JP2003019426A - ガス溶存液状媒体の生産方法およびガス溶存液状媒体の生産システム - Google Patents
ガス溶存液状媒体の生産方法およびガス溶存液状媒体の生産システムInfo
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- JP2003019426A JP2003019426A JP2002106819A JP2002106819A JP2003019426A JP 2003019426 A JP2003019426 A JP 2003019426A JP 2002106819 A JP2002106819 A JP 2002106819A JP 2002106819 A JP2002106819 A JP 2002106819A JP 2003019426 A JP2003019426 A JP 2003019426A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水のような液状媒体からｐＨのようなその液
状媒体本来の性質を維持したまま、適切な酸化還元電位
に高精度に制御されたガス溶存液状媒体を連続的かつ大
量に生産することが可能なガス溶存液状媒体の生産方法
を提供する。 【解決手段】 供給口および排出口を有する密閉容器内
に処理されるべき液状媒体を前記供給口を通して連続的
に供給する工程と、前記密閉容器内の前記液状媒体に水
素ガスを供給するとともにその液状媒体を撹拌して前記
水素ガスを微細気泡化し、溶存させる工程と、前記密閉
容器の排出口側で水素ガスが溶存された液状媒体の酸化
還元電位を測定し、この酸化還元電位の測定結果に基づ
いて前記水素ガスの供給流量を調節して目的とする酸化
還元電位に制御する工程とを含むことを特徴とする。
状媒体本来の性質を維持したまま、適切な酸化還元電位
に高精度に制御されたガス溶存液状媒体を連続的かつ大
量に生産することが可能なガス溶存液状媒体の生産方法
を提供する。 【解決手段】 供給口および排出口を有する密閉容器内
に処理されるべき液状媒体を前記供給口を通して連続的
に供給する工程と、前記密閉容器内の前記液状媒体に水
素ガスを供給するとともにその液状媒体を撹拌して前記
水素ガスを微細気泡化し、溶存させる工程と、前記密閉
容器の排出口側で水素ガスが溶存された液状媒体の酸化
還元電位を測定し、この酸化還元電位の測定結果に基づ
いて前記水素ガスの供給流量を調節して目的とする酸化
還元電位に制御する工程とを含むことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水素、酸素のよう
なガス溶存液状媒体の生産方法およびガス溶存液状媒体
の生産システムに関する。
なガス溶存液状媒体の生産方法およびガス溶存液状媒体
の生産システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】水の還元技術において、水に水素を溶解
した水素還元水を利用して例えば加工食品の加工時の加
熱に伴う食材の褐変や加工臭の発生を防止して高品質化
することが考えられている。この水素還元水の応用は、
加工食品の高品質化に止まらず、長期保存時の食品の腐
敗防止を可能にし、さらにビール、酒、茶、果汁、その
他の飲料等の変質防止に用いられるアスコルビン酸塩な
どの抗酸化剤の添加を省くことが可能になる。
した水素還元水を利用して例えば加工食品の加工時の加
熱に伴う食材の褐変や加工臭の発生を防止して高品質化
することが考えられている。この水素還元水の応用は、
加工食品の高品質化に止まらず、長期保存時の食品の腐
敗防止を可能にし、さらにビール、酒、茶、果汁、その
他の飲料等の変質防止に用いられるアスコルビン酸塩な
どの抗酸化剤の添加を省くことが可能になる。
【０００３】また、生体の活性酸素は各種の病気の発生
を助長することが知られており、前記水素還元水は生体
生理学でも活性水素の利用の観点から注目されている。
を助長することが知られており、前記水素還元水は生体
生理学でも活性水素の利用の観点から注目されている。
【０００４】さらに、前記水素還元水は食品以外の鉄鋼
産業、コンクリート産業での鉄鋼、コンクリートの酸化
防止に応用されている。
産業、コンクリート産業での鉄鋼、コンクリートの酸化
防止に応用されている。
【０００５】ところで、本発明者は回分式（バッチ式）
で溶液を脱気した後にこの溶液に水素を飽和させ、溶液
に還元性を与える「食品等の還元性水素水とその製造方
法並びに製造装置」を発明し、出願して特開平８−５６
６３２号公報として公開されている。
で溶液を脱気した後にこの溶液に水素を飽和させ、溶液
に還元性を与える「食品等の還元性水素水とその製造方
法並びに製造装置」を発明し、出願して特開平８−５６
６３２号公報として公開されている。
【０００６】また、本発明者は分子レベルで水分子を個
化させ、洗浄能力を高める技術で、用水を連続的に飽和
水素水に変換する「洗濯水、風呂水等へ供給する飽和水
素水大量連続供給装置」を発明し、出願して特開２００
０−３５４６９６）として公開されている。
化させ、洗浄能力を高める技術で、用水を連続的に飽和
水素水に変換する「洗濯水、風呂水等へ供給する飽和水
素水大量連続供給装置」を発明し、出願して特開２００
０−３５４６９６）として公開されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の発明はいずれも酸化・還元電位に着目して水素量を制
御することは行われていなかった。
の発明はいずれも酸化・還元電位に着目して水素量を制
御することは行われていなかった。
【０００８】本発明は、例えば水のような液状媒体から
ｐＨのようなその液状媒体本来の性質を維持したまま、
適切な酸化還元電位に高精度で制御されたガス溶存液状
媒体を連続的かつ大量に生産することが可能なガス溶存
液状媒体の生産方法およびガス溶存液状媒体の生産シス
テムを提供しようとするものである。
ｐＨのようなその液状媒体本来の性質を維持したまま、
適切な酸化還元電位に高精度で制御されたガス溶存液状
媒体を連続的かつ大量に生産することが可能なガス溶存
液状媒体の生産方法およびガス溶存液状媒体の生産シス
テムを提供しようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係るガス溶存液
状媒体の生産方法は、供給口および排出口を有する密閉
容器内に処理されるべき液状媒体を前記供給口を通して
連続的に供給する工程と、前記密閉容器内の前記液状媒
体に水素ガスを供給するとともにその液状媒体を撹拌し
て前記水素ガスを微細気泡化し、溶存させる工程と、前
記密閉容器の排出口側で水素ガスが溶存された液状媒体
の酸化還元電位を測定し、この酸化還元電位の測定結果
に基づいて前記水素ガスの供給流量を調節して目的とす
る酸化還元電位に制御する工程とを含むことを特徴とす
るものである。
状媒体の生産方法は、供給口および排出口を有する密閉
容器内に処理されるべき液状媒体を前記供給口を通して
連続的に供給する工程と、前記密閉容器内の前記液状媒
体に水素ガスを供給するとともにその液状媒体を撹拌し
て前記水素ガスを微細気泡化し、溶存させる工程と、前
記密閉容器の排出口側で水素ガスが溶存された液状媒体
の酸化還元電位を測定し、この酸化還元電位の測定結果
に基づいて前記水素ガスの供給流量を調節して目的とす
る酸化還元電位に制御する工程とを含むことを特徴とす
るものである。
【００１０】本発明に係るガス溶存液状媒体の生産シス
テムは、下部に処理されるべき液状媒体が供給される供
給口および水素ガス溶存液状媒体を排出させる排出口を
有する密閉容器と、前記密閉容器内に供給された前記液
状媒体を撹拌するための撹拌手段と、前記容器底部に挿
入された水素供給ノズルと、前記水素供給ノズルに水素
ガスを供給するための水素供給源と、前記水素供給ノズ
ルと前記水素供給源との間に介装され、水素ガスの供給
流量を制御するための水素ガス流量制御手段と、前記密
閉容器の排出口から排出される水素ガス溶存液状媒体の
酸化還元電位を計測するための計測手段と、前記計測手
段からの計測信号が入力され、その計測信号に基づいて
前記水素ガス流量制御手段に流量制御信号を出力するた
めの中央演算処理装置とを具備したことを特徴とするも
のである。
テムは、下部に処理されるべき液状媒体が供給される供
給口および水素ガス溶存液状媒体を排出させる排出口を
有する密閉容器と、前記密閉容器内に供給された前記液
状媒体を撹拌するための撹拌手段と、前記容器底部に挿
入された水素供給ノズルと、前記水素供給ノズルに水素
ガスを供給するための水素供給源と、前記水素供給ノズ
ルと前記水素供給源との間に介装され、水素ガスの供給
流量を制御するための水素ガス流量制御手段と、前記密
閉容器の排出口から排出される水素ガス溶存液状媒体の
酸化還元電位を計測するための計測手段と、前記計測手
段からの計測信号が入力され、その計測信号に基づいて
前記水素ガス流量制御手段に流量制御信号を出力するた
めの中央演算処理装置とを具備したことを特徴とするも
のである。
【００１１】本発明に係る別のガス溶存液状媒体の生産
方法は、供給口および排出口を有する密閉容器内に処理
されるべき液状媒体を前記供給口を通して連続的に供給
する工程と、前記密閉容器内の前記液状媒体に酸素ガス
を供給するとともにその液状媒体を撹拌して前記酸素ガ
スを微細気泡化し、溶存させる工程と、前記密閉容器の
排出口側で酸素ガスが溶存された液状媒体の酸化還元電
位を測定し、この酸化還元電位の測定結果に基づいて前
記酸素ガスの供給流量を調節して目的とする酸化還元電
位に制御する工程とを含むことを特徴とするものであ
る。
方法は、供給口および排出口を有する密閉容器内に処理
されるべき液状媒体を前記供給口を通して連続的に供給
する工程と、前記密閉容器内の前記液状媒体に酸素ガス
を供給するとともにその液状媒体を撹拌して前記酸素ガ
スを微細気泡化し、溶存させる工程と、前記密閉容器の
排出口側で酸素ガスが溶存された液状媒体の酸化還元電
位を測定し、この酸化還元電位の測定結果に基づいて前
記酸素ガスの供給流量を調節して目的とする酸化還元電
位に制御する工程とを含むことを特徴とするものであ
る。
【００１２】本発明に係る別のガス溶存液状媒体の生産
システムは、下部に処理されるべき液状媒体が供給され
る供給口および酸素ガス溶存液状媒体を排出させる排出
口を有する密閉容器と、前記密閉容器内に供給された前
記液状媒体を撹拌するための撹拌手段と、前記容器底部
に挿入された酸素供給ノズルと、前記酸素供給ノズルに
酸素ガスを供給するための酸素供給源と、前記酸素供給
ノズルと前記酸素供給源との間に介装され、酸素ガスの
供給流量を制御するための酸素ガス流量制御手段と、前
記密閉容器の排出口から排出される酸素ガス溶存液状媒
体の酸化還元電位を計測するための計測手段と、前記計
測手段からの計測信号が入力され、その計測信号に基づ
いて前記酸素ガス流量制御手段に流量制御信号を出力す
るための中央演算処理装置とを具備したことを特徴とす
るものである。
システムは、下部に処理されるべき液状媒体が供給され
る供給口および酸素ガス溶存液状媒体を排出させる排出
口を有する密閉容器と、前記密閉容器内に供給された前
記液状媒体を撹拌するための撹拌手段と、前記容器底部
に挿入された酸素供給ノズルと、前記酸素供給ノズルに
酸素ガスを供給するための酸素供給源と、前記酸素供給
ノズルと前記酸素供給源との間に介装され、酸素ガスの
供給流量を制御するための酸素ガス流量制御手段と、前
記密閉容器の排出口から排出される酸素ガス溶存液状媒
体の酸化還元電位を計測するための計測手段と、前記計
測手段からの計測信号が入力され、その計測信号に基づ
いて前記酸素ガス流量制御手段に流量制御信号を出力す
るための中央演算処理装置とを具備したことを特徴とす
るものである。
【００１３】本発明に係るさらに別のガス溶存液状媒体
の生産システムは、下部に処理されるべき液状媒体が供
給される供給口およびガス溶存液状媒体を排出させる排
出口を有する密閉容器と、前記密閉容器内に供給された
前記液状媒体を撹拌するための撹拌手段と、前記容器底
部に挿入された水素供給ノズルおよび酸素供給ノズル
と、前記水素供給ノズルに水素ガスを供給するための水
素供給源と、前記酸素供給ノズルに酸素ガスを供給する
ための酸素供給源と、前記水素供給ノズルと前記水素供
給源との間に介装され、水素ガスの供給流量を制御する
ための水素ガス流量制御手段と、前記酸素供給ノズルと
前記酸素供給源との間に介装され、酸素ガスの供給流量
を制御するための酸素ガス流量制御手段と、前記密閉容
器の排出口から排出されるガス溶存液状媒体の酸化還元
電位を計測するための計測手段と、前記計測手段からの
計測信号が入力され、その計測信号に基づいて前記水素
ガス流量制御手段または前記酸素ガス流量制御手段に流
量制御信号を出力するための中央演算処理装置とを具備
したことを特徴とするものである。
の生産システムは、下部に処理されるべき液状媒体が供
給される供給口およびガス溶存液状媒体を排出させる排
出口を有する密閉容器と、前記密閉容器内に供給された
前記液状媒体を撹拌するための撹拌手段と、前記容器底
部に挿入された水素供給ノズルおよび酸素供給ノズル
と、前記水素供給ノズルに水素ガスを供給するための水
素供給源と、前記酸素供給ノズルに酸素ガスを供給する
ための酸素供給源と、前記水素供給ノズルと前記水素供
給源との間に介装され、水素ガスの供給流量を制御する
ための水素ガス流量制御手段と、前記酸素供給ノズルと
前記酸素供給源との間に介装され、酸素ガスの供給流量
を制御するための酸素ガス流量制御手段と、前記密閉容
器の排出口から排出されるガス溶存液状媒体の酸化還元
電位を計測するための計測手段と、前記計測手段からの
計測信号が入力され、その計測信号に基づいて前記水素
ガス流量制御手段または前記酸素ガス流量制御手段に流
量制御信号を出力するための中央演算処理装置とを具備
したことを特徴とするものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１５】図１は、本発明に係るガス溶存液状媒体の
生産システムを示す概略図、図２は図１の処理されるべ
き液状媒体への水素または酸素の溶解装置を示す概略
図、図３は図２の溶解装置の分解図である。
生産システムを示す概略図、図２は図１の処理されるべ
き液状媒体への水素または酸素の溶解装置を示す概略
図、図３は図２の溶解装置の分解図である。
【００１６】ガス溶存液状媒体の生産システムは、処理
されるべき液状媒体への水素および酸素の溶解装置１０
と、ガス溶存液状媒体の酸化・還元電位計測装置４０
と、中央演算制御器５０と、水素、酸素のガス供給装置
６０とを備えている。
されるべき液状媒体への水素および酸素の溶解装置１０
と、ガス溶存液状媒体の酸化・還元電位計測装置４０
と、中央演算制御器５０と、水素、酸素のガス供給装置
６０とを備えている。
【００１７】＜溶解装置１０＞この溶解装置１０は、図
２に示すように積載台１１上に設置された耐圧容器１２
を有する。この積載台１１は、円盤部１３と、この円盤
部１３を支持する例えば４つの脚部１４とを有する。前
記円盤部１３は、その上面中心部に回転軸受１５が設け
られ、かつその周縁に後述する耐圧容器本体を固定する
ための複数の締め付けボルト１６が取り付けられてい
る。また、後述する耐圧ホースが接続される水素供給ノ
ズル１７、酸素供給ノズル１８は、前記円盤部１３に前
記回転軸受１５に対して対称的に貫通支持されている。
２に示すように積載台１１上に設置された耐圧容器１２
を有する。この積載台１１は、円盤部１３と、この円盤
部１３を支持する例えば４つの脚部１４とを有する。前
記円盤部１３は、その上面中心部に回転軸受１５が設け
られ、かつその周縁に後述する耐圧容器本体を固定する
ための複数の締め付けボルト１６が取り付けられてい
る。また、後述する耐圧ホースが接続される水素供給ノ
ズル１７、酸素供給ノズル１８は、前記円盤部１３に前
記回転軸受１５に対して対称的に貫通支持されている。
【００１８】前記耐圧容器１２は、前記積載台１１上に
設置される円筒状の容器本体１９と、この本体１９の上
部に設けられた蓋体２０とから構成されている。この耐
圧容器本体１９は、例えばスチール、ステンレススチー
ル、ホーロー、セラミック、プラスチック等の加工が容
易で内圧に対して十分な強度を有するものにより作られ
ている。前記容器本体１９は、上下端にフランジ２１
ａ、２１ｂを有する。前記容器本体１９は、その下部フ
ランジ２１ｂを前記積載台１１の円盤部１３にパッキン
を挟んで載置させ、前記締め付けボルト１６をこの下部
フランジ２１ｂに係合することにより前記積載台１１の
円盤部１３に対して液密に固定される。前記本体１９の
上部フランジ２１aの周縁には、複数の締め付けボルト
２２が取り付けられている。前記蓋体２０は、前記本体
１９の上部フランジ２１aにパッキンを挟んで載置さ
せ、前記締め付けボルト２２をこの蓋体２０周縁に係合
することにより前記上部フランジ２１aに対して液密に
固定される。
設置される円筒状の容器本体１９と、この本体１９の上
部に設けられた蓋体２０とから構成されている。この耐
圧容器本体１９は、例えばスチール、ステンレススチー
ル、ホーロー、セラミック、プラスチック等の加工が容
易で内圧に対して十分な強度を有するものにより作られ
ている。前記容器本体１９は、上下端にフランジ２１
ａ、２１ｂを有する。前記容器本体１９は、その下部フ
ランジ２１ｂを前記積載台１１の円盤部１３にパッキン
を挟んで載置させ、前記締め付けボルト１６をこの下部
フランジ２１ｂに係合することにより前記積載台１１の
円盤部１３に対して液密に固定される。前記本体１９の
上部フランジ２１aの周縁には、複数の締め付けボルト
２２が取り付けられている。前記蓋体２０は、前記本体
１９の上部フランジ２１aにパッキンを挟んで載置さ
せ、前記締め付けボルト２２をこの蓋体２０周縁に係合
することにより前記上部フランジ２１aに対して液密に
固定される。
【００１９】処理されるべき液状媒体の流入管部２３
は、前記耐圧容器本体１９の下部側壁に連結され、その
連結部には逆止弁２４が介在されている。ガス溶存液状
媒体の排出管部２５は、前記耐圧容器本体１９の上部側
壁に連結されている。
は、前記耐圧容器本体１９の下部側壁に連結され、その
連結部には逆止弁２４が介在されている。ガス溶存液状
媒体の排出管部２５は、前記耐圧容器本体１９の上部側
壁に連結されている。
【００２０】上下に撹拌羽根２６ａ，２６ｂが取り付け
られた回転軸２７は、下端が前記積載台１１の円盤部１
３上面中心部の回転軸受１５に回転可能に軸支されてい
る。モータ２８は、前記蓋体２０に設置され、その駆動
軸（図示せず）が前記回転軸２７に連結されている。前
記耐圧容器１２の圧力を計測するための圧力計２９は、
前記蓋体２０上に設置されている。
られた回転軸２７は、下端が前記積載台１１の円盤部１
３上面中心部の回転軸受１５に回転可能に軸支されてい
る。モータ２８は、前記蓋体２０に設置され、その駆動
軸（図示せず）が前記回転軸２７に連結されている。前
記耐圧容器１２の圧力を計測するための圧力計２９は、
前記蓋体２０上に設置されている。
【００２１】処理されるべき液状媒体の吸入管３０は、
前記耐圧容器１２の流入管部２３にコネクタ３１を介し
て連結されている。水流ポンプ３２は、前記吸入管３０
に介装されている。
前記耐圧容器１２の流入管部２３にコネクタ３１を介し
て連結されている。水流ポンプ３２は、前記吸入管３０
に介装されている。
【００２２】排出管３３は、前記耐圧容器１２の排出管
部２５にコネクタ３４を介して連結され、そのコネクタ
３４近傍にエルボ部３５を有する。圧力調整弁３６は、
前記排出管３３のエルボ部３５に設けられている。流量
計３７は、前記排出管３３の前記圧力調整弁３６より下
流側に介装されている。なお、前記圧力調整弁３６と前
記流量計３７の間に位置する前記排出管３３には、後述
する酸化・還元電位セルが取り付けられている。
部２５にコネクタ３４を介して連結され、そのコネクタ
３４近傍にエルボ部３５を有する。圧力調整弁３６は、
前記排出管３３のエルボ部３５に設けられている。流量
計３７は、前記排出管３３の前記圧力調整弁３６より下
流側に介装されている。なお、前記圧力調整弁３６と前
記流量計３７の間に位置する前記排出管３３には、後述
する酸化・還元電位セルが取り付けられている。
【００２３】前述した溶解装置１０は、図３に示すよう
に各パーツに分解可能な構造になっている。すなわち、
図３の（ｃ）に示す積載台１１と、図３の（ｂ）に示す
それぞれコネクタ３１，３４が取着された流入管部２３
および排出管部２５を有する耐圧容器本体１９と、図３
の（ａ）に示すモータ２８および圧力計２９が設置され
た蓋体２０と、図３の（ｄ）に示す撹拌羽根２６ａ，２
６ｂが取り付けられた回転軸２７と、図３の（ｅ）に示
すコネクタ３１が取着され、水流ポンプ３２が介装され
た吸入管３０と、図３の（ｆ）に示すコネクタ３４が取
着され、圧力調整弁３６および流量計３７が介装された
排出管３３とに分割可能な構造になっている。
に各パーツに分解可能な構造になっている。すなわち、
図３の（ｃ）に示す積載台１１と、図３の（ｂ）に示す
それぞれコネクタ３１，３４が取着された流入管部２３
および排出管部２５を有する耐圧容器本体１９と、図３
の（ａ）に示すモータ２８および圧力計２９が設置され
た蓋体２０と、図３の（ｄ）に示す撹拌羽根２６ａ，２
６ｂが取り付けられた回転軸２７と、図３の（ｅ）に示
すコネクタ３１が取着され、水流ポンプ３２が介装され
た吸入管３０と、図３の（ｆ）に示すコネクタ３４が取
着され、圧力調整弁３６および流量計３７が介装された
排出管３３とに分割可能な構造になっている。
【００２４】＜ガス溶存液状媒体の酸化・還元電位計測
装置４０＞このガス溶存液状媒体の酸化・還元電位計測
装置４０は、前記加圧調整弁３６と前記流量計３７の間
に位置する前記排出管３３に取り付けられた中空の酸化
・還元電位（Ｅｈ）セル４１を備えている。前記排出管
３３から排出された処理液を前記Ｅｈセル４１内に取り
込むための採取管４２は、前記セル４１下部に連結さ
れ、かつその他端は前記排出管３３内に挿入されてい
る。前記Ｅｈセル４１内の処理液を外部にオーバーフロ
ーさせるためのオーバーフロー管４３は、前記セル４１
上部に連結されている。前記セル４１内の処理液のＥｈ
を連続的に計測するための白金電極４４および比較電極
４５は、外部から前記セル４１内にそれぞれ所望の距離
を開けて挿入されている。これらの白金電極４４および
比較電極４５は、ケーブル４６，４７を通して酸化・還
元電位計測（Ｅｈ）メータ４８にそれぞれ接続されてい
る。
装置４０＞このガス溶存液状媒体の酸化・還元電位計測
装置４０は、前記加圧調整弁３６と前記流量計３７の間
に位置する前記排出管３３に取り付けられた中空の酸化
・還元電位（Ｅｈ）セル４１を備えている。前記排出管
３３から排出された処理液を前記Ｅｈセル４１内に取り
込むための採取管４２は、前記セル４１下部に連結さ
れ、かつその他端は前記排出管３３内に挿入されてい
る。前記Ｅｈセル４１内の処理液を外部にオーバーフロ
ーさせるためのオーバーフロー管４３は、前記セル４１
上部に連結されている。前記セル４１内の処理液のＥｈ
を連続的に計測するための白金電極４４および比較電極
４５は、外部から前記セル４１内にそれぞれ所望の距離
を開けて挿入されている。これらの白金電極４４および
比較電極４５は、ケーブル４６，４７を通して酸化・還
元電位計測（Ｅｈ）メータ４８にそれぞれ接続されてい
る。
【００２５】なお、酸化・還元電位計測装置において白
金電極および比較電極を１つのチューブ内に挿入し、こ
のチューブを前記セル内に挿入した形態であってもよ
い。
金電極および比較電極を１つのチューブ内に挿入し、こ
のチューブを前記セル内に挿入した形態であってもよ
い。
【００２６】＜中央演算処理装置５０＞この中央演算処
理装置５０は、前記Ｅｈメータ４８の出力端子にケーブ
ル５１を通して接続されている。この中央演算処理装置
５０には、予めガス溶存液状媒体の種類に応じた適正な
酸化・還元電位（Ｅｈ）レンジが設定される水素ガス溶
存液状媒体用の比較回路、酸素ガス溶存液状媒体用の比
較回路、等を備えている。前記Ｅｈメータ４７からＥｈ
測定信号（電流値）が前記中央演算処理装置５０に入力
されると、そのＥｈ測定信号はいずれかの比較回路で予
め設定されたＥｈレンジと比較される。例えば水素ガス
溶存液状媒体を生産する場合、そのＥｈ測定値が設定さ
れたＥｈレンジより低いと、この中央演算処理装置５０
から後述する水素流量制御器に流量制御信号が出力され
て、水素流量制御器による水素ガス供給量を減少させる
ようにフィードバック制御がなされる。一方、Ｅｈ測定
値が設定されたＥｈレンジより高いと、この中央演算処
理装置５０から水素流量制御器に流量制御信号が出力さ
れて、水素流量制御器による水素ガス供給量を増加させ
るようにフィードバック制御がなされる。
理装置５０は、前記Ｅｈメータ４８の出力端子にケーブ
ル５１を通して接続されている。この中央演算処理装置
５０には、予めガス溶存液状媒体の種類に応じた適正な
酸化・還元電位（Ｅｈ）レンジが設定される水素ガス溶
存液状媒体用の比較回路、酸素ガス溶存液状媒体用の比
較回路、等を備えている。前記Ｅｈメータ４７からＥｈ
測定信号（電流値）が前記中央演算処理装置５０に入力
されると、そのＥｈ測定信号はいずれかの比較回路で予
め設定されたＥｈレンジと比較される。例えば水素ガス
溶存液状媒体を生産する場合、そのＥｈ測定値が設定さ
れたＥｈレンジより低いと、この中央演算処理装置５０
から後述する水素流量制御器に流量制御信号が出力され
て、水素流量制御器による水素ガス供給量を減少させる
ようにフィードバック制御がなされる。一方、Ｅｈ測定
値が設定されたＥｈレンジより高いと、この中央演算処
理装置５０から水素流量制御器に流量制御信号が出力さ
れて、水素流量制御器による水素ガス供給量を増加させ
るようにフィードバック制御がなされる。
【００２７】なお、中央演算処理装置５０に搭載される
比較回路は１つであってもよい。この場合、前記比較回
路へのＥｈレンジの設定に基いて、つまり酸素溶存液状
媒体ではプラスのＥｈレンジ、水素酸素溶存液状媒体で
はマイナスのＥｈレンジに基いて、その中央演算処理装
置５０による流量制御信号の出力対象である水素流量制
御器、酸素流量制御器を自動的に切り替えてもよい。
比較回路は１つであってもよい。この場合、前記比較回
路へのＥｈレンジの設定に基いて、つまり酸素溶存液状
媒体ではプラスのＥｈレンジ、水素酸素溶存液状媒体で
はマイナスのＥｈレンジに基いて、その中央演算処理装
置５０による流量制御信号の出力対象である水素流量制
御器、酸素流量制御器を自動的に切り替えてもよい。
【００２８】＜水素、酸素のガス供給装置６０＞この水
素、酸素のガス供給装置６０は、水素ガス供給手段であ
る水素ボンベ６１を具備している。この水素ボンベ６１
は、耐圧ホース６２を通して前記溶解装置１０の水素供
給ノズル１７に連結されている。水素ガス流量制御器６
３および水素ガス流量計６４は、前記耐圧ホース６２に
前記水素ボンベ６１側から順次介装さえている。前記水
素ガス流量制御器６３は、前記中央演算処理装置５０に
ケーブル６５を通して接続され、この中央演算処理装置
５０の流量制御信号がケーブル６５を通して入力され
る。
素、酸素のガス供給装置６０は、水素ガス供給手段であ
る水素ボンベ６１を具備している。この水素ボンベ６１
は、耐圧ホース６２を通して前記溶解装置１０の水素供
給ノズル１７に連結されている。水素ガス流量制御器６
３および水素ガス流量計６４は、前記耐圧ホース６２に
前記水素ボンベ６１側から順次介装さえている。前記水
素ガス流量制御器６３は、前記中央演算処理装置５０に
ケーブル６５を通して接続され、この中央演算処理装置
５０の流量制御信号がケーブル６５を通して入力され
る。
【００２９】なお、水素ガス供給手段は水素ボンベの他
に、例えば発生期の水素を生成する水の電解槽を用いる
ことができる。
に、例えば発生期の水素を生成する水の電解槽を用いる
ことができる。
【００３０】前記ガス供給装置６０は、酸素ガス供給手
段である酸素ボンベ６６を具備している。この酸素ボン
ベ６６は、耐圧ホース６７を通して前記溶解装置１０の
酸素供給ノズル１８に連結されている。酸素ガス流量制
御器６８および酸素ガス流量計６９は、前記耐圧ホース
６７に前記酸素ボンベ６６側から順次介装さえている。
前記酸素ガス流量制御器６８は、前記中央演算処理装置
５０にケーブル７０を通して接続され、この中央演算処
理装置５０の流量制御信号がケーブル７０を通して入力
される。
段である酸素ボンベ６６を具備している。この酸素ボン
ベ６６は、耐圧ホース６７を通して前記溶解装置１０の
酸素供給ノズル１８に連結されている。酸素ガス流量制
御器６８および酸素ガス流量計６９は、前記耐圧ホース
６７に前記酸素ボンベ６６側から順次介装さえている。
前記酸素ガス流量制御器６８は、前記中央演算処理装置
５０にケーブル７０を通して接続され、この中央演算処
理装置５０の流量制御信号がケーブル７０を通して入力
される。
【００３１】なお、酸素ガス供給手段は酸素ボンベの他
に、例えば発生期の酸素を生成する水の電解槽を用いる
ことができる。
に、例えば発生期の酸素を生成する水の電解槽を用いる
ことができる。
【００３２】次に、前述した図１〜図３に示すガス溶存
液状媒体の生産システムを用いてガス溶存液状媒体、具
体的には１）水素ガス溶存液状媒体、２）酸素ガス溶存
液状媒体の生産方法を説明する。
液状媒体の生産システムを用いてガス溶存液状媒体、具
体的には１）水素ガス溶存液状媒体、２）酸素ガス溶存
液状媒体の生産方法を説明する。
【００３３】１）水素ガス溶存液状媒体の生産方法
まず、水流ポンプ３２を作動して処理されるべき液状媒
体を吸入管３０および流入管部２３を通して圧力容器１
２の容器本体１９内に送り込み、排出管３３を通して排
出する。このとき、前記容器本体１９近傍の前記排出管
３３に設けた圧力調整弁３６により排出管３３を流通す
る液状媒体の流量を絞ることにより前記圧力容器１２内
の液状媒体を加圧する。なお、このような液状媒体の加
圧において、前記流入管部２３には逆止弁２４が介在さ
れているため、前記液状媒体が吸入管３０側に逆流する
のを防止される。
体を吸入管３０および流入管部２３を通して圧力容器１
２の容器本体１９内に送り込み、排出管３３を通して排
出する。このとき、前記容器本体１９近傍の前記排出管
３３に設けた圧力調整弁３６により排出管３３を流通す
る液状媒体の流量を絞ることにより前記圧力容器１２内
の液状媒体を加圧する。なお、このような液状媒体の加
圧において、前記流入管部２３には逆止弁２４が介在さ
れているため、前記液状媒体が吸入管３０側に逆流する
のを防止される。
【００３４】次いで、前記圧力容器１２の蓋体２０に設
置した圧力計２９で計測される圧力が目的とする圧力に
安定した後、水素ボンベ６０のバルブを開き、水素ガス
流量計６４の流量を見ながら、水素ガス流量制御器６３
で生産する水素ガス溶存液状媒体に見合った水素ガスの
流量に調節し、この水素ガスを耐圧ホース６２を通して
水素供給ノズル１７に供給し、このノズル１７から水素
ガスを前記圧力容器１２内の液状媒体に噴射する。液状
媒体に噴射された水素ガスは、その液状媒体が加圧され
ているため、微細な気泡になって、その液状媒体中を上
昇する。この操作と同時または前後にモータ２８を駆動
して回転軸２７を回転させ、撹拌羽根２６ａ，２６ｂに
より前記圧力容器１２内の液状媒体を撹拌する。このよ
うな液状媒体の加圧、撹拌により、前記水素ガスの気泡
は高速細断されてさらに微細化されるとともに、四方に
拡散され、液状媒体との接触機会が増大される。このた
め、水素ガスを液状媒体中に効率よく溶存させることが
できる。
置した圧力計２９で計測される圧力が目的とする圧力に
安定した後、水素ボンベ６０のバルブを開き、水素ガス
流量計６４の流量を見ながら、水素ガス流量制御器６３
で生産する水素ガス溶存液状媒体に見合った水素ガスの
流量に調節し、この水素ガスを耐圧ホース６２を通して
水素供給ノズル１７に供給し、このノズル１７から水素
ガスを前記圧力容器１２内の液状媒体に噴射する。液状
媒体に噴射された水素ガスは、その液状媒体が加圧され
ているため、微細な気泡になって、その液状媒体中を上
昇する。この操作と同時または前後にモータ２８を駆動
して回転軸２７を回転させ、撹拌羽根２６ａ，２６ｂに
より前記圧力容器１２内の液状媒体を撹拌する。このよ
うな液状媒体の加圧、撹拌により、前記水素ガスの気泡
は高速細断されてさらに微細化されるとともに、四方に
拡散され、液状媒体との接触機会が増大される。このた
め、水素ガスを液状媒体中に効率よく溶存させることが
できる。
【００３５】水素ガス溶存液状媒体は、前記圧力容器１
２の上部から排出管３３を通して排出されて回収され
る。このとき、前記排出管３３を流通する水素ガス溶存
液状媒体の一部は、採取管４２を通して中空の酸化・還
元電位（Ｅｈ）セル４１に連続的に採取され、オーバー
フロー管４３からオーバーフローされる。この間、前記
Ｅｈセル４１において白金電極４４と比較電極４５によ
る水素ガス溶存液状媒体の電位差（Ｅｈ）をこれら電極
４４，４５にケーブル４６，４７を通して接続された酸
化・還元電位計測（Ｅｈ）メータ４８により連続的に計
測する。
２の上部から排出管３３を通して排出されて回収され
る。このとき、前記排出管３３を流通する水素ガス溶存
液状媒体の一部は、採取管４２を通して中空の酸化・還
元電位（Ｅｈ）セル４１に連続的に採取され、オーバー
フロー管４３からオーバーフローされる。この間、前記
Ｅｈセル４１において白金電極４４と比較電極４５によ
る水素ガス溶存液状媒体の電位差（Ｅｈ）をこれら電極
４４，４５にケーブル４６，４７を通して接続された酸
化・還元電位計測（Ｅｈ）メータ４８により連続的に計
測する。
【００３６】次いで、前記Ｅｈメータ４８からＥｈ測定
信号（電流値）をケーブル５１を通して中央演算処理装
置５０に出力する。この中央演算処理装置５０の比較回
路において、入力されたＥｈ測定値と予め設定されたＥ
ｈレンジ（マイナスのＥｈレンジ）と比較される。前記
Ｅｈ測定値が設定されたＥｈレンジより低くなる（より
マイナス側になる）と、前記中央演算処理装置５０から
水素流量制御器６３にケーブル６５を通して流量制御信
号が出力されて、前記水素流量制御器６３の開度を下げ
るようにフィードバック制御がなされる。これにより、
前記水素供給ノズル１７から加圧された液状媒体に噴射
される水素ガス量が減少される。一方、Ｅｈ測定値が設
定されたＥｈレンジより高いと、前記中央演算処理装置
５０から水素流量制御器６３にケーブル６５を通して流
量制御信号が出力されて、水素流量制御器６３の開度を
上げるようにフィードバック制御がなされる。これによ
り、前記水素供給ノズル１７から加圧された液状媒体に
噴射される水素ガス量が増大される。
信号（電流値）をケーブル５１を通して中央演算処理装
置５０に出力する。この中央演算処理装置５０の比較回
路において、入力されたＥｈ測定値と予め設定されたＥ
ｈレンジ（マイナスのＥｈレンジ）と比較される。前記
Ｅｈ測定値が設定されたＥｈレンジより低くなる（より
マイナス側になる）と、前記中央演算処理装置５０から
水素流量制御器６３にケーブル６５を通して流量制御信
号が出力されて、前記水素流量制御器６３の開度を下げ
るようにフィードバック制御がなされる。これにより、
前記水素供給ノズル１７から加圧された液状媒体に噴射
される水素ガス量が減少される。一方、Ｅｈ測定値が設
定されたＥｈレンジより高いと、前記中央演算処理装置
５０から水素流量制御器６３にケーブル６５を通して流
量制御信号が出力されて、水素流量制御器６３の開度を
上げるようにフィードバック制御がなされる。これによ
り、前記水素供給ノズル１７から加圧された液状媒体に
噴射される水素ガス量が増大される。
【００３７】このような方法により目的とする酸化・還
元電位のレンジを有する水素ガス溶存液状媒体（還元性
の液状媒体）を排気管３３を通して回収、生産される。
元電位のレンジを有する水素ガス溶存液状媒体（還元性
の液状媒体）を排気管３３を通して回収、生産される。
【００３８】前記耐圧容器に送り込まれる液状媒体とし
ては、例えば家庭用水、廃水処理用水、工業用水、医薬
用水、純水、超純水などの各種の水、ビール、酒、茶、
果汁などの飲料物等を挙げることができる。
ては、例えば家庭用水、廃水処理用水、工業用水、医薬
用水、純水、超純水などの各種の水、ビール、酒、茶、
果汁などの飲料物等を挙げることができる。
【００３９】前記耐圧容器での前記液状媒体に加える圧
力は、その液状媒体の種類により適宜選定すればよい。
ただし、前記液状媒体は大気圧の容器内に送り込んで、
水素ガスをこの液状媒体に噴射し、水素ガスを溶存させ
てもよい。
力は、その液状媒体の種類により適宜選定すればよい。
ただし、前記液状媒体は大気圧の容器内に送り込んで、
水素ガスをこの液状媒体に噴射し、水素ガスを溶存させ
てもよい。
【００４０】２）酸素ガス溶存液状媒体の生産方法
まず、水流ポンプ３２を作動して処理されるべき液状媒
体を吸入管３０および流入管部２３を通して圧力容器１
２の容器本体１９内に送り込み、排出管３３を通して排
出する。このとき、前記容器本体１９近傍の前記排出管
３３に設けた圧力調整弁３６により排出管３３を流通す
る液状媒体の流量を絞ることにより前記圧力容器１２内
の液状媒体を加圧する。なお、このような液状媒体の加
圧において、前記流入管部２３には逆止弁２４が介在さ
れているため、前記液状媒体が吸入管３０側に逆流する
のを防止される。
体を吸入管３０および流入管部２３を通して圧力容器１
２の容器本体１９内に送り込み、排出管３３を通して排
出する。このとき、前記容器本体１９近傍の前記排出管
３３に設けた圧力調整弁３６により排出管３３を流通す
る液状媒体の流量を絞ることにより前記圧力容器１２内
の液状媒体を加圧する。なお、このような液状媒体の加
圧において、前記流入管部２３には逆止弁２４が介在さ
れているため、前記液状媒体が吸入管３０側に逆流する
のを防止される。
【００４１】次いで、前記圧力容器１２の蓋体２０に設
置した圧力計２９で計測される圧力が目的とする圧力に
安定した後、酸素ボンベ６６のバルブを開き、酸素ガス
流量計６９の流量を見ながら、酸素ガス流量制御器６３
で生産する酸素ガス溶存液状媒体に見合った酸素ガスの
流量に調節し、この酸素ガスを耐圧ホース６７を通して
酸素供給ノズル１８に供給し、このノズル１８から酸素
ガスを前記圧力容器１２内の液状媒体に噴射する。液状
媒体に噴射された酸素ガスは、その液状媒体が加圧され
ているため、微細な気泡になって、その液状媒体中を上
昇する。この操作と同時または前後にモータ２８を駆動
して回転軸２７を回転させ、撹拌羽根２６ａ，２６ｂに
より前記圧力容器１２内の液状媒体を撹拌する。このよ
うな液状媒体の加圧、撹拌により、前記酸素ガスの気泡
は高速細断されてさらに微細化されるとともに、四方に
拡散され、液状媒体との接触機会が増大される。このた
め、酸素ガスを液状媒体中に効率よく溶存させることが
できる。なお、このとき酸素ガスの一部は微細気泡とし
て液状媒体中に残留する。
置した圧力計２９で計測される圧力が目的とする圧力に
安定した後、酸素ボンベ６６のバルブを開き、酸素ガス
流量計６９の流量を見ながら、酸素ガス流量制御器６３
で生産する酸素ガス溶存液状媒体に見合った酸素ガスの
流量に調節し、この酸素ガスを耐圧ホース６７を通して
酸素供給ノズル１８に供給し、このノズル１８から酸素
ガスを前記圧力容器１２内の液状媒体に噴射する。液状
媒体に噴射された酸素ガスは、その液状媒体が加圧され
ているため、微細な気泡になって、その液状媒体中を上
昇する。この操作と同時または前後にモータ２８を駆動
して回転軸２７を回転させ、撹拌羽根２６ａ，２６ｂに
より前記圧力容器１２内の液状媒体を撹拌する。このよ
うな液状媒体の加圧、撹拌により、前記酸素ガスの気泡
は高速細断されてさらに微細化されるとともに、四方に
拡散され、液状媒体との接触機会が増大される。このた
め、酸素ガスを液状媒体中に効率よく溶存させることが
できる。なお、このとき酸素ガスの一部は微細気泡とし
て液状媒体中に残留する。
【００４２】酸素ガス溶存液状媒体は、前記圧力容器１
２の上部から排出管３３を通して排出されて回収され
る。このとき、前記排出管３３を流通する酸素ガス溶存
液状媒体の一部は、採取管４２を通して中空の酸化・還
元電位（Ｅｈ）セル４１に連続的に採取され、オーバー
フロー管４３からオーバーフローされる。この間、前記
Ｅｈセル４１において白金電極４４と比較電極４５によ
る酸素ガス溶存液状媒体の電位差（Ｅｈ）をこれら電極
４４，４５にケーブル４６，４７を通して接続された酸
化・還元電位計測（Ｅｈ）メータ４８により連続的に計
測する。
２の上部から排出管３３を通して排出されて回収され
る。このとき、前記排出管３３を流通する酸素ガス溶存
液状媒体の一部は、採取管４２を通して中空の酸化・還
元電位（Ｅｈ）セル４１に連続的に採取され、オーバー
フロー管４３からオーバーフローされる。この間、前記
Ｅｈセル４１において白金電極４４と比較電極４５によ
る酸素ガス溶存液状媒体の電位差（Ｅｈ）をこれら電極
４４，４５にケーブル４６，４７を通して接続された酸
化・還元電位計測（Ｅｈ）メータ４８により連続的に計
測する。
【００４３】次いで、前記Ｅｈメータ４８からＥｈ測定
信号（電流値）をケーブル５１を通して中央演算処理装
置５０に出力する。この中央演算処理装置５０の比較回
路において、入力されたＥｈ測定値と予め設定されたＥ
ｈレンジ（プラスのＥｈレンジ）と比較される。前記Ｅ
ｈ測定値が設定されたＥｈレンジより低くなると、前記
中央演算処理装置５０から酸素流量制御器６８にケーブ
ル７０を通して流量制御信号が出力されて、前記酸素流
量制御器６８の開度を上げるようにフィードバック制御
がなされる。これにより、前記酸素供給ノズル１８から
加圧された液状媒体に噴射される酸素ガス量が増大され
る。一方、Ｅｈ測定値が設定されたＥｈレンジより高い
と、前記中央演算処理装置５０から酸素流量制御器６８
にケーブル７０を通して流量制御信号が出力されて、酸
素流量制御器６８の開度を下げるようにフィードバック
制御がなされる。これにより、前記酸素供給ノズル１８
から加圧された液状媒体に噴射される酸素ガス量が減少
大される。
信号（電流値）をケーブル５１を通して中央演算処理装
置５０に出力する。この中央演算処理装置５０の比較回
路において、入力されたＥｈ測定値と予め設定されたＥ
ｈレンジ（プラスのＥｈレンジ）と比較される。前記Ｅ
ｈ測定値が設定されたＥｈレンジより低くなると、前記
中央演算処理装置５０から酸素流量制御器６８にケーブ
ル７０を通して流量制御信号が出力されて、前記酸素流
量制御器６８の開度を上げるようにフィードバック制御
がなされる。これにより、前記酸素供給ノズル１８から
加圧された液状媒体に噴射される酸素ガス量が増大され
る。一方、Ｅｈ測定値が設定されたＥｈレンジより高い
と、前記中央演算処理装置５０から酸素流量制御器６８
にケーブル７０を通して流量制御信号が出力されて、酸
素流量制御器６８の開度を下げるようにフィードバック
制御がなされる。これにより、前記酸素供給ノズル１８
から加圧された液状媒体に噴射される酸素ガス量が減少
大される。
【００４４】このような方法により目的とする酸化・還
元電位のレンジを有する酸素ガス溶存液状媒体（酸化性
の液状媒体）を排気管３３を通して回収、生産される。
元電位のレンジを有する酸素ガス溶存液状媒体（酸化性
の液状媒体）を排気管３３を通して回収、生産される。
【００４５】前記耐圧容器に送り込まれる液状媒体とし
ては、例えば廃水処理用水、医薬用水、海、湖沼の清浄
化用の海水、淡水、純水、超純水等を挙げることができ
る。
ては、例えば廃水処理用水、医薬用水、海、湖沼の清浄
化用の海水、淡水、純水、超純水等を挙げることができ
る。
【００４６】前記耐圧容器での前記液状媒体に加える圧
力は、その液状媒体の種類により適宜選定すればよい。
ただし、前記液状媒体は大気圧の容器内に送り込んで、
酸素ガスをこの液状媒体に噴射し、酸素ガスを溶存させ
てもよい。
力は、その液状媒体の種類により適宜選定すればよい。
ただし、前記液状媒体は大気圧の容器内に送り込んで、
酸素ガスをこの液状媒体に噴射し、酸素ガスを溶存させ
てもよい。
【００４７】以上説明したように本発明に係るガス溶存
液状媒体の生産方法および生産システムよれば、目的と
する酸化・還元電位のレンジに高精度で制御されたガス
溶存液状媒体（還元性または酸化性の液状媒体）を連続
的かつ大量に得ることができる。
液状媒体の生産方法および生産システムよれば、目的と
する酸化・還元電位のレンジに高精度で制御されたガス
溶存液状媒体（還元性または酸化性の液状媒体）を連続
的かつ大量に得ることができる。
【００４８】得られた還元性の液状媒体の酸化・還元電
位（Ｅｈ）は、水素ガス供給手段として水素ボンベを用
いた場合、−３００ｍＶまでの還元条件にすることが可
能である。ただし、水素ガス供給手段として発生期の水
素を生成する水の電解槽を用いた場合、還元性の液状媒
体のＥｈを−６００ｍＶまでの還元条件にすることが可
能である。
位（Ｅｈ）は、水素ガス供給手段として水素ボンベを用
いた場合、−３００ｍＶまでの還元条件にすることが可
能である。ただし、水素ガス供給手段として発生期の水
素を生成する水の電解槽を用いた場合、還元性の液状媒
体のＥｈを−６００ｍＶまでの還元条件にすることが可
能である。
【００４９】また、得られた酸化性の液状媒体の酸化・
還元電位（Ｅｈ）は、酸素ガス供給手段として酸素ボン
ベを用いた場合、１２０ｍＶまでの酸化条件にすること
が可能である。ただし、酸素ガス供給手段として発生期
の酸素を生成する水の電解槽を用いた場合、酸化性の液
状媒体のＥｈを２４０ｍＶまでの酸化条件にすることが
可能である。
還元電位（Ｅｈ）は、酸素ガス供給手段として酸素ボン
ベを用いた場合、１２０ｍＶまでの酸化条件にすること
が可能である。ただし、酸素ガス供給手段として発生期
の酸素を生成する水の電解槽を用いた場合、酸化性の液
状媒体のＥｈを２４０ｍＶまでの酸化条件にすることが
可能である。
【００５０】得られたガス溶存液状媒体（還元性または
酸化性の液状媒体）は、例えば以下に説明する種々の効
果を奏する。
酸化性の液状媒体）は、例えば以下に説明する種々の効
果を奏する。
【００５１】（１）水素ガス溶存液状媒体；還元性の液
状媒体 ａ．還元性水を用いて加工食品を製造することによっ
て、その高品質化に止まらず、長期保存時の食品の腐敗
を防止できる。
状媒体 ａ．還元性水を用いて加工食品を製造することによっ
て、その高品質化に止まらず、長期保存時の食品の腐敗
を防止できる。
【００５２】ｂ．ビール、酒、茶、果汁などの飲料物を
前述した方法により処理することによって生産した還元
性飲料物は、アスコルビン酸塩のような抗酸化剤の添加
せずに、変質を防止できるため、味覚等を向上できる。
前述した方法により処理することによって生産した還元
性飲料物は、アスコルビン酸塩のような抗酸化剤の添加
せずに、変質を防止できるため、味覚等を向上できる。
【００５３】ｃ．還元性水を鉄の鋳造、鍛造等の各種工
程後における洗浄に適用することによって、その鋳造
品、鍛造品等の鉄鋼製品の酸化を抑制することが可能に
なる。
程後における洗浄に適用することによって、その鋳造
品、鍛造品等の鉄鋼製品の酸化を抑制することが可能に
なる。
【００５４】ｄ．還元性水を用いて生コンクリートを調
製することによって、この生コンクリートを鉄筋に打設
後においてその鉄筋が酸化、腐食するのを防止できる （２）酸素ガス溶存液状媒体；酸化性の液状媒体 ａ．酸化性水を食品の殺菌に適用できる。
製することによって、この生コンクリートを鉄筋に打設
後においてその鉄筋が酸化、腐食するのを防止できる （２）酸素ガス溶存液状媒体；酸化性の液状媒体 ａ．酸化性水を食品の殺菌に適用できる。
【００５５】ｂ．海の海水、湖沼の淡水を液状媒体とし
て本発明の生産システムで処理し、この酸化性海水（ま
たは酸化性淡水）を富養化した海水（または湖沼）に大
量に供給することによって、魚介類の生育環境を改善で
きる。
て本発明の生産システムで処理し、この酸化性海水（ま
たは酸化性淡水）を富養化した海水（または湖沼）に大
量に供給することによって、魚介類の生育環境を改善で
きる。
【００５６】また、耐圧容器１２の排出管３３に圧力調
整弁３６を設け、前記耐圧容器１２に送出した液状媒体
を加圧することによって、水素ガスまたは酸素ガスの前
記液状媒体への溶存速度の向上、溶存量の増大を図るこ
とができる。
整弁３６を設け、前記耐圧容器１２に送出した液状媒体
を加圧することによって、水素ガスまたは酸素ガスの前
記液状媒体への溶存速度の向上、溶存量の増大を図るこ
とができる。
【００５７】さらに、前記溶解装置１０を図３に示すよ
うに各パーツに分解可能な構造にすれば、各パーツの洗
浄を容易に行うことができる。
うに各パーツに分解可能な構造にすれば、各パーツの洗
浄を容易に行うことができる。
【００５８】なお、前述したガス溶存液状媒体の生産シ
ステムは水素ガスの供給系統と酸素ガスの供給系統の両
者を備えた構成にしたが、いずれか一方の供給系統を備
える構成にしてもよい。
ステムは水素ガスの供給系統と酸素ガスの供給系統の両
者を備えた構成にしたが、いずれか一方の供給系統を備
える構成にしてもよい。
【００５９】
【実施例】以下、本発明の好ましい実施例を説明する。
【００６０】（実施例１）前述した図１〜図３に示すガ
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件で取り
出した地下水への水素溶存を実施した。
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件で取り
出した地下水への水素溶存を実施した。
【００６１】＜操作条件＞
・圧力容器１２の容積；２０００ｃｍ3、
・圧力容器１２への地下水の流量；１Ｌ／分、
・圧力容器１２内の圧力；０．５ｋｇ／ｃｍ2、
・圧力容器１２内の水への噴射水素ガス量；５０ｍＬ／
分（定常時）、 ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；−２００〜−３００ｍＶ。
分（定常時）、 ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；−２００〜−３００ｍＶ。
【００６２】排出管から排出、回収された水素ガス溶存
水（還元水）について１０分毎に合計３回のＥｈおよび
ｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨのレンジを下記表
１に示す。
水（還元水）について１０分毎に合計３回のＥｈおよび
ｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨのレンジを下記表
１に示す。
【００６３】
【表１】
【００６４】前記表１から明らかなように実施例１によ
り得られた還元水は、Ｅｈが水素ガス無通気の地下水
（比較例１）に比べて大きく低下し、かつｐＨが比較例
１の水素ガス無通気の地下水に比べて殆ど変化していな
いことがわかる。
り得られた還元水は、Ｅｈが水素ガス無通気の地下水
（比較例１）に比べて大きく低下し、かつｐＨが比較例
１の水素ガス無通気の地下水に比べて殆ど変化していな
いことがわかる。
【００６５】（実施例２）前述した図１〜図３に示すガ
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件でトマ
ト果実をミキサで処理した生ジュースへの水素溶存を実
施した。
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件でトマ
ト果実をミキサで処理した生ジュースへの水素溶存を実
施した。
【００６６】＜操作条件＞
・圧力容器１２の容積；２０００ｃｍ3、
・圧力容器１２への生ジュースの流量；０．５Ｌ／分、
・圧力容器１２内の圧力；０．５ｋｇ／ｃｍ2、
・圧力容器１２内の生ジュースへの噴射水素ガス量；６
０ｍＬ／分（定常時）、 ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；−１０〜−１００ｍＶ。
０ｍＬ／分（定常時）、 ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；−１０〜−１００ｍＶ。
【００６７】排出管から排出、回収された水素ガス生ジ
ュース（還元性生ジュース）について２０分毎に合計３
回のＥｈおよびｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨの
レンジを下記表２に示す。
ュース（還元性生ジュース）について２０分毎に合計３
回のＥｈおよびｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨの
レンジを下記表２に示す。
【００６８】
【表２】
【００６９】前記表２から明らかなように実施例２によ
り得られた還元性生ジュースは、Ｅｈが水素ガス無通気
の生ジュース（比較例２）に比べて大きく低下し、かつ
ｐＨが比較例２の水素ガス無通気の生ジュースに比べて
殆ど変化していないことがわかる。
り得られた還元性生ジュースは、Ｅｈが水素ガス無通気
の生ジュース（比較例２）に比べて大きく低下し、かつ
ｐＨが比較例２の水素ガス無通気の生ジュースに比べて
殆ど変化していないことがわかる。
【００７０】（実施例３）前述した図１〜図３に示すガ
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件でみか
ん果実をミキサで処理し、加熱した生ジュース（温度８
０℃）への水素溶存を実施した。
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件でみか
ん果実をミキサで処理し、加熱した生ジュース（温度８
０℃）への水素溶存を実施した。
【００７１】＜操作条件＞
・圧力容器１２の容積；２０００ｃｍ3、
・圧力容器１２への加熱生ジュースの流量；０．５Ｌ／
分、 ・圧力容器１２内の圧力；０．５ｋｇ／ｃｍ2、 ・圧力容器１２の加熱生ジュースへの噴射水素ガス量；
６０ｍＬ／分（定常時）、 ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；−１０〜−１００ｍＶ。
分、 ・圧力容器１２内の圧力；０．５ｋｇ／ｃｍ2、 ・圧力容器１２の加熱生ジュースへの噴射水素ガス量；
６０ｍＬ／分（定常時）、 ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；−１０〜−１００ｍＶ。
【００７２】排出管から排出、回収された水素ガス生ジ
ュース（還元性生ジュース）について３０分毎に合計３
回のＥｈおよびｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨの
レンジを下記表３に示す。
ュース（還元性生ジュース）について３０分毎に合計３
回のＥｈおよびｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨの
レンジを下記表３に示す。
【００７３】
【表３】
【００７４】前記表３から明らかなように実施例３によ
り得られた還元性生ジュースは、Ｅｈが水素ガス無通気
の生ジュース（比較例３）に比べて大きく低下し、かつ
ｐＨが比較例２の水素ガス無通気の生ジュースに比べて
殆ど変化していないことがわかる。
り得られた還元性生ジュースは、Ｅｈが水素ガス無通気
の生ジュース（比較例３）に比べて大きく低下し、かつ
ｐＨが比較例２の水素ガス無通気の生ジュースに比べて
殆ど変化していないことがわかる。
【００７５】（実施例４）前述した図１〜図３に示すガ
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件で玄海
灘から取り込んだ海水への酸素溶存を実施した。
ス溶存液状媒体の生産システムを用い、下記条件で玄海
灘から取り込んだ海水への酸素溶存を実施した。
【００７６】＜操作条件＞
・圧力容器１２の容積；２０００ｃｍ3、
・圧力容器１２への海水の流量；１Ｌ／分、
・圧力容器１２内の圧力；０．５ｋｇ／ｃｍ2、
・圧力容器１２内の海水への噴射酸素ガス量；５０ｍＬ
／分（定常時） ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；７００〜９００ｍＶ。
／分（定常時） ・中央演算処理装置５０の設定酸化・還元電位（Ｅｈ）
レンジ；７００〜９００ｍＶ。
【００７７】排出管から排出、回収された酸素ガス溶存
海水（酸化性海水）について１０分毎に合計３回のＥｈ
およびｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨのレンジを
下記表４に示す。
海水（酸化性海水）について１０分毎に合計３回のＥｈ
およびｐＨを測定し、それらＥｈおよびｐＨのレンジを
下記表４に示す。
【００７８】
【表４】
【００７９】前記表４から明らかなように実施例４によ
り得られた酸化性海水は、Ｅｈが酸素ガス無通気の海水
（比較例４）に比べて大きく増大し、かつｐＨが比較例
４の水素ガス無通気の海水に比べて殆ど変化していない
ことがわかる。
り得られた酸化性海水は、Ｅｈが酸素ガス無通気の海水
（比較例４）に比べて大きく増大し、かつｐＨが比較例
４の水素ガス無通気の海水に比べて殆ど変化していない
ことがわかる。
【００８０】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、例
えば水のような液状媒体からｐＨのようなその液状媒体
本来の性質を維持したまま、適切な酸化還元電位に高精
度で制御されたガス溶存液状媒体を連続的かつ大量に生
産することができ、可能なガス溶存液状媒体の生産方法
およびガス溶存液状媒体の生産システムを提供できる。
えば水のような液状媒体からｐＨのようなその液状媒体
本来の性質を維持したまま、適切な酸化還元電位に高精
度で制御されたガス溶存液状媒体を連続的かつ大量に生
産することができ、可能なガス溶存液状媒体の生産方法
およびガス溶存液状媒体の生産システムを提供できる。
【００８１】このようなガス溶存液状媒体は、例えば脂
質の保蔵、加工の適正Ｅｈの設定、加工品の保蔵に関す
る適正Ｅｈの設定等、広範な応用範囲を広げると共に人
の健康に関しても、老化防止や健康増進等マイルドな作
用をも創出するものである。
質の保蔵、加工の適正Ｅｈの設定、加工品の保蔵に関す
る適正Ｅｈの設定等、広範な応用範囲を広げると共に人
の健康に関しても、老化防止や健康増進等マイルドな作
用をも創出するものである。
【００８２】また前記ガス溶存液状媒体は、食品・酒・
ビール・飲料・医薬品・化粧品・発酵醸造の製造方法の
改善と高品質化に利用できる。
ビール・飲料・医薬品・化粧品・発酵醸造の製造方法の
改善と高品質化に利用できる。
【００８３】さらに前記ガス溶存液状媒体は、環境浄
化、鉄鋼金属の腐食防止、生体の健康維持増進、美容、
医療、その他寿命延長等ライフサイエンスに利用でき
る。
化、鉄鋼金属の腐食防止、生体の健康維持増進、美容、
医療、その他寿命延長等ライフサイエンスに利用でき
る。
【図１】本発明に係るガス溶存液状媒体の生産システム
を示す概略図。
を示す概略図。
【図２】図１の処理されるべき液状媒体への水素または
酸素の溶解装置を示す概略図。
酸素の溶解装置を示す概略図。
【図３】図２の溶解装置の分解図。
１０…溶解装置、
１１…積載台、
１２…耐圧容器、
１７…水素供給ノズル、
１８…酸素供給ノズル、
１９…耐圧容器本体，
２０…蓋体、
２６ａ、２６ｂ…撹拌羽根，
２９…圧力計、
３０…吸入管、
３３…排出管、
３６…圧力調整弁、
３７…流量計、
４０…ガス溶存液状媒体の酸化・還元電位計測装置、
４１…酸化・還元電位（Ｅｈ）セル、
４４…白金電極、
４５…比較電極、
４８…酸化・還元電位計測（Ｅｈ）メータ、
５０…中央演算制御器、
６０…水素、酸素のガス供給装置、
６１…水素ボンベ、
６３…水素ガス流量制御器、
６６…酸素ボンベ、
６８…酸素ガス流量制御器。
Claims (7)
- 【請求項１】 供給口および排出口を有する密閉容器内
に処理されるべき液状媒体を前記供給口を通して連続的
に供給する工程と、 前記密閉容器内の前記液状媒体に水素ガスを供給すると
ともにその液状媒体を撹拌して前記水素ガスを微細気泡
化し、溶存させる工程と、 前記密閉容器の排出口側で水素ガスが溶存された液状媒
体の酸化還元電位を測定し、この酸化還元電位の測定結
果に基づいて前記水素ガスの供給流量を調節して目的と
する酸化還元電位に制御する工程とを含むことを特徴と
するガス溶存液状媒体の生産方法。 - 【請求項２】 下部に処理されるべき液状媒体が供給さ
れる供給口および水素ガス溶存液状媒体を排出させる排
出口を有する密閉容器と、 前記密閉容器内に供給された前記液状媒体を撹拌するた
めの撹拌手段と、 前記容器底部に挿入された水素供給ノズルと、 前記水素供給ノズルに水素ガスを供給するための水素供
給源と、 前記水素供給ノズルと前記水素供給源との間に介装さ
れ、水素ガスの供給流量を制御するための水素ガス流量
制御手段と、 前記密閉容器の排出口から排出される水素ガス溶存液状
媒体の酸化還元電位を計測するための計測手段と、 前記計測手段からの計測信号が入力され、その計測信号
に基づいて前記水素ガス流量制御手段に流量制御信号を
出力するための中央演算処理装置とを具備したことを特
徴とするガス溶存液状媒体の生産システム。 - 【請求項３】 供給口および排出口を有する密閉容器内
に処理されるべき液状媒体を前記供給口を通して連続的
に供給する工程と、 前記密閉容器内の前記液状媒体に酸素ガスを供給すると
ともにその液状媒体を撹拌して前記酸素ガスを微細気泡
化し、溶存させる工程と、 前記密閉容器の排出口側で酸素ガスが溶存された液状媒
体の酸化還元電位を測定し、この酸化還元電位の測定結
果に基づいて前記酸素ガスの供給流量を調節して目的と
する酸化還元電位に制御する工程とを含むことを特徴と
するガス溶存液状媒体の生産方法。 - 【請求項４】 下部に処理されるべき液状媒体が供給さ
れる供給口および酸素ガス溶存液状媒体を排出させる排
出口を有する密閉容器と、 前記密閉容器内に供給された前記液状媒体を撹拌するた
めの撹拌手段と、 前記容器底部に挿入された酸素供給ノズルと、 前記酸素供給ノズルに酸素ガスを供給するための酸素供
給源と、 前記酸素供給ノズルと前記酸素供給源との間に介装さ
れ、酸素ガスの供給流量を制御するための酸素ガス流量
制御手段と、 前記密閉容器の排出口から排出される酸素ガス溶存液状
媒体の酸化還元電位を計測するための計測手段と、 前記計測手段からの計測信号が入力され、その計測信号
に基づいて前記酸素ガス流量制御手段に流量制御信号を
出力するための中央演算処理装置とを具備したことを特
徴とするガス溶存液状媒体の生産システム。 - 【請求項５】 下部に処理されるべき液状媒体が供給さ
れる供給口およびガス溶存液状媒体を排出させる排出口
を有する密閉容器と、 前記密閉容器内に供給された前記液状媒体を撹拌するた
めの撹拌手段と、 前記容器底部に挿入された水素供給ノズルおよび酸素供
給ノズルと、 前記水素供給ノズルに水素ガスを供給するための水素供
給源と、 前記酸素供給ノズルに酸素ガスを供給するための酸素供
給源と、 前記水素供給ノズルと前記水素供給源との間に介装さ
れ、水素ガスの供給流量を制御するための水素ガス流量
制御手段と、 前記酸素供給ノズルと前記酸素供給源との間に介装さ
れ、酸素ガスの供給流量を制御するための酸素ガス流量
制御手段と、 前記密閉容器の排出口から排出されるガス溶存液状媒体
の酸化還元電位を計測するための計測手段と、 前記計測手段からの計測信号が入力され、その計測信号
に基づいて前記水素ガス流量制御手段または前記酸素ガ
ス流量制御手段に流量制御信号を出力するための中央演
算処理装置とを具備したことを特徴とするガス溶存液状
媒体の生産システム。 - 【請求項６】 前記密閉容器は、個々のパーツに分解可
能であることを特徴とする請求項２、４または５いずれ
か記載のガス溶存液状媒体の生産システム。 - 【請求項７】 前記密閉容器は、密閉耐圧容器であり、
加圧調整手段はこの密閉耐圧容器の排出口側にさらに設
けられていることを特徴とする請求項２、４または５い
ずれか記載のガス溶存液状媒体の生産システム。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001173216 | 2001-05-01 | ||
| JP2001-173216 | 2001-05-01 | ||
| JP2002106819A JP3829170B2 (ja) | 2001-05-01 | 2002-04-09 | ガス溶存液状媒体の生産システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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