JP2003036697A - 半導体メモリのテスト回路および半導体メモリデバイス - Google Patents

半導体メモリのテスト回路および半導体メモリデバイス

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JP2003036697A
JP2003036697A JP2001224900A JP2001224900A JP2003036697A JP 2003036697 A JP2003036697 A JP 2003036697A JP 2001224900 A JP2001224900 A JP 2001224900A JP 2001224900 A JP2001224900 A JP 2001224900A JP 2003036697 A JP2003036697 A JP 2003036697A
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memory
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test
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Yutaka Shimada
裕 島田
Takanori Fujiwara
敬典 藤原
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 内臓自己テスト回路(BIST回路)または
外付自己テスト回路(BOST回路)の動作検証機能を
持った半導体メモリのテスト回路および半導体メモリデ
バイスを提案する。 【解決手段】 メモリ回路と自己テスト回路との間に、
擬似エラー信号発生回路30を設ける。この擬似エラー
信号発生回路30は、メモリ回路の出力信号を設定信号
に応じて変換して、自己テスト回路の動作検証に必要な
擬似エラー信号を供給する。擬似エラー信号発生回路3
0は、スキャンチェーン回路を有し、このスキャンチェ
ーン回路には設定信号がセットされ、この設定信号に応
じて、擬似エラー信号を発生する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、自己テスト回路
を有する半導体メモリのテスト回路、およびメモリ回路
と自己テスト回路とを有する半導体メモリデバイスに関
するもので、特に自己テスト回路の動作検証をメモリ回
路に影響を与えることなく、行い得るようにした半導体
メモリのテスト回路、および半導体メモリデバイスに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】メモリ回路に対する自己テスト回路とし
て、内臓自己テスト回路(BIST回路:Built In Sel
f Test回路)、および外付け自己テスト回路(BOST
回路:Built Out Self Test回路)が知られている。こ
れらの自己テスト回路は、メモリ回路からのテスト出力
を受けて、メモリ回路の動作テストをメモリ回路を内蔵
する半導体メモリデバイス内、またはその近くで実行す
る機能を持っている。BIST回路は、メモリ回路が形
成された半導体メモリチップ内に形成されるか、または
メモリチップと同じパッケージに実装された別のチップ
に形成される。BOST回路は、半導体メモリデバイス
の近くに設置されるテスト・パフォーマンスボード上に
設置される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの自
己テスト回路についても、その動作検証を行う必要があ
り、その動作検証を行うには、自己テスト回路に対して
擬似エラー信号を与える必要があるが、この擬似エラー
信号を発生させる有効な手段がなかった。
【0004】この発明は、この擬似エラー信号を発生さ
せる擬似エラー信号発生回路を有する新規な半導体メモ
リのテスト回路を提案するものである。
【0005】また、この発明は、メモリ回路と自己テス
ト回路を有する半導体メモリデバイスであって、擬似エ
ラー信号発生回路を組み込んだ新規な半導体メモリデバ
イスを提案するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明による半導体メ
モリのテスト回路は、半導体メモリのメモリ回路に接続
され前記メモリ回路の出力信号を受けて前記メモリ回路
のテストを行う自己テスト回路、および前記メモリ回路
と自己テスト回路との間に設けられ前記自己テスト回路
の動作を検証するための擬似エラー信号を発生する擬似
エラー信号発生回路を備え、前記擬似エラー信号発生回
路は前記メモリ回路の出力信号を設定信号に応じて変換
して前記擬似エラー信号を発生するように構成されたも
のである。
【0007】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記メモリ回路が出力バッファを有し、前記
擬似エラー信号発生回路が、前記出力バッファからの出
力信号を設定信号に応じて変換して前記擬似エラー信号
を発生するように構成されているものである。
【0008】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記擬似エラー信号発生回路が、スキャンチ
ェーン回路を有し、このスキャンチェーン回路に設定さ
れた設定信号に応じて前記メモリ回路の出力信号を変換
して前記擬似エラー信号を発生するように構成されてい
るものである。
【0009】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記擬似エラー信号発生回路が、前記メモリ
回路の出力信号と前記スキャンチェーン回路の出力とを
受ける論理ゲート回路を有し、この論理ゲート回路が前
記メモリ回路の出力信号を前記スキャンチェーン回路の
設定信号に応じて変換して前記擬似エラー信号を出力す
るものである。
【0010】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記擬似エラー信号発生回路が、トリガ回路
を有し、このトリガ回路が前記メモリ回路に対する読出
し信号に基づいて前記擬似エラー信号を前記自己テスト
回路へ出力するものである。
【0011】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記擬似エラー信号発生回路が、前記スキャ
ンチェーン回路の設定信号を変化させながら複数の擬似
エラー信号を含んだ擬似エラー信号パターンを発生する
ものである。
【0012】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記メモリ回路を複数有し、またこれらの複
数のメモリ回路の出力信号を選択するメモリセレクタが
設けられ、このメモリセレクタの出力信号が前記擬似エ
ラー信号発生回路に供給されるようになっているもので
ある。
【0013】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記自己テスト回路が内臓自己テスト回路と
して構成されたものである。
【0014】また、この発明による半導体メモリのテス
ト回路は、前記自己テスト回路が外付け自己テスト回路
として構成されたものである。
【0015】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、メモリ回路とそれに接続された自己テスト回路と
を有する半導体メモリデバイスであって、前記メモリ回
路と自己テスト回路との間に、前記自己テスト回路の動
作を検証するための擬似エラー信号を発生する擬似エラ
ー信号発生回路が設けられており、この擬似エラー信号
発生回路は前記メモリ回路の出力信号を変換して擬似エ
ラー信号を発生するように構成されていることを特徴と
する。
【0016】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記自己テスト回路が内臓自己テスト回路であっ
て、前記メモリ回路と同じチップに形成されたものであ
る。
【0017】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記自己テスト回路が内臓自己テスト回路であっ
て、この自己テスト回路が前記擬似エラー信号発生回路
がともに前記メモリ回路と同じチップに形成されたもの
である。
【0018】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記自己テスト回路が内臓自己テスト回路であっ
て、この自己テスト回路が前記メモリ回路と同じパッケ
ージに内臓された別のチップに形成されたものである。
【0019】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記メモリ回路が出力バッファを有し、前記擬似
エラー信号発生回路が、前記出力バッファからの出力信
号を設定信号に応じて変換して前記擬似エラー信号を発
生するように構成されているものである。
【0020】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記擬似エラー信号発生回路が、スキャンチェー
ン回路を有し、このスキャンチェーン回路に設定された
設定信号に応じて前記メモリ回路の出力信号を変換して
前記擬似エラー信号を発生するように構成されているも
のである。
【0021】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記擬似エラー信号発生回路が、前記メモリ回路
の出力信号と前記スキャンチェーン回路の出力とを受け
る論理ゲート回路を有し、この論理ゲート回路が前記メ
モリ回路の出力信号を前記スキャンチェーン回路の設定
信号に応じて変換して前記擬似エラー信号を出力するも
のである。
【0022】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記擬似エラー信号発生回路が、トリガ回路を有
し、このトリガ回路が前記メモリ回路に対する読出し信
号に基づいて前記擬似エラー信号を前記自己テスト回路
へ出力するものである。
【0023】また、この発明による半導体メモリデバイ
スは、前記擬似エラー信号発生回路が、前記スキャンチ
ェーン回路の設定信号を変化させながら複数の擬似エラ
ー信号を含んだ擬似エラー信号パターンを発生するもの
である。
【0024】さらに、この発明による半導体メモリデバ
イスは、前記メモリ回路を複数有し、またこれらの複数
のメモリ回路の出力信号を選択するメモリセレクタが設
けられ、このメモリセレクタの出力信号が前記擬似エラ
ー信号発生回路に接続されているものである。
【0025】
【発明の実施の形態】実施の形態1.図1はこの発明に
よる半導体メモリのテスト回路の実施の形態1を示すブ
ロック回路図である。この実施の形態1は、この発明に
よる半導体メモリデバイスの実施の形態1をも構成す
る。この図1の半導体メモリのテスト回路は、1つの半
導体チップ上に、半導体メモリ回路10と、BIST回
路20と、擬似エラー信号発生回路30とを形成した1
チップ構成の半導体メモリデバイスである。メモリ回路
10は、DRAM、SRAMなどで構成され、アドレス
信号ADSの入力端子11と、読出し信号ROSの入力
端子12を有する。このメモリ回路10は、出力バッフ
ァ13を有し、この出力バッファ13の出力部に接続さ
れた出力端子15を有する。この出力端子15はnビッ
ト、たとえば8ビットの出力端子である。またメモリ回
路10は、遅延回路14を有し、この遅延回路14はア
ドレス信号ADSと読出し信号ROSを受けて、遅延ア
ドレス信号DASと遅延読出し信号DRSを発生する。
【0026】BIST回路20は、メモリ回路10から
テスト出力を受けて、メモリ回路10の動作解析を行
う。この動作解析は、たとえばメモリ回路10に含まれ
た多数のメモリ素子の動作をテストし、不良のメモリ素
子を冗長回路に置き換えるための解析を含む。メモリ回
路10に対するテスト時には、テストに対応するアドレ
ス信号ADSおよび読出し信号ROSが与えられ、その
結果、メモリ回路10の出力端子15から出力される出
力信号、すなわちテスト出力TOSがBIST回路20
に与えられ、BIST回路20がその解析を行う。
【0027】擬似エラー信号発生回路30は、BIST
回路20の動作を検証する場合に有効に使用される。こ
の擬似エラー信号発生回路30は、標準テスト信号ST
Sを受けて、それを擬似エラー信号PESに変換し、こ
の擬似エラー信号PESをBIST回路20に与える。
この擬似エラー信号PESは、BIST回路20の動作
検証を行うのに使用される。標準テスト信号STSは、
メモリ回路10からのテスト出力TOSの1つの標準パ
ターンである。たとえば、すべてのビットが0である信
号、すなわち8ビットの場合には、00000000の
信号が、標準テスト信号STSとして使用される。擬似
エラー信号PESは、標準テスト信号STSのいくつか
のビットが1に変換された信号、たとえば101010
10のような信号である。BIST回路20が、この擬
似エラー信号PESを与えたときに、如何なる解析結果
を出力するかがチェックされる。与える擬似エラー信号
PESは既知であり、この既知の擬似エラー信号PES
に対するBIST回路20の解析出力をチェックするこ
とにより、BIST回路20の動作検証が行われる。
【0028】擬似エラー信号発生回路30は、スキャン
チェーン回路31と、出力トリガ回路50を含んでい
る。スキャンチェーン回路31には、設定信号SETが
与えられ、標準テスト信号STSがこの設定信号SET
によって変換され、擬似エラー信号PESが作られる。
出力トリガ回路50は、発生した擬似エラー信号PES
をBIST回路20へ所定のタイミングで出力する。
【0029】図2は、スキャンチェーン回路31の模式
的な説明図である。スキャンチェーン回路31は設定信
号SETの入力端子32と出力端子33を有する。図2
では、スキャンチェーン回路31の代表的な2つのビッ
トBn、Bn―1が示される。今、設定信号SETによ
り、ビットBnが1、ビットBn―1が0にセットされ
ているとすると、ビットBnの入力された0の信号が1
に変換され、ビットBn―1へ入力された0の信号はそ
のまま0で出力される。このようにして、テスト出力T
OSの一種である標準テスト信号STSが設定信号SE
Tに応じて変換され、擬似エラー信号PESが作られ
る。設定信号SETを変化させることにより、発生する
擬似エラー信号PESを変えることができ、所望の擬似
エラー信号PESを発生することができる。
【0030】図3は、スキャンチェーン回路31の具体
例を示す。図3は、上部の2ビットだけを示している
が、残りのビットも同様に構成される。このスキャンチ
ェーン回路31は、スキャンチェーン34、ハーフラッ
チ35および論理回路36を有する。スキャンチェーン
34は、nビットの各ビットに対応するDQフリップフ
ロップ341、342、・・・を有する。DQフリップ
フロップ341のD入力端子は、設定信号SETの入力
端子32に接続され、そのQ出力端子は、次のビットの
DQフリップフロップ342のD入力端子に接続され
る。DQフリップフロップ322のQ出力端子は次のビ
ットのDQフリップフロップのD入力端子に接続され、
同様に各ビットのDQフリップフロップのQ出力端子が
順次次のビットのDQフリップフロップのD入力端子に
直列的に接続される。スキャンチェーン34の各DQフ
リップフロップ341、342、・・・には,入力端子
37から共通のクロック信号CLKが与えられる。
【0031】ハーフラッチ35も、各ビットに対応した
DQフリップフロップ351、352、・・・を有す
る。このハーフラッチ35の各DQフリップフロップ3
51、352、・・・のD入力端子は、対応する各ビッ
トのスキャンチェーン34のDQフリップフロップ34
1、342、・・・のQ出力端子に接続されている。ま
たハーフラッチ35の各DQフリップフロップ351、
352、・・・は、共通のエナブル信号ENBの入力端
子38に接続されている。スキャンチェーン34に設定
信号SETをセットする場合、入力端子32から出力端
子33へ設定信号SETをクロックCLKに同期させて
順次入力し、エナブル信号ENBにより、スキャンチェ
ーン34の各DQフリップフリップ341、342、・
・・のQ出力端子の出力をハーフラッチ35の各DQフ
リップフロップ351、352、・・・にセットする。
スキャンチェーン34の各DQフリップフロップ34
1、342、・・・にセットされた設定信号SETが、
たとえば01010101の信号であれば、この設定信
号がハーフラッチ35の各DQフリップフロップ35
1、352、・・・にセットされる。
【0032】スキャンチェーン回路31の論理回路36
は、各ビットに対応して設けられた排他的OR回路36
1、362、・・・を有する。この各ビットに対応する
排他的OR回路361、362、・・・の一方の入力
は、各ビットに対応するハーフラッチ35のDQフリッ
プフロップ351、352、・・・のQ出力端子に接続
されている。各排他的OR回路361、362、・・・
の他方の入力端子は、バスライン39を介して入力端子
40に接続されている。この入力端子40はメモリ回路
10の出力端子15に接続されており、メモリ回路10
からの標準テスト信号STSが与えられる。また、各排
他的OR回路361、362、・・・の出力端子は、そ
れぞれバスライン41を介してスキャンチェーン回路3
1の出力端子42に接続されており、この出力端子42
に擬似エラー信号PESを発生する。論理回路36は、
メモリ回路10からの標準テスト信号STSを、設定信
号SETに応じて変換して擬似エラー信号PESを出力
する。たとえば、ハーフラッチ35にセットされた設定
信号SETが01010101の信号であり、標準テス
ト信号が00000000の信号であれば、論理回路3
6からの擬似エラー信号PESは、設定信号SETを反
転した10101010の信号となり、出力端子42に
出力される。
【0033】図4は、出力トリガ回路50を示す。図4
でも、代表的に2つのビットに対応する回路が示されて
いるが、すべてのビットについて、同様に構成される。
この出力トリガ回路50は、Nビットのそれぞれのビッ
トに対応したNORゲート511、512、・・・を有
する。この各NORゲート511、512、・・・の一
方の入力には、スキャンチェーン回路31から、擬似エ
ラー信号PESが供給される。具体的には、各NORゲ
ート511、512、・・・の一方の入力端子は、スキ
ャンチェーン回路31の対応する各ビットの排他的OR
ゲート341、342、・・・の出力端子に接続されて
いる。各NORゲート511、512、・・・の他方の
入力端子は、共通の遅延読出し信号DRSの入力端子5
2に接続され、図1の遅延回路から、遅延読出し信号D
RSの供給を受ける。この出力トリガ回路50は、遅延
読出し信号DRSを受けたタイミングで、擬似エラー信
号PESを出力し、BIST回路20に供給する。
【0034】メモリ回路10がBIST回路20によっ
てテストされる状態では、設定信号SETは、メモリ回
路10のテスト出力TOSをそのまま出力するように、
たとえばすべてのビットが0に保持される。出力トリガ
回路50は、この状態では、遅延読出し信号DRSでは
なく、メモリ回路10への読出し信号ROSが入力端子
52に直接与えられるように構成され、メモリ回路10
からのテスト出力TOSがそのまま変換されずに、メモ
リ回路10からの読出し直後に、出力トリガ回路50か
らBIST回路20へ供給され、BIST回路20がそ
のテスト出力TOSの解析を行う。
【0035】図5は、実施の形態1におけるスキャンチ
ェーン回路31のテストタイミング図であり、(a)は
図3の入力端子37に入力されるクロック信号CLKの
波形を示し、(b)はそれに対応して入力端子32から
入力される設定信号SETを示し、さらに(c)はそれ
らに対応する入力端子38へのエナブル信号ENBを示
す。これらの(a)(b)(c)の横軸の時間軸は共通
である。設定信号SETは、クロック信号CLKに同期
して順次入力され、n個のクロック信号CLKが入力さ
れたタイミングで、nビットのすべてに所望の設定信号
がスキャンチェーン34の各DQフリップフロップ34
1、342、・・・に与えられる。この後、エナブル信
号ENBが立ち上がり、このエナブル信号ENBによっ
て、設定信号SETがハーフラッチ35の各DQフリッ
プフロップ351、352、・・・にセットされる。
【0036】図6は、図5に対応したスキャンチェーン
回路31の動作を示す動作説明図である。スキャンチェ
ーン回路31のn個の各ビットB1、B2、・・・Bn
には、設定信号SETがセットされ、この状態で標準テ
スト信号STSが入力端子40に入力され、擬似テスト
信号PESが生成される。
【0037】図7は、実施の形態1の全体的なテストタ
イミングを示す。図中、(a)は図1の回路全体に共通
に使用されるクロック信号CLKであり、これはたとえ
ば、図5(a)のクロック信号CLKと同じである。
(b)はメモリ回路10に対する読出し信号入力12に
与えられる読出し信号ROSを、また(c)はメモリ回
路10のアドレス入力11に与えられるアドレス信号A
DSを、また(d)は出力トリガ回路50の入力端子5
2に与えられる遅延読出し信号DRSを、(e)はメモ
リ回路10からのテスト出力信号TOS/STSを、
(f)はBIST回路20へ与えられる擬似エラー信号
PESを、それぞれ示す。横軸の時間軸は各信号のつい
て共通である。
【0038】擬似エラー信号PESを作成したい所望ア
ドレス信号ADS―Pに合わせて、読出し信号ROSを
立ち下げ、メモリ回路10から出力されるテスト出力T
OSを、前記所望アドレス信号ADS−Pに対応する標
準テスト信号STSとする。この標準テスト信号STS
の発生からn個のクロック信号の後に、遅延読出し信号
DRSが立ち下がり、このタイミングで標準テスト信号
STSがスキャンチェーン回路31にセットされた設定
信号SETに応じて擬似エラー信号PESに変換され、
この擬似エラー信号PESがBIST回路20に与えら
れる。
【0039】図8は実施の形態1の全体的なテストフロ
ーを示すフローチャートである。実施の形態1では、ス
テップS11のテスト開始に基づき、ステップS12に
おいて、スキャンチェーン回路31に所望の設定信号S
ETがセットされ、次のステップS13において、所望
の設定信号SETに応じて標準テスト信号STSが擬似
エラー信号PESに変換され、この擬似エラー信号PE
SがBIST回路20に供給されて、BIST回路20
の動作検証が行われ、このステップS13はテストフロ
ーのステップと呼ばれる。BIST回路20は、メモリ
回路10からテスト出力を受けて、メモリ回路10の動
作解析を行う。この動作解析は、たとえばメモリ回路1
0に含まれた多数のメモリ素子の動作をテストし、不良
のメモリ素子を冗長回路に置き換えるための解析を含
む。このような動作解析では、テストされる複数のメモ
リ素子を順次選択しながら解析が行われ、その結果とし
て、最適な冗長回路の使用形態が決定されるが、この動
作解析に対応したBIST回路20の動作検証を行うに
は、複数の擬似エラー信号を順次変化させながら、擬似
エラー信号パターンをBIST回路20に供給する必要
がある。図8のフローチャートでは、ステップS12と
ステップS13とを必要回数繰り返す動作を行うことに
より、順次変化する擬似エラー信号パターンを与えるこ
とができる。ステップS14は、テスト終了のステップ
である。
【0040】以上のように実施の形態1は、メモリ回路
10とBIST回路20との間に、BIST回路20の
動作を検証するための擬似エラー信号を発生する擬似エ
ラー信号発生回路30を設け、この擬似エラー信号発生
回路30がメモリ回路10の出力信号STSを変換して
擬似エラー信号PESを発生するように構成しているの
で、メモリ回路10の動作に悪影響を与えることなく、
BIST回路20の動作検証を実行できる。
【0041】また、BIST回路20、擬似エラー信号
発生回路30をメモリ回路10と同じチップに形成して
いるので、BIST回路20、擬似エラー信号発生回路
30を小型化でき、同じチップ内で、BIST回路20
の動作検証を実行できる。また、擬似エラー信号発生回
路30がスキャンチェーン回路31を有し、このスキャ
ンチェーン回路31にセットされた設定信号SETに応
じてメモリ回路10の出力信号STSを変換して擬似エ
ラー信号PESを発生するので、設定信号SETを変化
することにより、所望の擬似エラー信号PESを容易に
発生させることができる。論理ゲート回路36は、メモ
リ回路10の出力信号STSを設定信号SETに応じて
変換するのに有効であり、この論理ゲート回路36によ
り、容易にメモリ回路10の出力信号STSを設定信号
SETに応じて変換できる。出力トリガ回路50は、擬
似エラー信号PESを適切なタイミングで、BIST回
路20に与えるのに有効である。
【0042】さらに、スキャンチェーン回路31の設定
信号SETを変化させながら複数の擬似エラー信号PE
Sを含んだ擬似エラー信号パターンを発生することによ
り、所望の擬似エラー信号パターンによるBIST回路
20の動作検証も達成できる。
【0043】実施の形態2.図9は、この発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態2で使用されるス
キャンチェーン回路31Aを示す回路図である。この実
施の形態2はこの発明による半導体メモリデバイスの実
施の形態2をも構成する。スキャンチェーン回路31A
は、メモリ回路10、およびBIST回路20と同じチ
ップに形成される。このスキャンチェーン回路31A
は、図3に示すスキャンチェーン回路31に類似してい
るが、図3と異なる論理ゲート回路36Aが論理ゲート
回路36に代わって使用される。他の部分は、図3と同
じであり、同じ部分を同じ符号で示している。
【0044】論理ゲート回路36Aは、nビットの各ビ
ットに、それぞれセレクタ回路361A、362A、・
・・を有する。この各セレクタ回路361A、362
A、・・・の一方の入力は、ハーフラッチ35の対応す
るビットのDQフリップフロップ351、352、・・
・のQ出力端子に接続され、各セレクタ回路361A、
362A、・・・の他方の入力はバスライン39を介し
て標準テスト信号STSの入力端子40に接続されてい
る。また各セレクタ回路361A、362A、・・・の
出力端子はバスライン41を介して、擬似エラー信号P
ESの出力端子42に接続されている。さらに、各セレ
クタ回路361A、362A、・・・は、それぞれ、共
通のセレクト信号SELの入力端子43に接続されたセ
レクト端子を有し、セレクト信号SELが立ち上がった
ときに、擬似エラー信号PESを出力する。
【0045】図3の論理ゲート回路36に使用された排
他的OR回路361、362、・・・は、ハーフラッチ
35のDQフリップフロップ351、352、・・・の
Q出力端子の信号を反転した結果を与えるように、標準
テスト信号STSを変換するものであったが、図9の各
セレクタ回路361A、362A、・・・は、ハーフラ
ッチ35のDQフリップフロップ351、352、・・
・のQ出力端子の信号がそのまま出力する結果を与える
ように、標準テスト信号STSを変換する。たとえば、
ハーフラッチ35の設定信号SETが01010101
ならば、この信号をそのまま出力した信号010101
01を擬似エラー信号PESとして出力する。図3、図
9の何れの論理ゲート回路36、36Aを用いても、標
準テスト信号STSを設定信号SETに応じて変換した
擬似エラー信号PESを得ることができ、設定信号SE
Tを変更することにより、容易に擬似エラー信号PES
を変えることができる。
【0046】実施の形態3.図10はこの発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態3を示すブロック
回路図である。この実施の形態3は、この発明による半
導体メモリデバイスの実施の形態3をも構成する。この
実施の形態3では、メモリ回路10が第1の半導体チッ
プCHP1に形成され、BIST回路20がそれと別の
第2の半導体チップCHP2に形成されている。これら
の第1、第2半導体チップCHP1、CHP2は、同じ
プラスチックパッケージPKGにパッケージされ、半導
体メモリデバイスを構成する。
【0047】図10の実施の形態3では、擬似エラー信
号発生回路30が、メモリ回路10と同じ半導体チップ
CHP1に形成されている。具体的には、擬似エラー信
号発生回路30は、メモリ回路10の出力バッファ13
が形成されたエリア16に、この出力バッファ13とと
もに形成されており、出力バッファ13からのテスト信
号STSを受けて、擬似エラー信号PESを出力する。
擬似エラー信号発生回路30は、実施の形態1または2
と同様に構成される。この実施の形態3は、BIST回
路20が、メモリ回路10のチップCHP1と別のチッ
プCHP2に形成され、パッケージPKGがマルチチッ
プ構成になるが、半導体メモリデバイスは依然として1
つのパッケージPKGに小型に構成される。擬似エラー
信号発生回路30は、メモリ回路10と同じチップCH
P1内に形成されるので、擬似エラー信号発生回路30
のために、チップ数が増加することもない。
【0048】実施の形態4.図11はこの発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態4を示すブロック
回路図である。この実施の形態4は、この発明による半
導体メモリデバイスの実施の形態4でもある。この実施
の形態4では、実施の形態3と同様に、メモリ回路10
が第1の半導体チップCHP1に形成され、BIST回
路20がそれと別の第2の半導体チップCHP2に形成
され、これらの第1、第2半導体チップCHP1、CH
P2は、同じプラスチックパッケージPKGにパッケー
ジされ、半導体メモリデバイスを構成する。
【0049】図11の実施の形態4では、擬似エラー信
号発生回路30が、BIST回路20と同じ半導体チッ
プCHP2に形成されている。この擬似エラー信号発生
回路30は、BIST回路20の入力バッファ回路のエ
リア22に形成され、メモリ回路10の出力バッファ回
路13からのテスト信号STSを受けて、擬似エラー信
号PESを出力する。擬似エラー信号発生回路30は、
実施の形態1または2と同様に構成される。この実施の
形態4は、BIST回路20が、メモリ回路10のチッ
プCHP1と別のチップCHP2に形成され、パッケー
ジPKGがマルチチップ構成になるが、半導体メモリデ
バイスは依然として1つのパッケージPKGに小型に構
成される。擬似エラー信号発生回路30は、BIST回
路20と同じチップCHP2内に形成されるので、擬似
エラー信号発生回路30のために、チップ数が増加する
こともない。
【0050】実施の形態5.図12はこの発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態5を示すブロック
回路図である。この実施の形態5は、併せてこの発明に
よる半導体メモリデバイスの実施の形態5を構成する。
この実施の形態5は、2つのメモリ回路10A、10B
を有している。これらのメモリ回路10A、10Bはそ
れぞれ図1に示すメモリ回路10と同様に構成されてお
り、内部に多数のメモリ素子を有する。メモリ回路10
Aは、アドレス信号ADSが入力される入力端子11
A、読出し信号ROSが入力される入力端子12A、出
力バッファ回路13A、遅延読出し信号DRSと遅延ア
ドレス信号DASを発生する遅延回路14Aを有する。
同様に、メモリ回路10Bは、アドレス信号ADSが入
力される入力端子11B、読出し信号ROSが入力され
る入力端子12B、出力バッファ回路13B、遅延読出
し信号DRSと遅延アドレス信号DASを発生する遅延
回路14Bを有する。
【0051】メモリ回路10A、10Bの出力バッファ
回路13A、13Bは、それぞれ出力端子15A、15
Bにテスト出力TOSを発生し、このテスト出力TOS
は、擬似エラー信号PESを発生する場合には、標準テ
スト信号STSとされる。実施の形態5では、メモリ回
路10A、10Bの出力を選択するために、メモリセレ
クタ60が設けられている。このメモリセレクタ60
は、メモリ回路10Aの出力端子15Aに接続された第
1入力端子61と、メモリ回路10Bの出力端子15B
に接続された第2入力端子62、および共通の出力端子
63を有する。出力端子63は、擬似エラー信号発生回
路30のスキャンチェーン回路31の入力端子40に接
続され、バスライン39を介して論理ゲート回路36、
36Aに接続されている。メモリセレクタ60は、メモ
リセレクト信号MSLを受ける入力端子64を有する。
【0052】図12の実施の形態5において、BIST
回路20はメモリ回路10A、10Bを選択的にテスト
する機能を有する。入力端子64へのメモリセレクト信
号MSLに基づき、メモリ回路10A、10Bの何れか
が選択され、選択されたメモリ回路10Aまたは10B
のテスト出力TOSがBIST回路20に入力され、メ
モリ素子の動作テストが行われる。メモリ回路10A、
10Bの何れがテストされている状態においても、BI
ST回路20の動作検証を行うことができる。BIST
回路20の動作を検証する場合には、選択されているメ
モリ回路10A、10Bの何れかから標準テスト信号S
TSが出力され、この標準テスト信号STSが設定信号
SETに応じて変換され、擬似エラー信号PESが発生
され、これがBIST回路20に与えられる。
【0053】図12の実施の形態5は、1チップ構成の
半導体メモリデバイスを構成する。2つのメモリ回路1
0A、10B、BIST回路20、擬似エラー信号発生
回路30およびメモリセレクタ60は、すべて同じ半導
体チップ上に形成され、パッケージされる。この実施の
形態5では、1チップ構成により小型化を図りながら、
2つのメモリ回路10A、10Bを選択的にテストし、
またBIST回路20の動作検証を、何れのメモリ回路
10A、10Bのテスト状態においても、実行できる。
なお、スキャンチェーン回路31には、図3または図9
の論理ゲート回路36、36Aが使用される。
【0054】実施の形態6.図13はこの発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態6を示すブロック
回路図である。この実施の形態6は、併せて、この発明
による半導体メモリデバイスの実施の形態6を構成す
る。この実施の形態6は、実施の形態5と同様に2つの
メモリ回路10A、10Bと、メモリセレクタ60を持
っているが、実施の形態5とは、チップ構成が異なる。
メモリ回路10A、10Bは第1チップCHP1に形成
され、BIST回路20、擬似エラー信号発生回路30
およびメモリセレクタ60は第2チップCHP2に形成
されている。これらの第1、第2チップCHP1、CH
P2は、同じパッケージPKG内に内臓される。
【0055】この実施の形態6では、2チップ、1パッ
ケージの構成により小型化を図りながら、2つのメモリ
回路10A、10Bを選択的にテストし、またBIST
回路20の動作検証を、何れのメモリ回路10A、10
Bのテスト状態においても、実行できる。
【0056】実施の形態7.図14はこの発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態7を示すブロック
回路図である。この実施の形態7では、自己テスト回路
として、外付け自己テスト回路(BOST回路)70が
用いられる。
【0057】実施の形態7では、テスタの一部を構成す
るパフォーマンスボードと呼ばれる回路基板CRB上
に、外付け自己テスト回路(BOST回路)70が配置
され、併せて、擬似エラー信号PESを信号を発生する
ための擬似信号発生回路30が配置されている。
【0058】実施の形態7の回路構成は、図1の実施の
形態1と同様である。擬似エラー信号発生回路30は、
メモリ回路10の出力バッファ回路13からテスト出力
を受けるように配線される。この擬似エラー信号発生回
路30は、図1の実施の形態1と同様に構成されてお
り、メモリ回路10からの標準テスト信号STSを、設
定信号SETに応じて擬似エラー信号PESに変換し
て、BOST回路70に供給する。この擬似エラー信号
PESは、BOST回路70の動作検証を行うのに使用
される。この実施の形態7によれば、メモリ回路10の
動作に悪影響を与えることなく、BOST回路70の動
作検証を実行できる。なお、擬似エラー信号発生回路3
0の論理ゲート回路には、図9に示す論理ゲート回路3
6Aを使用することも可能である。
【0059】実施の形態8.図15はこの発明による半
導体メモリのテスト回路の実施の形態8を示すブロック
回路図である。この実施の形態8では、回路基板CRB
上に、BOST回路70、擬似エラー信号発生回路30
およびメモリセレクタ60が配置されている。BOST
回路70は、実施の形態7と同様に、メモリ回路10
A、10Bを選択して、テストする。擬似エラー信号発
生回路30は、図12、または図13と同様に、メモリ
セレクタ60によって選択されたメモリ回路10A、1
0Bからの標準テスト信号STSを、設定信号SETに
応じて変換して、擬似エラー信号PESを発生し、BO
ST回路70の動作検証のために、BOST回路70に
供給する。この実施の形態8では、2つのメモリ回路1
0A、10Bを選択的にBOST回路70によってテス
トし、併せてこれらのメモリ回路10A、10Bの動作
に悪影響を与えることなく、何れのメモリ回路10A、
10Bのテスト状態でも、BOST回路70の動作検証
を行うことができる。なお、上記の実施の形態5,6,
8において、メモリ回路が2つある場合を説明したが、
メモリ回路が2つより多い複数ある場合も本発明を適用
できる。
【0060】
【発明の効果】以上のように、この発明による半導体メ
モリのテスト回路によれば、メモリ回路と自己テスト回
路との間に、擬似エラー信号発生回路を設けたので、こ
の擬似エラー信号発生回路によって擬似エラー信号を発
生することにより、容易に自己テスト回路の動作検証を
行うことができ、また擬似エラー信号発生回路はメモリ
回路の出力信号を変換して擬似エラー信号を発生するの
で、メモリ回路に悪影響を与えることもなく、さらに、
メモリ回路の出力信号を設定信号に応じて変換して擬似
エラー信号を発生するものでは、設定信号を変えること
により、擬似エラー信号を簡単に変更できる。
【0061】また、この発明による半導体メモリデバイ
スでも、メモリ回路と自己テスト回路との間に、擬似エ
ラー信号発生回路を設けたので、この擬似エラー信号発
生回路によって擬似エラー信号を発生することにより、
容易に自己テスト回路の動作検証を行うことができ、ま
た擬似エラー信号発生回路はメモリ回路の出力信号を変
換して擬似エラー信号を発生するので、メモリ回路に悪
影響を与えることもなく、さらに、メモリ回路の出力信
号を設定信号に応じて変換して擬似エラー信号を発生す
るものでは、設定信号を変えることにより、擬似エラー
信号を簡単に変更できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明による半導体メモリのテスト回路お
よび半導体メモリデバイスの実施の形態1を示すブロッ
ク回路図。
【図2】 この実施の形態1のスキャンチェーン回路の
模式的構成図。
【図3】 実施の形態1のスキャンチェーン回路の具体
例を示す回路図。
【図4】 実施の形態1のトリガ回路の模式的構成図。
【図5】 実施の形態1のスキャンチェーン回路の動作
タイミングチャート。
【図6】 実施の形態1のスキャンチェーン回路の模式
的動作説明図。
【図7】 実施の形態1の動作タイミングチャート。
【図8】 実施の形態1のフローチャート。
【図9】 この発明による半導体メモリのテスト回路お
よび半導体メモリデバイスの実施の形態2で使用される
スキャンチェーン回路を示す回路図。
【図10】 この発明による半導体メモリのテスト回路
および半導体メモリデバイスの実施の形態3を示すブロ
ック回路図。
【図11】 この発明による半導体メモリのテスト回路
および半導体メモリデバイスの実施の形態4を示すブロ
ック回路図。
【図12】 この発明による半導体メモリのテスト回路
および半導体メモリデバイスの実施の形態5を示すブロ
ック回路図。
【図13】 この発明による半導体メモリのテスト回路
および半導体メモリデバイスの実施の形態6を示すブロ
ック回路図。
【図14】 この発明による半導体メモリのテスト回路
の実施の形態7を示すブロック回路図。
【図15】 この発明による半導体メモリのテスト回路
の実施の形態7を示すブロック回路図。
【符号の説明】
10,10A,10B メモリ回路、 13,13
A,13B 出力バッファ、 20 内臓自己テスト
回路(BIST回路)、 30 擬似エラー信号発生
回路、 31 スキャンチェーン回路、 34 ス
キャンチェーン、35 ハーフラッチ、 36 論理
ゲート回路、 50 トリガ回路、60 メモリセレ
クタ、 70 外付け自己テスト回路(BOST回
路)、 TOS/STS メモリ回路出力信号、
PES 擬似エラー信号、SET 設定信号、 CH
P,CHP1,CHP2 チップ、 PKGパッケー
ジ、 CRB 回路基板、 SED,SED1,S
ED2 半導体メモリデバイス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/04 H01L 27/04 T Fターム(参考) 2G132 AA08 AB01 AG01 AK07 AK23 AK29 5F038 DF05 DT06 DT08 EZ20 5L106 DD08 DD21 EE05

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体メモリのメモリ回路に接続され前
    記メモリ回路の出力信号を受けて前記メモリ回路のテス
    トを行う自己テスト回路、および前記メモリ回路と自己
    テスト回路との間に設けられ前記自己テスト回路の動作
    を検証するための擬似エラー信号を発生する擬似エラー
    信号発生回路を備え、前記擬似エラー信号発生回路は前
    記メモリ回路の出力信号を変換して前記擬似エラー信号
    を発生するように構成された半導体メモリのテスト回
    路。
  2. 【請求項2】 前記メモリ回路が出力バッファを有し、
    前記擬似エラー信号発生回路が、前記出力バッファから
    の出力信号を設定信号に応じて変換して前記擬似エラー
    信号を発生するように構成されている請求項1記載の半
    導体メモリのテスト回路。
  3. 【請求項3】 前記擬似エラー信号発生回路が、スキャ
    ンチェーン回路を有し、このスキャンチェーン回路に設
    定された設定信号に応じて前記メモリ回路の出力信号を
    変換して前記擬似エラー信号を発生するように構成され
    ている請求項1または2記載の半導体メモリのテスト回
    路。
  4. 【請求項4】 前記擬似エラー信号発生回路が、前記メ
    モリ回路の出力信号と前記スキャンチェーン回路の出力
    とを受ける論理ゲート回路を有し、この論理ゲート回路
    が前記メモリ回路の出力信号を前記スキャンチェーン回
    路の設定信号に応じて変換して前記擬似エラー信号を出
    力する請求項3記載の半導体メモリのテスト回路。
  5. 【請求項5】 前記擬似エラー信号発生回路が、トリガ
    回路を有し、このトリガ回路が前記メモリ回路に対する
    読出し信号に基づいて前記擬似エラー信号を前記自己テ
    スト回路へ出力する請求項1記載の半導体メモリのテス
    ト回路。
  6. 【請求項6】 前記擬似エラー信号発生回路が、前記ス
    キャンチェーン回路の設定信号を変化させながら複数の
    擬似エラー信号を含んだ擬似エラー信号パターンを発生
    する請求項1記載の半導体メモリのテスト回路。
  7. 【請求項7】 前記メモリ回路を複数有し、またこれら
    の複数のメモリ回路の出力信号を選択するメモリセレク
    タが設けられ、このメモリセレクタの出力信号が前記擬
    似エラー信号発生回路に供給されるようになっている請
    求項1記載の半導体メモリのテスト回路。
  8. 【請求項8】 前記自己テスト回路が内臓自己テスト回
    路である請求項1記載の半導体メモリのテスト回路。
  9. 【請求項9】 前記自己テスト回路が外付け自己テスト
    回路である請求項1記載の半導体メモリのテスト回路。
  10. 【請求項10】 メモリ回路とそれに接続された自己テ
    スト回路とを有する半導体メモリデバイスであって、前
    記メモリ回路と自己テスト回路との間に、前記自己テス
    ト回路の動作を検証するための擬似エラー信号を発生す
    る擬似エラー信号発生回路が設けられており、この擬似
    エラー信号発生回路は前記メモリ回路の出力信号を変換
    して擬似エラー信号を発生するように構成されているこ
    とを特徴とする半導体メモリデバイス。
  11. 【請求項11】 前記自己テスト回路が内臓自己テスト
    回路であって、前記メモリ回路と同じチップに形成され
    ている請求項10記載の半導体メモリデバイス。
  12. 【請求項12】 前記自己テスト回路が内臓自己テスト
    回路であって、この自己テスト回路が前記擬似エラー信
    号発生回路がともに前記メモリ回路と同じチップに形成
    されている請求項10記載の半導体メモリデバイス。
  13. 【請求項13】 前記自己テスト回路が内臓自己テスト
    回路であって、この自己テスト回路が前記メモリ回路と
    同じパッケージに内臓された別のチップに形成されてい
    る請求項10記載の半導体メモリデバイス。
  14. 【請求項14】 前記メモリ回路が出力バッファを有
    し、前記擬似エラー信号発生回路が、前記出力バッファ
    からの出力信号を設定信号に応じて変換して前記擬似エ
    ラー信号を発生するように構成されている請求項10記
    載の半導体メモリデバイス。
  15. 【請求項15】 前記擬似エラー信号発生回路が、スキ
    ャンチェーン回路を有し、このスキャンチェーン回路に
    設定された設定信号に応じて前記メモリ回路の出力信号
    を変換して前記擬似エラー信号を発生するように構成さ
    れている請求項10記載の半導体メモリデバイス。
  16. 【請求項16】 前記擬似エラー信号発生回路が、前記
    メモリ回路の出力信号と前記スキャンチェーン回路の出
    力とを受ける論理ゲート回路を有し、この論理ゲート回
    路が前記メモリ回路の出力信号を前記スキャンチェーン
    回路の設定信号に応じて変換して前記擬似エラー信号を
    出力する請求項15記載の半導体メモリデバイス。
  17. 【請求項17】 前記擬似エラー信号発生回路が、トリ
    ガ回路を有し、このトリガ回路が前記メモリ回路に対す
    る読出し信号に基づいて前記擬似エラー信号を前記自己
    テスト回路へ出力する請求項10記載の半導体メモリデ
    バイス。
  18. 【請求項18】 前記擬似エラー信号発生回路が、前記
    スキャンチェーン回路の設定信号を変化させながら複数
    の擬似エラー信号を含んだ擬似エラー信号パターンを発
    生する請求項10記載の半導体メモリデバイス。
  19. 【請求項19】 前記メモリ回路を複数有し、またこれ
    らの複数のメモリ回路の出力信号を選択するメモリセレ
    クタが設けられ、このメモリセレクタの出力信号が前記
    擬似エラー信号発生回路に供給されるようになっている
    請求項10記載の半導体メモリデバイス。
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