JP2003028767A - 被処理物の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】解析精度の向上を図ることができる被処理物の
処理方法を提供すること。 【解決手段】本発明の被処理物の処理方法は、被処理物
Ｓを付着させたスライドガラス（支持体）７上に、被処
理物Ｓと反応し得る処理液Ｒを供給するとともに、スラ
イドガラス７に処理液展開用部材１を接近させて、これ
らの間に形成された隙間９に処理液Ｒを展開させること
により、被処理物Ｓと処理液Ｒとを接触させる工程と、
被処理物Ｓと処理液Ｒとを、加熱しつつ、反応させる工
程と、保湿液Ｈを供給しつつ、スライドガラス７と処理
液展開用部材１とを離間させる工程とを有し、スライド
ガラス７と処理液展開用部材１とを離間させる工程の終
了後、さらに、被処理物Ｓと洗浄液とを接触させること
により、被処理物Ｓを洗浄する工程を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の処理方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、抗原抗体反応、核酸（ＲＮＡ、
ＤＮＡ）に対するハイブリダイゼーション等の処理を行
なう場合には、スライドガラス（支持体）上に、例え
ば、組織切片、細胞、核酸等の試料（被処理物）を付着
させ、かかる試料に様々な試薬（処理液）を付与して
（接触させて）処理することが行なわれる。

【０００３】この場合、具体的には、以下のような操作
が行なわれる。 ＜１＞ まず、スライドガラス上に試薬を供給（滴下）
して、さらに、この上からカバーガラス（処理液展開用
部材）を重ね合わせ、それらの間に形成された隙間に試
薬を展開することにより、試料と試薬とを接触させる。 ＜２＞ 次に、この状態で、試料と試薬とを、加熱しつ
つ、反応させる。 ＜３＞ その後、スライドガラスからカバーガラスを取
り外す。 ＜４＞ 次に、スライドガラス上に残存する余剰の試薬
を除去する。 ＜５＞ そして、試料の反応結果を解析する。すなわ
ち、試薬と反応することにより、例えば、着色、蛍光、
放射能等による標識が施された試料を解析する。

【０００４】ところが、前記工程＜３＞において、スラ
イドガラス上の試薬が空気と接触することにより乾燥
し、試薬の析出物がスライドガラス上に残存してしまう
場合がある。

【０００５】その結果、前記工程＜５＞において、乾燥
状態でスライドガラス上に残存する試薬の析出物がバッ
クグランドとして検出され、試料の反応結果の解析精度
に低下を招く恐れがある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、解析
精度の向上を図ることができる被処理物の処理方法を提
供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１５）の本発明により達成される。

【０００８】（１） 被処理物を付着させた支持体上
に、前記被処理物と反応し得る処理液を供給するととも
に、前記支持体に処理液展開用部材を接近させて、これ
らの間に形成された隙間に前記処理液を展開させること
により、前記被処理物と前記処理液とを接触させる工程
と、前記被処理物と前記処理液とを、加熱しつつ、反応
させる工程と、保湿液を供給しつつ、前記支持体と前記
処理液展開用部材とを離間させる工程とを有することを
特徴とする被処理物の処理方法。

【０００９】（２） 前記加熱の温度は、３０〜７５℃
である上記（１）に記載の被処理物の処理方法。

【００１０】（３） 前記加熱の時間は、２〜２０時間
である上記（１）または（２）に記載の被処理物の処理
方法。

【００１１】（４） 前記被処理物と前記処理液とを反
応させる工程の終了後、２分以内に、前記支持体と前記
処理液展開用部材との離間を開始する上記（１）ないし
（３）のいずれかに記載の被処理物の処理方法。

【００１２】（５） 前記保湿液の供給量は、前記処理
液の供給量の５０〜２００倍である上記（１）ないし
（４）のいずれかに記載の被処理物の処理方法。

【００１３】（６） 前記保湿液の温度は、２５〜７５
℃である上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の被
処理物の処理方法。

【００１４】（７） 前記保湿液は、前記被処理物の反
応結果に影響を与えないものである上記（１）ないし
（６）のいずれかに記載の被処理物の処理方法。

【００１５】（８） 前記保湿液は、緩衝液を主とする
ものである上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の
被処理物の処理方法。

【００１６】（９） 前記保湿液は、界面活性剤を含ん
でいる上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の被処
理物の処理方法。

【００１７】（１０） 前記支持体と前記処理液展開用
部材とを離間させる工程の終了後、さらに、前記被処理
物と洗浄液とを接触させることにより、前記被処理物を
洗浄する工程を有する上記（１）ないし（９）のいずれ
かに記載の被処理物の処理方法。

【００１８】（１１） 前記洗浄液の供給量は、前記処
理液の供給量の５０〜２００倍である上記（１０）に記
載の被処理物の処理方法。

【００１９】（１２） 前記洗浄液の組成は、前記保湿
液の組成とほぼ同一である上記（１０）または（１１）
に記載の被処理物の処理方法。

【００２０】（１３） 前記各工程の少なくとも１つの
工程は、前記支持体を鉛直方向または水平方向に設置し
た状態で行なわれる上記（１）ないし（１２）のいずれ
かに記載の被処理物の処理方法。

【００２１】（１４） 前記被処理物は、生物から得ら
れたもの、または、これに化学処理を施したもの、これ
を基に合成されたものである上記（１）ないし（１３）
のいずれかに記載の被処理物の処理方法。

【００２２】（１５） 前記生物から得られたものは、
生体組織、細胞、核酸、タンパク質、脂質、ホルモン類
である上記（１４）に記載の被処理物の処理方法。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の被処理物の処理方
法を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説
明する。

【００２４】まず、本発明の被処理物の処理方法につい
て説明する前に、本発明で用いられる処理液展開用部材
の構成について説明する。

【００２５】図１は、本発明で用いられる処理液展開用
部材の構成を示す斜視図（斜め下から見た図）である。
なお、以下の説明では、図１中の下側を「一端」、上側
を「他端」、上下方向を「長手方向」、左右方向を「幅
方向」と言う。

【００２６】図１に示す処理液展開用部材１は、被処理
物Ｓが付着されたスライドガラス（平板状の支持体）７
に重ねることにより、該スライドガラス７との間に形成
された隙間９に処理液Ｒを導入（供給および展開）し、
これにより被処理物Ｓに処理液Ｒを付与する（接触させ
る）ものであり、処理装置に設置（セット）して使用さ
れる。

【００２７】この処理液展開用部材１は、全体形状とし
て、図１中の上下方向に長い長方形の板状をなしてい
る。

【００２８】処理液展開用部材１の内部の他端部側に
は、処理液Ｒを貯留可能な貯留部（貯留空間）１１が形
成されている。貯留部１１の容積は、特に限定されない
が、通常の大きさのスライドガラス７に対して使用する
ものの場合には、例えば、４０〜２５０μＬ程度とする
ことができる。

【００２９】処理液展開用部材１のスライドガラス７に
対面する方の面である処理液供給面１２には、処理液供
給口（孔）１３が開口している。この処理液供給口１３
は、処理液展開用部材１の長手方向中央よりもやや他端
部寄りに配置されており、貯留部１１の一端部に連通し
ている。また、処理液供給口１３の開口面積は、スライ
ドガラス７に重ねない状態のときに、貯留部１１内の処
理液Ｒが表面張力によって外部に流出しない程度に設定
されている。貯留部１１内に貯留された処理液Ｒは、処
理液供給口１３からスライドガラス７との隙間９に導入
（供給および展開）される。

【００３０】貯留部１１は、処理液展開用部材１の他端
部で外部に開放しており、開口部１４が形成されてい
る。貯留部１１内には、この開口部１４から処理液Ｒを
注入することができる。

【００３１】処理液供給面１２における図１中の左端部
および右端部には、それぞれ、処理液展開用部材１とス
ライドガラス７との間の隙間（間隔）９を規定するスペ
ーサーとしての機能を有する凸条１７が長手方向に沿っ
て形成されている。これにより、処理液供給面１２とス
ライドガラス７との間隔が好適な寸法に規定され、処理
液Ｒが毛管現象（表面張力）により確実に導入（供給お
よび展開）されるとともに、スライドガラス７に付着さ
れた被処理物Ｓが損傷するのを好適に防止することがで
きる。

【００３２】処理液展開用部材１の構成材料は、特に限
定されず、例えば、各種樹脂材料や各種金属材料等のう
ちの１種または２種以上組み合わせて使用することがで
きる。

【００３３】処理液展開用部材１の大きさは、特に限定
されないが、通常のスライドガラス７に対して使用する
ものの場合には、例えば、長さ３０〜８０ｍｍ程度、幅
１０〜３０ｍｍ程度、厚さ２〜５ｍｍ程度とされる。

【００３４】このような処理液展開用部材１の一端部に
は、余剰の処理液Ｒを保持し得る処理液保持手段として
の溝１５が形成されている。これにより、被処理物Ｓを
付着させたスライドガラス７と重ねて、処理液Ｒを付与
したとき、処理液展開用部材１とスライドガラス７との
隙間９から溢れ出した余剰の処理液Ｒが溝１５内に吸
収、保持される。

【００３５】図１に示す処理液展開用部材１では、厚さ
方向の溝１５が好ましくは等間隔で１１列程度、幅方向
の溝１５が好ましくは等間隔で３列程度形成されてお
り、これらの溝１５は、幅方向および厚さ方向の全体に
渡って形成されている。すなわち、溝１５は、格子状に
形成されており、各溝１５は互いに連通（連続）してい
る。

【００３６】これにより、余剰の処理液Ｒが多量の場合
でも、これを吸収、保持することができる。また、処理
液Ｒの垂れが局所的に生じ、溝１５の一部から余剰の処
理液Ｒが入り込んだ場合でも、その処理液Ｒは毛管現象
により溝１５の全域に自然に広がり、溝１５全体の処理
液保持能力が活用される。

【００３７】溝１５の幅（図２中のＬで示す長さ）は、
特に限定されないが、例えば、０．０５〜２ｍｍ程度で
あるのが好ましく、０．５〜１ｍｍ程度であるのがより
好ましい。

【００３８】また、溝１５の深さは、特に限定されない
が、例えば、０．０５〜５ｍｍ程度であるのが好まし
く、１〜３ｍｍ程度であるのがより好ましい。

【００３９】溝１５の幅や深さが前記範囲にあることに
より、余剰の処理液Ｒがより速やかに溝１５内に吸収さ
れるとともに、吸収された処理液Ｒをより確実に保持す
ることができる。

【００４０】また、このような処理液展開用部材１に
は、溝１５と同様の構成の溝１６が他端部にも形成され
ている。これにより、溝１６においても余剰の処理液Ｒ
が吸収、保持される。なお、溝１６は、貯留部１１の開
口部１４を避けて形成されている。

【００４１】次に、本発明の被処理物の処理方法につい
て、前記の処理液展開用部材１を用いて行なう場合を一
例に、図２〜図６に基づいて説明する。

【００４２】図２〜図６は、それぞれ、本発明の被処理
物の処理方法を説明するための図である。

【００４３】ここで、本発明において処理される被処理
物Ｓとしては、好ましくは、生体組織、細胞、核酸、タ
ンパク質、脂質、ホルモン類のような生物から得られた
もの、または、これに化学処理（例えば、化学修飾等）
を施したもの、これを基に合成されたもの（例えば、ｃ
ＤＮＡ等）等を用いることができる。

【００４４】特に、本発明では、被処理物Ｓである核酸
をスライドガラス（支持体）７上に固定（付着）し、い
わゆる、ＤＮＡチップ（ＤＮＡマイクロアレイ）として
使用するのが好適である。

【００４５】一方、処理液Ｒとしては、検査目的等によ
り適宜選択されるものであり、特に限定されないが、例
えば、ｍＲＮＡ、ｃＤＮＡのような核酸、抗体等を標識
（例えば色素、蛍光物質、放射性物質等により標識）し
た物質（以下、「プローブ」と言う。）を含む液を用い
ることができる。

【００４６】よって、本発明を用いれば、例えば、遺伝
子ＤＮＡ（核酸）の変異解析、多型解析、塩基配列解
析、発現解析（存在の有無）、さらに、これらに基づい
て各種疾患の診断等を、好適に行なうことができる。

【００４７】［０］ 被処理物の処理開始の準備図２に
示すように、一対の処理液展開用部材１、１を、それら
の処理液供給面１２同士を向かい合わせ、図示しない支
持部材により支持された状態とし、処理装置（図示せ
ず）に設置（セット）する。

【００４８】一方、被処理物Ｓを、それぞれ付着させた
２枚のスライドガラス７、７を背中合わせとした状態
で、それらの上端部を、前記処理装置が備えるホルダー
８に差し込んで設置（セット）する。これにより、２枚
のスライドガラス７、７は、一体的にホルダー８に支持
される。

【００４９】なお、このホルダー８は、図示しない昇降
機構により、図２〜図６中、上下左右前後（三次元的）
に移動可能とされている。

【００５０】次いで、図示しない処理開始ボタンをオン
すると、２枚のスライドガラス７、７上の各被処理物Ｓ
に対して、それぞれ処理を開始し、順次、以下の各工程
を行なう。

【００５１】なお、本実施形態では、各被処理物Ｓおよ
び各処理液Ｒは、同一のものを用いる場合について説明
するが、各被処理物Ｓおよび各処理液Ｒは、検査目的等
に応じて、それぞれ互いに異なるものを用いることもで
きる。

【００５２】また、図２〜図６では、それぞれ、左右対
称の構成となっているため、以下では、一方を代表して
説明する。

【００５３】［１］ 被処理物と処理液との接触 例えば、図示しない分注装置により、処理液Ｒを処理液
展開用部材１の貯留部１１に注入する。これにより、注
入された処理液Ｒは、貯留部１１に貯留されるが、その
表面張力により処理液供給口１３から漏れ出すことはな
い（図２参照）。

【００５４】次いで、図２に示すように、前記昇降機構
によって、スライドガラス７を、徐々に下方に向って移
動して、処理液展開用部材１同士の間に挿入する。

【００５５】これにより、図示しない移動機構を作動さ
せて、この移動機構によって、スライドガラス７に処理
液展開用部材１を接近させ、図３に示す状態とする。

【００５６】このとき、処理液展開用部材１とスライド
ガラス７との間には、隙間９が形成され、貯留部１１内
に貯留された処理液Ｒは、処理液供給口１３から流出し
て、隙間９に毛管現象（表面張力）により自然に広がっ
ていく。

【００５７】このようにして、隙間９のほぼ全域に処理
液Ｒを導入（供給および展開）し、スライドガラス７上
に付着された被処理物Ｓと処理液Ｒとを接触させる。

【００５８】このような構成とすることにより、必要最
小限の量の処理液Ｒで確実に被処理物Ｓを処理すること
ができ、処理液Ｒの無駄がなく、高価で貴重な処理液Ｒ
を用いる場合には特に有効である。

【００５９】なお、余剰の処理液Ｒは、隙間９から図３
中下端部に溢れ出した場合でも、それぞれ、処理液展開
用部材１の溝１５内に吸収、保持される。よって、図３
中の矢印Ｘ部に処理液Ｒが溜まることを防止（抑制）す
ることができる。

【００６０】このため、図３中、左右の矢印Ｘ部同士の
間で処理液Ｒが互いに回り込むことを防止（阻止）する
ことができるので、互いに異なる処理液Ｒを用いる場合
には、それらのコンタミネーションを防止（阻止）し
て、正確な処理を行うことができる。

【００６１】また、処理液展開用部材１の図３中上端部
においても、溝１６によって余剰の処理液Ｒが吸収、保
持されるので、矢印Ｘ部に流出する量を減少（低減）す
ることができる。

【００６２】なお、本実施形態では、処理液Ｒは、スラ
イドガラス７上への供給とほぼ同時に展開がなされる
が、これに限定されず、例えば、スライドガラス７に処
理液展開用部材１を接近させ、これらの間に隙間９を形
成した後、処理液Ｒを処理液展開用部材１の貯留部１１
を介して隙間９に導入（供給および展開）するようにし
てもよいし、さらに、処理液Ｒを各貯留部１１を介する
ことなく、隙間９に、直接供給（注入）するようにして
もよい。

【００６３】［２］ 被処理物と処理液との反応 次に、被処理物Ｓと処理液Ｒとを、加熱しつつ、反応さ
せる。具体的には、図示しないヒーターにより、処理液
展開用部材１および／またはスライドガラス７を加熱す
ると、これらを介して、被処理物Ｓと処理液Ｒとに熱が
伝達され、被処理物Ｓと処理液Ｒとが加熱される。この
加熱状態を維持しつつ、被処理物Ｓと処理液Ｒとを反応
させる。

【００６４】被処理物Ｓと処理液Ｒとを、加熱しつつ、
反応させることにより、この反応を効率よく（精度よ
く）進行させることができるとともに、処理時間の短縮
を図ることができる。

【００６５】また、被処理物Ｓと処理液Ｒとを、加熱し
つつ、反応させる他の方法としては、例えば、スライド
ガラス７と処理液展開用部材１とを接合した全体を加熱
（加温）室に入れるようにしてもよいし、処理液Ｒ自体
を加熱した状態で被処理物Ｓに接触させるようにしても
よい。

【００６６】この加熱の温度（加熱温度）としては、特
に限定されないが、例えば、３０〜７５℃程度とするの
が好ましくは、３７〜６５℃程度とするのがより好まし
い。加熱温度が低くすぎると、被処理物Ｓと処理液Ｒと
を十分に反応させることができない場合がある。一方、
加熱温度を高くし過ぎると、処理液Ｒ中のプローブの種
類等によっては、プローブに熱分解が生じ、解析精度の
低下を招く場合がある。

【００６７】また、加熱の時間（加熱時間）も、前記加
熱温度等により適宜設定され、特に限定されないが、例
えば、２〜２０時間程度とするのが好ましく、１６〜１
８時間程度とするのがより好ましい。加熱時間が短すぎ
ると、被処理物Ｓと処理液Ｒとを十分に反応させること
ができない場合がある。一方、加熱時間を長くしても、
それ以上、効果の増大が認められず、加熱温度等によっ
ては、処理液Ｒ中のプローブに熱分解が生じ、解析精度
の低下を招く場合がある。

【００６８】［３］ スライドガラスと処理液展開用部
材との離間 例えば、前記分注機構により、処理液展開用部材１の貯
留部１１に保湿液Ｈを注入する（図４参照）。

【００６９】次いで、図５に示すように、前記昇降機構
によって、スライドガラス７を、徐々に上方に向って移
動する。

【００７０】これにより、前記移動機構を作動させて、
この移動機構によって、処理液展開部材１をスライドガ
ラス７から離間させる。このとき、処理液供給口１３か
らは、保湿液Ｈが徐々に隙間９へ流出する。

【００７１】このようにして、保湿液Ｈを供給しつつ、
スライドガラス７と処理液展開用部材１とを離間させ
る。

【００７２】この保湿液Ｈは、スライドガラス７と処理
液展開用部材１とを離間させるのに際し、スライドガラ
ス７の被処理物Ｓの付着部位が空気と接触するのを防止
して、乾燥状態となるのを防止（阻止）するものであ
る。

【００７３】また、スライドガラス７と処理液展開用部
材１との離間は、前記工程［２］（被処理物Ｓと処理液
Ｒとの反応）の終了後、例えば、２分以内程度に開始す
るのが好ましく、１分以内程度に開始するのがより好ま
しい。

【００７４】前記工程［２］において、スライドガラス
７および処理液展開用部材１は、それぞれ、加熱された
状態となっており、スライドガラス７と処理液展開用部
材１との離間を前記範囲の時間内に開始することによ
り、これらが比較的高温にある状態で、その操作を行な
うことができる。

【００７５】これにより、例えば、被処理物Ｓが処理液
展開用部材１の処理液供給面１２に接触しているような
場合であっても、被処理物Ｓと反応したプローブ、この
プローブが有する標識、あるいは、被処理物Ｓ自体が処
理液供給面１２へ付着（移行）してしまうことを防止
（抑制）することができる。その結果、被処理物Ｓの反
応結果の解析に際し、その解析精度の低下を防止（抑
制）することができる。

【００７６】特に、この場合、スライドガラス７の被処
理物Ｓの付着部位は、乾燥状態となり易くなっており、
前記保湿液Ｈを供給しないで、スライドガラス７と処理
液展開用部材１とを離間させると、処理液Ｒが空気と接
触することにより、急激に乾燥して、処理液Ｒ中のプロ
ーブ（処理液Ｒの析出物）がスライドガラス７上に残存
してしまう。

【００７７】かかる状態となると、後述する工程［４］
の洗浄では、乾燥状態でスライドガラス７上に残存した
プローブを洗い流すことが困難となる。その結果、被処
理物Ｓの反応結果の解析に際し、不要なプローブがバッ
ググラウンドとして検出され、その解析精度の低下を招
く恐れがある。

【００７８】これに対し、本発明では、保湿液Ｈを供給
しつつ、スライドガラス７と処理液展開用部材１とを離
間させるので、処理液Ｒが空気と接触して急激に乾燥す
ることが防止（抑制）され、スライドガラス７上への不
要なプローブ（処理液Ｒの析出物）の残存を、好適に防
止（抑制）することができる。このため、被処理物Ｓの
反応結果の解析に際し、その解析精度を極めて優れたも
のとすることができる。

【００７９】さらに、前述したような観点からは、スラ
イドガラス７と処理液展開用部材１との離間を、その開
始時点の温度が急激に低下するのを防止（抑制）しつつ
行なうのが好ましい。

【００８０】したがって、保湿液Ｈとしては、比較的高
温のものを使用するのが好ましい。この保湿液Ｈの温度
としては、前記工程［２］における加熱温度を前記範囲
とする場合、例えば、２５〜７５℃程度とするのが好ま
しく、４０〜７５℃程度とするのがより好ましく、４０
〜６５℃程度とするのがさらに好ましい。

【００８１】また、保湿液Ｈの供給量としては、特に限
定されないが、例えば、処理液Ｒの供給量の５０〜２０
０倍程度であるのが好ましく、１００〜１５０倍程度で
あるのがより好ましい。保湿液Ｈの供給量が少なすぎる
と、過剰に入っているプローブ（未反応のプローブ）が
完全に落としきれず、バックグラウンドとして検出され
る恐れがある。一方、保湿液Ｈの供給量が多すぎると、
目的とするシグナル（本来、検出されなければならない
場所からのシグナル）が減少または消失する恐れがあ
る。

【００８２】このような保湿液Ｈとしては、被処理物Ｓ
の反応結果に影響を与えないものを用いるのが好まし
く、例えば、クエン酸緩衝液、リン酸緩衝液、ホウ酸緩
衝液、トリス緩衝液等の緩衝液を主とするものであるの
がより好ましい。このような緩衝液を主とする保湿液Ｈ
は、プローブとの反応性に乏しく、また、被処理物Ｓへ
のダメージ（損傷）も極めて小さくすることができると
いう利点がある。

【００８３】また、保湿液Ｈは、界面活性剤を含んでい
るのが好ましい。これにより、スライドガラス７と処理
液展開用部材１との離間を、より容易かつ確実に行なう
ことができる。この界面活性剤としては、特に限定され
ないが、例えば、ドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）、
硫酸デキストラン、Tweenー20、Triton X-100等が挙げら
れる。

【００８４】また、この界面活性剤の保湿液Ｈ中の含有
量（濃度）としては、特に限定されないが、例えば、
０．１〜３ｗｔ％程度であるのが好ましく、０．１〜１
ｗｔ％程度であるのがより好ましい。界面活性剤の種類
等によっては、保湿液Ｈ中の含有量が低すぎると、界面
活性剤がその機能を十分に発揮できない場合があり、一
方、界面活性剤の含有量が多すぎると、界面活性剤によ
る被処理物Ｓへのダメージ（損傷）を増大することがあ
る。

【００８５】なお、本実施形態では、保湿液Ｈは、処理
液展開用部材１の貯留部１１を介して隙間９に供給され
る場合について示したが、これに限定されず、例えば、
前記分注装置により隙間９に、直接供給（注入）するよ
うにしてもよい。

【００８６】また、処理装置には、例えば、保湿液Ｈお
よび前記処理液Ｒを供給するための供給口を設けるよう
にしてもよい。

【００８７】さらに、処理装置には、例えば、隙間９を
通過した保湿液Ｈおよび処理液Ｒを排出するための排出
口を設けるようにしてもよい。

【００８８】［４］ 被処理物の洗浄 前記工程［３］の終了後、前記昇降機構によって、スラ
イドガラス７を移動させ、図６に示すように、スライド
ガラス７ごと被処理物Ｓを洗浄液Ｗに浸漬する。これに
より、被処理物Ｓに洗浄液を接触させ、被処理物Ｓを洗
浄する。

【００８９】このような洗浄方法（浸漬法）を用いるこ
とにより、被処理物Ｓから処理液Ｒ（未反応のプロー
ブ）をより容易かつ確実に除去することができる。その
結果、被処理物Ｓの反応結果の解析に際し、その解析精
度をより向上することができる。

【００９０】この場合、かかる洗浄は、スライドガラス
７および／または洗浄液Ｗに、例えば、揺動、超音波振
動のような振動を付加しつつ、行なうようにしてもよ
い。

【００９１】また、被処理物Ｓの他の洗浄方法として
は、例えば、被処理物Ｓのみを洗浄液Ｗに浸漬する方
法、被処理物Ｓに洗浄液Ｗを直接噴霧（シャワー）する
方法等が挙げられる。

【００９２】このような洗浄液Ｗの組成は、前記工程
［３］で用いた保湿液Ｈとほぼ同一の組成であっても、
異なる組成であってもよいが、ほぼ同一の組成であるの
が好ましい。洗浄液Ｗとして、保湿液Ｈとほぼ同一の組
成のものを用いれば、別途、保湿液Ｈと異なる組成の洗
浄液を用いる場合に比べて、洗浄液Ｗの準備の手間を省
略することができる。

【００９３】この洗浄液Ｗの供給量としては、特に限定
されないが、例えば、処理液Ｒの供給量の５０〜２００
倍程度であるのが好ましく、１００〜１５０倍程度であ
るのがより好ましい。洗浄液Ｗの供給量が少なすぎる
と、被処理物Ｓを十分に洗浄できない場合があり、一
方、洗浄液Ｗの供給量が多すぎると、目的とするシグナ
ル（本来、検出されなければならない場所からのシグナ
ル）が減少または消失する恐れがある。

【００９４】さらに、被処理物Ｓは、２回以上（複数
回）繰り返して洗浄してもよい。これにより、被処理物
Ｓから処理液Ｒ（未反応のプローブ）をさらに確実に除
去することができる。

【００９５】この場合、用いる洗浄液の条件（例えば、
濃度、組成、温度等）は、前記洗浄液Ｗと同一のもので
あっても、異なるものであってもよい。

【００９６】 洗浄液の条件として濃度（含有量）を
変更する場合には、例えば、次のようにするのが好まし
い。すなわち、第２回目の洗浄液は、第１回目の洗浄液
（洗浄液Ｗ）より溶質（例えば、界面活性剤等）の含有
量が少ないものを、さらに、第３回目の洗浄液は、第２
回目の洗浄液より溶質の含有量が少ないものを、という
ように、後に使用する洗浄液では、順次、前回に使用す
る洗浄液より溶質の含有量が少ないものとするのが好ま
しい。これにより、被処理物Ｓに対して複数回の洗浄を
行なっても、被処理物Ｓへのダメージ（損傷）を防止
（抑制）することができる。

【００９７】 洗浄液の条件として組成を変更する場
合には、各回での洗浄液に用いる緩衝液、界面活性剤等
の種類を適宜変更するようにすればよい。

【００９８】 洗浄液の条件として温度を変更する場
合（洗浄を３回行なう場合）には、例えば、次のように
することができる。すなわち、第２回目の洗浄液は、第
１回目の洗浄液（洗浄液Ｗ）より温度が若干（例えば、
５〜１５℃程度）高いものを用い、第３回目の洗浄液で
は、第１回目の洗浄液の温度に近いものを用いる。この
場合、被処理物Ｓからの処理液Ｒ（未反応のプローブ）
の除去効率を向上することができるとともに、被処理物
Ｓへのダメージ（損傷）も防止（抑制）することができ
るという利点がある。

【００９９】また、洗浄液の条件を変更する場合には、
濃度、組成、温度等のうちの任意の２以上の条件を組み
合わせるようにしてもよい。

【０１００】なお、被処理物Ｓの洗浄は、図５に示す状
態で、例えば前記分注装置により、洗浄液Ｗを、処理液
展開用部材１の貯留部１１を介して、あるいは、隙間９
に直接、供給（注入）するようにして行なうこともでき
る。この場合、保湿液Ｈと洗浄液Ｗとは、同一で区別が
なくてもよい。これにより、スライドガラス７と処理液
展開用部材１との離間と、被処理物Ｓの洗浄とを連続し
て、または、ほぼ同時に行なうことができ、処理時間の
短縮に寄与する。

【０１０１】また、この場合、洗浄液Ｗは、前述した供
給口を介して供給し、前述した排出口を介して排出する
ようにしてもよい。

【０１０２】以上のような工程を経て、被処理物Ｓを処
理液Ｒにより処理し、次いで、その反応結果の解析を行
なう。

【０１０３】なお、本実施形態では、前記工程［１］〜
［４］のいずれの工程も、スライドガラス（支持体）７
を鉛直方向に設置した状態で行なわれるものであった
が、これに限定されず、前記工程［１］〜［４］の少な
くとも１つの工程は、スライドガラス７を水平方向に設
置した状態で行なわれてもよい。また、スライドガラス
７の設置方向を変更する理由が特にない場合には、前記
全工程において、スライドガラス７を鉛直方向または水
平方向に維持（保持）した状態で行なうようにすればよ
い。

【０１０４】また、本実施形態では、一対のスライドガ
ラス７、７の一組を処理する場合について示したが、こ
れに限定されることはなく、例えば、複数組を同時に処
理するようにしてもよい。さらに、スライドガラス７
は、一対で処理される場合に限定されず、一方のみであ
ってもよい。

【０１０５】以上、本発明の被処理物の処理方法を図示
の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定
されるものではない。

【０１０６】例えば、被処理物を付着させる支持体は、
その形状が平板状のものに限定されず、例えば球状等の
いかなるものであってもよい。

【０１０７】また、本発明では、必要に応じて、被処理
物を洗浄する工程を省略してもよく、任意の工程を追加
することもできる。

【０１０８】なお、本発明は、特願２０００−３２０９
３０号に記載のサンプル処理装置に適用することもでき
る。

【０１０９】また、本発明は、前述したような処理装置
を用いることなく、人手によって実施してもよいこと
は、言うまでもない。

【０１１０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、被
処理物と処理液とを反応させた後、保湿液を供給しつ
つ、支持体と処理液展開用部材とを離間させるので、支
持体の被処理物の付着部位が乾燥した状態となることを
防止（抑制）することができ、これにより、処理液の析
出物が乾燥状態となって支持体上に残存するのを防止
（抑制）することができる。その結果、被処理物の反応
結果の解析に際し、その解析精度の向上を図ることがで
きる。

【０１１１】また、保湿液の条件（例えば、濃度、組
成、温度等）を適宜設定することにより、前記効果をよ
り向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明において用いられる処理液展開用部材の
構成を示す斜視図（斜め下から見た状態）である。

【図２】本発明の被処理物の処理方法を説明するための
図（処理液展開用部材をスライドガラスに接近させる前
の状態）である。

【図３】本発明の被処理物の処理方法を説明するための
図（処理液展開用部材をスライドガラスに接近させた後
の状態）である。

【図４】本発明の被処理物の処理方法を説明するための
図（処理液展開用部材をスライドガラスから離間させる
前の状態）である。

【図５】本発明の被処理物の処理方法を説明するための
図（処理液展開用部材をスライドガラスから離間させて
いる途中の状態）である。

【図６】本発明の被処理物の処理方法を説明するための
図（スライドガラスを洗浄液に浸漬した状態）である。

【符号の説明】

１ 処理液展開用部材 １１ 貯留部 １２ 処理液供給面 １３ 処理液供給口 １４ 開口部 １５、１６ 溝 １７ 凸条 ７ スライドガラス ８ ホルダー Ｓ 被処理物 Ｒ 処理液 Ｈ 保湿液 Ｗ 洗浄液

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０１Ｎ 33/566 Ｇ０１Ｎ 37/00 １０２ 37/00 １０２ 1/28 Ｊ Ｆターム(参考） 2G052 AA28 AA33 AB16 AB18 AB20 AC11 AD34 AD54 DA07 EB11 ED11 FB02 FC02 FC06 FC15 FD17 GA11 GA18 JA09 3B201 AA01 AA46 AB03 AB44 BB01 BB21 BB82 BB96 CB12

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物を付着させた支持体上に、前記
   被処理物と反応し得る処理液を供給するとともに、前記
   支持体に処理液展開用部材を接近させて、これらの間に
   形成された隙間に前記処理液を展開させることにより、
   前記被処理物と前記処理液とを接触させる工程と、 前記被処理物と前記処理液とを、加熱しつつ、反応させ
   る工程と、 保湿液を供給しつつ、前記支持体と前記処理液展開用部
   材とを離間させる工程とを有することを特徴とする被処
   理物の処理方法。
2. 【請求項２】 前記加熱の温度は、３０〜７５℃である
   請求項１に記載の被処理物の処理方法。
3. 【請求項３】 前記加熱の時間は、２〜２０時間である
   請求項１または２に記載の被処理物の処理方法。
4. 【請求項４】 前記被処理物と前記処理液とを反応させ
   る工程の終了後、２分以内に、前記支持体と前記処理液
   展開用部材との離間を開始する請求項１ないし３のいず
   れかに記載の被処理物の処理方法。
5. 【請求項５】 前記保湿液の供給量は、前記処理液の供
   給量の５０〜２００倍である請求項１ないし４のいずれ
   かに記載の被処理物の処理方法。
6. 【請求項６】 前記保湿液の温度は、２５〜７５℃であ
   る請求項１ないし５のいずれかに記載の被処理物の処理
   方法。
7. 【請求項７】 前記保湿液は、前記被処理物の反応結果
   に影響を与えないものである請求項１ないし６のいずれ
   かに記載の被処理物の処理方法。
8. 【請求項８】 前記保湿液は、緩衝液を主とするもので
   ある請求項１ないし７のいずれかに記載の被処理物の処
   理方法。
9. 【請求項９】 前記保湿液は、界面活性剤を含んでいる
   請求項１ないし８のいずれかに記載の被処理物の処理方
   法。
10. 【請求項１０】 前記支持体と前記処理液展開用部材と
    を離間させる工程の終了後、さらに、前記被処理物と洗
    浄液とを接触させることにより、前記被処理物を洗浄す
    る工程を有する請求項１ないし９のいずれかに記載の被
    処理物の処理方法。
11. 【請求項１１】 前記洗浄液の供給量は、前記処理液の
    供給量の５０〜２００倍である請求項１０に記載の被処
    理物の処理方法。
12. 【請求項１２】 前記洗浄液の組成は、前記保湿液の組
    成とほぼ同一である請求項１０または１１に記載の被処
    理物の処理方法。
13. 【請求項１３】 前記各工程の少なくとも１つの工程
    は、前記支持体を鉛直方向または水平方向に設置した状
    態で行なわれる請求項１ないし１２のいずれかに記載の
    被処理物の処理方法。
14. 【請求項１４】 前記被処理物は、生物から得られたも
    の、または、これに化学処理を施したもの、これを基に
    合成されたものである請求項１ないし１３のいずれかに
    記載の被処理物の処理方法。
15. 【請求項１５】 前記生物から得られたものは、生体組
    織、細胞、核酸、タンパク質、脂質、ホルモン類である
    請求項１４に記載の被処理物の処理方法。