JP2003043276A - 3次元フォトニック結晶導波路装置 - Google Patents

3次元フォトニック結晶導波路装置

Info

Publication number
JP2003043276A
JP2003043276A JP2002179460A JP2002179460A JP2003043276A JP 2003043276 A JP2003043276 A JP 2003043276A JP 2002179460 A JP2002179460 A JP 2002179460A JP 2002179460 A JP2002179460 A JP 2002179460A JP 2003043276 A JP2003043276 A JP 2003043276A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photonic crystal
dimensional photonic
waveguide
layers
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002179460A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003043276A5 (ja
Inventor
Mihail Sigalas
ミハイル・シガラス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agilent Technologies Inc
Original Assignee
Agilent Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agilent Technologies Inc filed Critical Agilent Technologies Inc
Publication of JP2003043276A publication Critical patent/JP2003043276A/ja
Publication of JP2003043276A5 publication Critical patent/JP2003043276A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1225Basic optical elements, e.g. light-guiding paths comprising photonic band-gap structures or photonic lattices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】3次元以上において光信号を方向付けて制御す
るための装置の提供。 【解決手段】3次元フォトニック結晶導波路装置(10,30)は3次
元フォトニック結晶を有し、3次元フォトニック結晶は、互いに上に
配置された複数の層(12-1〜12-12)を有し、複数の層の
各々は、互いに平行で互いから間隔をおいて配置された
複数の要素(14,16)を有する。各層(12-1〜12-12)の複数
の要素(14,16)は、隣接する層(12-1〜12-12)の複数の要
素(14,16)に対してゼロ度以外の角度で配置される。3次
元フォトニック結晶は内部に導波路(31)も有し、導波路は、複
数の層(12-1〜12-12)のうちの1つ(12-11)における要素
のセク゛メント(14-2)において光入力(34)を有する欠陥の第1
の領域と、複数の層の隣接する層(12-10)における要素
の少なくとも1つのセク゛メント(16-2)において2つの光出力
(36,38)を有する欠陥の第2の領域を含み、欠陥の第1と
第2の領域が、交差して光スフ゜リッタを提供する。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、概してフォトニッ
ク結晶の分野に関し、より詳細には、3次元フォトニッ
ク結晶導波路装置に関する。 【0002】 【従来の技術】フォトニック結晶は、所定の周波数範囲
における光の伝搬を禁止することができる周期的な誘電
体構造である(J.D.Joannopoulos、R.D.Meade、及びJ.
N.Winn著、Photonic Crystals、Princeton University
Press、Princeton、N.J.1995参照)。特にフォトニック
結晶は、屈折率の空間的に周期的な変化を有し、十分に
高い屈折率のコントラストによって、フォトニックバン
ドギャップは、構造の光スペクトルにおいて開くことが
できる。本明細書において使用する場合及び当該技術に
おいて使用する場合、用語「フォトニックバンドギャッ
プ」は、フォトニック結晶を通る光の伝搬が阻止される
周波数の範囲である。さらに、本明細書において使用す
る場合、用語「光」は、電磁スペクトル全体の放射を含
むことが意図され、可視光に限定されない。 【0003】フォトニック結晶の周期的な構造に欠陥を
導入することにより、欠陥の場所においてトラップさ
れ、かつ周囲のフォトニック結晶材料のバンドギャップ
内に共振周波数を有する局所的な電磁状態の存在が可能
になることが、知られている。フォトニック結晶を通っ
て延びる欠陥の領域を設けることによって、導波路構造
を作成することができ、光を制御して案内するために使
用することができる。 【0004】2次元のフォトニック結晶平板導波路装置
は、平板本体(slab body)内に組み込まれ、かつ上側
及び下側のクラッド層を有するポストのアレイの形態で
2次元の周期的な格子からなる。例えば、ポストは、誘
電体材料の平板本体における穴からなることができ、又
はポストは、誘電体の棒からなることができ、平板本体
は、空気、他のガス又は真空とすることができる。さら
にポストは、第1の屈折率を有する誘電体材料の棒から
なることができ、平板本体は、第1の屈折率とは異なっ
た第2の屈折率を有する誘電体材料からなることができ
る。2次元フォトニック結晶平板導波路装置の1つの例
は、誘電体平板本体に配置され、その平板本体を通って
延びた空気穴の形のポストの周期的な配列を有するフォ
トニック結晶、及びいくつかの空気穴を省略することに
よって形成されるフォトニック結晶における欠陥の領域
からなる導波路からなる(M.Loncar他著、Appl.Phys.Le
tt.、77、1937、2000参照)。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】2次元フォトニック結
晶平板導波路装置において、平板内に伝搬する光は、内
部全反射を介して平板の主面に対して垂直な方向に閉じ
込められる。別の方向における光の伝搬は、フォトニッ
ク結晶平板の特性によって制御される。2次元フォトニ
ック結晶平板導波路装置は、装置の平面内において(す
なわち、フォトニック結晶平板の主面に対して平行な面
において)光を案内することができるが、3次元に延び
る経路内に光を案内することはできない。換言すれば、
2次元において光信号を案内するための平らな導波路装
置は既知である。光データ操作のいくつかの用途におい
て、3次元で導波光信号を動かすことが望ましい。した
がって、3次元以上において光信号を方向付けて制御す
るための装置が必要とされている。 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明は、3次元フォト
ニック結晶を有する3次元フォトニック結晶導波路装置
を提供する。3次元フォトニック結晶は、互いに上に配
置された複数の層からなり、複数の層のそれぞれは、互
いに平行であり、かつ互いから間隔をおいて配置された
複数の要素を含む。それぞれの層における複数の要素
は、隣接する層における複数の要素に対してゼロ度より
大きな角度で配置されている。3次元フォトニック結晶
は、さらに3次元フォトニック結晶のバンドギャップ内
の周波数を有する光を伝えることができる光導波路を内
部に有し、導波路は、複数の層のうちの1つにおいて要
素のセグメントにおける欠陥の第1の領域を含み、欠陥
の第1の領域は光入力を有する。導波路は、複数の層の
隣接する層において要素の少なくとも1つのセグメント
における欠陥の第2の領域を含み、欠陥の第2の領域
は、2つの光出力を有し、欠陥の第1の領域及び欠陥の
第2の領域は、一つの層から隣接する層に延びる光スプ
リッタを提供するために交差している。 【0007】本発明の実施形態によれば、欠陥の第1の
領域は、1つの層における要素のセグメントを省略する
ことにより作成され、欠陥の第2の領域は、隣接する層
における要素の少なくともセグメントを省略することに
より作成される。選択された複数の層における要素及び
/又は要素のセグメントを省略することによって、光ス
プリッタを組み込み、かつ複数の層のいずれか1つから
複数の層のいずれか別のものへ延びる導波路を構成する
ことができる。 【0008】本発明の別の実施形態によれば、光入力
は、3次元フォトニック結晶における光入力ポートを含
み、欠陥の第2の領域は、隣接する層における要素全体
を省略することにより作成され、2つの光出力は、3次
元フォトニック結晶における2つの光出力ポートを含
み、1つの層における入力ポート及び隣接する層におけ
る2つの出力ポートを有する光スプリッタが提供され
る。 【0009】本発明のさらに別の実施形態によれば、そ
れぞれの層における複数の要素は、複数の誘電体の棒を
含み、1つの層における複数の棒は、隣接する層におけ
る複数の棒に対して垂直に配列されており、さらに1つ
の層おきに配置される複数の棒は、互いに対して横方向
に変位されている。 【0010】本発明の実施形態による3次元フォトニッ
ク結晶導波路装置は、完全に3次元のフォトニックバン
ドギャップを提供する。したがって、光を閉じ込めるた
めに内部全反射は必要ない。代わりに、高屈折率の媒体
(すなわち要素)の内部損失及び分散の効果がそれほど
重要でないように、光は、フォトニック結晶の低い誘電
体の領域に(例えば空気中に)閉じ込められる。 【0011】一般に本発明の3次元フォトニック結晶導
波路装置において、1つ以上のスプリッタを有し、かつ
追加的に1つ以上の湾曲部を含むことができる導波路
は、実質的にゼロ損失で、実質的に任意の所望の経路に
沿って装置を通って光を案内するように構成され得る。
本発明による装置の場合、導波路は、密に集積化された
コンパクトな光集積回路又は光電子集積回路における種
々の装置に接続するように構成され得る。 【0012】本発明のさらに別の利点、特定の詳細及び
他の実施形態は、本発明の例示的な実施形態に関する以
下の詳細な説明と共に明らかになるであろう。 【0013】 【発明の実施の形態】3次元フォトニック結晶導波路装
置は、当該技術分野において既知である。特に、図1
は、既知の3次元フォトニック結晶装置(K.M.Ho他著、
Solid State Commun.、89、413、1994、及び米国特許第
5,335,240号及び同第5,406,573号参
照)の概略的な斜視図を示しており、この装置は、内部
に光導波路を含むことができ、本発明の説明に役立つよ
うに本明細書に記載されている。装置は、全体的に参照
符号10によって示されており、他方の上部に一方を配
置した複数の層からなる3次元フォトニック結晶からな
る。図1において、3次元フォトニック結晶装置10
は、12個の層12−1〜12−12からなるが、装置
は、任意の所望の複数の層からなることができる。 【0014】それぞれの層12−1〜12−12は、互
いに並行で互いから等しい間隔を置いて配置された複数
の要素からなる。さらに、それぞれの層における複数の
要素は、隣接する層における要素に対して垂直に配置さ
れている。 【0015】図1において、要素は棒からなり、層12
−1、12−3、12−5、12−7、12−9及び1
2−11はそれぞれ、装置のy軸に対して平行な方向に
配置された複数の棒14からなり(図1に示すよう
に)、及び層12−2、12−4、12−6、12−
8、12−10及び12−12はそれぞれ、装置のx軸
に対して平行な方向に配置された複数の棒16からな
る。さらに、図1に示すように、他のすべての層におい
て、棒は、層における棒の間隔の半分に等しい量だけ互
いに対して横方向に変位している。特に図1において、
層12−3、12−7及び12−11の棒は、x軸に沿
って互いに対して整列しているが、層12−1、12−
5及び12−9における複数の棒からx軸に沿って横方
向に変位している。また、層12−2、12−6及び1
2−10の棒も、y軸に沿って互いに対して整列してい
るが、層12−4、12−8及び12−12における複
数の棒からy軸に沿って横方向に変位している。 【0016】図1の3次元フォトニック結晶装置は、ユ
ニットセルの3次元アレイを内部に有するフォトニック
結晶からなるものとして説明されることができ、この場
合「ユニットセル」は、層における棒の間隔に等しいx
及びy方向の寸法、すなわち図1の寸法41及び42、
および4つの層の厚さに等しいz方向の寸法、すなわち
図1の寸法44を有するセルとして定義される。 【0017】図1に示された3次元フォトニック結晶に
おいて、棒14及び16は、低い誘電率を有する材料、
例えば空気によって囲まれた高い誘電率を有する材料、
例えばシリコンからなる誘電体の棒からなる。 【0018】図1の3次元フォトニック結晶装置は、3
つの次元に空間的な周期性を有し、完全に3次元のフォ
トニックバンドギャップを提供する。フォトニック結晶
に欠陥の領域を導入することによって、フォトニック結
晶のバンドギャップ内の周波数を有する光が伝搬できる
光導波路を形成することができる。欠陥の領域は、3つ
の次元において光を案内することができるフォトニック
結晶導波路装置を提供するために、フォトニック結晶の
x、y及びz方向のそれぞれに3次元フォトニック結晶
を通って延びるように配置され得る。 【0019】図2は、図1の3次元フォトニック結晶装
置の第10及び第11の層の、xy平面における投影図
であり、90度の角度に曲げられた内部の光導波路を示
す(M.M.Sigalas他著、Waveguide Bands in Three-Dime
nsional Layer-by-Layer Photonic Bandgap Material
s、Microwave Opt.Technol.Lett.、23、56、1999参
照)。図2の装置は、全体的に参照符号20によって示
されており、90度の角度に曲げられ、装置の3次元フ
ォトニック結晶のバンドギャップにおける周波数を有す
る光を透過することができる導波路21を内部に含む。
導波路21は、フォトニック結晶の第10の層、すなわ
ち層12−10から棒のセグメント16−1及び第11
の層、すなわち層12−11から棒のセグメント14−
1を省略することによって作成された3次元フォトニッ
ク結晶における欠陥の領域からなり、2つの棒の省略さ
れたセグメントは、位置22において層12−10と1
2−11との間に延びる導波路を画定するために、位置
22において交差するようになっている。図2に示すよ
うに、導波路21は、位置22における90度の湾曲
部、層12−10における第1のポート24及び層12
−11における第2のポート26も有する。ポート24
が入力ポートからなり、ポート26が出力ポートからな
る場合、ポート24において導波路に入射する光は、9
0度にわたって曲がった後、そして1つの層の厚さだけ
層12−10から層12−11に正のz方向に案内され
た後に、ポート26において導波路から出射する。代案
として、ポート26が入力ポートであり、ポート24が
出力ポートである場合、入力ポート26において導波路
21に入射する光は、位置22において90度だけ曲げ
られ、かつ層12−11から層12−10に負のz方向
に案内される。 【0020】図3は、本発明の実施形態による3次元フ
ォトニック結晶導波路装置30の第10及び第11の層
の、xy平面における投影図である。装置30は、図1
の3次元フォトニック結晶装置10と同様とすることが
でき、導波路31を画定するために欠陥の領域を内部に
含む。より詳細には、導波路31は、第10の層(すな
わち層12−10)における1つの完全な棒16−2を
省略することによって形成された欠陥の第1の領域、及
び第11の層(すなわち層12−11)における1つの
棒のセグメント14−2を省略することによって形成さ
れた欠陥の第2の領域を含み、第1及び第2の欠陥領域
は、位置32において交差するようになっている。しか
しながら、欠陥の第1及び第2の領域が、別の態様で、
例えば要素のサイズを変えることにより、又はそれぞれ
の層において2つ以上の要素におけるセグメントを省略
することにより作成され得ることは理解されるべきであ
り、欠陥領域を形成する任意の特定の態様に本発明を限
定することは意図されていない。 【0021】図3に示した実施形態において、導波路3
1は、1つの入力ポート34及び2つの出力ポート36
及び38を有する。入力ポート34において導波路に入
射する光は、位置32において分割され、その分割され
た光は、ポート36及び38において導波路から出射す
る。さらに、光は、層12−11から層12−10に負
のz方向に案内され、したがって1つの層の厚さだけ負
のz方向にオフセットされる。 【0022】本発明の3次元フォトニック結晶導波路装
置の有効性を立証するために、電磁界が、時間領域差分
法(FDTD)を用いて計算された(A.Taflove著、Fin
iteDifference Time Domain Method参照)。計算された
システムにおいて、3次元フォトニック結晶導波路装置
は、図3に示すように構成された。構成された装置は、
x、y及びz方向に沿って9×9×5のユニットセルか
らなるフォトニック結晶からなっていた。それぞれのユ
ニットセルは、x及びy方向において層における棒の間
隔に等しい寸法、すなわち図1及び図3の寸法41及び
42を有し、z方向において4つの層の厚さに等しい寸
法、すなわち図1の寸法44を有した。したがって、構
成された装置は、10個の棒からなるそれぞれの層を有
する20個の層からなっていた。計算されたシステムに
おいても、棒は、12.96の誘電率を有した。それぞ
れの層内における棒の間の離隔距離(すなわち、それぞ
れのセルの寸法41及び42)は、2.5mmであっ
た。棒は、0.666mmの幅(図3に矢印46によっ
て示す)を有する正方形の断面を有した。z方向におけ
るそれぞれのセルの寸法は、したがって4×0.66
6、すなわち2.664mmであった。 【0023】1つの入力ポート34及び2つの出力ポー
ト36と38を有する図3に示すようなスプリッタを提
供するために、第10の層から1つの棒を省略し、隣接
する第11の層から棒のセグメントを省略することによ
って、計算された装置の3次元フォトニック結晶内に導
波路が作成された。ダイポール48は、図3に示すよう
に、入力ポート34に配置され、計算されたシステムに
おいて、46GHzの単一周波数の連続した励起を生じ
させたが、これが単なる例示的な周波数であることは理
解されるべきである。 【0024】図4は、計算されたシステムにおいて、そ
れぞれポート34、36及び38の方向に2つの層12
−10及び12−11において(x又はyの方向に)省
略された部分の交差点32から離れた2つのユニットセ
ルの位置において、例えば図3の位置33において、種
々の時間ステップにおけるポインティングベクトル5
1、52及び53を示す。図示したように、ポート3
4、36及び38におけるポインティングベクトルの最
大値は、それぞれ3.2、1.47及び1.89であっ
た(ポート36における負の値は、伝搬方向に関連す
る)。フォトニック結晶の有限サイズに起因して、導波
路内に定在波を生じさせる導波路の端部からの反射が存
在する。また、ポート36及び38において出る導波路
部分の長さが等しくなかったので、電力の分配も等しく
なかった。計算から、入力電力の45%および55%
が、それぞれポート36及び38に達したことが明らか
である。 【0025】図5及び図6は、計算されたシステムにお
いて、それぞれ層12−10及び12−11の中間にお
ける電磁界の分布を示す。図5及び図6に示すように、
電磁界は、これらが省略した棒セグメントの位置に主と
して集中するように、省略した誘電体の棒部分の回りに
集中していた。したがって、材料内部損失及び非直線性
に関するあらゆる問題が除去された。 【0026】図3に示した3次元フォトニック結晶導波
路装置は、光導波路を構成することができる多数の態様
のうちの1つだけの例である。代替の実施形態におい
て、導波路は、1つ以上のスプリッタを含むように構成
されることができ、装置の3次元フォトニック結晶内に
任意の所望の態様で配置される90度の湾曲部のような
1つ以上の湾曲部を追加的に含むことができる。例示的
な導波路は、所望とされる多くの層を介してフォトニッ
ク結晶のいずれか1つの層からフォトニック結晶のいず
れか別の層に、装置の正又は負のz方向に光を伝搬する
ように構成されることもできる。さらに、光は、実質的
にゼロ損失で、任意の所望の経路に沿って装置内で伝搬
することができる。 【0027】本発明による3次元フォトニック結晶導波
路装置は、集積回路における種々の装置を接続するため
に使用することができる。導波路における何らかのスプ
リッタ及び湾曲部は、光の波長のオーダのものであり、
集積回路は、密に集積化されて極めてコンパクトにする
ことができ、したがって、装置は、極めて小さな光集積
回路又は光電子集積回路の設計に特に有用である。 【0028】本発明による3次元フォトニック結晶導波
路装置は、完全に3次元のバンドギャップを提供するこ
ともでき、したがって光を閉じこめるために内部全反射
は必要ない。光は、低い誘電体の領域(例えば空気)内
に閉じこめられ、その結果、高い屈折率の媒体(棒)の
内部損失、及び分散の効果は、それほど重要ではなくな
る。 【0029】本明細書において説明してきたことは、本
発明の例示的な実施形態を含んでいるが、本発明が、実
施形態から逸脱することなく、多数の態様で変形され得
ることを認識するべきである。例えば、1つの導波路を
有するフォトニック結晶導波路装置を説明してきたが、
装置は、種々の経路に沿って装置を通って伝搬する光の
ための2つ以上の導波路を有することができる。本発明
は、多数の態様で変形され得るので、本発明が、特許請
求の範囲によって要求されるかぎりにおいてのみ限定さ
れるべきであることは理解されたい。 【0030】以下においては、本発明の種々の構成要件
の組み合わせからなる例示的な実施形態を示す。 1.3次元フォトニック結晶導波路装置(10、30)であ
って、互いに上に配置された複数の層(12-1〜12-12)
からなる3次元フォトニック結晶であって、前記複数の
層(12-1〜12-12)のそれぞれが、互いに平行で互いか
ら間隔をおいて配置された複数の要素(14、16)を含
み、それぞれの層(12-1〜12-12)における前記複数の
要素(14、16)が、隣接する層(12-1〜12-12)におけ
る前記複数の要素(14、16)に対してゼロより大きな角
度で配置された、3次元フォトニック結晶と、及び前記
3次元フォトニック結晶のバンドギャップ内の周波数を
有する光を伝えることができる、前記3次元フォトニッ
ク結晶の導波路(31)であって、その導波路(31)が、
前記複数の層(12-1〜12-12)のうちの1つ(12-11)に
おける要素のセグメント(14-2)において光入力(34)
を有する欠陥の第1の領域と、前記複数の層(12-1〜12
-12)の隣接する層(12-10)における要素の少なくとも
1つのセグメント(16-2)において2つの光出力(36、
38)を有する欠陥の第2の領域とを含み、前記欠陥の第
1の領域及び前記欠陥の第2の領域が、前記1つの層
(12-11)から前記隣接する層(12-10)に延びる光スプ
リッタを提供するために交差している、導波路(31)と
からなる、3次元フォトニック結晶導波路装置(10、3
0)。 2.前記欠陥の第1の領域の前記光入力(34)が、前記
3次元フォトニック結晶において光入力ポート(34)を
含む、上記1に記載の3次元フォトニック結晶導波路装
置(10、30)。 3.前記欠陥の第2の領域が、前記隣接する層(12-1
0)における要素全体(16-2)にあり、前記2つの光出
力(36、38)が、前記3次元フォトニック結晶における
2つの光出力ポート(36、38)を含む、上記2に記載の
3次元フォトニック結晶導波路装置(10、30)。 4.前記欠陥の第1の領域が、前記1つの層(12-11)
において要素のセグメント(14-2)を省略することによ
り作成され、前記欠陥の第2の領域が、前記隣接する層
(12-10)において要素の少なくともセグメント(16-
2)を省略することにより作成される、上記1に記載の
3次元フォトニック結晶導波路装置(10、30)。 5.前記欠陥の第2の領域が、前記隣接する層(12-1
0)における要素全体(16-2)を省略することにより作
成される、上記4に記載の3次元フォトニック結晶導波
路装置(10、30)。 6.前記複数の層(12-1〜12-12)のそれぞれにおける
前記複数の要素(14、16)が、誘電体の棒(14、16)か
らなる、上記1に記載の3次元フォトニック結晶導波路
装置(10、30)。 7.それぞれの層(12-1〜12-12)における前記複数の
要素(14、16)が、隣接する層(12-1〜12-12)におけ
る前記複数の要素(14、16)に対して垂直に配置されて
おり、前記複数の層(12-1〜12-12)の1つの層(12-1
〜12-12)おきの前記複数の要素(14、16)が、互いに
対して横方向に変位されている、上記1に記載の3次元
フォトニック結晶導波路装置(10、30)。 8.前記導波路(31)が、内部に少なくとも1つの湾曲
部をさらに含む、上記1に記載の3次元フォトニック結
晶導波路装置(10、30)。 9.前記少なくとも1つの湾曲部が、少なくとも1つの
90°の湾曲部からなる、上記8に記載の3次元フォト
ニック結晶導波路装置(10、30)。 10.前記導波路(31)が、前記複数の層(12-1〜12-1
2)のいずれか1つの層(12-1〜12-12)から、前記複数
の層(12-1〜12-12)のいずれか別の層(12-1〜12-12)
に延びている、上記1に記載の3次元フォトニック結晶
導波路装置(10、30)。 【0031】 【発明の効果】本発明による3次元フォトニック結晶導
波路装置は、集積回路における種々の装置を接続するた
めに使用することができる。導波路における何らかのス
プリッタ及び湾曲部は、光の波長のオーダのものであ
り、集積回路は、密に集積化されて極めてコンパクトに
することができ、したがって、装置は、極めて小さな光
集積回路又は光電子集積回路の設計に特に有用である。
また、本発明による3次元フォトニック結晶導波路装置
は、完全に3次元のバンドギャップを提供することがで
き、したがって光を閉じこめるために内部全反射が必要
ない。光は、低い誘電体の領域(例えば空気)内に閉じ
こめられ、その結果、高い屈折率の媒体(棒)の内部損
失、及び分散の効果は、それほど重要ではなくなる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の説明に役立つ従来技術において既知の
3次元フォトニック結晶装置を示す斜視図である。 【図2】従来技術において知られている3次元フォトニ
ック結晶導波路装置の第10及び第11の層を示すxy
平面における投影図である。 【図3】本発明の実施形態による3次元フォトニック結
晶導波路装置の第10及び第11の層を示すxy平面に
おける投影図である。 【図4】光導波路装置のポートの方向において図3の光
導波路装置の第10及び第11の層における要素の省略
された部分の交差点から離れた2つのユニットセルのポ
インティングベクトルを示す図である。 【図5】図3の光導波路装置における第10及び第11
の層の中間における電磁界の分布を示す図である。 【図6】図3の光導波路装置における第10及び第11
の層の中間における電磁界の分布を示す図である。 【符号の説明】 10、30 3次元フォトニック結晶導波路装置、 12-1〜12-12 層 14、16 要素、 21、31 導波路、 34 光入力、 36、38 光出力、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミハイル・シガラス アメリカ合衆国カリフォルニア州95051, サンタクララ,サウス・ドライブ・2411 Fターム(参考) 2H047 KA03 KA12 LA12 QA02 TA01 TA05

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】3次元フォトニック結晶導波路装置(10、
    30)であって、 互いに上に配置された複数の層(12-1〜12-12)からな
    る3次元フォトニック結晶であって、前記複数の層(12
    -1〜12-12)のそれぞれが、互いに平行で互いから間隔
    をおいて配置された複数の要素(14、16)を含み、それ
    ぞれの層(12-1〜12-12)における前記複数の要素(1
    4、16)が、隣接する層(12-1〜12-12)における前記複
    数の要素(14、16)に対してゼロより大きな角度で配置
    された、3次元フォトニック結晶と、及び前記3次元フ
    ォトニック結晶のバンドギャップ内の周波数を有する光
    を伝えることができる、前記3次元フォトニック結晶の
    導波路(31)であって、その導波路(31)が、前記複数
    の層(12-1〜12-12)のうちの1つ(12-11)における要
    素のセグメント(14-2)において光入力(34)を有する
    欠陥の第1の領域と、前記複数の層(12-1〜12-12)の
    隣接する層(12-10)における要素の少なくとも1つの
    セグメント(16-2)において2つの光出力(36、38)を
    有する欠陥の第2の領域とを含み、前記欠陥の第1の領
    域及び前記欠陥の第2の領域が、前記1つの層(12-1
    1)から前記隣接する層(12-10)に延びる光スプリッタ
    を提供するために交差している、導波路(31)とからな
    る、3次元フォトニック結晶導波路装置(10、30)。
JP2002179460A 2001-06-27 2002-06-20 3次元フォトニック結晶導波路装置 Pending JP2003043276A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/893,380 US6690876B2 (en) 2001-06-27 2001-06-27 Three-dimensional photonic crystal waveguide apparatus
US09/893380 2001-06-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003043276A true JP2003043276A (ja) 2003-02-13
JP2003043276A5 JP2003043276A5 (ja) 2005-10-20

Family

ID=25401462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002179460A Pending JP2003043276A (ja) 2001-06-27 2002-06-20 3次元フォトニック結晶導波路装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6690876B2 (ja)
JP (1) JP2003043276A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008053627A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Sony Corp 固体撮像装置
JP2011075614A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Japan Science & Technology Agency 表面効果3次元フォトニック結晶
US10335757B2 (en) 2004-03-05 2019-07-02 Specialty Earth Sciences Process for making environmental reactant(s)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6728457B2 (en) * 2002-07-10 2004-04-27 Agilent Technologies, Inc. Waveguides in two dimensional slab photonic crystals with noncircular holes
ITTO20030730A1 (it) * 2003-09-23 2005-03-24 Infm Istituto Naz Per La Fisi Ca Della Mater Procedimento per la fabbricazione di strutture tridimensionali complesse su scala sub-micrometrica mediante litografia combinata di due resist.
JP4612844B2 (ja) * 2004-02-23 2011-01-12 キヤノン株式会社 3次元周期構造及びそれを有する機能素子
JP4603847B2 (ja) * 2004-10-15 2010-12-22 キヤノン株式会社 共振器および発光素子および波長変換素子
JP4378352B2 (ja) * 2005-04-28 2009-12-02 キヤノン株式会社 周期構造体の製造方法
JP4677276B2 (ja) * 2005-05-09 2011-04-27 キヤノン株式会社 3次元フォトニック結晶の作製方法
JP4684861B2 (ja) * 2005-11-14 2011-05-18 キヤノン株式会社 導波路及びそれを有するデバイス
JP4689441B2 (ja) * 2005-11-14 2011-05-25 キヤノン株式会社 導波路及びそれを有するデバイス
JP5002216B2 (ja) 2006-08-25 2012-08-15 キヤノン株式会社 導波路及びそれを有する発光素子
US11693153B2 (en) * 2019-11-26 2023-07-04 Hrl Laboratories, Llc Omnidirectional and thermally durable infrared reflectors, and methods for making the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5406573A (en) 1992-12-22 1995-04-11 Iowa State University Research Foundation Periodic dielectric structure for production of photonic band gap and method for fabricating the same
US5335240A (en) 1992-12-22 1994-08-02 Iowa State University Research Foundation, Inc. Periodic dielectric structure for production of photonic band gap and devices incorporating the same
US6542682B2 (en) * 2000-08-15 2003-04-01 Corning Incorporated Active photonic crystal waveguide device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10335757B2 (en) 2004-03-05 2019-07-02 Specialty Earth Sciences Process for making environmental reactant(s)
JP2008053627A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Sony Corp 固体撮像装置
JP2011075614A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Japan Science & Technology Agency 表面効果3次元フォトニック結晶

Also Published As

Publication number Publication date
US6690876B2 (en) 2004-02-10
US20030002846A1 (en) 2003-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Meade et al. Novel applications of photonic band gap materials: Low‐loss bends and high Q cavities
US6674949B2 (en) Active photonic crystal waveguide device and method
US6542682B2 (en) Active photonic crystal waveguide device
WO2007074876A1 (ja) 導波路の結合構造
Wang et al. Channel drop filters with folded directional couplers in two-dimensional photonic crystals
US6687447B2 (en) Stub-tuned photonic crystal waveguide
CA2842449C (en) Optical waveguide having all-dielectric, anisotropic metamaterial cladding and light confining method achieved using metamaterial clad optical waveguide
Guida et al. An introduction to photonic band gap (PBG) materials
JP2003043276A (ja) 3次元フォトニック結晶導波路装置
EP1108232A1 (en) Optical waveguide crossings
EP1296177B1 (en) Photonic crystal waveguide interferometric switch and modulator
JP3233067B2 (ja) 導波路素子及び導波路型合分波素子並びに導波路集積回路
WO2003062882A2 (en) Electro-optical switching using coupled photonic crystal waveguides
JP5574006B2 (ja) 光スイッチ
Cuesta et al. Experimental demonstration of photonic crystal directional coupler at microwave frequencies
EP1324084B1 (en) Method and apparatus for reducing optical insertion loss in integrated waveguide switches
Qiang et al. Photonic crystal ring resonators: characteristics and applications
US20120257851A1 (en) Optical logic gates using slow-light based coupled photonic crystal waveguides
JPWO2010073704A1 (ja) 光スイッチ
US6735235B2 (en) Three-dimensional photonic crystal add-drop filter
JP2004045709A (ja) 結合光導波路
JP2006349827A (ja) 可変型光合分波器
JP4372588B2 (ja) 光制御素子
Sharkawy et al. Implementations of optical vias in high-density photonic crystal optical networks
JP2003202606A (ja) 光スイッチ

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050616

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050616

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060418

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20060629

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20060718

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20060726

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070522

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20070822

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20070827

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080205