JP2509693B2 - 表面上にある薄い試料の処理を促進するための方法および装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は処理液と接触する表面上にある薄い試料の処
理法、特に組織学的および血液学的染色液、免疫学的試
薬ならびに核酸プローブ試薬などの処理液による薄い試
料、たとえば組織の処理を促進する方法に関する。

（従来の技術） 薄い試料を処理液で処理するために一般に用いられる
機器の一形態は自動スライド染色装置である。この機器
は試料を保有するスライドを処理液に順次浸漬するもの
である。

フィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーか
ら1980〜1986年に市販されたこの種のスライド染色装置
の１つはヒストマチック（HISTOMATIC）スライド染色装
置、172型（フィッシャー86カタログNo.15-185-172）で
あり、これは間隔を置いて平行に垂直方向に配置された
スライドを保持したラックが染色プロセスの開始時に自
動的に挿入される乾燥室を備えている。この機器はプロ
グラムされていると、空気を電気的に加熱された金属線
上に吹き付け、スライド上におけるホルマリン固定組織
の保持を高めるため組織の周りに施されていたパラフィ
ンを融解するために、この温風を乾燥室内へ送り、一連
のスライドに導通する。この金属線は赤熱するように設
計されておらず、機器内におけるその配置はスライドの
輻射加熱に適してもいない。

ボーン・ダイアグノスティック・センター社の公開さ
れた国際特許出願W087/00004号（1987年１月15日）明細
書、18〜19頁には、組織の固定、脱水、包理、封入およ
び染色に際して、スライド上での組織試料の染色を促進
するためのマイクロ波の種々の用途が記載されている。
その他のマイクロ波の使用に関しては国際特許出願W087
/00004号と共に公表された調査報告書に報告された各種
文献中に記載されている。

リンナーの米国特許第4,567,847号明細書（1986年）
には、超微細構造分析用生物組織の低温調製（cryoprep
aration）のための装置および方法が記載されている。1
5欄には組織の温度を制御下に上昇させるための各種輻
射加熱手段が述べられている。マイクロ波を含む種々の
電磁エネルギー源が単独で、または磁束と組合わせた状
態で適切であることが示されているが、ただし赤外線は
避けるべきであるとされている。

N.ブリン、“マイクロ波炉を用いる迅速組織学的金属
染色法"J.of Histotechnology,vol.6,no.3,pp.125-129
（1983）にはマイクロ波照射の採用による特定の染色処
理の促進について記載されている。染色液（たとえばメ
タンアミン銀使用液）は入ったプラスチック製コプリン
ジャーにスライドを入れ、ジャーにキャップをゆるくね
じ込み、ジャーをマイクロ波炉内に約１分間置く。多く
の場合、スライドは、ジャーが炉から取出されたのち数
秒間または数分間、高温の使用液中に残留させると支持
されている。この方法は金属染色および特定の他の染色
処理を促進するために採用できると示されているが、マ
イクロ波輻射時に処理液の浴に浸漬されるスライドに代
わるものについては何ら記載がない。この浸漬法は、マ
イクロ波エネルギーを分散させ、これにより組織切片の
過熱およびその後のそれらの分解を制限する補助として
用いられる。

ブリガティの米国特許第4,731,335号明細書（1988年
３月15日交付）（英国特許出願第2,180,647A号明細書
は、1987年４月１日発行も参照されたい）には、表面、
たとえば顕微鏡スライド上の薄い試料、たとえば組織を
処理するための毛管作用を伴う方法が記載されている。
要約すると、処理液は２枚のスライド間を毛管作用によ
り吸込まれ、特に垂直に上方へ吸上げられて、一方（ま
たは双方）のスライド上の試料と接触する。そこに示さ
れた、多数のスライド対が平行して垂直に配列保持され
た器具の場合、器具全体が自動スライド染色装置の試薬
ステーション間を搬送され、あるいは各スライド対の基
底部が液体（液滴状またはプール中）と接触することに
より処理液を吸取り、次いで各スライド対の基底部が吸
収材料と接触することにより処理液が除去される。上記
明細書に示されたスライドホルダーは、液体で満たされ
た間隙を含む配列を自動スライド染色装置の１か所に位
置する37度の湿潤室内に配置しうる状態で外側へ伸びた
フランジ451を備えている。具体的な多段免疫細化学的
方法においては、スライド配列が、工程13では酵素系消
化試薬で満たされ、工程15では遮断試薬で満たされ、工
程17ではビオチニル化一次抗体を含有する試薬で満たさ
れ、工程20では酵素含有試薬で満たされ、工程24および
25では色原体試薬で満たされた湿潤室内に置かれる。発
行された英国特許出願第2,180,647A号明細書（1987年４
月１日）にも同じ記載がある。

改良された型のスライドホルダーおよび配列がクオモ
およびブリガティの米国特許第4,801,431号明細書（198
9年１月31日交付）に記載されている。その図2Bに示さ
れたフランジ51はスライド配列がそのステーション内に
置かれた際に湿潤室を完全に閉じるための同様な作用を
もつであろう。

米国特許第4,731,335および4,801,431号明細書中の方
法および装置は多工程処理法における費用および時間の
制御および節約を高めるが、特定の重要な個々の工程に
必要な時間は依然として長い。たとえば米国特許第4,73
1,335号明細書中の一例である免疫細胞化学的方法の場
合、ステーション間のロボット工学的運動の時間を基本
的な試薬付与時間に加算すると、全処理時間131分のう
ち湿潤室における６期間は94分を構成する。この方法を
改良し、各工程を慎重に制御することによってこれらの
期間はある程度は短縮されるかも知れないが、スライド
配列が指示された工程を完了するために（たとえば免疫
化学的結合または酵素による発色）湿潤室内に留まらな
ければならない最小期間は依然として必要である。さら
に、スライドホルダーに金属を使用するため、マイクロ
波輻射はこれらの工程の促進には不適当であろう。

（発明の要約） 本発明は、特に処理液が毛管作用により吸込まれて試
料と接触している状態で処理液による薄い試料の処理を
促進するために赤外線を用いる。従って本発明は一観点
においては、 （ａ）第１表面上に薄い試料を施し、 （ｂ）第２表面を第１表面に実質的に平行に、これから
第１距離だけ間隔を置いて保持し、これにより第１表面
と第２表面の間に間隙を設け、 （ｃ）この間隙に処理液を導入し、 （ｄ）処理液を毛管作用により間隙内へ吸込んで薄い試
料と接触させ、そして （ｅ）薄い試料と接触した処理液を、該処理液による薄
い試料の処理を促進するのに十分な照射量および期間に
おいて赤外線照射すべく赤外線を発生させる ことよりなる、表面上にある薄い試料の処理法を提供す
る。

本発明は、 （ａ）第１表面上に薄い試料を施し、 （ｂ）第１表面上に薄い試料と接触した処理液の薄層を
形成し、 （ｃ）赤外線を発生させ、そして （ｄ）処理液の薄層を、該処理液による薄い試料の処理
を促進するのに十分な照射量およびこれに十分な照射期
間において赤外線照射する工程からなる、処理液による
生物学的検体の処理を促進する方法をも提供する。

本発明は、 （ａ）底壁および直立した側壁を備えた処理室であっ
て、該処理室が上部開口を形成するもの、 （ｂ）複数の平面小片の上端とかみ合ってこれら平面小
片を保持手段から下方へ実質的に垂直方向に伸びた平行
配列状に保持するための保持手段、 （ｃ）保持手段と共同して、処理室により形成される上
部開口を実質的に覆うための、保持手段に付随するフラ
ンジ手段、および （ｄ）フランジ手段および保持手段が実質的に上部開口
を覆った処理室内に赤外線を発生し、上記平面小片を赤
外線照射するための輻射手段 からなる、処理液による薄い試料の処理の促進するため
の装置をも提供する。

図面について簡単に述べる。

第１図は本発明の第１形態による処理室上方にある、
スライドを装填したスライドホルダーの正面立面図であ
る。

第２図はすべて本発明の第１形態による、処理室上の
スライドホルダーおよび処理室内へ伸びたスライドの一
部断面状の正面立面図である。

第３図は第１図の線３−３に沿って得た、スライドホ
ルダー内におけるスライドの配列を示す底部平面図であ
る。

第４図は第１図の線４−４に沿って得た、処理室上部
を通る開口を示す上面平面図である。

第５図は本発明の第２形態による処理室の、一部断面
状の正面立面図である。

第６図は本発明の第３形態に用いられる、水平配置ス
ライド用処理室の透視図である。

（発明の詳細な記述） 本発明方法は第１表面上の薄い試料の処理液の薄層と
接触させ、次いで処理液の薄層を赤外線で照射して薄い
試料の処理を促進することを含む。本発明の多くの形態
において、処理液の薄層はたとえば米国特許第4,731,33
5号明細書に記載されるように第１表面と第２表面の間
の間隙内に保持される。この形態のうちある種の場合、
複数対のスライドが複数のこの種の間隙を定め、試料を
保有すう部分の間隙が処理室内に置かれ、ここで赤外線
が与えられる。以下の詳述において、複数対のスライド
および１個の処理室を伴う本発明の形態についてまず記
述する。次いで本発明を実施するための他の代表的形態
について簡単に述べる。ただし、最初の記述に述べる各
特色は本発明を実施するための他の形態にも適用される
が、これは必ずしも必須ではないと解すべきである。

本発明の好ましい形態において、ホルダー、または保
持手段は複数の平面小片、たとえば顕微鏡スライドの上
端とかみ合うべく設けられる。この種のホルダーのうち
特に好ましい形態は、クオモおよびブリガティの米国特
許第4,801,431号明細書に記載された型のスライドホル
ダーである。この種のスライドホルダーの第１形態（米
国特許第4,801,431号明細書の図１および米国特許第4,7
31,335号の図５に示されたもの）の場合、ホルダーの下
側にスロットが設けられる。平らな顕微鏡スライドの各
対がカバースリップなどのシムを２枚のスライドの上端
の間に入れた状態で各スロットに挿入され、これにより
各スライド対の主要部分はホルダーの下方へ伸び、２枚
のスライド間にシムの厚さ、たとえば50〜500μｍ、好
ましくは100〜250μｍ、特に150〜200μｍの間隙を形成
する。

第２形態のスライドホルダーは米国特許第4,801,431
号明細書の図2A〜2D、ならびに本明細書の第１、２およ
び３図に示されている。このスライドホルダーは、ホル
ダーの水平カバーから下方へ伸びる仕切りブラケット、
および仕切りブラケットそれぞれに、スライド対がその
スライド対の頂部の一方側において２個のクリップに受
容され、スライド対の頂部の他方側において向き合った
仕切りブラケット上の２個のクリップ内に受容されるよ
うに配置された垂直方向に間隔を置いたクリップ対を備
えている。この種のスライド対に用いられるスライドは
シムで分離された平らなスライドであってもよいが、好
ましくは上方の表面に塗膜が施され、対向させた際にこ
れが塗膜の下方の部分に間隙を定めるスライドである。
この種のスライドは米国特許第4,770,781号明細書（198
8年10月11日交付）に、より詳細に述べられている。し
かし、適切なエラストマー素子などが対のスライドの一
方もしくは両方の裏面に、またはスロットの内側に施さ
れ、これが変形してスライド対をスロット内に保持する
力をスライドに及ぼすならば、この種の塗膜付きスライ
ドはスライドを米国特許第4,731,335号明細書、図５の
ホルダーのスロット内へはめ込むためにも利用しうるこ
とは認められるであろう。

この種のホルダーは本発明において１本のスライドを
保持するために使用できるが、ホルダーが多数のスライ
ド対、たとえば10〜100対、より一般的には20〜60対の
スライド（図示した形態の場合は30スライド対）のため
のスペースをもつことがきわめて有利である。しかしホ
ルダーが完全に満たされている必要はなく、特に組織化
学、免疫細胞化学および核酸ハイブリダイゼーションな
どの用途の場合、研究所では処理プロトコールが同時処
理可能である限り、一度に処理および評価できる検体を
有する多数のスライド対を同時に試験することが予想さ
れる。しかし、この場合、各スライド対の間隙内にある
試料につき同一処理を行う必要はない。これは米国特許
第4,731,335号明細書に、より詳細に説明されるよう
に、試薬アイソレーターを用いることにより各スライド
対に施される処理液を区別することができるからであ
る。たとえば多工程免疫細胞化学的方法において、30ス
ライド対を同一処理から、たとえば30種の異なる一次抗
体を１種ずつ30の異なる間隙に１工程で施すことにより
異なる30種の処理方式にまで及ぶ方法によって処理する
ことができる。しかし一般に等しいと思われるものは、
各組の試料に与えられる一連の時間および温度である。
しかしこの場合でも特定の処理工程（たとえば消化工
程）を若干のスライド対については省略するが他につい
ては行いたい場合、第１群のスライド対については他の
対に消化液が吸込まれる際に不活性緩衝液を吸込んでお
き、次いで両者を本発明に従って照射することができ
る。

表面の幾何学的配列様式（好ましい場合はスライド対
の各スライドにより定められる）は本発明にとって重要
ではないが、好ましい配列様式はスライド対がホルダー
から下方へ垂直に伸びるものである。スライド対が平行
な列に配列され、各列のスライド対が平行であり、水平
方向に規則的距離（種々の先行出願において第２距離と
記述され、一般に５〜7mmである。その意味は各アリコ
ートの処理液が間隙内へ吸込まれる際に主として関係す
る）を置くことがしばしば好都合である。スライド対の
全体的水平プロフィルは、上壁にスライド対が開口全体
にわたって自由に動くのに十分なほど大きな水平寸法の
開口を備えた処理室を設けたい場合に重要である。

同様に赤外線を処理室内において、または処理室内へ
施す様式に応じて、スライド対はそれぞれの間隙内の各
処理液に照射線が均一に分布すべく配列することができ
る。この制限は照射線が上方へ垂直に向けられる場合
（本明細書、第２図）よりむしろ水平に向けられる場合
（本明細書、第５図）の方が重要であろう。この制限は
１処理室に垂直および水平に向かう照射線を組合わせる
ことにより克服できる。このように組合わせる一方式
は、スライドホルダーの下側および処理室の側壁を研磨
し、または光沢のある銀めっき金属表面処理し、熱源を
処理室の底に配置し、これにより処理液を含む間隙間に
照射線を分布および均一化することであろう。

本発明方法において試料と接触している処理液の赤外
線を施すための好ましい様式は、処理室の使用によるも
のである。処理液および試料を処理室内に入れた時点
で、処理室内に施される赤外線が処理室から光として認
められるほど漏出しない程度に処理室が閉鎖されること
が好ましい。この種の閉鎖を達成するための好ましい手
段は、処理室に内部反射性の底壁および直立側壁を施す
ことである。一般に４側壁が用いられるが、角型の水平
断面が必須というわけではない。さらにこの種の処理室
はホルダーがない場合は一部または全部が解放される上
面をもつ。このような場合、好まくはホルダーが少なく
とも一方向にはスライド対の水平プロフィルを越えて、
たとえば処理室の上壁の残部もしくはいずれかの部分
と、または処理室の１または２以上の側壁の上端とかみ
合うかまたはこれに乗る１または２以上のフランジの形
でホルダーが水平方向に伸びていることにより、ホルダ
ーが上面を密閉しうる。スライドホルダーの下側には研
磨された金属または他の反射面を施すことができる。単
一サイズの上部開口を備えた１個の処理室を、それぞれ
異なる水平プロフィルのスライド配列を保持しうる多種
のホルダーと組合わせて用いることも考慮される。ただ
しこの種のスライド配列の水平配列はそれぞれ開口を通
って受容されるものであり、かつ各ホルダーはスライド
配列のプロフィル内にない開口の残部を覆うフランジま
たはこれに類する構造をもつ。

赤外線は処理室内で発生させるか、または後記のよう
に処理室の外側で発生させ、そして処理室内へ伝達する
ことができる。処理室内での発生のためには、線源を室
内の、スライドによって占有されないいかなる位置に配
置することもできるが、好ましくは壁、たとえば底壁ま
たは１もしくは２以上の側壁の内側に配置する。線源を
底壁上に配置する場合は、線源上に付着する処理液の不
都合な作用に対して保証することが好ましい。この種の
付着は、室内に持込まれる液体がすべて毛細間隙内にあ
る場合は起こらないと思われる。照射器具は一般に赤外
線を放出する熱素子、および熱素子を保護しかつ赤外線
を透過させるカバー素子（通常はセラミック）を含む。

赤外線とは可視光線（750nmまたは0.75μｍ以上）か
ら12,000nm（12μｍ）に及ぶ波長の電磁線（光）を意味
する。これに対しマイクロ波（前記のある種の先行技術
方法に用いられるもの）は一般に１〜300nm（1000〜30,
000μｍ）のものであると考えられる。赤外線とマイク
ロ波の間の波長（すなわち12〜1000μｍ）の線は空気中
の通過という点では光というよりむしろ熱であると考え
られる。それは、空気中の気体分子がこの線を多量に吸
収し、従って有効な輻射加熱手段ではないからである。

用いられる赤外線は近赤外（好ましくは0.7〜0.8μ
ｍ）または遠赤外（好ましくは2.8〜８μｍ）にピーク
を示し、低波長からピーク領域へ向かって妥当な程度に
急激に上昇し、ピーク領域から高波長へ向かって妥当な
程度に徐々に効下する通常のエネルギー対波長の形状を
もつ。バンド幅の狭い赤外線（たとえばレーザーからの
もの）も採用できる。具体例で用いたサーマ−テック
（THERMA-TECH）Ｂ型赤外線パネルは、650℃（1200°
Ｆ）に加熱された線源かた発光し、セラミック製カバー
を通して主として3.5〜6.0μｍの遠赤外部において発光
すべく設計されている。この種のパネルは製造業者によ
れば有効な中強度ヒーターであり、線速度が中速ないし
高速である場合に良好であり、表面の熱透過が必要であ
るにすぎないと述べられている。特にマイクロ波と比較
した場合の赤外線の一般的特性は、赤外線は透過するの
ではなく表面にエネルギーを付与する点である。

線源の強度は種々の方法で、一般には１または２以上
のパラメーターを監視し、次いでこの監視結果および目
的とする処理条件に基づいて線源に供給されるエネルギ
ーを調整することによって制御できる。たとえば赤外線
自体を光導電体により監視することができるが、光源の
カバーまたは処理室内のある地点（これはスライド体の
配列のプロフィル内にあってもよく、そうでなくてもよ
い）の温度を検知する方が好ましい。たとえば上記Ｂ型
装置には場合によりセラミック製カバーの温度を監視す
る温度計が製造業者によって設置されている。あるいは
光源にエネルギー源として供給される電流を監視するこ
ともできる。いずれの場合も目的とする線量、検知され
た温度または検知された電流量を特定の形状のスライド
ホルダーおよび処理液の種類につき目的とする処理方式
と算術的または経験的に相関させることができる（たと
えばIR吸収性染料を含まない水性処理液は有機処理液ま
たはIR吸収性発色団を含む水性染色液と異なる特性をも
つであろう）。

たとえば米国特許第4,731,335号明細書中の誘導加熱
される湿潤室を用いる場合、室内温度37℃において60分
が適切であることが確認される（米国特許第4,731,335
号に示された多工程法における一次抗体インキュベーシ
ョン工程について）。従って本発明における対応する工
程は処理液を速やかに37℃以上となすべく設計されなけ
ればならない。赤外線は同一処理温度を用いても対流加
熱炉に勝る利点を与える。先行方法の場合、60分のうち
の多くが実際には一次抗体液を37℃に加温するのに費や
されからである。赤外線はこの温度への加温を数秒間、
多くとも１分または２分間で達成しうる。さらに処理温
度を通常はいっそう高めて工程をさらに促進することが
できる。ただし有害な作用（たとえば一次抗体または検
出酵素の変性）を起こすほどには高めない。後記のよう
に一次抗体を組織の反応などの工程は赤外線を用いると
２分間で達成されることが認められた。抗体溶液の温度
は正確には測定されなかった。

さらに赤外線は連続した強度範囲にわたって施すこと
ができ、処理時間にわたって強度を一定に、または変化
させてプログラムすることができるため、多様な処理温
度プロフィルを達成することができる。たとえばDNAハ
イブリダイゼーション工程については、二本鎖DNAを含
むホルマリン固定組織試料を、標識プローブ（たとえば
ビオチンで標識したもの）を含む処理液と接触させ、こ
のアセンブリッジを赤外線照射して、処理液および試料
を速やかに変性温度（90〜105℃）となすことができ
る。採用する架橋固定の程度および目的温度の超過に対
する組織の感度に応じて、この昇温は５分以下の短時間
で起こりうる。次いで線源の強度を低下させると、組織
試料および処理液は速やかにハイブリダイゼーション温
度（たとえば37〜42℃）にまで冷却し、これを制御され
た連続的または定期的な赤外線放出によって維持するこ
とができる。このハイブリダイゼーション温度はハイブ
リダイゼーション混合物中の塩類およびホルムアミドの
濃度を、これらの濃度と有効ハイブリダイゼーション温
度の周知の関係に基づいて調整することにより選択でき
る。スライドアセンブリ−を変性工程後に処理室から取
出し、組織試料および液体が冷却するのに伴って他の室
内で（これは赤外線を備えていてもよく、備えていなく
てもよい）再生工程を行うことも適切であるが、これは
必要ではない。このような状況下では標識プローブ（処
理液中に過剰に供給する）が組織試料中の完全変性DNA
に効果的に結合するために再生温度で１〜５分程度の短
時間で十分であろう。

線強度および／または温度についての他のプロトコー
ルは各種の個々の処理工程（たとえば染色、結合、ハイ
ブリダイゼーション、消化、酵素による発色、または周
囲温度を上回る温度によって促進される各種プロセスの
他の工程）について経験的に確立することができる。多
工程法、たとえば免疫細胞化学的方法においては、本発
明による赤外線の使用によって少なくとも１工程、通常
は数工程を促進しうると考えられる。

前記のように赤外線を処理室の外側で発生させ、次い
でこれを室内へファイバーオプチックス、ミラー、レン
ズ、導波管またはこれに類する他の手段によって伝達す
ることも考慮される。赤外線がそれを通して室内へ入
る、処理室の上壁、側壁または底壁のわずかな部分は一
般に処理室内表のごく一部を占めるにすぎないので、有
意の赤外線漏出源とはならない。

他の場合、本発明方法は前記の表面、試料および処理
液が手動で導入される処理室を使用する。たとえば本明
細書、第６図に示すように、通常のスライド加温室を改
良して赤外線発生装置をカバー部材内に組込むことがで
きる。

さらに他の場合、本発明方法は赤外線源を通過して搬
送される、試料を保有しかつ処理液の薄層で覆われた表
面に適用できる。この種の形態はマコーミックおよびジ
ョンソンの米国特許第3,431,886号（1969年）ならびに
ジョンソンの第4,200,056号（1980年）明細書を参照し
て説明される。これらはマイルズ・ラボラトリーズによ
りヘマ−テック（HEMA-TEK）２血液学的染色装置として
市販されているものに類似の染色装置を示したものであ
る。この種の装置においては試料（一般に血液スミア）
を保有するスライドをまず、スライドの各かどに１個ず
つ２個のねじ込み式駆動装置の均等な溝により、概して
垂直方向に保持する。次いで各スライドをねじ込み式駆
動装置に沿った一点において溝の離隔を増すことにより
前方へほぼ90度傾斜させる。次いでスライドを平らな金
属製上面を備えたプラテンに沿って、ねじ込み式駆動装
置の共同作業によって移動させる。プラテンの平らな金
属製上面はスライド下で平らな金属製下面として機能す
る。スライドはこの水平位置において移動するので、組
織試料または血液スミアは下方にある平らな金属面と向
き合う。処理液、たとえば染色液がプラテンのオリフィ
スを通して上向きに注入され、表面張力によりプラテン
とスライドの近接した表面間へ拡散する。次いでスライ
ドがプラテンを離れるのに伴って過剰の液体がスライド
からぬぐい去られる。スライドが次のプラテンへ達した
時点で、スライドがねじの共同作業により移動するのに
伴って次のプラテンの平らな金属製下面にある第２の孔
から施される第２処理液によって第１処理液が置換され
る。

染色過程の終了時に場合によりスライドを乾燥のため
に加熱する（温風を吹付けることにより）。本発明の態
様に従って、これらのスライドは特定の処理液（たとえ
ばライト−ギムザ染色液）で処理されたのち赤外線源を
通過して搬送され、試料および付着した液体が速やかに
昇温され（たとえば37℃）、そこで試料内への染色液の
浸透が促進されるであろう。たとえは水平方向に移動す
るスライドを頭上赤外線源を通過して搬送し、これによ
り、スライド前面にある試料および処理液はスライド裏
面を貫通する輻射エネルギーによって加温される。

本発明方法の態様を実施するための他の具体的形態に
は、スライド対を赤外線処理室に水平方向へ貫通搬送
し、ここで各スライド対を赤外線照射することが含まれ
る。たとえは一方または双方の長壁上にある垂直に伸び
た赤外線源を備えた薄い処理室に１列のスライド対を貫
通搬送し、赤外線を各スライド対の一方または双方から
間隙内へ向けることができる。

第１〜４図の本発明の第１形態を示す。まず第１図に
ついて述べると、スライドホルダー30は水平方向に伸び
たカバー32、カバー32上の上部ハンドル43、カバー32か
ら下方へ伸びた２個のアングルブラケット36、およびア
ングルブラケット間にカバー32から下方へ伸びた仕切り
ブラケット38が見える。この図において見える仕切りブ
ラケットはこの種の仕切りブラケット38の６個のうちの
１個である（のちに第３図に関連してより詳細に述べ
る。米国特許出願第032,874号明細書中には仕切りブラ
ケット147a〜147fとして示されている）。この図で見る
仕切りブラケット38の下端の後側から下方へ多数のスラ
イド対が伸びており、この図ではこれが10対見える。各
スライド対は第１スライド10および向き合った、すなわ
ち第２のスライド110からなる。

処理室40は第１図ではそれぞれ各スライド10および向
き合ったスライド110の下端14および114の下方に示され
ている。この図では概して角型の処理室40の前壁42、左
壁44、右壁45および底壁46が見える。

スライドホルダー30の上部ハンドル34は第１図に示し
た位置（スライド10および110は処理室40の上方にあ
り、完全にその外側にある）から第２図に示す位置（ス
ライド10および110が処理室内に下方へ伸びている）へ
手動で、または自動化された機器により下降させること
ができる。このために好ましい型の機器は長年来フィッ
シャー・サイエンティフィック・カンパニー（ペンシル
バニア州ピッツバーグ、本出願人）から入手できるヒト
マチック スライド染色装置172型を基礎とする。この
機器のこのような初期の形態も採用しうるが、1987年半
ば以来コード−オン（CODE-ON）シリーズのヒトマチッ
ク スライド染色装置（フィッシャー・カタログNo.15-
185）として市販されているものを含めた後続形態が、
ハンドル34とかみ合うアームのプログラミングに対する
制御が向上しているため好ましい。この制御に含まれる
ものは、ハンドル34が下降するのに伴う抵抗を検知し、
次いでそれ以上の下降運動を停止させるソレノイドであ
る。処理室40はこの種のスライド染色装置内の、特に米
国特許第4,731,335号および英国特許出願第2180647A号
の図６中にドライヤー520と表示された位置に組込まれ
るであろう。この位置は、従来前記のスライド乾燥ステ
ーションによって占有されていたものである。

第２および４図について述べると、カバー32が処理室
40の上部開口48上に水平方向に伸びた状態でスライドホ
ルダー30が処理室40の上部を覆う。アングルブラケット
36は上壁部分47上に乗り、コンベヤーアームに下降する
スライドホルダー30を停止させる抵抗を成立させるのは
このはめ合わせである。

スライド10および110はアングルブラケット36の後方
から下方の処理室40の底壁４までの距離の大部分（すべ
てではない）を下方へ伸びる。直立した左壁44、右壁4
5、後壁43および前壁42が処理室内のスライド配列の囲
いを完成する。赤外線ヒーター装置50が処理室40の底壁
46に取付けられ、これはセラミック製カバー54を乗せた
水平に伸びるエミッター素子52（光源）を含む。図示さ
れている市販の輻射ヒーター装置50（ニュージャージー
州）サウス・パターンのサーマテック・コーポレーショ
ンから；“サーマテック赤外線ヒーターおよびシステ
ム”と題する、版権日付1983年の同社の雑誌TT-0057-1-
84に示される10×15cm（４×４インチ）Ｂ型赤外線パネ
ルが一例）においてはセラミック製カバーは黒色であ
り、遠赤外線に対して透明である。従ってスライド10お
よび110の基底部を照射する光は主として3.5〜6.0μｍ
の部分の遠赤外線である。熱電対５がセラミック製カバ
ー54の下方に配置される。サーミスタまたはこれに類す
る他の装置も使用でき、セラミック製カバー54の下、上
または上方に配置することができる。あるいはサーミス
タをスライド10または110（外表に、またはホルダー30
の下のスライド対間の表面に）付着させることもでき
る。コントローラー58が処理室40の外側に配置され、熱
電対またはサーミスタ56からの入力および外部情報（ダ
イヤル57により示される）に基づいて、エミッター素子
52に供給される電流を変化させる。この種の制御情報は
好ましくはスライド染色装置の制御回路部品により提供
される（たとえばＸ℃をＹ秒または分間というプログラ
ムされた値に基づいて）。検知された温度の結果、エミ
ッター素子52に印加する電圧を多様に変化させることが
できる。ある例では連続的に印加される電圧を変化させ
る。好ましい形態においてはパルス電流を与え、パルス
の持続時間または周波数を変化させて、エミッター素子
52によって期間中スライドに与えられる熱の量を制御す
る。

第３図は第１図の線３−３に沿ってスライドの下端の
下方より見た図から、スライドホルダー30内のスライド
10および110の配列を示す。この図は米国特許第4,801,4
31号明細書の図2Bに類似するが、図2Bはスライドが挿入
されていないスライドホルダーの下側を示すので、それ
および米国特許第4,801,431号明細書中の付随する記述
をここで30と表示されるスライドホルダーの構造の詳細
に関して参照することができる。仕切りブラケット38が
カバー32の下側を３列に仕切る（カバー32の下側に表示
A,BおよびＣにより表示する）。米国特許第4,801,431号
明細書の図2Bに示されるように、１列または各列の10ス
ライド対を表わすためにカバー32の下側にさらに“1"〜
“10"の表示を施すことができる。下側クリップ（図示
されていない）が各スライド対のそれぞれの側とかみ合
い、各スライド10を隣接するスライド110に向かって押
しつける。上側クリップ（図示されていない）も同様に
下側クリップそれぞれの上方でスライド対とかみ合う。
各スライド対の一方または両方のスライド10および／ま
たは110上に塗膜（またはシム）が存在し（これのより
良い図については米国特許出願第032,874号明細書の図2
Dを参照されたい）、目的とする厚さの間隙を維持する
（たとえば150μｍ）。

第３図に見られるように、カバー32はスライド配列の
前方および後方へ伸びている（列Ａ、ＢおよびＣの前方
および後方へ）。アングルブラケット36も列Ａ、Ｂおよ
びＣのプロフィルを越えて左右へ伸びている。カバー32
のこれら外側部分はフランジと考えることができる。

第４図に見られるように、処理室40内を見下した上部
平面図は処理室40の水平プロフィルの外周のみを占める
上壁部分47を示す。上部開口48は処理室40の水平プロフ
ィルの中央の主要部分を占める。

セラミック製カバー54が底壁46上に見られ、上部開口
48より若干小さな水平プロフィルを占める。一般的な寸
法は上壁部分47の外側について161cm×113cm、上壁部分
47の下方の全体的処理室については148cm×95.5cm、上
部開口48について97cm×92cm、およびセラミック製カバ
ーについて117cm×73.2cmである。

第５図は別形態の処理室140を示す。この図において
素子30、32、34、36、40、42、43、44および47は第１、
２および４図において同一表示を保有するものと等しい
素子を意味する。輻射加熱装置150がこの第２形態では
第１形態の場合のように底壁でなく側壁245の延長部内
に配置される。第５図に示された底壁146は先の各図に
おける底壁46と類似するが、これは閉じている（第２図
に示すようにセラミック製素子54が占めているのではな
く）。上記のように第５図の底壁46の内部は赤外線に対
して反射製にされており、これにより赤外線を処理室40
全体に分布させる。輻射加熱装置150は加熱素子152、垂
直に伸びたセラミック製カバー154（先の形態において
側壁45があったところ）および温度プローブ156からな
り、これらはすべて延長された側壁245の内側にある。
温度の検知および装置150の操作は先の形態における装
置50の操作と同様である。

第５図に示す形態を赤外線装置150が第５図において
反時計回りに傾斜し、これにより赤外線が底壁46の反射
性内面上へ向かうべく変更することも考えられる。

第６図に示すように、スライド加温室300は静置ベー
ス部分301を備え、これにカバー部分302が丁番付けされ
ている。スライド加温装置に一般的であるように、ベー
ス部分301の上面にくぼみ部分346が形成され、これは一
連の平行なプラットホーム308を備え、ここに試料を含
むスライド310が乗せられる。くぼみ部分346、プラット
ホーム308およびカバー部分302は、カバー部分302を閉
じた際にプラットホーム308の上部が若干のプラットホ
ーム308上のスライド310の上方を空気が循環するのに十
分な程度にカバー部分302の下方に間隔を置いた状態
で、くぼみ部分346が閉鎖室となる寸法である。

本発明によれば、前記の装置50および150と同様な
（寸法を除いて）赤外線装置350がカバー部分302の下側
に組込まれる。従ってカバー部分302を閉じた場合、装
置350を始動させてスライド310を赤外線照射することが
できる。

くぼみ部分はプラットホーム308上のスライドから流
れ出る液体を除去するための外部導管370に接続した排
液管348をも備えている。これによって、処理液を施し
（通常は手で）、そして洗い流すことが可能となる。促
進したい処理液については、カバー部分302を閉じ、後
記のように装置350を始動させる。処理工程が終結した
時点でこれらのスライド310をそれぞれリンスすること
ができ、その際流出液は排液管348から流出する。

装置350には種々の制御様式を採用しうる。第６図に
は処理水準に関するゲージ356および処理時間に関する
ゲージ361を示す。ボタン358、359および360はそれぞれ
設定すべきパラメーターの上昇、低下または変更のため
のものを示す。たとえば個々の処理工程の前にゲージ36
1に示された処理水準をボタン358により高め、次いでボ
タン360を押し、次いでゲージ356に示された処理時間を
高める。いずれかのパラメーターを低下させたい場合、
ボタン359が用いられる。カバー部分302を閉じると、装
置350はゲージ356に示された処理水準にされ、ケージ36
1に示された処理期間その状態に保持されるであろう。
その期間が終了した時点で装置350は停止し、カバー302
が自動的に開くか、もしくは信号が鳴るか、または双方
が行われるであろう。

第１〜５図の装置と比較して第６図の装置はより少数
のスライドを処理するために、またより少数の工程を伴
う処理のために適している。スライド表面の温度を直接
または間接的に監視しうる方法は多様であり、この種の
モニターが装置350上にセラミック製カバー354内に組込
まれているか（先の各形態の場合と同様）、またはプラ
ットホーム308内に組込まれている。ゲージ361の水準設
定は装置350に施される電力水準またはプラットホーム3
08の温度水準であり、これは装置350に供給される電圧
水準またはパルス持続時間を調節することにより維持さ
れる。

第６図の形態は赤外線装置350を使用する場合は常
に、特に長期間使用する場合は、各スライド310をまず
液体で覆ったのちカバー員子で覆うことによって改良す
ることが考慮される。このカバースライドはスライド31
0の全体または一部（ただし少なくとも試料を保有する
部分）を覆い、事実上、先の各形態におけるスライド10
および110と同様な毛管間隙を備えたスライド対を形成
してもよい。この方法で、照射処理中の液体の蒸発が抑
えられ、かつ液層をより均一にすることができ、これに
よってスライド表面に沿った、および同様の赤外線照射
される一連のスライド間の温度が均等になる。

さらに、カバースライドを後続処理全体にわたってス
ライド310上に残しておき、カバースライドの下方、ス
ライド310の上方に毛管間隙が形成されている場合、後
続の液体を毛管作用によって間隙の端から間隙内へ導入
することができ、かつ吸取りにより、または間隙の端に
真空を施すことにより間隙から液体を取出すことができ
る。キャンベルらの米国特許第4,447,140号明細書（198
4年）には、特にたとえば多数の試料をカバーするため
に多数の間隙を得たい場合に、カバー員子が水平に伸び
たスライド上にこの種の間隙を形成する方法の例が示さ
れている。

（実施例） 以下の例1A〜4Bそれぞれにおいて最初の部分（Ａと表
示する）にはヒストマチック（HISTOMATIC）スライド染
色装置について本出願人／発明者の１人であるデイビッ
ト.J.ブリガティが用いた既存の処理プロトコールをま
とめる。その記載は本発明に関する先行技術である場合
とそうでない場合があるが、主として本発明の用途、お
よび赤外線の不在下で特定の処理工程に必要な時間を示
すために提示した。各例の後続部分（ＢまたはＣと表示
する）は、Ａに記載した多工程法のうち１または２以上
の工程が本発明方法の採用によっていかに促進されるか
を示すものである。

例1A−ヘマトキシリン・エオンン組織学的染色 ヒストマチック スライド染色装置−旧式の172型ま
たは新型のコード−オン（CODE-ON）シリーズ−により
組織学的検体を染色するための標準法を第１表にまとめ
る。

上記第１表および以下の表すべてにおいて“周囲”は
周囲温度（たとえば20℃）であり、“混合”の欄の
“有”は機器を指示された期間中、指示されたステーシ
ョンにおいて各６秒間上下させる（溶液中に出し入れす
る）ことによりスライドのラックを動かすことを意味す
る。指示された時間は機器がスライド配列をステーショ
ン間で搬送する短い期間を含まない。

例1B 第１表にまとめたプロセスの特定の工程に対する赤外
線照射の効果を評価するために、スライドホルダーをヒ
ストマチックスライド染色装置コードオンシリーズに入
れた。このホルダーは本明細書の第１、２および３図に
示すように30対のスライド用のスロットを備え、各スラ
イドは上部32mmの部分に厚さ75μｍの塗膜が施され、か
つ下角に米国特許出願第032,874号明細書の第2E図に示
されるものと同様な小型の三角形の塗膜が施されている
−より詳細にはバビットおよびブリガティの米国特許出
願第112,404号明細書（1987年10月26日出願）に記述さ
れる（欧州特許出願第0291153号明細書も参照された
い。1988年11月11日発光）。この種のスライドは現在で
はフィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーか
らプローブオン（BROBE-ON）スライド（カタログNo.15-
187M）として市販されている。この実験ではこの種のス
ライド４対（各対のスライドが両方ともパラフィン包埋
組織の薄い切片を保有）をホルダーに挿入した。まず第
１表の工程１および２を、スライドの基底部をキシレン
と接触させ（手動で、機器の外側において）、次いでこ
の配列を第２図に示すように処理室へ挿入することによ
り評価した。エミッター素子52へ電流を流す電線に接続
した電圧調整器（第２図参照）を50Vに設定し、キシレ
ンを含むスライドを20秒間加温した（各スライド対の間
隙内のキシレンをその引火点以上に加熱するのを慎重に
避けながら）。視覚的にこれらのスライドは完全に脱ろ
うされたように見えたが、この結果をさらに以下に従っ
て評価した。この機器上でスライドの下端をブロッター
に乗せ、次いで順次100％アルコール、100％アルコー
ル、100％アルコール、95％アルコール、95％アルコー
ル、30％BRIJ35界面活性剤溶液0.25％を含有する水、お
よびステーション６のヘマトキシリン溶液（ハリスのヘ
マトキシリン）を導入および吸取りすることにより排液
した。２分後にヘマトキシリン溶液を吸取り、スライド
を水道水中で洗浄した。次いでスライドをホルダーから
取出し、顕微鏡下で検査した。ヘマトキシリンが完全に
かつ均一に核を染色し、組織に浸透したことは、パラフ
ィンが先行技術方法の場合の２回の照射における合計５
分間と比べて、赤外線の存在下では１回の操作において
わずか20秒間で完全に除去されたことを示した。同一操
作を採用し、ただしキシレン充填スライドの照射を20秒
ではなく10秒とした場合、スライドの視覚的検査および
鏡検の双方により証明されるように除去がより不完全で
あった。

同様にして電圧調整器を50Vに設定した赤外線処理室
内での20秒間が第１表の工程16についても十分であるこ
とが示された。

例1C 第１表のヘマトキシリン工程（工程６）は周囲温度が
25℃である場合は通常は２分間で達成されるが、周囲温
度がこれより低い場合はより長時間を要する（たとえば
21℃では６分間）。例1Bに記載した処理室および条件を
この工程につき試みたところ、厚さ５μｍの切片と完全
な染色が20秒間で証明された。

例2A 例1Aの場合と同じヒストマチックスライド染色装置を
用いた標準的な細胞片的処理は第２表に示すとおりであ
る。

このプロセスは、細胞スミアを施し、50％アルコール
中で固定した標準的スライドについて行うことができ
る。このプロセスをそのまま毛細間隙を備えたスライド
対に適用する場合、スミアをプローブオンスライドガラ
ス表面に施し、50％アルコールを施し、風乾し、塗膜面
を合わせてスライドホルダーに挿入する。

例2B ２組のスライド対それぞれの量スライド上にヒトのほ
お上皮細胞が塗抹された２組のスライド対を例1Bに記載
したホルダー内に使用し、第２表の工程１、３、10およ
び12に及ぼす赤外線の効果を別個に評価した。それぞれ
の場合、エミッター素子52に印加される電圧は100Vであ
り、連続的に印加された。工程１については処理室内に
おいて30秒で、細胞スミア上に施された固定用塗膜カル
ボワックス（ベクトン−ディッキンソン・コーポレーシ
ョンのクレイ−アダムス部門により同社の商標スプレイ
サイト（SPRAYCYTE）として市販されている）（フィッ
シャー・サイエンティック・カンパニーのフィッシャー
88カタログ、1445頁も参照されたい）を除去するのに十
分であった。工程10については処理室内において10秒間
で、オレンジG6によって良好に染色するのに十分であっ
た。工程３および12については、処理室内において20秒
間で、ジル（Gill）＃１ヘマトキシリン（工程３）また
はエオシン・アズア（Eosin-Azure）（工程12）によっ
て良好に染色するのに十分であった。

例3A 第３表にはたとえば米国特許第4,731,335号明細書に
詳述されたものと同様な概念の免疫細胞化学的染色法に
関するプロトコールを示す。同一発明者（ブリガティ）
による上記特許の出願以来、本発明には特に関係のない
多数の相違点が取入れられている。

操作24、26、33、35、37、42、44、51、58および68に
用いたステーション10の緩衝液は、0.1MトリスHCl、0.1
M・NaClおよび0.25％の30％Brij35溶液（シグマ・ケミ
カルより入手）を含有するpH7.5トリス緩衝液であっ
た。操作46、60、64、66および70に用いたBrij35を含む
蒸留水は30％Brij35溶液0.25％を含有していた。界面活
性剤Brij35を含む緩衝液および水のこのような使用は現
在では米国特許第4,731,335号明細書に記載のトライト
ンX-100を基礎とした対応する溶液より好ましい。特に
操作31および40に注目すべきである。これらはそれぞれ
プロセス全体のうち30分間を費やす。

例3B 各スライドがホルマリン固定したパラフィン包埋組織
切片を保有する４組のスライド体を保持したスライドホ
ルダーをヒストマチック スライド染色装置、コードオ
ンシリーズの機器に保持させ、第３表のプロセスを行っ
た。ただし一次抗体を施す工程（操作30）の前でホール
ド（hold）をプログラムに組込んだ。次いでホルダーを
機器から取出し、試薬アイソレーターの適切なウェルに
入れた抗体溶液滴とスライド対の基底部を手動で接触さ
せることにより一次抗体を施した。この工程に用いた抗
体の例には、適宜希釈された家兎抗−S100蛋白（1:10
0）、家兎抗−前立腺酸性ホスファターゼ（1:100）、モ
ルモット抗−インシュリン（1:100）およびマウス抗−
胎児性癌抗原（1:10）が含まれる。次いでスライドホル
ダーを第１、２および４図にしめされる処理室内の第２
図に示す位置に挿入し、50Vに設定された電圧をエミッ
ター素子52に１〜２分間連続的に印加した。各実験にお
いて光源は初期には室温またはその付近であった。次い
でホルダーを処理室から取出し、機器のロボット工学的
アーム上に戻した。次いでブログラムは第３表の操作32
〜71を再開した。スライドの鏡検によって、例3Aに従っ
て染色されたものと同様な切片と同等に染色されたこと
が明らかになった。

例3C 例3Bと同じ処理を行い、ただしホールドを操作39の前
に置いた。次いで二次抗体試薬（ヤギ抗−マウス抗体と
ヤギ抗−家兎抗体の混合物、ワサビダイコンペルオキシ
ダーゼと複合体形成したもの）をスライド体の基底部に
手動で施した。この場合も、電圧を50Vに連続的に設定
した処理室に２分間入れたのち、ホルダーを機器に戻
し、次いで操作41において処理を再開した。スライドの
鏡検により、例3Aに従って染色された同様な切片と同等
に染色されたことが明らかになった。

現在まで試みてはいないが、第３表の処理における他
の工程を赤外線の適切な使用によって促進することが可
能であろう。特に例2Bに基づいて、第１表の工程２（キ
シレンによる清浄化）を赤外線によって促進しうること
は明らかである。こうして促進しうる他の工程は色原体
発色（操作49および56）および内性酵素遮断（操作14お
よび16）である。

例4A 改良された形態のコードオン染色装置により行った場
合のin situ DNAハイブリダイゼーションアッセイに適
した多工程処理を第４表に示す。特に工程50について
は、組織切片内に二本鎖DNAを変性するためにステーシ
ョン19に熱対流路がある（乾燥室の位置に）。このよう
に改良された限られた数の染色装置が本出願人であるフ
ィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーにより
市販されている。このプロトコールは赤外線を用いる以
下の改良の前に、エリザベス・Ｒ・アンガーおよびディ
ビット・Ｊ・ブリガティーの共同研究によるものであ
る。ブリガティ博士は本発明者の１人である。

下記の試薬には界面活性剤を供給する。

ステーション10:緩衝液に0.1MトリスHCl、0.1M・MaCl
（pH7.4）および0.25％の30％Brij35溶液が含有され
る。

ステーション8:蒸留水に0.25％の30％Brij35から含有
される。

ステーション１、２および３において２×SSC、0.2×
SSCおよび0.16×SSC緩衝液（SSEはハイブリダイゼーシ
ョン操作に用いられる標準クエン酸ナトリウム緩衝液を
意味する）にはそれぞれ0.1％ドデシル硫酸ナトリウム
が含有される。

ステーション15で用いたアルブミン遮断薬はウシ血清
アルブミンの１％溶液であった。使用した他の試薬は慣
用されるものでた。

この処理において使用できるプローブ試薬（ステーシ
ョン14）、検出システム（ステーション16）および色原
体（ステーション17）の組合わせの一例は、ビオチン標
識プローブ、アビジン−アルカリホスファターゼ検出
系、および２成分系色原体BCIP＋INTまたはBCIP＋NBTで
ある。同じビオチン標識プローブをアビジン−ワサビダ
イコンペルオキシダーゼおよび色原体３−アミノ−９−
エチルカルバゾールを用いて検出することができる。こ
の処理をわずかに変更して、この種の他の組合わせ、た
とえばジニトロフェニル標識プローブと抗−DNP抗体HRP
複合体（検出系として）、HAIT修飾プローブと抗−HAIT
抗体HRP複合体（検出系として）を用いることができ
る。この系においてスルホン化DNAプローブはアルカリ
ホスファターゼ複合またはワサビダイコンペルオキシダ
ーゼ複合した抗−DNAスルホネート抗体と共に使用しう
る。ステーション14において酵素に直接結合した酵素を
使用し、ステーション16を空にしておくこともできる。

第４表の方法につき本発明に関係のる個々の特色には
工程３、６、25および82−これはそれぞれ前記各例と同
様に赤外線の使用によって促進されるであろう−ならび
に操作50〜52−これはある意味でハイブリダイゼーショ
ンアッセイに特有である−が含まれる。

例4B 先に例1Bに記載したホルダーに３組のスライド対を装
填した。各スライドはヘルペスウィルスを含むことが分
かっている厚さ５μｍのパラフィン包埋副腎切片を保有
していた。この処理を例4Aに示す操作49まで実施した。
この時点で、ホルダーを105℃に設定された変性炉に15
〜20分間入れる代わりに、本明細書の第１、２および４
図に示す処理室に、スライドが第２図に示すように処理
室へ進入した状態で入れた。スライドを導入した時点で
光源52の開始条件につき数種の変更を試みた（低温；加
温、ただしオフおよびオン）。このような試みの１つに
おいては、光源52を低温にして、電圧設定100Vで３分間
を採用した、次いでホルダーを機器に戻し、第４表の操
作51においてプロセスを再開した。この実験では、プロ
ーブはビオチンで標識した全ヘルペスウィルスゲノムDN
Aであり、組織基質はこのウィルスのタイプ２株に感染
した副腎のパラフィン包埋切片であった。このプロセス
の終了時にスライドを鏡検し、シライドが工程50におい
て105℃に予熱された炉内で15分間処理した場合に達成
されたものと同等に染色されたことが認められた。

工程52での60分間（湿潤室内）の代わりに、赤外線装
置を備えた処理室内ではよりいっそう短い期間を採用し
うると考えられる。たとえば変性工程が終了した時点で
光源への電圧を断ち、間隙内の流体を目的の再ハイブリ
ダイゼーション温度（たとえば37℃）にまで放冷するだ
けでよい。この温度で再ハイブリダイゼーションは、使
用するプローブおよび試料に種類に応じて５〜10分間で
実質的に完了するであろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１形態による処理室上方にある、ス
ライドを装填したスライドホルダーの正面立面図でる。 第２図は本発明の第１形態による処理室上のスライドホ
ルダーおよび処理室内へ伸びたスライドの一部断面状の
正面立面図である。 第３図は第１図の腺３−３に沿って得た、スライドホル
ダー内におけるスライドの配列を示す底部平面図であ
る。 第４図は第１図の腺４−４に沿って得た、処理室上部を
通る開口を示す上面平面図である。 第５図は本発明の第２形態による処理室の、一部断面状
の正面立面図である。 第６図は本発明の第３形態に用いられる、水平配置スラ
イド用処理室の透視図である。 各図において記号は下記のものを表わす。 10,110,310:スライド,14,114:スライドの下端,30:スラ
イドホルダー,32:カバー,34:ハンドル,36:アングルブラ
ケット,38:仕切りブラケット,40,140:処理室,42,43,44,
45,245:側壁,46,146:底壁,47:上壁,48:40の上部開口,5
0,150,350:赤外線装置,52,152:エミッター素子,54,154,
354:カバー,56,156:温度プローブ,57:ダイヤル（外部情
報）,58:コントローラー,300:スライド加温室,301:ベー
ス,302:カバー,308:プラットホーム,346:くぼみ,348:排
液管,356:ゲージ（処理水準）,358,359,360:ボタン,36
1:ゲージ（処理時間）,370:導管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０１Ｎ 33/50 Ｇ０１Ｎ 33/50 Ｐ (72)発明者 デービッド・ジェイ・ブリガティ アメリカ合衆国ペンシルバニア州17036, ハンメルスタウン，ジュリアンヌ・ドラ イブ 1213 (56)参考文献 特開 昭62−98231（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−142436（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−66886（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−102147（ＪＰ，Ｕ)

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）第１表面上に薄い試料を施し、 （ｂ）第２表面を第１表面に実質的に平行に、これから
   第１距離だけ間隔を置いて保持し、これにより第１表面
   と第２表面の間に間隙を設け、 （ｃ）この間隙に処理液を導入し、 （ｄ）処理液を毛管作用により間隙内へ吸込んで薄い試
   料と接触させ、そして （ｅ）薄い試料と接触した処理液を、該処理液による薄
   い試料の処理を促進するのに十分な照射量および期間に
   おいて赤外線照射すべく赤外線を発生させる ことよりなる、表面上にある薄い試料の処理法。
2. 【請求項２】導入工程（ｃ）が間隙の端を処理液に接触
   させることよりなる、請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】第１および第２表面が導入工程（ｃ）、吸
   込み工程（ｄ）および発生工程（ｅ）の期間中、実質的
   に垂直方向に伸びている、請求項１または２に記載の方
   法。
4. 【請求項４】複数の第１表面にそれぞれ薄い試料を施
   し、第２表面を各第１表面に実質的に平行に、これから
   第１距離だけ間隔を置いて保持し；処理液を各間隙に導
   入し、毛管作用により間隙内へ吸込んで薄い試料それぞ
   れと接触させ；そして薄い試料それぞれと接触した処理
   液を赤外線照射することよりなる、請求項１ないし３の
   いずれかに記載の方法。
5. 【請求項５】吸込み工程（ｄ）の後に、第１および第２
   表面を処理室内へ搬送し、そして発生工程（ｅ）におい
   て赤外線を該処理室内で発生させる、請求項１ないし４
   のいずれかに記載の方法。
6. 【請求項６】（ａ）第１表面上に薄い試料を施し、 （ｂ）第１表面上に薄い試料と接触した処理液の薄層を
   形成し、 （ｃ）赤外線を発生させ、そして （ｄ）処理液の薄層を、該処理液による薄い試料の処理
   を促進するのに十分な照射量およびこれに十分な照射期
   間において赤外線照射する 工程からなる、処理液による生物学的検体の処理を促進
   する方法。
7. 【請求項７】薄い試料がターゲットヌクレオチド配列を
   有する二本鎖状の核酸を含有し、かつ処理液が該ターゲ
   ットヌクレオチド配列に実質上相補的なターゲット結合
   領域を有する核酸プローブを含有し、そして照射工程
   （ｄ）において照射量および照射期間は二本鎖核酸が解
   離し、次いでターゲット結合領域が試料の解離した核酸
   鎖ターゲットヌクレオチド配列にハイブリダイズするの
   に十分なものである、請求項６に記載の方法。
8. 【請求項８】薄い試料が抗原部位を含有し、かつ処理液
   が該抗原部位に特異的な抗体を含有し、そして照射工程
   （ｄ）において照射量および照射時間が抗原部位への抗
   体の結合を促進するのに十分なものである、請求項６に
   記載の方法。
9. 【請求項９】底壁および直立した側壁を備えた処理室で
   あって、該処理室が上部開口を形成するもの、 （ｂ）複数の平面小片の上端とかみ合ってこれら平面小
   片を保持手段から下方へ実質的に垂直方向に延びた平行
   配列状に保持するための保持手段、 （ｃ）保持手段と共同して、処理室により形成される上
   部開口を実質的に覆うための、保持手段に付随するフラ
   ンジ手段、および （ｄ）フランジ手段および保持手段が実質的に上部開口
   を覆った処理室内に赤外線を発生し、上記平面小片を赤
   外線照射するための輻射手段 からなる、処理液による薄い試料の処理を促進するため
   の装置。
10. 【請求項１０】輻射手段が処理室内における赤外線用光
    源からなる、請求項９に記載の装置。
11. 【請求項１１】保持手段が複数対の小片を平行に垂直方
    向に保持し、各対の第１小片が各対の第２小片から、第
    １小片と第２小片の間の間隙に毛管作用により液体を保
    持するのに十分なほど小さい第１距離だけ間隔を置い
    た、請求項９または10に記載の装置。