JP2003030908A

JP2003030908A - 情報記録媒体およびその製造方法

Info

Publication number: JP2003030908A
Application number: JP2001212481A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Suzuki; 克己鈴木
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2001-07-12
Filing date: 2001-07-12
Publication date: 2003-01-31

Abstract

(57)【要約】【目的】記録媒体の面ぶれにより対物レンズと表面カバ
ー層とが接触しない程度に表面カバー層を含む記録媒体
全体の反りを低減可能な記録媒体およびその製造方法を
提供する。【解決手段】この発明の光ディスクＤ_１は、シート状部
材５とセパレータがテフロン（登録商標）系材料である
両面粘着剤層６とからなる表面カバー層７と、情報面３
および記録層１５を有する基板２と、記録層の近傍に位
置される誘電体保護膜のうち、粘着剤層の側に設けられ
る誘電体保護膜１６の膜厚が１８０ｎｍ以上である光デ
ィスクである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、情報が記録され
る記録層よりも光源側に位置される表面カバー層の厚さ
が１００μｍ（０．１ｍｍ）程度の高密度な情報記録が
可能な記録媒体に関し、表面カバー層の厚さに応じて選
択される開口率の高い対物レンズを用いた場合に、記録
媒体の面ぶれにより対物レンズと表面カバー層とが接触
しない程度に表面カバー層を含む記録媒体全体の反りを
低減可能な記録媒体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大容量メモリとして光ディスクが
注目をあびている。

【０００３】光ディスクは、ＣＤ（音楽用コンパクトデ
ィスクおよびＣＤ規格のＲＯＭ）に代表される再生専用
型、ＣＤ−Ｒ（ＣＤ規格のメモリ）に代表される１回追
記型、ＣＤ−ＲＷ（コンピュータの外付けメモリ）に代
表される書き換え可能型の３種類に大別される。さらに
書き換え可能型は、光磁気ディスク（ＭＯ）と相変化デ
ィスク（ＰＣ）に大別される。

【０００４】相変化光ディスクは、レーザビーム等を照
射して局所的に加熱することにより非晶質と結晶との間
で可逆的な相変化を示す相変化記録膜を用いて、記録マ
ーク（非晶質）とバックグラウンドの結晶状態との反射
率の差から、記録されている情報を再生するものであ
る。

【０００５】上述した光ディスクにおいては、記録膜の
レーザビームの照射部分が、非晶質（マーク・記録状
態）になるか、結晶（消去状態）になるかは、レーザビ
ームが照射された部分が膜を構成する材料の融点を越え
るか、または結晶化温度を越えるかのみに依存するた
め、レーザビームを強弱変調することで、オーバライト
が可能である。

【０００６】近年、光ディスクの高密度化に伴って、以
下に説明するような技術が既に実施されている。以下、
再生専用ディスクを例に、高密度化の技術を説明する。

【０００７】ＣＤ（音楽用）ディスクが製品化された当
時は、光ヘッドに搭載された半導体レーザが出射するレ
ーザビームの波長が７８０ｎｍであり、対物レンズの開
口数（Numerical Aperture）ＮＡは、０．５２で、ディ
スクの厚みは、１．２ｍｍに設定されていたが、ＤＶＤ
ディスクでは、これらのパラメータは、レーザビームの
波長が６５０ｎｍ、対物レンズのＮＡが０．６、ディス
クの基板の厚さ（記録層と最外部との間の距離）が０．
６ｍｍに変更されている。なお、ＣＤディスクからＤＶ
Ｄディスクへの変遷時に、上述のパラメータが変更され
た理由は、ＣＤディスクで実用化されたパラメータを変
えない限り、それ以上の高密度化が困難であるという理
由である。

【０００８】レーザビームの集光スポット径は、良く知
られているように、レーザビームの波長をλ、対物レン
ズの開口数をＮＡとすると、λ／ＮＡに比例する。従っ
て、レーザビームの集光スポット径をより小さくするた
めには、波長λをより短く、対物レンズの開口数ＮＡ
を、できるだけ大きくする必要がある。

【０００９】しかしながら、ディスク基板の厚さをｔと
すると、ＤＶＤディスク向けに波長の短いレーザビーム
を用いることに起因して、ｔ（ＮＡ）３／λに比例する
コマ収差が増大するため、密度記録を行うためには、上
述したように、開口数ＮＡを大きく、波長λを短く設定
すれば良いが、コマ収差の増大を抑制するためには、基
板の厚さｔを薄くしなければならないことは明白であ
る。

【００１０】最近は、既にポストＤＶＤとして、波長λ
が４００ｎｍ近辺のレーザビームを用い、開口数ＮＡも
できるだけ大きくするというさまざまな提案がある。し
かしながら、レーザビームの波長λが短くなることによ
り、基板の厚さｔは、さらに薄くなることから、結果と
して機械的強度が不足する問題が生じている。

【００１１】このため、入射する側の基板の厚さｔを薄
くするさまざまな試みが、提案されている。なお、表面
カバー層として、従来の基板の厚さを単純に薄くして、
厚さ０．１ｍｍ程度にすると、直径が１３０ｍｍのディ
スクでは、機械的強度が不足して、機械精度を維持する
ことができなくなる。

【００１２】このことから、例えばレーザビームの波長
を４１０ｎｍとし、ＮＡが０．８５のレンズを組み込ん
だ光ヘッドを用いることを可能とし、しかもディスクの
機械的強度も得るために、従来の例とは逆に、基板とは
逆の記録膜側からレーザビームを照射する方式が提案さ
れている。すなわち、記録層をダミーの基板に設けてデ
ィスクの機械的な剛性を確保し、記録膜を保護する目的
で、記録層よりも外側（レーザビームが照射される側）
に厚さ０．１ｍｍ（１００μｍ）の表面カバー層を設
け、レーザビームは、０．１ｍｍ厚の表面カバー層を透
過して、記録膜に照射させるものである。

【００１３】この場合、厚さ０．１ｍｍの表面カバー層
を、記録層（ダミー基板）に、塗布することで、または
厚さ０．１ｍｍのシートを貼り合わせることにより、機
械的な強度および機械精度が高められる。

【００１４】厚さが０．１ｍｍの表面カバー層を形成す
る方式としては、（１）紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹
脂）を記録層（ダミー基板）の表面にスピン塗布した後
に、紫外線（ＵＶ光）を照射して硬化させる、（２）厚
さが０．０７ｍｍから０．０８ｍｍ程度の透明シートに
厚さが０．０３ｍｍから０．０２ｍｍの両面粘着剤を接
着して記録層（ダミー基板）に圧着する、もしくは
（３）記録層（基板）上に厚さが０．００１ｍｍから
０．００５ｍｍのＵＶ硬化樹脂をスピン塗布し、厚さが
概ね０．１ｍｍの透明シートを貼り合せる、等が利用可
能である。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】上記した（１）ないし
（３）の表面カバー層の形成方式には、それぞれ以下に
示すような、長所と短所とがある。

【００１６】（１）の方式すなわち記録層（ダミー基
板）の表面に、ＵＶ硬化樹脂をスピン塗布する方法は、
最も手軽に操作可能であるという利点があるが、反面Ｕ
Ｖ硬化樹脂をダミー基板（記録層）の全面に渡って、厚
さ０．１ｍｍで均一に塗布することが困難である。な
お、表面カバー層に要求される厚さの均一性は、上述し
たコマ収差との関連で、一般に０．１ｍｍ±０．００２
ｍｍであるとされている。

【００１７】ＵＶ硬化樹脂を、１回の工程で０．１ｍｍ
±０．００２ｍｍの精度（均一性）で、ディスク全面に
塗布することは実質的に困難であるため、粘度の異なる
ＵＶ硬化樹脂を、数回に分けてスピン塗布する方法があ
る。この方法では、ディスクの全面に、高い均一性でＵ
Ｖ硬化樹脂を塗布できるが、ディスクの最外周の縁の部
分でディスクの材料とＵＶ硬化樹脂との表面張力によ
り、ＵＶ硬化樹脂が盛り上がってしまうことは、この分
野の技術者には、良く知られている。また、ＵＶ硬化樹
脂は、厚さが０．１ｍｍ程度である場合、ＵＶ光の照射
による硬化の過程で収縮するため、ダミー基板との引っ
張り応力の関連で、ディスク基板が反ってしまうこと
も、この方式の欠点である。

【００１８】（２）の方式すなわち厚さが０．０７ｍｍ
から０．０８ｍｍ程度の透明シートに厚さが０．０３ｍ
ｍから０．０２ｍｍの両面粘着剤を接着して記録層（ダ
ミー基板）に圧着する方法では、透明シートの厚さの均
一性や、市販されている両面粘着剤の厚さの均一性が高
いので、（１）の方式に比較して表面カバー層の厚さの
均一性が低下する問題は生じない。また、両面粘着剤
は、ＵＶ硬化樹脂の硬化時の収縮の程度と比較すると、
両面粘着剤が延び縮みしやすいので、透明シートを貼り
付けた後で、反り等の機械精度が問題になることも少な
い。さらに、粘着剤が乾式材料なので、貼り合せのハン
ドリングや材料の管理も容易である。

【００１９】しかしながら、（２）の方式においても、
ディスク全面にわたる粘着剤の厚さ均一性には問題は無
いが粘着層に微小な凹凸があり、通常は、ディスクとシ
ートの間に粘着剤を配置して真空中で圧着する、または
一度貼りつけた後に加圧器の中に入れて加圧する等の圧
力をかける工程が必要である。なお、粘着剤は、基本的
に液体では無いので、粘着層の微小な凹凸は、圧力をか
ける工程の後でも完全に消滅（密着）することはなく、
ダミー基板と粘着剤との間に、部分的に、空気による隙
間が存在することになる。

【００２０】ダミー基板と粘着剤との間に存在する空気
からなる隙間は、ダミー基板の表面に成膜された膜が、
記録および再生もしくは消去可能な相変化記録膜である
場合には、記録膜の初期状態である非晶質状態から結晶
状態に初期化（初期結晶化）する工程において、数十μ
ｍの半径が与えられた大出力のレーザビームが記録膜の
全面に一定線速で走査される際に、膨張し、ダミー基板
と粘着剤との間に不要な応力を残留させる問題がある。

【００２１】この微小な凹凸に起因して生じる残留内部
応力は、表面カバー層側からレーザビームを照射して光
ディスクドライブのサーボをかける際に、反射レーザビ
ームに部分的な乱れが生じることにより、サーボ外れを
引き起こす問題がある。

【００２２】粘着層の表面に微小な凹凸が生じる原因は
解明されていないが、粘着剤を剥離用のセパレータ（粘
着層を塗ってある基材）に塗布する際の工程の問題か、
または、基板と透明シートを貼り合せるために粘着層か
らセパレータを剥がす工程で生じていると考えることが
妥当である。

【００２３】（３）の方式すなわち記録層（ダミー基
板）上に厚さが０．００１ｍｍないし０．００５ｍｍの
ＵＶ硬化樹脂をスピン塗布し、厚さが概ね０．１ｍｍの
透明シートを貼り合せる方法では、ＵＶ硬化樹脂層を極
力薄くダミー基板上に塗布することで、表面カバー層の
厚さの均一性を、透明シートの厚さの均一性と同程度に
維持でき、しかも厚さの均一性保つことも比較的容易で
ある。また、（２）の方式のように、セパレータを剥が
す工程と、ダミー基板と透明シートとの間に接着層をお
いて圧力をかける工程も無いため、粘着層の表面に微少
な凹凸が生じることもない。

【００２４】しかしながら、透明シートとＵＶ硬化樹脂
層を貼り合せる工程は、一般には、ダミー基板の内周側
にＵＶ硬化樹脂を円形に塗布し、その上に透明シート
（表面カバー層）を載せたダミー基板−ＵＶ硬化樹脂−
透明シートのサンドイッチ状のディスク体を高速で回転
させることにより、ＵＶ硬化樹脂をダミー基板の外周に
向けて延ばしていく方法がとられるが、ＵＶ硬化樹脂中
に残存する気泡や微小なごみが、ディスク体を回転させ
た際の遠心力によっても完全に飛びさらないため、ＵＶ
硬化樹脂層を硬化させるためにＵＶ光を照射した後も、
ＵＶ硬化樹脂層中に微小な気泡やごみが残る問題があ
る。

【００２５】ＵＶ硬化樹脂層中に気泡やごみが残ると、
（２）の方法で前に説明したと同様に、表面カバー層側
からレーザビームを照射して光ディスクドライブのサー
ボをかける際に、反射レーザビームに部分的な乱れが生
じることにより、サーボ外れを引き起こす問題がある。
なお、ＵＶ硬化樹脂をダミー基板に非常に薄く均一に塗
布しようとすると、ＵＶ硬化樹脂の塗布が不十分となる
部分が存在しやすく、その場合、同様にサーボ外れを引
き起こす光学的な外乱が確認されている。

【００２６】この発明の目的は、情報が記録される記録
層よりも光源側に位置される表面カバー層の厚さが１０
０μｍ（０．１ｍｍ）程度の高密度な情報記録が可能な
記録媒体に関し、表面カバー層の厚さに応じて選択され
る開口率の高い対物レンズを用いた場合に、記録媒体の
面ぶれにより対物レンズと表面カバー層とが接触しない
程度に表面カバー層を含む記録媒体全体の反りを低減可
能な記録媒体およびその製造方法を提供することにあ
る。

【００２７】

【課題を解決するための手段】この発明は、上述した問
題点に基づきなされたもので、少なくとも１面にピット
もしくはグルーブ等が形成された情報面を有する基板
と、前記基板の上記情報面を覆う表面カバー層と、を有
し、前記表面カバー層は、シート状部材と両面粘着剤層
とからなり、前記両面粘着剤層は、四フッ化エチレン樹
脂またはその重合体を含む材料からなるセパレータによ
り両面が保護されて供給されるものであることを特徴と
する情報記録媒体を提供するものである。

【００２８】またこの発明は、少なくとも１面にピット
もしくはグルーブ等が形成された情報面を有する基板
と、前記基板の上記情報面を覆う表面カバー層と、を有
し、前記表面カバー層は、シート状部材と両面粘着剤層
とからなり、前記両面粘着剤層は、四フッ化エチレン樹
脂またはその重合体を含む材料からなるセパレータによ
り両面が保護された状態で供給され、前記両面粘着材層
のうちの一方の上記セパレータを剥がして前記シート状
部材を、真空中で０．３ｋｇ／ｃｍ^２から１．０ｋｇ／
ｃｍ^２の範囲の圧力で加圧して圧着し、前記シート状部
材が圧着された面と反対の面の上記セパレータを剥がし
て前記基板の上記情報面等が形成された面に対して、真
空中で０．３ｋｇ／ｃｍ^２から１．０ｋｇ／ｃｍ^２の範
囲の圧力で加圧して圧着する、ことを特徴とする情報記
録媒体の製造方法を提供するものである。

【００２９】さらにこの発明は、少なくとも１面にピッ
トもしくはグルーブ等が形成された情報面を有する基板
と、前記基板の上記情報面を覆う表面カバー層と、を有
し、前記表面カバー層は、シート状部材とこのシート状
部材と上記情報面との間に位置され、所定の処理により
硬化可能で、前記基板に対するぬれ性がよく、かつ粘度
が１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下である樹脂液を介して
前記基板の上記情報面と接着されることを特徴とする情
報記録媒体を提供するものである。

【００３０】またさらにこの発明は、少なくとも１面に
ピットもしくはグルーブ等が形成された情報面を有する
基板と、前記基板の上記情報面を覆う表面カバー層と、
を有し、前記表面カバー層は、シート状部材とこのシー
ト状部材と上記情報面との間に位置され、所定の処理に
より硬化可能で、前記基板に対するぬれ性がよく、かつ
粘度が１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下である樹脂液を介
して前記基板の上記情報面と接着されることを特徴とす
る情報記録媒体の製造方法において、前記シート状部材
を回転可能な基台にセットし、前記セットされたシート
状部材に上記樹脂液を所定量滴下し、前記シート状部材
に滴下された前記樹脂液上に、前記基板の上記情報面側
が接するようにセットし、前記シート状部材と上記情報
面との間に上記樹脂液を介在させた状態で所定の回転数
で回転させ、上記樹脂液の厚さが所定の厚さに達した時
点で、上記樹脂液を硬化させることを特徴とする情報記
録媒体の製造方法を提供するものである。

【００３１】さらにまたこの発明は、少なくとも１面に
ピットもしくはグルーブ等が形成された情報面を有する
基板と、前記基板の上記情報面を覆う表面カバー層と、
を有し、前記表面カバー層は、シート状部材と両面粘着
剤層もしくは紫外線硬化樹脂を含む樹脂液が硬化した接
着剤層とからなり、前記粘着剤層が用いられる場合には
その粘着剤層は、四フッ化エチレン樹脂またはその重合
体を含む材料からなるセパレータにより両面が保護され
た状態で供給されて、前記粘着材層のうちの一方の上記
セパレータを剥がして前記シート状部材を、真空中で
０．３ｋｇ／ｃｍ ^２から１．０ｋｇ／ｃｍ^２の範囲の圧
力で加圧され、前記シート状部材が圧着された面と反対
の面の上記セパレータを剥がして前記基板の上記情報面
等が形成された面に対して、真空中で０．３ｋｇ／ｃｍ
^２から１．０ｋｇ／ｃｍ^２の範囲の圧力で加圧され、前
記接着剤層が用いられる場合には、所定の処理により硬
化可能で、前記基板に対するぬれ性がよく、かつ粘度が
１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下である樹脂液を介して前
記基板の上記情報面と接着されることを特徴とする情報
記録媒体の製造方法を提供するものである。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態について詳細に説明する。なお、以下に説
明する実施の形態は好適な具体例の１つに過ぎず、本発
明の範囲は、実施の形態に限られるものではない。

【００３３】図１は、記録および再生が可能なライトワ
ンスタイプあるいは記録および再生または消去が可能な
リードライトタイプの記録媒体であって、記録層よりも
光源（光照射）側に位置される表面カバー層の厚さが１
００μｍ（０．１ｍｍ）程度の高密度の情報記録が可能
な次世代光ディスク（以下、表面記録タイプディスクと
呼称する）の一例を説明する概略図である。

【００３４】図１に示す表面記録タイプの光ディスク１
Ｄ_０は、記録層支持体（ダミー基板または基板）２、記
録層支持体２の一方の面に形成されたピット列あるいは
案内溝（グルーブ）等の物理構造（以下情報ピットと呼
称する）３、情報ピット３の全面を覆う反射膜または記
録膜４、反射膜または記録膜４を覆う透明シート５、お
よび反射膜または記録膜４と透明シート５を一体化する
接着層６からなる。なお、透明シート５と接着層６とが
合わせて表面カバー層７と呼ばれ、両者の厚さを合わせ
た厚さは、０．１ｍｍ（１００μｍ）である。また、透
明シート５は、記録、再生および消去に用いられるレー
ザビームの波長の透過率が所定のレベルより大きければ
よく、目視において、必ずしも透明である必要はないこ
とはいうまでもない。

【００３５】上述したディスク１（Ｄ_０）において、反
射膜または記録膜４は、ディスク１が再生専用である場
合には、金属反射膜であり、記録および再生可能タイプ
のディスクであれば、色素系の有機膜（一回記録可能な
記録膜）であり、記録、再生および消去可能なタイプの
ディスクであれば、相変化記録層（書き換え可能な記録
膜）である。なお、記録膜（反射膜の場合も有効である
が）の前後（上下、一方のみの場合もある）に、記録時
の熱を吸収するとともに、層間を保護する図示しない保
護膜が設けられてもよい。

【００３６】図１に示した表面記録タイプディスク１に
おいては、厚さが０．１ｍｍの表面カバー層７を形成す
る方式としては、従来技術の欄でも既に説明したよう
に、（１）紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹脂）を記録層
（ダミー基板）の表面にスピン塗布した後に、紫外線
（ＵＶ光）を照射して硬化させる、（２）厚さが０．０
７ｍｍから０．０８ｍｍ程度の透明シートを厚さが０．
０３ｍｍから０．０２ｍｍの両面粘着剤を用いて記録層
（ダミー基板）に圧着する、もしくは（３）記録層（基
板）上に厚さが０．００１ｍｍから０．００５ｍｍのＵ
Ｖ硬化樹脂をスピン塗布し、厚さが概ね０．１ｍｍの透
明シートを貼り合せる、等がある。

【００３７】図１に示した表面記録タイプディスク１
（Ｄ_０）において、（１）の方法で表面カバー層７を形
成する場合は、透明シート５と接着層６は、いずれもＵ
Ｖ硬化樹脂層となる。なお、（２）の方法で表面カバー
層７を形成する場合、透明シート５は、例えば基板２と
同じ材質であるポリカーボネート（ＰＣ）であり、その
厚さは、０．０９〜０．０６５ｍｍであり、粘着層６の
厚さは、概ね０．０１〜０．０３５ｍｍとなる。一方、
（３）の方法で表面カバー層７を形成する場合、ＵＶ硬
化樹脂層６の厚さは、透明カバー（カバーシート）５の
厚さは、概ね０．１（０．０９９〜０．０９２）ｍｍで
あるから、０．００２ｍｍから０．００７ｍｍとなる。

【００３８】次に、図１に示した表面記録タイプディス
クを形成する方法を、工程を追って説明する。なお、各
層の構成は、どのタイプのディスクでもほとんど変わら
ないので、以下、記録、再生および消去可能な相変化記
録膜を有するディスクを代表させて説明する。なお、
（１）に示した方法は、従来技術の欄でも説明したよう
に、ＵＶ硬化樹脂層の厚さを一定に設定することが困難
であるから省略する。

【００３９】［第１の製造方法（（２）の方法）］図２
および図３は、本発明との比較のための上述（２）の方
法、すなわち所定の厚さの透明シートを粘着剤（層）を
用いてダミー基板（支持体）に接着する方法の一般的な
方法を説明する概略図である（従来例相当）。なお、図
２は、接着層に利用可能な容易に入手できる（市販の）
両面テープの側面図である。また、図３は、ディスク１
を製造する工程のうち、相変化記録膜（反射膜あるいは
記録膜）４が情報ピット３上に形成された支持体（基
板）２と透明シート５とを接着する工程を受け持つ真空
チャンバを説明する概略図である。

【００４０】接着層６は、図２（ａ）に示すように、粘
着剤（接着層６となる）６１の両面に、セパレータと呼
ばれる保護シート６２，６３が一体的に貼り付けられた
状態（両面テープ６０）で供給される。これにより、粘
着剤６１は、通常のハンドリングにおいて、気泡やごみ
が混入することから保護されている。なお、一例を示す
と、粘着剤６１の厚さは、０．０２５ｍｍである（従っ
て、この例では、透明シート５の厚さは、０．０７５ｍ
ｍである）。

【００４１】まず、図２（ｂ）に示すように、粘着剤６
１の片側のセパレータ６２を剥がして、粘着剤６１の表
面を露出する。

【００４２】次に、図３（ａ）に示すように、真空チャ
ンバ１９１内の基台１９２上に、残りのセパレータ６３
が基台１９２と接するように、セットする。

【００４３】続いて、基台１９２にセットされた粘着剤
６１（セパレータ６２が除去されて粘着剤が露出してい
る）に、基板（支持体）２を、相変化記録膜４（情報ピ
ット３）の側が粘着剤６１側になるようにセットする。

【００４４】次に、図示しないロータリーポンプ等によ
り、真空チャンバ１９１内を、概ね０．３ｔｏｒｒ程度
の真空度になるまで排気する。

【００４５】チャンバ１９１内が所定の圧力に達した時
点で加圧器１９３を動作させ、基板（支持体）２の背面
（情報ピット３および相変化記録膜４のない側）から基
板２を、約２Ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で、セパレータ６３が
残っている粘着剤６１に圧接する。

【００４６】次に、図３（ｂ）に示すように、貼りあわ
せたサンプル（基板）を、チャンバ１９１から取り出
し、基板に貼り合わせられた粘着剤６１から残りのセパ
レータ６３を剥がす。

【００４７】続いて、図４に示すように、真空チャンバ
１９１内の基台１９２の上に、透明シート５をセット
し、その上に、粘着剤６１が透明シート５と対向するよ
うに、前に、図３（ｂ）でチャンバ１９１から取り出し
た基板２を、セットする。

【００４８】以下、図３（ａ）で説明したと同様に真空
チャンバ１９１内を０．３ｔｏｒｒの真空まで排気し、
加圧器１９３を動作させて、２Ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で、
透明シート５に、（相変化記録膜４の側に粘着剤６１が
貼り付けられている）基板２を圧接する。

【００４９】これにより、相変化記録膜を有する書き換
え可能な表面記録タイプのディスク１（Ｄ_０，便宜上
（サンプル１０１）と呼称する）ができあがる。

【００５０】次に、図２ないし図４に示した（２）のデ
ィスク製造方法を改良して得られるこの発明の実施の形
態である表面記録タイプのディスクの特性および改良さ
れた工程について説明する。

【００５１】［実施例１］図２ないし図４を用いて前に
説明した（２）の方法すなわち所定の厚さの透明なシー
ト５を、接着層６を用いて基板（支持体）２に接着する
方法を改良したこの実施例１によれば、光ディスク１１
（Ｄ_１，周知のディスクとの識別のために「１１」とす
る）においては、粘着剤６１（接着層６）は、四フッ化
エチレン樹脂（テトラ−フルオロ−エチレン（ＣＦ_２＝
ＣＦ_２））またはその重合体を含む樹脂（ポリ−テトラ
−フルオロ−エチレン（（ＣＦ_２＝ＣＦ_２）_ｎ））、例
えばテフロン（商品名）系材料を主な材質としたセパレ
ータ１６２，１６３により表面が保護されている両面テ
ープ１６０として提供されることを特徴とする。一般
に、容易に入手可能な両面テープの粘着剤６１の組成
は、アクリル系やシリコン系であるから、セパレータ１
６２，１６３をテフロン系とすることで、セパレータを
剥離する際に、粘着剤６１の表面に微小な凹凸（主に空
気層）が生じることが抑制される。

【００５２】光ディスク１１（Ｄ_１）の製造方法は、図
２ないし図４を用いて既に説明したと同様であり、図５
（ａ）に示すような両面テープ１６０から図５（ｂ）に
示すように、粘着剤６１に密着されている一方のセパレ
ータ１６２を剥がして粘着剤６１表面を露出させ、図６
に示すように、真空チャンバ１９１内の基台１９２上
に、残りのセパレータ１６３が基台１９２と接するよう
に、両面テープ１６０をセットし、基台１９２にセット
された粘着剤６１（セパレータ１６２が除去されて粘着
剤が露出している）に、基板（支持体）２を、相変化記
録膜４（情報ピット３）の側が粘着剤６１側になるよう
にセットしたのち、図示しないロータリーポンプ等によ
り、真空チャンバ１９１内を、概ね０．３ｔｏｒｒ程度
の真空度になるまで排気し、チャンバ１９１内が所定の
圧力に達した時点で加圧器１９３を動作させ、基板（支
持体）２の背面（情報ピット３および相変化記録膜４の
ない側）から基板２を、所定の圧力で、セパレータ１６
３が残っている粘着剤６１に圧接する。なお、ディスク
１１（Ｄ_１）においては、基板２を圧接する際の圧力の
最適値を求めるために、約０．５Ｋｇ／ｃｍ^２（サンプ
ル１）、約１．０Ｋｇ／ｃｍ^２（サンプル２）、約０．
３Ｋｇ／ｃｍ^２（サンプル３）および０Ｋｇ／ｃｍ
^２（サンプル４）のそれぞれを用意している。

【００５３】次に、図７（ａ）に示すように、貼りあわ
せたサンプル（Ｄ_１）を、チャンバ１９１から取り出
し、基板に貼り合わせられた粘着剤６１から残りのセパ
レータ１６３を剥がし、図７（ｂ）に示すように、真空
チャンバ１９１内の基台１９２の上に透明シート５をセ
ットした後、粘着剤６１が透明シート５と対向するよう
に、（図７（ａ）でチャンバ１９１から取り出した）基
板２をセットして、図５（ａ）で説明したと同様に真空
チャンバ１９１内を０．３ｔｏｒｒの真空まで排気し、
加圧器１９３を動作させて、それぞれ、約０．５Ｋｇ／
ｃｍ^２（サンプル１）、約１．０Ｋｇ／ｃｍ^２（サンプ
ル２）、約０．３Ｋｇ／ｃｍ^２（サンプル３）および０
Ｋｇ／ｃｍ^２（サンプル４）の圧力で、透明シート５
に、（相変化記録膜４の側に粘着剤６１が貼り付けられ
ている）基板２を圧接する。

【００５４】これにより、相変化記録膜を有する書き換
え可能な表面記録タイプのディスクＤ_１，（サンプル１
〜サンプル４）と呼称する）ができあがる。

【００５５】なお、光ディスク１１（Ｄ_１，サンプル１
〜サンプル４）のそれぞれにおいては、実際には、図８
を用いて以下に説明するように、基板２の一方の面に、
相変化記録膜（１５）が形成されるに前だって、記録／
再生用のレーザビームが基板２を透過することを防止す
るとともに、レーザビームの利用効率を高めるための反
射膜１３が設けられ、反射膜１３に重ねて第１の誘電体
保護膜１４、相変化記録膜１５（図１の相変化記録膜４
に相当）、および第２の誘電体保護膜１６が、順に、積
層されている。また、第１および第２の誘電体保護膜１
４，１６は、光ディスク１１（Ｄ_１，サンプル１〜サン
プル４）の初期結晶化（初期化）のためにレーザビーム
が照射された際に、粘着層６１（６）の表面に生じるこ
とのある微小な凹凸が不所望に膨張しないように、相変
化記録膜１５を短時間で冷却することのできる特性（お
よび厚さ）が与えられている。従って、サンプル１〜サ
ンプル４（Ｄ_１）の概略的な断面構造としては、図１を
用いて前に説明した粘着層６（６１）と透明シート５と
からなる表面カバー層７は、第２の誘電体保護膜１６上
に積層されることになる。

【００５６】また、多くの場合、光ディスク（Ｄ_１，サ
ンプル１〜サンプル４）の各層としては、次のような材
料と膜厚（厚さ）の組み合わせが適用される。

【００５７】例えば、情報の記録および再生に用いられ
るレーザビームが青色で、その波長が４０５ｎｍである
場合には、反射膜１３として、例えばＡｇ−Ｐｔ−Ｃｕ
合金が用いられる。すなわち、青色のレーザビームに対
する反射率を向上するためにＡｇが用いられるが、Ａｇ
単体では、さびに対する改善や環境試験特性を高めるた
めに、ＰｔやＣｕが添加されることが好ましい。なお、
反射膜１３は、レーザビームの反射率を高めるためと、
相変化記録膜１５を非晶質とするためのレーザビームに
よる加熱の直後に、記録膜１５を急冷する冷却効果を提
供する。また、反射膜１３の厚さは、一般に、５０ｎｍ
以上２００ｎｍ以下である。

【００５８】誘電体保護膜１４は、良く知られている材
料として、例えばＺｎＳ−Ｓｉ０_２の混合膜が用いられ
る。両者の比率は、例えばＺｎＳが８０％でＳｉ０_２が
２０％である。ＺｎＳ−Ｓｉ０_２からなる保護膜１４
は、反射膜３と相変化記録膜１５との間の光学的な干渉
効果と記録膜１５で発生した熱を反射膜１３側に逃がす
効果を期待して、通常、１５ｎｍから４０ｎｍ程度の厚
さに設定される。

【００５９】相変化記録膜１５には、レーザビームが照
射されることによって、結晶と非晶質との間を可逆的の
相変化する材料として、一般に、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅの３
元合金やＩｎ−Ｓｂ−Ｔｅの３元合金が用いられる。な
お、最近は、さらに、ＳｎやＡｇを添加したＧｅ−Ｓｂ
−Ｔｅ−Ｓｎの４元合金やＡｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅの４
元合金膜も採用されている。なお、相変化記録膜１５の
厚さは、レーザビームを吸収して発熱し、結晶と非晶質
との間で相変化できる程度の十分な厚さが必要である反
面、反射膜１３にまでレーザビームが届く程度に薄い必
要があり、通常１０ｎｍから３０ｎｍに設定される。

【００６０】第２の誘電体保護膜１６は、再生用のレー
ザビームが相変化記録膜１５に入射した際に光干渉によ
って再生信号を増大させる効果と、記録（消去）用のレ
ーザビームが記録膜１５を非晶質化する際に、自身の溶
融により、膜１５自体に穴が開かないように押さえ込む
効果がある。従って、ある程度の厚さが必要で、通常
は、８０ｎｍないし１８０ｎｍに設定される。

【００６１】以上説明したように、光ディスク１（サン
プル１０１）、光ディスク１１（サンプル１〜サンプル
４）の各表面記録タイプのディスクの各層（膜）は、実
際には、記録層としての相変化記録膜１５の両面に誘電
体保護膜を伴って、一例としては、基板表面（支持体）
２、（ピット列あるいは案内溝３および）とＡｇ−Ｐｔ
−Ｃｕ反射膜（厚さ１００ｎｍ）４（１３）、ＺｎＳ−
Ｓｉ０_２誘電体膜（厚さ２０ｎｍ）１４、Ｇｅ−ＳｂＴ
ｅ３元合金相変化記録膜（厚さ１５ｎｍ）１５、ＺｎＳ
−Ｓｉ０_２誘電体保護膜（厚さ１００ｎｍ）１６、およ
び接着層５および透明シート６（表面カバー層７）の順
で、構成される。

【００６２】［第２の製造方法（（３）の方法）］図
９、図１０（ａ）および図１０（ｂ）は、上述（３）の
方法、すなわち基板（支持体）上に、厚さが０．００１
ｍｍ〜０．００５ｍｍのＵＶ硬化樹脂（液）を所定量だ
けスピン塗布し、そのＵＶ硬化樹脂膜の薄膜上に、厚さ
が概ね０．１ｍｍの透明シートをセットして、ＵＶ硬化
樹脂の硬化により、透明シートを基板に貼り合せる方法
を説明する概略図である（従来例相当）。

【００６３】図９に示すように、回転基台２９１上に、
厚さが０．０９５ｍｍの透明シート（図１に示したシー
トとは厚さが異なるので、図１のシート５と識別する）
５１をセットし、基台２９１を所定速度で回転させなが
ら透明シート５１の内周側にＵＶ硬化樹脂液７１を、デ
ィスペンサ２９２を用いて、概ね円形に、ディスク１
（Ｄ_０）の１周（１回転）分だけ塗布する。なお、ディ
スペンサ２９２には、外部からＵＶ硬化樹脂液（７１）
が供給される。

【００６４】次に、図１０（ａ）に示すように、塗布さ
れたＵＶ硬化樹脂液７１の上から、（基板２の）情報ピ
ット３および相変化記録膜４が表面に形成されている面
を、ＵＶ硬化樹脂液７１と対向させて基板２を、ゆっく
りとＵＶ硬化樹脂液７１上に積層し（自由落下させ）、
続いて、回転基台２９１を３０００〜５０００ｒｐｍで
回転させて、透明シート５１の全面に、ＵＶ硬化樹脂液
７１を、均一に塗布する。なお、余剰のＵＶ硬化樹脂液
７１は、基台２９１の回転により振り切られる（透明シ
ート５１から外部に落下される）。

【００６５】このとき、ＵＶ硬化樹脂液７１の厚さは、
ＵＶ硬化樹脂液７１の粘度（ＣＰＳ（センチ・ポアズ＝
センチ・ポイズともいう「Ｐａ／ｓ」）や基台２９１の
回転数により制御可能であり、この例では、０．０５ｍ
ｍに設定される。

【００６６】次に、図１０（ｂ）に示すように、透明シ
ート５１の側から約８００Ｗの所定の波長のＵＶ光（紫
外線）２９３を２０秒照射し、透明シート５１の全面に
塗布（拡散）されたＵＶ硬化樹脂層７１を硬化させる。

【００６７】このようにして、厚さが０．１ｍｍの表面
カバー層７（透明シート５１と硬化されたＵＶ硬化樹脂
液７１）を有する書き換え可能な表面記録タイプのディ
スク１０１（Ｄ_２，便宜上（サンプル１１１）と呼称す
る）ができあがる。

【００６８】次に、図９および図１０に示した（３）の
ディスク製造方法を改良して得られるこの発明の実施の
形態である表面記録タイプのディスクの特性および改良
された工程について説明する。

【００６９】［実施例２］図９，図１０（ａ）および図
１０（ｂ）を用いて説明した上述（３）の方法、すなわ
ち基板（支持体）２上に厚さが０．００１ｍｍから０．
００５ｍｍのＵＶ硬化樹脂をスピン塗布し、その上に厚
さが概ね０．１ｍｍの透明シートを貼り合せる方法にお
いて、ＵＶ硬化樹脂液７１を、回転基台２９１を５００
０ｒｐｍで回転させた時に、樹脂液７１が透明シート５
１の表面全体に、均一に所定の厚さで塗布できるよう
に、粘度が１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）程度の樹脂液と
し、かつ透明シート５１に対して、ぬれ性の高い樹脂液
を用いることを特徴としている。なお、粘度が１００Ｃ
ＰＳのＵＶ硬化樹脂液７１を用いるのみで、それ以外の
パラメータおよび条件が（サンプル１１１，Ｄ_２）と同
一である光ディスク１１１（Ｄ_３）を、以下、便宜的に
（サンプル１１）と呼称する。

【００７０】サンプル１１（Ｄ_３）に用いた粘度が１０
０ＣＰＳのＵＶ硬化樹脂液７１のぬれ性は、樹脂液７１
に固有の組成で異なる表面張力に依存し、透明シート５
１と同一の組成の平板上に、樹脂液７１を滴下したとき
に、平板と樹脂液との接触角で定義され、上述した樹脂
液７１の接触角は、概ね１０°である。また、一般に
は、接触角が２０°程度でも、ぬれ性自身が問題にはな
らないことがないことが実験により確認されている。な
お、参考値として示すと、水とガラス板との接触角が８
〜９°で、前に説明した光ディスク１０１（Ｄ_２，サン
プル１１１）で用いたＵＶ硬化樹脂液７１の透明シート
５１との接触角は、概ね２５°である。

【００７１】一方、ＵＶ硬化樹脂液７１の粘度と樹脂液
７１中に含まれる気泡の量は、一般に相関関係があり、
粘度が小さいほど気泡も少ないことが知られているが、
ここでは、樹脂液７１を透明シート５１に塗布する前
に、図１１に示すように、保存容器１９９に入れたまま
真空チャンバ１９１に入れ、概ね０．３ｔｏｒｒに排気
した後、２分間放置してＵＶ硬化樹脂液７１中に含まれ
る気泡（空気）を脱泡して得られるＵＶ硬化樹脂液７１
を用いている。なお、上述したぬれ性を示すＵＶ硬化樹
脂７１の粘度が１４０ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）よりも小さい
場合、スピン回転数が５０００ｒｐｍで、厚さが０．０
０５ｍｍより薄く延びることが、実験により確認されて
いる。

【００７２】［実施例３］上述した（２）の方法、すな
わち所定の厚さの透明なシート５を、接着層６を用いて
基板（支持体）２に接着する方法において、光ディスク
１（Ｄ_１，サンプル１０１）に関し、図８を用いて既に
説明した通り、相変化記録膜１５（４）の初期化（初期
結晶化）のために、大パワーでスポット径も大きな初期
化用レーザビームが照射されることにより生じる熱が接
着層６に到達して接着層内の微小な凹凸の空気を膨張さ
せることを抑止するために、相変化記録膜１５の両側
に、第１の誘電体膜１４と第２の誘電体膜１６を設けて
いるが、第２の誘電体膜１６の厚さの最適値を求めるた
めに、光ディスク１（Ｄ_１，サンプル１０１）の構成に
おいて、第２の誘電体膜１６の膜厚を１５０ｎｍ（サン
プル２１）、１８０ｎｍ（サンプル２２）、３００ｎｍ
（サンプル２３）および５００ｎｍ（サンプル２４）の
それぞれを用意している。

【００７３】次に、上述した実施例１（第１の（２の）
製造方法）ならびに実施例２および３（第２の（３の）
製造方法）の方法で作製したサンプル１〜４およびサン
プル１１，サンプル２１〜２４に関し、Ａ）外観形状ａ）厚みムラ、ｂ）部分的な空気の存在による隙間の有無、Ｂ）光学特性ａ）実機試験でのサーボはずれの有無、ａ´）実機試験でサーボがかからない、ｂ）相変化記録膜の初期結晶化時の断熱効果の影響、等について、評価した結果を示す。なお、各サンプルの
内容（条件の差異）を明確にするために、以下に、一覧
で示す。また、サンプル１０１およびサンプル１１１
は、比較例であるが、サンプル１〜４，サンプル１１お
よびサンプル２１〜サンプル２４との比較を容易とする
ために、合わせて示す。

【００７４】［サンプル１］実施例１−１の相変化記録
膜を有する光ディスク表面カバー層は、［サンプル２］実施例１−２の相変化記録膜を有する光
ディスク表面カバー層は、［サンプル３］実施例１−３の相変化記録膜を有する光
ディスク表面カバー層は、［サンプル４］実施例１−４の相変化記録膜を有する光
ディスク表面カバー層は、

【００７５】［サンプル２１］実施例３−１の相変化記
録膜を有する光ディスク表面カバー層は、［サンプル２２］実施例３−２の相変化記録膜を有する
光ディスク表面カバー層は、［サンプル２３］実施例３−３の相変化記録膜を有する
光ディスク表面カバー層は、［サンプル２４］実施例３−４の相変化記録膜を有する
光ディスク表面カバー層は、

【００７６】［サンプル１１］実施例２の相変化記録膜
を有する光ディスク表面カバー層は、

【００７７】［サンプル１０１］従来の貼り合わせタイ
プのディスク表面カバー層は、［サンプル１１１］従来のＵＶ硬化樹脂液スピンタイプ
のディスク表面カバー層は、

【００７８】第１に、個々のサンプル１〜４，サンプル
１１，サンプル２１〜２４，サンプル１０１およびサン
プル１１１の外観特性を、目視および物理量の計測によ
りチェックしたところ、サンプル１１１とサンプル４に
関し、サンプル１１１では、ＵＶ硬化樹脂が存在しない
（樹脂液が塗付されない）部分が生じて、透明シートと
ＵＶ硬化樹脂層（樹脂液硬化時の厚さ）とを足し合わせ
た厚さが０．１ｍｍに達しないすなわちＵＶ硬化樹脂層
単体の厚さが０．００５ｍｍよりも小さい、サンプル４
では、部分的に、透明シートが粘着層の表面と接してい
ない部分が生じ、この部分で広い空気層が見られる、等
の外観上の不具合が確認されている。

【００７９】次に、図示しない初期結晶化装置を用い
て、各サンプルに、半径方向に幅広の初期化用レーザビ
ームを照射して、それらを初期結晶化し、図１２を用い
て以下に説明するような表面記録タイプディスク向けの
光ディスクドライブ装置にセットして、半径位置で、線
速が５．４ｍ／ｓｅｃとなるように、各サンプルを回転
させている。

【００８０】図１２は、表面記録タイプディスク向けの
光ディスクドライブ装置の一例を示す概略図であり、ス
ピンドルモータ３１の軸に設けられたターンテーブル３
２に、光ディスク（Ｄ_０，Ｄ_１，Ｄ_２，Ｄ_３すなわちサ
ンプル１〜４，サンプル１１，サンプル２１〜２４，サ
ンプル１０１およびサンプル１１１）が装着される。

【００８１】ターンテーブル３２に載置されたサンプル
は、メカニカルクランプ３３によりターンテーブル３２
に押し付けられ、スピンドルモータ３１の回転により、
所定の速度（この例では、線速が５．４／ｓｅｃの一定
な速度）で回転される。

【００８２】光学ヘッド３４は、図示しないレンズアク
チュエータにより、サンプルの記録面と直交する方向お
よび半径方向のそれぞれに独立に移動可能に保持された
２枚組みで、開口数ＮＡが、例えば０．８５〜０．９で
ある対物レンズ３５を有し、図示しない半導体レーザ素
子からの、例えば波長４０５ｎｍの青色レーザビーム３
６を、ターンテーブル３２にセットされているサンプル
の所定の位置（トラック）に集光させる。なお、対物レ
ンズ３５は、フォーカス制御系回路３７を介して、サン
プルの透明シート（表面カバー層）の側からレーザビー
ム３６が照射される際に、情報ピット面と対物レンズ３
５との間の距離が対物レンズ３５の焦点位置に一致する
ように、フォーカス制御される。また、対物レンズ３５
は、図示しないレンズアクチュエータを保持している半
径方向アクチュエータ３８により、サンプルの半径方向
に移動可能に保持され、トラック制御系回路３９によ
り、目標トラックの中心と対物レンズ３５の光軸中心付
近を通過したレーザビームとが一致するように、トラッ
ク制御される。

【００８３】なお、サンプルに記録すべきデータ（記録
情報）は、図示しない半導体レーザ素子を駆動するレー
ザドライバ４０に、情報信号源４１から供給されること
で、図示しない半導体レーザ素子から出射される青色レ
ーザビームの強度が、データに応じて強度変調されるこ
とにより、情報ピット（記録マーク）として、個々のサ
ンプルに形成される。

【００８４】第２に、個々のサンプル１〜４，サンプル
１１，サンプル２１〜２４，サンプル１０１およびサン
プル１１１のそれぞれを、図１２に示した光ディスクド
ライブ装置を用いて、サーボがかけられるか否かを判定
したところ、サンプル１０１に関しては、ディスク表面
の局所的な面振れ加速度（光学的外乱）が大き過ぎて全
くサーボがかからないことが確認されている。

【００８５】このことは、既に説明したように、粘着剤
からセパレータを剥がす際に粘着剤の表面に微小な凹凸
が生じて粘着剤表面とシートの界面に微小な空隙として
残り、その空隙が、初期結晶化の際のレーザビームの照
射によって拡大（膨張）されて、サーボをかけるときの
光学的外乱になったものと思われる。

【００８６】これに対して、サンプル４では、粘着層と
表面シートが貼りあわされている領域でサーボをかけた
ところ、半径方向では、大きなエンベロープ変動がある
ものの、サーボが外れることなく維持可能である。な
お、サンプル１では、全ての半径位置で問題なくサーボ
がかかり、しかもサーボが外れることなく維持可能であ
る。

【００８７】一方、サンプル３では、全ての半径位置で
問題なくサーボがかかり、しかもサーボが外れることな
く維持可能である。さらに、サンプル２では、一部の半
径位置で問題なくサーボが外れる場合が見られたが、概
ね全域でサーボが外れることなく維持可能である。

【００８８】これらの結果から、粘着剤のセパレータを
テフロン系材料として、さらに真空中での貼りあわせ圧
力を小さくすることで、粘着層表面での微小空隙による
内部応力を緩和できるとみなすことができる。なお、粘
着剤のセパレータをテフロン系材料としたことにより、
セパレータが剥がされた後の粘着剤表面に微小な凹凸の
発生しても、その程度が小さく抑制されていると推測す
ることが妥当である。

【００８９】一方、サンプル１１１では、ＵＶ硬化樹脂
の厚さが０．００５ｍｍである半径位置に光学ヘッド３
５を固定してサーボがかけられるか否かを判定したとこ
ろ、サンプル１０１ほどではないが、ＵＶ硬化樹脂層中
に残存している微小な気泡が原因と思われる光学的外乱
によって、サーボが外れてしまうことが確認されてい
る。

【００９０】これに対して、サンプル１１では、全ての
半径位置で問題なくサーボがかかり、しかもサーボが外
れることなく維持可能である。

【００９１】従って、ＵＶ硬化樹脂を、ＵＶ硬化樹脂と
基板との接触角が２０°以下である、いわゆるぬれ性の
良い樹脂とし、さらに樹脂液の粘度を、１００ＣＰＳ以
下としたことで、厚さの均一な薄いＵＶ硬化樹脂層が形
成され、ＵＶ硬化樹脂層中に残存している微小な気泡の
量も抑制されている、と考えることができる。なお、Ｕ
Ｖ硬化樹脂液の粘度を１００ＣＰＳ以下としたことで、
真空装置中での脱泡が促進されたことは、容易に想像で
きる。

【００９２】なお、相変化記録膜の粘着層に近い面の誘
電体保護層の厚さを変えたサンプル２１からサンプル２
４における相変化記録膜の初期結晶化時の断熱効果につ
いて、同様に図１２に示した光ディスクドライブ装置を
用いて、サーボがかけられるか否かで判定したところ、
サンプル２１では、全ての半径位置でサーボがかかった
が、部分的に不安定な位置が存在することが認められ
る。

【００９３】また、サンプル２２では、概ね全ての半径
位置でサーボがかかり、サンプル２３およびサンプル２
４では、全ての半径位置で、良好にサーボがかかること
が確認されている。

【００９４】これらの結果から、粘着層に近い側の誘電
体保護膜を厚くすることで、初期結晶化の工程で記録膜
に発生する熱が粘着層表面に伝わりにくくなり、その結
果、貼りあわせ時に粘着層表面の形成された微小空隙が
膨張して光学的外乱が生じる要因となることを防止でき
る。

【００９５】以上説明した通り、本発明の（２）の方法
すなわち所定の厚さの透明なシート５を、接着層６を用
いて基板（支持体）２に接着する方法において、接着層
５のセパレータとして、粘着剤と相性がよく、粘着剤か
ら剥がされる際に、粘着剤に凹凸を生じさせることが少
ないテフロン系材料を使用し、且つ、真空中での貼りあ
わせ時に、圧力を１．Ｏｋｇ／ｃｍ^２から０．３ｋｇ／
ｃｍ^２に弱く設定することで、粘着層と表面シートの界
面に微小空隙ができにくくなり、相変化記録膜の初期結
晶化後であっても、光学的な外乱を軽減して、安定した
サーボをかけることができる。

【００９６】また、両面テープを用いて基板と透明カバ
ーを貼りあわせる方法においても、セパレータをテフロ
ン系とし、相変化記録膜の粘着層に近い側の誘電体保護
膜の厚さを１８０ｎｍ以上の厚さに設定することで、相
変化記録膜の初期結晶化時に発生する熱が粘着層表面へ
伝達されることを抑制でき、粘着層の表面と透明カバー
の間の界面に存在する微小な空隙が熱で膨張して光学的
な外乱となることを低減できる。

【００９７】なお、ＵＶ硬化樹脂層に用いるＵＶ硬化樹
脂液の粘度を、（塗布前で）１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）
以下として、内部に含まれる空気を真空中で容易に除去
（脱泡）可能とし、かつ、ＵＶ硬化樹脂液と基板との接
触角を２０°以下とすることで、ＵＶ硬化樹脂中の微小
な泡（空気）を極力排除することで、光学的な外乱の発
生が低減されるので、安定したサーボをかけることが可
能となる。

【００９８】また、上述した初期結晶化時に粘着剤とセ
パレータとの間に生じる微小な凹凸（空隙）あるいはＵ
Ｖ硬化樹脂液中に含まれる微少な泡が膨張して光学的外
乱が増大（助長）される現象は、記録膜が反射膜である
再生専用のディスクや、一回記録が可能なの色素系の記
録／再生タイプのディスクにおいても同様に発生するの
で、微小な空隙や泡の発生を少なくすることによる効果
は、ディスクのタイプに左右されることなく、全く同じ
である。従って、粘着剤からなる接着シートやスピンコ
ートしたＵＶ硬化樹脂を用いて、基板と透明シートとを
貼り合わせる光ディスクであれば、ディスクのタイプに
拘わりなく、この発明のディスクの製造方法が適用可能
であることはいうまでもない。

【００９９】このように、本発明者らの実験によれば、
（２）の方法において、透明シートを粘着剤を用いて基
板と貼り合せる場合に、粘着剤が保持されているセパレ
ータ（基材）をテフロン樹脂製にすることで、セパレー
タを粘着剤表面から剥がすときに粘着剤表面に微小凹凸
が生じるのを防止でき、基板表面と粘着剤表面を貼り合
せる時に、空気による微小隙間はある程度改善されるこ
とが判明した。

【０１００】さらに、この表面シート／粘着剤／ディス
ク基板の真空中での貼り合せ工程では、微小部分の隙間
の空気抜きのみに重点を置いて、圧接の工程をなるべく
軽減することで、貼りあわせ後は、この空気による微小
隙間を、ほぼ完全に無くせることが判明した。

【０１０１】また、（２）の方法において、従来通りの
貼りあわせ工程で作製した相変化光ディスクであって
も、相変化記録膜の表面側に設ける誘電体膜の厚さを厚
くすることで、相変化記録膜の初期結晶化時に記録膜で
生ずる熱が粘着剤表面にまで到達しないようにすること
で、空気の微小空隙が膨張して内部応力として残らない
ようにできることも分かった。

【０１０２】（３）のシート＋ＵＶ硬化樹脂による基板
との貼りあわせ方式では、ＵＶ硬化樹脂として、厚さを
極力薄くするために粘度を小さいものとし、かつ基板表
面とのぬれ性を良いものを選択し、貼りあわせの工程に
いたる前に、塗布前のＵＶ硬化樹脂を真空槽中で放置し
てＵＶ硬化樹脂中から気泡を抜く工程を付加し、その
後、透明シートとＵＶ硬化樹脂液と基板とを積層した状
態で高速スピンをかけてＵＶ硬化樹脂（液）をディスク
全面に塗布する工程を真空中で行うことで、ＵＶ硬化樹
脂が、シートと基板の間に２μｍ程度に薄くかつ、基板
全面に塗布できて、かつ樹脂槽の中から気泡をなくすこ
とが可能であることが判明した。

【０１０３】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、粘着剤からなる接着シートやスピンコートしたＵＶ
硬化樹脂を用いて、基板と透明シートとを貼り合わせる
記録媒体（光ディスク）において光学的な外乱を生じさ
せる要因である微少な凹凸または気泡を抑制できるの
で、開口数ＮＡが０．８５以上の対物レンズを用いて、
透明シート（表面カバー）側から集光して情報を高密度
で記録または高密度で記録されている情報を再生する際
のサーボはずれ等が低減される。

【０１０４】従って、高密度の記録および再生に関し、
記録エラーや読み出しエラーが低減可能な光ディスクが
得られる。また、微少な凹凸または気泡が残ることの少
ない光ディスクが容易に製造可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態により製造される光ディ
スクの層の構成を説明する概略図。

【図２】図１に示した光ディスクを製造する際に透明シ
ートと基板の接着に利用される粘着剤とセパレータとを
説明する概略図。

【図３】図１に示した光ディスクを製造するための工程
の１つを説明する概略図。

【図４】図３に示した光ディスクを製造するための工程
に引き続く工程の１つを説明する概略図。

【図５】図１に示した光ディスクを製造するために用い
られる両面粘着剤とセパレータとを説明する概略図。

【図６】図５に示した両面粘着剤を用いて光ディスクを
製造するための工程の１つを説明する概略図。

【図７】図６に示した光ディスクを製造するための工程
に引き続く工程の１つを説明する概略図。

【図８】図５および図６に示した工程により製造される
光ディスクの層の構成の一例を説明する概略図。

【図９】図１に示した光ディスクを製造するために用い
られる別の製造方法であって、透明シートと所定の波長
の光の照射により硬化する樹脂液とを用いる方法の工程
の１つを説明する概略図。

【図１０】図９に示した透明シートと樹脂液とを用いる
光ディスクの製造方法において、図８に示した工程に引
き続く工程の１つを説明する概略図。

【図１１】粘度が１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下のＵＶ
硬化樹脂液から液中の気泡を脱泡する概念を説明する概
略図。

【図１２】この発明の製造方法により形成された光ディ
スクに情報を記録し、または再生可能な光ディスク装置
を説明する概略図。

【符号の説明】１，１１・・・光ディスク（Ｄ_０，Ｄ_１，・・・，
Ｄ_３）、２・・・基板、３・・・情報ピット、４，１５・・・相変化記録膜、５，５１・・・透明シート、６・・・両面粘着剤、７・・・表面カバー、１３・・・反射膜、１４・・・（第１の）誘電体保護膜、１６・・・第２の誘電体保護膜、６１・・・両面粘着剤、７１・・・ＵＶ硬化樹脂液、１６２・・・テフロン系セパレータ、１６３・・・テフロン系セパレータ、１９１・・・真空チャンバ（真空装置）、１９２・・・基台、１９３・・・加圧器、２９１・・・回転基台。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも１面にピットもしくはグルーブ
等が形成された情報面を有する基板と、前記基板の上記
情報面を覆う表面カバー層と、を有し、前記表面カバー層は、シート状部材と両面粘着剤層とか
らなり、前記両面粘着剤層は、四フッ化エチレン樹脂またはその
重合体を含む材料からなるセパレータにより両面が保護
されて供給されるものであることを特徴とする情報記録
媒体。
【請求項２】少なくとも１面にピットもしくはグルーブ
等が形成された情報面を有する基板と、前記基板の上記
情報面を覆う表面カバー層と、を有し、前記表面カバー層は、シート状部材と両面粘着剤層とか
らなり、前記両面粘着剤層は、四フッ化エチレン樹脂またはその
重合体を含む材料からなるセパレータにより両面が保護
された状態で供給され、前記両面粘着材層のうちの一方の上記セパレータを剥が
して前記シート状部材を、真空中で０．３ｋｇ／ｃｍ^２
から１．０ｋｇ／ｃｍ^２の範囲の圧力で加圧して圧着
し、前記シート状部材が圧着された面と反対の面の上記セパ
レータを剥がして前記基板の上記情報面等が形成された
面に対して、真空中で０．３ｋｇ／ｃｍ^２から１．０ｋ
ｇ／ｃｍ^２の範囲の圧力で加圧して圧着する、ことを特
徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】前記基板の上記情報面が情報の書き換えが
可能な相変化記録層を有する場合、上記相変化記録層の
近傍に位置される誘電体保護膜のうち、前記両面粘着剤
層の側に設けられる誘電体保護膜の膜厚が１８０ｎｍ以
上であることを特徴とする請求項１記載の情報記録媒
体。
【請求項４】前記基板の上記情報面が情報の書き換えが
可能な相変化記録層を有する場合、上記相変化記録層の
近傍に位置される誘電体保護膜のうち、前記両面粘着剤
層の側に設けられる誘電体保護膜の膜厚が１８０ｎｍ以
上であることを特徴とする請求項２記載の情報記録媒体
の製造方法。
【請求項５】少なくとも１面にピットもしくはグルーブ
等が形成された情報面を有する基板と、前記基板の上記
情報面を覆う表面カバー層と、を有し、前記表面カバー層は、シート状部材とこのシート状部材
と上記情報面との間に位置され、所定の処理により硬化
可能で、前記基板に対するぬれ性がよく、かつ粘度が１
００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下である樹脂液を介して前記
基板の上記情報面と接着されることを特徴とする情報記
録媒体。
【請求項６】前記樹脂液は、所定の波長の光が照射され
ることで硬化する紫外線硬化樹脂を含む液状であり、前
記基板の材料との接触角が２０°以下であることを特徴
とする請求項５記載の情報記録媒体。
【請求項７】前記樹脂液と前記基板の材料との接触角
は、好ましくは１０°以下であることを特徴とする請求
項６記載の情報記録媒体。
【請求項８】前記樹脂液は、真空中で所定時間放置され
て、脱泡された樹脂液であることを特徴とする請求項５
ないし７のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項９】少なくとも１面にピットもしくはグルーブ
等が形成された情報面を有する基板と、前記基板の上記
情報面を覆う表面カバー層と、を有し、前記表面カバー層は、シート状部材とこのシート状部材
と上記情報面との間に位置され、所定の処理により硬化
可能で、前記基板に対するぬれ性がよく、かつ粘度が１
００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下である樹脂液を介して前記
基板の上記情報面と接着されることを特徴とする情報記
録媒体の製造方法において、前記シート状部材を回転可能な基台にセットし、前記セットされたシート状部材に上記樹脂液を所定量滴
下し、前記シート状部材に滴下された前記樹脂液上に、前記基
板の上記情報面側が接するようにセットし、前記シート状部材と上記情報面との間に上記樹脂液を介
在させた状態で所定の回転数で回転させ、上記樹脂液の厚さが所定の厚さに達した時点で、上記樹
脂液を硬化させることを特徴とする情報記録媒体の製造
方法。
【請求項１０】前記樹脂液は、所定の波長の光が照射さ
れることで硬化する紫外線硬化樹脂を含む液状であり、
前記基板の材料との接触角が２０°以下であることを特
徴とする請求項９記載の情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】前記樹脂液と前記基板の材料との接触角
は、好ましくは１０°以下であることを特徴とする請求
項１０記載の情報記録媒体。
【請求項１２】前記樹脂液は、真空中で所定時間放置さ
れて、脱泡された樹脂液であることを特徴とする請求項
９ないし１１のいずれかに記載の情報記録媒体の製造方
法。
【請求項１３】少なくとも１面にピットもしくはグルー
ブ等が形成された情報面を有する基板と、前記基板の上
記情報面を覆う表面カバー層と、を有し、前記表面カバー層は、シート状部材と両面粘着剤層もし
くは紫外線硬化樹脂を含む樹脂液が硬化した接着剤層と
からなり、前記粘着剤層が用いられる場合にはその粘着剤層は、四
フッ化エチレン樹脂またはその重合体を含む材料からな
るセパレータにより両面が保護された状態で供給され
て、前記粘着材層のうちの一方の上記セパレータを剥が
して前記シート状部材を、真空中で０．３ｋｇ／ｃｍ^２
から１．０ｋｇ／ｃｍ^２の範囲の圧力で加圧され、前記
シート状部材が圧着された面と反対の面の上記セパレー
タを剥がして前記基板の上記情報面等が形成された面に
対して、真空中で０．３ｋｇ／ｃｍ ^２から１．０ｋｇ／
ｃｍ^２の範囲の圧力で加圧され、前記接着剤層が用いられる場合には、所定の処理により
硬化可能で、前記基板に対するぬれ性がよく、かつ粘度
が１００ＣＰＳ（Ｐａ／ｓ）以下である樹脂液を介して
前記基板の上記情報面と接着されることを特徴とする情
報記録媒体の製造方法。