JP2003048875A - 1,2−エタンジアミン誘導体の製造法 - Google Patents

1,2−エタンジアミン誘導体の製造法

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JP2003048875A
JP2003048875A JP2001233519A JP2001233519A JP2003048875A JP 2003048875 A JP2003048875 A JP 2003048875A JP 2001233519 A JP2001233519 A JP 2001233519A JP 2001233519 A JP2001233519 A JP 2001233519A JP 2003048875 A JP2003048875 A JP 2003048875A
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pyridyl
fluorophenyl
lower alkyl
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JP2001233519A
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English (en)
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Hirobumi Takahashi
博文 高橋
Nagaaki Sato
長明 佐藤
Keita Nagai
啓太 永井
Makoto Jitsuoka
誠 實岡
Shiho Uchiito
史歩 内糸
Takehiro Fukami
竹広 深見
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MSD KK
Original Assignee
Banyu Phamaceutical Co Ltd
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】NPY受容体拮抗物質として、各種の循環器系
疾患、中枢神経系疾患、代謝系疾患等の処置剤として有
用な新規イミダゾリン化合物の製造法を提供する。 【解決手段】1)化合物(9)と、−R1pを有する有機
金属化合物とを反応させるか、又は2)化合物(9’)
と−Ar1pを有する有機金属化合物とを反応させて化合
物(10)とし、次いでアミノ基の保護基P及び−S
(=O)−Rを除去する化合物(II’)の製造法。 [Ar1p,Ar3pは置換基を有してもよいアリール又は
ヘテロアリール基;Pはアミノ基の保護基;Rは嵩高い
基;R1pはシクロ低級アルキル基,−Ar3p、式
(ap)、(bp)若しくは(cp);R2p,R3pは水
素、シクロ低級アルキル基,低級アルケニル基又は置換
基を有してもよい低級アルキル基である。]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は医薬の分野において
有用である。更に詳しくは、本発明は、神経ペプチドY
受容体拮抗物質として、各種の循環器系疾患、中枢神経
系疾患、代謝系疾患等の処置剤として有用な、新規イミ
ダゾリン化合物の効率的な製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】神経ペプチドY(以下NPYと称す)は
36アミノ酸からなるペプチドであり、1982年、立
元らにより豚脳より初めて単離された[ネイチャー(N
ature)、296巻、659頁(1982年)]。
NPYは中枢神経系及び末梢神経系に広く分布し、神経
系における最も多量に存在するペプチドの一つとして、
生体において多様な機能を司っている。すなわち、NP
Yは中枢において食欲促進物質として働くとともに、各
種ホルモンの分泌又は神経系の作用を介して脂肪蓄積を
顕著に促進する。NPYの脳室内連続投与はこれらの作
用に基づき、肥満及びインスリン抵抗性を誘発すること
が知られている[インターナショナル・ジャーナル・オ
ブ・オベシティー(International Jo
unalof Obesity)、19巻、517頁
(1995年);エンドクリノロジー(Endocri
nology)、133巻、1753頁(1993
年)]。また、その他、うつ病、不安、精神分裂、痛み
及び痴呆などの中枢作用を持つことが知られている[ド
ラッグス(Drugs)、52巻、371頁(199
6)]。更に、末梢では、NPYは交感神経終末にノル
エピネフリンと共存し、交感神経系の緊張性と関係して
いる。NPYの末梢投与は血管収縮を引き起こし、また
ノルエピネフリンを初めとする他の血管収縮物質の作用
を増強することが知られている[ブリティシュ・ジャー
ナル・オブ・ファーマコロジー(British Jo
urnal of Pharmacology)、95
巻、419頁(1988年)]。更に交感神経系の亢進
にともなう心肥大を助長することも報告されている[プ
ロシーディング・ナショナル・アカデミック・サイエン
ス・ユーエスエー(Proceeding Natio
nal Academic Science US
A)、97巻、1595頁(2000)]。
【0003】その他、性ホルモン及び成長ホルモンの分
泌能、性及び生殖機能、消化管運動、気管支収縮、炎症
及びアルコールに対する嗜好性への関与も報告されてい
る[ライフ・サイエンス(Life Scienc
e)、55巻、551頁(1994年);ザ・ジャーナ
ル・オブ・アレルギー・アンド・クリニカル・イムノロ
ジー(The Journal of Allergy
and Immunology)、101巻、S34
5頁(1998年);ネイチャー(Nature)、3
96巻、366頁(1998年)]。
【0004】NPYは、その類縁体であるペプタイドY
Y及びパンクレアティック・ポリペプタイドと一部共通
の受容体を介して、多種多様な薬理作用を有する。これ
らNPYによる薬理作用は少なくとも5種類の受容体の
単独あるいは相互作用を介して惹起されることが知られ
ている[トレンヅ・イン・ニューロサイエンス(Tre
nds in Neuroscience)、20巻、
294頁(1997年)]。
【0005】NPY Y1受容体を介する中枢作用とし
ては、顕著な食欲促進作用が報告されている[エンドク
リノロジー(Endocrinology)、137
巻、3177頁(1996年):エンドクリノロジー
(Endocrinology)、141巻、1011
頁(2000年)]。更に不安感や痛みへの関与も報告
されている[ネイチャー(Nature)、259巻、
528頁(1993年);ブレイン・リサーチ(Bra
in Research)、859巻、361頁(20
00年)]。また、末梢においては強力な血管収縮作用
を介した血圧上昇作用が報告されている[フェブス・レ
ター(FEBS Letters)、362巻、192
頁、(1995年):ネイチャー・メディスン(Nat
ure Medicine)、4巻、722頁(199
8年)]。
【0006】NPY Y2受容体を介する作用として
は、神経終末において各種神経伝達物質の放出を阻害す
ることが知られている[ブリティシュ・ジャーナル・オ
ブ・ファーマコロジー(British Journa
l of Pharmacology)、102巻、4
1頁(1991年):シナプス(Synapse)2
巻、299頁(1988年)]。また、末梢において
は、これら神経伝達物質の制御あるいは直接の作用とし
て、血管又は輸精管の収縮に関与する[ザ・ジャーナル
・オブ・ファルマコロジー・アンド・エクスペリメンタ
ル・セラピューティクス(The Journal o
f Pharmacology and Experi
mental Therapeutics)、261
巻、863頁(1992年);ブリティシュ・ジャーナ
ル・オブ・ファーマコロジー(British Jou
rnal of Pharmacology)、100
巻、190頁(1990年)]。また、脂肪組織におい
ては、脂肪分解作用の抑制が知られている[エンドクリ
ノロジー(Endocrinology)、131巻、
1970頁(1992年)]。更に消化管においては、
イオン分泌を阻害することが報告されている[ブリティ
シュ・ジャーナル・オブ・ファーマコロジー(Brit
ish Journal of Pharmacolo
gy)、101巻、247頁(1990年)]。一方、
記憶及び不安感等の中枢作用も知られている[ブレイン
・リサーチ(Brain Research)、503
巻、73頁(1989年):ペプタイド(Peptid
es)、19巻、359頁(1998年)]。
【0007】NPY Y3受容体は、主に脳幹及び心臓
に発現しており、血圧、心拍数の制御に関与しているこ
とが報告されている[ザ・ジャーナル・オブ・ファルマ
コロジー・アンド・エクスペリメンタル・セラピューテ
ィクス(The Journal of Pharma
cology and ExperimentalTh
erapeutics)、258巻、633頁(199
1年);ペプタイド(Peptides)、11巻、5
45頁(1990年)]。更に、副腎においてはカテコ
ールアミンの分泌に関与することが知られている[ザ・
ジャーナル・オブ・ファルマコロジー・アンド・エクス
ペリメンタル・セラピューティクス(The Jour
nal of Pharmacology and E
xperimental Therapeutic
s)、244巻、468頁(1988年);ライフ・サ
イエンス(Life Science)、50巻、PL
7頁(1992年)]。
【0008】NPY Y4受容体は特にパンクレアティ
ック・ポリペプタイドとの親和性が高く、薬理作用とし
ては、膵外分泌及び消化管運動の抑制が報告されている
[ガストロエンテロロジー(Gastroentero
logy)、85巻、1411頁(1983年)]。更
に中枢においては、性ホルモンの分泌を促進することが
知られている[エンドクリノロジー(Endocrin
ology)、140巻、5171頁(1999
年)]。
【0009】NPY Y5受容体を介する作用として
は、食欲促進効果を含む脂肪蓄積作用が顕著である[ネ
イチャー(Nature)、382巻、168頁(19
96年);アメリカン・ジャーナル・オブ・フィジオロ
ジー(American Journal of Ph
ysiology)、277巻、R1428頁(199
9年)]。また、痙攣及びてんかんへの関与又は痛み及
びモルヒネ投与の中止に伴う禁断症状への関与等の中枢
作用が報告されている[ネイチャー・メディスン(Na
ture Medicine)、3巻、761頁(19
97年);プロシーディング・ナショナル・アカデミッ
ク・サイエンス・ユーエスエー(Proceeding
National Academic Scienc
e USA)、96巻、13518頁(1999年);
ザ・ジャーナル・オブ・ファルマコロジー・アンド・エ
クスペリメンタル・セラピューティクス(The Jo
urnal of Pharmacology and
ExperimentalTherapeutic
s)、284巻、633頁(1998年)]。更に末梢
においては、利尿作用及び血糖降下作用が報告されてい
る[ブリティシュ・ジャーナル・オブ・ファーマコロジ
ー(British Journal ofPharm
acology)、120巻、1335頁(1998
年);エンドクリノロジー(Endocrinolog
y)、139巻、3018頁(1998年)]。更に交
感神経系の亢進にともなう心肥大を助長することも報告
されている[プロシーディング・ナショナル・アカデミ
ック・サイエンス・ユーエスエー(Proceedin
g National Academic Scien
ce USA)、97巻、1595頁(2000)]。
【0010】NPYの機能は中枢又は末梢神経系に存在
するNPY受容体を結合することにより発現される。し
たがって、NPYのNPY受容体との結合を阻害すれ
ば、NPYの作用発現を阻止することができる。その結
果、NPYのNPY受容体結合に拮抗する物質はNPY
が関与する各種疾患、例えば高血圧、腎臓病、心疾患、
血管れん縮等の循環器系疾患、例えば過食症、うつ病、
不安、痙攣、てんかん、痴呆、痛み、アルコール依存
症、薬物の断薬に伴う禁断症状等の中枢性疾患、例えば
肥満症、糖尿病、ホルモン異常等の代謝性疾患、性及び
生殖機能障害、消化管運動障害、呼吸器系疾患、炎症又
は緑内障等の予防又は治療における有用性が期待できる
[トレンヅ・イン・ファーマコロジカル・サイエンス
(Trendsin Pharmacological
Science)、15巻、153頁(1994
年);ライフ・サイエンス(Life Scienc
e)、55巻、551頁(1994年);ドラッグス
(Drugs)、52巻、371頁(1996年);ザ
・ジャーナル・オブ・アレルギー・アンド・クリニカル
・イムノロジー(The Journal of Al
lergy and Immunology)、101
巻、S345頁(1998年);ネイチャー(Natu
re)、396巻、366頁(1998年);ザ・ジャ
ーナル・オブ・ファルマコロジー・アンド・エクスペリ
メンタル・セラピューティクス(The Journa
l of Pharmacology and Exp
erimentalTherapeutics)、28
4巻、633頁(1998年);トレンヅ・イン・ファ
ーマコロジカル・サイエンス(Trends in P
harmacological Science)、2
0巻、104頁(1999年);プロシーディング・ナ
ショナル・アカデミック・サイエンス・ユーエスエー
(Proceeding National Acad
emic Science USA)、97巻、159
5頁(2000)]。
【0011】また、最近、本発明者らの研究により、あ
る種のNPY受容体拮抗物質が、高コレステロール血
症、高脂血症、動脈硬化症の予防又は治療において有用
であることが見出された(国際公開WO99/2796
5号公報)。
【0012】国際公開WO99/48888号公報には
イミダゾロン誘導体が開示され、当該化合物がNPY受
容体拮抗作用を有することが記載されている。しかしな
がら、本発明に係る化合物については何ら開示も示唆も
されていない。
【0013】ケミカル・アブストラクツ(Chemic
al Abstracts)、CA52:17240f
には、2,4,4−トリフェニル−2−イミダゾリンが
開示されているが、当該化合物のNPY受容体拮抗作用
については何ら開示も示唆もされていない。
【0014】ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミス
トリー(J.Org.Chem),64巻,1278頁
(1999年)には、N−スルフィニルイミン誘導体か
ら各種の光学活性化合物を合成する方法が開示されてい
る。しかしながら、本発明の1,2−エタンジアミン誘
導体の製造法については何ら開示も示唆もされていな
い。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、NP
Y拮抗作用を有する新規な薬剤の効率的な製造法を提供
することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、一般式
(I)
【0017】
【化8】
【0018】[式中、Ar1、Ar2及びAr3は、それ
ぞれ独立して、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低
級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級ア
ルキル基、シクロ低級アルキル低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水酸
基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、低級アルキルチ
オ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルカノイル
基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低
級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイ
ル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アリール基及びヘテロアリール基からなる群より選
択される置換基を有していてもよい、アリール基又はヘ
テロアリール基を意味し;nは0、1又は2を意味し;
1はシクロ低級アルキル基又は−Ar3
【0019】
【化9】
【0020】で表される基を意味し;R2及びR3は、そ
れぞれ独立して、水素原子、シクロ低級アルキル基若し
くは低級アルケニル基を意味するか、又はハロゲン原
子、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、
低級アルカノイルアミノ基、水酸基、低級アルコキシ
基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルキルカルバモイル基及びジ低級アルキルカルバモイル
基からなる群より選択される置換基を有していてもよい
低級アルキル基を意味し;R10及びR11は、ともに水素
原子を意味するか、又は一緒になってオキソ基を意味
し;R12は水素原子又は低級アルキル基を意味し;X及
びYは、それぞれ独立して、メチレン基、エテニレン
基、−NR12−で表される基、酸素原子又は硫黄原子を
意味し;Zはメチン基又は窒素原子を意味する(ただ
し、R2及びR3が同時に水素原子である場合、Ar1
Ar2及びR1は同時に無置換のフェニル基を意味しな
い)]で表される化合物がNPY拮抗作用を有し、ま
た、例えば脳内移行性又は脳脊髄液移行性等の体内動態
に優れることを見出した。
【0021】化合物(I)は、NPY拮抗作用を有し、
また、例えば脳内移行性又は脳脊髄液移行性等の体内動
態に優れるため、NPYが関与する各種の疾患、例えば
高血圧、腎臓病、心疾患、血管れん縮、動脈硬化症等の
循環器系疾患、例えば過食症、うつ病、不安、痙攣、て
んかん、痴呆、痛み、アルコール依存症、薬物の断薬に
伴う禁断症状等の中枢性疾患、例えば肥満症、糖尿病、
ホルモン異常、高コレステロール血症、高脂血症等の代
謝性疾患、性及び生殖機能障害、例えば消化管運動障害
等の消化器系疾患、呼吸器系疾患、炎症又は緑内障等の
処置剤として有用である。
【0022】特に、化合物(I)は、例えば過食症、肥
満症、糖尿病等の処置剤として有用である。
【0023】本発明は、一般式(I)で表される化合物
の製造中間体である一般式(II’)で表される1,2
−エタンジアミン誘導体の効率的な製造法、すなわち、
1)一般式(9)
【0024】
【化10】
【0025】[式中、Ar1pはシアノ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、
シクロ低級アルキル低級アルキル基、低級アルケニル
基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基、ハロ
低級アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリール
オキシ基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アル
カノイル基、低級アルコキシカルボニル基、ジ低級アル
キルカルバモイル基、低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アリール基及びヘテロアリール基並
びに保護されていてもよい、ヒドロキシ低級アルキル
基、低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ
基、低級アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホ
ニルアミノ基、水酸基、カルボキシル基、カルバモイル
基及び低級アルキルカルバモイル基からなる群より選択
される置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテ
ロアリール基を意味し;Pはアミノ基の保護基を意味
し;Rは嵩高い基を意味し;R2p及びR3pは、それぞれ
独立して、水素原子、シクロ低級アルキル基若しくは低
級アルケニル基を意味するか、又はハロゲン原子、ジ低
級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基、ホルミル基、
低級アルコキシカルボニル基及びジ低級アルキルカルバ
モイル基並びに保護されていてもよい、低級アルキルア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、水酸基及び低級ア
ルキルカルバモイル基からなる群より選択される置換基
を有していてもよい低級アルキル基を意味する]で表さ
れる化合物と、−R1p[ここにおいて、R1pはシクロ低
級アルキル基又は−Ar3p
【0026】
【化11】
【0027】で表される基を意味し;nは0、1又は2
を意味し;Ar3pはシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ
基、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級
アルキル低級アルキル基、低級アルケニル基、ジ低級ア
ルキルアミノ基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、低
級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、
低級アルコキシカルボニル基、ジ低級アルキルカルバモ
イル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、アリール基及びヘテロアリール基並びに保護され
ていてもよい、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルキ
ルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキル
スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水
酸基、カルボキシル基、カルバモイル基及び低級アルキ
ルカルバモイル基からなる群より選択される置換基を有
していてもよい、アリール基又はヘテロアリール基を意
味し;R10p及びR11pは、ともに水素原子を意味する
か、又は一緒になって保護されていてもよいオキソ基を
意味し;R12pは水素原子、低級アルキル基又はイミノ
基の保護基を意味し;Xp及びYpは、それぞれ独立し
て、メチレン基、エテニレン基、−NR12p−で表され
る基、酸素原子又は硫黄原子を意味し;Zはメチン基又
は窒素原子を意味する]で表される基を有する有機金属
化合物とを反応させ、一般式(10)
【0028】
【化12】
【0029】[式中、Ar1p、P、R、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物とする
か、又は2)一般式(9’)
【0030】
【化13】
【0031】[式中、P、R、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する]で表される化合物と、−Ar1p[こ
こにおいて、Ar1pは前記の意味を有する]で表される
基を有する有機金属化合物とを反応させ、前記一般式
(10)で表される化合物とし、次いで該化合物(1
0)のアミノ基の保護基P及び−S(=O)−Rで表さ
れる基を除去することを特徴とする、一般式(II’)
【0032】
【化14】
【0033】[式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する(ただし、(a)R 2p及びR3pが同時
に水素原子である場合、Ar1p及びR1pは同時に無置換
のフェニル基を意味せず、また、(b)R2pが水素原子
であり、かつR3pがメチル基、イソプロピル基、イソブ
チル基又はtert−ブチル基である場合、Ar1p及び
1pは同時に4−メトキシフェニル基を意味しない)]
で表される化合物の製造法に関する。
【0034】更に本発明は、上記製造法において有用な
原料化合物、すなわち、一般式(9)又は(9’)
【0035】
【化15】
【0036】[式中、Ar1p、P、R、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物等に関す
る。
【0037】以下に、本明細書において用いられる用語
の意味を記載し、本発明について更に詳細に説明する。
【0038】「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。
【0039】「低級アルキル基」とは、炭素数1ないし
6の直鎖状又は分岐状のアルキル基を意味し、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、イ
ソヘキシル基等が挙げられる。
【0040】「ハロ低級アルキル基」とは、置換可能な
任意の位置が1又は2以上、好ましくは1ないし3の同
一又は異なる前記ハロゲン原子で置換された前記低級ア
ルキル基を意味し、例えばフルオロメチル基、ジフルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチ
ル基、1,2−ジフルオロエチル基、クロロメチル基、
2−クロロエチル基、1,2−ジクロロエチル基、ブロ
モメチル基、ヨードメチル基等が挙げられる。
【0041】「ヒドロキシ低級アルキル基」とは、置換
可能な任意の位置が1又は2以上、好ましくは1又は2
の水酸基で置換された前記低級アルキル基を意味し、例
えばヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、1
−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、1,2−ジヒドロ
キシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基等が挙げられ
る。
【0042】「シクロ低級アルキル基」とは、炭素数3
ないし6のシクロアルキル基を意味し、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基が挙げられる。
【0043】「シクロ低級アルキル低級アルキル基」と
は、置換可能な任意の位置が1又は2以上、好ましくは
1の前記シクロ低級アルキル基で置換された前記低級ア
ルキル基を意味し、例えばシクロプロピルメチル基、2
−シクロプロピルエチル基、3−シクロプロピルプロピ
ル基、シクロブチルメチル基、2−シクロブチルエチル
基、3−シクロブチルプロピル基、シクロペンチルメチ
ル基、2−シクロペンチルエチル基、3−シクロペンチ
ルプロピル基、シクロヘキシルメチル基、2−シクロヘ
キシルエチル基、3−シクロヘキシルプロピル基等が挙
げられる。
【0044】「低級アルケニル基」とは、炭素数2ない
し6の直鎖又は分岐状のアルケニル基を意味し、例えば
ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソ
プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、1−
ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、1−メチ
ル−1−プロペニル基、1−エチル−1−エテニル基、
2−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−1−プロ
ペニル基、3−メチル−2−ブテニル基、4−ペンテニ
ル基等が挙げられる。
【0045】「低級アルキルアミノ基」とは、前記低級
アルキル基でモノ置換されたアミノ基を意味し、例えば
メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、
イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、sec−ブチ
ルアミノ基、tert−ブチルアミノ基等が挙げられ
る。
【0046】「ジ低級アルキルアミノ基」とは、同一又
は異なる前記低級アルキル基でジ置換されたアミノ基を
意味し、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
エチルメチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、メチルプ
ロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等が挙げられ
る。
【0047】「低級アルカノイル基」とは、前記低級ア
ルキル基を有するアルカノイル基、すなわち、炭素数2
ないし7のアルカノイル基を意味し、例えばアセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バ
レリル基、イソバレリル基、ピバロイル基等が挙げられ
る。
【0048】「低級アルカノイルアミノ基」とは、前記
低級アルカノイル基でモノ置換されたアミノ基を意味
し、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、
ブチリルアミノ基、イソブチリルアミノ基、バレリルア
ミノ基、イソバレリルアミノ基、ピバロイルアミノ基等
が挙げられる。
【0049】「低級アルキルスルホニル基」とは、前記
低級アルキル基を有するアルキルスルホニル基を意味
し、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブ
チルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、te
rt−ブチルスルホニル基等が挙げられる。
【0050】「低級アルキルスルホニルアミノ基」と
は、前記低級アルキルスルホニル基でモノ置換されたア
ミノ基を意味し、例えばメチルスルホニルアミノ基、エ
チルスルホニルアミノ基、プロピルスルホニルアミノ
基、イソプロピルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニ
ルアミノ基、sec−ブチルスルホニルアミノ基、te
rt−ブチルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【0051】「アリール基」としては、例えばフェニル
基、ナフチル基等が挙げられる。
【0052】「アリールスルホニル基」とは、前記アリ
ール基を有するアリールスルホニル基を意味し、例えば
フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2
−ナフチルスルホニル基等が挙げられる。
【0053】「アリールスルホニルアミノ基」とは、前
記アリールスルホニル基でモノ置換されたアミノ基を意
味し、例えばフェニルスルホニルアミノ基、1−ナフチ
ルスルホニルアミノ基、2−ナフチルスルホニルアミノ
基等が挙げられる。
【0054】「低級アルコキシ基」とは、炭素数1ない
し6の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基を意味し、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、イソブトキ
シ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソ
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオ
キシ基等が挙げられる。
【0055】「ハロ低級アルコキシ基」とは、置換可能
な任意の位置が1又は2以上、好ましくは1ないし3の
同一又は異なる前記ハロゲン原子で置換された前記低級
アルコキシ基を意味し、例えばフルオロメトキシ基、ジ
フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2−フ
ルオロエトキシ基、1,2−ジフルオロエトキシ基、ク
ロロメトキシ基、2−クロロエトキシ基、1,2−ジク
ロロエトキシ基、ブロモメトキシ基、ヨードメトキシ基
等が挙げられる。
【0056】「アリールオキシ基」とは、前記アリール
基を有するアリールオキシ基を意味し、フェノキシ基、
1−ナフトキシ基、2−ナフトキシ基が挙げられる。
【0057】「低級アルキルチオ基」とは、炭素数1な
いし6の直鎖状又は分岐状のアルキルチオ基を意味し、
例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、
イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、sec−ブチルチ
オ基、イソブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、ペ
ンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、
イソヘキシルチオ基等が挙げられる。
【0058】「低級アルコキシカルボニル基」とは、前
記低級アルコキシ基を有するアルコキシカルボニル基、
すなわち、炭素数2ないし7のアルコキシカルボニル基
を意味し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカル
ボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ペンチル
オキシカルボニル基等が挙げられる。
【0059】「低級アルキルカルバモイル基」とは、前
記低級アルキル基でモノ置換されたカルバモイル基を意
味し、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイ
ル基、プロピルカルバモイル基、イソプロピルカルバモ
イル基、ブチルカルバモイル基、sec−ブチルカルバ
モイル基、tert−ブチルカルバモイル基等が挙げら
れる。
【0060】「ジ低級アルキルカルバモイル基」とは、
前記低級アルキル基でジ置換されたカルバモイル基を意
味し、例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバ
モイル基、エチルメチルカルバモイル基、ジプロピルカ
ルバモイル基、メチルプロピルカルバモイル基、ジイソ
プロピルカルバモイル基等が挙げられる。
【0061】「ヘテロアリール基」とは、酸素原子、窒
素原子及び硫黄原子からなる群より、同一若しくは異な
って選ばれる1若しくは2以上、好ましくは1ないし3
の複素原子を含有する5員若しくは6員の単環式芳香族
複素環基又は該単環式芳香族複素環基と前記アリール基
が縮合した、若しくは同一若しくは異なる該単環式芳香
族複素環基が互いに縮合した縮合環式芳香族複素環基を
意味し、例えばピロリル基、フリル基、チエニル基、イ
ミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチア
ゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、トリ
アゾリル基、テトラゾリル基、オキサジアゾリル基、
1,2,3−チアジアゾリル基、1,2,4−チアジア
ゾリル基、1,2,5−チアジアゾリル基、1,3,4
−チアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリ
ミジニル基、ピリダジニル基、1,2,4−トリアジニ
ル基、1,3,5−トリアジニル基、インドリル基、ベ
ンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾイミダゾリ
ル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル
基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、イ
ンダゾリル基、プリニル基、キノリル基、イソキノリル
基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニ
ル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル
基、1,5−ナフチリジニル基等が挙げられる。
【0062】「ヘテロアリールオキシ基」とは、前記ヘ
テロアリール基を有するヘテロアリールオキシ基を意味
し、例えば2−チエニルオキシ基、3−チエニルオキシ
基、2−ピリジルオキシ基、3−ピリジルオキシ基、4
−ピリジルオキシ基、3−インドリルオキシ基、4−イ
ンドリルオキシ基、5−インドリルオキシ基、6−イン
ドリルオキシ基等が挙げられる。
【0063】Pで表される「アミノ基の保護基」として
は、例えばベンジル基、p−メトキシベンジル基、3,
4−ジメトキシベンジル基、o−ニトロベンジル基、p
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等
のアラルキル基;例えばホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基等の低級アルカ
ノイル基;例えばベンゾイル基;例えばフェニルアセチ
ル基、フェノキシアセチル基等のアリールアルカノイル
基;例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロピルオキシカルボニル基、tert−ブトキシ
カルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基;例えば
ベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基等のア
ラルキルオキシカルボニル基;例えばトリメチルシリル
基、tert−ブチルジメチルシリル基等の低級アルキ
ルシリル基等が挙げられ、特にtert−ブトキシカル
ボニル基等が好ましい。
【0064】「嵩高い基」とは、化合物の分子中に立体
障害を構成する基を意味し、例えば第二級又は三級、よ
り好ましくは第三級のアルキル基等が挙げられる。より
具体的には、例えばイソプロピル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基等が挙げられ、tert−ブチ
ル基等が好適である。
【0065】「−R1p[ここにおいて、R1pは前記の意
味を有する]で表される基を有する有機金属化合物」又
は「−Ar1p[ここにおいて、Ar1pは前記の意味を有
する]で表される基を有する有機金属化合物」として
は、例えばR1pCu、R1pLi、R1pMgX’、R1p 2
Zn、Ar1pCu、Ar1pLi、Ar1pMgX’、Ar
1 p 2Zn(ここにおいて、X’はCl-、Br-又はI-
のハロゲンイオンを意味する)等が挙げられ、例えばR
1pLi、R1pMgX’、Ar1pLi、Ar1pMgX’等
が好適である。
【0066】一般式(I)で表される化合物の「塩」と
は、医薬として許容されうる慣用的なものを意味し、例
えばカルボキシル基を有する場合の当該カルボキシル基
における塩基付加塩又はアミノ基若しくは塩基性の複素
環基を有する場合の当該塩基性複素環基における酸付加
塩の塩類を挙げることができる。
【0067】該塩基付加塩としては、例えばナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩;例えばカルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩;例えばア
ンモニウム塩;例えばトリメチルアミン塩、トリエチル
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミ
ン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン
塩、プロカイン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機アミン塩等が挙げられる。
【0068】該酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸
塩、硝酸塩、りん酸塩、過塩素酸塩等の無機酸塩;例え
ばマレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、くえん酸
塩、アスコルビン酸塩、トリフルオロ酢酸塩等の有機酸
塩;例えばメタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等のスル
ホン酸塩等が挙げられる。
【0069】一般式(I)で表される化合物の「エステ
ル」としては、例えばカルボキシル基を有する場合の当
該カルボキシル基における医薬として許容されうる慣用
的なものを意味し、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基等の低級アルキル基とのエステル、ベン
ジル基、フェネチル基等のアラルキル基とのエステル、
アリル基、2−ブテニル基等の低級アルケニル基とのエ
ステル、メトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−エトキシエチル基等の低級アルコキシ低級アルキル基
とのエステル、アセトキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基、1−ピバロイルオキシエチル基等の低級アル
カノイルオキシ低級アルキル基とのエステル、メトキシ
カルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル
基等の低級アルコキシカルボニル低級アルキル基とのエ
ステル、カルボキシメチル基等のカルボキシ低級アルキ
ル基とのエステル、1−(エトキシカルボニルオキシ)
エチル基、1−(シクロヘキシルオキシカルボニルオキ
シ)エチル基等の低級アルコキシカルボニルオキシ低級
アルキル基とのエステル、カルバモイルオキシメチル基
等のカルバモイルオキシ低級アルキル基とのエステル、
フタリジル基とのエステル、(5−メチル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル)メチル基等の(5
−置換−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イ
ル)メチル基とのエステル等が挙げられる。
【0070】「処置剤」とは、各種疾患に対して治療及
び/又は予防の目的で供せられる薬剤を意味する。
【0071】前記一般式(I)で表される化合物を更に
具体的に開示するため、式(I)において用いられる各
種記号につき、その好適な具体例を挙げて更に詳細に説
明する。
【0072】Ar1、Ar2及びAr3は、それぞれ独立
して、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキ
ル基、ハロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル
基、シクロ低級アルキル低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニ
ルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水酸基、低
級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、アリールオキ
シ基、ヘテロアリールオキシ基、低級アルキルチオ基、
カルボキシル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低級アル
キルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、
低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
リール基及びヘテロアリール基からなる群より選択され
る置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロア
リール基を意味する。
【0073】「Ar1、Ar2及びAr3は、それぞれ独
立して、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アル
キル基、ハロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル
基、シクロ低級アルキル低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニ
ルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水酸基、低
級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、アリールオキ
シ基、ヘテロアリールオキシ基、低級アルキルチオ基、
カルボキシル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低級アル
キルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、
低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
リール基及びヘテロアリール基からなる群より選択され
る置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロア
リール基」とは、無置換の前記アリ−ル基若しくは前記
ヘテロアリール基、又は置換可能な任意の位置に置換基
を有する前記アリ−ル基若しくは前記ヘテロアリール基
を意味し、該置換基はシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ
基、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基、シクロ低級アルキル低級アルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アル
キルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキ
ルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、
水酸基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、ア
リールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、カルボキシル基、ホルミル基、低級アルカノ
イル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカル
バモイル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスル
ホニル基、アリール基及びヘテロアリール基からなる群
より、同一又は異なって1又は2以上、好ましくは1又
は2選択することができる。
【0074】該置換基のハロゲン原子としては、例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が好適である。
【0075】該置換基の低級アルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等
が好適である。
【0076】該置換基のハロ低級アルキル基としては、
例えばジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等が
好適である。
【0077】該置換基のヒドロキシ低級アルキル基とし
ては、例えばヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基等が好適で
ある。
【0078】該置換基のシクロ低級アルキル低級アルキ
ル基としては、例えばシクロプロピルメチル基、シクロ
ブチルメチル基、シクロペンチルメチル基等が好適であ
る。
【0079】該置換基の低級アルケニル基としては、例
えばビニル基、1−プロペニル基、2−メチル−1−プ
ロペニル基等が好適である。
【0080】該置換基の低級アルキルアミノ基として
は、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基等が好適で
ある。
【0081】該置換基のジ低級アルキルアミノ基として
は、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が好
適である。
【0082】該置換基の低級アルカノイルアミノ基とし
ては、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等が好適である。
【0083】該置換基の低級アルキルスルホニルアミノ
基としては、例えばメチルスルホニルアミノ基、エチル
スルホニルアミノ基等が好適である。
【0084】該置換基のアリールスルホニルアミノ基と
しては、例えばフェニルスルホニルアミノ基等が好適で
ある。
【0085】該置換基の低級アルコキシ基としては、例
えばメトキシ基、エトキシ基等が好適である。
【0086】該置換基のハロ低級アルコキシ基として
は、例えばフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ
基、トリフルオロメトキシ基等が好適である。
【0087】該置換基のアリールオキシ基としては、例
えばフェノキシ基等が好適である。
【0088】該置換基のヘテロアリールオキシ基として
は、例えば2−ピリジルオキシ基、3−ピリジルオキシ
基、4−ピリジルオキシ基等が好適である。
【0089】該置換基の低級アルキルチオ基としては、
例えばメチルチオ基、エチルチオ基等が好適である。
【0090】該置換基の低級アルカノイル基としては、
例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基等が好
適である。
【0091】該置換基の低級アルコキシカルボニル基と
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基等が好適である。
【0092】該置換基の低級アルキルカルバモイル基と
しては、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモ
イル基等が好適である。
【0093】該置換基のジ低級アルキルカルバモイル基
としては、例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカ
ルバモイル基等が好適である。
【0094】該置換基の低級アルキルスルホニル基とし
ては、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基
等が好適である。
【0095】該置換基のアリールスルホニル基として
は、例えばフェニルスルホニル基等が好適である。
【0096】該置換基のアリール基としては、例えばフ
ェニル基等が好適である。
【0097】該置換基のヘテロアリール基としては、例
えばチエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピ
リジル基、ピラジニル基等が好適である。
【0098】Ar1の置換基としては、例えばハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ヒドロキ
シ低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコ
キシ基、低級アルカノイル基等、より好ましくはハロゲ
ン原子、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルコキシ基等
が好適である。
【0099】Ar1のアリール基としては、例えばフェ
ニル基等が、Ar1のヘテロアリール基としては、例え
ばチエニル基、ピリジル基等が好適である。
【0100】Ar1としては、例えば、ハロゲン原子、
ハロ低級アルキル基及びハロ低級アルコキシ基からなる
群より選択される置換基を有するフェニル基か、又はハ
ロゲン原子、ハロ低級アルキル基及びハロ低級アルコキ
シ基からなる群より選択される置換基を有していてもよ
い、チエニル基若しくはピリジル基等が好ましく、より
具体的には、例えばフェニル基、2−フルオロフェニル
基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル
基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4
−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロ
モフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−メチルフェ
ニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル
基、2−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリフル
オロメチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニ
ル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基、3−ヒドロキ
シメチルフェニル基、4−ヒドロキシメチルフェニル
基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル
基、4−メトキシフェニル基、2−ジフルオロメトキシ
フェニル基、3−ジフルオロメトキシフェニル基、4−
ジフルオロメトキシフェニル基、2−トリフルオロメト
キシフェニル基、3−トリフルオロメトキシフェニル
基、4−トリフルオロメトキシフェニル基、2−ホルミ
ルフェニル基、3−ホルミルフェニル基、4−ホルミル
フェニル基、2−チエニル基、4−クロロ−2−チエニ
ル基、5−クロロ−2−チエニル基、4−ブロモ−2−
チエニル基、5−ブロモ−2−チエニル基、4−メチル
−2−チエニル基、5−メチル−2−チエニル基、4−
メトキシ−2−チエニル基、5−メトキシ−2−チエニ
ル基、3−チエニル基、5−クロロ−3−チエニル基、
5−メチル−3−チエニル基、5−メトキシ−3−チエ
ニル基、2−ピリジル基、4−メチル−2−ピリジル
基、5−メチル−2−ピリジル基、4−メトキシ−2−
ピリジル基、5−メトキシ−2−ピリジル基、4−クロ
ロ−2−ピリジル基、5−クロロ−2−ピリジル基、3
−ピリジル基、4−メチル−3−ピリジル基、5−メチ
ル−3−ピリジル基、4−メトキシ−3−ピリジル基、
5−メトキシ−3−ピリジル基、6−フルオロ−3−ピ
リジル基、4−クロロ−3−ピリジル基、5−クロロ−
3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−フルオロ−4−
ピリジル基、2−クロロ−4−ピリジル基、3−クロロ
−4−ピリジル基、2−メチル−4−ピリジル基、3−
メチル−4−ピリジル基、2−メトキシ−4−ピリジル
基、3−メトキシ−4−ピリジル基等が挙げられ、中で
も2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、
4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−
クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、3−ブロモ
フェニル基、4−ブロモフェニル基、3−メチルフェニ
ル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、4−トリフ
ルオロメチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、4
−メトキシフェニル基、3−トリフルオロメトキシフェ
ニル基、4−トリフルオロメトキシフェニル基、3−ジ
フルオロメトキシフェニル基、4−ジフルオロメトキシ
フェニル基、2−チエニル基、4−クロロ−2−チエニ
ル基、5−クロロ−2−チエニル基、4−ブロモ−2−
チエニル基、5−ブロモ−2−チエニル基、3−ピリジ
ル基、4−メトキシ−3−ピリジル基、5−メトキシ−
3−ピリジル基、6−フルオロ−3−ピリジル基、4−
クロロ−3−ピリジル基、5−クロロ−3−ピリジル
基、2−フルオロ−4−ピリジル基等が好ましく、特に
4−フルオロフェニル基、6−フルオロ-3−ピリジル
基、2−フルオロ−4−ピリジル基等、より好ましくは
4−フルオロフェニル基等が好適である。
【0101】Ar2の置換基としては、例えばシアノ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、ハロ低
級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ
基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシ
カルボニル基、低級アルキルスルホニル基等、より好ま
しくはシアノ基等が好適である。
【0102】Ar2のアリール基としては、例えばフェ
ニル基等が、Ar2のヘテロアリール基としては、例え
ば酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群より、同
一又は異なって選ばれる1又は2以上、好ましくは1な
いし3の複素原子を含有する5員又は6員の単環式芳香
族複素環基等、より具体的には、例えばチエニル基、チ
アゾリル基、イソチアゾリル基、1,2,5−チアジア
ゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基
等が好適である。
【0103】Ar2としては、例えば、シアノ基、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、ハロ低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、ホル
ミル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニ
ル基及び低級アルキルスルホニル基からなる群より選択
される置換基を有するフェニル基か、又はシアノ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、ホ
ルミル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボ
ニル基及び低級アルキルスルホニル基からなる群より選
択される置換基を有していてもよい、酸素原子、窒素原
子及び硫黄原子からなる群より、同一若しくは異なって
選ばれる1若しくは2以上、好ましくは1ないし3の複
素原子を含有する5員若しくは6員の単環式芳香族複素
環基、好ましくはチエニル基、チアゾリル基、イソチア
ゾリル基、1,2,5−チアジアゾリル基、ピリジル
基、ピリミジニル基、ピラジニル基等が好適であり、よ
り具体的には、例えばフェニル基、3−シアノフェニル
基、4−シアノフェニル基、3−フルオロフェニル基、
4−フルオロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−
クロロフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモ
フェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニ
ル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、
3,5−ジメチルフェニル基、3−トリフルオロメチル
フェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、3−
ヒドロキシメチルフェニル基、4−ヒドロキシメチルフ
ェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェ
ニル基、3−トリフルオロメトキシフェニル基、4−ト
リフルオロメトキシフェニル基、3−ホルミルフェニル
基、4−ホルミルフェニル基、3−アセチルフェニル
基、3−メトキシカルボニルフェニル基、4−メトキシ
カルボニルフェニル基、3−メチルスルホニルフェニル
基、4−メチルスルホニルフェニル基、2−チエニル
基、4−シアノ−2−チエニル基、5−シアノ−2−チ
エニル基、4−クロロ−2−チエニル基、5−クロロ−
2−チエニル基、3−チエニル基、2−チアゾリル基、
4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、3−イソチアゾ
リル基、4−イソチアゾリル基、1,2,5−チアジア
ゾール−3−イル基、2−ピリジル基、4−シアノ−2
−ピリジル基、6−シアノ−2−ピリジル基、4−クロ
ロ−2−ピリジル基、6−クロロ−2−ピリジル基、4
−トリフルオロメチル−2−ピリジル基、6−トリフル
オロメチル−2−ピリジル基、6−ヒドロキシ−2−ピ
リジル基、4−メトキシ−2−ピリジル基、4−メトキ
シカルボニル−2−ピリジル基、3−ピリジル基、5−
シアノ−3−ピリジル基、5−ブロモ−3−ピリジル
基、4−ピリジル基、2−シアノ−4−ピリジル基、2
−クロロ−4−ピリジル基、ピラジニル基、2−ピリミ
ジニル基、4−シアノ−2−ピリミジニル基、4−クロ
ロ−2−ピリミジニル基、4−トリフルオロメチル−2
−ピリミジニル基、4−カルバモイル−2−ピリミジニ
ル基、4−ピリミジニル基、6−シアノ−4−ピリミジ
ニル基、6−クロロ−4−ピリミジニル基、5−ピリミ
ジニル基、3−ピリダジニル基等が挙げられ、中でも3
−シアノフェニル基、3−フルオロフェニル基、3−ク
ロロフェニル基、3−ブロモフェニル基、3−ニトロフ
ェニル基、3−メチルフェニル基、3−トリフルオロメ
チルフェニル基、3−トリフルオロメトキシフェニル
基、3−ホルミルフェニル基、3−メチルスルホニルフ
ェニル基、5−チアゾリル基、4−イソチアゾリル基、
1,2,5−チアジアゾール−3−イル基、4−シアノ
−2−ピリジル基、6−シアノ−2-ピリジル基、3−
ピリジル基、5−シアノ−3−ピリジル基、2−シアノ
−4−ピリジル基、2−クロロ−4−ピリジル基、ピラ
ジニル基、4−シアノ−2−ピリミジニル基、6−シア
ノ−4−ピリミジニル基等、より好ましくは3−シアノ
フェニル基、3−メチルスルホニルフェニル基、4−シ
アノ−2−ピリジル基、6−シアノ−2-ピリジル基、
5−シアノ−3−ピリジル基、2−クロロ−4−ピリジ
ル基、4−シアノ−2−ピリミジニル基等が好適であ
る。
【0104】Ar3の置換基としては、例えばハロゲン
原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルケニル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコ
キシ基、ハロ低級アルコキシ基、低級アルカノイル基、
アリール基等が好適である。
【0105】Ar3のアリール基としては、例えばフェ
ニル基、ナフチル基等が、Ar3のヘテロアリール基と
しては、例えばチエニル基、ピリジル基、キノリル基、
1,5−ナフチリジニル基等が好適である。
【0106】Ar3としては、例えばハロゲン原子、低
級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基、
ハロ低級アルコキシ基、低級アルカノイル基及びアリー
ル基からなる群より選択される置換基を有していてもよ
い、フェニル基、ナフチル基、チエニル基、ピリジル
基、キノリル基又は1,5−ナフチリジニル基等が好適
であり、より具体的には、例えばフェニル基、4−シア
ノフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロ
フェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェ
ニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル
基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4
−メチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2
−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリフルオロメ
チルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、
3−ヒドロキシメチルフェニル基、4−ヒドロキシメチ
ルフェニル基、3−ビニルフェニル基、4−ビニルフェ
ニル基、3−ジメチルアミノフェニル基、4−ジメチル
アミノフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メト
キシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−ジフル
オロメトキシフェニル基、3−ジフルオロメトキシフェ
ニル基、4−ジフルオロメトキシフェニル基、2−トリ
フルオロメトキシフェニル基、3−トリフルオロメトキ
シフェニル基、4−トリフルオロメトキシフェニル基、
3−ホルミルフェニル基、4−ホルミルフェニル基、4
−ビフェニリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、
2−チエニル基、4−クロロ−2−チエニル基、5−ク
ロロ−2−チエニル基、4−ブロモ−2−チエニル基、
5−ブロモ−2−チエニル基、4−メチル−2−チエニ
ル基、5−メチル−2−チエニル基、4−メトキシ−2
−チエニル基、5−メトキシ−2−チエニル基、3−チ
エニル基、5−クロロ−3−チエニル基、5−メチル−
3−チエニル基、5−メトキシ−3−チエニル基、2−
ピリジル基、5−フルオロ−2−ピリジル基、4−クロ
ロ−2−ピリジル基、5−クロロ−2−ピリジル基、4
−メチル−2−ピリジル基、5−メチル−2−ピリジル
基、4−メトキシ−2−ピリジル基、5−メトキシ−2
−ピリジル基、3−ピリジル基、6−フルオロ−3−ピ
リジル基、4−クロロ−3−ピリジル基、5−クロロ−
3−ピリジル基、6−クロロ−3−ピリジル基、4−メ
チル−3−ピリジル基、5−メチル−3−ピリジル基、
4−メトキシ−3−ピリジル基、5−メトキシ−3−ピ
リジル基、6−メトキシ−3−ピリジル基、6−ジフル
オロメトキシ−3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−
フルオロ−4−ピリジル基、2−クロロ−4−ピリジル
基、3−クロロ−4−ピリジル基、2−メチル−4−ピ
リジル基、3−メチル−4−ピリジル基、2−メトキシ
−4−ピリジル基、3−メトキシ−4−ピリジル基、3
−キノリル基、6−キノリル基、1,5−ナフチリジン
−3−イル基等が挙げられ、中でもフェニル基、3−フ
ルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、3−クロ
ロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−メチルフェ
ニル基、4−メチルフェニル基、3,4−ジメチルフェ
ニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、4−トリ
フルオロメチルフェニル基、3−ビニルフェニル基、4
−ビニルフェニル基、4−ジメチルアミノフェニル基、
2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4
−メトキシフェニル基、3−ジフルオロメトキシフェニ
ル基、4−ジフルオロメトキシフェニル基、3−トリフ
ルオロメトキシフェニル基、4−トリフルオロメトキシ
フェニル基、4−ホルミルフェニル基、4−ビフェニリ
ル基、2−ナフチル基、2−チエニル基、5−クロロ−
2−チエニル基、5−メチル−2−チエニル基、5−メ
トキシ−2−チエニル基、2−ピリジル基、5−フルオ
ロ−2−ピリジル基、3−ピリジル基、6−フルオロ−
3−ピリジル基、6−クロロ−3−ピリジル基、6−メ
トキシ−3−ピリジル基、6−ジフルオロメトキシ−3
−ピリジル基、4−ピリジル基、2−フルオロ−4−ピ
リジル基、3−キノリル基、6−キノリル基、1,5−
ナフチリジン−3−イル基等が好ましく、特に6−フル
オロ−3−ピリジル基、2−フルオロ−4−ピリジル基
等、より好ましくは6−フルオロ−3−ピリジル基等が
好適である。
【0107】R1はシクロ低級アルキル基又は−Ar3
【0108】
【化16】
【0109】で表される基を意味する。
【0110】R1のシクロ低級アルキル基としては、例
えばシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等が好適である。
【0111】Ar3の定義及び好適な具体例等は前記の
とおりである。
【0112】式(a)、(b)又は(c)で表される基
において、nは0、1又は2を意味し;R10及びR
11は、ともに水素原子を意味するか、又は一緒になって
オキソ基を意味し;X及びYは、それぞれ独立して、メ
チレン基、エテニレン基、−NR 12−で表される基、酸
素原子又は硫黄原子を意味し;Zはメチン基又は窒素原
子を意味し;R12は水素原子又は低級アルキル基を意味
する。
【0113】式(a)、(b)又は(c)で表される基
としては、例えば、nが0又は1を意味し、R10及びR
11が一緒になってオキソ基を意味し、X及びYが、それ
ぞれ独立して、メチレン基、エテニレン基、−NR12
で表される基又は酸素原子を意味し、Zがメチン基を意
味し、かつR12が水素原子を意味するとき等が好適であ
る。すなわち、nが0のとき、式(a0)又は(b0
【0114】
【化17】
【0115】で表される基等が好適であり、nが1のと
き、式(a1)、(b1)又は(c1
【0116】
【化18】
【0117】で表される基等が好適である。
【0118】更には、nが0の場合、(X、Y)の組み
合わせが、例えば(酸素原子、メチレン基)、(酸素原
子、エテニレン基)又は(酸素原子、イミノ基)である
とき等が好ましく、nが1の場合、(X、Y)の組み合
わせが、例えば(イミノ基、酸素原子)又は(酸素原
子、酸素原子)であるとき等が好ましい。
【0119】したがって、より具体的には、式(a)、
(b)又は(c)で表される基としては、式(aa)
【0120】
【化19】
【0121】で表される基等が好ましい。
【0122】R1としては、−Ar3で表される基が好適
である。
【0123】R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原
子、シクロ低級アルキル基若しくは低級アルケニル基を
意味するか、又はハロゲン原子、低級アルキルアミノ
基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ
基、水酸基、低級アルコキシ基、ホルミル基、低級アル
コキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基及び
ジ低級アルキルカルバモイル基からなる群より選択され
る置換基を有していてもよい低級アルキル基を意味す
る。
【0124】R2又はR3のシクロ低級アルキル基として
は、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等が好
適である。
【0125】R2又はR3の低級アルケニル基としては、
例えばビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基
等が好適である。
【0126】「ハロゲン原子、低級アルキルアミノ基、
ジ低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、
水酸基、低級アルコキシ基、ホルミル基、低級アルコキ
シカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基及びジ低
級アルキルカルバモイル基からなる群より選択される置
換基を有していてもよい低級アルキル基」とは、無置換
の前記低級アルキル基又は置換可能な任意の位置に置換
基を有する前記低級アルキル基を意味し、該置換基はハ
ロゲン原子、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、水酸基、低級アル
コキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、
低級アルキルカルバモイル基及びジ低級アルキルカルバ
モイル基からなる群より、同一又は異なって1又は2以
上、好ましくは1又は2選択することができる。
【0127】該置換基のハロゲン原子としては、例えば
フッ素原子等が好適である。
【0128】該置換基の低級アルキルアミノ基として
は、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基等が好適で
ある。
【0129】該置換基のジ低級アルキルアミノ基として
は、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が好
適である。
【0130】該置換基の低級アルカノイルアミノ基とし
ては、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等が好適である。
【0131】該置換基の低級アルコキシ基としては、例
えばメトキシ基、エトキシ基等が好適である。
【0132】該置換基の低級アルコキシカルボニル基と
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基等が好適である。
【0133】該置換基の低級アルキルカルバモイル基と
しては、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモ
イル基等が好適である。
【0134】該置換基のジ低級アルキルカルバモイル基
としては、例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカ
ルバモイル基等が好適である。
【0135】R2又はR3の低級アルキル基の置換基とし
ては、例えばハロゲン原子、低級アルキルアミノ基、ジ
低級アルキルアミノ基、水酸基、低級アルコキシ基等が
好適である。
【0136】R2又はR3の低級アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、イソブチル基等、より好ましくはメチル基等が好適
である。
【0137】より具体的には、R2又はR3の前記置換基
を有していてもよい低級アルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロ
エチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、メチル
アミノメチル基、2−メチルアミノエチル基、ジメチル
アミノメチル基、2−ジメチルアミノエチル基、2−ジ
エチルアミノエチル基、(アセチルアミノ)メチル基、
ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基、メトキシメチル基、2−メトキシ
エチル基、ホルミルメチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、エトキシカルボニルメチル基、(メチルカルバモ
イル)メチル基、(エチルカルバモイル)メチル基、
(ジメチルカルバモイル)メチル基、(ジエチルカルバ
モイル)メチル基等が挙げられ、中でもメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基等、より好まし
くはメチル基等が好ましい。
【0138】R2及びR3としては、ともに水素原子であ
るときか、又はそのいずれか一方が水素原子であり、他
方が前記置換基を有していてもよい低級アルキル基であ
るとき等が好適である。
【0139】本発明に係る化合物のうち、例えば、
(a)R1が−Ar3で表される基であり、かつAr2
シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、
ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ低級アル
コキシ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アル
コキシカルボニル基及び低級アルキルスルホニル基から
なる群より選択される置換基を有するフェニル基である
化合物か、又はR1が−Ar3で表される基であり、かつ
Ar2がシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アル
キル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ
低級アルコキシ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、
低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキルスルホニ
ル基からなる群より選択される置換基を有していてもよ
い、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群より、
同一若しくは異なって選ばれる1若しくは2以上、好ま
しくは1ないし3の複素原子を含有する5員若しくは6
員の単環式芳香族複素環基、より好ましくはチエニル
基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、1,2,5−チ
アジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基若しくは
ピラジニル基である化合物等がより好適である。
【0140】上記(a)の化合物のうち、それぞれ、
(b)Ar1がハロゲン原子、ハロ低級アルキル基及び
ハロ低級アルコキシ基からなる群より選択される置換基
を有するフェニル基である化合物か、又はAr1がハロ
ゲン原子、ハロ低級アルキル基及びハロ低級アルコキシ
基からなる群より選択される置換基を有していてもよ
い、チエニル基若しくはピリジル基である化合物等がよ
り好適であり、更には(c)R2及びR3がともに水素原
子である化合物か、又はR2若しくはR3のいずれか一方
が水素原子であり、他方がハロゲン原子、低級アルキル
アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルカノイル
アミノ基、水酸基、低級アルコキシ基、ホルミル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル
基及びジ低級アルキルカルバモイル基からなる群より選
択される置換基を有していてもよい低級アルキル基であ
る化合物等がより好ましい。
【0141】上記(c)の化合物のうち、それぞれ、
(d)Ar3がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロ
キシ低級アルキル基、低級アルケニル基、ジ低級アルキ
ルアミノ基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ
基、低級アルカノイル基及びアリール基からなる群より
選択される置換基を有していてもよい、フェニル基、ナ
フチル基、チエニル基、ピリジル基、キノリル基又は
1,5−ナフチリジニル基である化合物等がより好まし
い。
【0142】また、上記(a)の化合物のうち、それぞ
れ、(e)Ar1が4−フルオロフェニル基、6−フル
オロ−3−ピリジル基又は2−フルオロ−4−ピリジル
基であり、Ar3が6−フルオロ−3−ピリジル基又は
2−フルオロ−4−ピリジル基であり、R2又はR3のい
ずれか一方が水素原子であり、かつ他方がメチル基であ
る化合物等がより好適であり、中でもAr1が4−フル
オロフェニル基であり、かつAr3が6−フルオロ−3
−ピリジル基である化合物か;Ar1が4−フルオロフ
ェニル基であり、かつAr3が2−フルオロ−4−ピリ
ジル基である化合物か;Ar1及びAr3がともに6−フ
ルオロ−3−ピリジル基である化合物か;又はAr1
びAr3がともに2−フルオロ−4−ピリジル基である
化合物等が好適である。
【0143】なお、R2及びR3が同時に水素原子であ
り、かつ、Ar1、Ar2及びR1が同時に無置換のフェ
ニル基である化合物は化合物(I)から除外される。
【0144】本発明に係る化合物は、その置換基の態様
によって、光学異性体、ジアステレオ異性体、幾何異性
体等の立体異性体又は互変異性体が存在する場合がある
が、本発明に係る化合物はこれら全ての立体異性体、互
変異性体及びそれらの混合物をも包含する。
【0145】本発明に係る化合物の種々の結晶、水和物
及び溶媒和物も本発明の範囲に属する。
【0146】更に本発明に係る化合物のプロドラッグも
また本発明の範囲に属する。一般的に、そのようなプロ
ドラッグは、生体内で必要とされる化合物に容易に変換
されうる本発明に係る化合物の機能的誘導体である。し
たがって、本発明に係る各種疾患の処置方法において
は、「投与」という言葉は、特定した化合物の投与のみ
ならず、患者に投与した後、生体内で当該特定した化合
物に変換される化合物の投与を含む。適当なプロドラッ
グ誘導体の選択及び製造のための常套手段は、例えば
“Design of Prodrugs” ed.
H.Bundgaard, Elsevier,198
5等に記載され、ここに引用してその記載全体を本願明
細書の一部となす。これらの化合物の代謝物は、本発明
に係る化合物を生物学的環境に置くことによって産生さ
れる活性化合物を含み、本発明の範囲に属する。
【0147】一般式(I)で表される化合物の具体例と
しては、例えば、2−(3−シアノフェニル)−4,4
−ビス(4−フルオロフェニル)−2−イミダゾリン、
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−ピラジニ
ル−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−
4−(4−フルオロフェニル)−4−(1,5−ナフチ
リジン−3−イル)−2−イミダゾリン、2−(3−シ
アノフェニル)−4,4−ビス(4−フルオロフェニ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン、2−(3−シア
ノフェニル)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)
−5−ヒドロキシメチル−2−イミダゾリン、2−(3
−シアノフェニル)−4,4−ビス(3−フルオロフェ
ニル)−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(3−キノリル)−4−(2−チエニル)−
2−イミダゾリン、4−(4−ブロモフェニル)−2−
(3−シアノフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾ
リン、4,4−ビス(4−クロロフェニル)−2−(3
−シアノフェニル)−2−イミダゾリン、4−(4−ク
ロロフェニル)−2−(3−シアノフェニル)−4−フ
ェニル−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(3−キノ
リル)−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−フェニル−
2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−
フェニル−4−(4−ビニルフェニル)−2−イミダゾ
リン、4−(6−クロロ−3−ピリジル)−2−(3−
シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−2
−イミダゾリン、4−(5−クロロ−2−チエニル)−
2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(4−メチルフェニル)−4−フェニル−2
−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−
(3−メチルフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾ
リン、4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−
(3−ニトロフェニル)−2−イミダゾリン、2−(3
−シアノフェニル)−4−フェニル−4−(3−キノリ
ル)−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)
−4−(4−メトキシフェニル)−4−フェニル−2−
イミダゾリン、4−(3−クロロフェニル)−2−(3
−シアノフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾリ
ン、2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロ
フェニル)−4−(5−メチル−2−チエニル)−2−
イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−フェ
ニル−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−2−
イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−(3
−メトキシフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾリ
ン、2−(3−シアノフェニル)−4−(3,4−ジメ
チルフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン、2
−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−4−(3−ビニルフェニル)−2−イミダゾリ
ン、2−(3−シアノフェニル)−4−(2−ナフチ
ル)−4−(3−ピリジル)−2−イミダゾリン、4−
(3−ブロモフェニル)−2−(3−シアノフェニル)
−4−(4−フルオロフェニル)−2−イミダゾリン、
4−(2−クロロフェニル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン、2−(3−シ
アノフェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−
(6−キノリル)−2−イミダゾリン、2−(3−シア
ノフェニル)−4−フェニル−4−(2−チエニル)−
2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−
(4−ジメチルアミノフェニル)−4−フェニル−2−
イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−(4
−フルオロフェニル)−4−(3−ピリジル)−2−イ
ミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−(4−
ホルミルフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾリ
ン、2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロ
フェニル)−4−(2−チエニル)−2−イミダゾリ
ン、4,4−ジフェニル−2−ピラジニル−2−イミダ
ゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス
(4−メトキシフェニル)−2−イミダゾリン、2−
(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−4−(3−ホルミルフェニル)−2−イミダゾリ
ン、4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3
−メチルスルホニルフェニル)−2−イミダゾリン、
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−ホ
ルミルフェニル)−2−イミダゾリン、2−(3−シア
ノフェニル)−4−(2−メチルフェニル)−4−フェ
ニル−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)
−4−(4−フルオロフェニル)−4−(3−ヒドロキ
シメチルフェニル)−2−イミダゾリン、2−(3−シ
アノフェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−
(1,2,3,4−テトラヒドロ−1,5−ナフチリジ
ン−7−イル)−2−イミダゾリン、2−(3−シアノ
フェニル)−4−(2−フルオロフェニル)−4−(3
−ピリジル)−2−イミダゾリン、4−(4−ビフェニ
リル)−2−(3−シアノフェニル)−4−フェニル−
2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−
(2−メトキシフェニル)−4−フェニル−2−イミダ
ゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4−シクロヘキ
シル−4−フェニル−2−イミダゾリン、2−(3−シ
アノフェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−
(4−ピリジル)−2−イミダゾリン、4,4−ビス
(4−フルオロフェニル)−2−(5−ピリミジニル)
−2−イミダゾリン、2−(3−シアノフェニル)−4
−シクロペンチル−4−フェニル−2−イミダゾリン、
2−(3−シアノフェニル)−4−シクロブチル−4−
フェニル−2−イミダゾリン、4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−2−(3−ピリダジニル)−2−イミ
ダゾリン、4−(4−フルオロフェニル)−5−メチル
−2−ピラジニル−4−(3−キノリル)−2−イミダ
ゾリン、(4S,5S)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−(3
−メチルスルホニルフェニル)−5−メチル−2−イミ
ダゾリン、(4R,5S)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−(3
−メチルスルホニルフェニル)−5−メチル−2−イミ
ダゾリン、(4S,5S)−2−(5−シアノ−3−ピ
リジル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾ
リン、(4R,5S)−2−(5−シアノ−3−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4S,5S)−2−(2−シアノ−4−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−2−(2−シアノ−4−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(5R)−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキ
シメチル−2−イミダゾリン、(5S)−2−(2−シ
アノ−4−ピリジル)−4,4−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−5−メチル−2−イミダゾリン、(4S,5
S)−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−4−(4−
フルオロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン、(4R,5S)
−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−4−(4−フル
オロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジル)
−5−メチル−2−イミダゾリン、(5S)−2−(2
−シアノ−4−ピリジル)−4,4−ビス(6−フルオ
ロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン、
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−メチル−
2−ピラジニル−2−イミダゾリン、4,4−ビス(4
−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシメチル−2−ピ
ラジニル−2−イミダゾリン、5−エチル−4,4−ビ
ス(4−フルオロフェニル)−2−ピラジニル−2−イ
ミダゾリン、4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−
5−プロピル−2−ピラジニル−2−イミダゾリン、
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(4−イ
ソチアゾリル)−2−イミダゾリン、2−(3−ピリジ
ル)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−イ
ミダゾリン、2−(3−クロロフェニル)−4,4−ビ
ス(4−フルオロフェニル)−2−イミダゾリン、4,
4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−トリフ
ルオロメチルフェニル)−2−イミダゾリン、2−(3
−フルオロフェニル)−4,4−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−2−イミダゾリン、4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−2−(3−トリフルオロメトキシフェ
ニル)−2−イミダゾリン、4,4−ビス(4−フルオ
ロフェニル)−2−(5−チアゾリル)−2−イミダゾ
リン、4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−
(3−メチルフェニル)−2−イミダゾリン、4,4−
ビス(4−フルオロフェニル)−2−(2−チエニル)
−2−イミダゾリン、2−(5−ブロモ−3−ピリジ
ル)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−イ
ミダゾリン、2−(3−ブロモフェニル)−4,4−ビ
ス(4−フルオロフェニル)−2−イミダゾリン、4,
4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−チエニ
ル)−2−イミダゾリン、2−(4−シアノ−2−ピリ
ジル)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−
イミダゾリン、(4S,5S)−2−(3−シアノフェ
ニル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フ
ルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−2−(3−シアノフェニル)−4
−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3
−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン、2−
(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−フルオロ
フェニル)−5−(1−ヒドロキシエチル)−2−イミ
ダゾリン、(4S,5S)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(2−フル
オロ−4−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−2−(3−シアノフェニル)−4
−(4−フルオロフェニル)−4−(2−フルオロ−4
−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン、(4
S,5S)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6
−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−(1,
2,5−チアジアゾール−3−イル)−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−4−(4−フルオロフェニル)−
4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2
−(1,2,5−チアジアゾール−3−イル)−2−イ
ミダゾリン、(5R)−4,4−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−5−ヒドロキシメチル−2−(6−ヒドロキ
シ−2−ピリジル)−2−イミダゾリン、(5S)−
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(6−ヒ
ドロキシ−2−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾ
リン、(4S,5S)−2−(2−クロロ−4−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−2−(2−クロロ−4−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4S,5S)−4−(4−フルオロフェニル)−
4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−(6−ヒド
ロキシ−2−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−4−(4−フルオロフェニル)−
4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−(6−ヒド
ロキシ−2−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(5S)−2−(3−シアノフェニル)−4,4−
ビス(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2
−イミダゾリン、(4S,5R)−2−(3−シアノフ
ェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−5−ヒドロキシメチル−2
−イミダゾリン、(4R,5R)−2−(3−シアノフ
ェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−5−ヒドロキシメチル−2
−イミダゾリン、(4S,5S)−2−(3−シアノフ
ェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−5−メチル
−4−(1,5−ナフチリジン−3−イル)−2−イミ
ダゾリン、(4R,5S)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−5−メチル−4
−(1,5−ナフチリジン−3−イル)−2−イミダゾ
リン、(4S,5S)−2−(3−シアノフェニル)−
4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−4−(4−フル
オロフェニル)−5−メチル−2−イミダゾリン、(4
R,5S)−2−(3−シアノフェニル)−4−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン、(5S)−2−
(5−シアノ−3−ピリジル)−4,4−ビス(6−フ
ルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4S,5S)−2−(4−シアノ−2−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(4R,5S)−2−(4−シアノ−2−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリ
ン、(5R)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−
4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキ
シメチル−2−イミダゾリン、2−(4−シアノ−2−
ピリジル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6
−フルオロ−3−ピリジル)−2−イミダゾリン、2−
(4−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオロフ
ェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジル)−2−
イミダゾリン、(4S,5R)−2−(4−シアノ−2
−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−
(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−ヒドロキシメチ
ル−2−イミダゾリン、(4R,5R)−2−(4−シ
アノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニル)
−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−ヒドロキ
シメチル−2−イミダゾリン、(4S,5S)−2−
(6−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオロフ
ェニル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−
メチル−2−イミダゾリン、(4R,5S)−2−(6
−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチ
ル−2−イミダゾリン、(4S,5S)−2−(4−シ
アノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニル)
−4−(2−フルオロ−4−ピリジル)−5−メチル−
2−イミダゾリン、(4R,5S)−2−(4−シアノ
−2−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニル)−4
−(2−フルオロ−4−ピリジル)−5−メチル−2−
イミダゾリン、(5S)−2−(4−シアノ−2−ピリ
ジル)−4,4−ビス(6−フルオロ−3−ピリジル)
−5−メチル−2−イミダゾリン、(4S,5S)−2
−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオロ
フェニル)−5−メチル−4−(3−ピリジル)−2−
イミダゾリン、(4R,5S)−2−(4−シアノ−2
−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニル)−5−メ
チル−4−(3−ピリジル)−2−イミダゾリン、(5
R)−2−(4−シアノ−2−ピリミジル)−4,4−
ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシメチル
−2−イミダゾリン、(4S,5S)−2−(4−シア
ノ−2−ピリミジル)−4−(4−フルオロフェニル)
−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−
2−イミダゾリン又は(4R,5S)−2−(4−シア
ノ−2−ピリミジル)−4−(4−フルオロフェニル)
−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−
2−イミダゾリン等が挙げられる。
【0148】次に、本発明に係る化合物の製造法につい
て説明する。
【0149】化合物(I)は、例えば下記の製造法又は
実施例・参考例に示す方法等により製造することができ
る。ただし、化合物(I)の製造法はこれら反応例に限
定されるものではない。
【0150】製造法1 一般式(II)
【0151】
【化20】
【0152】[式中、Ar1p及びAr3pは、それぞれ独
立して、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アル
キル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級アルキル低級
アルキル基、低級アルケニル基、ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、低級アルキルチ
オ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルコキ
シカルボニル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、低級
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アリー
ル基及びヘテロアリール基並びに保護されていてもよ
い、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルキルアミノ
基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニ
ルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水酸基、カ
ルボキシル基、カルバモイル基及び低級アルキルカルバ
モイル基からなる群より選択される置換基を有していて
もよい、アリール基又はヘテロアリール基を意味し;R
1pはシクロ低級アルキル基又は−Ar3p
【0153】
【化21】
【0154】で表される基を意味し;R2p及びR3pは、
それぞれ独立して、水素原子、シクロ低級アルキル基若
しくは低級アルケニル基を意味するか、又はハロゲン原
子、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基、ホル
ミル基、低級アルコキシカルボニル基及びジ低級アルキ
ルカルバモイル基並びに保護されていてもよい、低級ア
ルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、水酸基及
び低級アルキルカルバモイル基からなる群より選択され
る置換基を有していてもよい低級アルキル基を意味し;
10p及びR11pは、ともに水素原子を意味するか、又は
一緒になって保護されていてもよいオキソ基を意味し;
12pは水素原子、低級アルキル基又はイミノ基の保護
基を意味し;Xp及びYpは、それぞれ独立して、メチレ
ン基、エテニレン基、−NR12p−で表される基、酸素
原子又は硫黄原子を意味し;n及びZは前記の意味を有
する]で表される化合物と、一般式(III)
【0155】
【化22】
【0156】[式中、Ar2pはシアノ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、
シクロ低級アルキル低級アルキル基、低級アルケニル
基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基、ハロ
低級アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリール
オキシ基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アル
カノイル基、低級アルコキシカルボニル基、ジ低級アル
キルカルバモイル基、低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アリール基及びヘテロアリール基並
びに保護されていてもよい、ヒドロキシ低級アルキル
基、低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ
基、低級アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホ
ニルアミノ基、水酸基、カルボキシル基、カルバモイル
基及び低級アルキルカルバモイル基からなる群より選択
される置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテ
ロアリール基を意味し;R4はアミノ基又は低級アルコ
キシ基を意味する]で表される化合物の酸付加塩とを反
応させ、一般式(IV)
【0157】
【化23】
【0158】[式中、Ar1p、Ar2p、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物とし、所
望により保護基を除去することにより、一般式(I)で
表される化合物を製造することができる。
【0159】上記反応において、反応物質中に反応に関
与しないアミノ基、イミノ基、水酸基、カルボキシル
基、オキソ基、カルボニル基等が存在する場合、当該ア
ミノ基、イミノ基、水酸基、カルボキシル基、オキソ
基、カルボニル基は、適宜、アミノ基若しくはイミノ基
の保護基、水酸基の保護基、カルボキシル基の保護基又
はオキソ基若しくはカルボニル基の保護基で保護した後
に反応を行い、反応後に当該保護基を除去することがで
きる。
【0160】「アミノ基若しくはイミノ基の保護基」と
しては、例えばベンジル基、p−メトキシベンジル基、
3,4−ジメトキシベンジル基、o−ニトロベンジル
基、p−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチ
ル基等のアラルキル基;例えばホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基等の低
級アルカノイル基;例えばベンゾイル基;例えばフェニ
ルアセチル基、フェノキシアセチル基等のアリールアル
カノイル基;例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、tert−
ブトキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル
基;例えばベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニ
ル基等のアラルキルオキシカルボニル基;例えばトリメ
チルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基等の
低級アルキルシリル基等が挙げられ、特にアセチル基、
ピバロイル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、
tert−ブトキシカルボニル基等が好ましい。
【0161】「水酸基の保護基」としては、例えばトリ
メチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基等
の低級アルキルシリル基;例えばメトキシメチル基、2
−メトキシエトキシメチル基等の低級アルコキシメチル
基;例えばテトラヒドロピラニル基;例えばトリメチル
シリルエトキシメチル基;例えばベンジル基、p−メト
キシベンジル基、2,3−ジメトキシベンジル基、o−
ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、トリチル基
等のアラルキル基;例えばホルミル基、アセチル基等の
アシル基等が挙げられ、特にメトキシメチル基、テトラ
ヒドロピラニル基、トリチル基、トリメチルシリルエト
キシメチル基、tert−ブチルジメチルシリル基、ア
セチル基等が好ましい。
【0162】「カルボキシル基の保護基」としては、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、tert−ブチル基等の低級アルキル基;例えば
2,2,2−トリクロロエチル基等の低級ハロアルキル
基;例えば2−プロペニル基等の低級アルケニル基;例
えばベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロ
ベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等のアラル
キル基等が挙げられ、特にメチル基、エチル基、ter
t−ブチル基、2−プロペニル基、ベンジル基、p−メ
トキシベンジル基、ベンズヒドリル基等が好ましい。
【0163】「オキソ基又はカルボニル基の保護基」と
しては、エチレンケタール、トリメチレンケタール、ジ
メチルケタール等のアセタール、ケタール等が挙げられ
る。
【0164】一般式(II)で表される化合物と一般式
(III)で表される化合物の酸付加塩との反応は、通
常、化合物(II)の1モルに対して、化合物(II
I)の酸付加塩を1モルないし過剰モル、好ましくは1
モルないし5モル用いて行われる。
【0165】化合物(III)の酸付加塩としては、例
えば塩酸塩等が好ましい。
【0166】反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当
該不活性溶媒としては、例えばメタノール、エタノール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等又はその混合溶媒等が好適である。
【0167】反応温度は、通常、−30℃ないし200
℃、好ましくは0℃ないし150℃である。
【0168】反応時間は、通常、30分間ないし7日
間、好ましくは2時間ないし5日間である。
【0169】反応終了後、通常の処理を行い、一般式
(IV)で表される化合物の粗生成物を得ることができ
る。このようにして得られた一般式(IV)で表される
化合物を、常法に従って精製し、又は精製することな
く、所望により、アミノ基、イミノ基、水酸基、カルボ
キシル基、オキソ基及びカルボニル基の保護基の除去反
応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式(I)の
化合物を製造することができる。
【0170】保護基の除去法は、当該保護基の種類及び
目的化合物(I)の安定性等により異なるが、例えば文
献記載の方法[プロテクティブ・グループス・イン・オ
ーガニック・シンセシス(Protective Gr
oups in Organic Synthesi
s)、T.W.グリーン(T.W.Greene)著、
John Wiley & Sons社(1981年)
参照]又はそれに準じる方法に従って、例えば酸又は塩
基を用いる加溶媒分解、すなわち、例えば0.01モル
ないし大過剰の酸、好ましくはトリフルオロ酢酸、ギ
酸、塩酸等、又は等モルないし大過剰の塩基、好ましく
は水酸化カリウム、水酸化カルシウム等を作用させる方
法;水素化金属錯体等を用いる化学的還元又はパラジウ
ム−炭素触媒、ラネーニッケル触媒等を用いる接触還元
等により行われる。
【0171】製造法2 一般式(II)
【0172】
【化24】
【0173】[式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する]で表される化合物と、一般式(V)
【0174】
【化25】
【0175】[式中、R5は低級アルコキシ基を意味
し、Ar2pは前記の意味を有する]で表される化合物と
を、トリ低級アルキルアルミニウムの存在下、反応さ
せ、一般式(IV)
【0176】
【化26】
【0177】[式中、Ar1p、Ar2p、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物とし、所
望により保護基を除去することにより、一般式(I)で
表される化合物を製造することができる。
【0178】トリ低級アルキルアルミニウムの存在下に
おける、一般式(II)で表される化合物と一般式
(V)で表される化合物との反応は、通常、化合物(I
I)の1モルに対して、化合物(V)を0.5モルない
し5モル、好ましくは0.7モルないし3モル、トリ低
級アルキルアルミニウムを1モルないし過剰モル、好ま
しくは1モルないし5モル用いて行われる。
【0179】反応に用いるトリ低級アルキルアルミニウ
ムとしては、例えばトリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルチルアルミニウム、トリ
ブチルアルミニウム等が挙げられる。
【0180】反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当
該不活性溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン、塩化メチレン、クロロホルム、ヘキサン等又は
その混合溶媒等が好適である。
【0181】反応温度は、通常、−20℃ないし反応に
用いる溶媒の沸点、好ましくは0℃ないし110℃であ
る。
【0182】反応時間は、通常、30分間ないし3日
間、好ましくは3時間ないし24時間である。
【0183】反応終了後、生成物に保護基が存在する場
合、当該保護基を除去した後に、又は生成物に保護基が
存在しない場合はそのまま通常の処理を行い、一般式
(I)の化合物を製造することができる。
【0184】保護基の除去及び後処理等は、前記製造法
1に記載した方法に準じて行うことができる。
【0185】製造法3 一般式(II)
【0186】
【化27】
【0187】[式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する]で表される化合物と、一般式(V
I)
【0188】
【化28】
【0189】[式中、Ar2pは前記の意味を有する]で
表される化合物とを反応させ、一般式(VII)
【0190】
【化29】
【0191】[式中、Ar1p、Ar2p、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物とし、次
いで該化合物(VII)を分子内環化縮合反応に付すこ
とにより、一般式(IV)
【0192】
【化30】
【0193】[式中、Ar1p、Ar2p、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物とし、所
望により保護基を除去することにより、一般式(I)で
表される化合物を製造することができる。
【0194】一般式(II)で表される化合物と一般式
(VI)で表される化合物との反応は、通常、化合物
(II)の1モルに対して、化合物(VI)を0.5モ
ルないし過剰モル、好ましくは1モルないし2モル用い
て行われる。
【0195】反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当
該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホ
ルム、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ピ
リジン等又はその混合溶媒等が好適である。
【0196】また、上記反応は縮合剤の存在下行うこと
が好ましく、当該縮合剤としては、例えばN,N’−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロ
ピルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)−3−エチルカルボジイミド、1−(3−ジメチル
アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、
ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ−トリス−(ジメ
チルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェー
ト、ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ−トリス−ピ
ロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ
フェニルりん酸アジド、1,1−カルボニルジイミダゾ
ール等を使用することができる。
【0197】当該縮合試薬は、通常、一般式(II)で
表される化合物1モルに対して、1モルないし過剰モ
ル、好ましくは1モルないし3モルを用いて行うことが
できる。
【0198】反応温度は、通常、−20℃ないし反応に
用いる溶媒の沸点、好ましくは0℃ないし60℃であ
る。
【0199】反応時間は、通常、30分間ないし3日
間、好ましくは1時間ないし24時間である。
【0200】反応終了後、通常の処理を行い、一般式
(VII)で表される化合物の粗生成物を得ることがで
きる。このようにして得られた一般式(VII)で表さ
れる化合物を、常法に従って精製し、又は精製すること
なく、次の分子内環化縮合反応に付すことができる。
【0201】化合物(VII)から化合物(IV)を製
造する分子内環化縮合反応は、通常、不活性溶媒中又は
無溶媒で行われる。
【0202】当該不活性溶媒としては、例えばエタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、1,4
−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等又はその混合溶媒等が好適である。
【0203】反応温度は、通常、室温ないし反応に用い
る溶媒の沸点、好ましくは、80℃ないし190℃であ
る。
【0204】反応時間は、通常、5時間ないし7日間、
好ましくは12時間ないし3日間である。
【0205】また、上記環化反応は、脱水剤又は触媒量
のルイス酸の存在下行うこともできる。当該脱水剤とし
ては、例えばオキシ塩化りん、五塩化りん、ポリりん
酸、塩化チオニル等が挙げられ、当該ルイス酸として
は、例えばトリフルオロメタンスルホン酸スカンジウ
ム、トリフルオロメタンスルホン酸イットリウム、トリ
フルオロメタンスルホン酸ランタン、トリフルオロメタ
ンスルホン酸ランタニド等が挙げられる。このとき、無
溶媒で反応を行うか、又は例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン等又はその混合
溶媒中反応を行うことが好ましい。
【0206】当該脱水剤の使用量は、通常、一般式(V
II)で表される化合物1モルに対して、1モルないし
過剰モル、好ましくは2ないし10モルである。当該ル
イス酸の使用量は、1モル%ないし50モル%、好まし
くは5モル%ないし30モル%である。
【0207】反応温度は、通常、室温ないし反応に用い
る溶媒の沸点が好適である。
【0208】反応時間は、通常、1時間ないし7日間、
好ましくは5時間ないし3日間である。
【0209】反応終了後、生成物に保護基が存在する場
合、当該保護基を除去した後に、又は生成物に保護基が
存在しない場合はそのまま通常の処理を行い、一般式
(I)の化合物を製造することができる。
【0210】保護基の除去及び後処理等は、前記製造法
1に記載した方法に準じて行うことができる。
【0211】一般式(I)の化合物は、通常の分離手段
により容易に単離精製できる。かかる手段としては、例
えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー、分
取薄層クロマトグラフィー等を例示できる。
【0212】これらの化合物は、常法により医薬として
許容されうる塩又はエステルとすることができ、また逆
に塩又はエステルから遊離化合物への変換も常法に従っ
て行うことができる。
【0213】一般式(II)、(III)、(V)又は
(VI)で表される化合物は、例えば市販品を用いる
か、公知の方法若しくはそれに準じる方法、あるいは以
下の方法又は実施例・参考例に記載する方法等を必要に
応じ適宜組み合わせることにより製造することができ
る。
【0214】製造法A−1
【0215】
【化31】
【0216】[式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する] 本製造法は一般式(II)で表される化合物の製造法で
ある。本製造法によれば、一般式(II)で表される化
合物は、一般式(1)で表される化合物をオレフィン化
して一般式(2)で表される化合物とし、該化合物
(2)をヨードアジド化して一般式(3)で表される化
合物とし、次いで該化合物(3)を還元反応に付すこと
により一般式(4)で表される化合物とし、続いて該化
合物(4)をアジド化した後、還元反応に付すことによ
り製造することができる。
【0217】化合物(1)から化合物(2)を製造する
工程のオレフィン化反応は、それ自体有機化学の分野で
よく知られたオキソ基のオレフィン化反応、例えば、い
わゆるホーナーエモンズ反応、ウイッティヒ反応、ピー
ターソンオレフィン化等が応用できる。
【0218】化合物(2)から化合物(3)を製造する
工程は、通常、ヨードモノクロリドと、例えばアジ化
銀、アジ化カリウム、アジ化ナトリウム等の金属アジド
から発生させたヨードアジドを、化合物(2)に作用さ
せることにより行うことができる。
【0219】反応は、通常、化合物(2)1モルに対し
て、ヨードアジドを1モルないし過剰モル、好ましくは
1モルないし2モル用いて、例えば塩化メチレン、クロ
ロホルム、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等又は
その混合溶媒等の不活性溶媒中で行われる。
【0220】反応温度は、通常、0℃ないし反応に用い
る溶媒の沸点、好ましくは室温ないし80℃であり、反
応時間は、通常、30分間ないし7日間、好ましくは2
時間ないし5日間である。
【0221】化合物(3)から化合物(4)を製造する
工程は、それ自体有機化学の分野でよく知られたアジド
基の還元反応を応用することができる。より具体的に
は、例えば金属単体、水素化金属錯体若しくはトリフェ
ニルホスフィン等を用いる化学的還元、又はパラジウム
−炭素触媒、ラネーニッケル触媒等を用いる接触還元等
による還元を応用することができる。
【0222】化合物(4)から化合物(II)を製造す
る工程は、通常、例えば酢酸又は塩化アンモニウム等の
酸の存在下、例えばテトラアルキルアンモニウムアジ
ド、アジ化カリウム又はアジ化ナトリウム等のアジ化化
合物を反応させた後、得られた化合物をそれ自体有機化
学の分野でよく知られたアジド基の還元反応に付すこと
により行うことができる。
【0223】アジ化化合物を作用させる工程で用いる溶
媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコ
ール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、水等又はそれらの混合溶媒等
が好適である。
【0224】反応温度は、通常、0℃ないし反応に用い
る溶媒の沸点、好ましくは室温ないし100℃であり、
反応時間は、通常、3時間から1日間が好適である。
【0225】アジド基を還元する工程は、より具体的に
は、例えば金属単体、水素化金属錯体若しくはトリフェ
ニルホスフィン等を用いる化学的還元、又はパラジウム
−炭素触媒、ラネーニッケル触媒等を用いる接触還元等
による還元により行うことができる。
【0226】なお、一般式(1)で表される化合物及び
オレフィン化に用いる反応原料は市販品を用いるか、公
知の方法若しくは実施例・参考例記載の方法又はそれら
に準じる方法を必要に応じ適宜組み合わせることにより
製造することができる。
【0227】製造法A−2
【0228】
【化32】
【0229】[式中、L1は水素原子又は脱離基を意味
し;P’はアミノ基の保護基を意味し、Ar1p、R1p
2p及びR3pは前記の意味を有する] 本製造法は一般式(II)で表される化合物の別途製造
法である。本製造法によれば、一般式(II)で表され
る化合物は、一般式(5’)で表される化合物の活性化
されたカルボニル基を順次アルキル化又はアリール化し
て一般式(6)で表される化合物とし、次いで該化合物
(6)のアミノ基の保護基を除去した後、生じたヒドロ
キシアミン体を分子内脱水反応に付してアジリジン化す
ることにより一般式(4)で表される化合物とし、続い
て該化合物(4)をアジド化した後、還元反応に付すこ
とにより製造することができる。
【0230】L1の脱離基としては、例えばハロゲン、
アルコキシ基、アミド基等が好ましい。
【0231】P’で表されるアミノ基の保護基として
は、製造法1に記載したアミノ基の保護基を挙げること
ができ、その除去方法も製造法1に記載した方法を適用
することができる。
【0232】化合物(5’)から化合物(6)を製造す
る工程は、通常、アルキル基又はアリール基としてAr
1p又はR1pで表される基を有する、アルキルリチウム、
アリールリチウム、アルキルマグネシウム、アリールマ
グネシウム、アルキル亜鉛、アリール亜鉛、アルキル銅
又はアリール銅等の有機金属化合物を、化合物(5’)
に作用させることにより行うことができる。
【0233】反応は、通常、化合物(5’)1モルに対
して、当該有機金属化合物を1モルないし過剰モル、好
ましくは2モルないし5モル用いて、例えばジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン等のエーテル系の溶媒、又はその混合溶媒等の不活性
溶媒中で行われる。
【0234】反応温度は、通常、−130℃ないし反応
に用いる溶媒の沸点、好ましくは−100℃ないし室温
であり、反応時間は、通常、30分間ないし2日間、好
ましくは1時間ないし1日間である。
【0235】L1が水素原子の場合、アルキル化又はア
リール化で得られるアルコール体をそれ自体有機化学の
分野でよく知られた方法により酸化してケトン体とした
後、再びアルキル化又はアリール化することにより化合
物(6)を製造することができる。
【0236】化合物(6)から化合物(4)を製造する
工程は、保護基P’を除去した後、得られたヒドロキシ
アミン体に、通常、例えば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミ
ン、ピリジン等の塩基の存在下、ジクロロトリエチルホ
スホラン、ジクロロトリブチルホスホラン、ジクロロト
リフェニルホスホラン、ジブロモトリエチルホスホラ
ン、ジブロモトリブチルホスホラン、ジブロモトリフェ
ニルホスホラン等のトリアルキル又はトリアリールホス
フィンのハロゲン化物を作用させることにより行われ
る。
【0237】反応は、通常、化合物(6)1モルに対し
て、塩基を1モルないし過剰モル、好ましくは2モルな
いし7モル、トリアルキル又はトリアリールホスフィン
のハロゲン化物を0.5モルないし過剰モル、好ましく
は1モルないし5モル用いて、例えばジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、
トルエン、ベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、アセトニトリル等又はその混
合溶媒等の不活性溶媒中で行われる。
【0238】反応温度は、通常、−50℃ないし溶媒の
沸点、好ましくは0℃ないし70℃であり、反応時間は
30分間ないし3日間、好ましくは1時間ないし24時
間である。
【0239】化合物(4)から化合物(II)を製造す
る工程は、製造法A−1に記載した方法がそのまま適用
できる。
【0240】化合物(5’)から化合物(II)を製造
するまでの上記の一連の工程を通して、R2p及びR3p
結合する炭素原子上の立体配置は保持される。したがっ
て、所望の化合物のAr1pとR1pが同一の場合、原料の
一般式(5’)で表される化合物として光学活性なアミ
ノ酸の誘導体を用いることにより、光学活性な化合物
(II)を製造することができる。また、所望の化合物
のAr1pとR1pが異なる場合、原料の一般式(5’)で
表される化合物として光学活性なアミノ酸の誘導体を用
いて反応を行った後、通常生成する、Ar1pとR1pが結
合する炭素原子上の立体配置に基づくジアステレオマー
の混合物を、それ自体公知の方法により適当な段階で分
離し、それぞれの光学活性体をその後の反応に付すこと
により、対応する光学活性な化合物(II)をそれぞれ
製造することができる。
【0241】なお、一般式(5’)で表される化合物及
びアルキル化又はアリール化に用いる有機金属化合物は
市販品を用いるか、公知の方法若しくは実施例・参考例
記載の方法又はそれらに準じる方法を必要に応じ適宜組
み合わせることにより製造することができる。
【0242】製造法B
【0243】
【化33】
【0244】[式中、Ar1p及びR1pは前記の意味を有
する] 本製造法は一般式(II−1)で表される化合物の製造
法である。本製造法によれば、一般式(II−1)で表
される化合物は、一般式(1)で表される化合物のオキ
ソ基をアミノシアノ化して一般式(7)で表される化合
物とし、次いで該化合物(7)のシアノ基を還元するこ
とにより製造することができる。
【0245】化合物(1)から化合物(7)を製造する
工程は、それ自体有機化学の分野でよく知られた、いわ
ゆるストレッカー合成法又はその改良法を応用すること
ができる。
【0246】化合物(7)から化合物(II−1)を製
造する工程は、化合物(7)を、それ自体有機化学の分
野でよく知られたシアノ基の還元反応、すなわち、例え
ば金属単体若しくは水素化金属錯体等を用いる化学的還
元、又は接触還元等に付すことにより行われる。
【0247】なお、アミノシアノ化に用いる反応原料は
市販品を用いるか、公知の方法若しくは実施例・参考例
記載の方法又はそれらに準じる方法を必要に応じ適宜組
み合わせることにより製造することができる。
【0248】一般式(II’)
【0249】[式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する(ただし、(a)R 2p及びR3pが同時
に水素原子である場合、Ar1p及びR1pは同時に無置換
のフェニル基を意味せず、また、(b)R2pが水素原子
であり、かつR3pがメチル基、イソプロピル基、イソブ
チル基又はtert−ブチル基である場合、Ar1p及び
1pは同時に4−メトキシフェニル基を意味しない)]
で表される化合物は、一般式(I)で表される化合物の
新規製造中間体である。
【0250】一般式(II)又は(II’)で表される
化合物の具体例としては、例えば、1,1−ビス(4−
フルオロフェニル)−1,2−エタンジアミン、1−
(4−フルオロフェニル)−1−(1,5−ナフチリジ
ン−3−イル)−1,2−エタンジアミン、1,1−ビ
ス(4−フルオロフェニル)−1,2−プロパンジアミ
ン、(2R)−1,1−ビス(4−フルオロフェニル)
−3−(メトキシメトキシ)−1,2−プロパンジアミ
ン、(2S)−1,1−ビス(4−フルオロフェニル)
−1,2−プロパンジアミン、(2S)−1,1−ビス
(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジ
アミン、(2S)−1,1−ビス(2−フルオロ−4−
ピリジル)−1,2−プロパンジアミン、(2S)−1
−(4−フルオロフェニル)−1−(6−フルオロ−3
−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン、(1S,2
S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン、
(1R,2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−
(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジ
アミン、(2R)−1−(4−フルオロフェニル)−1
−(6−フルオロ−3−ピリジル)−3−(メトキシメ
トキシ)−1,2−プロパンジアミン、(1S,2R)
−1−(4−フルオロフェニル)−1−(6−フルオロ
−3−ピリジル)−3−(メトキシメトキシ)−1,2
−プロパンジアミン、(1R,2R)−1−(4−フル
オロフェニル)−1−(6−フルオロ−3−ピリジル)
−3−(メトキシメトキシ)−1,2−プロパンジアミ
ン、(1S,2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(2−フルオロ−4−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミン、(1R,2S)−1−(4−フルオロフェ
ニル)−1−(2−フルオロ−4−ピリジル)−1,2
−プロパンジアミン、(1S,2S)−1−(4−フル
オロフェニル)−1−(1,5−ナフチリジン−3−イ
ル)−1,2−プロパンジアミン、(1R,2S)−1
−(4−フルオロフェニル)−1−(1,5−ナフチリ
ジン−3−イル)−1,2−プロパンジアミン、(1
S,2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−(3
−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン又は(1R,
2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−(3−ピ
リジル)−1,2−プロパンジアミン等が挙げられる。
【0251】本発明の一般式(II’)で表される1,
2−エタンジアミン誘導体の製造法について説明する。
【0252】1)一般式(9)
【0253】
【化34】
【0254】[式中、Ar1p、P、R、R2p及びR3p
前記の意味を有する]で表される化合物と、−R1p[こ
こにおいて、R1pは前記の意味を有する]で表される基
を有する有機金属化合物とを反応させ、一般式(10)
【0255】
【化35】
【0256】[式中、Ar1p、P、R、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物とする
か、又は2)一般式(9’)
【0257】
【化36】
【0258】[式中、P、R、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する]で表される化合物と、−Ar1p[こ
こにおいて、Ar1pは前記の意味を有する]で表される
基を有する有機金属化合物とを反応させ、前記一般式
(10)で表される化合物とし、次いで該化合物(1
0)のアミノ基の保護基P及び−S(=O)−Rで表さ
れる基を除去することにより、一般式(II’)
【0259】
【化37】
【0260】[式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前
記の意味を有する(ただし、(a)R 2p及びR3pが同時
に水素原子である場合、Ar1p及びR1pは同時に無置換
のフェニル基を意味せず、また、(b)R2pが水素原子
であり、かつR3pがメチル基、イソプロピル基、イソブ
チル基又はtert−ブチル基である場合、Ar1p及び
1pは同時に4−メトキシフェニル基を意味しない)]
で表される化合物を製造することができる。
【0261】一般式(9)で表される化合物と−R1p
表される基を有する有機金属化合物との反応、又は一般
式(9’)で表される化合物と−Ar1pで表される基を
有する有機金属化合物との反応は、通常、化合物(9)
又は(9’)の1モルに対して、それぞれ当該有機金属
化合物を0.5モルないし過剰モル、好ましくは1モル
ないし3モル用いて行われる。
【0262】反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当
該不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、トルエ
ン、ベンゼン、ジクロロメタン等又はその混合溶媒等が
好適である。
【0263】反応温度は、通常、−100℃ないし反応
に用いる溶媒の沸点、好ましくは−78℃ないし室温で
ある。
【0264】反応時間は、通常、5分間ないし24時
間、好ましくは15分間ないし2時間である。
【0265】また、化合物(9)又は(9’)を、それ
ぞれ、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソプロピルアルミニウム、三フッ化ホウ素エ
ーテル錯体、塩化亜鉛、塩化スズ等のルイス酸を作用さ
せることにより活性化した後、それぞれ上記有機金属化
合物との反応に付すことによっても、化合物(10)を
得ることができる。化合物(9)又は(9’)とルイス
酸との反応は、通常、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、トルエン、
ベンゼン、ジクロロメタン等の溶媒、又はその混合溶媒
等の不活性溶媒中で、化合物(9)又は(9’)1モル
に対して、それぞれ当該ルイス酸を0.5モルないし過
剰モル、好ましくは1モルないし3モルを、−100℃
ないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは−78℃な
いし室温で、5分間ないし24時間、好ましくは15分
間ないし1時間作用させることにより行うことができ
る。
【0266】得られた化合物(9)のルイス酸錯体と−
1pで表される基を有する有機金属化合物との反応、又
は得られた化合物(9’)のルイス酸錯体と−Ar1p
表される基を有する有機金属化合物との反応は、通常、
それぞれ、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,2−ジメトキシエタン、トルエン、ベンゼン、
ジクロロメタン等の溶媒、又はその混合溶媒等の不活性
溶媒中、当該ルイス酸錯体1モルに対し、それぞれ当該
有機金属化合物を1モルないし過剰モル、好ましくは2
モルないし5モルを作用させることにより行うことがで
き、化合物(10)を得ることができる。
【0267】反応温度は、通常、−130℃ないし反応
に用いる溶媒の沸点、好ましくは−100℃ないし室温
であり、反応時間は、通常、30分間ないし2日間、好
ましくは1時間ないし24時間である。
【0268】次いで化合物(10)のアミノ基の保護基
P及び−S(=O)−Rで表される基を除去することに
より、一般式(II’)で表される化合物を製造するこ
とができる。
【0269】アミノ基の保護基Pの除去は、当該保護基
の種類及び目的化合物(II’)の安定性等により異な
るが、例えば文献記載の方法[プロテクティブ・グルー
プス・イン・オーガニック・シンセシス(Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis)、T.W.グリーン(T.W.Gre
ene)著、John Wiley & Sons社
(1981年)参照]又はそれに準じる方法に従って、
例えば酸又は塩基を用いる加溶媒分解、すなわち、例え
ば0.01モルないし大過剰の酸、好ましくはトリフル
オロ酢酸、ギ酸、塩酸等、又は等モルないし大過剰の塩
基、好ましくは水酸化カリウム、水酸化カルシウム等を
作用させる方法;水素化金属錯体等を用いる化学的還元
又はパラジウム−炭素触媒、ラネーニッケル触媒等を用
いる接触還元等により行われる。
【0270】−S(=O)−Rで表される基の除去は、
例えば塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等のハロゲン化
水素を、水、メタノール、エタノール、プロパノール、
ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の溶媒中、又はそ
の混合溶媒中で作用させることにより行うことができ
る。反応に用いるハロゲン化水素の濃度は、通常、1N
ないし20N、好ましくは2Nないし10Nであり、反
応温度は、通常、−20℃ないし溶媒の沸点、好ましく
は0℃ないし40℃である。
【0271】Ar1p及びR1pが互いに異なる基である場
合、化合物(9)又は(9’)から化合物(10)への
反応はそれぞれ立体選択的に進行する。したがって、本
製造法はAr1p及びR1pが結合する炭素原子上の立体配
置が実質的に単一の化合物を製造する上で極めて効率的
な製造法である。
【0272】また、化合物(9)又は(9’)から化合
物(II’)を製造するまでの上記の一連の工程を通し
て、R2p及びR3pが結合する炭素原子上の立体配置は保
持される。したがって、原料として、一般式(9)又は
(9’)で表される化合物として光学活性な化合物(す
なわち、R2p及びR3pが結合する炭素原子上の立体配置
が実質的に単一の化合物)を用いることにより、所望の
化合物のAr1pとR1pが同一の場合には、そのまま対応
する光学活性な化合物(II’)を製造することがで
き、所望の化合物のAr1pとR1pが異なる場合には、対
応する光学活性な化合物(II’)をジアステレオ選択
的に製造することができる。
【0273】本製造法において、アミノ基の保護基Pが
tert−ブトキシカルボニル基等であるときが好適で
あり、Rが第三級アルキル基、より好ましくはtert
−ブチル基等であるときが好適であり、更には、アミノ
基の保護基Pがtert−ブトキシカルボニル基等であ
り、かつRがtert−ブチル基等であるときが好適で
ある。
【0274】上記製造法において有用な原料化合物であ
る、一般式(9)又は(9’)
【0275】
【化38】
【0276】[式中、Ar1p、P、R、R1p、R2p及び
3pは前記の意味を有する]で表される化合物は、例え
ばそれ自体公知の方法若しくはそれに準じる方法、ある
いは以下の方法又は実施例・参考例に記載する方法等を
必要に応じ適宜組み合わせることにより製造することが
できる。
【0277】製造法C
【0278】
【化39】
【0279】[式中、Ar1p、L1、P、R、R2p及び
3pは前記の意味を有する]本製造法によれば、一般式
(9)で表される化合物は、一般式(5)で表される化
合物の活性化されたカルボニル基をアリール化して一般
式(8)で表される化合物とし、次いで該化合物(8)
のカルボニル基をスルフィニルイミド化することにより
製造することができる。
【0280】化合物(5)から化合物(8)を製造する
工程は、通常、アリール基としてAr1pで表される基を
有する、アルキルリチウム、アリールリチウム、アルキ
ルマグネシウム、アリールマグネシウム、アルキル亜
鉛、アリール亜鉛、アルキル銅又はアリール銅等の有機
金属化合物を、化合物(5)に作用させることにより行
うことができる。
【0281】反応は、通常、化合物(5)1モルに対し
て、当該有機金属化合物を1モルないし過剰モル、好ま
しくは2モルないし5モル用いて、例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン
等のエーテル系の溶媒、又はその混合溶媒等の不活性溶
媒中で行われる。
【0282】反応温度は、通常、−130℃ないし反応
に用いる溶媒の沸点、好ましくは−100℃ないし室温
であり、反応時間は、通常、30分間ないし2日間、好
ましくは1時間ないし1日間である。
【0283】L1の脱離基のアミド基としては、例えば
メトキシ(メチル)アミド基等が好ましく、該基を有す
る化合物(5)と、例えばアルキルリチウム、アリール
リチウム、アルキルマグネシウム、アリールマグネシウ
ム等の有機金属化合物とを反応させることにより対応す
るケトン体(8)を高収率で製造することができる。
【0284】L1が水素原子の場合、アリール化で得ら
れるアルコール体をそれ自体有機化学の分野でよく知ら
れた方法により酸化することによりケトン体(8)を製
造することができる。
【0285】L1が塩素原子等のハロゲン原子の場合、
該基を有する化合物(5)と、例えばアルキル亜鉛、ア
リール亜鉛、アルキル銅、アリール銅等の有機金属化合
物とを反応させることにより対応するケトン体(8)を
高収率で製造することができる。
【0286】化合物(8)から化合物(9)を製造する
工程は、例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー(J.Org.Chem),64巻,1278
頁(1999年)等に記載の方法又はそれに準じる方法
等により行うことができる。すなわち、通常、例えばテ
トライソプロポキシチタン、テトラエトキシチタン、硫
酸マグネシウム、硫化銅等のルイス酸の存在下、化合物
(8)に、次式
【0287】
【化40】
【0288】[式中、Rは前記の意味を有する]で表さ
れるスルフィニルアミドを作用させることにより行われ
る。
【0289】反応は、通常、化合物(8)1モルに対し
て、当該ルイス酸を1モルないし過剰モル、好ましくは
2モルないし7モル、スルフィニルアミドを0.5モル
ないし過剰モル、好ましくは1モルないし5モル用い
て、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
1,2−ジメトキシエタン、トルエン、ベンゼン、ジク
ロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、
アセトニトリル等又はその混合溶媒等の不活性溶媒中で
行われる。
【0290】反応温度は、通常、0℃ないし反応に用い
る溶媒の沸点、好ましくは0℃ないし100℃であり、
反応時間は30分間ないし3日間、好ましくは1時間な
いし24時間である。
【0291】化合物(5)から化合物(9)を製造する
までの上記の一連の工程を通して、R2p及びR3pが結合
する炭素原子上の立体配置は保持される。したがって、
原料の一般式(5)で表される化合物として光学活性な
アミノ酸の誘導体を用いることにより、光学活性な化合
物(9)を製造することができる。
【0292】また、一般式(5)で表される化合物に、
アルキル基又はアリール基としてR 1pで表される基を有
する、アルキルリチウム、アリールリチウム、アルキル
マグネシウム、アリールマグネシウム、アルキル亜鉛、
アリール亜鉛、アルキル銅又はアリール銅等の有機金属
化合物を作用させ、化合物(5)をアルキル化又はアリ
ール化して、一般式(8)のAr1pの代わりにR1pを有
する化合物を製造した後、該化合物のカルボニル基をス
ルフィニルイミド化することにより一般式(9’)で表
される化合物を製造することができる。
【0293】反応条件等は化合物(5)から化合物
(9)を製造する各工程と同様の条件を適用することが
できる。
【0294】なお、一般式(5)で表される化合物及び
アルキル化又はアリール化に用いる有機金属化合物は市
販品を用いるか、公知の方法若しくは実施例・参考例記
載の方法又はそれらに準じる方法を必要に応じ適宜組み
合わせることにより製造することができる。
【0295】本発明に係る化合物の医薬としての有用性
は、例えば下記の薬理試験例においてNPY拮抗活性を
示すことにより証明される。
【0296】薬理試験例1(NPY結合阻害試験) ヒトNPY Y5受容体をコードするcDNA配列[国
際特許出願WO96/16542号明細書参照]を、発
現ベクターpcDNA3、pRc/RSV(インビトロ
ジェン社製)及びpCI−neo(プロメガ社製)にク
ローニングした。得られた発現ベクターをカチオン性脂
質法[プロシーディング・オブ・ザ・ナショナル・アカ
デミー・オブ・サイエンス・オブ・ザ・ユナイテッド・
ステーツ・オブ・アメリカ(Proceedings
of the nationalacademy of
sciences of the united s
tates of America)、84巻、741
3頁(1987年)参照]を用いて宿主細胞COS−
7、CHO及びLM(tk−)(アメリカン・タイプ・
カルチャー・コレクション)にトランスフェクトし、N
PY Y5受容体発現細胞を得た。
【0297】NPY Y5受容体を発現させた細胞から
調製した膜標品を被検化合物及び20,000cpmの
125I]ペプタイドYY(NEN社製)とともに、ア
ッセイ緩衝液(10mM 塩化マグネシウム、1mM
フェニルメチルスルホニルフルオリド、0.1%バシト
ラシン及び0.5%ウシ血清アルブミンを含む25mM
Tris緩衝液、pH7.4)中で25℃、2時間イ
ンキュベーションした後、グラスフィルターGF/Cに
て濾過した。0.3%BSAを含む5mM Tris緩
衝液、pH7.4にて洗浄後、グラスフィルター上の放
射活性を求めた。非特異的結合は1μM ペプタイドY
Y存在下で測定し、特異的ペプタイドYY結合に対する
被験化合物の50%阻害濃度(IC50値)を求めた[エ
ンドクリノロジー(Endocrinology)、1
31巻、2090頁(1992年)参照]。その結果を
表1に示す。
【0298】
【表1】
【0299】上記に示すとおり、本発明に係る化合物は
NPY Y5受容体に対するペプタイドYY(NPYと
同族物質)の結合を強力に阻害した。
【0300】薬理試験例2(D−Trp34 NPYにより
誘発される摂食行動に対する拮抗試験) ケタミン・キシラジン麻酔下(74及び11mg/kg
腹腔内単回投与)、雄性SDラット(7−8週齢、20
0−300g)の第3脳室に脳定位固定的に慢性ガイド
カニューレ(26ゲージ、長さ11mm)を挿入、歯科
用レジンで固定した。ガイドカニューレの先端の位置は
bregmaより後方2.2mm、正中線上、頭蓋骨表
面より深さ8mmとした。約1週間の回復期間の後、D
−Trp 34NPY(1μg/0.4μL/head、
0.05%ウシ血清アルブミンを含む人工脳脊髄液)を
第3脳室内に投与した。被験化合物はD−Trp34NP
Y投与の2時間前に0.5%メチルセルロース水溶液に
懸濁して経口投与し、D−Trp34NPY投与後2時間
の摂餌量を測定した。
【0301】本発明に係る化合物は第3脳室内に投与し
たD−Trp34NPY(NPYと同族物質)による摂食
量の増加を有意に抑制した。
【0302】薬理試験例3(体内動態試験) 一晩絶食したSD系雄性ラット(7−10週齢、200
−400g)に被験化合物を経口又は静脈内投与し、所
定の時間にヘパリナイズドキャピラリーを用い、尾静脈
から約100μLを採血した。血液を遠心分離(4℃、
6000回転、10分間)して血漿を得た。血漿に3倍
量のエタノール(内部標準物質を含む)を添加、攪拌
し、−20℃にて20分間放置した後、遠心分離(4
℃、10,000回転、10分間)した。上清をLC/
MS/MSにて分析し、相対検量線法により血漿中濃度
を定量した。
【0303】その結果、例えば、参考例7の化合物は生
物学的利用率35%、血中半減期5.1時間であった。
【0304】薬理試験例4(脳/脳脊髄液移行性試験) SD系雄性ラット(7−10週齢、200−400g)
に被験化合物を経口又は静脈内投与し、所定の時間にエ
ーテル麻酔下、腹部大動脈よりヘパリン処理注射筒を用
いて全採血した。その後頭部皮膚を切開し、歯科用30
G針を頸椎間に刺し入れ、更にくも膜下腔まで挿入し
た。歯科用30G針に接続されたチューブを通し1mL
注射筒に50−100μLの脳脊髄液を採取した後、脳
を摘出した。血液試料を遠心分離(4℃、6000回
転、10分間)して得た血漿に3倍量のエタノール(内
部標準物質を含む)を加えて攪拌した。脳試料は2mL
の水を加えホモジナイズし、その一部をとり3倍量のエ
タノール(内部標準物質を含む)を加え攪拌した。脳脊
髄液は3倍量のエタノール(内部標準物質を含む)を加
え攪拌した。以上のサンプルを−20℃にて20分間放
置した後、遠心分離(4℃、12,000g、10分
間)し、上清をLC/MS/MSにて分析し、相対検量
線法により血漿中、脳内、及び脳脊髄液内濃度を定量し
た。
【0305】その結果、例えば、参考例7の化合物は、
経口投与(10mg/kg)後2時間に脳内濃度2.9
5nM/g、脳脊髄液内濃度0.032μM、血漿中濃
度0.73μMを示した。
【0306】一般式(I)で表される化合物は、経口又
は非経口的に投与することができ、そしてそのような投
与に適する形態に製剤化することにより、例えば高血
圧、腎臓病、心疾患、血管れん縮、動脈硬化症等の循環
器系疾患、例えば過食症、うつ病、不安、痙攣、てんか
ん、痴呆、痛み、アルコール依存症、薬物の断薬に伴う
禁断症状等の中枢性疾患、例えば肥満症、糖尿病、ホル
モン異常、高コレステロール血症、高脂血症等の代謝性
疾患、性及び生殖機能障害、例えば消化管運動障害等の
消化器系疾患、呼吸器系疾患、炎症又は緑内障等の処置
剤として供することができる。本発明に係る化合物を臨
床的に用いるにあたり、その投与形態に合わせ、薬剤学
的に許容される添加剤を加えて各種製剤化の後投与する
ことも可能である。その際の添加剤としては、製剤分野
において通常用いられる各種の添加剤が使用可能であ
り、例えばゼラチン、乳糖、白糖、酸化チタン、デンプ
ン、結晶セルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、トウモロコシデン
プン、マイクロクリスタリンワックス、白色ワセリン、
メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、無水りん酸カルシ
ウム、クエン酸、クエン酸三ナトリウム、ヒドロキシプ
ロピルセルロース、ソルビトール、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリソルベート、ショ糖脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレン、硬化ヒマシ油、ポリビニルピロリド
ン、ステアリン酸マグネシウム、軽質無水ケイ酸、タル
ク、植物油、ベンジルアルコール、アラビアゴム、プロ
ピレングリコール、ポリアルキレングリコール、シクロ
デキストリン又はヒドロキシプロピルシクロデキストリ
ン等が挙げられる。
【0307】これらの添加剤との混合物として製剤化さ
れる剤形としては、例えば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、
散剤若しくは坐剤等の固形製剤;又は例えばシロップ
剤、エリキシル剤若しくは注射剤等の液体製剤等が挙げ
られ、これらは、製剤分野における通常の方法に従って
調製することができる。なお、液体製剤にあっては、用
時に水又は他の適当な媒体に溶解又は懸濁させる形であ
ってもよい。また、特に注射剤の場合、必要に応じて生
理食塩水又はブドウ糖液に溶解又は懸濁させてもよく、
更に緩衝剤や保存剤を添加してもよい。
【0308】これらの製剤は、本発明に係る化合物を全
薬剤1.0〜100重量%、好ましくは1.0〜60重
量%の割合で含有することができる。これらの製剤は、
また、治療上有効な他の化合物を含んでいてもよい。
【0309】本発明に係る化合物は代謝障害及び/又は
摂食障害の処置に有用な他剤と組み合わせて使用するこ
とができる。そのような組み合わせの個々の成分は、処
置期間中、別々の異なる時に又は同時に、分割された又
は単一の製剤で投与することができる。したがって、本
発明は同時の又は時間が異なる投与の全てを含むと解釈
すべきであり、本発明における投与はそのように解釈す
べきである。本発明に係る化合物と代謝障害及び/又は
摂食障害の処置に有用な他剤との組み合わせの範囲に
は、原則として代謝障害及び/又は摂食障害の処置に有
用ないかなる医薬製剤との組み合わせも包含される。
【0310】本発明に係る化合物を例えば臨床の場で使
用する場合、その投与量及び投与回数は、患者の性別、
年齢、体重、症状の程度及び目的とする処置効果の種類
と範囲等により異なるが、一般に経口投与の場合、成人
1日あたり、0.01〜100mg/kg、好ましくは
0.03〜1mg/kgを1〜数回に分けて、また非経
口投与の場合は、0.001〜10mg/kg、好まし
くは0.001〜0.1mg/kgを1〜数回に分けて
投与するのが好ましい。
【0311】通常の内科医、獣医又は臨床医は病状進行
を阻止し、抑制し又は停止させるに必要な効果的薬物量
を容易に決定し処理することができる。
【0312】
【発明の実施の形態】
【実施例】実施例・参考例を挙げて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定される
ものではない。
【0313】構造式中、“*”を付した化合物は、該記
号を付した不斉炭素原子上の立体配置が実質的に単一の
化合物であることを意味する。
【0314】また、略号「Boc」はt−ブトキシカル
ボニル基を、「t−Bu」はt−ブチル基を、Meはメ
チル基を意味する。
【0315】なお、融点はMP−S3モデル(柳本製作
所製)を用いて測定し、補正を加えず記した。また、マ
ススペクトルはQuattroII(マイクロマス社
製)を用いてエレクトロスプレイイオン化法(ESI)
で測定した。 実施例1t−ブチル N−[(1S)−2−[((R)−t−ブ
チルスルフィニル)イミノ]−2−(4−フルオロフェ
ニル)−1−メチルエチル]カルバメイトの製造
【0316】
【化41】
【0317】t−ブチル N−[(1S)−2−(4−
フルオロフェニル)−1−メチル−2−オキソエチル]
カルバメイト(50g)とチタニウムテトラエトキシド
(50g)のテトラヒドロフラン溶液(50mL)に
(R)−(+)−2−メチル−2−プロパンスルフィン
アミド(11.62g)を加え、70Cで20時間攪拌
した。反応液に飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた後、
セライトで濾過した。濾液を酢酸エチルで抽出した。有
機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有
機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸
エチル=4:1)で精製することにより表題の化合物
(16.98g)を得た。
【0318】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.32(9H,s),1.44(9H,
s),1.51(3H.d,J=7.2Hz),4.8
0−5.20(1H,brs),7.09(2H,
m),7.20−8.00(2H,brs) 上記実施例1の方法に準じて、対応するケトンと(R)
−(+)−2−メチル−2−プロパンスルフィンアミド
を脱水縮合して、以下の化合物を得た。 実施例1−1t−ブチル N−[(1S)−2−[(R)−(t−ブ
チルスルフィニル)イミノ]−2−(6−フルオロ−3
−ピリジル)−1−メチルエチル]カルバメイト
【0319】
【化42】
【0320】1HNMR(400MHz,CDCl3,δ
ppm):1.20−1.40(12H,br),1.
45(9H,s),5.05−5.19(1H,b
r),6.40−6.48(1H,br),6.98−
7.02(1H,br),8.29−8.37(1H,
br),8.65−8.72(1H,br) 実施例1−2t−ブチル N−[(1S)−2−[(R)−(t−ブ
チルスルフィニル)イミノ]−2−(2−フルオロ−4
−ピリジル)−1−メチルエチル]カルバメイト
【0321】
【化43】
【0322】マススペクトル(ESI):372 実施例2t−ブチル N−[(1S,2S)−2−[(R)−
(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フル
オロフェニル)−2−(6−フルオロ−3−ピリジル)
−1−メチルエチル]カルバメイトの製造
【0323】
【化44】
【0324】t−ブチル N−[(1S)−2−
[(R)−(t−ブチルスルフィニル)イミノ]−2−
(4−フルオロフェニル)−1−メチルエチル]カルバ
メイト(200mg)のトルエン溶液(1mL)に1.
0Mトリメチルアルミニウム−ヘキサン溶液(1.13
mL)を0Cで加えた後、室温まで昇温した。得られた
溶液を、2−フルオロ−5−ピリジルリチウム溶液[2
−フルオロ−5−ブロモピリジン(167μL)と1.
54Mブチルリチウム−ヘキサン溶液(1.05mL)
をジエチルエーテル溶媒中(2mL)で−78Cで反応
させることにより調整]に、−78Cでゆっくり滴下し
た。滴下終了後、反応液を−78Cで1時間攪拌した。
飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えた後、室温まで昇温し
た。得られた反応液をセライトで濾過し、濾液の有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウム
を濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を
熱ジイソプロピルエーテルに懸濁した後、放冷した。得
られた沈殿物を濾取することにより表題の化合物(17
5mg)を得た。
【0325】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):0.99(3H,d,J=6.7Hz),
1.44(9H,s),1.48(9H.s),4.3
7(1H,s),5.03(1H,m),6.81(1
H,brs),6.87(1H,dd,J=3.2H
z,8.8Hz),7.03(2H,m),7.29
(2H,m),7.97(1H,m),8.22(1
H,d,J=2.6Hz) 上記実施例2の方法に準じて、対応するイミンに、それ
ぞれ有機金属化合物を作用させることにより、以下の化
合物を得た。反応に用いたイミン、有機金属化合物、反
応温度及び溶媒は別表1に示す。
【0326】
【表2】
【0327】実施例2−1t−ブチル N−[(1S,2R)−2−[(R)−
(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フル
オロフェニル)−2−(6−フルオロ−3−ピリジル)
−1−メチルエチル]カルバメイト
【0328】
【化45】
【0329】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.00(3H,d,J=6.8Hz),
1.38(9H,s),1.47(9H.s),4.4
0(1H,s),4.95(1H,m),6.39(1
H,brs),6.87(1H,dd,J=3.2H
z,8.6Hz),7.01(2H,m),7.41
(2H,m),7.62(1H,m),8.33(1
H,d,J=2.3Hz) 実施例2−2光学活性なt−ブチル N−[(1S)−2−[(R)
−(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フ
ルオロフェニル)−2−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−1−メチルエチル]カルバメイト
【0330】
【化46】
【0331】1HNMR(400MHz,CDCl3,δ
ppm):0.98(3H,d,J=6.4Hz),
1.44(9H,s),1.46(9H,m),4.2
7(1H,s),5.03(1H,m),6.79(1
H,brs),7.02(2H,m),7.11(1
H,s),7.27(1H,d,J=5.2Hz),
7.31(2H,m),8.10(1H,d,J=5.
2Hz) 実施例2−3光学活性なt−ブチル N−[(1S)−2−[(R)
−(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フ
ルオロフェニル)−2−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−1−メチルエチル]カルバメイト
【0332】
【化47】
【0333】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):0.99(3H,d,J=6.6Hz),
1.42(9H,s),1.48(9H,s),4.3
0(1H,brs),4.99(1H,m),6.74
(1H,brs),6.95(1H,s),7.00
(2H,m),7.07(1H,d,J=5.4H
z),7.41(2H,m),8.13(1H,d,J
=5.4Hz) 実施例2−4光学活性なt−ブチル N−[(1S)−2−[(R)
−(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フ
ルオロフェニル)−2−(3−ピリジル)−1−メチル
エチル]カルバメイト
【0334】
【化48】
【0335】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):0.98(3H,d,J=6.7Hz),
1.43(9H.s),1.47(9H,s),4.3
6(1H,s),5.03(1H,m),6.81(1
H,brs),7.01(2H,m),7.24(1
H,dd,J=6.0Hz,8.0Hz),7.30
(2H,m),7.92(1H,d,J=8.0H
z),8.43(1H,d,J=6.0Hz),8.5
5(1H,d,J=2.0Hz) 実施例2−5t−ブチル N−[(1S,2S)−2−[(R)−
(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フル
オロフェニル)−2−(1,5−ナフチリジン−3−イ
ル)−1−メチルエチル]カルバメイト
【0336】
【化49】
【0337】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.04(3H,d,J=6.6Hz),
4.48(1H,brs),5.10−5.30(1
H,m),6.80−6.90(1H,m),7.00
−7.10(2H,m),7.39(2H,dd,J=
3.2Hz,7.2Hz),7.61(1H,dd,J
=4.2Hz,8.5Hz),8.31(1H,d,J
=8.5Hz),8.72(1H,d,J=8.5H
z),8.83(1H,d,J=2.3Hz),8.9
5−9.05(1H,m) 実施例3(1S,2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−
(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジ
アミンの製造
【0338】
【化50】
【0339】t−ブチル N−[(1S)−2−[(t
−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−フルオロ
フェニル)−2−(6−フルオロ−3−ピリジル)−1
−メチルエチル]カルバメイト(実施例2の化合物)
(170mg)を0Cで4N塩化水素−ジオキサン溶液
に溶かした後、水(0.1mL)を加えた。室温で15
分間攪拌後、再び0Cに冷却し、2N水酸化ナトリウム
水溶液でpHを11に調整した後、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧
下留去することにより、表題のジアミン(80mg)を
得た。
【0340】1HNMR(400MHz,CDCl3,δ
ppm):1.00(3H,d,J=6.2Hz),
4.04(1H,q,J=6.2Hz),6.85(1
H,dd,J=3.4Hz,8.8Hz),7.02
(2H,m),7.35(2H,m),7.96(1
H,m),8.39(1H,d,J=2.0Hz) [α]D 25:−19.0゜(c1.0,MeOH) 上記実施例3の方法に準じて、実施例2−1ないし5の
化合物を酸処理することにより、以下の化合物を得た。 実施例3−1(1R,2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−
(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジ
アミン
【0341】
【化51】
【0342】1HNMR(400MHz,CDCl3,δ
ppm):1.02(3H,d,J=6.3Hz),
4.06(1H,q,J=6.3Hz),6.85(1
H,dd,J=3.2Hz,8.6Hz),7.01
(2H,m),7.49(1H,m),7.87(1
H,m),8.33(1H,d,J=2.4Hz) [α]D 25:−14.4゜(c1.0,MeOH) 実施例3−2光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(2−フルオロ−4−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミン
【0343】
【化52】
【0344】1HNMR(400MHz,CDCl3,δ
ppm):1.02(3H,d,J=6.3Hz),
4.09(1H,q,J=6.3Hz),7.00(2
H,m),7.20(1H,s)7.31(1H,d,
J=5.5Hz),7.46(2H,m),8.11
(1H,d,J=5.5Hz) [α]D 25:+33.0゜(c1.0,CHCl3) 実施例3−3光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(2−フルオロ−4−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミン
【0345】
【化53】
【0346】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):0.98(3H,d,J=6.8Hz),
4.12(1H,q,J=6.8Hz),7.02(2
H,m),7.10(1H,s),7.24(1H,
d,J=5.5Hz),7.54(2H,m),8.1
1(1H,d,J=5.5Hz) [α]D 25:−34.8゜(c1.0,CHCl3) 実施例3−4光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(3−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン
【0347】
【化54】
【0348】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.01(3H,d,J=6.3Hz),
4.08(1H,q,J=6.3Hz),6.99(2
H,dd,J=8.6Hz,9.0Hz),7.23
(1H,dd,J=4.7Hz,8.1Hz),7.4
5(2H,dd,J=5.3Hz,9.0Hz),7.
86(1H,ddd,J=1.6Hz,2.5Hz,
8.1Hz),8.44(1H,dd,J=1.6H
z,4.7Hz),8.79(1H,d,J=2.5H
z) 実施例3−5(1S,2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−
(1,5−ナフチリジン−3−イル)−1,2−プロパ
ンジアミン
【0349】
【化55】
【0350】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.06(3H,d,J=6.3Hz),
1.81(4H,brs),4.25(1H,q,J=
6.3Hz),7.00(2H,t,J=8.6H
z),7.45−7.55(2H,m),7.60(1
H,dd,J=4.2Hz,8.5Hz),8.35
(1H,d,J=8.5Hz),8.57(1H,d,
J=1.4Hz),8.95(1H,dd,J=1.4
Hz,4.2Hz),9.13(1H,d,J=2.2
Hz) 参考例12−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−2−イミダゾリンの製造
【0351】
【化56】
【0352】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−エタンジアミン(500mg)のメタノール溶
液(10mL)に3−シアノベンゼンイミド酸メチル
(792mg)を加え、室温で18時間攪拌した。反応
液を濃縮後、残渣を酢酸エチル(30mL)に溶解し飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸
ナトリウムを濾去し、溶媒を減圧下留去した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−30
0;ヘキサン:酢酸エチル=3:1→2:1)で精製す
ることにより目的化合物(370mg)を得た。
【0353】マススペクトル(ESI):360.21 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
4.15(1.4H,brs),4.57(0.7H,
brs),5.10(0.7H,brs),5.38
(0.3H,brs),6.94−7.08(4H,
m),7.22−7.43(4H,m),7.54(1
H,t,J=7.8Hz),7.74(1H,d,J=
7.8Hz),8.11(1H,d,J=7.6H
z),8.19(1H,s) 参考例24,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−ピラジニ
ル−2−イミダゾリンの製造
【0354】
【化57】
【0355】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−エタンジアミン(500mg)のメタノール溶
液(10mL)にピラジンイミド酸メチル(385m
g)を加え、室温で18時間攪拌した。反応液を濃縮
後、残渣を酢酸エチル(50mL)に溶解し飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウ
ムを濾去し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1)で精製することにより目的
化合物(446mg)を得た。
【0356】融点144−146℃1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
4.17(1.4H,brs),4.65(0.6H,
brs),6.08(0.7H,brs),6.51
(0.3H,brs),6.96−7.04(4H,
m),7.26−7.50(4H,m),8.54(1
H,s),8.66(1H,d,J=2.4Hz),
9.45(0.3H,brs),9.56(0.7H,
brs) 参考例32−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(1,5−ナフチリジン−3−イル)−2
−イミダゾリンの製造
【0357】
【化58】
【0358】1−(4−フルオロフェニル)−1−
(1,5−ナフチリジン−3−イル)−1,2−エタン
ジアミン(17mg)のメタノール溶液(1mL)に3
−シアノベンゼンイミド酸メチル(23mg)を加え、
室温で19時間攪拌した。クロロホルムを加え不溶物を
濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。残渣を分取用薄層
シリカゲルクロマトグラフィー(100%酢酸エチル)
で精製することにより目的化合物(8.0mg)を得
た。
【0359】マススペクトル(ESI):394.01 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
4.21−4.26(1H,m),4.39−4.44
(1H,m),5.15(1H,brs),7.02−
7.09(2H,m),7.45−7.51(1H,
m),7.58(2H,t,J=7.8Hz),7.6
0−7.65(1H,m),7.78(1H,dt,J
=1.4Hz,7.7Hz),8.13−8.17(1
H,m),8.22(1H,brs),8.36−8.
41(2H,m),8.95−8.97(1H,m),
9.06(1H,brs) 参考例42−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−5−メチル−2−イミダゾリンの製造
【0360】
【化59】
【0361】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−プロパンジアミン(50mg)をメタノール
(1mL)に溶かし、3−シアノベンゼンイミド酸メチ
ル(75mg)を加え、室温で24時間攪拌した。クロ
ロホルム(5mL)を加えた後、不溶物を濾去した。濾
液を減圧下濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エチル
=3:1→1:1)で精製することにより目的化合物
(10mg)を得た。
【0362】マススペクトル(ESI):374.11 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.92(3H,d,J=6.6Hz),4.60−
5.40(2H,m),7.40−7.50(2H,
m),7.52−7.57(1H,m),7.72−
7.76(1H,m),8.10(1H,d,J=8.
0Hz),8.17(1H,s)参考例52−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−5−ヒドロキシメチル−2−イミダゾ
リンの製造
【0363】
【化60】
【0364】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
3−メトキシメトキシ−1,2−プロパンジアミン(2
18mg)をメタノール(3mL)に溶かし、3−シア
ノベンゼンイミド酸メチル(266mg)を加え、室温
で17時間攪拌した。3−シアノベンゼンイミド酸メチ
ル(266mg)を更に加え、室温で6時間攪拌した。
酢酸エチル(50mL)を加え、有機層を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウム
を濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘ
キサン:酢酸エチル=2:1)で精製することにより、
2−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−5−[(メトキシメトキシ)メチル]
−2−イミダゾリン(146mg)を無色油状物として
得た。この保護体(115mg)を2N塩酸(1.5m
L)とテトラヒドロフラン(1.5mL)の混合溶液に
溶解し、50℃で3日間攪拌した。室温まで放冷後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽
出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去
し、溶媒を減圧下留去することにより、表題の化合物
(105mg)を得た。
【0365】マススペクトル(ESI):390.01 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
3.09,3.30[2H(3.09,brs),
(3.30,dd,J=4.5Hz,10.5H
z)],4.68(1H,brs),5.59(1H,
brs),7.01(4H,m),7.23(2H,
m),7.48(2H,brs),7.56(1H,
t,J=7.8Hz),7.76(1H,d,J=7.
8Hz),8.11(1H,d,J=7.8Hz),
8.21(1H,s) 上記参考例1ないし5の方法に準じて、対応するジアミ
ンとイミド酸メチルを反応させることにより、以下の化
合物を得た。 参考例5−12−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(3−フル
オロフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):360.1 参考例5−22−(3−シアノフェニル)−4−(3−キノリル)−
4−(2−チエニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):381.0 参考例5−34−(4−ブロモフェニル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):402.0 参考例5−44,4−ビス(4−クロロフェニル)−2−(3−シア
ノフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):392.0 参考例5−54−(4−クロロフェニル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):358.1 参考例5−62−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(3−キノリル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):393.1 参考例5−72−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):342.2 参考例5−82−(3−シアノフェニル)−4−フェニル−4−(4
−ビニルフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):350.1 参考例5−94−(6−クロロ−3−ピリジル)−2−(3−シアノ
フェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−2−イミ
ダゾリン マススペクトル(ESI):377.0 参考例5−104−(5−クロロ−2−チエニル)−2−(3−シアノ
フェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−2−イミ
ダゾリン マススペクトル(ESI):382.1 参考例5−112−(3−シアノフェニル)−4−(4−メチルフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン 融点179−180℃ 参考例5−122−(3−シアノフェニル)−4−(3−メチルフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):338.1 参考例5−134,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−ニ
トロフェニル)−2−イミダゾリン 融点156−158℃ 参考例5−142−(3−シアノフェニル)−4−フェニル−4−(3
−キノリル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):375.2 参考例5−152−(3−シアノフェニル)−4−(4−メトキシフェ
ニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):354.0 参考例5−164−(3−クロロフェニル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン塩酸塩 マススペクトル(ESI):358.1 参考例5−172−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(5−メチル−2−チエニル)−2−イミ
ダゾリン マススペクトル(ESI):362.1 参考例5−182−(3−シアノフェニル)−4−フェニル−4−(4
−トリフルオロメチルフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):392.1 参考例5−192−(3−シアノフェニル)−4−(3−メトキシフェ
ニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):354.1 参考例5−202−(3−シアノフェニル)−4−(3,4−ジメチル
フェニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):352.1 参考例5−212−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(3−ビニルフェニル)−2−イミダゾリ
マススペクトル(ESI):368.1 参考例5−222−(3−シアノフェニル)−4−(2−ナフチル)−
4−(3−ピリジル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):375.1 参考例5−234−(3−ブロモフェニル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−2−イミダゾリ
マススペクトル(ESI):420.1 参考例5−244−(2−クロロフェニル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):358.1 参考例5−252−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(6−キノリル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):393.1 参考例5−262−(3−シアノフェニル)−4−フェニル−4−(2
−チエニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):330.3 参考例5−272−(3−シアノフェニル)−4−(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン 融点210−213℃ 参考例5−282−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(3−ピリジル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):343.0 参考例5−292−(3−シアノフェニル)−4−(4−ホルミルフェ
ニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):352.2 参考例5−302−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(2−チエニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):348.1 参考例5−314,4−ジフェニル−2−ピラジニル−2−イミダゾリ
融点183−184℃ 参考例5−322−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−メト
キシフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):384.1 参考例5−332−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(3−ホルミルフェニル)−2−イミダゾ
リン マススペクトル(ESI):370.1 参考例5−344,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−メ
チルスルホニルフェニル)−2−イミダゾリン 融点209−212℃ 参考例5−354,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−ホ
ルミルフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):363.1 参考例5−362−(3−シアノフェニル)−4−(2−メチルフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):338.1 参考例5−372−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(3−ヒドロキシメチルフェニル)−2−
イミダゾリン マススペクトル(ESI):372.1 参考例5−382−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(1,2,3,4−テトラヒドロ−1,5
−ナフチリジン−7−イル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):398.1 参考例5−392−(3−シアノフェニル)−4−(2−フルオロフェ
ニル)−4−(3−ピリジル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):343.0 参考例5−404−(4−ビフェニリル)−2−(3−シアノフェニ
ル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):400.3 参考例5−412−(3−シアノフェニル)−4−(2−メトキシフェ
ニル)−4−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):354.0 参考例5−422−(3−シアノフェニル)−4−シクロヘキシル−4
−フェニル−2−イミダゾリン 融点151−152℃ 参考例5−432−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4−(4−ピリジル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):343.0 参考例5−444,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(5−ピ
リミジニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):337.0 参考例5−452−(3−シアノフェニル)−4−シクロペンチル−4
−フェニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):316.2 参考例5−462−(3−シアノフェニル)−4−シクロブチル−4−
フェニル−2−イミダゾリン 融点117−118℃ 参考例5−474,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−ピ
リダジニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):337.0 参考例5−484−(4−フルオロフェニル)−5−メチル−2−ピラ
ジニル−4−(3−キノリル)−2−イミダゾリン 1 HNMR(400MHz,CD3OD,δppm):
0.90(3H,d,J=6.4Hz),4.97−
5.08(1H,m),7.06−7.16(2H,
m),7.32−7.38 and 7.57−7.6
6(3H,m),7.72−7.80(1H,m),
7.86−8.04(2H,m),8.31(0.8
H,s),8.51(0.2H,s),8.64(0.
8H,s),8.66−8.76(2H,m),8.8
8(0.2H,s),9.34(0.2H,s),9.
39(0.8H,s) 参考例5−49参考例20−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−2−(3−メチルスルホニ
ルフェニル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.90(3H,d,J=6.3Hz),3.10(3
H,s),4.72−4.74(1H,m),5.10
−5.40(1H,brs),7.00−8.37(1
1H,m) [α]D 25:−263.3゜(c0.9,CHCl3) 参考例5−50参考例20−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(5−シアノ−3−ピリジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−
ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.90(3H,d,J=6.3Hz),4.75(1
H,q,J=6.3),5.38(1H,s),6.8
9(1H,dd,J=2.9Hz,8.6Hz),7.
03(2H,t,J=8.6Hz),7.20−7.3
0(2H,m),7.89(1H,dt,J=2.2H
z,7.9Hz),8.34(1H,s),8.50−
8.60(1H,m),8.96(1H,d,J=2.
0Hz),9.23(1H,d,J=2.0Hz) [α]D 25:−307.6゜(c1.0,MeOH) 参考例6光学活性な(5S)−2−(2−シアノ−4−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン
塩酸塩の製造
【0366】
【化61】
【0367】4−シアノピリジン N−オキシド(10
0mg)のメタノール溶液(4mL)にナトリウムメト
キシド(13.5mg)を加え、室温で24時間攪拌
し、メタンスルホン酸(104mg)を加えた後、更に
10分間室温で攪拌した。この溶液の3.5mLを、参
考例20−1の(2S)−1−(4−フルオロフェニ
ル)−1−(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−
プロパンジアミンのメタノール溶液(2mL)に加え、
室温で15時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、得ら
れた残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去
し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;クロロホ
ルム:メタノール=9:1)で精製することにより、2
−(1−オキシド−ピリジン−4−イル)−4−(4−
フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン(172mg)を
無色油状物として得た。得られたN−オキシド体のアセ
トニトリル溶液(5mL)に、トリメチルシリルシアニ
ド(140mg)とトリエチルアミン(142mg)を
加え、90℃で17時間攪拌した。更に、トリメチルシ
リルシアニド(140mg)とトリエチルアミン(14
2mg)を加え、90℃で2時間攪拌した。反応液を減
圧下濃縮後、得られた残渣をクロロホルムに溶解し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧下留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(C−300;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精
製し、4N塩化水素−酢酸エチル溶液で処理することに
より表題の化合物(108mg)を得た。
【0368】1HNMR(300MHz,DMSO−
6,δppm):0.95(3H,d,J=6.6H
z),5.40(1H,brs),7.23−7.36
(5H,m),8.22−8.28(1H,m),8.
47(1H,d,J=4.8Hz),8.58(1H,
s),8.83(1H,s),9.12(1H,d,J
=5.1Hz) [α]D 25:−309.7゜(c1.0,MeOH) 上記参考例6の方法に準じて、対応するジアミンと4−
シアノピリジン N−オキシドを環化縮合させた後、ト
リメチルシリルシアニドを作用させ、必要に応じて参考
例5の方法に準じて脱保護することにより、以下の化合
物を得た。 参考例6−1(5R)−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−4,4
−ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシメチ
ル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
3.09(1H,br),3.29(1H,dd,J=
4.4Hz,10.6Hz),4.74(0.9H,b
rs),5.02(0.1H,d,J=5.1Hz),
5.74(1H,brs),6.97−7.05(4
H,m),7.19−7.23(2H,m),7.42
−7.47(2H,m),7.92(1H,d,J=
4.1Hz),8.21(1H,s),8.81(1
H,d,J=5.5Hz) 参考例6−2(5S)−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−4,4
−ビス(4−フルオロフェニル)−5−メチル−2−イ
ミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.85−0.97(3H,m),4.70−4.78
(1H for major,m),4.92−5.0
0(1H for minor,m),5.02(1H
for major,brs),5.32(1H f
or minor,brs),6.92−7.07(4
H,m),7.10−7.53(4H,m),7.87
−7.92(1H,m),8.10−8.20(1H,
m),8.77−8.83(1H,m) [α]D 25:−300.0゜(c1.0,CHCl3) 参考例6−3参考例22のジアミンを原料とした、光学活性な(5
S)−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−4−(4−
フルオロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.93(3H,d,J=6.6Hz),4.71(1
H,q,J=6.6Hz),5.30(1H,br
s),6.98−7.12(3H,m),7.15−
7.24(3H,m),7.94(1H,dd,J=
5.0Hz,1.6Hz),8.15−8.22(2
H,m),8.83(1H,d,J=5.0Hz) [α]D 25:−260.0゜(c1.0,CHCl3) 参考例6−4(5S)−2−(2−シアノ−4−ピリジル)−4,4
−ビス(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−
2−イミダゾリン塩酸塩 1 HNMR(400MHz,CD3OD,δppm):
1.15(3H,d,J=6.4Hz),5.51(1
H,q,J=6.4Hz),7.19(1H,dd,J
=8.8Hz,2.8Hz),7.24(1H,dd,
J=8.8Hz,2.8Hz),7.84−7.89
(1H,m),8.09−8.12(1H,m),8.
17(1H,dd,J=5.2Hz,1.6Hz),
8.23(1H,d,J=2.4Hz),8.40(1
H,d,J=1.6Hz),8.45(1H,d,J=
2.4Hz),9.07(1H,d,J=5.2Hz) [α]D 25:−239.5゜(c0.8,MeOH) 参考例74,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−メチル−
2−ピラジニル−2−イミダゾリンの製造
【0369】
【化62】
【0370】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−プロパンジアミン(94mg)とピラジンカル
ボン酸(53mg)をピリジン(1mL)に溶解し、1
−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボ
ジイミド塩酸塩(103mg)を加えた後、室温で24
時間攪拌した。反応液を濃縮した後、得られた残渣をク
ロロホルムに溶解し飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄した。水層をクロロホルムで2回抽出して先のクロロ
ホルム層と合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エチ
ル=1:1→1:3)で精製することによりN−[2−
アミノ−2,2−ビス(4−フルオロフェニル)−1−
メチルエチル]−2−ピラジンカルボキサミド(112
mg)をピラジンカルボン酸メチルエステルとの混合物
として得た。その混合物をメタノール(1mL)に溶解
し、2N水酸化ナトリウム水溶液(0.5mL)を加え
た後、室温で1時間攪拌した。反応液をクロロホルムで
希釈し水で洗浄した。水層をクロロホルムで2回抽出
し、先のクロロホルム層と合わせて無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することにより、純粋
なアミド体(95mg)を得た。
【0371】上記のアミド体(157mg)のベンゼン
溶液(4mL)に五塩化リン(266mg)を加え、5
0℃で3日間攪拌した。室温に冷却後、2N水酸化ナト
リウム水溶液(4mL)を加え、更に30分間攪拌し
た。得られた混合物をクロロホルムで3回抽出し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(C−300;ヘキサン:酢酸エチル=1:1→1:
2)で精製することにより、目的化合物(100mg)
を得た。
【0372】マススペクトル(ESI):351.21 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.90(2.1H,d,J=6.4Hz),0.99
(0.9H,d,J=6.9Hz),4.70(0.7
H,q,J=6.4Hz),5.03(0.3H,q,
J=6.9Hz),5.97−6.00(0.7H,
m),6.43−6.45(0.3H,m),6.95
−7.08(4H,m),7.25−7.37(2.6
H,m),7.51−7.56(1.4H,m),8.
53−8.55(1H,m),8.66(1H,d,J
=2.5Hz),9.42(0.3H,d,J=1.7
Hz),9.54(0.7H,d,J=1.5Hz) 上記参考例7の方法に準じて、対応するジアミンとカル
ボン酸を環化縮合し、必要に応じて参考例5の方法に準
じて脱保護することにより、以下の化合物を得た。 参考例7−14,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキ
シメチル−2−ピラジニル−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):367.11 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
3.12,3.30[2H(3.12,t,J=9.6
Hz),(3.30,m)],4.66,5.08[1
H(4.66,dd,J=3.9,8.7Hz),
(5.08,m)],6.55,6.60[1H(6.
55,s),(6.60,s)],7.00(4H,
m),7.14(2H,m),7.35,7.54[2
H(7.35,dd,J=4.5Hz,5.7Hz),
(3.30,dd,J=5.4Hz,8.1Hz)],
8.54(1H,d,J=2.0Hz),8.66(1
H,d,J=2.0Hz),9.43,9.52[1H
(9.43,s),(9.52,s)] 参考例7−25−エチル−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−
2−ピラジニル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.95−1.35(3H,m),4.36−4.45
(1H for major,m),4.73−4.7
9(1H for minor,m),6.21−6.
29(1H for major,br),6.42−
6.44(1H for minor,br),6.9
0−7.18(4H,m),7.12−7.21(2
H,m),7.29−7.60(2H,m),8.50
−8.58(1H,m),8.61−8.68(1H,
m),9.44(1H,d,J=1.5Hz for
minor),9.55(1H,d,J=1.5Hz
for major) 参考例7−34,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−プロピル
−2−ピラジニル−2−イミダゾリン塩酸塩 1 HNMR(300MHz,CD3OD,δppm):
0.87(3H,t,J=7.0Hz),1.14−
1.66(4H,m),5.10−5.20(1H,
m),7.10−7.30(6H,m),7.54−
7.65(2H,m),8.87−8.94(1H,
m),8.95−9.00(1H,m),9.36−
9.40(1H,br) 参考例84,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(4−イ
ソチアゾリル)−2−イミダゾリンの製造
【0373】
【化63】
【0374】1,1−(4−フルオロフェニル)−1,
2−エタンジアミン(330mg)の無水トルエン溶液
(8mL)を0℃にて攪拌しているところに、窒素雰囲
気下0.98Mトリメチルアルミニウムヘキサン溶液
(1.36mL)を滴下し、その後5分間0℃で攪拌し
た。4−イソチアゾールカルボン酸メチル(120m
g)をトルエン(1mL)に溶解して加えた後、110
℃にて3時間加熱した。反応液を冷却後、硫酸ナトリウ
ム十水和物を加え15分間室温で攪拌し、無水硫酸ナト
リウムを加え、更に20分間攪拌した。得られた混合物
をセライト濾過し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−30
0;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製することに
より目的化合物(116mg)を得た。
【0375】マススペクトル(ESI):342.01 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
4.26(2H,brs),6.97−7.07(4
H,m),7.32−7.37(4H,m),8.93
(1H,s),9.03(1H,s) 参考例92−(3−ピリジル)−4,4−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−2−イミダゾリン塩酸塩の製造
【0376】
【化64】
【0377】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−エタンジアミン(300mg)の無水トルエン
溶液(3mL)を0℃にて攪拌しているところに、窒素
雰囲気下0.98Mトリメチルアルミニウムのヘキサン
溶液(1.23mL)を滴下し、その後15分間室温で
攪拌した。ニコチン酸メチル(103mg)をトルエン
1mLに溶解して加えた後、80℃にて5時間加熱し
た。反応液を冷却後、硫酸ナトリウム十水和物を加え1
5分間室温で攪拌し、無水硫酸ナトリウムを加え、更に
20分間攪拌した。得られた混合物をセライト濾過し、
濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エ
チル=1:2)で精製し、4N塩化水素−酢酸エチル溶
液で処理した後、減圧下乾燥することにより、目的化合
物(111mg)を得た。
【0378】融点172−176℃1 HNMR(300MHz,DMSO−d6,δpp
m):4.70(2H,s),7.24−7.33(4
H,m),7.53−7.60(4H,m),7.72
−7.76(1H,m),8.60−8.65(1H,
m),8.93−8.95(1H,m),9.36(1
H,s),11.61(1H,s),12.29(1
H,s) 上記参考例8及び9の方法に準じて、対応するジアミン
とエステルを反応させることにより、以下の化合物を得
た。 参考例9−12−(3−クロロフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−2−イミダゾリン塩酸塩 マススペクトル(ESI):369.0 参考例9−24,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−ト
リフルオロメチルフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):403.1 参考例9−32−(3−フルオロフェニル)−4,4−ビス(4−フ
ルオロフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):353.1 参考例9−44,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−ト
リフルオロメトキシフェニル)−2−イミダゾリン 融点114−117℃ 参考例9−54,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(5−チ
アゾリル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):342.0 参考例9−64,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−メ
チルフェニル)−2−イミダゾリン 融点148−149℃ 参考例9−74,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(2−チ
エニル)−2−イミダゾリン 融点156−160℃ 参考例9−82−(5−ブロモ−3−ピリジル)−4,4−ビス(4
−フルオロフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):414.0/416.0 参考例9−92−(3−ブロモフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−2−イミダゾリン マススペクトル(ESI):412.9/415.0 参考例9−104,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2−(3−チ
エニル)−2−イミダゾリン 融点160−163℃ 参考例102−(4−シアノ−2−ピリジル)−4,4−ビス(4
−フルオロフェニル)−2−イミダゾリンの製造
【0379】
【化65】
【0380】1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−エタンジアミン(153mg)と4−シアノ−
2−エトキシカルボニルピリジン(95mg)の混合物
を、180℃で2時間攪拌した。得られた油状物を、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=3:2)で精製することにより、目
的物(103mg)を得た。
【0381】融点206−208℃ 参考例11光学活性な(5S)−2−(3−シアノフェニル)−4
−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3
−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリンの製造
【0382】
【化66】
【0383】参考例20−1の(2S)−1−(4−フ
ルオロフェニル)−1−(6−フルオロ−3−ピリジ
ル)−1,2−プロパンジアミン(100mg)のクロ
ロホルム溶液(3mL)に、0℃で3−シアノ安息香酸
(84mg)、トリエチルアミン(159μL)及び2
−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリド
−ジクロロメタン25%溶液(212μL)を順次加
え、室温まで昇温した後、15分間攪拌した。飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機
溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成物を130℃で
15時間攪拌した。得られた油状物を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エ
チル=1:1)で精製することにより、目的化合物(1
40mg)を得た。
【0384】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):0.89(3H,d,J=6.5Hz),
4.66−4.74(1H,m),5.10(1H,b
rs),6.85−6.90(1H,m),7.02
(2H,t,J=8.4Hz),7.20−7.30
(2H,m),7.57(1H,t,J=7.9H
z),7.74−7.79(1H,m),7.85−
7.95(1H,m),8.07−8.12(1H,
m),8.19(1H,s),8.37−8.42(1
H,m) [α]D 25:−295.6゜(c1.0,CHCl3) 上記参考例11の方法に準じて、対応するジアミンとカ
ルボン酸を環化し、必要に応じて参考例7の方法に準じ
て脱保護することにより、以下の化合物を得た。 参考例11−12−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス(4−フル
オロフェニル)−5−(1−ヒドロキシエチル)−2−
イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
1.08(3H,d,J=6.3Hz),3.54−
3.72(1H,m),4.47−4.55(1Hfo
r major,m),4.85−4.90(1H f
or minor,m),5.17(1H for m
ajor,brs),5.48(1H for min
or,brs),6.93−7.10(4H,m),
7.15−7.28(2H,m),7.22−7.60
(2H,m),7.65−7.80(2H,m),8.
07−8.25(2H,m) 実際例11−2参考例22のジアミンを原料とした、光学活性な(5
S)−2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオ
ロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジル)−
5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.92(3H formajor,d,J=6.6H
z),1.02(3H for minor,dJ=
6.9Hz,),4.66(1H for majo
r,q,J=6.6Hz),4.87(1H for
minor,q,J=6.9Hz),5.22(1H
for major,brs),5.68(1H fo
r minor,brs),6.97−7.09(3
H,m),7.12(1H,s),7.15−7.35
(3H,m),7.54−7.61(1H,m),7.
75−7.80(1H,m),8.08−8.23(3
H,m) [α]D 25:−291.6゜(c1.0,CHCl3) 参考例11−3参考例23のジアミンを原料とした、光学活性な(5
S)−2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フルオ
ロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジル)−
5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.98(3H,d,J=6.6Hz),4.74(1
H,q,J=6.6Hz),4.98−5.08(1
H,m),5.07(1H for major,br
s),5.30(1H for minor,br
s),6.91−7.12(4H,m),7.47−
7.63(3H,m),7.78(1H,d,J=7.
8Hz),8.08−8.21(3H,m) [α]D 25:−258.97゜(c0.16,CHC
3) 参考例12光学活性な(5S)−4−(4−フルオロフェニル)−
4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2
−(1,2,5−チアジアゾール−3−イル)−2−イ
ミダゾリンの製造
【0385】
【化67】
【0386】1,2,5−チアジアゾール−3−カルボ
ン酸(30mg)のテトラヒドロフラン溶液(3mL)
に、トリエチルアミン(23mg)と1,1’−カルボ
ニルジイミダゾール(37mg)を順次加え、室温で1
時間攪拌した。得られた溶液に、参考例20−1の(2
S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン(5
0mg)のテトラヒドロフラン溶液(1mL)を加え、
室温で17時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、得ら
れた残渣を酢酸エチルに溶解し、水と飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧下留去し
た。得られた粗生成物をトルエン(0.5mL)に溶解
し、トリフロメタンスルホン酸イッテリビウム(12m
g)を加え、100℃で10時間攪拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機
溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エ
チル=2:3)で精製することにより、目的化合物(3
7mg)を無色油状物として得た1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.88,0.98(3.0H,d,J=6.6H
z),4.70,4.98(1.0H,q,J=6.6
Hz),5.74,6.06(1H,brs),6.8
8(1H,dd,J=3.0Hz,8.7Hz),6.
99−7.05(2H,m),7.24−7.29(2
H,m),7.74−7.93(2H,m),8.2
6,8.40(1H,d,J=1.8Hz),9.1
5,9.19(1H,s) [α]D 25:−369.2゜(c1.0,MeOH) 上記参考例12の方法に準じて、対応するジアミンとカ
ルボン酸を環化縮合し、必要に応じて参考例7の方法に
準じて脱保護することにより、以下の化合物を得た。 参考例12−1(5R)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−5
−ヒドロキシメチル−2−(6−ヒドロキシ−2−ピリ
ジル)−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
3.13(2H,ds,J=6.6Hz),4.75
(1H,br),6.68(1H,d,J=8.1H
z),6.85(1H,d,J=6.0Ha),6.9
5−7.00(4H,m),7.21−7.25(4
H,m),7.39−7.53(3H,m) [α]D 25:−269.6゜(c0.5,MeOH) 参考例12−2(5S)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)−2
−(6−ヒドロキシ−2−ピリジル)−5−メチル−2
−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.85−0.95(3H,m),4.68−4.95
(1H,m),5.61(1H,brs),6.63−
6.75(2H,m),6.90−7.07(4H,
m),7.10−7.20(2H,m),7.30−
7.51(3H,m) [α]D 25:−305.4゜(c0.7,CHCl3) 参考例12−3参考例20−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(2−クロロ−4−ピリジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−
ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.88(3H,d,J=6.6Hz),4.72−
4.84(1H,m),5.05−5.15(1H,b
rs),6.90−6.98(1H,m),7.05−
7.15(2H,m),7.25−7.30(2H,
m),7.65−7.72(1H,m),7.82−
7.88(1H,m),7.90−7.98(1H,
m),8.41−8.45(1H,m),8.48−
8.51(1H,m) [α]D 25:−294.0゜(c0.5,MeOH) 参考例12−4参考例20−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−2−(6−ヒドロキシ−2
−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.87(3H,d.J=6.5Hz),4.70−
4.80(1H,m),5.65−5.85(1H,b
r),6.65−6.80(2H,m),6.86−
6.92(1H,m),6.98−7.06(2H,
m),7.15−7.24(2H,m),7.45−
7.52(1H,m),7.80−7.88(1H,
m),8.33(1H,s) [α]D 25:−258.8゜(c0.7,MeOH) 参考例12−5(5S)−2−(3−シアノフェニル)−4,4−ビス
(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イ
ミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.96(3H,d,J=6.6Hz),4.75(1
H,q,J=6.6Hz),5.16(1H,s),
6.89−6.93(2H,m),7.55−7.95
(4H,m),8.08−8.20(3H,m),8.
41(1H,s) [α]D 25:−256.1゜(c0.4,MeOH) 参考例12−6参考例21−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5R)−2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フ
ルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジ
ル)−5−ヒドロキシメチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
3.10(1H,br),3.24(1H,d,J=
4.2Hz,10.5Hz),4.67(1H,b
r),5.34,5,83(1H,br),6.88
(1H,dd,J=3.3Hz,9.0Hz),7.0
2(2H,t,J=8.7Hz),7.28(2H,
t,J=8.7Hz),7.57(1H,t,J=8.
1Hz),7.77(1H,d,J=7.8Hz),
7.88(1H,td,J=2.7Hz,8.3H
z),8.10(1H,d,J=8.1Hz),8.2
2(1H,s),8.39(1H,d,J=0.9H
z) [α]D 25:−268.6゜(c1.0,CHCl3) 参考例12−7参考例22−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フ
ルオロフェニル)−5−メチル−4−(1,5−ナフチ
リジン−3−イル)−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.96(3H,d,J=5.9Hz),4.80−
5.00(1H,m),5.42(1H,brs),
7.03(2H,t,J=8.6Hz),7.20−
7.40(2H,m),7.53(1H,t,J=8.
6Hz),7.63(1H,dd,J=4.2Hz,
8.6Hz),7.70−7.80(1H,m),8.
10−8.20(1H,m),8.20(1H,s),
8.38(1H,d,J=8.6Hz),8.50(1
H,d,J=1.6Hz),8.97(1H,dd,J
=1.6Hz,4.2Hz),9.08(1H,s) [α]D 25:−363.6゜(c0.5,CHCl3) 参考例12−8参考例20−2のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(3−シアノフェニル)−4−(6−フ
ルオロ−3−ピリジル)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン塩酸塩 1 HNMR(300MHz,CD3OD,δppm):
1.24(3H,d,J=7.1Hz),5.42(1
H,q,J=7.1Hz),7.15(1H,dd,J
=8.5Hz,2.6Hz),7.27(2H,dd,
J=8.9Hz,8.5Hz),7.60(2H,d
d,J=8.9Hz,4.9Hz),7.78−7.9
2(2H,m),8.13−8.29(3H,m),
8.39−8.40(1H,m) [α]D 25:−283.6゜(c0.5,MeOH) 参考例12−9参考例23−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(3−シアノフェニル)−4−(4−フ
ルオロフェニル)−5−メチル−4−(1,5−ナフチ
リジン−3−イル)−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
1.02(3H,d,J=6.6Hz),4.82−
4.91(1H,m),5.09−5.12(1H,b
r),7.03−7.13(2H,m),7.55−
7.70(4H,m),7.79(1H,dt,J=
7.8Hz,1.3Hz),8.19(1H,d,J=
7.9Hz),8.25(1H,s),8.34−8.
41(2H, m),8.78(1H,d,J=2.5
Hz),8.96(1H,dd,J=4.2Hz,1.
6Hz) 参考例12−10(5S)−2−(5−シアノ−3−ピリジル)−4,4
−ビス(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−
2−イミダゾリン塩酸塩 1 HNMR(400MHz,CD3OD,δppm):
1.15(3H,d,J=6.4Hz),5.49(1
H,q,J=6.4Hz),7.19(1H,dd,J
=8.8Hz,2.8Hz),7.24(1H,dd,
J=8.8Hz,2.8Hz),7.85−7.90
(1H,m),8.09−8.14(1H,m),8.
24(1H,d,J=2.8Hz),8.45(1H,
d,J=2.8Hz),8.77−8.78(1H,
m),9.29(1H,d,J=2.0Hz),9.3
5(1H,d,J=2.0Hz) [α]D 25:−252.0゜(c0.1,MeOH) 参考例13光学活性な(5S)−2−(4−シアノ−2−ピリジ
ル)−4−(4−フルオロフェニル)−4−(6−フル
オロ−3−ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン
の製造
【0387】
【化68】
【0388】光学活性な参考例20−1の(2S)−1
−(4−フルオロフェニル)−1−(6−フルオロ−3
−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン(100m
g)のトルエン溶液(0.25mL)に、2,4−ジシ
アノピリジン(46.5mg)とトリフロメタンスルホ
ン酸イッテリビウム(24mg)を加え、100℃で5
時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸
ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−
300;ヘキサン:酢酸エチル=2:3)で精製するこ
とにより、目的化合物(106mg)を白色固体として
得た。
【0389】融点177−179℃1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.87,0.98(3.0H,d,J=6.7H
z),4.73,4.98(1.0H,q,J=6.6
Hz),6.85−6.98(1.0H,m),6.9
9−7.06(2H,m),7.18−7.29(2
H,m),7.61(1H,d,J=4.4Hz),
7.77−7.93(1H,m),8.25,8,39
(1.0H,d,J=2.6Hz),8.45,8.4
8(1H,s),8.76(1H,dd,J=0.9H
z,5.1Hz) [α]D 25:−416.9゜(c1.0,CHCl3) 参考例14(5R)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4,4
−ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシメチ
ル−2−イミダゾリンの製造
【0390】
【化69】
【0391】(2R)−1,1−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−3−(メトキシメトキシ)−1,2−プロパ
ンジアミン(1.50g)のトルエン溶液(30mL)
に、2,4−ジシアノピリジン(601mg)とトリフ
ロメタンスルホン酸イッテリビウム(289mg)を加
え、2日間攪拌加熱還流した。反応液を減圧下濃縮後、
残渣をテトラヒドロフラン(20mL)に溶解し、6N
塩酸(10mL)を加え、室温で24時間攪拌した。反
応液を減圧下濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1)で精製することにより、目的化合物(38
5mg)を得た。
【0392】1HNMR(200MHz,CD3OD,δ
ppm):3.15(2H,brs),4.71(1
H,brs),7.02(2H,m),7.08(2
H,m),7.23(2H,m),7.57(2H,
m),7.83(1H,dd,J=3.0Hz,10.
0Hz),8.46(1H,s),8.87(1H,
d,J=10.0Hz) [α]D 25:−312.8゜(c1.0,CHCl3) 上記参考例13及び14の方法に準じて、対応するジア
ミンとシアノピリジンを環化し、必要に応じて脱保護の
行程を経て、以下の化合物を得た。 参考例14−12−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオ
ロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−ピリジル)−
2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
4.16−4.26(2H,m),4.54−4.71
(1H,m),6.20(0.8H,s),6.58
(0.2H,s),6.86−8.78(10H,m) 参考例14−22−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−フルオ
ロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジル)−
2−イミダゾリン 融点169−171℃ 参考例14−3参考例21−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5R)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−
ピリジル)−5−ヒドロキシメチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(400MHz,CD3OD,δppm):
3.17(2H,d,J=6.2Hz),4.76(1
H,t,J=6.2Hz),7.06(3H,m),
7.28(2H,m),7.85(1H,d,J=4.
8Hz),8.12(1H,ddd,J=2.8Hz,
7.6Hz,7.6Hz),8.43(1H,d,J=
2.8Hz),8.47(1H,s),8.88(1
H,d,J=4.8Hz) [α]D 25:−304.7゜(c0.6,CHCl3) 参考例14−4参考例20−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(6−シアノ−2−ピリジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−
ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.88(2.5H,d,J=6.5Hz),0.98
(0.5H,d,J=6.8Hz),4.68−4.7
8(0.8H,m),4.92−5.05(0.2H,
m),6.16(0.8H,brs),6.52(0.
2H,brs),6.85−7.09(3H,m),
7.20−7.25(2H,m),7.72−8.00
(3H,m),8.30−8.55(2H,m) [α]D 25:−335.35゜(c0.2,MeOH) 参考例14−5参考例20−2のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−
ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン(参考例1
3の4位のエピマー) 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.96(2.4H,d,J=6.5Hz),1.01
(0.6H,d,J=6.9Hz),4.76(0.8
H,q,J=6.5Hz),5.07(0.2H,q,
J=6.9Hz),6.14(0.8H,brs),
6.54(0.2H,brs),6.84−6.91
(1H,m),7.00−7.10(2H,m),7.
30−7.37(0.4H,m),7.48−7.56
(1.6H,m),7.60−7.71(2H,m),
8.08(0.8H,d,J=2.6Hz),8.15
(0.2H,d,J=2.6Hz),8.45(0.2
H,s),8.57(0.8H,s),8.74−8.
78(1H,m) [α]D 25:−291.0゜(c0.8,MeOH) 参考例14−6参考例22のジアミンを原料とした、光学活性な(5
S)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−
フルオロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CD3OD,δppm)0.
90(3H,d,J=6.3Hz),4.80−4.9
0(1H,m)7.05−7.34(4H,m),7.
23(1H,d,J=1.5Hz),7.44−7.4
7(1H,m),7.82−7.84(1H,m),
8.15(1H,d,J=5.1Hz),8.44(1
H,s),8.86(1H,m) [α]D 25:−332.3゜(c1.1,CHCl3) 参考例14−7(5S)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4,4
−ビス(6−フルオロ−3−ピリジル)−5−メチル−
2−イミダゾリン 融点160−162C [α]D 25:−332.8゜(c0.5,MeOH) 参考例14−8参考例22−2のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−5−メチル−4−(3−ピ
リジル)−2−イミダゾリン塩酸塩 1 HNMR(300MHz,CD3OD,δppm):
1.15(3H,d,J=6.7Hz),5.54(1
H,q,J=6.7Hz),7.16−7.33(2
H,m),7.33−7.45(2H,m),8.08
(1H,dd,J=5.5Hz,8.3Hz),8.1
6(1H,dd,J=1.4Hz,4.9Hz),8.
56(1H,brs),8.65(1H,ddd,J=
1.1Hz,2.3Hz,8.3Hz),8.90(1
H,dd,J=1.1Hz,5.5Hz),9.07
(1H,dd,J=1.1Hz,2.3Hz),9.1
0(1H,dd,J=1.0Hz,4.9Hz) [α]D 25:−292.0゜(c0.1,MeOH) 参考例14−9参考例23のジアミンを原料とした、光学活性な(5
S)−2−(4−シアノ−2−ピリジル)−4−(4−
フルオロフェニル)−4−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.97(3H,d,J=6.6Hz),4.74−
4.90(1H,m),6.13(1H,brs),
6.96(1H,s),6.99−7.10(3H,
m),7.40−7.57(2H,m),7.62(1
H,dd,J=5.0Hz,1.6Hz),8.14
(1H,d,J=5.3Hz),8.52−8.61
(1H,m),8.76(1H,d,J=4.2Hz) [α]D 25:−278.8゜(c0.5,CHCl3) 参考例15(5R)−2−(4−シアノ−2−ピリミジル)−4,
4−ビス(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシメ
チル−2−イミダゾリンの製造
【0393】
【化70】
【0394】(2R)−1,1−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−3−メトキシメトキシ−1,2−プロパンジ
アミン(303.5mg)のトルエン溶液(2.0m
L)に、2−シアノ−4−エトキシカルボニルピリミジ
ン(207.3mg)とトリフルオロメタンスルホン酸
スカンジウム(48.8mg)を加え、110℃で4時
間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1→1:2)で精製することに
より、(5R)−2−(4−エトキシカルボニル−2−
ピリミジル)−4,4−ビス(4−フルオロフェニル)
−5−[(メトキシメトキシ)メチル]−2−イミダゾ
リン(279mg)を得た。得られたエステル体を、メ
タノール(2mL)に溶解し、アンモニアガスを−78
℃で20分間吹き込んだ後、室温で20時間攪拌した。
反応液を減圧下濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エ
チル=1:1→クロロホルム:メタノール=9:1)で
精製することにより、対応するアミド体(273mg)
を得た。得られたアミド体のテトラヒドロフラン溶液
(2mL)に、トリエチルアミン(0.75mL)と無
水トリフルオロ酢酸(0.26mL)を−78℃で加
え、室温まで昇温した後、7時間攪拌した。水を加え、
酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧
下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エチル=1:
1→1:2)で精製することにより、対応するシアノ体
(178mg)を得た。得られたシアノ体をテトラヒド
ロフラン(6mL)に溶解し、6N塩酸(6mL)を加
え、室温で5時間攪拌した。注意深く飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムを濾
去し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;クロロ
ホルム:酢酸エチル=2:1)で精製することにより、
表題の化合物(74.7mg)を得た。
【0395】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):3.10−3.40(2H,br),4.6
2−4.90(1H,br),6.50−6.80(1
H,br),6.95−7.08(4H,m),7.2
1−7.32(2H,m),7.39−7.57(2
H,br),7.32(1H,d,J=4.8Hz),
9.13(1H,d,J=4.9Hz) [α]D 25:−295.1゜(c0.49,MeOH) 上記参考例15の方法に準じて、対応するジアミンと2
−シアノ−4−エトキシカルボニルピリミジンを環化縮
合し、エステル基をシアノ基へ誘導することにより、以
下の化合物を得た。 参考例15−1参考例22−1のジアミンを原料とした、光学活性な
(5S)−2−(4−シアノ−2−ピリミジル)−4−
(4−フルオロフェニル)−4−(6−フルオロ−3−
ピリジル)−5−メチル−2−イミダゾリン 1 HNMR (300MHz,CD3OD,δppm):
0.85(3H,d,J=6.5Hz),4.80−
4.93(1H,m),6.95−7.13(3H,
m),7.26−7.35(2H,m),7.88−
8.10(1H,m),8.0(1H,d,J=4.9
Hz),8.13−8.40(1H,d,J=2.0H
z),9.18(1H,d,J=4.9Hz) [α]D 25:−351.3゜(c1.0,MeOH) 参考例161,1−ビス(4−フルオロフェニル)−1,2−エタ
ンジアミンの製造
【0396】
【化71】
【0397】4,4’−ジフルオロベンゾフェノン(2
5g)を無水トルエン(800mL)に溶解し、−30
℃に冷却した。その溶液に窒素雰囲気下四塩化チタン
(21.4mL)を滴下した後、アンモニアガスを約2
0分間吹き込み、室温に戻し一晩攪拌した。飽和炭酸カ
リウム水溶液(400mL)を加え、更に1時間攪拌し
た。有機層を分離し、それを水と飽和食塩水で1回ずつ
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を
留去することにより、1,1−ビス(4−フルオロフェ
ニル)メタンイミンの粗精製物(31.7g)を得た。
その粗精製物を無水トルエン(80mL)に溶解し、ト
リメチルシリルシアニド(171.86mL)そしてヨ
ウ化亜鉛(1.83g)を加え、室温で一晩攪拌した。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去することにより、2−アミノ−2,2−ビ
ス(4−フルオロフェニル)アセトニトリルの粗精製物
(30.84g)を得た。その粗精製物を無水トルエン
(100mL)に溶解し、−78℃で1M水素化ジイソ
ブチルアルミニウム−トルエン溶液(500mL)を滴
下した。滴下後、室温まで自然昇温し一晩攪拌した。硫
酸ナトリウムの十水和物を加え1時間攪拌した。更に無
水硫酸マグネシウムを加えて1時間攪拌した後、不溶物
を濾去した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;100
%酢酸エチル→100%メタノール)で精製することに
より表題の化合物(8.55g)を得た。
【0398】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):3.32(2H,s),6.96−7.00
(4H,m),7.26−7.33(4H,m) 参考例171−(4−フルオロフェニル)−1−(1,5−ナフチ
リジン−3−イル)−1,2−エタンジアミンの製造
【0399】
【化72】
【0400】4−フルオロフェニル 1,5−ナフチリ
ジン−3−イル ケトン(108mg)を無水トルエン
(5mL)に溶解し、−30℃に冷却した。その溶液に
窒素雰囲気下チタンクロリド(0.08mL)を滴下し
た後、アンモニアガスを約20分間吹き込み、室温に戻
し一晩攪拌した。飽和炭酸カリウム水溶液(1mL)を
加え、更に1時間攪拌した。有機層を分離し、それを水
と飽和食塩水で1回ずつ洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥し減圧下溶媒を留去することにより、(4−フル
オロフェニル)(1,5−ナフチリジン−3−イル)メ
タンイミンの粗精製物(103mg)を得た。その粗精
製物を無水トルエン(2mL)に溶解し、トリメチルシ
リルシアニド(0.21mL)、そして1Mフッ化テト
ラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液(0.
01mL)を加え、室温で6日間攪拌した。反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で1回ずつ洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒
を留去することにより、2−アミノ−2−(4−フルオ
ロフェニル)−2−(1,5−ナフチリジン−3−イ
ル)アセトニトリルの粗精製物を得た。その粗精製物を
無水トルエン(2mL)に溶解し、−78℃で1M水素
化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液(1.85
mL)を滴下した。滴下後30分間かけて0℃に戻し、
硫酸ナトリウムの十水和物を加え1時間攪拌した。更に
無水硫酸マグネシウムを加えて1時間攪拌した後、不溶
物を濾去した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;クロ
ロホルム:メタノール=20:1→10:1→2:1)
で精製することにより表題の化合物(17mg)を得
た。
【0401】1HNMR(200MHz,CD3OD,δ
ppm):3.52(2H,s),6.99−7.10
(2H,m),7.34−7.44(2H,m),7.
63(1H,dd,J=4.4Hz,8.5Hz),
8.35−8.40(1H,m),8.41−8.43
(1H,m),8.92(1H,d,J=2.3H
z),8.98(1H,dd,J=1.7Hz,4.4
Hz) 参考例181,1−ビス(4−フルオロフェニル)−1,2−プロ
パンジアミンの製造
【0402】
【化73】
【0403】アジ化ナトリウム(1.01g)のアセト
ニトリル(6mL)懸濁液にヨードクロリド(0.40
g)を0℃で加えた。10分間攪拌後、1,1−ビス
(4−フルオロフェニル)−1−プロペン(1.43
g)のアセトニトリル(6mL)溶液を加えた後、室温
に戻し、38時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、ジエチ
ルエーテルで抽出後、10%チオ硫酸ナトリウム水溶
液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(C−300;ヘキサン:酢酸エチル=10:1)
で精製することにより目的とする1,1−ビス(4−フ
ルオロフェニル)−2−ヨードプロピルアジド(2.1
6g)を得た。
【0404】上記ヨードアジド体(40mg)をジエチ
ルエーテル(1mL)に溶解し、室温にて水素化アルミ
ニウムリチウム(8mg)を加え、室温にて2時間攪拌
後、硫酸ナトリウム十水和物を加えて30分間攪拌し、
更に無水硫酸マグネシウムを加えて30分間攪拌した。
不溶物を濾去し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;
ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製することにより
目的とする2,2−ビス(4−フルオロフェニル)−3
−メチルアジリジン(9mg)を得た。
【0405】上記アジリジン体(342mg)をメタノ
ール(10mL)と水(2mL)の混合液に溶解し、ア
ジ化ナトリウム(439mg)と塩化アンモニウム(1
55mg)を加えて、60℃で40時間攪拌した。放冷
後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−30
0;ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:1)で精製す
ることにより目的とする1−アジド−1,1−ビス(4
−フルオロフェニル)−2−プロパンアミン(251m
g)を得た。上記アジド体(8mg)を10%パラジウ
ム炭素触媒(5mg)存在下、メタノール中、1気圧の
水素雰囲気下、室温で還元した。触媒を濾去し、得られ
た濾液を減圧下濃縮することにより、表題の化合物(7
mg)を得た。
【0406】1HNMR(200MHz,CD3OD,δ
ppm):1.14(3H,d,J=6.5Hz),
4.17(1H,q,J=6.5Hz),7.00−
7.13(4H,m),7.42−7.55(4H,
m) 参考例19(2R)−1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−3
−(メトキシメトキシ)−1,2−プロパンジアミンの
製造
【0407】
【化74】
【0408】メチル (2S)−2−{[(ベンジルオ
キシ)カルボニル]アミノ}−3−(メトキシメトキ
シ)プロパノエート(35.70g)のテトラヒドロフ
ラン溶液(500mL)を、窒素雰囲気下、0℃で攪拌
しているところに、1.0M4−フルオロフェニルマグ
ネシウムブロミド−テトラヒドロフラン溶液を滴下し、
室温まで昇温した後、4時間攪拌した。飽和塩化アンモ
ニウム水溶液(100mL)を加えた後、反応液を減圧
下濃縮した。残渣に飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを
濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=9:15:13:1)で精製するこ
とにより、ベンジル N−{(1S)−2,2−ビス
(4−フルオロフェニル)−2−ヒドロキシ−1−
[(メトキシメトキシ)メチル]エチル}カルバメイト
(49.97g)を無色油状物として得た。その生成物
(49.80g)を10%パラジウム炭素触媒(2.0
0g)存在下、メタノール溶媒(500mL)中、一気
圧の水素雰囲気下、2日間攪拌した。更に、50℃に加
温し、24時間攪拌した。反応液をセライトで濾過した
後、得られた濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=2:1クロロホルム:メタノール=
5:1)で精製することにより、(2S)−2−アミノ
−1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−3−(メト
キシメトキシ)−1−プロパノール(33.30g)を
黄色油状物として得た。トリフェニルホスフィン(4
0.56g)のトルエン溶液(400mL)を、0℃で
攪拌しているところに、1.0Mブロミン−ベンゼン溶
液を滴下し、30分間攪拌した。上記ヒドロキシアミン
体(20.00g)のトルエン溶液(50mL)及びト
リエチルアミン(43.11g)を順次、0℃で滴下し
た。滴下終了後、0℃で20時間攪拌した。飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有
機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶
媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エチ
ル=4:12:1)で精製することにより、(3R)−
2,2−ビス(4−フルオロフェニル)−3−[(メト
キシメトキシ)メチル]アジリジン(7.72g)を黄
色油状物として得た。そのアジリジン体(7.70g)
のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(80mL)に、
水(40mL)、アジ化ナトリウム(7.45g)及び
塩化アンモニウム(2.70g)を順次加え、100℃
で16時間攪拌した。アジ化ナトリウム(7.45g)
を更に加え、120℃で24時間攪拌した。水を加え、
ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを
濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=3:1)で精製することにより、
(2R)−1−アジド−1,1−ビス(4−フルオロフ
ェニル)−3−(メトキシメトキシ)−2−プロパンア
ミン(7.68g)を黄色油状物として得た。得られた
アジド体(7.62g)を5%パラジウム炭素触媒
(0.80g)存在下、メタノール溶媒(80mL)
中、一気圧の水素雰囲気下、17時間攪拌した。反応液
をセライトで濾過した後、酢酸エチルで洗浄し、得られ
た濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和塩化ナト
リウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧下留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(C−300;酢酸エチルクロロホルム:メタノー
ル=5:1)で精製することにより、目的とする表題の
ジアミン(5.70g)を淡黄色油状物として得た。
【0409】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):3.26−3.33(1H,m),3.32
(3H,s),3.59(1H,dd,J=9.7H
z,2.6Hz),4.03(1H,dd,J=7.9
Hz,2.6Hz),4.57(2H,dd,J=7.
8Hz,6.5Hz),6.92−7.04(4H,
m),7.38−7.53(4H,m) [α]D 25:−44.3゜(c1.0,CHCl3) 上記参考例19の方法に準じて、以下の化合物を得た。 参考例19−1(2S)−1,1−ビス(4−フルオロフェニル)−
1,2−プロパンジアミン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.99(3H,d,J=6.4Hz),4.01(1
H,q,J=6.4Hz),6.92−7.03(4
H,m ),7.38−7.52(4H,m) 参考例19−2(2S)−1,1−ビス(6−フルオロ−3−ピリジ
ル)−1,2−プロパンジアミン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
1.04(3H,d,J=6.3Hz),4.09(1
H,q,J=6.3Hz),6.88(2H,dd,J
=8.5Hz,3.1Hz),7.88(1H,dd
d,J=8.5Hz,8.0Hz,2.5Hz),7.
96(1H,ddd,J=8.5Hz,8.0Hz,
2.5Hz),8.35(1H,d,J=2.5H
z),8.40(1H,d,J=2.5Hz) 参考例19−3(2S)−1,1−ビス(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−1,2−プロパンジアミン 1 HNMR(300MHz,CDCl3,δppm):
1.02(3H,d,J=6.3Hz),4.10(1
H,q,J=6.3Hz),7.12(1H,s),
7.23(1H,s),7.27(1H,d,J=5.
4Hz),7.35(1H,d,J=5.7Hz),
8.16(1H,d,J=5.7Hz),8.17(1
H,d,J=5.4Hz) 参考例20(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−1−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパンジアミン
の製造
【0410】
【化75】
【0411】t−ブチル N−{(1S)−2−[メト
キシ(メチル)アミノ]−1−メチル−2−オキソエチ
ル}カルバメイト(50g)のテトラヒドロフラン溶液
(700mL)を、別途調整された2.5M 4−フル
オロフェニルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラ
ン溶液(300mL)に、0Cでゆっくり滴下した後、
反応液を室温で14時間攪拌した。0Cに冷却後、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、エーテルで2回
抽出した。有機層を飽和飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機
溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(C−300;ヘキサン:酢酸エ
チル=4:1)で精製することにより、t−ブチル N
−[(1S)−2−(4−フルオロフェニル)−1−メ
チル−2−オキソエチル]カルバメイト(57.75
g)を淡黄色固体として得た。得られたケトン体(6
1.20g)のエチレングリコールジメチルエーテル
(500mL)溶液を6−フルオロ−3−ピリジルリチ
ウムのジエチルエーテル溶液[5−ブロモ−2−フルオ
ロピリジン(59mL)と1.6Mブチルリチウム−ヘ
キサン溶液(358mL)をジエチルエーテル(1.5
L)溶媒中−78Cで反応させることにより調整]に−
78Cで滴下した。滴下終了後、−78Cで30分間攪
拌した後、0Cまで昇温した。飽和塩化アンモニウム水
溶液を加え、更に室温で15分間攪拌した。水層を除い
た後、有機層を水と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウム
を濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。残渣を少量の酢
酸エチルに溶解し、過剰量のジイソプロピルエーテルを
加えることによりt−ブチルN−[(1S)−2−(4
−フルオロフェニル)−2−(6−フルオロ−3−ピリ
ジル)−2−ヒドロキシ−1−メチルエチル]カルバメ
イトを沈殿させ、これを濾取した(収量74.35
g)。それを4N塩化水素−酢酸エチル溶液で処理する
ことにより、(2S)−2−アミノ−1−(4−フルオ
ロフェニル)−1−(6−フルオロ−3−ピリジル)−
1−プロパノール(32.8g)を得た。得られたヒド
ロキシアミノ体を、参考例19の方法に準じてアジリジ
ン化することにより、2−フルオロ−5−[(3S)−
2−(4−フルオロフェニル)−3−メチル−2−アジ
リジニル]ピリジンを得た。得られたアジリジン体を、
参考例19の方法に準じてアジド化した後、水素添加に
よって還元することにより表題のジアミンを得た。な
お、アジリジン環の2位に関するジアステレオマー比は
約3:2であり、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(C−300;ヘキサン:酢酸エチル6:44:6)に
より分離可能である。 参考例20−1光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミンの製造
【0412】
【化76】
【0413】参考例20で得られた2−フルオロ−5−
[(3S)−2−(4−フルオロフェニル)−3−メチ
ル−2−アジリジニル]ピリジンのジアステレオマーの
混合物を、シリカゲルクロマトグラフィーで分離し、最
初に溶出したアジリジン体を用い、参考例19の方法に
準じて処理することにより、光学活性な表題のジアミン
を得た。
【0414】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.00(3H,d,J=6.3Hz),
4.65(1H,q,J=6.3Hz),6.85(1
H,dd,J=3.0Hz,8.7Hz),7.00
(2H,t,J=8.4Hz),7.43(2H,d
d,J=5.4Hz,9.0Hz),7.97(1H,
t,J=8.4Hz),8.40(1H,d,J=2.
7Hz) 参考例20−2光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(6−フルオロ−3−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミン(参考例20−1の1位のエピマー)の製造
【0415】
【化77】
【0416】参考例20で得られた2−フルオロ−5−
[(3S)−2−(4−フルオロフェニル)−3−メチ
ル−2−アジリジニル]ピリジンのジアステレオマーの
混合物を、シリカゲルクロマトグラフィーで分離し、2
番目に溶出したアジリジン体を用い、参考例19の方法
に準じて処理することにより、光学活性な表題のジアミ
ンを得た。
【0417】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.02(3H,d,J=6.3Hz),
4.05(1H,q,J=6.3Hz),6.84(1
H,dd,J=8.5Hz,3.1Hz),7.01
(2H,dd,J=8.9Hz,8.5Hz),7.4
9(2H,dd,J=8.9Hz,5.2Hz),7.
87(1H,ddd,J=8.5Hz,8.0Hz,
2.6Hz),8.34(1H,d,J=2.6Hz) 参考例21(2R)−1−(4−フルオロフェニル)−1−(6−
フルオロ−3−ピリジル)−3−(メトキシメトキシ)
−1,2−プロパンジアミンの製造
【0418】
【化78】
【0419】参考例5の方法に準じて、2−フルオロ−
5−{(3R)−2−(4−フルオロフェニル)−3−
[(メトキシメトキシ)メチル]−2−アジリジニル}
ピリジンを経由して製造した。なお、この中間体のアジ
リジンは、シリカゲルクロマトグラフィーにより分離可
能である。 参考例21−1光学活性な(2R)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(6−フルオロ−3−ピリジル)−3−(メトキシ
メトキシ)−1,2−プロパンジアミンの製造
【0420】
【化79】
【0421】参考例21で得られた2−フルオロ−5−
{(3R)−2−(4−フルオロフェニル)−3−
[(メトキシメトキシ)メチル]−2−アジリジニル}
ピリジンのジアステレオマーの混合物を、シリカゲルク
ロマトグラフィーで分離(へキサンと酢酸エチルの混合
溶媒で溶出)し、最初に溶出したアジリジン体を用い、
参考例19の方法に準じて処理することにより、光学活
性な表題のジアミンを得た。
【0422】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):3.31(4H,m),3.56(1H,d
d,J=2.3Hz,9.8Hz),4.03(1H,
dd,J=2.5Hz,7.9Hz),4.56(2
H,s),6.85(1H,dd,J=3.0Hz,
6.5Hz),7.00(2H,m),7.39(2
H,m),7.94(1H,dt,J=2.7Hz,
7.8Hz),8.39(1H,s) 参考例22光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(2−フルオロ−4−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミンの製造
【0423】
【化80】
【0424】参考例20の中間体であるt−ブチル N
−[(1S)−2−(4−フルオロフェニル)−1−メ
チル−2−オキソエチル]カルバメイトと2−メチル−
2−プロパンスルフィンアミドを、脱水剤の存在下縮合
させることにより、t−ブチル N−[(1S)−2−
[(t−ブチルスルフィニル)イミノ]−2−(4−フ
ルオロフェニル)−1−メチルエチル]カルバメイト得
た。そのスルフィニルイミン体(80mg)のトルエン
溶液(2mL)に1.0Mトリメチルアルミニウム−ヘ
キサン溶液(0.43mL)を−78Cで加え、5分間
攪拌した。得られた溶液を、2−フルオロ−4−ピリジ
ルリチウム溶液[4−フルオロ−2−ブロモピリジン
(114mg)と1.56Mブチルリチウム−ヘキサン
溶液(0.46mL)をジエチルエーテル溶媒中(3m
L)で−78Cで反応させることにより調整]に、−7
8Cでゆっくり滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフ
ラン(3mL)を加え、反応液を−78Cで2.5時間
攪拌した。飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた後、室温
まで昇温した。得られた反応液をセライトで濾過し、濾
液の有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マ
グネシウムを濾去し、有機溶媒を減圧下留去した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(C−
300;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製するこ
とにより、光学活性なt−ブチル N−[(1S)−2
−[(t−ブチルスルフィニル)アミノ]−2−(4−
フルオロフェニル)−2−(2−フルオロ−4−ピリジ
ル)−1−メチルエチル]カルバメイト(49mg)を
得た。その生成物を4N塩化水素−ジオキサン溶液で処
理することにより、光学活性な表題のジアミン(31m
g)を得た。
【0425】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.03(3H,d,J=6.3Hz),
1.91(4H,brs),4.10(1H,q,J=
6.3Hz),6.98−7.48(6H,m),8.
12(1H,d,J=5.1Hz) 参考例22−1光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(1,5−ナフチリジン−3−イル)−1,2−プ
ロパンジアミンの製造
【0426】
【化81】
【0427】t−ブチル N−[(1S)−2−[(t
−ブチルスルフィニル)イミノ]−2−(4−フルオロ
フェニル)−1−メチルエチル]カルバメイトに、参考
例22の方法に準じて、1,5−ナフチリジン−3−イ
ルリチウムを反応させた後、酸性条件下で脱保護するこ
とにより光学活性な表題のジアミンを得た。
【0428】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.06(3H,d,J=6.3Hz),
4.25(1H,q,J=6.3Hz),7.00(2
H,t,J=8.6Hz),7.45−7.55(2
H,m),7.60(1H,dd,J=4.2Hz,
8.5Hz),8.35(1H,d,J=8.6H
z),8.57(1H,d,J=1.4Hz),8.9
5(1H,dd,J=1.4Hz,4.2Hz),9.
13(1H,d,J=2.2Hz) 参考例22−2光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(3−ピリジル)−1,2−プロパンジアミンの製
【0429】
【化82】
【0430】t−ブチル N−[(1S)−2−[(t
−ブチルスルフィニル)イミノ]−2−(4−フルオロ
フェニル)−1−メチルエチル]カルバメイトに、参考
例22の方法に準じて、3−ピリジルリチウムを反応さ
せた後、酸性条件下で脱保護することにより光学活性な
表題のジアミンを得た。
【0431】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.01(3H,d,J=6.3Hz),
4.08(1H,q,J=6.3Hz),6.99(2
H,dd,J=8.6Hz,9.0Hz),7.23
(1H,dd,J=4.7Hz,8.1Hz),7.4
5(2H,dd,J=5.3Hz,9.0Hz),7.
86(1H,ddd,J=1.6Hz,2.5Hz,
8.1Hz),8.44(1H,dd,J=1.6H
z,4.7Hz),8.79(1H,d,J=2.5H
z) 参考例23光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(2−フルオロ−4−ピリジル)−1,2−プロパ
ンジアミン(参考例22の化合物の1位のエピマー)の
製造
【0432】
【化83】
【0433】t−ブチル N−[(1S)−2−[(t
−ブチルスルフィニル)イミノ]−2−(2−フルオロ
−4−ピリジル)−1−メチルエチル]カルバメイトに
参考例22の方法に準じて、4−フルオロフェニルリチ
ウムを反応させた後、酸性条件下で脱保護することによ
り光学活性な表題のジアミンを得た。
【0434】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):0.98(3H,d,J=6.4Hz),
4.07(1H,q,J=6.4Hz),6.98−
7.07(2H,m),7.10(1H,s),7.2
4(1H,dt,J=5.4Hz,1.7Hz),7.
48−7.58(2H,m),8.11(1H,d,J
=5.3Hz) 参考例23−1光学活性な(2S)−1−(4−フルオロフェニル)−
1−(1,5−ナフチリジン−3−イル)−1,2−プ
ロパンジアミン(参考例22−1の化合物の1位のエピ
マー)の製造
【0435】
【化84】
【0436】t−ブチル N−[(1S)−2−[(t
−ブチルスルフィニル)イミノ]−2−(1,5−ナフ
チリジン−3−イル)−1−メチルエチル]カルバメイ
トに、参考例22の方法に準じて、4−フルオロフェニ
ルリチウムを反応させた後、酸性条件下で脱保護するこ
とにより光学活性な表題のジアミンを得た。
【0437】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.09(1H,d,J=6.3Hz),
1.85−2.45(4H,br),4.26(1H,
q,J=6.3Hz),7.01(2H,t,J=8.
6Hz),7.46−7.65(3H,m),8.35
(1H,d,J=8.6Hz),8.52(1H,d,
J=1.8Hz),8.96(1H,dd,J=4.1
Hz,1.5Hz),9.07(1H,d,J=2.2
Hz) 参考例24t−ブチル N−[(1S)−2−(4−フルオロフェ
ニル)−1−メチル−2−オキソエチル]カルバメイト
の製造
【0438】
【化85】
【0439】4−フルオロフェニルブロミド(71m
L)とマグネシウム金属(15.7g)より調整された
4−フルオロフェニルマグネシウムブロミドのテトラヒ
ドロフラン溶液(300mL)に、t−ブチル N−
[(1S)−2−[メトキシ(メチル)アミノ]−1−
メチル−2−オキソエチル]カルバメイト(50g)の
テトラヒドロフラン溶液(700mL)を室温でゆっく
りと滴下した。滴下終了後、反応液を室温で15時間攪
拌した。硫酸水素カリウム(117.5g)の水溶液
(1L)を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機
溶媒を減圧下留去することにより表題の化合物(62.
6g)を白色固体として得た。
【0440】1HNMR(400MHz,CDCl3,δ
ppm):1.39(3H,d,J=7.6Hz),
1.43(1H,s),5.25(1H,m),5.5
2(1H,d,J=6Hz),7.16(2H,m),
8.01(2H,m) 参考例25t−ブチル N−[(1S)−2−(2−フルオロ−4
−ピリジル)−1−メチル−2−オキソエチル]カルバ
メイトの製造
【0441】
【化86】
【0442】2−フルオロ−4−ヨードピリジン(21
g)のテトラヒドロフラン溶液(300mL)に2.0
Mイソプロピルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフ
ラン溶液(47.1mL)を−40℃でゆっくり滴下し
た。−40℃で30分間攪拌後、t−ブチル N−
[(1S)−1−メチル−2−オキソエチル]カルバメ
イト(7g)のテトラヒドロフラン溶液(63mL)を
ゆっくり滴下した後、3時間かけて室温まで昇温した。
反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウム
を濾去し、有機溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(C−300;ヘキ
サン:酢酸エチル=4:6)で精製することにより、t
−ブチル N−[(1S)−2−(2−フルオロ−4−
ピリジル)−2−ヒドロキシ−1−メチルエチル]カル
バメイト(5g)を得た。
【0443】オキサリルクロリド(7.04g)のジク
ロロメタン溶液(230mL)にジメチルスルホキシド
(7.23g)を−78℃で滴下し、15分間攪拌し
た。これに上記アルコール体(5g)のジクロロメタン
溶液(23mL)をゆっくり加えた後、−78℃で2時
間攪拌した。N,N−ジイソプロピルエチルアミン(2
1.52g)を加え、更に−78℃で45分間攪拌し
た。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温
まで昇温した。反応液をクロロホルムで抽出した。有機
層を水と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、
有機溶媒を減圧下留去することにより表題の化合物
(5.84g)を得た。
【0444】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.39(3H,d,J=7.5Hz),
1.45(1H,s),5.15(1H,m),5.3
0(1H,m),7.41(1H,s),7.65(1
H,d,J=6.8Hz),8.42(1H,d,J=
6.8Hz) 参考例25−1t−ブチル N−[(1S)−2−(6−フルオロ−3
−ピリジル)−1−メチル−2−オキソエチル]カルバ
メイトの製造
【0445】
【化87】
【0446】2−フルオロ−5−リチオピリジンのジエ
チルエーテル溶液[5−ブロモ−2−フルオロピリジン
(25.75g)と1.56Mブチルリチウム−ヘキサ
ン溶液(94mL)をジエチルエーテル(400mL)
溶媒中−78Cで反応させることにより調整]に、t−
ブチル N−[(1S)−1−メチル−2−オキソエチ
ル]カルバメイトのエーテル溶液(150mL)を1時
間かけて滴下した後、−78Cで1時間攪拌した。1時
間かけて0Cまで昇温した後、飽和塩化アンモニウム水
溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。硫酸ナトリウムを濾去し、有機溶媒を減圧下留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(C−300;ヘキサン:酢酸エチル=3:11:
1)で精製することにより、t−ブチル N−[(1
S)−2−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−ヒド
ロキシ−1−メチルエチル]カルバメイト(7.13
g)を得た。このアルコール体を参考例25に準じて酸
化することにより表題の化合物を得た。
【0447】1HNMR(300MHz,CDCl3,δ
ppm):1.42(3H,d,J=6.8Hz),
1.45(9H,s)5.20(1H,m),5.30
(1H,m),7.07(1H,dd,J=2.4H
z,8.4Hz),8.40(1H,ddd,J=2.
3Hz,7.7Hz,8.4Hz),8.87(1H,
d,J=2.3Hz) 製剤例1 参考例1の化合物20.0g、乳糖417g、結晶セル
ロース80g及び部分アルファー化デンプン80gをV
型混合機を用いて混合した後、ステアリン酸マグネシウ
ム3.0gを加え混合した。混合末を常法に従い打錠し
直径7.0mm、1錠の重量150mgの錠剤3000
錠を得た。
【0448】一錠(150mg)あたりの含有量 参考例1の化合物5.0mg 乳糖104.25mg 結晶セルロース20.0mg 部分アルファー化デンプン20.0mg ステアリン酸マグネシウム0.75mg 製剤例2 ヒドロキシプロピルセルロース2910 10.8g及
びポリエチレングリコール6000 2.1gを精製水
172.5gに溶解した後、二酸化チタン2.1gを分
散し、コーティング液を調製した。別に調製した製剤例
1の錠剤2500錠にハイコーターミニを用いてコーテ
ィング液をスプレーコーティングし、重量155mgの
フィルムコート錠を得た。
【0449】一錠(155mg)あたりの含有量 製剤例1の錠剤150mg ヒドロキシプロピルセルロース2910 3.6mg ポリエチレングリコール6000 0.7mg 二酸化チタン0.7mg
【0450】
【発明の効果】本発明は、NPY受容体拮抗物質とし
て、各種の循環器系疾患、中枢神経系疾患、代謝系疾患
等の処置剤として有用な、新規イミダゾリン化合物の効
率的な製造法を提供するものである。
【0451】
フロントページの続き (72)発明者 實岡 誠 茨城県つくば市大久保3番地 萬有製薬株 式会社つくば研究所内 (72)発明者 内糸 史歩 茨城県つくば市大久保3番地 萬有製薬株 式会社つくば研究所内 (72)発明者 深見 竹広 茨城県つくば市大久保3番地 萬有製薬株 式会社つくば研究所内 Fターム(参考) 4C055 AA01 BA01 BA02 BA39 CA01 CA02 CA06 CA13 CA27 CA28 CA30 CB15 CB16 DA01 DA06 DA13 DA27 DA28 DA30 DB15 DB16 4C065 AA04 BB09 CC01 DD02 EE02 HH05 JJ01 KK01 LL01 PP03 QQ05 4H006 AA01 AB84 TA01

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1)一般式(9) 【化1】 [式中、Ar1pはシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、
    低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級アル
    キル低級アルキル基、低級アルケニル基、ジ低級アルキ
    ルアミノ基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ
    基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、低級
    アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低
    級アルコキシカルボニル基、ジ低級アルキルカルバモイ
    ル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
    基、アリール基及びヘテロアリール基並びに保護されて
    いてもよい、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルキル
    アミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルス
    ルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水酸
    基、カルボキシル基、カルバモイル基及び低級アルキル
    カルバモイル基からなる群より選択される置換基を有し
    ていてもよい、アリール基又はヘテロアリール基を意味
    し;Pはアミノ基の保護基を意味し;Rは嵩高い基を意
    味し;R2p及びR3pは、それぞれ独立して、水素原子、
    シクロ低級アルキル基若しくは低級アルケニル基を意味
    するか、又はハロゲン原子、ジ低級アルキルアミノ基、
    低級アルコキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカルボ
    ニル基及びジ低級アルキルカルバモイル基並びに保護さ
    れていてもよい、低級アルキルアミノ基、低級アルカノ
    イルアミノ基、水酸基及び低級アルキルカルバモイル基
    からなる群より選択される置換基を有していてもよい低
    級アルキル基を意味する]で表される化合物と、−R1p
    [ここにおいて、R1pはシクロ低級アルキル基又は−A
    3p、 【化2】 で表される基を意味し;nは0、1又は2を意味し;A
    3pはシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキ
    ル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級アルキル低級ア
    ルキル基、低級アルケニル基、ジ低級アルキルアミノ
    基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基、アリー
    ルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、低級アルキルチ
    オ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルコキ
    シカルボニル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、低級
    アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アリー
    ル基及びヘテロアリール基並びに保護されていてもよ
    い、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルキルアミノ
    基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニ
    ルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、水酸基、カ
    ルボキシル基、カルバモイル基及び低級アルキルカルバ
    モイル基からなる群より選択される置換基を有していて
    もよい、アリール基又はヘテロアリール基を意味し;R
    10p及びR11pは、ともに水素原子を意味するか、又は一
    緒になって保護されていてもよいオキソ基を意味し;R
    12pは水素原子、低級アルキル基又はイミノ基の保護基
    を意味し;Xp及びYpは、それぞれ独立して、メチレン
    基、エテニレン基、−NR12p−で表される基、酸素原
    子又は硫黄原子を意味し;Zはメチン基又は窒素原子を
    意味する]で表される基を有する有機金属化合物とを反
    応させ、一般式(10) 【化3】 [式中、Ar1p、P、R、R1p、R2p及びR3pは前記の
    意味を有する]で表される化合物とするか、又は2)一
    般式(9’) 【化4】 [式中、P、R、R1p、R2p及びR3pは前記の意味を有
    する]で表される化合物と、−Ar1p[ここにおいて、
    Ar1pは前記の意味を有する]で表される基を有する有
    機金属化合物とを反応させ、前記一般式(10)で表さ
    れる化合物とし、次いで該化合物(10)のアミノ基の
    保護基P及び−S(=O)−Rで表される基を除去する
    ことを特徴とする、一般式(II’) 【化5】 [式中、Ar1p、R1p、R2p及びR3pは前記の意味を有
    する(ただし、(a)R 2p及びR3pが同時に水素原子で
    ある場合、Ar1p及びR1pは同時に無置換のフェニル基
    を意味せず、また、(b)R2pが水素原子であり、かつ
    3pがメチル基、イソプロピル基、イソブチル基又はt
    ert−ブチル基である場合、Ar1p及びR1pは同時に
    4−メトキシフェニル基を意味しない)]で表される化
    合物の製造法。
  2. 【請求項2】Ar1p及びR1pが互いに異なる基である請
    求項1記載の製造法。
  3. 【請求項3】Pがtert−ブトキシカルボニル基であ
    る請求項1又は2記載の製造法。
  4. 【請求項4】Rが第三級アルキル基である請求項1又は
    2記載の製造法。
  5. 【請求項5】第三級アルキル基がtert−ブチル基で
    ある請求項4記載の製造法。
  6. 【請求項6】Pがtert−ブトキシカルボニル基であ
    り、かつRがtert−ブチル基である請求項1又は2
    記載の製造法。
  7. 【請求項7】一般式(9)又は(9’) 【化6】 [式中、Ar1p及びAr3pは、それぞれ独立して、シア
    ノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、ハロ
    低級アルキル基、シクロ低級アルキル低級アルキル基、
    低級アルケニル基、ジ低級アルキルアミノ基、低級アル
    コキシ基、ハロ低級アルコキシ基、アリールオキシ基、
    ヘテロアリールオキシ基、低級アルキルチオ基、ホルミ
    ル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル
    基、ジ低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルスル
    ホニル基、アリールスルホニル基、アリール基及びヘテ
    ロアリール基並びに保護されていてもよい、ヒドロキシ
    低級アルキル基、低級アルキルアミノ基、低級アルカノ
    イルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、アリ
    ールスルホニルアミノ基、水酸基、カルボキシル基、カ
    ルバモイル基及び低級アルキルカルバモイル基からなる
    群より選択される置換基を有していてもよい、アリール
    基又はヘテロアリール基を意味し;Pはアミノ基の保護
    基を意味し;Rは嵩高い基を意味し;R1pはシクロ低級
    アルキル基又は−Ar3p、 【化7】 で表される基を意味し;nは0、1又は2を意味し;R
    10p及びR11pは、ともに水素原子を意味するか、又は一
    緒になって保護されていてもよいオキソ基を意味し;R
    12pは水素原子、低級アルキル基又はイミノ基の保護基
    を意味し;Xp及びYpは、それぞれ独立して、メチレン
    基、エテニレン基、−NR12p−で表される基、酸素原
    子又は硫黄原子を意味し;Zはメチン基又は窒素原子を
    意味し;R2p及びR3pは、それぞれ独立して、水素原
    子、シクロ低級アルキル基若しくは低級アルケニル基を
    意味するか、又はハロゲン原子、ジ低級アルキルアミノ
    基、低級アルコキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカ
    ルボニル基及びジ低級アルキルカルバモイル基並びに保
    護されていてもよい、低級アルキルアミノ基、低級アル
    カノイルアミノ基、水酸基及び低級アルキルカルバモイ
    ル基からなる群より選択される置換基を有していてもよ
    い低級アルキル基を意味する]で表される化合物。
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