JP2003022774A - 透過型電子顕微鏡 - Google Patents
透過型電子顕微鏡Info
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- JP2003022774A JP2003022774A JP2001206114A JP2001206114A JP2003022774A JP 2003022774 A JP2003022774 A JP 2003022774A JP 2001206114 A JP2001206114 A JP 2001206114A JP 2001206114 A JP2001206114 A JP 2001206114A JP 2003022774 A JP2003022774 A JP 2003022774A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】極微小領域の信号強度の弱いスペクトルを高精
度かつ高Ｓ／Ｎ比で計測する。 【解決手段】異なる試料位置の電子線エネルギー損失ス
ペクトルを、時分割で取り込む。取り込んだ後、電子線
エネルギー損失スペクトル自身を比較することで、試料
移動量を算出し、これをもとにスペクトルを重ね合わせ
る。
度かつ高Ｓ／Ｎ比で計測する。 【解決手段】異なる試料位置の電子線エネルギー損失ス
ペクトルを、時分割で取り込む。取り込んだ後、電子線
エネルギー損失スペクトル自身を比較することで、試料
移動量を算出し、これをもとにスペクトルを重ね合わせ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透過型電子顕微鏡
に関わり、電子エネルギー損失量を検出できる電子線分
光器を備えた透過型電子顕微鏡に関する。
に関わり、電子エネルギー損失量を検出できる電子線分
光器を備えた透過型電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコン基板等の試料上の異なる
場所のエネルギースペクトル、例えば電子のエネルギー
損失量を高Ｓ／Ｎ比で計測（検知）する場合は、それぞ
れの場所毎に、別々に長時間測定し、それぞれの測定結
果を比較して、スペクトル比較を行っていた。
場所のエネルギースペクトル、例えば電子のエネルギー
損失量を高Ｓ／Ｎ比で計測（検知）する場合は、それぞ
れの場所毎に、別々に長時間測定し、それぞれの測定結
果を比較して、スペクトル比較を行っていた。
【０００３】しかし、この方法では、測定間のばらつき
が大きい。すなわち、電子線の加速電圧のドリフト、電
子顕微鏡の外部からの電場、磁場の変化、電子線分光器
の不安定性などにより、測定したエネルギー損失スペク
トルが微妙に変化するという問題がある。この場合、ケ
ミカルシフトのようなスペクトルの微小変化を検出する
ことは困難であった。
が大きい。すなわち、電子線の加速電圧のドリフト、電
子顕微鏡の外部からの電場、磁場の変化、電子線分光器
の不安定性などにより、測定したエネルギー損失スペク
トルが微妙に変化するという問題がある。この場合、ケ
ミカルシフトのようなスペクトルの微小変化を検出する
ことは困難であった。
【０００４】このような問題を解決するために、例え
ば、Ｘ線マッピングを用いた元素分析では、二次電子像
を同時に撮影し、画像間のずれ量を算出し、二次電子像
の試料移動量を検出する。その後、ずれ方向および量が
キャンセルされるように電子ビームを偏向させ、正確に
同一場所に電子線を照射して、長時間の撮影を行うこと
により、Ｘ線マッピング像を得る方法が、特開２０００
−１０６１２１号公報に記載されている。しかし、本方
法では試料のドリフトの問題は解決出来ても、加速電圧
の変動などの時間経過の伴う外乱は除去できない。
ば、Ｘ線マッピングを用いた元素分析では、二次電子像
を同時に撮影し、画像間のずれ量を算出し、二次電子像
の試料移動量を検出する。その後、ずれ方向および量が
キャンセルされるように電子ビームを偏向させ、正確に
同一場所に電子線を照射して、長時間の撮影を行うこと
により、Ｘ線マッピング像を得る方法が、特開２０００
−１０６１２１号公報に記載されている。しかし、本方
法では試料のドリフトの問題は解決出来ても、加速電圧
の変動などの時間経過の伴う外乱は除去できない。
【０００５】また、電子線分光器の入射像面側に選別用
の視野スリットを設け、視野を選択した領域の電子線を
電子線分光器に入れ、試料の異なる点の電子線エネルギ
ー損失スペクトルを同時に測定する方法が、特開平１０
−３０２７００号公報に記載されている。
の視野スリットを設け、視野を選択した領域の電子線を
電子線分光器に入れ、試料の異なる点の電子線エネルギ
ー損失スペクトルを同時に測定する方法が、特開平１０
−３０２７００号公報に記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記特開２０００−１
０６１２１号公報に開示されているような、計算機を併
用して試料移動補正をする方法では、ビームを元の位置
に戻す機構など、装置構成が複雑になり、測定器のコス
ト上昇を招くことになる。また、試料移動補正に用いら
れるのは、二次電子像や透過型電子顕微鏡像であった。
図３に示したように、上記した像からＸ、Ｙ方向のドリ
フト量を求め、画像を積算したり電子線もしくは試料台
を移動させることにより、長時間の積算を可能にしてい
た。しかし、酸化、窒化させたシリコンの積層膜などの
場合、観察される像にコントラストの差が出ないため、
精度の良い試料移動補正を行うことは出来ず、わずかな
ずれが生じる。
０６１２１号公報に開示されているような、計算機を併
用して試料移動補正をする方法では、ビームを元の位置
に戻す機構など、装置構成が複雑になり、測定器のコス
ト上昇を招くことになる。また、試料移動補正に用いら
れるのは、二次電子像や透過型電子顕微鏡像であった。
図３に示したように、上記した像からＸ、Ｙ方向のドリ
フト量を求め、画像を積算したり電子線もしくは試料台
を移動させることにより、長時間の積算を可能にしてい
た。しかし、酸化、窒化させたシリコンの積層膜などの
場合、観察される像にコントラストの差が出ないため、
精度の良い試料移動補正を行うことは出来ず、わずかな
ずれが生じる。
【０００７】また、特開平１０−３０２７００号公報に
開示されているような方法で、同時に異なる位置の電子
線エネルギー損失スペクトルを取得しても、試料内の元
素含有量が、非常に微量な場合、高Ｓ／Ｎ比の電子線エ
ネルギー損失スペクトルを得ることは出来ない。
開示されているような方法で、同時に異なる位置の電子
線エネルギー損失スペクトルを取得しても、試料内の元
素含有量が、非常に微量な場合、高Ｓ／Ｎ比の電子線エ
ネルギー損失スペクトルを得ることは出来ない。
【０００８】本発明の目的は、上記の問題に対処し、極
微小領域において、試料ドリフトや他の外乱の影響がな
い、高Ｓ／Ｎ比の電子線エネルギー損失スペクトルが得
られる透過型電子顕微鏡を提供することにある。
微小領域において、試料ドリフトや他の外乱の影響がな
い、高Ｓ／Ｎ比の電子線エネルギー損失スペクトルが得
られる透過型電子顕微鏡を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、検知される試料を透過した電子線を分光
して電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子
線分光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の
画像を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射
する電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制
限する視野スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあっ
て、検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失ス
ペクトル像の画像を時分割して検知し、検知された時分
割の画像より試料の移動量を算定し、前記移動量の補正
を加えて時分割の画像を重ねあわせることを特徴とする
ものである。これにより、極微小領域において、試料ド
リフトや他の外乱の影響がない、高Ｓ／Ｎ比の電子線エ
ネルギー損失スペクトルが得られる透過型電子顕微鏡を
提供することにある。
に、本発明は、検知される試料を透過した電子線を分光
して電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子
線分光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の
画像を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射
する電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制
限する視野スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあっ
て、検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失ス
ペクトル像の画像を時分割して検知し、検知された時分
割の画像より試料の移動量を算定し、前記移動量の補正
を加えて時分割の画像を重ねあわせることを特徴とする
ものである。これにより、極微小領域において、試料ド
リフトや他の外乱の影響がない、高Ｓ／Ｎ比の電子線エ
ネルギー損失スペクトルが得られる透過型電子顕微鏡を
提供することにある。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態の図面に沿って
述べる前に、本発明の要点をまとめて説明する。
述べる前に、本発明の要点をまとめて説明する。
【００１１】本発明では、異なる位置の電子線エネルギ
ー損失スペクトルを、一度に２次元の画像検出器で短時
間に何枚も計測するので、試料移動による空間分解能を
劣化させることなく、高Ｓ／Ｎ比で検出できる。従っ
て、電子の加速電圧などのドリフトによる影響や、電子
顕微鏡外からの計測中における外乱の影響の少ない計測
が可能となり、高空間分解能で、かつ高Ｓ／Ｎ比、ひい
ては高エネルギー分解能の電子線エネルギー損失スペク
トルを得ることが出来る。
ー損失スペクトルを、一度に２次元の画像検出器で短時
間に何枚も計測するので、試料移動による空間分解能を
劣化させることなく、高Ｓ／Ｎ比で検出できる。従っ
て、電子の加速電圧などのドリフトによる影響や、電子
顕微鏡外からの計測中における外乱の影響の少ない計測
が可能となり、高空間分解能で、かつ高Ｓ／Ｎ比、ひい
ては高エネルギー分解能の電子線エネルギー損失スペク
トルを得ることが出来る。
【００１２】図１は本発明の全体図を示したものであ
る。
る。
【００１３】電子銃１（電子線発生手段）より発生した
電子線２は、試料３の観察領域に入射する。視野選択ス
リット４は試料３を透過した後、結像される入射像面に
設置される。透過型電子顕微鏡内には、電子線２を収束
させるレンズならびに結像・拡大させるレンズが挿入さ
れているが、詳しい説明は省略する。
電子線２は、試料３の観察領域に入射する。視野選択ス
リット４は試料３を透過した後、結像される入射像面に
設置される。透過型電子顕微鏡内には、電子線２を収束
させるレンズならびに結像・拡大させるレンズが挿入さ
れているが、詳しい説明は省略する。
【００１４】試料３を透過し、さらに視野選択スリット
４を通過した電子線２は、電子線分光器５内に進入し、
磁場セクタ６において、各元素において損失した電子線
毎に分散される。電子線の分散面に画像検出器７を設置
し、ここで電子線エネルギー損失スペクトル像を撮影す
る。
４を通過した電子線２は、電子線分光器５内に進入し、
磁場セクタ６において、各元素において損失した電子線
毎に分散される。電子線の分散面に画像検出器７を設置
し、ここで電子線エネルギー損失スペクトル像を撮影す
る。
【００１５】ここで検出される電子線エネルギー損失ス
ペクトル像は、エネルギー分散方向と試料台におけるＹ
位置とが直交した像となる。画像検出器７において所定
の取り込み時間を設定し、何回かに分けて電子線エネル
ギー損失スペクトル像を撮影する。撮影した電子線エネ
ルギー損失スペクトル像は、画像演算器８において、試
料移動量を算出し、Ｙ方向のずれを補正し、積算する。
ペクトル像は、エネルギー分散方向と試料台におけるＹ
位置とが直交した像となる。画像検出器７において所定
の取り込み時間を設定し、何回かに分けて電子線エネル
ギー損失スペクトル像を撮影する。撮影した電子線エネ
ルギー損失スペクトル像は、画像演算器８において、試
料移動量を算出し、Ｙ方向のずれを補正し、積算する。
【００１６】図２において、電子線エネルギー損失スペ
クトル像の撮影方法について説明する。図２の（ａ）は
観察中の透過型電子顕微鏡像である。透過型電子顕微鏡
像から観察したい領域に視野選択スリット４を挿入す
る。図２の（ｂ）は視野選択スリットで選択された領域
を示す。上からＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとする。図２の（ｃ）は
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄのそれぞれの領域において、損失された
電子線エネルギー損失スペクトル強度が大きいところほ
ど、白く光ることを示した模式図である。図２の（ａ）
において、ａ，ｂ，ｃ…と付記した領域から、強度とエ
ネルギー損失量を直交させたグラフが図２の（ｄ）であ
る。図２の（ｄ）で示される強度が高いところが、図２
の（ｃ）に示される白く光るところである。
クトル像の撮影方法について説明する。図２の（ａ）は
観察中の透過型電子顕微鏡像である。透過型電子顕微鏡
像から観察したい領域に視野選択スリット４を挿入す
る。図２の（ｂ）は視野選択スリットで選択された領域
を示す。上からＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとする。図２の（ｃ）は
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄのそれぞれの領域において、損失された
電子線エネルギー損失スペクトル強度が大きいところほ
ど、白く光ることを示した模式図である。図２の（ａ）
において、ａ，ｂ，ｃ…と付記した領域から、強度とエ
ネルギー損失量を直交させたグラフが図２の（ｄ）であ
る。図２の（ｄ）で示される強度が高いところが、図２
の（ｃ）に示される白く光るところである。
【００１７】次に積算方法について図４を引用して説明
する。
する。
【００１８】図４は電子線エネルギー損失スペクトル像
から、強度とエネルギー損失値が直交したグラフを用い
て試料移動合わせを行う方法である。
から、強度とエネルギー損失値が直交したグラフを用い
て試料移動合わせを行う方法である。
【００１９】電子線エネルギー損失スペクトル像からＹ
位置方向に各画素毎にスペクトルを得る。このスペクト
ルの強度のずれ位置を求める。積層膜の種類が変化した
ところで、そのスペクトル強度位置は変化するので、試
料移動位置を求めることは非常にわかりやすい。所定の
取り込み時間で撮影された電子線エネルギー損失スペク
トル像を、所定の枚数撮影する。今回は一枚の取り込み
時間を２０秒とし、撮影枚数を３枚とする。図４（ａ）
を基準として、（ｂ）は△Ｙ1、（ｃ）は△Ｙ2の移動量
を求める。その後、試料移動量を考慮して積算を行う。
移動量が求まった後、積算を行う。
位置方向に各画素毎にスペクトルを得る。このスペクト
ルの強度のずれ位置を求める。積層膜の種類が変化した
ところで、そのスペクトル強度位置は変化するので、試
料移動位置を求めることは非常にわかりやすい。所定の
取り込み時間で撮影された電子線エネルギー損失スペク
トル像を、所定の枚数撮影する。今回は一枚の取り込み
時間を２０秒とし、撮影枚数を３枚とする。図４（ａ）
を基準として、（ｂ）は△Ｙ1、（ｃ）は△Ｙ2の移動量
を求める。その後、試料移動量を考慮して積算を行う。
移動量が求まった後、積算を行う。
【００２０】このように撮影した複数の電子線エネルギ
ー損失スペクトル像（画像）を積算することで、Ｓ／Ｎ
比が向上する。すなわち、Ｐ回積算すると、Ｓｏ＝Ｓ
Ｐ，Ｎｏ2＝ＰＮ2になる。よって、積算後のＳ／Ｎは、
Ｓｏ／Ｎｏ＝Ｓ／Ｎ√Ｐになり、積算回数に比例して向
上することが分かる。
ー損失スペクトル像（画像）を積算することで、Ｓ／Ｎ
比が向上する。すなわち、Ｐ回積算すると、Ｓｏ＝Ｓ
Ｐ，Ｎｏ2＝ＰＮ2になる。よって、積算後のＳ／Ｎは、
Ｓｏ／Ｎｏ＝Ｓ／Ｎ√Ｐになり、積算回数に比例して向
上することが分かる。
【００２１】またＳ／Ｎの向上により、微少量の元素に
ついて検出可能になり、高空間分解能が向上するのであ
る。
ついて検出可能になり、高空間分解能が向上するのであ
る。
【００２２】次に試料移動量の算出について、電子線エ
ネルギー損失スペクトル像が示される図５を用いて詳細
に説明する。
ネルギー損失スペクトル像が示される図５を用いて詳細
に説明する。
【００２３】まず、所定の取り込み時間で撮影された電
子線エネルギー損失スペクトル像を、所定の枚数撮影す
る。今回は一枚の取り込み時間を２０秒とし、撮影枚数
を３枚とする。図５の（ａ）を基準として、（ｂ）は△
Ｙ1、（ｃ）は△Ｙ2移動する。この算出については、一
般的に画像合わせなどで用いられている相関関数を用い
て行う。その後、試料移動量を考慮して積算を行う。
子線エネルギー損失スペクトル像を、所定の枚数撮影す
る。今回は一枚の取り込み時間を２０秒とし、撮影枚数
を３枚とする。図５の（ａ）を基準として、（ｂ）は△
Ｙ1、（ｃ）は△Ｙ2移動する。この算出については、一
般的に画像合わせなどで用いられている相関関数を用い
て行う。その後、試料移動量を考慮して積算を行う。
【００２４】上記に記載したように、従来用いられてき
た画像による試料移動量を求める方法の場合、コントラ
ストが非常につきにくい画像だと、算出の精度が悪くな
り、試料移動量が正確に求まらない。しかし、本発明に
よるスペクトルによる位置合わせの場合、異なる試料間
では、エネルギー損失量は必ず変化しているので、試料
移動によるずれ量は求めやすくなる。
た画像による試料移動量を求める方法の場合、コントラ
ストが非常につきにくい画像だと、算出の精度が悪くな
り、試料移動量が正確に求まらない。しかし、本発明に
よるスペクトルによる位置合わせの場合、異なる試料間
では、エネルギー損失量は必ず変化しているので、試料
移動によるずれ量は求めやすくなる。
【００２５】また、同時に電子線エネルギー損失スペク
トルを得たい場合、試料３は積層膜の場合がほとんどで
あるので、試料移動を求める方向は一方向で良く、二方
向求めていた以前よりも、試料移動量の算出時間が減少
する。
トルを得たい場合、試料３は積層膜の場合がほとんどで
あるので、試料移動を求める方向は一方向で良く、二方
向求めていた以前よりも、試料移動量の算出時間が減少
する。
【００２６】上述した試料３としてはシリコン基板を用
いる。シリコン基板にＴｉＮ（５０ｎｍ）、Ｒｕ電極
（２００ｎｍ）堆積させた後、ＢａＳｒＴｉＯ３膜をス
パッタ法により堆積した試料である。
いる。シリコン基板にＴｉＮ（５０ｎｍ）、Ｒｕ電極
（２００ｎｍ）堆積させた後、ＢａＳｒＴｉＯ３膜をス
パッタ法により堆積した試料である。
【００２７】図６は、透過型顕微鏡像および電子線エネ
ルギー損失スペクトル像を示す。図６の（ａ）に示され
る透過型顕微鏡像は、試料の材料の違いにより、透過型
顕微鏡像の濃淡が異なるため、各層が良く認識できる。
図６の（ｂ）は視野選択スリットで選択されたところの
電子線エネルギー損失スペクトル像を示している。横軸
に電子の持つエネルギー（エネルギーロス量）、縦軸に
試料の深さ方向の分布を示している。このスペクトル像
で明るい部分は電子が多く観察されるところである。
ルギー損失スペクトル像を示す。図６の（ａ）に示され
る透過型顕微鏡像は、試料の材料の違いにより、透過型
顕微鏡像の濃淡が異なるため、各層が良く認識できる。
図６の（ｂ）は視野選択スリットで選択されたところの
電子線エネルギー損失スペクトル像を示している。横軸
に電子の持つエネルギー（エネルギーロス量）、縦軸に
試料の深さ方向の分布を示している。このスペクトル像
で明るい部分は電子が多く観察されるところである。
【００２８】図７は、電子線エネルギー損失スペクトル
像および強度プロファイルを示す。図７の（ａ）は、図
６の（ｂ）に相当する。図７の（ｂ）は、図７の（ａ）
で白く囲んだところから得た強度プロファイルである。
像および強度プロファイルを示す。図７の（ａ）は、図
６の（ｂ）に相当する。図７の（ｂ）は、図７の（ａ）
で白く囲んだところから得た強度プロファイルである。
【００２９】図８は強度プロファイルのずれ、および補
正を示す。図８の（ａ）は、二回の撮影を示している。
実線は一回目、点線が２回目である。両者のずれより試
料のドリフトが生じていることが分かる。
正を示す。図８の（ａ）は、二回の撮影を示している。
実線は一回目、点線が２回目である。両者のずれより試
料のドリフトが生じていることが分かる。
【００３０】図８の（ｂ）に示す強度プロファイルは、
ドリフト補正をしてから電子線エネルギー損失スペクト
ル像を積算したもの（実線）と、ドリフト補正なしの電
子線エネルギー損失スペクトル像を積算したもの（点
線）を表す。両者の比較より、補正をした方が界面付近
の強度ファイルが急峻であることが理解できる。急峻な
強度ファイルにより、分解能が向上するのである。
ドリフト補正をしてから電子線エネルギー損失スペクト
ル像を積算したもの（実線）と、ドリフト補正なしの電
子線エネルギー損失スペクトル像を積算したもの（点
線）を表す。両者の比較より、補正をした方が界面付近
の強度ファイルが急峻であることが理解できる。急峻な
強度ファイルにより、分解能が向上するのである。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、試料の異なる位置のエ
ネルギースペクトルを、高Ｓ／Ｎ比でかつ高空間分解能
で、微小量含有している元素の観察を行うことが出来
る。
ネルギースペクトルを、高Ｓ／Ｎ比でかつ高空間分解能
で、微小量含有している元素の観察を行うことが出来
る。
【図１】本発明の実施形態にかかるもので、透過型電子
顕微鏡の概略図である。
顕微鏡の概略図である。
【図２】本発明の実施形態にかかるもので、検知／計測
手順の説明図。
手順の説明図。
【図３】従来例にかかるもので、試料移動補正法を示
す。
す。
【図４】本発明の実施形態にかかるもので、試料移動補
正法を示す。
正法を示す。
【図５】本発明の実施形態にかかるもので、他の試料移
動補正法を示す。
動補正法を示す。
【図６】本発明の実施形態にかかるもので、透過型顕微
鏡像および電子線エネルギー損失スペクトル像を示す。
鏡像および電子線エネルギー損失スペクトル像を示す。
【図７】本発明の実施形態にかかるもので、電子線エネ
ルギー損失スペクトル像および強度プロファイルを示
す。
ルギー損失スペクトル像および強度プロファイルを示
す。
【図８】本発明の実施形態にかかるもので、強度プロフ
ァイルのずれ、および補正を示す。
ァイルのずれ、および補正を示す。
１…電子銃、２…電子線、３…試料、４…視野選択スリ
ット、５…電子線分光器、６…磁場セクタ、７…画像検
出器、８…画像演算器。
ット、５…電子線分光器、６…磁場セクタ、７…画像検
出器、８…画像演算器。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 矢野 史子
東京都小平市上水本町五丁目20番１号 株
式会社日立製作所半導体グループ内
(72)発明者 三井 泰裕
東京都小平市上水本町五丁目20番１号 株
式会社日立製作所半導体グループ内
Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA11 CA03 DA09 GA01
GA06 HA12 HA13 JA04 JA11
JA13 KA01 MA05 PA11
5C033 SS02 SS04 SS08
Claims (5)
- 【請求項１】電子線を放射する電子銃等の電子線発生手
段と、検知される試料を透過した前記電子線を分光して
電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子線分
光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の画像
を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射する
電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制限す
る視野スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあって、 検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失スペク
トル像の画像を時分割して検知し、 検知された時分割の画像より試料の移動量を算定し、 前記移動量の補正を加えて時分割の画像を重ねあわせる
ことを特徴とする透過型電子顕微鏡。 - 【請求項２】電子線を放射する電子銃等の電子線発生手
段と、検知される試料を透過した前記電子線を分光して
電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子線分
光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の画像
を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射され
る電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制限
する視野選択スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあ
って、 検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失スペク
トル像の画像を時分割して検知し、 検知された時分割の画像より試料の移動量を算定し、 前記移動量の補正を加えて時分割の画像を画像演算器で
重ねあわせることを特徴とする透過型電子顕微鏡。 - 【請求項３】電子線を放射する電子銃等の電子線発生手
段と、検知される試料を透過した前記電子線を分光して
電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子線分
光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の画像
を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射され
る電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制限
する視野選択スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあ
って、 検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失スペク
トル像の画像を時分割して検知し、 時分割して検知された画像を先の検知画像に重ね、 前記重ねに際し、先の検知画像との移動量を補正するよ
うにしたことを特徴とする透過型電子顕微鏡。 - 【請求項４】電子線を放射する電子銃等の電子線発生手
段と、検知される試料を透過した前記電子線を分光して
電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子線分
光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の画像
を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射され
る電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制限
する視野選択スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあ
って、 検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失スペク
トル像の画像を時分割して検知し、 検知された時分割の画像より、電子線エネルギー損失と
電子線強度を求め、 前記電子線エネルギー損失および前記電子線強度より前
記試料の移動量を算定し、 前記移動量の補正を加えて時分割の画像を重ねあわせる
ことを特徴とする透過型電子顕微鏡。 - 【請求項５】電子線を放射する電子銃等の電子線発生手
段と、検知される試料を透過した前記電子線を分光して
電子線エネルギー損失スペクトル像を形成する電子線分
光器と、前記電子線エネルギー損失スペクトル像の画像
を検知する画像検知器と、前記電子線分光器に入射され
る電子線の入射範囲を絞って前記試料の検知範囲を制限
する視野選択スリットとを有する透過型電子顕微鏡にあ
って、 検知範囲が制限される前記電子線エネルギー損失スペク
トル像の画像を時分割して検知し、 検知された時分割の画像より、電子線エネルギー損失と
電子線強度が縦横座標の関係に示されるように求め、 前記縦横座標より前記試料の移動量を算定し、 前記移動量の補正を加えて時分割の画像を重ねあわせる
ことを特徴とする透過型電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001206114A JP2003022774A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 透過型電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001206114A JP2003022774A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 透過型電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003022774A true JP2003022774A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19042301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001206114A Pending JP2003022774A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 透過型電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003022774A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010067512A1 (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-17 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
| EP2256780A3 (en) * | 2007-02-28 | 2010-12-29 | Hitachi High-Technologies Corporation | Transmission electron microscope and method of displaying spectral image |
-
2001
- 2001-07-06 JP JP2001206114A patent/JP2003022774A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2256780A3 (en) * | 2007-02-28 | 2010-12-29 | Hitachi High-Technologies Corporation | Transmission electron microscope and method of displaying spectral image |
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| US8436301B2 (en) | 2008-12-09 | 2013-05-07 | Hitachi High-Technologies Corporation | Transmission electron microscope having electron spectrometer |
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