特にリチウム、カリウム、ナトリウム、
マグネシウム、カルシウム、亜鉛、カドミウムおよび水
銀が挙げられる。II族およびXII族の金属が好まし
い。金属を互いに混合して使用することも有利である。
相当する金属化合物としては、ブチルリチウム、ブタジ
エンマグネシウム、アントラセンマグネシウム、並び
に、他の言及した金属の対応する化合物を挙げることが
できる。(III)を添加する前に未反応の金属/金属
化合物を分離することも有利である。(III)との反
応では、金属ハライド、すなわち金属Hal1Hal2が、一般
に生成する。更に、一般に、式:
【化27】 MHal (VIa)または RHal(VIb) [式中、M,RおよびHalは上記と同意義であ
る。]で示される化合物が、(Va)または(Vb)の
添加により生成する。
【0010】更に、本発明は、前述の方法により製造さ
れ得る1,3−位に置換基を有する2−インデニルを配
位子として持つ遷移金属の有機金属化合物に関し、この
化合物は、一般式(I)に相当する:
【化28】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違し
て、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
−アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
−アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
−アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
による元素周期表IV族、V族またはVI族の遷移金属
である。Xは、アニオンを表す。nは、Mの価数と結
合状態によって決定される0〜4の数である。mは、Q
基の数によって決定される0〜4の数である。Yは、
−C(R)−、−Si(R)−、−Ge
(R)−、−C(R)−C(R
−、−C(R)−Si(R)−、−Si
(R)−Si(R)−から成る群より選ば
れる架橋基であって、R、R、R、およびR
は、相互に独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐
のC〜C10−アルキル基、C〜C−シクロアル
キル基、C〜C14−アリール基、或いはC〜C
10−アラルキル基である。Zは、開鎖状および環状
の、場合によりアニオン性のπシステム、−N(R
−、−P(R)−、|N(R)−、|P(R
)−、−O−、−S−、|OR−、または|SR
−から選ばれる第2配位子であり(元素記号N、P、
OおよびSの左の縦線は電子対を示す)、ZとMの間
の結合はイオン結合、共有結合または配位結合であり、
、R、RおよびRは、相互に独立に、R
と同じ意味を持ち、加えて、RとRは−Si
(R)を表すことができ、RとRは−S
i(R)、−OR、−SR、または−N
(R)を表す。]
【0011】更に、本発明は、C〜C−α−オレフ
ィン,C〜C−ジオレフィンおよびシクロ(ジ)オ
レフィンからなる群から選ばれるモノマーの重合、また
は前述のモノマーのいくつかの共重合、特に非晶性で主
としてアタクティックのポリマーの製造のために、担体
なしの、または触媒担体(たとえばAl、SiO
および他の不活性担体)上の触媒としての、式(I)
に記載の化合物の使用に関する。本発明は、前述の方法
とその方法により製造される式(I)の化合物に関する
ものであって、ここでYが、−Si(R)−,−
Ge(R)−または−Si(R)−Si
(R)−、好ましくは−Si(R)−であ
ると、(II)とMgまたはZnの反応(i)と、それ
と(III)の反応(ii)とが同時に起こって、反応
生成物(IV)が生成する。
【0012】本発明は、次式の中間体にも関する:
【化29】 [式中、Q、Q、Q、YおよびHalは前記と
同意義である。]
【0013】Zの意味する範囲内で、環状π系は、例え
ば置換または無置換のシクロペンタジエン、置換または
無置換の1−インデン、置換または無置換の2−インデ
ン、或いは置換または無置換のフルオレンであって、こ
れらはYに共有結合しており、イオン的にまたは共有的
にまたは配位的にMに結合している。
【0014】より好ましくは、本発明は、式中のZが第
2のZ’に置き換わっている本発明の製造方法、および
本発明の式(I)の遷移金属の有機金属化合物に関す
る。ここで、Z’は置換または無置換のシクロペンタジ
エン、置換または無置換の1−インデン、置換または無
置換の2−インデン、置換または無置換のフルオレン、
或いは−N(R)−、P(R)−、|N(R
)、|P(R)−、−O−、−S−、|O
−或いは|SR−であって、縦線は前述の意味で
ある。式中、Z''が−N(R)−または|N(R
)−である化合物が好ましく、特に、Y=−Si(R
)並びにM=TiまたはZrとの組み合わせが
好ましい。
【0015】直鎖または分岐したC〜C10−アルキ
ル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、異性体のペンチル基、ヘキシル基、オクチル基また
はデシル基である。C〜C −アルキル基が好まし
く、メチル基とエチル基がより好ましい。
【0016】C〜C−シクロアルキル基は、例え
ば、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメ
チルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシク
ロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基であり、好ましくは、シクロ
ペンチル基およびシクロヘキシル基およびそれらのメチ
ルおよびジメチル誘導体である。C〜C14−アリー
ル基は、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル
基、アントリル基、フェナントリル基であり、好ましく
はフェニル基である。
【0017】C〜C10−アラルキル基は、例えば、
ベンジル基、α−フェニルエチル基、β−フェニルエチ
ル基、フェニルプロピル基またはフェニルブチル基であ
る。C〜C−アルコキシ基およびC〜C−アル
キルチオ基は、例えば、メトキシ基、メチルチオ基、エ
トキシ基、エチルチオ基、プロポキシ基、プロピルチオ
基、イソプロポキシ基、イソプロピルチオ基、ブトキシ
基、ブチルチオ基、イソブトキシ基およびイソブチルチ
オ基である。芳香脂肪族のアリール基および芳香族部分
は、フッ素、塩素、臭素、メチル基、エチル基、メトキ
シ基またはエトキシ基により、単一または複数で、同一
または相違して置換されていてもよい。
【0018】Qは、例えば、4−、5−、6−、7−
位における、水素原子またはメチル基である。例えば、
からRの範囲において、ハロゲンは、フッ素、塩
素、臭素またはそれらの組み合わせであり、好ましくは
塩素である。Mは、例えば、Ti、Zr、Hf、V、
Nb、Ta、Cr、W、Moであり、好ましくは、T
i、Zr、Hf、V、Nbであり、更に好ましくは、T
i、Zr、Hfであり、最も好ましくは、TiおよびZ
rである。Mは、可能な最高酸化状態であっても、そ
れとは異なるより低い酸化状態のどちらでもよく、有機
金属化合物の中にそのまま現れる。多くの場合、M
まず低酸化状態で用い、その後、例えばPbClのよ
うなマイルドな酸化剤でより高い酸化状態に酸化するこ
とが有利である。
【0019】Xは、1価または多価のアニオンであっ
て、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、C〜C
−カルボン酸イオン、アミドアニオン、C〜C
アルキルアニオン、フェニルアニオン、ベンジルアニオ
ン、ネオペンチルアニオン、並びに置換または無置換の
ブタジエニルアニオンから成る群から選ばれる。好まし
くは、塩素イオンまたはフッ素イオンであり、前述のア
ニオンの組み合わせで存在してもよい。
【0020】式(II)および式(III)におけるH
al、HalおよびHalは、相互に独立であ
り、塩素、臭素またはヨウ素であって、好ましくは、H
alが臭素であり、HalおよびHalは塩素ま
たは臭素である。
【0021】Mg又はZnと式(II)との反応の温度
は、−20℃から+120℃の範囲であり、好ましくは
0℃から+100℃の範囲であり、更に好ましくは+2
5℃から+80℃の範囲である。MgまたはZnの量
は、(II)の1モルに対して1〜100モルである。
原理的には、その反応は、前述の範囲の外の量で実施さ
れてもよい。MgまたはZnが(II)の1モルに対し
1モル未満では、(II)の反応は不完全であり、10
0モルを超えると反応の速度や完結性の観点から期待さ
れる更なる有利性はない。好ましくは、(II)1モル
に対して、MgまたはZnが1〜10モル、さらに好ま
しくは1〜5モルである。MgとZnの金属のうち、こ
の反応にはMgが好ましく用いられる。
【0022】(III)との更なる反応の温度も、−2
0℃から+120℃の範囲であり、好ましくは0℃から
+100℃の範囲であり、更に好ましくは+25℃から
+80℃の範囲である。(III)の量は、(II)の
1モルに対して1〜20モルである。MgまたはZnの
量に関する上での注記がこの範囲外の量にも当てはま
る。好ましくは、(III)の量は、(II)の1モル
に対して1〜10モルであり、更に好ましくは1〜2モ
ルである。未反応のMgまたはZnおよび(III)
は、反応器から、当業者に既知の方法で分離され、再利
用し得る。
【0023】本発明の製造方法は、極性非プロトン溶媒
の存在下で実施することができる。適当な溶媒は、例え
ば、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドンおよびエーテルである。これ
らの溶媒のうち、エーテルが好ましく、例えば、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、および当業者に知られているその他
のエーテルである。溶媒の量は、(II)および有機−
Mgまたは有機−Zn化合物が生成し、その後それらは
溶解状態で存在し、未反応のMgやZnを例えば、ろ過
またはデカンテーションまたは類似の分離手段により分
離することができるように選ばれる。溶媒の量は、例え
ば(II)の量に対して、50〜1000%である。
【0024】Yは、好ましくは−C(R)−、−
Si(R)−であり、より好ましくは、−Si
(R)−である。Yが、−Si(R)−、
−Ge(R)−または−Si(R)−Si
(R)−の場合、(II)とMgまたはZnとの
反応(i)と、それと(III)との反応(ii)が同
時に起こることにより、反応段階を省略する洗練された
方法を提供できる。
【0025】(IV)に(Va)または(Vb)を補助
塩基の存在下に反応させて(VII)を形成する場合、
好ましい補助塩基は次のものを含む:全炭素原子数が3
〜30の開鎖状または環状の第3脂肪族アミン、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、ト
リイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチ
ルアミン、トリデシルアミン、N−メチルピペリジン、
N,N’−ジメチルピペラジン、ジアザビシクロノナン
(DBN)、ジアザビシクロウンデカン(DBU)、さ
まざまな長さの炭素鎖を持つ、例えばN,N−ジメチル
ブチルアミン、N,N−ジメチルオクチルアミン、N,
N−ジメチルステアリルアミン、芳香族アミン、例えば
ピリジン、メチルピリジン、キノリン、N,N−ジメチ
ルアニリン。
【0026】有機金属化合物(I)を含む反応混合物
は、混合物のろ過、揮発成分の蒸留および結晶化のよう
な当業者に既知の操作により後処理される。
【0027】本発明は、更に式(I)の化合物を、非担
持触媒または担体(例えばAl 、SiOおよび
不活性担体)上の担持触媒として、C〜C−α−オ
レフィン、C〜C20−ジオレフィンおよびシクロ
(ジ)オレフィンから成る群から選ばれるモノマーの重
合、または上述のモノマーのいくつかの共重合のために
使用することに関し、特に非晶性で主としてアタクティ
ックのポリマーの製造に関する。
【0028】式(I)の有機金属化合物は、C〜C
−α−オレフィン、C〜C20−ジオレフィンおよび
シクロ(ジ)オレフィンまたはこれらの混合物の(共)
重合の触媒として使用することができる。前述の群のモ
ノマーは、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテ
ン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンおよび
それらの分岐異性体、イソブチレン、1,3−ブタジエ
ン、1,3−ペンタジエンまたは1,4−ペンタジエ
ン、1,3−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエンまた
は1,5−ヘキサジエン、1,5−ヘプタジエン、イソ
プレン、クロロプレン、ノルボルネン、5−エチリデン
−2−ノルボルネン、5−ビニル−2−ノルボルネン、
4−ビニル−1−シクロへキセン、ジシクロペンタジエ
ン、7−メチル−1,6−オクタジエンおよび5,7−
ジメチル−1,6−オクタジエンである。
【0029】Y=−Si(R)−、M=Tiま
たはZrおよびZ=−N(R)−である式(I)の化
合物が、アタクティックポリプロピレンの製造に好まし
い。
【0030】式(I)の化合物はしばしば、助触媒と組
み合わせて(共)重合に使用される。適当な助触媒は、
メタロセン化学の分野で知られている助触媒であって、
アルミネートおよびボレートやルイス酸、ポリマーまた
はオリゴマー状アルモキサンなどである。これに関連し
て、特に、Macromol. Symp. Vol. 97, July 1995, p.1-
246(アルモキサン)、EP-A1-277003、 EP-A1-277004、 O
rganometallics 1997,16, 842-857(ボレート)、 EP-A2-
573403(アルミネート)の参照できる。
【0031】特に適した助触媒は、メチルアルモキサ
ン、トリイソブチルアルミニウム(TIBA)によって
修飾されたメチルアルモキサン、ジイソブチルアルモキ
サン、並びにトリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリイソオク
チルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、更
には、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムクロリドのようなジアルキルアルミニウ
ム化合物、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランの
ような置換トリアリールボラン、トリフェニルメチルテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリメ
チルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレートのようなテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレートをアニオンと
して含むイオン性化合物、トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)アルミニウムのような置換トリアリールアルミニ
ウム、トリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)アルミネートおよびN,N−ジメチルアニリ
ニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミネ
ートのようなテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ア
ルミネートをアニオンとして含むイオン性化合物であ
る。助触媒を互いに混合して使用することは明らかに可
能である。それぞれの場合に最適の混合比は、適当な予
備実験により決定される
【0032】このような(共)重合は、気相、液相また
はスラリー状態で実施される。これに関連する温度範囲
は、−20℃から+200℃、好ましくは0℃から+1
60℃、更に好ましくは+20℃から80℃であり、圧
力範囲は、1から50bar、好ましくは、3から30
barである。ともに用いられる溶媒は、例えば飽和脂
肪族あるいは(ハロゲン)芳香族化合物であって、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エー
テル、石油、水素化リグロイン(ベンジン)、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベン
ゼンなどである。これらの(共)重合反応条件は、基本
的に当業者に知られている。
【0033】本発明の有機金属化合物を触媒として製造
される重要なポリマーは、エチレンの重合体とその共重
合体である。適当なコモノマーは、C〜C12−アル
ケンであって、エチレン、1−ブテン、1−ペンテン、
1−ヘキセン、1−オクテン、および例えばスチレンの
ようなアリールアルケンなどである。その他の適当なコ
モノマーは、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘプタジ
エン、4−ビニル−1−シクロヘキセン、7−メチル−
1,6−オクタジエンおよび5,7−ジメチル−1,6
−オクタジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、
5−ビニル−2−ノルボルネンおよびジシクロペンタジ
エンのような非共役ジエンである。これらのコモノマー
の混合物も使用することが出来る。
【0034】この方法で製造され得るエチレン(共)重
合体は、分子量Mw>100000g/mol、分子量分布
Mw/Mn<4である。エチレン(共)重合体は、固有
粘度が1dl/gより大きく、好ましくは2dl/gよ
り大きい。結晶化度は、15%より小さく、結晶化率=
(融解のエンタルピー/209J/g)×100であ
り、融解のエンタルピー(J/g)はDSC法により決
定される。より好ましくは、5J/g(DSC法)より
小さい融解のエンタルピーを持つエチレン(共)重合体
である。エチレン(共)重合体は、ヘキサン、ヘプタ
ン、ジエチルエーテル、またはトルエンのような汎用溶
媒に易溶性である。特に上述のコモノマーの1つまたは
それ以上とエチレンを基にしたゴムもまた、前述の方法
で製造され得る。より好ましい例は、エチレンとプロピ
レンの共重合であって、ポリマー中のエチレン部分に関
する非晶性エチレン(共)重合体が30〜70質量%の
範囲であり、好ましくは40〜65質量%のものが得ら
れる。
【0035】エチレン、プロピレンおよびジエン(好ま
しくは5−エチリデン−2−ノルボルネン)を基にした
EPDMゴムもまた、前述の方法で製造できる。EPD
Mゴムは高分子量であり低結晶性割合であることに特徴
がある。
【0036】高分子量のアタクティックポリマー、例え
ばアタクティックポリプロピレン、が、本発明の有機金
属化合物によって特にうまく製造できる。
【0037】例えば、前述のコモノマーを伴うまたは伴
わないエチレンの(共)重合は、以下のように実施する
ことができる:スチール製オートクレーブを通常の方法
で清浄化し、溶媒とスカベンジャー、例えばトリイソブ
チルアルミを満たす。例えば水やその他の酸素原子含有
化合物のような触媒毒および不純物は、スカベンジャー
によって、無害化される。次に式(I)の化合物を触媒
前駆体として加える。その後、反応器にある圧力までモ
ノマーを充填し、選択された温度に温度調節し、前述の
助触媒の1つまたはそれ以上を添加することによって重
合を開始する。重合は連続法またはバッチ式方法で実施
することができる。
【0038】以下、本発明の好ましい様態を記載する。 (ア) 一般式(I):
【化30】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違し
て、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
−アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
−アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
−アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
による元素周期表IV族、V族またはVI族の遷移金属
である。Xは、アニオンを表す。nは、Mの価数と結
合状態によって決定される0〜4の数である。mは、Q
基の数によって決定される0〜4の数である。Yは、
−C(R)−、−Si(R)−、−Ge
(R)−、−C(R)−C(R
−、−C(R)−Si(R)−、−Si
(R)−Si(R)−から成る群より選ば
れる架橋基であって、R、R、R、およびR
は、相互に独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐
のC〜C10−アルキル基、C〜C−シクロアル
キル基、C〜C14−アリール基、或いはC〜C
10−アラルキル基である。Zは、開鎖状および環状
の、場合によりアニオン性のπシステム、−N(R
−、−P(R)−、|N(R)−、|P(R
)−、−O−、−S−、|OR−、または|SR
−から選ばれる第2配位子であり(元素記号N、P、
OおよびSの左の縦線は電子対を示す)、ZとMの間
の結合はイオン結合、共有結合または配位結合であり、
、R、RおよびRは、相互に独立に、R
と同じ意味を持ち、加えて、RとRは−Si
(R)を表すことができ、RとRは−S
i(R)、−OR、−SR、または−N
(R)を表す。]で示される1,3−位に二置換
された2−インデニル配位子を有する、遷移金属の有機
金属化合物の製造方法であって、式(II):
【化31】 [式中、Halは、Cl、BrまたはIを表し、
、QおよびQは、上記と同意義である。]で示
される1,3−位に置換されたハロゲン化インデンを、
IUPAC1985による周期表のI、IIまたはXI
I族から選ばれる金属元素、或いは対応するその金属化
合物とを、金属元素/金属化合物が式(II)の1モル
に対して1〜100モルの範囲の量で反応させ、かつ、
式(III):
【化32】Hal−Y−Hal (III) [式中、HalおよびHalは、相互に独立に、C
l、Br、Iであり、Yは上記と同意義である。」で示
される架橋基Yのジハライドと、(III)が(II)
の1モルに対して1〜20倍の量で反応させ、ここで、
Yが−Si(R)−、−Ge(R)−また
は−Si(R )−Si(R)−であれば、
(II)と金属元素/金属化合物の反応(i)、それと
(III)との反応(ii)も同時に生じることがあ
り、次いで、式(IV):
【化33】 [式中、Q、Q、Q、Y、Halおよびmは、
上記と同意義である。]で示される反応生成物を、任意
に分離した後、任意に補助塩基の存在下、式:
【化34】 ZM (Va) または ZR (Vb) [式中、MはLi、Na、K、または−MgHal
を表し、HalはHalと同意義である。pは1ま
たは2の数を示す。Rは、水素、−Si(R
)またはSn(R)を表す。Z、R、R
およびRは上記と同意義である。]で示されるZ誘
導体と、式:
【化35】 MHal (VIa) または RHal (VIb) [式中、M、RおよびHalは上記と同意義であ
る。]を放出しながら、反応させて、式(VII):
【化36】 [式中、Q、Q、Q、Y、Zおよびmは上記と同
意義である。この化合物は、ジアニオンとして存在して
もよく、Zは、さらにM、Rまたは電子対を伴って
もよい。]で示される2−インデニル化合物を形成し、
次いで、この2−インデニル化合物を、式(VII
I):
【化37】M (VIII) [式中、MおよびXは、上記と同意義であり、qはM
の酸化状態によって決定される2〜6の数である。]
で示される遷移金属化合物とさらに反応させる工程を含
む製造方法。 (イ) Yが−Si(R)−、−Ge(R
)−および−Si(R)−Si(R
)−から成る群から選ばれる架橋基であって、
(II)と金属元素/金属化合物の反応(i)、および
それと(III)との反応(ii)も同時に生じて、反
応生成物を形成する、(ア)に記載の製造方法。 (ウ) Yが−Si(R)−である(イ)に記載
の製造方法。 (エ) Mg、ZnまたはMgとZnとの混合物を金属
元素として用いる(ア)に記載の製造方法。 (オ) Mが、Ti、Zr、Hf、VおよびNbから
成る群から選ばれる遷移金属である(ア)に記載の製造
方法。 (カ) Mが、Ti、ZrおよびHfから成る群から
選ばれる遷移金属である(オ)に記載の製造方法。 (キ) Mが、Ti およびZrから成る群から選ば
れる遷移金属である(カ)に記載の製造方法。 (ク) 金属元素/金属化合物が(II)の1モルに対
して1〜10モル用いられ、(III)が(II)の1
モルに対して1〜10モル用いられる(ア)に記載の製
造方法。 (ケ) 一般式(I):
【化38】 で示される1,3−位に置換された2−インデニル配位
子を有する遷移金属の有機金属化合物。 (コ) 式(I)中、Zが、置換または無置換のシクロ
ペンタジエニル基、置換または無置換の1−インデニル
基、置換または無置換の2−インデニル基、置換または
無置換のフルオレニル基、−N(R)−、−P
(R)−、|N(R)−、|P(R
−、−O−、−S−、|OR−または|SR −で表
される第2配位子Z’に置き換えられた(ケ)に記載の
遷移金属の有機金属化合物。 (サ) 式(I)中、Z’が、−N(R)−または
|N(R)−で表される第2配位子Z''に置き換
えられ、更に式(I)中、Yが−Si(R)−で
あり、MがTiまたはZrである(コ)に記載の遷移
金属の有機金属化合物。 (シ) 有機金属化合物が、2−(tert−ブチルアミノ
ジメチルシリル)−1,3−ジフェニルインデンジルコ
ニウムジクロリド、または2−(tert−ブチルアミノジ
メチルシリル)−1,3−ジメチルインデンチタニウム
ジクロリドである(ケ)に記載の遷移金属の有機金属化
合物。 (ス) 式(IV):
【化39】 で示される中間体。 (セ) 式:
【化40】 で示される中間体の製造方法であって、式:(II):
【化41】 [式中、Halは、Cl、BrまたはIを表す。]で
示される1,3−位に二置換された2−ハロゲン化イン
デンを、IUPAC1985による元素周期表のI、I
IまたはXII族から選ばれる金属元素、或いは相当す
る金属化合物と、(II)の1モルに対して1〜100
モルの金属/金属化合物の量で反応させ、かつ、式(I
II):、
【化42】Hal−Y−Hal (III) [式中、HalおよびHalは、相互に独立に、C
l、BrまたはIを表す。]で示されるYのジハライド
と、(II)の1モルに対し1〜20モルの(III)
の量で反応させ、ここで、Yが−Si(R)−、
−Ge(R)−または−Si(R)−Si
(R)−の場合、(II)と金属元素/金属化合
物との反応(i)、およびそれと(III)の反応(i
i)が同時に生じることがある製造方法。 (ソ) C〜C12−α−オレフィン、C〜C20
−ジオレフィンおよびシクロ(ジ)オレフィンから成る
群から選ばれるモノマーの重合またはそれらモノマーの
共重合のための触媒であって、その触媒は、一般式
(I):
【化43】 で示される、1,3−位に置換された配位子として2−
インデニル基を有する遷移金属の有機金属化合物を含む
触媒。 (タ) 非晶質で実質上アタクティックな重合体の製造
であって、一般式(I):
【化44】 で示される1,3−位に置換された配位子として2−イ
ンデニル基を有する遷移金属の有機金属化合物を含んで
なる製造。 (チ) EP(D)Mの製造であって、一般式(I):
【化45】 (ツ) アタクティックポリプロピレンの製造であっ
て、一般式(I):
【化46】 で示される1,3−位に置換された配位子として2−イ
ンデニル基を有する遷移金属の有機金属化合物を含んで
なる製造。
【実施例】本発明を、以下の実施例によってさらに詳細
に記述する。 一般情報:有機金属化合物の合成および取り扱いは、空
気や水分を排除したアルゴン保護雰囲気下(シュレンク
・テクニック)で行った。全ての必要な溶媒は、使用前
に適切な乾燥剤を用いて数時間還流して脱水した後、ア
ルゴン下で蒸留した。化合物は、H−NMR、13
−NMRおよび赤外分光光度計によりキャラクタライズ
した。
【0039】ポリマーキャラクタリゼーション 固有粘度は、ウベローデ型キャピラリー粘度計により、
o−ジクロロベンゼン溶媒中140℃で(多点測定によ
り)決定した。DSC測定は、Perkin-Elmer測定機(示
差走査熱量計DSC−2)により以下のような方法で測
定した:チッ素置換、および標準カプセルに12.3m
gのサンプルを秤量、2回加熱体制で−90℃から+1
80℃まで、昇温速度20K/分、急速冷却320K/
分の条件。微細構造を決定するために、NMR測定をBr
uker DRX−400測定機を用いてテトラクロロエタ
ン中で行った。ムーニー粘度の測定は、ASTM164
6/DIN53523に従い125℃で実施した。ポリ
マー組成のIRスペクトル測定は、ASTM D390
0に従って行った。
【0040】省略記号: TIBA トリイソブチルアルミニウム I.V. 固有粘度
【0041】実施例1 3−メチルインダン−1−オンの合成 3−フェニル酪酸(26.1g、0.159mol)と
塩化チオニル(28.4g、17.3ml、0.24m
ol)を25℃で一度に反応させた。反応混合物を加熱
して4時間還流し、25℃で15時間攪拌した。反応混
合物から過剰の塩化チオニルを留去(b.p.79℃)し
た。得られたオレンジ−ブラウンの油状物を100ml
のベンゼンに溶解し、0℃に冷却した。その後、塩化ア
ルミニウム(21.0g、0.159mol)を少しず
つ加えた。反応混合物を25℃で30分間攪拌した後、
1.5時間加熱還流した。反応終了後、混合物を氷冷水
(400ml)に注ぎ、濃塩酸でpH=1まで酸性化し
た。分液ロート中で有機相が分離され、水相はベンゼン
(30ml)で一回抽出し、合わせた有機相を硫酸ナト
リウムで乾燥した。揮発成分は、ロータリーエバポレー
タ(40℃、240mbar)で留去し、残渣を油ポン
プ減圧下78℃で減圧蒸留した。黄色の液体が得られ
た。
【0042】収量:21.0g(0.144mol、3
−フェニル酪酸に対する理論量の90%)。 H−NMR 重クロロホルム中、300.0MHz,
[δ]:1.29(d, 3H, 2JHH = 6.0 Hz, CH3), 2.20(dd,
1H, 1JHH = 21.0 Hz,,2JHH = 0.9 Hz, CH2), 2.20(dd,
1H, 1JHH = 21.0 Hz,,2JHH,cis = 0.9 Hz, CH2), 2.79
(dd, 1H, 1JHH =21.0 Hz,,2JHH,trans = 9.0 Hz, CH2),
3.32(ddd, 1H, 2JHH,trans = 9.0 Hz,2J HH = 6.0 Hz,
2JHH,cis = 0.9 Hz, CH-CH3), 7.25(pt, 1H, 2JHH = 9.
0 Hz, CH), 7.40(pd, 2JHH = 3.0 Hz, CH), 7.49(pt, 1
H, 2JHH = 6.0 Hz, CH), 7.61(pd,1H,, 2JHH = 4.5 Hz,
CH)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、75.5
MHz,[δ]:21.0(CH3), 32.4(CH2), 44.9(CH-CH3),
123.0(CH), 125.0(CH), 127.0(CH), 134.4(CH), 136.0
(Cipso), 159.6(Cipso), 205.9(C,CO)。 IR(NaCl)cm−1:3070(s), 3050(s), 2961
(s, broad), 1713(s)[ν C=O],1605(s), 1460(s), 1405
(m), 1375(w),1325(s, broad), 1280(s, broad),1241
(m), 1213(m), 1177(m), 1151(m), 1096(s), 1042(m),
1012(m), 760(s, broad)。
【0043】実施例2 3−フェニルインダン−1−オンの合成 塩化チオニル(19.6g,12ml,0.17mol)
を3,3−ジフェニルプロピオン酸(26.0g,0.
11mol)に加え、4時間加熱還流した後、25℃で
15時間攪拌した。反応混合物から過剰の塩化チオニル
を留去(b.p.79℃)した。得られたオレンジ−ブラウ
ンの油状物を100mlのベンゼンに溶解した。得られ
た溶液を0℃に冷却し、塩化アルミニウム(16g,
0.11mol)をそれに少しずつ加えた。反応混合物
を、25℃で30分攪拌した後1.5時間加熱還流し
た。反応終了後、混合物を氷冷水(400ml)に注
ぎ、濃塩酸でpHを1に調節した。分液ロート中で有機
相を分離し、水相はベンゼン(30ml)で1回抽出
し、合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。揮発
成分をロータリーエバポレータで除去し、残渣を油ポン
プ減圧下155℃で減圧蒸留した。オレンジ色の固体が
得られた。
【0044】収量:15.8g(0.076mol、
3,3−ジフェニルプロピオン酸に対する理論量の69
%)。 融点:75℃ H−NMR 重クロロホルム中、300.0MHz,
[δ]:2.70(dd, 1H, 1JHH = 15.0 Hz, 2JHH,cis = 3.0
Hz, CH2) 3.24(dd, 1H, 1JHH = 15.0 Hz, 2J HH,trans
= 9.0 Hz, CH2), 4.58(dd, 1H, 2JHH,trans = 9.0 Hz,
2JHH,cis = 3.0 Hz, CH2), 7.12(pd, 1H, 2JHH = 6.0
Hz, C9H4), 7.2-7.4(m, 5H, C6H5), 7.42(pt, 1H, 2JHH
= 7.5 Hz, CH, C9H4), 7.57(pt, 1H, 2JHH = 6.6 Hz,
CH, C9H4), 7.82(pd, 1H, 2JHH = 7.5 Hz, CH, C9H4)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、75.5
MHz,[δ]:44.3(CH-C6H5), 46.7(CH2), 123.3(C
H), 126.8(CH), 126.9(CH), 127.5(CH), 127.5(CH), 12
7.8(CH), 128.5(CH), 128.8(CH), 135.0(CH), 136.6(C
ipso), 143.5(Cips o), 157.9(Cipso), 206.0(C,CO)。 IR(KBr)cm−1:3054(m), 3028(m), 2912(w),
1704(s, broad)[νC= O],1596(s, broad), 1454(s), 14
00(w), 1317(w),1272(s, broad), 1235(m), 1192(m), 7
50(s, broad), 968(s)。
【0045】実施例3 1,3−ジメチルインデンの合成 実施例1で合成された3−メチルインダン−1−オン
(21.0g,0.144mol)をジエチルエーテル
20mlに溶解し、メチルマグネシウムアイオダイドの
ジエチルエーテル溶液{ジエチルエーテル40ml中に
懸濁したマグネシウムパウダー(4.4g,0.18m
ol)に、ヨウ化メチル(25.4g,11.3ml,
0.18mol)を滴下して加えることによって得られ
たグリニャール溶液}に滴下した。反応混合物を2時間
還流したのち、氷冷水100mlに注いだ。混合物を、
5N塩酸によりマグネシウム塩の沈殿が溶解するまで酸
性化した。水相と有機相を分離し、水相はジエチルエー
テル50mlで2回抽出した。合わせた有機相を飽和炭
酸水素ナトリウム溶液、水、飽和塩化ナトリウム溶液そ
れぞれ30mlで洗浄した。有機相からロータリーエバ
ポレータ(40℃、1013mbar)で揮発成分を除
去し、残渣をベンゼン120ml中に移した。p−トル
エンスルホン酸(400mg,2.3mmol)を添加
後、混合物を分水器を用いて2時間還流した。溶液は、
飽和炭酸水素ナトリウム溶液(20ml)で洗浄し、有
機相を分離し硫酸ナトリウムで乾燥した。有機相から、
ロータリーエバポレータ(40℃,240mbar)で
揮発成分を除去し、残渣を油ポンプ減圧下で51℃で減
圧蒸留した。
【0046】収量:12.0g(0.0833mol,
3−メチルインダン−1−オンに対する理論量の58
%)。 H−NMR 重クロロホルム中、300.0MHz,
[δ]:1.31(d, 3H, 2JHH = 9.0 Hz, CH3), 2.16(s, 3
H, CH3), 3.43(q, 1H, 2JHH = 9.0 Hz, CH-CH3),6.16
(s, 1H, CH3-C=CH), 7.2-7.4(m, 4H, CH, C9H5)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、75.5
MHz,[δ]:12.9(CH3), 16.2(CH3), 43.6(CH-CH3),
118.8(CH), 122.4(CH), 124.6(CH), 126.2(CH), 136.0
(CH3C=CH), 138.0(Cipso,C-CH3) ,145.2(Cipso C9H5),
149.7(Cipso C9H5)。 IR(KBr)cm−1
3053(s), 2963(s, broad), 1615(s), 1455(s), 1374
(s),1071(s), 1018(s), 972(s)。
【0047】実施例4 1,3−ジフェニルインデンの合成 実施例2で得られた3−フェニルインダン−1−オン
(21.0g,0.144mol)を20mlのジエチ
ルエーテルに溶解し、フェニルマグネシウムブロミドの
ジエチルエーテル溶液{ジエチルエーテル25ml中に
懸濁したマグネシウムパウダー(2.02g,0.07
58mol)に、臭化フェニル(11.9g,8.8m
l,0.0758mol)を滴下して加えることによっ
て得られたグリニャール溶液}に滴下した。混合物は
1.5時間加熱還流し、さらに25℃で15時間攪拌
し、氷冷水100mlに注いだ。混合物を、5N塩酸に
よりマグネシウム塩の沈殿が溶解するまで酸性化した。
水相と有機相を分離し、水相はジエチルエーテル50m
lで2回抽出した。合わせた有機相を炭酸水素ナトリウ
ムの飽和溶液、水、飽和塩化ナトリウム溶液それぞれ3
0mlで洗浄した。有機相はロータリーエバポレータ
(40℃、1013mbar)で揮発成分を除去し、残
渣をベンゼン120ml中に移した。p−トルエンスル
ホン酸(400mg,2.3mmol)を添加後、混合
物を分水器を用いて3時間還流した。溶液は、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液(20ml)で洗浄し、有機相を分
液ロートにより分離し、硫酸ナトリウムで乾燥した。有
機相から、ロータリーエバポレータで揮発成分を除去
し、残渣を、固定相としてシリカゲルを、移動相として
石油エーテルを用いたカラムクロマトグラフィ(カラム
径3cm,充填高さ20cm)により精製した。白色の
固体が得られた。
【0048】収量:16.8g(0.064mol,3
−フェニルインダン−1−オンに対する理論量の85
%)。 融点:71℃ H−NMR 重クロロホルム中、300.0MHz,
[δ]:4.78(s, 1H, CH-C6H5),6.72(s, 1H, =CH-CH),
7.2-7.8(m, 14H, CH)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、75.5
MHz,[δ]: 55.4(CH-C6H5), 120.5(CH), 124.3(C
H), 125.6(CH), 126.6(CH), 126.7(CH), 126.8(CH), 12
7.7(CH), 127.8(CH), 127.8(CH), 127.9(CH), 128.0(C
H), 128.6(CH), 128.6(CH), 128.8(CH), 135.6(Cipso,C
6H5), 139.5(Cipso,C6H5), 143.1(Cipso C 9H5), 144.6
(Cipso C9H5), 149.2(Cipso,=C-C6H5)。 IR(KBr)cm−1:3059(s), 3024(s), 1489(s),
1445(s), 1345(m),1181(m), 1153(m), 1071(s)。
【0049】実施例5 2−ブロモ−1,3−ジメチルインデンの合成 実施例3で得られた1,3−ジメチルインデン(4.9
g,0.0343mol)を150mlのジエチルエー
テルに25℃で溶解した。臭素(5.5g,1.76m
l,0.0345mol)を0℃で滴下した。25℃で
3時間攪拌した後、全ての揮発成分を油ポンプ減圧下除
去した。褐色の油状物が得られた。精製は、固定相とし
てシリカゲルを、移動相としてヘキサンと塩化メチレン
(10:1)の混合物を使用したカラムクロマトグラフ
ィ(カラム径:3cm,充填高さ20cm)により行っ
た。淡黄色の油状物が得られた。
【0050】収量:7.4g(0.033mol,1,
3−ジメチルインデンに対する理論量の97%)。 元素分析:C1111Br(223.11)として理
論値:C,59.22;H,4.97。実測値:C,5
9.18;H,4.94。 H−NMR 重クロロホルム中、300.0MHz,
[δ]:1.36(d, 3H, 2JHH = 7.5 Hz, CH3), 2.12(s, 3
H, CH3), 3.43(q, 1H,, 2JHH = 7.5 Hz, CH-CH3), 7.2-
7.4(m, 4H, CH, C9H5)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、75.5
MHz,[δ]:12.4(CH3), 16.7(CH3), 48.9(CH-CH3),
119.1(CH), 122.8(CH), 125.5(CH), 127.2(CH), 129.9
(Cipso,C-Br), 137.0(Cipso,C-CH3) ,144.0(Cipso C
9H5), 147.8(CipsoC9H5) IR(NaCl)cm−1:3068(m), 3017(m), 2970
(s), 2928(s), 2868(m),1617(s), 1459(s), 1377(m), 1
281(m), 995(s)。
【0051】実施例6 2−ブロモ−1,3−ジフェニルインデンの合成 実施例4で得られた1,3−ジフェニルインデン(5.
0g、0.0186mol)を25℃でジエチルエーテ
ル150mlに溶解した。臭素(2.98g,0.96
ml,0.0186mol)を0℃で滴下した。25℃
で3時間攪拌した後、全ての揮発成分を油ポンプの減圧
下で除去した。粘稠な褐色の油状物が得られた。精製
は、シリカゲルを固定相とし、ヘキサンと塩化メチレン
の混合物(10:1)を移動相としたカラムクロマトグ
ラフィ(カラム径:3.0cm,充填高さ:20cm)
を使用して行った。無色の固体が得られた。X−線結晶
解析のために、25℃で、石油エーテルから結晶化し
て、適当な単結晶を得た。
【0052】収量:6.3g(0.0182mol,
1,3−ジフェニルインデンに対する理論量の98
%)。 元素分析:C2115Br(347.25)として、
理論値:C,72.64;H,4.35。実測値:C,
72.78;H,4.39。 融点:82℃ H−NMR 重クロロホルム中、300.0MHz,
[δ]:4.76(s, 1H, CH-C6H5), 7.2-7.7(m, 14H, CH,
C6H5およびC9H5)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]: 61.5(CH-C6H5), 120.5(CH), 124.5(C
H), 126.3(CH), 127.6(CH), 127.9(CH), 128.7(CH), 12
8.8(CH), 129.0(CH), 129.0(CH), 129.1(CH), 129.2(C
H), 129.3(CH), 129.5(CH), 129.52(Cipso, C-Br), 13
3.9(Cipso,C-C6H5), 138.5(Cipso,C6H5), 143.0(Cipso,
C6H5) , 143.6(Cipso C9H5), 147.7(Cipso C9H5)。 IR(KBr)cm−1:3066(m), 3025(m), 1592(s,
broad), 1489(m), 1450(s),1291(w, broad), 1274(w, b
road), 1071(m), 1027(m)。
【0053】実施例7 2−(tert-ブチルアミノジメチルシリル)−1,3−
ジメチルインデンの合成 実施例5で得られた2−ブロモ−1,3−ジメチルイン
デン(2.5g,0.0112mol)をテトラヒドロ
フラン5mlに溶解し、これを、テトラヒドロフラン1
5ml中のマグネシウムパウダー(0.5g,0.02
mol)およびジクロロジメチルシラン(3.9g,
3.6ml,0.03mol)の混合物に滴下した。溶
液は沸騰した(注:もし反応溶液の自然発熱が生じなけ
れば、1,2−ジブロモエタンを数滴加えることにより
これを開始することができる)。反応混合物を25℃で
15時間攪拌し、続いて全揮発成分を油ポンプ減圧下で
除去した。石油エーテル40mlを加えて、得られる懸
濁体をろ過し、マグネシウム塩を除去した。得られたろ
液から全揮発成分を油ポンプの減圧下除去した。得られ
た淡黄色の油状物をジエチルエーテル30mlに溶解し
て、0℃に冷却した。水素化ナトリウムで乾燥したtert
−ブチルアミン(2.16g,3.1ml,0.029
6mol)を加えた。混合物を25℃で15時間攪拌
し、その後全揮発成分を油ポンプの減圧下除去した。石
油エーテル40mlを加えて、析出するアンモニウム塩
をろ過により除いた。油ポンプ減圧下溶媒を除去した
後、得られた黄色油状物を連球式蒸留器で油ポンプ減圧
下170℃で蒸留した。無色の油状物が得られた。
【0054】収量:1.0g(3.66mmol,2−
ブロモ−1,3−ジメチルインデンに対する理論量の3
2%)。 元素分析:C1727NSi(273.49)として
理論値:C,74.66;H,9.95。実測値:C,
74.21;H,9.60。 H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:0.25(s, 3H, SiCH3), 0.28 (s, 3H, SiCH3),
1.08(s, 9H, C(CH3), 1.25(d, 3H, 2JHH = 10.0Hz, C
H3), 2.21(s, 3H, CH3), 3.45(q, 1H, 2JHH = 10.0 Hz,
CH-CH3), 7.1-7.3(m, 4H, CH)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:3.1(SiCH3), 3.7(SiCH3), 13.9(CH3),
18.1(CH3), 33.8(C(CH3)3), 48.9(CH-CH3), 49.7(C(C
H3)3), 118.9(CH), 122.4(CH), 125.2(CH), 126.3(CH),
146.3(=C-CH3),147.3(Cipso C9H5), 147.8(Cipso C
9H5), 152.4(C-Si)。 IR(NaCl)cm−1:3382(s) [νNH], 3064(s),
2956(s, broad), 2867(s), 1593(m),1556(s), 1372
(s), 1297(w), 1251(s)[νSiC], 1226(s), 1094(s, bro
ad), 1025(s, broad), 842(s, broad)。
【0055】実施例8 2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−1,3−
ジフェニルインデンの合成。 2−ブロモ−1,3−ジフェニルインデン(実施例6)
(2.5g,0.0072mol)をテトラヒドロフラ
ン5mlに溶解し、テトラヒドロフラン10ml中のマ
グネシウムパウダー(0.35g、0.0144mo
l)およびジクロロジメチルシラン(2.8g,2.6
ml,0.0216mol)混合物に、滴下した。溶液
は沸騰した。その溶液を25℃で15時間攪拌した後、
揮発成分を油ポンプの減圧下、除去した。石油エーテル
40mlを加え、マグネシウム塩をG3グラスフィルタ
ーにより除去した。ろ液から全ての揮発成分を油ポンプ
の減圧下、除去した。得られた淡黄色油状物をジエチル
エーテル30mlに溶解し、0℃に冷却した。水素化ナ
トリウムで乾燥したtert−ブチルアミン(2.16g,
3.1ml,0.0296mol)を加えた。反応混合
物を25℃で15時間攪拌し、tert−BuNH・HC
lを分離除去した。全ての揮発成分を油ポンプの減圧
下、除去した。残渣に石油エーテル40mlを加え、析
出したtert−BuNH・HClをG4グラスフィルタ
ーにより除去した。油ポンプの減圧下全ての溶媒を除去
した後、得られた淡黄色油状物を連球式蒸留器で油ポン
プの減圧下254℃で蒸留した。粘稠な無色の油状物が
得られた。
【0056】収量:1.36g(3.4mmol,2−
ブロモ−1,3−ジフェニルインデンに対する理論収率
48%) 元素分析:C2731NSi(397.63)として理
論値:C,81.56;H,7.86。実測値:C,8
1.13;H,7.64。 H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:-0.11(s, 3H,SiCH3), 0.00 (s, 3H, SiCH3),
0.97(s, 9H, C(CH3), 4.88(s, 1H, CH-C6H5), 7.1-7.3
(m, 10H, CH), 7.4-7.8(m, 4H, CH)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:3.2(SiCH3), 4.0(SiCH3), 33.6(C(CH3)
3), 49.5(C(CH3)3), 60.9(CH-C6H5), 120.6(CH), 123.9
(CH), 125.6(CH), 126.0(CH), 126.8(CH), 126.8(CH),
127.5(CH),127.8(CH), 128.0(CH), 128.2(CH), 128.4(C
H), 128.5(CH), 128.7(CH), 129.6(CH),137.9(Cipso C6
H5), 140.7(Cipso C6H5), 146.2(Cipso C9H4), 149.5(C
ipso C9H4), 152.1(Cipso C-C6H5), 154.5(C-Si)。 IR(NaCl)cm−1:3382(s)[νNH], 3064(s),
2956(s, broad), 2867(s), 1593(m),1556(s), 1372(s),
1297(w), 1251(s)[νSiC], 1226(s), 1094(s,broad),
1025(s, broad), 842(s, broad)。
【0057】実施例9 2−(シクロペンタジエニルジメチルシリル)−1,3
−ジメチルインデンの合成 実施例5で得られた2−ブロモ−1,3−ジメチルイン
デン(2.5g,0.0112mol)をテトラヒドロ
フラン5mlに溶解し、テトラヒドロフラン15ml中
のマグネシウムパウダー(0.5g,0.02mol)
およびジクロロジメチルシラン(3.9g,3.6m
l,0.03mol)混合物に滴下した。溶液は沸騰し
た。反応溶液を25℃で15時間攪拌した後、全揮発成
分を油ポンプ減圧下で除去した。石油エーテル40ml
を加え、マグネシウム塩をG3ガラスフィルターにより
分離した。得られたろ液から全揮発成分を油ポンプ減圧
下で除去した。得られた黄色の油状物をジエチルエーテ
ル30mlに溶解し、0℃に冷却した。テトラヒロドフ
ラン10mlに溶解したシクロペンタジエニルナトリウ
ム(1.0g,0.0112mol)を加えた。反応混
合物は25℃で15時間攪拌した後、全ての揮発成分を
油ポンプ減圧下除去した。次に石油エーテル35mlを
加え、析出したNaClを珪藻土(G4ガラスフィルタ
ー)を通して、ろ別した。残渣を、シリカゲルを固定相
とし、ヘキサンと塩化メチレン(10:1)を移動相と
したカラムクロマトグラフィ(カラム径:3.0cm,
充填高さ20cm)により精製した。淡黄色の油状物が
得られた。
【0058】収量:0.856g(3.2mmol,2
−ブロモ−1,3−ジメチルインデンに対する理論量の
29%) 元素分析:C1822Si(266.46)として、
理論値:C,81.12;H,8.34。実測値:C,
81.25;H,8.17。 H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:0.00(s, 3H, SiCH3), 0.15 (s, 3H, SiCH3),
1.25(d, 3H, 3JHH = 10.0 Hz, CH3), 2.28(s, 3H, C
H3), 3.40 (q, 1H, 3JHH = 10.0 Hz, CH-CH3), 3.52(s,
1H, CH-Si(CH3)2),6.5-6.7(m, 4H, C5H5), 6.9-7.1(m,
4H, C9H4)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:-3.1(SiCH3), -2.0(SiCH3), 13.0(C
H3), 15.4(CH3), 48.0(CH-CH3), 50.0(CH-Si), 119.0(C
H), 122.4(CH), 125.3(CH), 126.6(CH), 130.8(=CH, C5
H5), 133.1(=CH, C 5H5), 144.2(Cipso), 145.9(Cipso),
148.9(Cipso, C-CH3), 152.2(Cipso, C-Si)。 IR(NaCl)cm−1:3066(s), 3016(s), 2960
(s), 2868(s), 1939(w),1899(w), 1792(w), 1590(m), 1
557(s),1464(s), 1338(s),1250(s)[νSiC], 1118(s), 9
73(s), 950(s), 907(s)。
【0059】実施例10 2−(シクロペンタジエニルジメチルシリル)−1,3
−ジフェニルインデンの合成 実施例6で得られた2−ブロモ−1,3−ジフェニルイ
ンデン(2.5g,0.0072mol)をテトラヒド
ロフラン5mlに溶解し、テトラヒドロフラン10ml
中のマグネシウムパウダー(0.35g,0.0144
mol)およびジクロロジメチルシラン(2.8g,
2.6ml,0.0216mol)の混合物に滴下し
た。溶液は沸騰した。反応溶液を25℃で15時間攪拌
した後、油ポンプ減圧下、全揮発成分を除去した。石油
エーテル40mlを加えて、得られる懸濁物からマグネ
シウム塩を除去するため、G4ガラスフィルターにより
ろ過した。得られたろ液から全揮発成分を油ポンプ減圧
下、除去した。得られた淡黄色油状物をジエチルエーテ
ル20mlに溶解し、0℃まで冷却した。テトラヒドロ
フラン5mlに溶解したシクロペンタジエニルナトリウ
ム(0.634g,0.0072mol)を加えた。反
応混合物を、25℃で15時間攪拌した後、全揮発成分
を油ポンプ減圧下除去した。次に、石油エーテル35m
lを加え、析出した塩化ナトリウムをろ別した。残渣
を、シリカゲルを固定相としヘキサンと塩化メチレン
(10:1)の混合物を移動相とするカラムクロマトグ
ラフィ(カラム径:3.0cm,充填高さ20cm)に
より精製した。淡黄色の粘稠な油状物が得られた。
【0060】収量:0.98g(2.5mol,2−ブ
ロモ−1,3−ジフェニルインデンに対する理論量の3
5%) 元素分析:C2826Si(390.60)として理
論値:C,86.06;H,6.72。実測値:C,8
5.98;H,6.75。 H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:-0.25(s, 3H,SiCH3), 0.00 (s, 3H, SiCH3),
3.35(s, 1H, CH-Si), 5.05(s, 1H, CH-C6H5), 6.5-6.7
(m, 4H, C5H5), 7.2-7.7(m, 4H, C9H4)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:-3.9(SiCH3), -1.6(SiCH3), 42.5(CH-S
i), 61.1(CH-C6H5), 120.6(CH), 123.9(CH), 125.6(C
H), 126.0(CH), 126.8(CH), 126.8(CH), 127.5(CH),12
7.8(CH), 128.0(CH), 128.2(CH), 128.4(CH), 128.5(C
H), 128.7(CH), 129.6(CH), 130.8(=CH, C5H 5), 133.1
(=CH, C5H5), 137.9(Cipso, C6H5), 140.7(Cipso, C
6H5), 146.2(Cips o, C9H5), 149.5(Cipso, C9H5), 152.
1(Cipso, C-C6H5), 154.5(C-Si)。 IR(NaCl)cm−1:3027(s), 2961(s), 2879
(s), 1951(m), 1882(m),1809(m), 1759(m), 1599(s), 1
499(s),1455(s), 1336(s),1288(s), 1274(s), 1257(s)
SiC], 1192(s), 1159(s), 1087(s), 1029(s), 1001
(s), 919(s), 884(s), 774(s)。
【0061】実施例11 2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−1,3−
ジメチルインデンチタニウムジクロリドの合成 実施例7で得られた2−(tert−ブチルアミノジメチル
シリル)−1,3−ジメチルインデン(0.68g,
2.48mmol)を石油エーテル10mlに溶解し、
2.5Mのn−BuLiへキサン溶液(2.1ml,
4.96mmol)により、−78℃で金属化した。−
50℃で黄色の固体が析出した。反応混合物を冷却浴中
で3時間かけて25℃まで加温した。上澄みを析出した
ジリチウム塩からピペットで除去し、残渣を油ポンプ減
圧下で乾燥した。
【0062】TiCl・3THF(0.918g、
2.48mmol)をテトラヒドロフラン5mlに懸濁
し、−78℃に冷却した。ジリチウム塩をテトラヒドロ
フラン10mlに溶解し、−78℃に冷却した。この溶
液をカニューレを使って、TiCl・3THFの懸濁
液に移した。反応混合物を3時間で25℃まで加温し
た。反応混合物の色は、黄色から赤へと変化した。Ag
Cl(0.720g、4.96mmol)を一回で加え
た。反応混合物を、25℃で45分間攪拌した後、揮発
成分を油ポンプ減圧下に除去した。残渣をトルエン30
mlを加えて、珪藻土(G4ガラスフィルター)を通し
てろ過した。油ポンプ減圧下、トルエンを除去した後、
石油エーテル20mlを加えた。赤褐色の沈殿が析出し
た。上澄み液を固体からデカンテーションで除去した。
残渣を油ポンプ減圧下乾燥した。赤褐色の粉末が得られ
た。
【0063】収量:0.55g(1.41mmol、2
−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−1,3−ジ
メチルインデンに対する理論量の57%) 元素分析:C1725ClNSiTi(390.2
7)として、理論値:C,52.32;H,6.46。
実測値:C,52.00;H,6.26。 融点:146℃ H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:0.80(s, 6H, SiCH3), 1.30(s, 9H, C(CH3), 2.
45(s, 6H, CH3), 7.35(dd, 2H,2JHH = 7.4 Hz, 3JHH =
3.5 Hz, C9H4), 7.60(dd, 2H, 2JHH = 7.4 Hz, 3JHH =
3.5 Hz, C9H4).13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:5.8(Si(CH3)2), 16.4 (CH3), 33.7(C(C
H3)3), 64.3(C(CH3)3), 123.1(CH), 124.8 (C-Si), 12
7.9(CH), 134.2(Cipso, C9H4), 135.1(Cipso, C9H4). IR(CaF2,重クロロホルム溶解)cm−1:3057(m),
2970(s), 2929(s), 2874(s), 1589(s, broad),1499(m),
1462(m), 1448(m), 1403(m),1380(m), 1364(m),1293
(w), 1256(s)[νSiC], 1216(m), 1182(s), 1102(m), 10
28(m, broad), 981(s), 930(s)。
【0064】実施例12 2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−1,3−
ジフェニルインデンジルコニウムジクロリドの合成 実施例8で得られた、2−(tert−ブチルアミノジメチ
ルシリル)−1,3−ジフェニルインデン(0.705
g、1.77mmol)を石油エーテル10mlに溶解
し、2.5Mのn−BuLiのヘキサン溶液(1.5m
l、3.55mmol)により、−78℃で金属化し
た。−50℃で、黄色の固体が析出した。反応混合物を
冷却浴で、3時間で25℃まで加温した。上澄み液を析
出したジリチウム塩からピペットで除去し、石油エーテ
ル各10mlで2回洗浄した。残渣を油ポンプ減圧下、
乾燥した。
【0065】そのリチウム塩Li2{2-(1,3-Ph2C9H5)SiMe2
NHtert-Bu}をトルエン8mlに溶解し、−78℃に冷却
した。四塩化ジルコニウム(0.412g、1.77m
mol)をトルエン8mlに懸濁し、上記ジリチウム塩
を加えた。反応混合物を、3時間で25℃まで加温し、
反応混合物の色は、淡黄色から、黄橙色へと変化した。
反応混合物を、25℃で15時間攪拌した後、珪藻土
(G4グラスフィルター)を通してろ過した。油ポンプ
減圧下、トルエンを除去した後、石油エーテル15ml
を加えたところ、黄色の固体が析出した。上澄み液を固
体からデカンテーションで除き、残渣を油ポンプ減圧
下、乾燥した。黄色の粉末が得られた。
【0066】収量:0.6g(1.07mmol、2−
(tert―ブチルアミノジメチルシリル)−1,3−ジフ
ェニルインデンの理論量に対して61%)。 融点:125℃ H−NMR 重クロロホルム中[δ]:0.00(s, 6H,
SiMe2), 1.27(s, 9H,CMe3), 7.28(dd, 2H, 2JHH = 7.6
Hz, 3JHH = 3.4 Hz, C9H4), 7.4-7.5(m, 10H,C6H5), 7.
66(dd, 2H, 2JHH = 7.6 Hz, 3JHH = 3.4 Hz, C9H4).13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、[δ]:
5.3(SiMe2), 33.4(C(CH3)3), 58.8(C(CH3)3), 122.5(C
H, C9H4), 127.4(CH, C9H4), 128.5(CH, C6H5),128.5(C
H, C6H5), 129.7(CH, C6H5), 134.0(CSi, C9H4), 132.4
(Cipso, C6H5),134.8(Cipso, C9H4), 134.9(Cipso, C9H
4)。 IR(CaF2,重クロロホルム溶解)cm−1:3061(m, b
road), 2958(s, broad), 2929(s), 2870(s), 1954(w),
1900(w), 1811(w), 1598(s, broad), 1497(m),1460(m),
1450(m),1402(m), 1384(m), 1364(m), 1293(w), 1256
(s)[νSiC], 1185(s), 1099(m), 1077(s), 1029(s), 99
1(s)。
【0067】実施例13 2−(シクロペンタジエニルジメチルシリル)−1,3
−ジメチルインデンジルコノセンジクロリドの合成。 実施例9で得られた2−(シクロペンタジエンジメチル
シリル)−1,3−ジメチルインデン(0.53g、
1.99mmol)をジエチルエーテル10mlに溶解
し、−78℃で、2.5Mのn−BuLiヘキサン溶液
(1.6ml、3.98mmol)で金属化した。25
℃まで加温した後、反応混合物を更に4時間攪拌した。
揮発成分を油ポンプ減圧下除去し、残渣を石油エーテル
各15mlで2回洗浄し、ジリチウム塩をトルエン15
mlに懸濁した。懸濁物を−20℃まで冷却した。トル
エン10mlに懸濁した四塩化ジルコニウム(0.46
5g、2.00mmol)を反応混合物に加え、混合物
を25℃で15時間攪拌した。全ての揮発成分を油ポン
プ減圧下で除去し、残渣を石油エーテル5mlで洗浄
し、石油エーテルを油ポンプ減圧下で除去した。塩化メ
チレン30mlを加え、不溶分を除去するために、溶液
を珪藻土を用いて、G4ガラスフィルターにてろ過し
た。塩化メチレンを油ポンプ減圧下除去した後、レモン
色の固体が得られた。
【0068】収量:0.44g(1.03mmol,2
−(シクロペンタジエニルジメチル−シリル)−1,3
−ジメチルインデン)に対する理論収量の52%) 元素分析:C1820ClSiZr(426.5
6)として、理論値:C,50.68;H,4.74。
実測値:C,51.04;H,4.75。 融点:155℃より(融解することなく、連続的に分
解) H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:0.90(s, 6H, Si(CH3)2), 2.30 (s, 6H, CH3),
5.85(pt, 2H, JHH = 2.4 Hz, C5H4), 6.80(pt,2H, JHH
= 2.4 Hz, C5H4), 7.25(dd, 2H, 2JHH = 7.5 Hz, 3JHH
= 3.7 Hz C9H4), 7.48(dd, 2H, 2JHH = 7.5 Hz, 3JHH =
3.7 Hz, C9H4)。13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:-0.5(Si(CH3)2), 14.7(CH3), 113.9(C
H, Cp), 117.0(C-Si, C5H4), 124.0(CH, C5H4),126.2(C
H, C9H4), 128.2(CH, C9H4), 137.5(Cipso, C9H4), 14
0.0(Cipso, C-CH 3), 145.0(C-Si, C9H4). IR(KBr)cm−1:3178(s, broad), 3066(s), 2962
(s), 1951(w), 1918(w),1895(w), 1867(w), 1774(w), 1
746(w),1648(m, broad), 1459(w),1394(m), 1365(m), 1
259(m)[νSiC], 1166(m), 1051(m), 838(s), 816(s), 7
44(s)。
【0069】実施例14 2−(シクロペンタジエニルジメチルシリル)−1,3
−ジフェニルインデンジルコノセンジクロリドの合成 実施例10で得られた2−(シクロペンタジエンジメチ
ルシリル)−1,3−ジフェニルインデン(0.81
g,2.077mmol)を、ジエチルエーテル25m
lに溶解し、2.5Mのn−BuLiヘキサン溶液
(1.7ml,4.15mmol)により−78℃で金
属化した。反応混合液を25℃まで加温し、更に4時間
攪拌した。全揮発成分を油ポンプの減圧下除去し、残渣
を石油エーテル各15mlで2回洗浄し、トルエン20
ml中に懸濁した。懸濁物を−20℃に冷却した。トル
エン15mlに懸濁した四塩化ジルコニウム(0.48
g,2.06mmol)を、反応溶液に加え、混合物を
25℃で15時間攪拌した。全揮発成分を油ポンプ減圧
下除去し、残渣を石油エーテル10mlで洗浄し、油ポ
ンプ減圧下乾燥した。塩化メチレン30mlを加え、不
溶分を取り除くため、その溶液を珪藻土を通してG4ガ
ラスフィルターによりろ過した。油ポンプ減圧下、塩化
メチレンを除去後、明黄色の固体が得られた。塩化メチ
レンから−20℃で結晶化して、X線構造解析(図1)
に適した単結晶が得られた。
【0070】収量:1.033g(1.87mmol,
2−(シクロペンタジエニルジメチルシリル)−1,3
−ジフェニルインデンに対する理論量の90%)。 元素分析:C2824ClSiZr(550.7
1)として理論値:C,61.06;H,4.40。実
測値:C,60.86;H,4.10。 融点:129℃。 H−NMR 重クロロホルム中、250.0MHz,
[δ]:0.00(s, 6H, Si(CH3)2), 5.62(pt, 2H, JHH =
2.4 Hz, C5H4), 6.85(pt, 2H, JHH = 2.4 Hz, C 5H4),
7.0-7.2(m, 6H, C6H5), 7.25(dd, 2H, 2JHH = 7.5 Hz,
3JHH = 3.7 Hz C9H4), 7.2-7.3(m, 6H, C6H5), 7.45(d
d, 2H, 2JHH = 7.5 Hz, 3JHH = 3.7 Hz, C9H4).13 C{H}−NMR 重クロロホルム中、62.9
MHz,[δ]:0.0(Si(CH3)2), 113.0(C-Si, C5H4), 1
15.2(CH, C5H4), 124.4(CH, C5H4), 127.2(CH,C9H4), 1
28.8(CH, C9H4), 128.9(CH, C6H5), 129.4(CH, C6H5),
129.7(CH, C6H 5), 132.0(Cipso, C-C6H5), 133.8
(Cipso, C6H5), 135.6(Cipso, C9H5), 140.0(C-Si, C9H
5). IR(KBr)cm−1:3397(s, broad), 1945(w), 1906
(w),1864(w), 1822(w), 1745(w), 1628(m, broad), 159
9(w), 1498(w), 1445(w), 1385(w), 1254(m)[νSiC], 1
178(m), 1073(m), 1047(m), 1001(m), 846(s), 820(s),
798(s), 758(s)。
【0071】実施例15 エチレン、プロピレンおよび5−エチリデンノルボルネ
ン(ENB)の3元共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンおよびプロピレンの計量器を備えた容量1.4
リットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に実施例11で得られた2−(tert−ブチルアミノジメ
チルシリル)−1,3−ジメチルインデンチタニウムジ
クロリド2.0mg(5μmol)のトルエン2.5m
l溶液を加えた。サーモスタットにより内部温度を30
℃に制御した。エチレン15gとプロピレン14.4g
を計量して加えた。重合は、トルエン8ml中のトリフ
ェニルメチル−テトラキス−(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート37mg(40μmol)の溶液を添加す
ることにより開始した。ENB(5ml)を圧力弁から
加えた。エチレンとプロピレンを連続的に50:50の
重量比で計量添加したので、圧力は30℃で6barで
一定に保たれた。25分重合後、オートクレーブ圧を開
放した。後処理のために、ポリマーをメタノール中で析
出させて、真空中60℃で20時間乾燥した。共重合体
41.1gが得られた。共重合体の組成をIR分光光度
計により決定したところ、エチレン47.3質量%、プ
ロピレン46.8質量%およびENB6.3質量%であ
った。ゴム状のポリマーが得られ、そのムーニー粘度は
28.2であった。
【0072】実施例16 エチレン、プロピレンおよび5−エチリデン−2−ノル
ボルネン(ENB)の3元共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンおよびプロピレンの計量器を備えた容量1.4
リットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に実施例11で得られた2−(tert−ブチルアミノジメ
チルシリル)−1,3−ジメチルインデンチタニウムジ
クロリド2.0mg(5μmol)のトルエン2.5m
l溶液を加えた。内部温度を60℃に制御した。エチレ
ン11gとのプロピレン10gを計量して加えた。重合
は、トルエン1ml中のトリフェニルメチル−テトラキ
ス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート4.6mg
(5μmol)の溶液を添加することにより開始した。
ENB(5ml)を圧力弁から加えた。エチレンとプロ
ピレンを連続的に50:50の重量比で計量添加したの
で、圧力は60℃で6barで一定に保たれた。20分
重合後、トルエン10ml中のトリフェニルメチル−テ
トラキス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート46m
g(50μmol)を再度オートクレーブに添加した。
50分の合計重合時間の後、オートクレーブの圧力を開
放した。後処理のために、ポリマーをメタノール中で析
出させて、真空中60℃で20時間乾燥した。共重合体
37.1gが得られた。共重合体の組成をIR分光光度
計により決定したところ、エチレン47.6質量%、プ
ロピレン44.6質量%およびENB8.5質量%であ
った。ゴム状のポリマーが得られ、そのムーニー粘度は
105.2であった。
【0073】実施例17((2−IndSiMe2Ntert-Bu)Ti
Cl2を用いた比較例) エチレン、プロピレンおよび5−エチリデン−2−ノル
ボルネン(ENB)の3元共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンおよびプロピレンの計量器を備えた容量1.4
リットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に、2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−イン
デンチタニウムジクロリド5.4mg(15μmol)
のトルエン7.5ml溶液を加えた。内部温度を30℃
に制御した。エチレン17.2gとプロピレン15.3
gを計量して加えた。重合は、トルエン12ml中のト
リフェニルメチル−テトラキス−(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート55.3mg(60μmol)の溶液を
添加することにより開始した。ENB(5ml)を圧力
弁から加えた。エチレンとプロピレンを連続的に50:
50の重量比で計量添加したので、圧力は30℃で6b
arで一定に保たれた。40分重合後、オートクレーブ
圧を開放した。後処理のために、ポリマーをメタノール
中で析出させて、真空中60℃で20時間乾燥した。共
重合体43.8gが得られた。ゴム状のポリマーが得ら
れ、そのムーニー粘度は22.6であった。
【0074】実施例18(Me4CpSiMe2Ntert-Bu)TiCl2
用いた比較例) エチレン、プロピレンおよび5−エチリデン−2−ノル
ボルネン(ENB)との3元共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンおよびプロピレンの計量器を備えた容量1.4
リットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に、2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−テト
ラメチルシクロペンタジエンチタニウムジクロリド5.
4mg(15μmol)のトルエン7.5ml溶液を加
えた。サーモスタットにより内部温度を30℃に制御し
た。エチレン17.2gとプロピレン15.3gを計量
して加えた。重合は、トルエン12ml中のトリフェニ
ルメチル−テトラキス−(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート55.3mg(60μmol)の溶液を添加する
ことにより開始した。ENB(5ml)を圧力弁から加
えた。エチレンとプロピレンを連続的に50:50の重
量比で計量添加したので、圧力は30℃で6barで一
定に保たれた。40分重合後、オートクレーブ圧を開放
した。後処理のために、ポリマーをメタノール中で析出
させて、真空で60℃20時間乾燥した。共重合体4
3.8gが得られた。ゴム状のポリマーが得られ、その
ムーニー粘度は22.6であった。
【0075】実施例19((2-テトラヒドロインダセニ
ル)SiMe2Ntert-Bu)TiCl2を用いた比較例) エチレン、プロピレンおよび5−エチリデン−2−ノル
ボルネン(ENB)の3元共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンおよびプロピレンの計量器を備えた容量1.4
リットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に、2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)−テト
ラヒドロインダセンチタニウムジクロリド2.0mg
(10μmol)のトルエン2.5ml溶液を加えた。
内部温度を60℃に制御した。エチレン13.3gとプ
ロピレン12.9gを計量して加えた。重合は、トルエ
ン20ml中のトリフェニルメチル−テトラキス−(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート37mg(40μmo
l)の溶液を添加することにより開始した。ENB(5
ml)を圧力弁から加えた。エチレンとプロピレンを連
続的に50:50の重量比で計量添加したので、圧力は
60℃で6barで一定に保たれた。60分重合後、オ
ートクレーブ圧を開放した。後処理のために、ポリマー
をメタノール中で析出させて、真空で60℃20時間乾
燥した。共重合体21gが得られた。
【0076】実施例20(Me4CpSiMe2Ntert-Bu)TiCl2
用いた比較例) エチレン、プロピレンおよび5−エチリデン−2−ノル
ボルネン(ENB)の3元共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンやプロピレンの計量器を備えた容量1.4 リ
ットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に、2−(tert−ブチルアミノジメチルシリル)テトラ
メチルシクロペンタジエニルチタニウムジクロリド1.
8mg(5μmol)のトルエン2.5ml溶液を加え
た。内部温度を60℃に制御した。エチレン9.9gと
プロピレン8.9gを計量して加えた。重合は、トルエ
ン11ml中のトリフェニルメチル−テトラキス−(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート25.3mg(27.
5μmol)の溶液を添加することにより開始した。E
NB(5ml)を圧力弁から加えた。エチレンとプロピ
レンを連続的に50:50の重量比で計量添加したの
で、圧力は60℃で6barで一定に保たれた。40分
重合後、オートクレーブ圧を開放した。後処理のため
に、ポリマーをメタノール中で析出させて、真空で60
℃20時間乾燥した。共重合体36.9gが得られた。
ゴム状のポリマーが得られ、そのムーニー粘度は24.
7であった。
【0077】実施例21 エチレンとプロピレンの共重合 ヘキサン500mlとTIBA 1mlを、機械式攪拌
機、圧力計、温度センサー、温度制御器、触媒添加器、
エチレンおよびプロピレンの計量器を備えた容量1.4
リットルのスチール製オートクレーブに仕込んだ。これ
に実施例14で得られた2−(シクロペンタジエニルジ
メチルシリル)−1,3−ジフェニルインデンジルコノ
センジクロリド1.4mg(2.5μmol)のトルエ
ン1.25ml溶液を加えた。内部温度を40℃に制御
した。プロピレン30.5g(2.8bar)とエチレ
ン13.5gを計量して加えた(全圧7barまで)。
重合は、トルエン2.5ml中のトリフェニルメチル−
テトラキス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート4.
6mg(5μmol)の溶液を添加することにより開始
した。重合中内部温度は53℃まで上昇した。12分
後、オートクレーブ圧を開放した。後処理のために、ポ
リマーをメタノール中で析出させて、真空中60℃で2
0時間乾燥した。共重合体32.9gが得られた。ゴム
状のポリマーが得られた。共重合体の組成をIR分光光
度計により決定したところ、エチレン72.0質量%、
プロピレン28.0質量%であった。DSCによりガラ
ス転移点は、−46℃と測定された。固有粘度を測定し
たところ1.8dl/gであった。
【0078】本発明は、説明を目的に詳細に述べてきた
が、それは単に説明の目的のためであって、請求項によ
り限定された場合を除き、発明の趣旨と範囲を逸脱せず
に、当業者によりその他の変形ができることが理解され
る。
【0079】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、2−(シクロペンタジエニル−メチル
シリル)−1,3−ジフェニルインデンジルコノセンジ
クロリドのX線構造分析を示すものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス・ヴァイス ドイツ連邦共和国68259マンハイム−フロ イデンハイム、ヴィムプフェナー・シュト ラーセ6番 (72)発明者 ハインリヒ・ラング ドイツ連邦共和国09125ケムニツ−ハルタ ウ、アム・フェルトライン6アー番 Fターム(参考) 4H049 VN01 VN05 VN06 VP02 VQ08 VQ09 VQ35 VR22 VR32 VS08 VS12 VS35 VU14 4J128 AA01 AB00 AB01 AC10 AC28 AD05 AD06 BA00A BA01B BB01B BC12B BC15B EA01 EB02 EB04 EB18

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I): 【化1】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
    キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違し
    て、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
    として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    −アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
    ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
    ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
    ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
    基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
    シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
    ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
    ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
    フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
    アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
    し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
    して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
    ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
    アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
    キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
    ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
    −C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
    ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
    キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
    による元素周期表IV族、V族またはVI族の遷移金属
    である。Xは、アニオンを表す。nは、Mの価数と結
    合状態によって決定される0〜4の数である。mは、Q
    基の数によって決定される0〜4の数である。Yは、
    −C(R)−、−Si(R)−、−Ge
    (R)−、−C(R)−C(R
    −、−C(R)−Si(R)−、−Si
    (R)−Si(R)−から成る群より選ば
    れる架橋基であって、R、R、R、およびR
    は、相互に独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐
    のC〜C10−アルキル基、C〜C−シクロアル
    キル基、C〜C14−アリール基、或いはC〜C
    10−アラルキル基である。Zは、開鎖状および環状
    の、場合によりアニオン性のπシステム、−N(R
    −、−P(R)−、|N(R)−、|P(R
    )−、−O−、−S−、|OR−、または|SR
    −から選ばれる第2配位子であり(元素記号N、P、
    OおよびSの左の縦線は電子対を示す)、ZとMの間
    の結合はイオン結合、共有結合または配位結合であり、
    、R、RおよびRは、相互に独立に、R
    と同じ意味を持ち、加えて、RとRは−Si
    (R)を表すことができ、RとRは−S
    i(R)、−OR、−SR、または−N
    (R)を表す。]で示される1,3−位に二置換
    された2−インデニル配位子を有する、遷移金属の有機
    金属化合物の製造方法であって、式(II): 【化2】 [式中、Halは、Cl、BrまたはIを表し、
    、QおよびQは、上記と同意義である。]で示
    される1,3−位に置換されたハロゲン化インデンを、
    IUPAC1985による周期表のI、IIまたはXI
    I族から選ばれる金属元素、或いは対応するその金属化
    合物とを、金属元素/金属化合物が式(II)の1モル
    に対して1〜100モルの範囲の量で反応させ、かつ、
    式(III): 【化3】Hal−Y−Hal (III) [式中、HalおよびHalは、相互に独立に、C
    l、Br、Iであり、Yは上記と同意義である。」で示
    される架橋基Yのジハライドと、(III)が(II)
    の1モルに対して1〜20倍の量で反応させ、ここで、
    Yが−Si(R)−、−Ge(R)−また
    は−Si(R )−Si(R)−であれば、
    (II)と金属元素/金属化合物の反応(i)、それと
    (III)との反応(ii)も同時に生じることがあ
    り、次いで、式(IV): 【化4】 [式中、Q、Q、Q、Y、Halおよびmは、
    上記と同意義である。]で示される反応生成物を、任意
    に分離した後、任意に補助塩基の存在下、式: 【化5】 ZM (Va) または ZR (Vb) [式中、MはLi、Na、K、または−MgHal
    を表し、HalはHalと同意義である。pは1ま
    たは2の数を示す。Rは、水素、−Si(R
    )またはSn(R)を表す。Z、R、R
    およびRは上記と同意義である。]で示されるZ誘
    導体と、式: 【化6】 MHal (VIa) または RHal (VIb) [式中、M、RおよびHalは上記と同意義であ
    る。]を放出しながら、反応させて、式(VII): 【化7】 [式中、Q、Q、Q、Y、Zおよびmは上記と同
    意義である。この化合物は、ジアニオンとして存在して
    もよく、Zは、さらにM、Rまたは電子対を伴って
    もよい。]で示される2−インデニル化合物を形成し、
    次いで、この2−インデニル化合物を、式(VII
    I): 【化8】M (VIII) [式中、MおよびXは、上記と同意義であり、qはM
    の酸化状態によって決定される2〜6の数である。]
    で示される遷移金属化合物とさらに反応させる工程を含
    む製造方法。
  2. 【請求項2】 一般式(I): 【化9】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
    キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違し
    て、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
    として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    −アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
    ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
    ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
    ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
    基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
    シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
    ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
    ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
    フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
    アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
    し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
    して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
    ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
    アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
    キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
    ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
    −C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
    ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
    キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
    による元素周期表IV族、V族またはVI族の遷移金属
    である。Xは、アニオンを表す。nは、Mの価数と結
    合状態によって決定される0〜4の数である。mは、Q
    基の数によって決定される0〜4の数である。Yは、
    −C(R)−、−Si(R)−、−Ge
    (R)−、−C(R)−C(R
    −、−C(R)−Si(R)−、−Si
    (R)−Si(R)−から成る群より選ば
    れる架橋基であって、R、R、R、およびR
    は、相互に独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐
    のC〜C10−アルキル基、C〜C−シクロアル
    キル基、C〜C14−アリール基、或いはC〜C
    10−アラルキル基である。Zは、開鎖状および環状
    の、場合によりアニオン性のπシステム、−N(R
    −、−P(R)−、|N(R)−、|P(R
    )−、−O−、−S−、|OR−、または|SR
    −から選ばれる第2配位子であり(元素記号N、P、
    OおよびSの左の縦線は電子対を示す)、ZとMの間
    の結合はイオン結合、共有結合または配位結合であり、
    、R、RおよびRは、相互に独立に、R
    と同じ意味を持ち、加えて、RとRは−Si
    (R)を表すことができ、RとRは−S
    i(R)、−OR、−SR、または−N
    (R)を表す。]で示される1,3−位に置換さ
    れた2−インデニル配位子を有する遷移金属の有機金属
    化合物。
  3. 【請求項3】 式(IV): 【化10】 [QおよびQは、同一または相違して、1,3−位
    に置換された2−インデニル系の置換基として、水素、
    〜C−アルキル基、C〜C14−アリール基、
    〜C10−アラルキル基、C〜C−アルコキシ
    ル基、C〜C −アルキルチオ基、フェノキシ基、フ
    ェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ基、C
    〜C14−アリール−C〜C−アルキルアミノ
    基、ジ−C 〜C14−アリールアミノ基、ジベンジル
    アミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、ジ−
    〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C〜C
    −アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、ジ−
    〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホスホ
    リル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホスホ
    リル基を表す。Qは同一または相違し、2−インデニ
    ル系の4,5,6,7−位の置換基として、水素、C
    〜C−アルキル基、C〜C14−アリール基、C
    〜C −アラルキル基、C〜C−アルコキシル
    基、C〜C−アルキルチオ基、フェノキシ基、フェ
    ニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ基、C
    〜C14−アリール−C〜C−アルキルアミノ基、
    ジ−C〜C14−アリールアミノ基、ジベンジルアミ
    ノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、ジ−C
    〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C〜C
    アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、ジ−C
    〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホスホリル
    基、またはフェニル−C〜C−アルキルホスホリル
    基を表す。mは、Q基の数によって決定される0〜4
    の数である。Yは、−C(R)−、−Si(R
    )−、−Ge(R)−、−C(R)−
    C(R)−、−C(R)−Si(R
    )−、−Si(R)−Si(R)−
    なる群より選ばれる架橋基であって、R、R
    、およびRは、相互に独立に、水素、ハロゲン、
    直鎖または分岐のC〜C10−アルキル基、C〜C
    −シクロアルキル基、C〜C 14−アリール基、或
    いはC〜C10−アラルキル基である。HalはC
    l、BrまたはIを表す。]で示される中間体。
  4. 【請求項4】 式: 【化11】 [式中、QおよびQは同一または相違し、1,3−
    位に置換された2−インデニル系の置換基として、水
    素、C〜C−アルキル基、C〜C14−アリール
    基、C〜C10−アラルキル基、C〜C−アルコ
    キシル基、C〜C −アルキルチオ基、フェノキシ
    基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ
    基、C〜C14−アリール−C〜C−アルキルア
    ミノ基、ジ−C 〜C14−アリールアミノ基、ジベン
    ジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、
    ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C
    〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、
    ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホ
    スホリル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホ
    スホリル基を表す。 Qは同一または相違し、2−イ
    ンデニル系の4,5,6,7−位の置換基として、水
    素、C〜C−アルキル基、C〜C14−アリール
    基、C〜C10−アラルキル基、C〜C−アルコ
    キシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェノキシ
    基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ
    基、C〜C14−アリール−C〜C−アルキルア
    ミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、ジベン
    ジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、
    ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C
    〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、
    ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホ
    スホリル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホ
    スホリル基を表す。mは、Q基の数によって決定され
    る0から4の数である。Yは、−C(R)−、−
    Si(R)−、−Ge(R)−、−C(R
    )−C(R)−、−C(R)−Si
    (R)−、−Si(R)−Si(R
    )−なる群より選ばれる架橋基であって、R
    、R、およびRは、相互に独立に、水素、ハロ
    ゲン、直鎖または分岐のC〜C10−アルキル基、C
    〜C−シクロアルキル基、C〜C 14−アリール
    基、或いはC〜C10−アラルキル基である。Hal
    はCl、BrまたはIである。]で示される中間体の
    製造方法であって、式:(II): 【化12】 [式中、Halは、Cl、BrまたはIを表す。]で
    示される1,3−位に二置換された2−ハロゲン化イン
    デンを、IUPAC1985による元素周期表のI、I
    IまたはXII族から選ばれる金属元素、或いは相当す
    る金属化合物と、(II)の1モルに対して1〜100
    モルの金属/金属化合物の量で反応させ、かつ、式(I
    II):、 【化13】 Hal−Y−Hal (III) [式中、HalおよびHalは、相互に独立に、C
    l、BrまたはIを表す。]で示されるYのジハライド
    と、(II)の1モルに対し1〜20モルの(III)
    の量で反応させ、ここで、Yが−Si(R)−、
    −Ge(R)−または−Si(R)−Si
    (R)−の場合、(II)と金属元素/金属化合
    物との反応(i)、およびそれと(III)の反応(i
    i)が同時に生じることがある製造方法。
  5. 【請求項5】 C〜C12−α−オレフィン、C
    20−ジオレフィンおよびシクロ(ジ)オレフィンか
    ら成る群から選ばれるモノマーの重合またはそれらモノ
    マーの共重合のための触媒であって、その触媒は、一般
    式(I): 【化14】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
    キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違
    し、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
    として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    −アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
    ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
    ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
    ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
    基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
    シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
    ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
    ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
    フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
    アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
    し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
    して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
    ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
    アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
    キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
    ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
    −C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
    ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
    キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
    による元素周期表IV族、V族、VI族の遷移金属であ
    る。Xは、アニオンを表す。nはMの価数と結合状態
    によって決定される0〜4の数である。mは、Q基の
    数によって決定される0〜4の数である。Yは、−C
    (R)−、−Si(R)−、−Ge(R
    )−、−C(R)−C(R)−、−C
    (R)−Si(R)−、−Si(R
    )−Si(R)−なる群より選ばれる架橋
    基であって、R、R、R、およびRは、相互に
    独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐のC〜C
    10−アルキル基、C〜C−シクロアルキル基、C
    〜C 14−アリール基、或いはC〜C10−アラル
    キル基である。Zは、開鎖状および環状の場合によりア
    ニオン性のπシステム、−N(R)−、−P(R
    −、|N(R)−、|P(R)−、−O
    −、−S−、|OR−、または|SR−から選ばれ
    る第2配位子であり(元素記号N、P、OおよびSの左
    の縦線は電子対を示す)、ZとMの間の結合はイオン
    結合、共有結合または配位結合であり、R、R、R
    およびRは、相互に独立に、R〜Rと同じ意味
    を持ち、加えてRとRは−Si(R)を
    表すことができ、RとRは−Si(R
    )、−OR、−SR 、または−N(R
    )を表すことができる。]で示される、1,3−
    位に置換された配位子として2−インデニル基を有する
    遷移金属の有機金属化合物を含む触媒。
  6. 【請求項6】 非晶質で実質上アタクティックな重合体
    の製造であって、一般式(I): 【化15】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
    キシル系を表す。QおよびQは、同一または相違
    し、1,3−位に置換された2−インデニル系の置換基
    として、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    −アリール基、C〜C10−アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フ
    ェノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキ
    ルアミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−ア
    ルキルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ
    基、ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキル
    シリル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェ
    ニル−C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボ
    ラニル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジ
    フェニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C
    アルキルホスホリル基を表す。Qは同一または相違
    し、2−インデニル系の4,5,6,7−位の置換基と
    して、水素、C〜C−アルキル基、C〜C14
    アリール基、C〜C −アラルキル基、C〜C
    −アルコキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェ
    ノキシ基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキル
    アミノ基、C〜C14−アリール−C〜C−アル
    キルアミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、
    ジベンジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル
    −C〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニ
    ル基、ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェ
    ニルホスホリル基、またはフェニル−C〜C−アル
    キルホスホリル基を表す。Mは、IUPAC1985
    による元素周期表IV族、V族、VI族の遷移金属であ
    る。Xは、アニオンを表す。nはMの価数と結合状態
    によって決定される0〜4の数である。mは、Q基の
    数によって決定される0〜4の数である。Yは、−C
    (R)−、−Si(R)−、−Ge(R
    )−、−C(R)−C(R)−、−C
    (R)−Si(R)−、−Si(R
    )−Si(R)−なる群より選ばれる架橋
    基であって、R、R、R、およびRは、相互に
    独立に、水素、ハロゲン、直鎖または分岐のC〜C
    10−アルキル基、C〜C−シクロアルキル基、C
    〜C 14−アリール基、或いはC〜C10−アラル
    キル基である。Zは、開鎖状および環状の場合によりア
    ニオン性のπシステム、−N(R)−、−P(R
    −、|N(R)−、|P(R)−、−O
    −、−S−、|OR−、または|SR−から選ばれ
    る第2配位子であり(元素記号N、P、OおよびSの左
    の縦線は電子対を示す)、ZとMの間の結合はイオン
    結合、共有結合または配位結合であり、R、R、R
    およびRは、相互に独立に、R〜Rと同じ意味
    を持ち、加えてRとRは−Si(R)を
    表すことができ、RとRは−Si(R
    )、−OR、−SR 、または−N(R
    )を表すことができる。]で示される1,3−位
    に置換された配位子として2−インデニル基を有する遷
    移金属の有機金属化合物を含んでなる製造。
  7. 【請求項7】 EP(D)Mの製造であって、一般式
    (I): 【化16】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
    キシル系を表す。Q、Qは同一または相違し、1,
    3−位に置換された2−インデニル系の置換基として、
    水素、C〜C−アルキル基、C〜C14−アリー
    ル基、C 〜C10−アラルキル基、C〜C−アル
    コキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェノキシ
    基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ
    基、C〜C14−アリール−C〜C−アルキルア
    ミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、ジベン
    ジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、
    ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C
    〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、
    ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホ
    スホリル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホ
    スホリル基を表す。Qは同一または相違し、2−イン
    デニル系の4,5,6,7−位の置換基として、水素、
    〜C−アルキル基、C〜C14−アリール基、
    〜C −アラルキル基、C〜C−アルコキシ
    ル基、C〜C−アルキルチオ基、フェノキシ基、フ
    ェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ基、C
    〜C14−アリール−C〜C−アルキルアミノ
    基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、ジベンジル
    アミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、ジ−
    〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C〜C
    −アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、ジ−
    〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホスホ
    リル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホスホ
    リル基を表す。Mは、IUPAC1985による元素
    周期表IV族、V族、VI族の遷移金属である。Xは、
    アニオンを表す。nはMの価数と結合状態によって決
    定される0〜4の数である。mは、Q基の数によって
    決定される0〜4の数である。Yは、−C(R
    −、−Si(R)−、−Ge(R)−、−
    C(R)−C(R)−、−C(R
    −Si(R)−、−Si(R)−Si(R
    )−なる群より選ばれる架橋基であって、R
    、R、およびRは、相互に独立に、水素、ハロ
    ゲン、直鎖または分岐のC〜C10−アルキル基、C
    〜C−シクロアルキル基、C〜C 14−アリール
    基、或いはC〜C10−アラルキル基である。Zは、
    開鎖状および環状の場合によりアニオン性のπシステ
    ム、−N(R)−、−P(R)−、|N(R
    )−、|P(R)−、−O−、−S−、|
    OR−、または|SR−から選ばれる第2配位子で
    あり(元素記号N、P、OおよびSの左の縦線は電子対
    を示す)、ZとMの間の結合はイオン結合、共有結合
    または配位結合であり、R、R、RおよびR
    は、相互に独立に、R〜Rと同じ意味を持ち、加
    えてRとRは−Si(R)を表すことが
    でき、RとRは−Si(R)、−O
    、−SR −、または−N(R)を表す。]
    で示される1,3−位に置換された配位子として2−イ
    ンデニル基を有する遷移金属の有機金属化合物を含んで
    なる製造。
  8. 【請求項8】 アタクティックポリプロピレンの製造で
    あって、一般式(I): 【化17】 [式中、Aは、ベンゼン系またはテトラヒドロシクロヘ
    キシル系を表す。Q、Qは同一または相違し、1、
    3−位に置換された2−インデニル系の置換基として、
    水素、C〜C−アルキル基、C〜C14−アリー
    ル基、C 〜C10−アラルキル基、C〜C−アル
    コキシル基、C〜C−アルキルチオ基、フェノキシ
    基、フェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ
    基、C〜C14−アリール−C〜C−アルキルア
    ミノ基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、ジベン
    ジルアミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、
    ジ−C〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C
    〜C−アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、
    ジ−C〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホ
    スホリル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホ
    スホリル基を表す。Qは同一または相違し、2−イン
    デニル系の4,5,6,7−位の置換基として、水素、
    〜C−アルキル基、C〜C14−アリール基、
    〜C −アラルキル基、C〜C−アルコキシ
    ル基、C〜C−アルキルチオ基、フェノキシ基、フ
    ェニルチオ基、ジ−C〜C−アルキルアミノ基、C
    〜C14−アリール−C〜C−アルキルアミノ
    基、ジ−C〜C14−アリールアミノ基、ジベンジル
    アミノ基、トリ−C〜C−アルキルシリル基、ジ−
    〜C−アルキルボラニル基、フェニル−C〜C
    −アルキルボラニル基、ジフェニルボラニル基、ジ−
    〜C−アルキルホスホリル基、ジフェニルホスホ
    リル基、またはフェニル−C〜C−アルキルホスホ
    リル基を表す。Mは、IUPAC1985による元素
    周期表IV族、V族、VI族の遷移金属である。Xは、
    アニオンを表す。nはMの価数と結合状態によって決
    定される0〜4の数である。mは、Q基の数によって
    決定される0〜4の数である。Yは、−C(R
    −、−Si(R)−、−Ge(R)−、−
    C(R)−C(R)−、−C(R
    −Si(R)−、−Si(R)−Si(R
    )−なる群より選ばれる架橋基であって、R
    、R、およびRは、相互に独立に、水素、ハロ
    ゲン、直鎖または分岐のC〜C10−アルキル基、C
    〜C−シクロアルキル基、C〜C 14−アリール
    基、或いはC〜C10−アラルキル基である。Zは、
    開鎖状および環状の場合によりアニオン性のπシステ
    ム、−N(R)−、−P(R)−、|N(R
    )−、|P(R)−、−O−、−S−、|
    OR−、または|SR−から選ばれる第2配位子で
    あり(元素記号N、P、OおよびSの左の縦線は電子対
    を示す)、ZとMの間の結合はイオン結合、共有結合
    または配位結合であり、R、R、RおよびR
    は、相互に独立に、R〜Rと同じ意味を持ち、加
    えてRとRは−Si(R)を表すことが
    でき、RとRは−Si(R)、−O
    、−SR 、または−N(R)を表す。]で
    示される1,3−位に置換された配位子として2−イン
    デニル基を有する遷移金属の有機金属化合物を含んでな
    る製造。
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