JP2003046241A - Circuit board - Google Patents

Circuit board

Info

Publication number
JP2003046241A
JP2003046241A JP2001230880A JP2001230880A JP2003046241A JP 2003046241 A JP2003046241 A JP 2003046241A JP 2001230880 A JP2001230880 A JP 2001230880A JP 2001230880 A JP2001230880 A JP 2001230880A JP 2003046241 A JP2003046241 A JP 2003046241A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
laminated body
wiring conductor
inclined surface
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001230880A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norio Nakano
紀男 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2001230880A priority Critical patent/JP2003046241A/en
Publication of JP2003046241A publication Critical patent/JP2003046241A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board which resists warp of especially a printed wiring board by improving a structure of an edge of a circuit board. SOLUTION: A circuit board 10 comprises a lamination body 1 wherein a plurality of insulation layers formed of a ceramic material are laminated, an inner wiring conductor 2 disposed between insulation layers of the lamination body 1, a surface layer wiring conductor 4 disposed in a main surface of the lamination body 1, and a circuit mounting component 6 disposed in the surface layer wiring conductor 4. A tilting surface 7 forming an angle θ1 of 110 to 145 deg. with a side surface is formed in a ridge line part of at least one main surface of the lamination body 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、セラミック材料か
らなる絶縁層を複数積層した積層体と、該積層体の絶縁
相間に配された内部配線導体と、前記積層体の表面及び
裏面に配された表層配線導体からなるセラミック回路基
板に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a laminated body in which a plurality of insulating layers made of a ceramic material are laminated, an internal wiring conductor arranged between insulating phases of the laminated body, and a front surface and a back surface of the laminated body. The present invention relates to a ceramic circuit board including a surface layer wiring conductor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電気・電子機器に使用される
回路基板としてセラミック回路基板が検討されてきた。
また、近年ではセラミック回路基板は、セラミックスの
優れた信頼性及び電気特性を利用して高周波回路分野、
特に携帯電話等に使用されるパワーアンプやフィルター
等のRFモジュールに使用する検討が多くなされてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, ceramic circuit boards have been studied as circuit boards used in electric and electronic devices.
Further, in recent years, ceramic circuit boards have been used in high frequency circuit fields by utilizing the excellent reliability and electrical characteristics of ceramics.
In particular, many studies have been conducted for use in RF modules such as power amplifiers and filters used in mobile phones and the like.

【0003】基板材料に800℃〜1200℃で焼成さ
れ得るような低温焼成セラミックスを使用すると、配線
にAg系、Cu系などの低抵抗材料を用いることができ
る。
When low-temperature fired ceramics that can be fired at 800 ° C. to 1200 ° C. are used as the substrate material, a low resistance material such as Ag or Cu can be used for the wiring.

【0004】セラミック材料とは、アルミナやクリスト
バライト、石英を例示でき、近年ではセラミック基板の
内部に容量成分やリアクタンス成分を内装するため、酸
化チタン、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム
等の誘電体材料の混合物を使用した材料を用いることも
ある。
Examples of the ceramic material include alumina, cristobalite, and quartz. In recent years, since a capacitance component and a reactance component are contained inside the ceramic substrate, a dielectric material such as titanium oxide, magnesium titanate, calcium titanate, or the like is used. Materials using a mixture may be used.

【0005】また、低温焼成セラミック材料とは、主に
ガラス−セラミックを用い、例えば、コージェライト、
ムライト、アノーサイト、セルジアン、スピネル、ガー
ナイト、ウイレマイト、ドロマイト、ベタライト、オオ
スミライト及びその置換誘導体などの結晶相のうち少な
くとも1種類を析出し得る低融点ガラス成分と、クリス
トバライト、石英、アルミナ、酸化チタン、チタン酸マ
グネシウム等のセラミック材料(無機物フイラー)とか
らなっている。
The low-temperature fired ceramic material is mainly glass-ceramic, and for example, cordierite,
A low melting point glass component capable of precipitating at least one of crystal phases such as mullite, anorthite, sergian, spinel, garnite, willemite, dolomite, betalite, osumilite and its substituted derivatives, and cristobalite, quartz, alumina, titanium oxide. , And a ceramic material such as magnesium titanate (an inorganic filler).

【0006】内部配線導体及び表層配線導体材料には、
上述の低温焼成セラミック材料を使用する際には銀や銅
を主成分とする低抵抗導体が用いられる。
The internal wiring conductor and the surface wiring conductor material include
When using the above-mentioned low temperature fired ceramic material, a low resistance conductor containing silver or copper as a main component is used.

【0007】このように低温焼成セラミック材料の絶縁
体層を積層した積層体の内部に、内部配線導体を配置
し、積層体の主面に表層配線導体を形成し、さらに、表
層配線導体に所定回路部品を配置した回路基板は、携帯
電話等の所定発振周波数の信号を発振する高周波回路、
または、複合的な機能を一体化したモジュールの1つの
部品として取り扱われる。具体的には、この回路基板を
プリント配線基板に半田接合して使われるようになって
きている。
In this way, the internal wiring conductor is arranged inside the laminated body in which the insulating layers of the low temperature fired ceramic material are laminated, the surface wiring conductor is formed on the main surface of the laminated body, and the surface wiring conductor has a predetermined shape. The circuit board on which the circuit parts are arranged is a high-frequency circuit that oscillates a signal of a predetermined oscillation frequency of a mobile phone,
Alternatively, it is handled as one component of a module that integrates complex functions. Specifically, this circuit board has come to be soldered to a printed wiring board for use.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、携帯電
話等の携帯端末では、プリント配線板に実装し、プリン
ト配線板のたわみ実験を行うと、図5のように稜線部の
起点13から回路基板の稜線部分からクラックが発生し
てしまう。
However, in a mobile terminal such as a mobile phone, when it is mounted on a printed wiring board and a flexure experiment of the printed wiring board is performed, the circuit board from the starting point 13 of the ridge line portion to the circuit board as shown in FIG. A crack will occur from the ridge.

【0009】これは、内部配線導体に低抵抗材料である
Ag、Cuなどを用いるため、ガラス−セラミック材料
を用いており、基板の強度が比較的低くなってしまうと
うい基板材料にその一因がある。また、今後は、基板の
薄層化が進むにともない、更にたわみに対して一層クラ
ックが発生しやすい状況となっている。
This is because a low resistance material such as Ag or Cu is used for the internal wiring conductor, and therefore a glass-ceramic material is used. There is. Further, in the future, with the progress of thinner substrates, cracks are more likely to occur due to bending.

【0010】本発明は、上述の問題点に鑑みて案出され
たものであり、その目的は、回路基板のエッジ部分の構
造の改良によって、特に、プリント配線基板のたわみに
耐えうる回路基板を提供するものである。
The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and an object thereof is to improve a structure of an edge portion of a circuit board, and in particular, to provide a circuit board which can endure the bending of a printed wiring board. It is provided.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、セラミック材
料からなる絶縁層を複数積層した積層体と、該積層体の
絶縁層間に配された内部配線導体と、前記積層体の主面
に配された表層配線導体と、前記表層配線導体に配置し
た回路実装部品とから成る回路基板において、前記積層
体の少なくとも一主面の稜線部分には、側面との成す角
度θ1が110〜145°の傾斜面が形成されている。
According to the present invention, a laminated body in which a plurality of insulating layers made of a ceramic material are laminated, an internal wiring conductor arranged between the insulating layers of the laminated body, and a main surface of the laminated body are arranged. In a circuit board comprising the surface layer wiring conductor formed as described above and a circuit mounting component arranged on the surface layer wiring conductor, the ridgeline portion of at least one main surface of the laminate has an angle θ1 formed with the side surface of 110 to 145 °. An inclined surface is formed.

【0012】前記セラミック材料が800〜1200℃
で焼成可能な低温焼成セラミックスである。
The ceramic material is 800 to 1200 ° C.
It is a low temperature fired ceramic that can be fired at.

【0013】さらに、前記積層体の傾斜面と側面との稜
線部分に、さらに、側面との成す角度が160〜175
°の第2の傾斜面が形成されている。
Further, at the ridge line between the inclined surface and the side surface of the laminate, the angle between the side surface and the side surface is 160 to 175.
A second inclined surface having a surface angle of 90 ° is formed.

【0014】さらに、積層体の表面から、第2の傾斜面
と積層体の側面との稜線部分までの距離が、積層体の厚
みの30%以下である。
Further, the distance from the surface of the laminated body to the ridgeline portion between the second inclined surface and the side surface of the laminated body is 30% or less of the thickness of the laminated body.

【作用】本発明の回路基板によれば、積層体の少なくと
も一主面の稜線部分には、側面との成す角度θ1が11
0〜145°の傾斜面が形成されている。
According to the circuit board of the present invention, the ridgeline portion of at least one main surface of the laminate has an angle .theta.1 of 11 with the side surface.
An inclined surface of 0 to 145 ° is formed.

【0015】このため、プリント配線板に実装してたわ
みを受けても、その応力は、稜線部分で傾斜面となって
いるため分散され、その結果、回路基板の稜線部分にク
ラックの発生を有効に防止できる。しかも、800〜1
200℃で焼成可能な低温焼成セラミックス材料(ガラ
ス−セラミック材料)であってもクラックの発生がな
い。
Therefore, even when the printed wiring board is mounted and is bent, the stress is dispersed due to the inclined surface at the ridge portion, and as a result, cracks are effectively generated at the ridge portion of the circuit board. Can be prevented. Moreover, 800-1
No crack is generated even with a low temperature fired ceramic material (glass-ceramic material) that can be fired at 200 ° C.

【0016】その傾斜面の角度θ1が、110°未満で
は、傾斜面と主面と交差する部分が基板の中央側となる
ため、実装回路部品の搭載領域が減少して、高密度実装
性が低下してしまう。また、傾斜面の角度θ1が、14
5°を越えると、傾斜面と主面との成す角度が90°に
近づくようになるため、その結果、プリント配線基板に
たわみが発生しても、たわみ応力の分散効果が低下し
て、クラックが発生してしまう。
When the angle θ1 of the inclined surface is less than 110 °, the portion where the inclined surface intersects the main surface is on the center side of the substrate, so that the mounting area of the mounted circuit components is reduced and the high-density mounting property is improved. Will fall. In addition, the angle θ1 of the inclined surface is 14
When it exceeds 5 °, the angle formed by the inclined surface and the main surface comes close to 90 °, and as a result, even if the printed wiring board is bent, the effect of dispersing the flexural stress is reduced and cracks occur. Will occur.

【0017】また、傾斜面の角度θ1が小さくなると、
積層体の主面から、傾斜面と側面とが交差する部分まで
距離が小さくなる。これにより、大型回路基板で各回路
基板を分割処理により抽出する場合、分割性が低下して
しまう。そこで、傾斜面と側面とが交差する部分にさら
に5〜20°の傾斜角の第2の傾斜面を形成することに
より、大型回路基板からの分割性が向上する。但し、積
層体の側面と第2の傾斜面とが交差する部分が、積層体
の主面から深すぎると、分割処理前に不意にわれてしま
うため、その厚みを積層体の厚みに対して30%未満と
することが望ましい。これにより、分割性が向上する。
When the angle θ1 of the inclined surface becomes small,
The distance becomes smaller from the main surface of the laminated body to the portion where the inclined surface and the side surface intersect. As a result, when each circuit board is extracted by a division process on a large circuit board, the divisibility is deteriorated. Therefore, by further forming a second inclined surface having an inclination angle of 5 to 20 at the intersection of the inclined surface and the side surface, the divisibility from the large-sized circuit board is improved. However, if the portion where the side surface of the laminated body and the second inclined surface intersect is too deep from the main surface of the laminated body, it will be inadvertently cut before the dividing process, so that the thickness is relative to the thickness of the laminated body. It is preferably less than 30%. This improves the splittability.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の回路基板を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明に係る回路基板の断
面図である。図2は、本発明に係る分割溝を形成した大
型回路基板の斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A circuit board of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a circuit board according to the present invention. FIG. 2 is a perspective view of a large-sized circuit board having a dividing groove according to the present invention.

【0019】10は回路基板であり、1は積層基板、2
は積層基板1内に形成された内部配線導体、3は積層基
板1内に形成されたビアホール導体、4は積層基板1の
表面に形成した表層配線導体、5はICチップ部品であ
り、6は他の回路実装部品、7は傾斜面である。
Reference numeral 10 is a circuit board, 1 is a laminated board, and 2 is a laminated board.
Is an internal wiring conductor formed in the laminated substrate 1, 3 is a via hole conductor formed in the laminated substrate 1, 4 is a surface wiring conductor formed on the surface of the laminated substrate 1, 5 is an IC chip component, and 6 is Another circuit mounting component, 7 is an inclined surface.

【0020】積層基板1は、セラミック材料から成る絶
縁体層1a〜1dと、絶縁体層1a〜1dの各層間に、
所定配線パターン、コンデンサの容量電極、コイルのイ
ンダクタパターン、ストリップ線路パターンなどとなる
内部配線導体2が配置されている。絶縁体層1a〜1d
には、その層の厚み方向を貫くビアホール導体3が形成
されている。
The laminated substrate 1 includes insulating layers 1a to 1d made of a ceramic material and layers between the insulating layers 1a to 1d.
Internal wiring conductors 2 are arranged, which are predetermined wiring patterns, capacitor capacitance electrodes, coil inductor patterns, strip line patterns, and the like. Insulator layers 1a-1d
A via-hole conductor 3 is formed in the through hole 3 in the thickness direction.

【0021】さらに、積層基板1の主面には、表層配線
導体4が形成されている。そして、この表層配線導体4
には、ICチップ部品5、回路実装部品6が実装されて
いる。
Further, a surface wiring conductor 4 is formed on the main surface of the laminated substrate 1. And this surface wiring conductor 4
An IC chip component 5 and a circuit mounting component 6 are mounted on the.

【0022】絶縁体層1a〜1dは、例えば800〜1
200℃前後の比較的低い温度で焼成可能にするガラス
ーセラミック材料からなる。具体的なセラミック材料と
しては、クリストバライト、石英、コランダム(αアル
ミナ)、ムライト、コージェライトなどの絶縁セラミッ
ク材料、MgTiO3、CaTiO3、BaTiO3、T
iO2などの誘電体セラミック材料、Ni−Znフェラ
イト、Mn−Znフェライト(広義の意味でセラミック
という)などの磁性体セラミック材料などが挙げられ
る。なお、その平均粒径0.5〜6.0μm、好ましく
は0.5〜2.0μmに粉砕したものを用いる。また、
セラミック材料は2種以上混合して用いられてもよい。
The insulating layers 1a to 1d are, for example, 800 to 1.
It is made of a glass-ceramic material that enables firing at relatively low temperatures around 200 ° C. Specific ceramic materials include insulating ceramic materials such as cristobalite, quartz, corundum (α-alumina), mullite, cordierite, MgTiO 3 , CaTiO 3 , BaTiO 3 , and T.
dielectric ceramic material, such as iO 2, Ni-Zn ferrite, magnetic ceramic material such as Mn-Zn ferrite (referred to ceramic in a broad sense) can be mentioned. The average particle size is 0.5 to 6.0 μm, preferably 0.5 to 2.0 μm. Also,
Two or more kinds of ceramic materials may be mixed and used.

【0023】ガラス成分のフリットは、焼成処理するこ
とによってコージェライト、ムライト、アノーサイト、
セルジアン、スピネル、ガーナイト、ウイレマイト、ド
ロマイト、ペタライトやその置換誘導体の結晶やスピネ
ル構造の結晶相を析出するものであればよく、例えば、
23、SiO2、Al23、ZnO、アルカリ土類酸
化物を含むガラスフリットが挙げられる。この様なガラ
スフリットは、ガラス化範囲が広くまた屈伏点が600
〜800℃付近となっている。この絶縁体層1a〜1d
の厚みは、例えば20〜300μm程度である。
The glass component frit can be obtained by subjecting it to firing treatment to obtain cordierite, mullite, anorthite,
Sergian, spinel, garnite, willemite, dolomite, petalite or any derivative thereof as long as it precipitates a crystal phase or crystal phase of spinel structure, for example,
Examples thereof include glass frits containing B 2 O 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 , ZnO and alkaline earth oxides. Such a glass frit has a wide vitrification range and a yield point of 600.
The temperature is around 800 ° C. These insulator layers 1a-1d
Has a thickness of, for example, about 20 to 300 μm.

【0024】内部配線導体2、ビアホール導体3は、A
g系(Ag単体、Ag−Pd、Ag−PtなどのAg合
金)を主成分とする導体膜(導体)からなり、内部配線
導体2の厚みは5〜25μm程度である。また、ビアホ
ール導体3の直径は任意な値とすることができるが、絶
縁層の厚みに応じて、50〜300μmとしている。但
し、セラミック材料によっては、Cu系、W系、Mo
系、Pd系等を用いることもある。
The internal wiring conductor 2 and the via-hole conductor 3 are A
The internal wiring conductor 2 has a thickness of about 5 to 25 μm, which is made of a conductor film (conductor) whose main component is g-based (Ag simple substance, Ag alloy such as Ag—Pd, Ag—Pt). The diameter of the via-hole conductor 3 can be set to any value, but is set to 50 to 300 μm depending on the thickness of the insulating layer. However, depending on the ceramic material, Cu-based, W-based, Mo
A system, a Pd system, etc. may be used.

【0025】表層配線導体4は、Ag系(Ag単体、A
g−Pd、Ag−PtなどのAg合金)を主成分とする
導体膜から成り、主に積層基板1の表面で所定回路配線
を構成するとともに、半田を介して接合される回路実装
部品6(例えば回路部品やトランジスタなどが例示で
き、表層配線導体4に半田を介して接続されている)の
接続パッドとなることもあり、また、厚膜抵抗膜、厚膜
コンデンサ素子の端子電極となる。特に、内部配線導体
2との接続において、表層配線導体4は、絶縁体層1a
から露出するビアホール導体3と接続する。
The surface wiring conductor 4 is made of Ag (Ag alone, A
A circuit mounting component 6 (which is composed of a conductor film containing Ag alloy such as g-Pd or Ag-Pt as a main component) and mainly constitutes a predetermined circuit wiring on the surface of the laminated substrate 1 and is joined via solder. For example, it may be a circuit component, a transistor, or the like, and may be a connection pad of the surface layer wiring conductor 4 connected to the surface wiring conductor 4 via solder), or a terminal electrode of a thick film resistance film or a thick film capacitor element. In particular, in the connection with the internal wiring conductor 2, the surface wiring conductor 4 is the insulator layer 1a.
It is connected to the via-hole conductor 3 exposed from.

【0026】また、ICチップ5は、ICチップ5の下
面に形成した、AlまたはAuのバンプ部材を介して表
層配線導体4に接続されている。また、場合によっては
ワイヤーボンディングによる接続もありうる。
The IC chip 5 is connected to the surface wiring conductor 4 via a bump member of Al or Au formed on the lower surface of the IC chip 5. Further, there may be a connection by wire bonding depending on the case.

【0027】次に、回路基板10の製造方法について説
明する。
Next, a method of manufacturing the circuit board 10 will be described.

【0028】まず、積層体1の絶縁体層1a〜1dとな
る大型のグリーンシート、内部配線導体2、ビアホール
導体3を形成するための例えばAg系の導電性ペース
ト、表層配線導体4を形成するための例えばAu系、A
g系の導電性ペーストを用意する。
First, a large green sheet to be the insulating layers 1a to 1d of the laminated body 1, an internal wiring conductor 2, an Ag-based conductive paste for forming the via-hole conductor 3, and a surface wiring conductor 4 are formed. For eg Au system, A
A g-based conductive paste is prepared.

【0029】グリーンシートは、複数の回路基板を抽出
できるように、複数の回路基板領域を有しており、セラ
ミック材料から成っている。例えば、セラミック粉末、
低融点ガラス成分のフリット、有機バインダー、有機溶
剤を均質混練したスラリーを、ドクターブレード法によ
って所定厚みにテープ成型して、所定大きさに切断して
シートを作成する。
The green sheet has a plurality of circuit board regions so that a plurality of circuit boards can be extracted, and is made of a ceramic material. For example, ceramic powder,
A slurry in which a frit of a low melting point glass component, an organic binder, and an organic solvent are homogeneously kneaded is formed into a sheet with a predetermined thickness by a doctor blade method and cut into a predetermined size to form a sheet.

【0030】上述のセラミック材料とガラス材料との構
成比率は、例えば800〜1200℃の比較的低温で焼
成するために、セラミック材料が10〜98wt%、好
ましくは45〜95wt%であり、ガラス材料が2〜9
0wt%、好ましくは5〜55wt%である。
The composition ratio of the above-mentioned ceramic material and glass material is such that the ceramic material is 10 to 98 wt%, preferably 45 to 95 wt% for firing at a relatively low temperature of 800 to 1200 ° C., for example. Is 2-9
It is 0 wt%, preferably 5-55 wt%.

【0031】有機バインダーは、固形分(セラミック粉
末、低融点ガラス成分のフリット)との濡れ性も重視す
る必要があり、比較的低温で且つ短時間の焼成工程で焼
失できるように熱分解性に優れたものが好ましく、アク
リル酸もしくはメタクリル酸系重合体のようなカルボキ
シル基、アルコール性水酸基を備えたエチレン性不飽和
化合物が好ましい。
It is necessary to give importance to the wettability of the organic binder with the solid content (ceramic powder, frit of a low melting point glass component), and the organic binder is thermally decomposable so that it can be burned out at a relatively low temperature and in a short firing process. An excellent one is preferable, and an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group or an alcoholic hydroxyl group such as an acrylic acid or methacrylic acid polymer is preferable.

【0032】溶剤として、有機系溶剤、水系溶剤を用い
ることができる。例えば、有機溶剤の場合には、2,
2,4−トリメチル−1,3−ペンタジオールモノイソ
ベンチートなどが用いられ、水系溶剤の場合には、水溶
性である必要があり、モノマー及びバインダーには、親
水性の官能基、例えばカルボキシル基が付加されてい
る。
As the solvent, an organic solvent or an aqueous solvent can be used. For example, in the case of an organic solvent, 2,
For example, 2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobentate is used, and in the case of an aqueous solvent, it needs to be water-soluble, and a monomer and a binder have hydrophilic functional groups such as carboxyl. A group is added.

【0033】その付加量は酸価で表せば2〜300であ
り、好ましくは5〜100である。付加量が少ない場合
は水への溶解性、固定成分の粉末の分散性が悪くなり、
多い場合は熱分解性が悪くなるため、付加量は、水への
溶解性、分散性、熱分解性を考慮して、上述の範囲で適
宜付加される。
The amount of addition is 2 to 300, preferably 5 to 100 when expressed in terms of acid value. If the amount added is small, the solubility in water and the dispersibility of the powder of the fixed component will deteriorate,
When the amount is large, the thermal decomposability becomes poor. Therefore, the addition amount is appropriately added within the above range in consideration of solubility in water, dispersibility, and thermal decomposability.

【0034】次に、絶縁体層1a〜1dとなるグリーン
シートの各回路基板領域に、ビアホール導体3となる貫
通穴をパンチングによって形成する。同時に、該貫通穴
にビアホール導体3となる導体をAg系導電性ペースト
の印刷・充填によって形成するとともに、特に、絶縁体
層1b〜1dとなるグリーンシート上には、内部配線導
体2となる導体膜を、Ag系導電性ペーストの印刷・乾
燥によって形成する。また、絶縁体層1aとなるグリー
ンシート上には、表層配線導体4となる導体膜を、Ag
系導電性ペーストの印刷・乾燥によって形成する。
Next, a through hole to be the via-hole conductor 3 is formed by punching in each circuit board region of the green sheet to be the insulating layers 1a to 1d. At the same time, a conductor to be the via-hole conductor 3 is formed in the through hole by printing / filling Ag-based conductive paste, and in particular, a conductor to be the internal wiring conductor 2 is formed on the green sheet to be the insulating layers 1b to 1d. The film is formed by printing and drying Ag-based conductive paste. In addition, a conductor film to be the surface wiring conductor 4 is formed on the green sheet to be the insulator layer 1a by Ag.
It is formed by printing and drying a conductive paste.

【0035】ここで、ビアホール導体3、内部配線導体
2のAg系導電性ペーストは、Ag系(Ag単体、Ag
−PdなどのAg合金)粉末、ホウ珪酸系低融点ガラス
フリット、エチルセルロースなどの有機バインダー、溶
剤を均質混合したものが用いられる。
Here, the Ag-based conductive paste of the via-hole conductor 3 and the internal wiring conductor 2 is Ag-based (Ag simple substance, Ag
-Ag alloy such as -Pd) powder, borosilicate low-melting glass frit, organic binder such as ethyl cellulose, and a homogeneous mixture of solvents are used.

【0036】また、表層配線導体4のAg系導電性ペー
ストは、Ag系(Ag単体、Ag−PdなどのAg合
金)粉末、Pt粉末、低融点ガラスフリット、有機バイ
ンダー、溶剤を均質混合したものが用いられる。
The Ag-based conductive paste for the surface wiring conductor 4 is a homogeneous mixture of Ag-based (Ag simple substance, Ag alloy such as Ag-Pd) powder, Pt powder, low melting point glass frit, organic binder, and solvent. Is used.

【0037】次に、各回路基板領域にビアホール導体3
となる導体、内部配線導体2となる導体膜が形成された
絶縁体層1b〜1dとなるグリーンシート、表層配線導
体4となる導体膜が形成された絶縁体層1aとなるグリ
ーンシートを、積層順に応じて積層し所定圧力で圧着等
により一体化して大型回路基板を形成する。
Next, a via-hole conductor 3 is formed in each circuit board area.
A green sheet serving as an insulator layer 1b to 1d having a conductor film serving as an internal wiring conductor 2 and a green sheet serving as an insulator layer 1a having a conductor film serving as a surface wiring conductor 4 are laminated. A large-sized circuit board is formed by stacking layers in order and integrating them by pressure bonding or the like at a predetermined pressure.

【0038】次に、未焼成状態の大型回路基板を図2に
示す。各回路基板領域10'を区画するように分割溝8
を形成する。
Next, FIG. 2 shows a large-sized circuit board in an unfired state. Dividing groove 8 so as to partition each circuit board region 10 '
To form.

【0039】本発明の特徴的な傾斜面7は、この分割溝
8の形成工程で形成することが好適である。即ち、分割
溝8のV字状の傾斜面が回路基板10の傾斜面7とな
る。即ち、この分割溝8を形成する際、傾斜面が形成で
きるようなダイシングまたはカッター刃で切り込みを形
成する。
The characteristic inclined surface 7 of the present invention is preferably formed in the step of forming the dividing groove 8. That is, the V-shaped inclined surface of the dividing groove 8 becomes the inclined surface 7 of the circuit board 10. That is, when forming the dividing groove 8, a notch is formed by dicing or a cutter blade that can form an inclined surface.

【0040】図3は、分割溝8として傾斜面7が理解で
きるよう断面状態とした斜視図である。また、図4は、
図2に示す大型回路基板11を分割溝8に沿って分割し
やすいよう傾斜面7と積層体1の側面とが交差する部分
に、さらに別の傾斜面9を形成している。
FIG. 3 is a perspective view in a sectional state so that the inclined surface 7 can be understood as the dividing groove 8. In addition, FIG.
Another inclined surface 9 is formed at the intersection of the inclined surface 7 and the side surface of the laminated body 1 so that the large-sized circuit board 11 shown in FIG. 2 can be easily divided along the dividing groove 8.

【0041】次に、未焼成状態の大型回路基板を、酸化
性雰囲気または大気雰囲気で同時焼成処理する。なお、
この焼成工程は、脱バインダー過程と焼結過程からな
る。
Next, the unfired large circuit board is subjected to simultaneous firing treatment in an oxidizing atmosphere or an air atmosphere. In addition,
This firing process includes a binder removal process and a sintering process.

【0042】脱バインダー過程は、絶縁体層1a〜1d
となるグリーンシート、内部配線導体2となる導体膜、
ビアホール導体3となる導体、表層配線導体4となる導
体膜に含まれる有機成分を焼失させるためのものであ
り、例えば500〜600℃の温度領域で行われる。
In the binder removal process, the insulating layers 1a to 1d are used.
Green sheet, which will become the internal wiring conductor 2, conductor film,
This is for burning out the organic components contained in the conductor to be the via-hole conductor 3 and the conductor film to be the surface wiring conductor 4, and is performed in a temperature range of 500 to 600 ° C., for example.

【0043】また、焼結過程は、ガラス−セラミックの
グリーンシートのガラス成分を結晶化させると同時にセ
ラミック粉末の粒界に均一に分散させ、積層体に一定強
度を与え、内部配線導体2となる導体膜、ビアホール導
体3となる導体、表層配線導体4となる導体膜の導電材
料の金属粉末、Ag粉末を粒成長させ、低抵抗化させ
て、絶縁体層1a〜1dと一体化させるものである。こ
れは、ピーク温度800〜1200℃に達するまでに行
われる。
In the sintering process, the glass component of the glass-ceramic green sheet is crystallized and, at the same time, it is uniformly dispersed in the grain boundaries of the ceramic powder to give the laminated body a certain strength to form the internal wiring conductor 2. The conductor film, the conductor to be the via-hole conductor 3, and the metal powder and Ag powder of the conductive material of the conductor film to be the surface wiring conductor 4 are grain-grown to reduce the resistance and are integrated with the insulator layers 1a to 1d. is there. This is done until a peak temperature of 800-1200 ° C is reached.

【0044】これにより、各回路基板領域の内部に内部
配線導体2、ビアホール導体3が形成され、且つ表面に
表層配線導体4が形成された大型回路基板が達成される
ことになる。
As a result, a large-sized circuit board in which the internal wiring conductor 2 and the via-hole conductor 3 are formed inside each circuit board region and the surface wiring conductor 4 is formed on the surface is achieved.

【0045】次に、表層配線導体4に接続する各種電子
部品6を半田などで接合・実装を行う。
Next, various electronic components 6 connected to the surface wiring conductor 4 are joined and mounted by soldering or the like.

【0046】最後に、各回路基板を区画する分割溝8に
沿って分割処理を行う。これにより、大型回路基板11
からは、図1に示す複数の回路基板10が抽出されるこ
とになる。かくして、本発明の回路基板10によれば、
積層体1の少なくとも主面、例えば積層体1の表面と側
面と成す稜線部分に傾斜面7が形成されている。しか
も、傾斜面7と積層体1の側面(図3中の点線で示す)
との成す傾斜角θ1が100〜145°となっている。
即ち、積層体1の主面と傾斜面7とが成す角θ2は12
5〜160°となる。
Finally, a dividing process is performed along the dividing groove 8 that divides each circuit board. As a result, the large circuit board 11
From this, a plurality of circuit boards 10 shown in FIG. 1 will be extracted. Thus, according to the circuit board 10 of the present invention,
An inclined surface 7 is formed on at least a main surface of the laminated body 1, for example, a ridge portion formed by a surface and a side surface of the laminated body 1. Moreover, the inclined surface 7 and the side surface of the laminated body 1 (shown by the dotted line in FIG. 3)
The inclination angle θ1 formed by is 100 to 145 °.
That is, the angle θ2 formed by the main surface of the laminated body 1 and the inclined surface 7 is 12
It becomes 5 to 160 °.

【0047】これにより、この回路基板10をプリント
配線板に実装し、その後、プリント配線板にたわみ応力
が印加されても、回路基板10の積層体1の稜線部分に
クッラクなどが一切発生しない。これは、たわみ応力が
集中されやすい回路基板10の積層体1の稜線部分に傾
斜面7が形成され、しかも、その角度θ1、θ2が鈍角
となっており、この2つの角部分に分散されるためと考
えられる。その結果、基板の強度が比較的低いガラス−
セラミック材料からなる積層体1であっても、クラック
が発生しなくなる。
As a result, even if this circuit board 10 is mounted on a printed wiring board, and then flexural stress is applied to the printed wiring board, no cracking or the like occurs at the ridge portion of the laminated body 1 of the circuit board 10. This is because the inclined surface 7 is formed at the ridge portion of the laminated body 1 of the circuit board 10 on which the flexural stress is likely to be concentrated, and the angles θ1 and θ2 are obtuse angles, and the angles are distributed to these two corner portions. It is thought to be because. As a result, the glass having a relatively low substrate strength
Even in the laminated body 1 made of a ceramic material, cracks do not occur.

【0048】また、傾斜面7の角度θ1を適正に設定す
ることにより、上述のたわみ応力によるクラックを有効
に防止できるとともに、傾斜面7の角度θ1が小さくな
り、積層体1の主面と傾斜面7とが交差する領域が積層
体1の中央寄りに位置し過ぎて、ICチップ5や回路実
装部品6の搭載領域を狭めることを防止できる。
Further, by properly setting the angle θ1 of the inclined surface 7, it is possible to effectively prevent the crack due to the flexural stress described above, and the angle θ1 of the inclined surface 7 becomes small, so that the inclined surface 7 and the main surface of the laminated body 1 are inclined. It is possible to prevent the region where the surface 7 intersects from being located too close to the center of the laminated body 1 and narrowing the mounting region of the IC chip 5 and the circuit mounting component 6.

【0049】[0049]

【実施例】次に本発明について、実施例に基づき、説明
する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described based on examples.

【0050】本発明者は、上記製造方法により、回路基
板10を作製した。なお、焼成後のサイズとして、積層
体1は焼成後の厚みが150μmの絶縁体層を5層積層
して、全体として750μmである。また、回路基板の
サイズは15×8mm、大型回路基板のサイズは75×
64mmであり、内部配線導体2及び表層配線導体4の
厚みは20μmとなるようにし、ビアホール導体3につ
いては、基板内部に直径150μmの円柱状になるよう
に形成した。この時の導体についてはAg系導体を使用
した。そして、大型回路基板を形成した後、ダイシング
又はカッター刃によって、傾斜面7を切削又は押し込み
によって形成した。傾斜面7の角度(積層体1の側面と
成す角度)θ1を110〜145°(傾斜面がない場
合、傾斜角度θ1は180度とする。)で、深さ30〜
300μm切削するように溝を形成した。次に、未焼成
状態の大型回路基板を、ピーク温度900℃大気雰囲気
で同時焼成処理を行い、焼き上がった大型回路基板をダ
イシング又はカッター刃によって切り込みを入れた部分
で各回路基板に分割することによって、傾斜面7を形成
した。
The present inventor manufactured the circuit board 10 by the above manufacturing method. The size of the laminated body 1 after firing is 750 μm as a whole by laminating five insulating layers having a thickness of 150 μm after firing. The size of the circuit board is 15 x 8 mm, and the size of the large circuit board is 75 x
The inner wiring conductor 2 and the surface wiring conductor 4 had a thickness of 64 μm, and the via-hole conductor 3 was formed in a cylindrical shape having a diameter of 150 μm inside the substrate. As the conductor at this time, an Ag-based conductor was used. Then, after forming the large-sized circuit board, the inclined surface 7 was formed by cutting or pushing with a dicing or a cutter blade. The angle (angle formed with the side surface of the laminated body 1) θ1 of the inclined surface 7 is 110 to 145 ° (when there is no inclined surface, the inclination angle θ1 is 180 degrees) and the depth is 30 to.
Grooves were formed so as to be cut by 300 μm. Next, the large-sized circuit board in an unbaked state is subjected to simultaneous baking treatment in an air atmosphere at a peak temperature of 900 ° C., and the baked large-sized circuit board is divided into each circuit board at a portion cut by a dicing or cutter blade. To form the inclined surface 7.

【0051】本発明者は、上述の傾斜角θ1を180
°、150°、145°、135°、110°、100
°に設定し、回路基板10を100mm×40mm×
1.6mmのマザーボードの中央部に実装し、このマザ
ーボードにたわみを発生させた。そして、回路基板10
の積層体1の稜線部分にクラックが発生するマザーボー
ドの厚み方向のたわみ量(限界値)を測定した。
The present inventor has determined that the tilt angle θ1 is 180
°, 150 °, 145 °, 135 °, 110 °, 100
The circuit board 10 is set to 100 mm × 40 mm ×
It was mounted on the center of a 1.6 mm mother board, and this mother board was bent. And the circuit board 10
The amount of deflection (limit value) in the thickness direction of the mother board in which a crack was generated at the ridge portion of the laminated body 1 was measured.

【0052】また、回路基板10に実装できるICチッ
プ5、回路実装部品6の実装専有度合い調べた。その結
果を○、×で示した。尚、○は良好であり、×は不良で
あり、その不良の判断として、積層基板1の中央方向
に、傾斜面7の深さの3倍以上の回路実装部品6の搭載
不能領域が発生するものとした。その結果を表1に示
す。
Further, the degree of mounting exclusiveness of the IC chip 5 and the circuit mounting component 6 which can be mounted on the circuit board 10 was examined. The results are shown by ○ and ×. It should be noted that ◯ is good, and x is bad, and as a judgment of the failure, an unmountable region of the circuit mounting component 6 which is three times or more the depth of the inclined surface 7 occurs in the central direction of the laminated substrate 1. I decided. The results are shown in Table 1.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】表において、本実施例では、従来構造の回
路基板と比較して、たわみ強度が5%以上向上、その許
容たわみ量が2.0mmを越えるものとなり、しかも、
積層体1上にICチップ5、回路実装部品6を高密度に
実装することができる。
In the table, in the present embodiment, the flexural strength is improved by 5% or more and the allowable flexure exceeds 2.0 mm in comparison with the circuit board having the conventional structure.
The IC chip 5 and the circuit mounting components 6 can be mounted on the laminated body 1 at high density.

【0055】また、積層体1の側面と傾斜面7との成す
角θ1が小さくなる許容たわみ量は大きくなるものの、
積層体1の主面と傾斜面7との交差部分が積層体1の中
央よりに位置して、回路実装部品6の実装部分を圧迫し
てしまう。このため、積層体1の主面と傾斜面7との交
差部分が積層体1の中央よりに位置しなく、且つ許容た
わみ量を維持するために、図4に示すように、例えば、
積層体1の側面と傾斜面7との交差部分に、さらに第2
の傾斜面9を形成することが望ましい。この時、第2の
傾斜面9と積層体1の側面の成す角θ3は、160〜1
75°の範囲に設定する。これにより、積層体1の側面
と第2の傾斜面9との交差部分が、積層体1の主面から
離れる方向となる。即ち、分割溝8の深さが深くなるこ
とを意味する。このように分割溝8が深くなると、図2
に示す大型回路基板11の状態で、正規の分割処理工程
前に分割溝8で不意な分割が発生してしまい、製造工程
の生産効率を低下させることが考えられる。このため、
積層体1の主面から、積層体1の側面と第2の傾斜面9
との交差部分までの距離を、積層体1の厚みに対して3
0%未満とすることが重要である。尚、図1のように、積
層体1の両主面側から傾斜面7及び第2の傾斜面を形成
した場合場合には、夫々の分割溝8の最深位置までの距
離は、各々30%として、積層体1の厚みの少なくとも
40%以上は隣接する回路部品領域10'の連結部として
残存させることが重要である。
Further, although the angle θ1 formed by the side surface of the laminated body 1 and the inclined surface 7 becomes small, the allowable deflection amount becomes large, but
The intersection of the main surface of the laminated body 1 and the inclined surface 7 is located closer to the center of the laminated body 1 and presses the mounting portion of the circuit mounting component 6. Therefore, the intersection of the main surface of the laminated body 1 and the inclined surface 7 is not located closer to the center of the laminated body 1, and in order to maintain the allowable deflection amount, as shown in FIG.
At the intersection of the side surface of the laminate 1 and the inclined surface 7, a second
It is desirable to form the inclined surface 9 of. At this time, the angle θ3 formed by the second inclined surface 9 and the side surface of the laminated body 1 is 160 to 1
Set in the range of 75 °. As a result, the intersection of the side surface of the laminated body 1 and the second inclined surface 9 becomes a direction away from the main surface of the laminated body 1. That is, it means that the depth of the dividing groove 8 becomes deep. When the dividing groove 8 becomes deeper in this way, as shown in FIG.
It is conceivable that, in the state of the large-sized circuit board 11 shown in FIG. 2, abrupt division occurs in the division groove 8 before the regular division processing step, which lowers the production efficiency of the manufacturing process. For this reason,
From the main surface of the laminated body 1, the side surface of the laminated body 1 and the second inclined surface 9
The distance to the intersection with is 3 with respect to the thickness of the laminate 1.
It is important to make it less than 0%. As shown in FIG. 1, when the inclined surface 7 and the second inclined surface are formed from both main surface sides of the laminated body 1, the distance to the deepest position of each dividing groove 8 is 30%. It is important that at least 40% or more of the thickness of the laminated body 1 is left as the connecting portion of the adjacent circuit component region 10 '.

【0056】尚、上述の実施例では、積層体1の主面、
例えば表面の稜線部分のみに傾斜面を形成して測定を行
ったが、図1に示すように、表面及び底面の両主面の稜
線部分に傾斜面を形成しても構わない。
In the above embodiment, the main surface of the laminated body 1
For example, the measurement was performed by forming the inclined surface only on the ridgeline portion of the surface, but as shown in FIG. 1, the inclined surface may be formed on the ridgeline portions of both main surfaces of the surface and the bottom surface.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上のように、セラミック回路基板の表
面及び裏面の少なくとも1面と端面との交差部分に傾斜
面を形成することによって、プリント配線板に半田接合
されたのち、プリント配線板にたわみ応力が発生して
も、稜線部分に大きな応力が集中して加わることがな
く、回路基板の強度を向上することができる。また、回
路基板上に実装される回路実装部品等の実装領域を圧迫
することがなく、高い密度度実装可能な回路基板とな
る。
As described above, the inclined surface is formed at the intersection of at least one of the front surface and the back surface of the ceramic circuit board and the end surface of the ceramic circuit board. Even if flexural stress is generated, a large stress is not concentrated and applied to the ridge portion, and the strength of the circuit board can be improved. In addition, the circuit board can be mounted with high density without pressing the mounting area of the circuit mounting components mounted on the circuit board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る回路基板の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a circuit board according to the present invention.

【図2】本発明に係る回路基板を得るため大型回路基板
の斜面図である。
FIG. 2 is a perspective view of a large circuit board for obtaining the circuit board according to the present invention.

【図3】本発明に係る回路基板の部分断面を示す斜面図
である。
FIG. 3 is a perspective view showing a partial cross section of a circuit board according to the present invention.

【図4】本発明に係る第3の実施例の部分断面を示す斜
面図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a partial cross section of a third embodiment according to the present invention.

【図5】従来の回路基板におけるたわみ応力によるクラ
ックの発生状況を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a crack generation situation due to a flexural stress in a conventional circuit board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 回路基板 1 積層基板 1a〜1d 絶縁体層 2 内部配線導体 3 ビアホール導体 4 表層配線導体 5 ICチップ 6 電子部品 7 傾斜面 8 分割溝 9 第2の傾斜面 10 circuit board 1 Laminated board 1a-1d insulator layer 2 Internal wiring conductor 3 Via hole conductor 4 Surface wiring conductor 5 IC chip 6 electronic components 7 slope 8 split grooves 9 Second slope

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミック材料からなる絶縁層を複数積
層した積層体と、該積層体の絶縁層間に配された内部配
線導体と、前記積層体の主面に配された表層配線導体
と、前記表層配線導体に配置した回路実装部品とから成
る回路基板において、 前記積層体の少なくとも一主面の稜線部分には、側面と
の成す角度が110〜145°に傾斜した傾斜面が形成
されていることを特徴とする回路基板。
1. A laminated body in which a plurality of insulating layers made of a ceramic material are laminated, an internal wiring conductor arranged between insulating layers of the laminated body, a surface wiring conductor arranged on a main surface of the laminated body, In a circuit board including a circuit mounting component arranged on a surface wiring conductor, an inclined surface whose angle formed by the side surface is inclined at 110 to 145 ° is formed at a ridge portion of at least one main surface of the laminate. A circuit board characterized by the above.
【請求項2】 前記セラミック材料が800〜1200
℃で焼成可能なガラス−セラミック材料であることを特
徴とする請求項1記載の回路基板。
2. The ceramic material is 800-1200.
The circuit board according to claim 1, which is a glass-ceramic material that can be fired at a temperature of ℃.
【請求項3】 前記積層体の傾斜面と側面との交差部分
に、さらに該側面との成す角度が160〜175°に傾
斜した第2の傾斜面が形成されていることを特徴とする
請求項1記載の回路基板。
3. A second sloped surface is formed at the intersection of the sloped surface and the side surface of the laminated body, the second sloped surface further forming an angle of 160 to 175 ° with the side surface. The circuit board according to item 1.
【請求項4】 前記積層体の表面から、前記第2の傾斜
面と積層体の側面との稜線部分までの距離が、積層体の
厚みの30%以下であることを特徴とする請求項3記載
の回路基板。
4. The distance from the surface of the laminated body to the ridge portion between the second inclined surface and the side surface of the laminated body is 30% or less of the thickness of the laminated body. The described circuit board.
JP2001230880A 2001-07-31 2001-07-31 Circuit board Pending JP2003046241A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001230880A JP2003046241A (en) 2001-07-31 2001-07-31 Circuit board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001230880A JP2003046241A (en) 2001-07-31 2001-07-31 Circuit board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003046241A true JP2003046241A (en) 2003-02-14

Family

ID=19063012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001230880A Pending JP2003046241A (en) 2001-07-31 2001-07-31 Circuit board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003046241A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010056204A (en) * 2008-08-27 2010-03-11 Kyocera Corp Multiple patterning wiring substrate, wiring substrate, and electronic device
JP2012119533A (en) * 2010-12-01 2012-06-21 Murata Mfg Co Ltd Ceramic multilayer substrate
JP2015191909A (en) * 2014-03-27 2015-11-02 京セラ株式会社 Multi-piece ceramic substrate and ceramic substrates

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010056204A (en) * 2008-08-27 2010-03-11 Kyocera Corp Multiple patterning wiring substrate, wiring substrate, and electronic device
JP2012119533A (en) * 2010-12-01 2012-06-21 Murata Mfg Co Ltd Ceramic multilayer substrate
JP2015191909A (en) * 2014-03-27 2015-11-02 京セラ株式会社 Multi-piece ceramic substrate and ceramic substrates

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002198660A (en) Circuit board and method of manufacturing the same
JP2003100548A (en) Laminated chip electronic component and its manufacturing method
JP2008251782A (en) Ceramic wiring board and its manufacturing method
JP2003046241A (en) Circuit board
JPH10107437A (en) Manufacturing method of circuit board
JP4493140B2 (en) Multilayer circuit board
JP4428853B2 (en) Large circuit board
JPH10275979A (en) Ceramic board and divided circuit board
JP2001284819A (en) Laminated circuit board
JP2004259995A (en) Circuit board mounted with electronic component and manufacturing method thereof
JP3493294B2 (en) Circuit board
JP2002076609A (en) Circuit board
JP3495203B2 (en) Circuit board manufacturing method
JP2002141646A (en) Circuit board
JPH1154886A (en) High sectional density printed circuit board and its manufacture
JP4593817B2 (en) Low temperature fired ceramic circuit board
JP2000165043A (en) Circuit board
JP2002198626A (en) Manufacturing method of low temperature baking ceramic circuit board
JP3752453B2 (en) Low-temperature fired multilayer wiring board and manufacturing method thereof
JP3638466B2 (en) High frequency electronic components
JP2002076554A (en) Circuit board for high frequency
JP2002076640A (en) Circuit board
JP3493264B2 (en) Circuit board
JPH09270579A (en) Low-temperature sintered circuit board
JP2002050842A (en) Circuit board