JP2003036691A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JP2003036691A JP2003036691A JP2001221904A JP2001221904A JP2003036691A JP 2003036691 A JP2003036691 A JP 2003036691A JP 2001221904 A JP2001221904 A JP 2001221904A JP 2001221904 A JP2001221904 A JP 2001221904A JP 2003036691 A JP2003036691 A JP 2003036691A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- signal
- semiconductor chip
- input terminal
- external input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/525—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body with adaptable interconnections
- H01L23/5256—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body with adaptable interconnections comprising fuses, i.e. connections having their state changed from conductive to non-conductive
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0655—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
Abstract
換え可能なメモリである第二の半導体チップにヒューズ
を設けず、それらチップをパッケージ内で接続したマル
チチップ型半導体装置の歩留まりを向上し、検査コスト
を低減する。 【解決手段】 第二の半導体チップ2は、不良ビットと
置換する冗長セルを有し、第一の半導体チップと接続す
ることなく、不良ビットを冗長セルと置換した冗長救済
後の状態を実現するために、外部入力パッドPD2Dか
ら入力される不良ビットを救済するための冗長救済解を
格納する救済状態決定回路23と、外部入力パッドPD
2Bから入力される信号により、外部入力パッドPD2
Dから救済状態決定回路への入力を制御するコマンドデ
コード回路25とを有する。
Description
有する半導体チップと書き換え可能なメモリである半導
体チップとをパッケージ内部で接続したマルチチップ型
の半導体装置に関する。
装置の構造例を示す模式図である。図14において、こ
の半導体装置は、COC(Chip-on-Chip)構造を有し、
CPUなどの機能を有する第一の半導体チップ1と、書
き換え可能なメモリである第二の半導体チップ2とが、
各々のチップ上に設けられた内部接続用パッドPD1、
PD2により貼り合わされ、第一の半導体チップ1の外
部接続用パッドPD11が外部接続端子PDにボンディ
ングワイヤーにより接続され、各チップが集積回路パッ
ケージ3により封止される。
ットを冗長救済用セルと置換するために、不良ビットを
救済するための冗長救済解を保持するヒューズ11を備
える。二つの半導体チップ1、2は各々単独で検査が行
われ、それぞれの検査に合格したチップのみが貼り合わ
せの対象となる。特に、書き換え可能なメモリである第
二の半導体チップ2については、ウエハー上での冗長救
済前のプローブ検査(以下、P1検査と略称する)後、
冗長救済の必要があると判断されたチップに対してヒュ
ーズ11の切断を行い、その後、冗長救済後のプローブ
検査(以下、P2検査と略称する)を行い、それに合格
したチップのみが貼り合わせの対象となる。
半導体チップの表面上にパッドを配置し、それらを貼り
合わせ、それらの接続を行うCOC構造では、2つのチ
ップ間の入出力信号数が増大すると、本来のチップ面積
に対して配置されるパッド面積の方が大きくなり、パッ
ド面積によりチップ面積が決定されてしまう恐れがあ
る。
プロセスコストが高いため、コスト削減のためには小チ
ップ化が必要である。このため、書き換え可能なメモリ
である第二の半導体チップ2が備えるヒューズ11を面
積の大きい第一の半導体チップ1に配置することが考え
られる。しかし、その場合、第二の半導体チップ2は単
独でヒューズ切断後の状態を実現することができず、貼
り合せ後に、第二の半導体チップ2に対してP2検査を
実施せざるを得ない。その結果、第二の半導体チップ2
が貼り合わせ後の検査で不良である場合、貼り合わせた
チップ全体が不良となる問題を有していた。
ものであり、その目的は、書き換え可能なメモリチップ
側にヒューズを設けることなく、メモリチップの冗長救
済後の状態を実現し、チップの貼り合わせ前にP2検査
を実施することで、歩留まりの向上と検査コストの低減
を図ったマルチチップ型の半導体装置を提供することに
ある。
め、本発明に係る半導体装置は、第一の半導体チップ
と、書き換え可能なメモリである第二の半導体チップと
がパッケージ内部で接続されるマルチチップ型の半導体
装置であって、第一の半導体チップは、第二の半導体チ
ップの不良ビットを救済するための冗長救済解を保持す
る冗長救済用ヒューズを備え、第二の半導体チップは、
不良ビットと置換する冗長セルを有し、第一の半導体チ
ップと接続することなく、不良ビットを冗長セルと置換
した冗長救済後の状態を実現する機能を有することを特
徴とする。
である第二の半導体チップは、ヒューズを備えることな
くヒューズ切断後の状態を実現することができるので、
第二の半導体チップに対してP1検査後即座にP2検査
を実施することが可能になる。これにより、第一の半導
体チップと第二の半導体チップを貼り合わせた後で、第
二の半導体チップが正常に冗長救済が行われているか否
かを検査する必要がないため、結果として貼り合わせチ
ップ全体の歩留まりが向上し、検査コストが低減され
る。
半導体チップは、第一の外部入力端子(冗長救済解入力
パッド:PD2D)と、第一の外部入力端子から入力さ
れる不良ビットを救済するための冗長救済解を格納する
救済状態決定回路とを備えることが好ましい。
解を入力し、救済状態決定回路が冗長救済解を保持すれ
ば、以後は、冗長救済解を入力し続けることなく、冗長
救済後の状態を実現することができる。
第二の半導体チップは、第二の外部入力端子(コマンド
信号入力パッド:PD2B)と、第二の外部入力端子か
ら入力される信号(コマンド信号)により、第一の外部
入力端子から救済状態決定回路への入力を制御する制御
回路(コマンドデコード回路)とを備えたことが好まし
い。
御に必要となる入力端子数を削減することができ、ま
た、冗長救済解が完全に確定されてから、冗長救済後の
状態をとることができる。
回路は、第二の半導体チップが有する第三の外部入力端
子(冗長救済実行パッド:PD2E)からの入力信号
(RST信号)により、保持する冗長救済解を第二の半
導体チップ内部のメモリセル選択回路に出力する出力回
路を有することが好ましい。
は、第三の外部入力端子からの入力信号に基づく制御に
より、冗長救済前と冗長救済後の状態を実現することが
でき、冗長救済に伴う回路動作の不具合を容易に発見す
ることができる。
回路は、第一のシフトレジスタを有し、制御回路(コマ
ンドデコード回路)の出力信号に同期して、第一の外部
入力端子(冗長救済解入力パッド:PD2D)から入力
されるシリアルデータを格納することが好ましい。
ための入力端子数を大幅に削減することができる。
回路は、複数のレジスタ回路から構成され、第二の外部
入力端子(コマンド信号入力パッド:PD2B)からの
入力信号を受けて、制御回路(コマンドデコード回路)
が出力する信号により、複数のレジスタ回路が保持する
値を変更することが好ましい。
た予備のセルを容易に検査することができ、また、その
検査において、実際の救済状態と完全に同一である状態
を実現することができる。
半導体チップは、内部発生電圧を変更するための検知レ
ベル変更回路を有する内部電圧発生回路と、第四の外部
入力端子(検知レベル変更信号入力パッド:PD2F)
と、制御回路(コマンドデコード回路)の出力信号に同
期して、第四の外部入力端子からの入力信号により、検
知レベル変更回路を活性化するか否かを決定する検知レ
ベル決定回路とを備えることが好ましい。
ク変更による配線層の変更などの物理的状態を変化させ
ることなく、内部電圧発生回路の検知レベルを変更し、
第二の半導体チップの動作を変更することができる。
圧発生回路が検知レベル変更回路を使用することにより
発生可能となる各発生電圧に対応した第二のレジスタ回
路と、第二のレジスタ回路の入力信号、出力信号の経路
を、第四の外部入力端子(検知レベル変更信号入力パッ
ド:PD2F)からの入力信号により変更する経路変更
回路とを有することが好ましい。
のシフト分だけの入力信号により検知レベルを変更でき
るので、変更前の状態を引き継いだ形での検査および変
更が可能である。
半導体チップは、タイミング調整のためのタイミング変
更回路を有する内部タイミング信号発生回路と、第五の
外部入力端子(タイミング変更信号入力パッド:PD2
G)と、制御回路(コマンドデコード回路)の出力信号
に同期して、第五の外部入力端子からの入力信号によ
り、タイミング変更回路を活性化するか否かを決定する
内部タイミング決定回路とを備えることが好ましい。
チップごとに内部タイミング信号を容易に調整すること
ができる。
半導体チップは、内部発生電圧を変更するための検知レ
ベル変更回路を有する内部電圧発生回路と、第四の外部
入力端子(検知レベル変更信号入力パッド:PD2F)
と、制御回路(コマンドデコード回路)の出力信号に同
期して、第四の外部入力端子からの入力信号により、検
知レベル変更回路を活性化するか否かを決定する検知レ
ベル決定回路と、タイミング調整のためのタイミング変
更回路を有する内部タイミング信号発生回路と、第五の
外部入力端子(タイミング変更信号入力パッド:PD2
G)と、制御回路の出力信号に同期して、第五の外部入
力端子からの入力信号により、タイミング変更回路を活
性化するか否かを決定する内部タイミング決定回路と、
第一のセレクタ回路とを備え、第一のセレクタ回路は、
制御回路の出力信号に応じて、外部アドレス入力端子か
ら入力された信号を、救済状態決定回路、検知レベル決
定回路、内部タイミング決定回路に選択的に出力する機
能を有することが好ましい。
することなく、冗長救済解の入力、内部発生電圧の検知
レベルの変更、あるいは内部タイミングの変更のための
信号入力が可能になる。
て、図面を参照しながら説明する。
形態1に係るマルチチップ型の半導体装置の構造例を示
す模式図である。図1において、1はCPUなどの機能
を有する第一の半導体チップ、2は書き換え可能なメモ
リである第二の半導体チップ、3は集積回路パッケージ
である。このマルチチップ型半導体装置は、親チップで
ある第一の半導体チップ1の表面上に、子チップである
第二の半導体チップ2を貼り合わせたCOC構造を有す
る。第一の半導体チップ1は、第二の半導体チップ2の
不良ビットを救済するための冗長救済解を保持する冗長
救済用のヒューズ11を備える。第一の半導体チップ1
と第二の半導体チップ2とは、内部接続用パッドPD
1、PD2を介して接続されている。集積回路パッケー
ジ3の外部接続端子PDと第一の半導体チップの外部接
続用パッドPD11がボンディングワイヤーにより接続
され、第一の半導体チップ1と外部との信号の授受が行
われる。
を示す回路ブロック図である。図2において、内部接続
用パッドPD2(図1)は、アドレス信号入力パッドP
D2Aと、コマンド信号入力パッドPD2Bと、データ
入出力パッドPD2Cと、冗長救済用の救済情報を入力
するためのシリアルデータ入力パッドPD2Dと、冗長
救済の実行を指示する信号RSTの入力パッドPD2E
とから構成される。
装置上に配置されるパッドは狭ピッチであり、それを用
いてプローブ検査を行うのは極めて困難である。そこ
で、ウエーハ検査時には、別途ウーエハ上に設けられ、
内部接続用パッドPD2と同一の電位にある検査用パッ
ドPT2が使用される。
ドレスプリデコード回路である。アドレスバッファ回路
21から出力された信号ADDは、アドレスプリデコー
ド回路22に入力され、アドレスプリデコード回路22
は、ロウ方向のプリデコード信号PXとカラム方向のプ
リデコード信号PYを出力する。
ップ1からのヒューズ信号、あるいは冗長救済前のプロ
ーブ検査後、入力パッドPT2Dから入力された冗長救
済解を格納し、パッドPT2Eからの入力信号RSTに
応じて、特定セルを冗長セルに置換することを指示する
信号RX、RYを出力する救済状態決定回路である。2
5はコマンドデコード回路であり、コマンドデコード回
路25は、コマンド信号入力パッドPT2Bから入力さ
れる、通常動作では使用しないコマンド信号の組み合わ
せによりヒューズ信号入力モードに入り、救済状態決定
回路23に、ヒューズ信号入力モードであることを示す
信号SFを出力する。
スイッチ回路であり、それぞれプリデコード信号PX、
PYに基づいて特定アドレスを選択する。ワードドライ
バ回路26およびカラムスイッチ回路27は、冗長救済
時に、救済状態決定回路23からの救済信号RX、RY
に応じて、不良アドレスから冗長救済用セルを選択する
ようアドレスを変更する機能を有する。28はメモリセ
ルである。
外部より検査用パッドPT2に対して、テスト用アドレ
ス信号、コマンド信号およびデータの入出力を行うこと
により、実行される。P1検査の結果、第二の半導体チ
ップ2に冗長救済が必要であると判定された場合、第二
の半導体チップ2を冗長救済状態にするため、コマンド
信号入力パッドPT2Bにコマンド信号を入力して、第
二の半導体チップ2をヒューズ信号入力モードにすると
ともに、シリアルデータ入力パッドPT2Dに、ロウ方
向の冗長救済信号REDRとカラム方向の冗長救済信号
REDCをシリアルデータ(ヒューズ切断状態が論理
「L」レベル、ヒューズ未切断状態が論理「H」レベ
ル)として入力する。
部構成を示す回路図である。図3において、各ヒューズ
信号決定回路24a、24b、24cは、たとえばD型
フリップフロップのような1つのレジスタ241と、レ
ジスタ241の出力信号をラッチし、ワードドライバ回
路26に救済信号RXとして、またカラムスイッチ回路
27に救済信号RYとして出力する出力回路242とか
らなる。図4は、レジスタ241の内部構成を示す回路
図、図5は、出力回路242の内部構成を示す回路図で
ある。
スタの保持値を論理「H」レベルにするS(セット)端
子と論理「L」レベルにするR(リセット)端子を有
し、S端子には信号PORが入力されているため、電源
投入時には必ず内部の保持値は論理「H」レベルとされ
る。また、一部のヒューズ信号決定回路、たとえば図3
でヒューズ信号決定回路24bのR端子にのみ信号FR
STが入力され、その他のヒューズ信号決定回路24
a、24bのR端子には接地電位VSSが入力されてい
る。
4b、24cは、前段のレジスタ241の出力信号OU
Tが次段のレジスタ241の入力信号INになるよう直
列に接続され、第二の半導体チップ2がヒューズ信号入
力モードに入ると、前段のヒューズ信号決定回路のレジ
スタ241は、CLK信号に同期して、次段のヒューズ
信号決定回路のレジスタ241にデータをシフトする。
の動作について説明する。
リアルデータとして、ロウ方向の冗長救済信号REDR
とカラム方向の冗長救済信号REDCが入力された後、
救済信号入力モードが解除され、パッドPT2Eから論
理「L」レベルのRST信号が入力されると、レジスタ
241(図3)に格納された救済情報が、ロウ方向の救
済情報RXおよびカラム方向の救済情報RYとして、そ
れぞれワードドライバ回路26およびカラムスイッチ回
路27に入力される。このため、ヒューズ11を切断す
ることなく、外部信号の制御により、冗長救済状態が実
現される。
して、テスト用アドレス、コマンド信号およびデータの
入出力を実行することにより、冗長救済後の形態での検
査を実行することが可能となる。
は、ヒューズ信号決定回路24bのレジスタ241)
は、コマンドデコード回路25によって、コマンド入力
パッドPT2Bから入力される、通常動作時には使用し
ないコマンド信号の組み合わせに基づき生成されるFR
ST信号を受け、内部保持値がリセットされ、ヒューズ
切断状態を示す。このため、一部のレジスタ241を適
当に配置することで、FRST信号により、一部のレジ
スタ241がただ1つの冗長救済解のみを保持している
状態を実現することが可能になる。また、レジスタ24
1は、コマンドデコード回路25によって、コマンド入
力パッドPT2Eから入力される、通常動作時には使用
しないコマンド信号の組み合わせに基づき生成される信
号FSTを受け、内部保持値がセットされるため、複数
の冗長救済先のセルの検査が即座に可能になる。
状態を実現し、実際の冗長救済状態と同じ条件で冗長救
済先のセルを検査することが可能となる。また、必要に
応じて、RST信号を論理「H」レベルにすることで、
冗長救済前の状態を実現でき、冗長救済に伴う不具合を
容易に確認することができる。
にヒューズ11を切断することなく、冗長救済後の状態
を実現して検査を行うことが可能となり、検査コストの
削減を図ることができる。なお、第二の半導体チップ2
において、RST信号が入力されるパッドPD2Eが、
チップ貼り合わせ後に必要でない場合、ウエーハ上にの
みパッドPT2Eを配置し、第二の半導体チップ2にパ
ッドPD2Eを配置しない構成でもかまわない。その場
合、貼り合わせ時に冗長救済の状態とするために、図6
に示すような構成とすることが好ましい。
スタ241で構成されることで、ただ一つの外部入力パ
ッドからの入力により、冗長救済解をシフトレジスタ2
41に格納することができる。
容易に冗長救済前後の状態を実現することが可能であ
り、例えば、冗長救済のために設けられた予備セルが、
救済対象の不良セルのアドレスとかけ離れた場所に存在
する場合、遅延によるタイミング不良や回路不具合など
に起因する冗長救済による不具合を容易に発見すること
ができる。
リアルデータとして入力したが、内部のデコード回路に
よりデコードした信号を各ヒューズ信号決定回路24
a、24b、24cに格納させてもかまわない。
形態2に係る半導体装置における第二の半導体チップ2
の構成例を示す回路ブロック図である。本実施の形態に
おいても実施の形態1の場合と同様に、半導体装置は、
集積回路パッケージ3内部で第一の半導体チップ1と第
二の半導体チップ2が貼り合わされたCOC構造を有す
る。なお、図7において、図2と同様の構成要素には同
じ符号を付して説明を省略する。また、図7には、説明
の便宜上、図2に示すワードドライバ回路26、カラム
スイッチ回路27、メモリセル28は図示していない。
あり、32は、内部電圧発生回路30の発生電位を決定
する検知レベル決定回路である。40は内部タイミング
信号発生回路であり、42は内部タイミング信号発生回
路40が発生する信号のタイミングあるいはパルス幅を
変更する内部タイミング決定回路である。
入力される、通常動作では使用しないコマンド信号の組
み合わせにより、検知レベル変更モードに入り、検知レ
ベル切換信号SVを検知レベル決定回路32に出力す
る。また、コマンドデコード回路24は、上記とは異な
る、通常動作では使用しないコマンド信号の組み合わせ
を入力することにより、内部タイミング変更モードに入
り、タイミング切換信号SPをタイミング決定回路42
に出力する。
知レベル決定回路32の内部構成を示す回路ブロック図
である。図8において、内部電圧発生回路30は、検知
レベル変更のための複数の検知レベル変更回路31a、
31b、31cを有する。各検知レベル変更回路31
a、31b、31cは、図9に示すような内部構成であ
り、入力信号INに基づいて、電圧レベルLV1とLV
2とがドレイン・ソース間に印加されるトランジスタ9
1による電圧レベルの変更を有効あるいは無効にする。
ここで、図9のVINは、電圧レベル変更のための、内
部電圧発生回路30の内部信号もしくは電源電位VD
D、VSSなどであり、各検知レベル変更回路内部のト
ランジスタ91は異なるゲート長を有し、その組み合わ
せにより、発生電圧レベルを変更することができる。
タ回路33a、33b、33cと、ラッチ回路34a、
34b、34cと、レジスタ回路33a、33b、33
cへの入力信号およびそれらからの出力信号の経路を変
更する経路変更回路35と、デコード回路36とで構成
される。レジスタ回路33a、33b、33cは、前述
した図4のような内部構成をとる。レジスタ回路33
a、33b、33cのうちただ一つのレジスタ回路33
bのS入力端子にのみPOR信号が入力されている。な
お、図10は、経路変更回路35を構成する各切換回路
351の内部構成を示す回路図である。
の各出力信号(OUT)はデコード回路36(IN3、
IN2、IN1)に入力され、その出力信号であるデコ
ード信号(OUT3、OUT2、OUT1)がラッチ回
路34a、34b、34cでラッチされて、電源投入後
にただ一つの検知レベルが設定される。
ただ一つのレジスタ回路33bのみに論理「H」レベル
を保持させ、その他のレジスタ33a、33cには論理
「L」レベルを保持させる。外部からのコマンド入力に
より検知レベル変更モードに入り、SV信号が論理
「H」レベルになると、CLK信号と同期して、外部入
力パッドPT2Fへの入力信号が論理「H」レベルの場
合には、検知レベルを上げる方向に、それが論理「L」
レベルの場合には、検知レベルを下げる方向に、レジス
タ回路33a、33b、33cに保持されたデータがシ
フトされ、デコード回路36に出力される。検知レベル
変更モードから抜けると、ラッチ回路34a、34b、
34cは、デコード回路36からの出力信号をラッチ
し、そのラッチした信号を検知レベル変更回路31a、
31b、31cに出力し、検知レベルを変更して、内部
発生電圧を変更させる。
回路40とタイミング決定回路42の内部構成を示す回
路ブロック図である。図11において、内部タイミング
信号発生回路40は、タイミング調整のための複数のタ
イミング変更回路を有し、このうち数個のタイミング変
更回路41a、41b、41cは、それぞれ、ラッチ回
路43a、43b、43cからの出力信号(OUT)を
信号ENとして受けて、信号ENにより、タイミング変
更回路41a、41b、41cが活性化されるか否かが
決定される。
ング変更モードに入ると、デコード回路44が、外部入
力パッドPT2Gから取り込んだタイミング変更信号T
MGをデコードして、そのデコード信号TMG1、TM
G2、TMG3はそれぞれラッチ回路43a、43b、
43cに入力される。図12は、各ラッチ回路43a、
43b、43cの内部構成を示す回路図である。ラッチ
回路43a、43b、43cは、電源立ち上げ時にVS
Sをラッチした後、タイミング変更モードの時に出力さ
れる信号SPの論理「H」レベル期間中に、それぞれデ
コード信号TMG1、TMG2、TMG3を取り込み、
ラッチした信号をタイミング変更回路41a、41b、
41cに出力する。
cはそれぞれラッチ回路43a、43b、43cから入
力された信号に応じて、スイッチによりタイミング変更
を行う。これ以後の通常動作において、内部タイミング
信号発生回路40は、タイミング変更後の信号を発生す
ることが可能となる。
より内部電圧発生回路30の検知レベルを変更すること
が可能となる。また、外部からの信号の制御により、実
際にタイミング変更後の状態を実現することができ、ウ
エーハごとあるいはチップごとに最適なタイミング調整
が可能となる。
回路32において、内部のレジスタ回路33a、33
b、33cへの入力信号およびそこからの出力信号の経
路を、外部入力パッドPT2Fからの入力信号に基づい
て、経路変更回路35によって変更するものとしたが、
通常のシフトレジスタによる構成として、そこに外部か
らのシリアルデータを格納してもよいことは言うまでも
ない。
外部より入力される信号TMGをデコードし、そのデコ
ード信号TMG1、TMG2、TMG3をそれぞれラッ
チ回路43a、43b、43cに格納したが、実施の形
態1のように、TMG信号をシリアルデータとし、レジ
スタ回路を直列に接続したシフトレジスタを用いて、タ
イミング変更モード時にCLK信号に同期してシフトレ
ジスタにタイミング変更データTMGを格納してもよい
ことは言うまでもない。
の形態3に係る半導体装置における第二の半導体チップ
2の構成例を示す回路ブロック図である。本実施の形態
においても、上述の実施の形態の場合と同様に、半導体
装置は、集積回路パッケージ3内部で第一の半導体チッ
プ1と第二の半導体チップ2が貼り合わされたCOC構
造を有する。なお、図13において、図2および図7と
同様の構成要素には同じ符号を付して説明を省略する。
時に使用しない外部コマンド信号の組み合わせで、ヒュ
ーズ信号入力モード、検知レベル変更モード、タイミン
グ変更モードにそれぞれ入り、それに対応して切換信号
SF、SV、SPを出力し、これらのモード以外の通常
動作では信号SNを出力する。
換回路29a、29b、29c、29dにより、コマン
ドデコード回路25”の出力信号SN、SF、SV、S
Pに応じて、アドレスバッファ回路21からの出力信号
ADDを、プリデコード回路22、救済状態決定回路2
3、検知レベル決定回路32、およびタイミング決定回
路42のいずれかに出力する。
ーズ信号、検知レベル変更信号、タイミング変更信号は
それぞれシリアルデータとしてアドレス入力パッドPT
2Aを介して入力され、各モード時にCLK信号に同期
して各レジスタ回路に入力される。この入力方法を使用
することにより、入力パッド数を増加することなく、冗
長救済後の状態の実現、内部電圧の検知レベルの変更、
および内部タイミングの変更が可能となる。
造を有する半導体装置について説明したが、パッドをワ
イヤーボンディングにより接続したマルチチップ型構造
を有する半導体装置でも同様の効果が得られる。
決定回路32、内部タイミング決定回路42をいずれも
シフトレジスタで構成し、それぞれに対するデータ設定
を、各内部モード時にシリアルデータを入力することで
行ってもよい。
マルチチップ型半導体装置における書き換え可能なメモ
リである第二の半導体チップがヒューズを備えない状態
でも冗長救済後の状態を実現することができ、さらに内
部電圧検知レベルの変更や内部タイミングの変更をチッ
プごとに、外部入力端子を増加することなく実現でき
る、という格別な効果を奏する。
造例を示す模式図
す回路ブロック図
す回路図
図
構成を示す回路図
信号の入力回路
ける第二の半導体チップ2の内部構成を示す回路ブロッ
ク図
定回路32の内部構成を示す回路ブロック図
検知レベル変更回路31a、31b、31cの内部構成
を示す回路図
路351の内部構成を示す回路図
タイミング決定回路42の内部構成を示す回路ブロック
図
ラッチ回路43a、43b、43cの内部構成を示す回
路図
おける第二の半導体チップ2の内部構成を示す回路ブロ
ック図
を示す模式図
レジスタ回路 34a、34b、34c 検知レベル決定回路32内の
ラッチ回路 35 経路変更回路 351 経路変更回路35内の切換回路 36 デコード回路 40 内部タイミング信号発生回路 41a、41b、41c 内部タイミング信号発生回路
40内のタイミング変更回路 42 内部タイミング決定回路 43a、43b、43c 内部タイミング決定回路42
内のラッチ回路 44 内部タイミング決定回路42内のデコード回路 PD1、PD2 内部接続用パッド PD11 外部接続用パッド PD 外部接続端子 PD2A、PT2A 第二の半導体チップ2のアドレス
信号入力パッド PD2B、PT2B 第二の半導体チップ2のコマンド
信号入力パッド PD2C、PT2C 第二の半導体チップ2のデータ入
出力パッド PD2D、PT2D 第二の半導体チップ2の冗長救済
解入力パッド PD2E、PT2E 第二の半導体チップ2の冗長救済
実行パッド PD2F、PT2F 第二の半導体チップ2の検知レベ
ル変更信号入力パッド PD2G、PT2G 第二の半導体チップ2のタイミン
グ変更信号入力パッド
Claims (10)
- 【請求項1】 第一の半導体チップと、書き換え可能な
メモリである第二の半導体チップとがパッケージ内部で
接続されるマルチチップ型の半導体装置であって、 前記第一の半導体チップは、前記第二の半導体チップの
不良ビットを救済するための冗長救済解を保持する冗長
救済用ヒューズを備え、 前記第二の半導体チップは、前記不良ビットと置換する
冗長セルを有し、前記第一の半導体チップと接続するこ
となく、前記不良ビットを前記冗長セルと置換した冗長
救済後の状態を実現する機能を有することを特徴とする
半導体装置。 - 【請求項2】 前記第二の半導体チップは、 第一の外部入力端子と、 前記第一の外部入力端子から入力される不良ビットを救
済するための冗長救済解を格納する救済状態決定回路と
を備えたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記第二の半導体チップは、 第二の外部入力端子と、 前記第二の外部入力端子から入力される信号により、前
記第一の外部入力端子から前記救済状態決定回路への入
力を制御する制御回路とを備えたことを特徴とする請求
項2記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記救済状態決定回路は、前記第二の半
導体チップが有する第三の外部入力端子からの入力信号
により、保持する冗長救済解を前記第二の半導体チップ
内部のメモリセル選択回路に出力する出力回路を有する
ことを特徴とする請求項3記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記救済状態決定回路は、第一のシフト
レジスタを有し、前記制御回路の出力信号に同期して、
前記第一の外部入力端子から入力されるシリアルデータ
を格納することを特徴とする請求項3記載の半導体装
置。 - 【請求項6】 前記救済状態決定回路は、複数のレジス
タ回路から構成され、前記第二の外部入力端子からの入
力信号を受けて、前記制御回路が出力する信号により、
前記複数のレジスタ回路が保持する値を変更することを
特徴とする請求項3記載の半導体装置。 - 【請求項7】 前記第二の半導体チップは、 内部発生電圧を変更するための検知レベル変更回路を有
する内部電圧発生回路と、 第四の外部入力端子と、 前記制御回路の出力信号に同期して、前記第四の外部入
力端子からの入力信号により、前記検知レベル変更回路
を活性化するか否かを決定する検知レベル決定回路とを
備えたことを特徴とする請求項3記載の半導体装置。 - 【請求項8】 前記検知レベル決定回路は、 前記内部電圧発生回路が前記検知レベル変更回路を使用
することにより発生可能となる各発生電圧に対応した第
二のレジスタ回路と、 前記第二のレジスタ回路の入力信号、出力信号の経路
を、前記第四の外部入力端子からの入力信号により変更
する経路変更回路とを有することを特徴とする請求項7
記載の半導体装置。 - 【請求項9】 前記第二の半導体チップは、 タイミング調整のためのタイミング変更回路を有する内
部タイミング信号発生回路と、 第五の外部入力端子と、 前記制御回路の出力信号に同期して、前記第五の外部入
力端子からの入力信号により、前記タイミング変更回路
を活性化するか否かを決定する内部タイミング決定回路
とを備えたことを特徴とする請求項3記載の半導体装
置。 - 【請求項10】 前記第二の半導体チップは、 内部発生電圧を変更するための検知レベル変更回路を有
する内部電圧発生回路と、 第四の外部入力端子と、 前記制御回路の出力信号に同期して、前記第四の外部入
力端子からの入力信号により、前記検知レベル変更回路
を活性化するか否かを決定する検知レベル決定回路と、 タイミング調整のためのタイミング変更回路を有する内
部タイミング信号発生回路と、 第五の外部入力端子と、 前記制御回路の出力信号に同期して、前記第五の外部入
力端子からの入力信号により、前記タイミング変更回路
を活性化するか否かを決定する内部タイミング決定回路
と、 第一のセレクタ回路とを備え、 前記第一のセレクタ回路は、前記制御回路の出力信号に
応じて、外部アドレス入力端子から入力された信号を、
前記救済状態決定回路、前記検知レベル決定回路、前記
内部タイミング決定回路に選択的に出力することを特徴
とする請求項3記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001221904A JP3644913B2 (ja) | 2001-07-23 | 2001-07-23 | 半導体装置 |
US10/194,593 US6696714B2 (en) | 2001-07-23 | 2002-07-11 | Multichip semiconductor device having a hip with redundancy restoration fuse that affects a redundant memory array |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001221904A JP3644913B2 (ja) | 2001-07-23 | 2001-07-23 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003036691A true JP2003036691A (ja) | 2003-02-07 |
JP3644913B2 JP3644913B2 (ja) | 2005-05-11 |
Family
ID=19055489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001221904A Expired - Fee Related JP3644913B2 (ja) | 2001-07-23 | 2001-07-23 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6696714B2 (ja) |
JP (1) | JP3644913B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7706198B2 (en) | 2006-10-02 | 2010-04-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-chip and repairing method based on remaining redundancy cells |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100459730B1 (ko) * | 2002-12-02 | 2004-12-03 | 삼성전자주식회사 | 핀의 기생 부하를 최소화시키는 멀티 칩 패키지 |
US7847383B2 (en) * | 2002-12-02 | 2010-12-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-chip package for reducing parasitic load of pin |
JP4190961B2 (ja) * | 2003-06-26 | 2008-12-03 | 株式会社ルネサステクノロジ | マルチチップモジュール |
JP5119626B2 (ja) * | 2006-08-18 | 2013-01-16 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 電気ヒューズ回路 |
US8726837B2 (en) * | 2008-06-23 | 2014-05-20 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor process chamber vision and monitoring system |
KR20160025956A (ko) * | 2014-08-28 | 2016-03-09 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체장치 및 이를 포함하는 반도체시스템 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10241398A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Nec Corp | 半導体メモリ装置 |
JP4587500B2 (ja) | 1998-11-11 | 2010-11-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路、メモリモジュール、記憶媒体、及び半導体集積回路の救済方法 |
TW473734B (en) * | 1999-09-07 | 2002-01-21 | Samsung Electronics Co Ltd | Semiconductor memory device having redundancy circuit capable of improving redundancy efficiency |
JP2001216799A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-08-10 | Toshiba Microelectronics Corp | 半導体記憶装置 |
-
2001
- 2001-07-23 JP JP2001221904A patent/JP3644913B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-07-11 US US10/194,593 patent/US6696714B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7706198B2 (en) | 2006-10-02 | 2010-04-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-chip and repairing method based on remaining redundancy cells |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030015733A1 (en) | 2003-01-23 |
US6696714B2 (en) | 2004-02-24 |
JP3644913B2 (ja) | 2005-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7706202B2 (en) | Semiconductor device having electrical fuses with less power consumption and interconnection arrangement | |
JP4868345B2 (ja) | 半導体記憶素子のリダンダンシー回路 | |
US7609580B2 (en) | Redundancy program circuit and methods thereof | |
JPH09213100A (ja) | 半導体記憶装置及びその欠陥検査方法 | |
JPS63217821A (ja) | 半導体集積回路 | |
US6026036A (en) | Synchronous semiconductor memory device having set up time of external address signal reduced | |
JPH07201200A (ja) | 半導体メモリ装置のバーンイン制御回路とそれを利用したバーンインテスト方法 | |
JPH11316264A (ja) | 半導体装置の並列テスト回路 | |
KR100319893B1 (ko) | 리던던시 메모리 셀 블락을 선택적으로 차단하여 테스트함으로써 불량 메모리 셀의 위치 판별이 용이한 반도체 메모리 장치 | |
JP4627865B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH10275898A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP2004028885A (ja) | 半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法 | |
JP3644913B2 (ja) | 半導体装置 | |
US5801999A (en) | Semiconductor memory | |
KR19980070870A (ko) | 반도체 메모리장치 | |
JP2902593B2 (ja) | 半導体メモリ装置 | |
EP1750282A1 (en) | A shared redundant memory architecture and memory system incorporating the same | |
JP3198546B2 (ja) | 冗長用メモリセルを有する半導体装置 | |
JP2008244003A (ja) | 半導体装置 | |
KR100238866B1 (ko) | 번인테스트 동작에서도 사용가능한 어레이 전원전압 발생기 | |
KR20030000590A (ko) | 시프트 리던던시 회로를 갖는 반도체 메모리 장치 | |
KR20160001032A (ko) | 래치 회로 및 이를 포함하는 반도체 장치 | |
JP2011009332A (ja) | 半導体装置 | |
JPH05159597A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2003007078A (ja) | 半導体記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040910 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080210 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |