JP2003017263A

JP2003017263A - Ｅｌ表示装置、その製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法

Info

Publication number: JP2003017263A
Application number: JP2001204262A
Authority: JP
Inventors: Noboru Sakaeda; 暢栄田; Yoshiaki Tsuruoka; 義秋鶴岡
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd; Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd; Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 2001-07-05
Filing date: 2001-07-05
Publication date: 2003-01-17

Abstract

(57)【要約】【課題】ＥＬ表示装置の視認性を高くし、駆動電圧及
び消費電力を低くする。【解決手段】ＥＬ表示装置を構成するＥＬ用カラーフ
ィルタを製造するにあたり、導電層１０をパターンニン
グして、下部電極又は上部電極にそれぞれ接続される取
出電極層パターン２と、着色層パターン間を埋める遮光
層パターン（ブラックマトリクス）３とを同時に形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、民生用又は産業用
ディスプレイ、例えば、携帯表示端末用ディスプレイ、
カーナビゲーションやインパネ等の車載ディスプレイ、
ＯＡ（オフィス・オートメーション）用パーソナルコン
ピュータ、ＴＶ（テレビ受像器）又は、ＦＡ（ファクト
リー・オートメーション）用表示機器等に用いて好適
な、カラー表示用のＥＬ（エレクトロルミネッセンス、
電界発光）表示装置及びその製造方法、ＥＬ表示装置を
構成するカラーフィルタ及びその製造方法に関し、特
に、カラーフィルタの取出電極及び遮光層パターン（ブ
ラックマトリクス）の構成及び製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の種々
の平面ディスプレイ（平面表示装置）が開発されてい
る。これら平面ディスプレイの中でもＥＬ表示装置は、
自己発光のため視認性が高く、また、完全固体であるた
め衝撃性に優れている。ＥＬ表示装置は、有機化合物又
は無機化合物等を含む発光層を挟んで設けられた二つの
電極間に電圧を印加して電流を流すことにより、発光層
を発光させる。

【０００３】ＥＬ表示装置を用いてカラー表示を行うた
めには、通常、色変換用のカラーフィルタが用いられ
る。カラー表示用のＥＬ表示装置においては、ＥＬ表示
素子が発光する画素の位置に合わせて、カラーフィルタ
の着色層パターンが平面的に分離して配置されている。
カラーフィルタは、ＥＬ表示素子の発光を受光して所望
の色の光に変換することができるので、単一種類の単色
の発光層を用いて容易にカラー表示を実現することがで
きる。

【０００４】色変換用のカラーフィルタは、蛍光色素を
含まないタイプと含むタイプとに分けられる。蛍光色素
を含まないタイプのカラーフィルタは、発光層から入射
したＥＬ光のうち、特定の波長領域の光のみを選択的に
透過する。これにより、例えば白色のＥＬ光から三原色
を構成する赤色、緑色又は青色の光を取り出すことがで
きる。

【０００５】また、蛍光色素を含むタイプのカラーフィ
ルタは、発光層から入射したＥＬ光を蛍光色素に吸収さ
せ、蛍光を発光させる。これにより、例えば青色のＥＬ
光を緑色又は赤色の蛍光に変換することができる。この
ようなカラーフィルタを設けたＥＬ表示装置の一例が、
特開平５−２５８８６０号公報、及び、特開平１１−０
２６１５６号公報に記載されている。

【０００６】ところで、発光層とカラーフィルタの着色
層パターンとは、互いに異なる層に形成されている。こ
のため、発光層が発したＥＬ光が着色層パターンどうし
の隙間から漏れ出す場合がある。その場合、表示色が混
色したり、視野角依存性が生じたりして視認性が低下し
てしまうことがある。

【０００７】そこで、カラーフィルタにおいては、着色
層パターン間に遮光層パターンを設け、着色層パターン
間の隙間を埋めている。これにより、混色や視野角依存
性の発生を防止し、視認性を向上させることができる。
このような遮光層パターンを設けたカラーフィルタを備
えたＥＬ表示装置の一例が、特開平１０−２４１８６０
号公報に記載されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ＥＬ表示装
置は、電圧を印加して電流にて駆動する表示装置であ
る。このため、例えば電圧駆動の液晶表示装置を駆動さ
せる場合に比べ、ＥＬ表示装置では高い電流を電極や、
その電極と接続して外部に電極を引き出す取出電極に流
す必要がある。このため、ＥＬ表示装置においては、特
に、取出電極の低抵抗化が必要となる。

【０００９】しかしながら、上記の各公開公報には、Ｅ
Ｌ表示装置の上部電極及び下部電極をそのまま延長して
外部に引き出す構成が記載されている。上部電極及び下
部電極自体は、配線の幅が狭い上、電極を構成する材料
自体の抵抗率が高い。特に、発光層の光取出側に設けら
れる電極は、透光性を要求されるため、電極材料の選択
範囲が狭く、抵抗率の低い材料を使うことが困難であ
る。このため、電極をそのまま延長して取出電極とした
場合には、高い電流を流すために駆動電圧を高くしなけ
ればならず、消費電力が高くなってしまうという問題が
あった。

【００１０】本発明は、上記の事情にかんがみてなされ
たものであり、視認性が高く、駆動電圧及び消費電力が
低いＥＬ表示装置、その製造方法、そのＥＬ表示装置を
構成するＥＬ用カラーフィルタ及びその製造方法の提供
を第一の目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この目的の達成を図るた
め、本発明の請求項１に係るＥＬ表示装置（以下、「第
一のＥＬ表示装置」とも表記する。）によれば、カラー
フィルタ上にＥＬ表示素子を積層して設けたＥＬ表示装
置であって、ＥＬ表示素子は、カラーフィルタ側から下
部電極、発光層及び上部電極を順次に積層して構成さ
れ、前記下部及び上部電極間に電圧を印加することによ
り前記発光層が発光し、カラーフィルタは、透光性基板
上に、ＥＬ表示素子の発光を受光する位置に配置された
着色層パターンと、下部電極又は上部電極とそれぞれ接
続された取出電極と、前記着色層パターン間を埋める遮
光層パターンとを備える構成としてある。

【００１２】このように、本発明のＥＬ表示装置によれ
ば、取出電極層パターンにより構成された取出電極を設
けている。取出電極の抵抗率は、上部電極及び下部電極
の抵抗率より容易に低くすることができる。このため、
上部又は下部電極をそのまま延長する場合に比べて、外
部装置からみたＥＬ表示装置の抵抗を小さくすることが
できる。その結果、必要な駆動電流を流すために印加す
る駆動電圧を低下させることができ、消費電力を低く押
さえることができる。

【００１３】また、本発明のＥＬ表示装置は、着色層パ
ターン間を埋める遮光層パターンを設けている。このた
め、着色層パターン間の隙間からＥＬ光が漏れることを
防ぐことができる。その結果、混色や視野角依存性の発
生を防止し、視認性を向上させることができる。したが
って、本発明によれば、視認性が高く、駆動電圧及び消
費電力が低い表示装置を提供することができる。

【００１４】また、請求項２記載の発明によれば、取出
電極が、遮光層パターンと同一の導電性材料を含む取出
電極層パターンにより構成してある。このように、取出
電極パターンと遮光層パターンとに同一の導電性材料を
用いれば、取出電極パターンと遮光層パターンとを同時
に形成することもできる。同時に形成すれば、製造工程
の煩雑化を回避し、製造歩留まりの低下を回避しつつ、
視認性が高く、駆動電圧及び消費電力が低いＥＬ表示装
置が得られる。

【００１５】また、請求項３記載の発明によれば、遮光
層パターンが、導電性を有し、下部電極と接続した構成
としてある。

【００１６】このように、導電性を有する遮光層パター
ンをそれぞれ下部電極を接続すれば、遮光層パターンを
下部電極の給電線として利用することができる。これに
より、下部電極の抵抗を低減することができる。その結
果、必要な駆動電流を流すために印加する駆動電圧をよ
り一層低下させることができる。このため、ＥＬ表示素
子の消費電力をより一層低減することができる。

【００１７】その上、遮光層パターンを給電線として用
いれば、下部電極の電圧降下を抑制することができる。
これにより、表示領域の周辺部と中央部との発光輝度の
差を低減することができる。このため、発光輝度の均一
化を図ることができる。

【００１８】また、請求項４記載の発明によれば、遮光
層パターンが、下部電極を接続した取出電極と連続した
構成としてある。このように、遮光層パターンを取出電
極の延長部分とすれば、下部電極の電圧降下をより一層
抑制することができ、より均一な発光輝度を実現するこ
とができる。

【００１９】また、請求項５記載の発明によれば、取出
電極のシート抵抗値が、０．００１〜１０Ω／□の範囲
内である構成としてある。このように、取出電極のシー
ト抵抗値を０．００１〜１０Ω／□（「Ω／ｓｑ．」と
も表記する。）の範囲内とすれば、ＥＬ表示装置の駆動
電圧を低下させ、消費電力を低く押さえることができる
ので好適である。

【００２０】なお、シート抵抗値が１０Ω／□よりも高
くなると、外部回路からＥＬ表示素子の電流注入に至る
までの電圧降下が大きくなる。このため、駆動電圧が高
くなり、消費電力が増大してしまう。一方、シート抵抗
値を０．００１Ω／□よりも低くするためには、取出電
極を厚膜化せざるを得ず、取出電極のアスペクト比（膜
厚／ライン幅）が高くなってしまう。特に、１００μｍ
ライン以下の高精細な取出電極の場合に特にアスペクト
比が高くなる。アスペクト比が高くなると、基板と取出
電極との密着性が低下し、取出電極の剥離等による欠陥
が生じ易くなる。

【００２１】また、シート抵抗値は、より好ましくは、
０．００５〜７Ω／□、さらに好ましくは、０．０１〜
１Ω／□の範囲内であるとよい。

【００２２】また、請求項６記載の発明によれば、取出
電極が、１×１０^-4Ω・ｃｍ以下の抵抗率を有する導電
性材料を含む構成としてある。このような低抵抗の導電
性材料を合金等の形で混合しておけば、取出電極のより
一層の低抵抗化を図ることができる。なお、導電性材料
の抵抗率は、より好ましくは５×１０^-5Ω・ｃｍ以下、
さらに好ましくは１×１０^-5Ω・ｃｍ以下であるとよ
い。

【００２３】また、請求項７記載の発明によれば、取出
電極が、前記取出電極層パターン上に、１×１０^-4Ω・
ｃｍ以下の抵抗率の導電性材料からなる低抵抗層を積層
した構成としてある。このように、取出電極層パターン
低抵抗層を積層すれば、取出電極のより一層の低抵抗化
を図ることができる。

【００２４】また、請求項８記載の発明によれば、取出
電極の表面のうち、少なくとも下部電極又は上部電極と
の接続部分におけるイオン化ポテンシャルが、６．０ｅ
Ｖ以上である構成としてある。

【００２５】このように、接続部分のイオン化ポテンシ
ャルを６．０ｅＶ以上とすれば、接続部分表面の酸化を
抑制することができるとともに、着色層パターン等のパ
ターニングの際に使用する薬液による劣化を抑制するこ
とができる。その結果、取出電極と下部又は上部電極と
の接続抵抗の増大を抑制することができる。このため、
駆動電圧及び消費電力の増大を抑制することができる。
また、ＥＬ表示装置の長期保存の際にも安定した駆動特
性を得ることができる。

【００２６】また、請求項９記載の発明によれば、遮光
層パターンの透光性基板側表面の可視光反射率が１０％
以下である構成としてある。このように可視光反射率を
１０％以下とすれば、外光の反射を抑制できるので、コ
ントラストの向上を図ることができる。

【００２７】また、請求項１０記載の発明によれば、着
色層パターン及び遮光層パターンと、下部電極との間
に、上部表面が平坦で、透光性を有する平坦化層が設け
てあり、平坦化層が、前記取出電極のうち前記遮光層パ
ターン寄りの端部を覆うように設けた構成としてある。

【００２８】このように、平坦化層を設ければ、平坦化
層上に下部電極及び上部電極を形成することができる。
このため、着色層パターン上に直に下部及び上部電極を
形成した場合に比べて、下部及び上部電極の段切れの発
生を抑制することができる。さらに、取出電極の端部を
平坦化層で覆っているので、取出電極の端部による段差
による下部及び上部電極の段切れの発生を抑制すること
ができる。

【００２９】また、請求項１１記載の発明によれば、着
色層パターンが蛍光色素を含む構成としてある。このよ
うに、着色層パターンが蛍光色素を含めば、発光部が発
したＥＬ光を励起光として吸収し、より長波長の蛍光を
発生させることができる。これにより、ＥＬ光を効率よ
く色変換し、発光効率を向上させることができる。

【００３０】ところで、蛍光色素は、ＥＬ光だけでな
く、外光の励起光波長成分によっても励起して蛍光を発
してしまう。非発光時に外光によって蛍光色素が発光し
てしまうと、表示コントラストが低下してしまう。

【００３１】そこで、請求項１２記載の発明によれば、
着色層パターンと透光性基板との間に、蛍光色素の励起
波長の光を遮蔽し、かつ、この蛍光色素の蛍光波長の光
を透過する外光遮光層を設けた構成としてある。このよ
うに、外光遮光層を設ければ、外光によって蛍光色素が
励起することを抑制し、コントラストの低下を抑制する
ことができる。

【００３２】ところで、電極を外部に取り出すにあた
り、電極を延長せず、別に低抵抗の取出電極を形成する
ことが考えられる。低抵抗の取出電極で電極を外部に引
き出せば、駆動電圧を低減し、消費電力を低くすること
が可能である。しかし、取出電極を別途形成すると、そ
の分だけＥＬ表示装置の製造工程が煩雑となり、製造歩
留まりが低下するおそれがある。その結果、製造コスト
が高くなってしまうという新たな問題が発生することに
なる。

【００３３】そこで、本発明の請求項１３に係るＥＬ表
示装置の製造方法によれば、透光性基板上に、着色層パ
ターンが配置され、着色層パターン上に、下部電極、発
光層及び上部電極を順次に積層してなるＥＬ表示装置を
製造するにあたり、透光性基板上に導電層を形成する工
程と、導電層をパターンニングして、下部電極又は上部
電極にそれぞれ接続される取出電極層パターンと、着色
層パターン間を埋める遮光層パターンとを同時に形成す
る工程とを含む方法としてある。

【００３４】このように、本発明のＥＬ表示装置の製造
方法によれば、遮光層パターン（例えばブラックマトリ
クス）と取出電極層パターンとを同時に形成する。これ
により、製造工程を煩雑化することなく、遮光層パター
ン及び取出電極層パターンを形成することができる。こ
のため、着色層パターンと取出電極層パターンとを別々
に形成する場合に比べて、製造工程を簡略化することが
できる。その結果、欠陥の発生が低減し、製造歩留まり
の低下を抑制して、製造コストの上昇を防ぐことができ
る。

【００３５】なお、ここで同時に形成とは、製造工程中
の同一の工程で同一の処理により形成することをいう。
また、このように同時に形成された取出電極層パターン
と遮光層パターンとは、互いに、同一材料で形成され
る。

【００３６】さらに、取出電極層パターンにより構成さ
れた取出電極を形成したことにより、必要な駆動電流を
流すために印加する駆動電圧を低下させることができ、
消費電力を低く押さえることができる。また、着色層パ
ターン間を埋める遮光層パターンを形成したことによ
り、混色や視野角依存性の発生を防止し、視認性を向上
させることができる。したがって、本発明によれば、視
認性が高く、駆動電圧及び消費電力が低いＥＬ表示装置
を、歩留まり良く製造することができる。

【００３７】また、本発明の請求項１４に係るＥＬ用カ
ラーフィルタによれば、下部電極、発光層及び上部電極
を順次に積層して構成され、下部及び上部電極間に電圧
を印加することにより発光層が発光するＥＬ表示装置を
構成するカラーフィルタであって、透光性基板上に、前
記ＥＬ表示素子の発光を受光する位置に配置された着色
層パターンと、下部電極又は上部電極とそれぞれ接続さ
れる取出電極と、着色層パターン間を埋める遮光層パタ
ーンとを備え、取出電極が、遮光層パターンと同一材料
の取出電極層パターンにより構成してある。

【００３８】このように、本発明のＥＬ用カラーフィル
タによれば、取出電極層パターンにより構成された取出
電極を形成することにより、ＥＬ表示装置において必要
な駆動電流を流すために印加する駆動電圧を低下させる
ことができ、消費電力を低く押さえることができる。ま
た、着色層パターン間を埋める遮光層パターンを形成す
ることにより、ＥＬ表示装置において混色や視野角依存
性の発生を防止し、視認性を向上させることができる。
したがって、本発明によれば、視認性が高く、駆動電圧
及び消費電力が低いＥＬ表示装置を構成するＥＬ用カラ
ーフィルタを提供することができる。

【００３９】また、請求項１５記載の発明によれば、取
出電極が、遮光層パターンと同一の導電性材料を含む取
出電極層パターンにより構成してある。

【００４０】このように、取出電極パターンと遮光層パ
ターンとに同一の導電性材料を用いれば、取出電極パタ
ーンと遮光層パターンとを同時に形成することもでき
る。同時に形成すれば、製造工程の煩雑化を回避し、製
造歩留まりの低下を回避することができる。したがっ
て、本発明によれば、視認性が高く、駆動電圧及び消費
電力が低く、かつ、製造歩留まりの高いＥＬ表示装置を
構成するＥＬ用カラーフィルタを提供することができ
る。

【００４１】また、本発明の請求項１６に係るＥＬ用カ
ラーフィルタの製造方法によれば、下部電極、発光層及
び上部電極が順次に積層され、下部及び上部電極間に電
圧を印加することにより発光層が発光するＥＬ表示装置
を構成するＥＬ用カラーフィルタを製造するにあたり、
透光性基板上に導電層を形成する工程と、導電層をパタ
ーンニングして、下部電極又は上部電極にそれぞれ接続
される取出電極層パターンと、着色層パターン間を埋め
る遮光層パターンとを同時に形成する工程とを含む方法
としてある。

【００４２】このように、本発明のＥＬ用カラーフィル
タの製造方法によれば、遮光層パターン（ブラックマト
リクス）と取出電極層パターンとを同時に形成する。こ
れにより、製造工程を煩雑化することなく、遮光層パタ
ーン及び取出電極層パターンを形成することができる。
このため、着色層パターンと取出電極層パターンとを別
々に形成する場合に比べて、製造工程を簡略化すること
ができる。その結果、欠陥の発生を低減し、製造歩留ま
りの低下を抑制して、製造コストの上昇を防ぐことがで
きる。

【００４３】さらに、取出電極層パターンにより構成さ
れた取出電極を形成することにより、必要な駆動電流を
流すために印加する駆動電圧を低下させることができ、
消費電力を低く押さえることができる。また、着色層パ
ターン間を埋める遮光層パターンを形成することによ
り、混色や視野角依存性の発生を防止し、視認性を向上
させることができる。したがって、本発明によれば、視
認性が高く、駆動電圧及び消費電力が低いＥＬ表示装置
を構成するカラーフィルタを、歩留まり良く製造するこ
とができる。

【００４４】また、本発明の請求項１７に係るＥＬ表示
装置（以下、「第二のＥＬ表示装置」とも表記する。）
によれば、カラーフィルタ上にＥＬ表示素子を積層して
設けてあり、ＥＬ表示素子は、フィルタ側から下部電
極、発光層及び上部電極が順次に積層して構成され、下
部及び上部電極間に電圧を印加することにより発光層が
発光し、カラーフィルタは、透光性基板上のＥＬ表示素
子の発光を受光する位置に配置された着色層パターンを
備えたＥＬ表示装置であって、着色層パターン間、又
は、着色層パターン間の上方に、導電性の遮光層パター
ンが設けてあり、遮光層パターンの各々が、下部電極の
各々と個別に接続した構成としてある。

【００４５】このように、下部電極と遮光層パターンと
を接続してあるので、遮光層パターンを下部電極の給電
線として利用することができる。その結果、下部電極の
電圧降下が小さくなるので、表示領域のうち取出電極近
傍での発光輝度と、中央部での発光輝度との輝度差を低
減することができる。このため、表示領域全体にわたっ
て発光輝度の均一性を向上させることができる。

【００４６】その上、遮光層パターンを給電線としたの
で、必要な駆動電流を流すために印加する駆動電圧をよ
り一層低下させることができる。このため、ＥＬ表示素
子の消費電力をより一層低減することができる。

【００４７】また、請求項１８記載の発明によれば、下
部電極又は上部電極とそれぞれ接続された取出電極を備
え、遮光層パターンが、下部電極と接続された取出電極
と連続した構成としてある。このように、遮光層パター
ンを取出電極の延長部分とすれば、下部電極の電圧降下
をより一層抑制することができ、より均一な発光輝度を
実現することができる。

【００４８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照し、本発明のＥ
Ｌ表示装置、その製造方法、カラーフィルタ及びその製
造方法の実施の形態について併せて説明する。

【００４９】［第一実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）まず、図１及び図２を参照して、第一実施形態のＥＬ表
示装置の製造方法及びカラーフィルタの製造方法につい
て説明する。図１の（Ａ）〜（Ｄ）及び図２の（Ａ）〜
（Ｃ）は、第一実施形態のＥＬ表示装置の製造方法を説
明するための断面工程図である。また、図１の（Ａ）〜
（Ｄ）は、第一実施形態のＥＬ表示装置を構成するカラ
ーフィルタの製造方法を説明するための断面工程図でも
ある。

【００５０】なお、以下の各図面においては、下部電極
パターンのギャップを埋め、下部電極と上部電極との短
絡を防ぐ層間絶縁膜の図示を省略している。また、各平
面図においては、断面部分ではないが、取出電極及び遮
光層パターンにハッチングを付している。

【００５１】まず、図１の（Ａ）に示すように、透光性
基板（以下、「支持基板」とも称する。）１上の全面
に、導電層１０を形成する。透光性基板１としては、４
００〜７００ｎｍの可視領域における光の透過率が５０
％以上で、平滑な基板が望ましい。このような基板とし
て、ガラス板やポリマー板等が挙げられる。

【００５２】また、導電層１０は、次のパターニング工
程により、取出電極と遮光層パターンとに画成されるも
のである。このため、導電層１０は、取出電極として低
抵抗であることと、遮光層パターンとして遮光性を有す
ることを兼ね備える材料である必要がある。

【００５３】取出電極としては、導電層１０のシート抵
抗値が、０．００１〜１０Ω／□の範囲内であることが
望ましい。例えば、有機ＥＬ表示装置をパッシブマトリ
クス駆動させる際に、１０ｃｄ／ＡのＥＬ表示素子で、
走査電極ライン数が６０本であり、発光面積が０．０９
２ｃｍ²（３００×３００μｍの画素面積、画素数１６
０個／走査電極ライン、開口率６４％）とすると、走査
電極一本あたりの電流値は２４ｍＡとなる。一方、走査
電極に接続された取出電極一本の幅が２８０μｍ、長さ
２０ｍｍとすると、シート抵抗が１０Ω／□を越える場
合、取出電極一本あたりの抵抗値は１０×２／０．０２
８＝７１４Ωを超えることになり、０．０２４×７１４
＝１７．１Ｖを越える電圧降下が発生し、消費電力が高
くなることが分かる。

【００５４】さらに、取出電極としては、導電層１０
が、１×１０^-4Ω・ｃｍ以下の導電性材料を含むこと望
ましい。このような低抵抗の導電性材料を合金等の形で
混合しておけば、取出電極のより一層の低抵抗化を図る
ことができる。なお、導電性材料の導電率は、より好ま
しくは５×１０^-5Ω・ｃｍ以下、さらに好ましくは１×
１０^-5Ω・ｃｍ以下であるとよい。

【００５５】また、遮光層パターンとしては、導電層１
０の透過率は、波長４００〜７００ｎｍの可視領域にお
いて１０％以下であることが好ましく、１％以下がさら
に好ましい。１０％を越えると、発光層からのＥＬ光が
漏れて視認性を悪化させるおそれがある。

【００５６】そして、導電層１０の材料としては、以下
の金属や以下の金属を用いた合金が挙げられる。金属と
しては、例えば、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、
金（Ａｇ）、ベリリウム（Ｂｅ）、カルシウム（Ｃ
ａ）、カドミウム（Ｃｄ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム
（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、ハフニウム（Ｈｆ）、インジウム（Ｉｎ）、イリ
ジウム（Ｉｒ）、カリウム（Ｋ）、ランタン（Ｌａ）、
リチウム（Ｌｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、モリブデン
（Ｍｏ）、ナトリウム（Ｎａ）、ニオブ（Ｎｂ）、ニッ
ケル（Ｎｉ）、オスニウム（Ｏｓ）、鉛（Ｐｂ）、パラ
ジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、ルビジウム（Ｒｂ）、
レニウム（Ｒｅ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒ
ｕ）、アンチモン（Ｓｂ）、シリコン（Ｓｉ）、錫（Ｓ
ｎ）、ストロンチウム（Ｓｔ）、タンタル（Ｔａ）、ト
リウム（Ｔｈ）、チタン（Ｔｉ）、タリウム（Ｔｌ）、
ウラニウム（Ｕ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン
（Ｗ）、イットリウム（Ｙ）、イッテルビウム（Ｙ
ｂ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、ジルコニウム（Ｚｒ）が挙
げられる。

【００５７】また、合金としては、銀−パラジウム−銅
（ＡＰＣ）、銀−ルテニウム−銅（ＡＲＣ）、アルメ
ル、黄銅（真鍮）、コンスタンタン、ジュラルミン、青
銅、炭素鋼、ニッケリン、白金ロジウム、ハイパーコ、
ハイパーニック、パーマロイ、パーメンダー、プラチノ
イド、マンガニン、モネル、洋銀、及び、リン青銅が挙
げられる。

【００５８】また、導電層１０は、金属膜の状態で形成
することが作成の簡易性の面から好ましい。この場合、
金属膜は、二種類以上の多層膜とすることが、膜の安定
性を高める上でさらに好ましい場合がある。この多層膜
としては、上記金属又はそれらの合金を用いて形成する
ことができる。例えば、三層の場合、Ｔａ層、Ｃｕ層、
Ｔａ層の組合せや、Ｔａ層、Ａｌ層、Ｔａ層の組合せが
挙げられる。また、二層の場合、Ａｌ層とＴａ層との組
合せ、Ｃｒ層とＡｕ層との組合せ、Ｃｒ層とＡｌ層との
組合せ、Ｎｉ層とＡｕ層との組合せ、Ａｌ層とＭｏ層と
の組合せを挙げることができる。

【００５９】ここで、膜の安定性とは、低抵抗率を維持
しうるとともに、エッチングの際、その処理に用いる薬
液等により腐食されにくい性質をいう。例えば、Ａｌや
Ａｇ単体では抵抗率は低いものの腐食されやすいが、そ
の上部及び下部の少なくとも一方に耐食性に優れた金
属、例えばＴａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｕ等の膜を積層するこ
とにより、膜の安定性を高めることができる。

【００６０】また、導電層１０の厚さとしては特に制限
はないが、十分な低抵抗性とともに十分な遮光性を得る
ため、例えば、１０ｎｍ〜数１０μｍが好ましく、特に
好ましくは、５０ｎｍ〜５μｍがよい。１０ｎｍ未満で
あると、抵抗値が大きくなり取出電極として好ましくな
くなる。また、数１０μｍを越えると高精細化が困難と
なるだけでなく、導電層１０と支持基板１との密着性が
悪くなり、導電層１０の剥離等により、ＥＬ表示装置の
欠陥が生じるおそれがある。

【００６１】次に、図１の（Ｂ）に示すように、導電層
１０をパターンニングして、下部電極又は上部電極にそ
れぞれ接続される取出電極層パターン２と、着色層パタ
ーン間を埋める遮光層パターン（ブラックマトリクス）
３とを同時に形成する。これにより、製造工程を煩雑化
することなく、遮光層パターン３及び取出電極層パター
ン２を形成することができる。このため、遮光層パター
ン３と取出電極層パターン２とを別々に形成する場合に
比べて、製造工程を簡略化することができる。その結
果、製造歩留まりの低下を抑制して、製造コストの上昇
を防ぐことができる。なお、本実施形態では、取出電極
層パターン２がそのまま取出電極２となる。

【００６２】ここで、図３に、取出電極層パターン２及
び遮光層パターン３の平面パターンを示す。図１の
（Ｂ）は、図３のＡ−Ａにおける要部断面図に相当す
る。図３に示すように、ブラックマトリクス３は、表示
領域となる長方形の領域に画成されている。ブラックマ
トリクス３は、マトリクス状に配置される各着色層パタ
ーンの形成予定位置に合わせて開口部を設けている。ま
た、取出電極層パターン（取出し電極）２は、表示領域
の周囲に画成されている。取出電極層パターン２は、表
示電極の外側に向けて広がるように配置されている。

【００６３】次に、図１の（Ｃ）に示すように、ブラッ
クマトリクス３の開口部にそれぞれ着色層パターン４を
形成する。これにより、ＥＬ用カラーフィルタが得られ
る。ここで、図４に、ＥＬ用カラーフィルタの平面パタ
ーンを示す。図１の（Ｃ）は、図４のＡ−Ａにおける要
部断面図に相当する。

【００６４】図４に示すように、このＥＬ用カラーフィ
ルタにおいては、支持基板１上に、マトリクス状に配置
された着色層パターン４と、表示領域の周囲に形成され
た取出電極層パターン２と、表示領域に形成された着色
層パターン４間を埋める遮光層パターン３とを備えてい
る。そして、取出電極層パターン２と遮光層パターン３
とは同時に形成されているので、これらパターンどうし
は、同一材料で形成されている。

【００６５】また、着色層パターン４は、三原色の赤
色、緑色及び青色の着色層パターンを順次に繰り返し並
べているが、一色又は二色であったり、三原色の中間色
（例えば、黄色、紫色等）であってもよい。着色層パタ
ーン４としては、蛍光色素を含むタイプを用いてもよい
し、蛍光色素を含まないタイプを用いてもよい。また、
蛍光色素を含むタイプと、蛍光色素を含まないタイプと
を積層して用いてもよい。

【００６６】また、蛍光色素を含むタイプの場合、例え
ば、蛍光色素及び樹脂、又は、蛍光色素のみからなり、
蛍光色素及び樹脂からなる場合は、蛍光色素をバインダ
ー樹脂に溶解又は分散させた固体状態のものを挙げるこ
とができる。また、蛍光色素を含まないタイプの場合、
赤、緑、青の各着色層は、それぞれ、赤、緑、青の波長
領域の光のみを選択的に透過させる材料で形成するとよ
い。

【００６７】次に、図１の（Ｄ）に示すように、表示領
域の着色層パターン４及び遮光層パターン３の上に、上
部表面が平坦で、透光性を有する平坦化層５を形成す
る。ここで、図５に、平坦化層５を形成したＥＬ用カラ
ーフィルタの平面パターンを示す。図１の（Ｄ）は、図
５のＢ−Ｂにおける要部断面図に相当する。図５に示す
ように、平坦化層５は、表示領域となる長方形の領域に
画成されている。

【００６８】このように、平坦化層５を設ければ、平坦
化層５上に下部電極及び上部電極（走査電極、信号電
極）を形成することができる。このため、遮光層パター
ン３又は着色層パターン４上に直に下部及び上部電極を
形成した場合に比べて、下部及び上部電極の段切れ又は
短絡の発生を抑制することができる。

【００６９】また、平坦化層５は、取出電極２のうち遮
光層パターン３寄りの端部２ａを覆うように形成され
る。このように取出電極２の端部２ａを平坦化層５で覆
っているので、取出電極２の端部２ａによる段差による
下部及び上部電極の段切れの発生を抑制することができ
る。

【００７０】次に、図２の（Ａ）に示すように、平坦化
層５上に、蒸着法やスパッタリング法により、ストライ
プ状の下部電極６を形成する。そして、下部電極６は、
表示領域の周囲で、取出電極２と接続される。

【００７１】下部電極６としては、透明で、仕事関数の
大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物、
又は、これらの混合物を電極物質とするものが好まし
い。このような電極物質の具体例としては、Ａｕ等の金
属、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ又はＩｎ₂Ｏ₃−
ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。

【００７２】また、下部電極６のシート抵抗は、数百Ω
／□以下が好ましい。下部電極６の膜厚は、材料にもよ
るが、例えば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは、１０〜
２０００ｎｍの範囲内とするとよい。

【００７３】次に、図２の（Ｂ）に示すように、平坦化
層５及び下部電極６上に、発光層７を形成する。発光層
７には、無機発光材料、有機化合物等の任意好適な材料
を使用することができる。なお、ここでは、発光層７に
有機層を用いるのが好ましい。有機ＥＬでは、発光材料
として分子設計により種々の有機化合物が得られ、さら
に、有機層の成膜は無機物に比べて着色層へのダメージ
が小さい。このため、有機層を用いれば、種々のＥＬ発
光色が得られ、高効率で欠陥の少ないフルカラー液晶表
示やマルチカラー表示の実現が可能である。

【００７４】次に、図２の（Ｃ）に示すように、発光層
７上に、蒸着法やスパッタリング法により、ストライプ
状の上部電極８を形成する。そして、上部電極８は、表
示領域の周囲で、取出電極２と接続される。ここで、図
６に、ＥＬ表示装置の平面パターンを示す。図２の
（Ｃ）は、図６のＣ−Ｃにおける要部断面図に相当す
る。また、図２の（Ｃ）では、ＥＬ発光の取出方向を図
面下向きの矢印で示している。

【００７５】上部電極８としては、仕事関数の小さい
（４ｅＶ以下）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが用いられる。このよ
うな電極物質の具体例としては、例えば、ナトリウム、
ナトリウム・カリウム合金、マグネシウム、リチウム、
マグネシウム・銀合金、アルミニウム、酸化アルミニウ
ム（Ａｌ₂Ｏ₃）、アルミニウム・リチウム合金、インジ
ウム、希土類金属が挙げられる。

【００７６】また、上部電極８のシート抵抗は、数百Ω
／□以下が好ましい。上部電極８の膜厚は、材料にもよ
るが、例えば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは、１０〜
２００ｎｍの範囲内とするとよい。

【００７７】ところで、取出電極２の表面のうち、下部
電極６又は上部電極８との接続部分におけるイオン化ポ
テンシャルは、６．０ｅＶ以上であることが望ましい。
このようにすれば、接続部分表面の酸化を抑制すること
ができるとともに、着色層パターン等のパターニングの
際に使用する薬液による劣化を抑制することができる。
その結果、取出電極と下部又は上部電極との接続抵抗の
増大を抑制することができる。このため、駆動電圧及び
消費電力の増大を抑制することができる。また、ＥＬ表
示装置の長期保存の際にも安定した駆動特性を得ること
ができる。

【００７８】そのような、イオン化ポテンシャルが高い
材料として、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｐ
ｔ等が挙げられる。そして、これら材料の膜を取出電極
パターン２の接続部分の表面に設けるとよい。または、
これら材料で取出電極パターン２を形成してもよい。

【００７９】さらに、水分や酸素によるＥＬ表示装置の
劣化を防止するため、ＥＬ表示素子及び平坦化層５を覆
うように封止を行うとよい。なお、封止剤と支持基板１
との接続は、取出電極２又は支持基板１上で行うとよ
い。

【００８０】このようにして、支持基板１上に、着色層
パターン４がマトリクス状に配置され、各着色層パター
ン４上で、発光層７を挟んで直交するストライプ状の下
部電極６及び上部電極８を設けたＥＬ表示装置が得られ
る。このような構成とすることにより、表示品質（視認
性）に優れ、低消費電力、低製造コストのマルチカラー
又はフルカラーＥＬ表示装置を実現することができる。

【００８１】［第二実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）次に、図７を参照して、本発明の第二実施形態について
説明する。図７は、第二実施形態のＥＬ表示装置を構成
するＥＬ用カラーフィルタの要部断面図である。第二実
施形態においては、取出電極において、取出電極層パタ
ーン２上に、１×１０^-4Ω・ｃｍ以下の導電性材料から
なる低抵抗層２１を積層している。このように、取出電
極層パターン低抵抗層を積層すれば、取出電極のより一
層の低抵抗化を図ることができる。

【００８２】［第三実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）次に、図８を参照して、本発明の第三実施形態について
説明する。図８は、第三実施形態のＥＬ表示装置を構成
するＥＬ用カラーフィルタの要部断面図である。第三実
施形態においては、着色層パターン４と支持基板１との
間に、着色層パターン４に含まれる蛍光色素の励起波長
の光を遮蔽し、かつ、この蛍光色素の蛍光波長の光を透
過する外光遮光層９を設けている。このように、外光遮
光層９を設ければ、外光によって蛍光色素が励起するこ
とを抑制し、コントラストの低下を抑制することができ
る。

【００８３】［第四実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）次に、図９を参照して、本発明の第四実施形態について
説明する。図９は、第四実施形態のＥＬ表示装置を構成
するＥＬ用カラーフィルタの要部断面図である。第四実
施形態においては、遮光層パターン（ブラックマトリク
ス）３ａの支持基板１側に反射防止層３１を設けてい
る。このため、ブラックマトリクス３ａの透光性基板側
表面の可視光反射率を１０％以下とすることができる。
反射防止層３１の材料としては、光吸収性の酸化物又は
窒化物が挙げられる。具体的には、例えば、酸化クロ
ム、酸化ニッケル、酸化バナジウム、酸化コバルト、酸
化ルテニウム、酸化モリブデンや、これら酸化物を酸化
シリコンや酸化アルミニウム等の酸化物で分散させた混
合酸化物を挙げることができる。

【００８４】［第五実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）次に、図１０及び図１１を参照して、本発明の第五実施
形態について説明する。図１０は、第五実施形態のＥＬ
表示装置の要部断面図である。また、図１１は、第五実
施形態のＥＬ表示装置の平面図である。なお、図１０
は、図１１のＤ−Ｄに沿った断面図に相当する。

【００８５】第五実施形態のＥＬ表示装置は、カラーフ
ィルタ上にＥＬ表示素子が積層されている。カラーフィ
ルタは、透光性の支持基板１上に、着色層パターン４
と、取出電極２と、遮光層パターン３０とを設けてい
る。着色層パターン４及び取出電極２の配置は、図１１
に示すように、第一実施形態と同様であるので、その詳
細な説明を省略する。

【００８６】そして、図１１に示すように、下部電極６
に平行な遮光層パターン３０が、着色層パターン４間に
ストライプ状に設けられている。遮光層パターン３０の
各々は、下部電極６の各々と一対一で接続している。ま
た、各遮光層パターン３０は、表示領域内の全長にわた
って、下部電極６と接している。したがって、遮光層パ
ターン３０は、下部電極６と一体となった給電線となっ
ている。

【００８７】また、遮光層パターン３０は、導電性を有
し、上述した第一実施形態と同様にして、取出電極２と
同一の低抵抗材料で同時に形成されている。また、各遮
光層パターン３０は、それぞれ取出電極２と連続して形
成されている。

【００８８】さらに、下部電極６上には、発光層７及び
ストライブ状の上部電極８が積層されている。そして、
上部電極８は、図１１に示すように、マトリクス状に配
置された着色層パターン４の上で、下部電極６と直交す
るように配置されている。また、上部電極８は、取出電
極２に接続されている。

【００８９】このように、第五実施形態のＥＬ表示装置
は、遮光パターン３０を下部電極６の給電線としたの
で、下部電極６の抵抗を実質的に低減することができ
る。その結果、駆動電圧及び消費電力を低減するととも
に、表示領域の発光輝度の均一性を高めて視認性の向上
を図ることができる。

【００９０】［第六実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）次に、図１２及び図１３を参照して、本発明の第六実施
形態について説明する。図１２は、第六実施形態のＥＬ
表示装置の要部断面図である。また、図１３は、第五実
施形態のＥＬ表示装置の平面図である。なお、図１２
は、図１３のＦ−Ｆに沿った断面図に相当する。

【００９１】第六実施形態のＥＬ表示装置は、カラーフ
ィルタ上にＥＬ表示素子が積層されている。なお、支持
基板１上の取出電極２、着色層パターン４、発光層７及
び上部電極８の構成及び配置は、第五実施形態と同様で
あるので、その詳細な説明を省略する。

【００９２】第六実施形態のＥＬ表示装置においては、
図１２に示すように、着色層パターン４上に、平坦化層
５が積層されている。そして、この平坦化層５上に、導
電性の遮光層パターン３０及び下部電極６が形成されて
いる。遮光層パターン３０は、着色層パターン４間の上
方に、図１３に示すように、下部電極６と平行なストラ
イプ状に形成されている。また、各遮光層パターン３０
は、表示領域内の全長にわたって、下部電極６と接して
いる。したがって、遮光層パターン３０は、下部電極６
と一体となった給電線となっている。

【００９３】なお、第六実施形態においては、遮光層パ
ターン３０を、取出電極２と同時に形成しても良いし、
別の製造段階で形成しても良い。また、遮光層パターン
３０は、下部電極６よりも低抵抗であることが望まし
く、取出電極２と同一の材料を含むことが望ましい。

【００９４】このように、第六実施形態のＥＬ表示装置
も、第五実施形態と同様に、遮光パターン３０を下部電
極６の給電線としたので、下部電極６の抵抗を実質的に
低減することができる。その結果、駆動電圧及び消費電
力を低減するとともに、表示領域の発光輝度の均一性を
高めて視認性の向上を図ることができる。

【００９５】［第七実施形態］（ドットマトリクスタイ
プ）次に、図１４及び図１５を参照して、本発明の第七実施
形態について説明する。図１４は、第七実施形態のＥＬ
表示装置の要部断面図である。また、図１５は、第七実
施形態のＥＬ表示装置の平面図である。なお、図１４
は、図１５のＥ−Ｅに沿った断面図に相当する。

【００９６】第七実施形態のＥＬ表示装置は、カラーフ
ィルタ上にＥＬ表示素子が積層されている。なお、支持
基板１上の取出電極２、着色層パターン４、平坦化層
５、発光層７及び上部電極８の構成及び配置は、第六実
施形態と同様であるので、その詳細な説明を省略する。

【００９７】第七実施形態のＥＬ表示装置においては、
下部電極６は、平坦化層５の上に設けられている。一
方、導電性の遮光層パターン３０は、図１４に示すよう
に、平坦化層５の下の着色層パターン４間に、下部電極
６と平行なストライプ状に形成されている。

【００９８】そして、平坦化層５上の下部電極６と、平
坦化層５下の遮光層パターン３０とは、平坦化層５に穿
たれたスルーホールを介して導通している。これによ
り、遮光層パターン３０は、下部電極６の給電線となっ
ている。なお、ここでは、図１５に示すように、スルー
ホール５１を各着色層パターン４ごとに設けているが、
スルーホール５１の数や配置はこれに限定されない。

【００９９】また、第七実施形態においても、遮光層パ
ターン３０は、取出電極２と同時に形成しても良いし、
別の製造段階で形成しても良い。また、遮光層パターン
３０は、下部電極６よりも低抵抗であることが望まし
く、取出電極２と同一の材料を含むことが望ましい。

【０１００】このように、第七実施形態のＥＬ表示装置
も、第五及び第六実施形態と同様に、遮光パターン３０
を下部電極６の給電線としたので、下部電極６の抵抗を
実質的に低減することができる。その結果、駆動電圧及
び消費電力を低減するとともに、表示領域の発光輝度の
均一性を高めて視認性の向上を図ることができる。

【０１０１】［第八実施形態］（セグメントタイプ）上述の各実施形態においてはドットマトリクス型のＥＬ
表示装置の例について説明したが、本発明はドットマト
リクス型のＥＬ表示装置に限定されない。そこで、第八
実施形態では、文字、数字等の表示をベタで行うセグメ
ント型のＥＬ表示装置の例について説明する。

【０１０２】以下、図１６を参照して、本発明の第八実
施形態について説明する。図１６の（Ａ）は、第八実施
形態のＥＬ表示装置の平面図である。また、図１６の
（Ｂ）は、図１６の（Ａ）のＧ−Ｇに沿った断面図であ
る。図１６の（Ａ）に示すように、第八実施形態のＥＬ
表示装置は、セグメント型であって、「Ｅ」及び「Ｌ」
という文字を表示する。なお、図１６の（Ａ）は、背面
側より見た平面図であるので、「Ｅ」及び「Ｌ」の文字
のパターンが左右反転している。

【０１０３】第八実施形態のセグメント型のＥＬ表示装
置は、カラーフィルタと、その上に積層されたＥＬ表示
素子とから構成されている。前記カラーフィルタは、透
光性を有する支持基板１と、その上にそれぞれ設けられ
た、取出電極２と、第一及び第二着色層パターン４ａ及
び４ｂと、着色層パターン間を埋める遮光層パターン３
とを備えている。さらに、本実施形態では、第一及び第
二着色層パターン４ａ及び４ｂと、遮光層パターン３と
の上に、平坦化層５を設けている。

【０１０４】各取出電極２と遮光層パターン３とは、上
述した第一実施形態と同様にして、同一材料により、同
時に形成されている。

【０１０５】第一着色層パターン４ａは、図１６の
（Ａ）に示すように「Ｌ」の文字を左右反転させた平面
パターンで設けられている。また、第二着色層パターン
４ｂは、「Ｅ」の文字を左右反転させた平面パターンで
設けられている。そして、第一及び第二着色層パターン
４ａ及び４ｂの周囲には、矩形の領域に遮光層パターン
３が設けられている。

【０１０６】ＥＬ表示素子は、図１６の（Ｂ）に示すよ
うに、平坦化層５上に、第一及び第二下部電極６ａ及び
６ｂ、発光層７及び上部電極８を順次に積層して構成さ
れている。

【０１０７】第一下部電極６ａは、図１６の（Ａ）に示
すように、第一着色層パターン４ａを含む矩形領域に設
けられている。また、第二下部電極６ｂは、第二着色層
パターン４ｂを含む矩形領域に設けられている。さら
に、上部電極８は、第一及び第二着色層パターン４ａ及
び４ｂの両方を含む矩形領域に設けられている。そし
て、第一下部電極６ａ、第二下部電極６ｂ及び上部電極
８は、それぞれ取出電極２に接続されている。

【０１０８】したがって、第一下部電極６ａと上部電極
８との間に電圧を印加すれば、これら電極が重なった領
域の発光層７部分が発光し、その発光を第一着色層パタ
ーン４ａが受光して色変換して「Ｌ」字パターンを点灯
させることができる。

【０１０９】また。第二下部電極６ｂと上部電極８との
間に電圧を印加すれば、これら電極が重なった領域の発
光層７部分が発光し、その発光を第二着色層パターン４
ｂが受光して色変換して「Ｅ」字パターンを点灯させる
ことができる。

【０１１０】このように、第八実施形態では、取出電極
２と第一及び第二下部電極６ａ及び６ｂとを同時に形成
してあるので、セグメント型においても、視認性が高
く、駆動電圧及び消費電力が低いＥＬ表示装置を、歩留
まり良く製造することができる。

【０１１１】

【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明する。［実施例１］（ドットマトリクスタイプ）実施例１では、有機ＥＬ多色表示用カラーフィルタを製
造し、さらに、有機ＥＬ表示装置を作成する様子を、上
述した第一実施形態で説明した図１及び図２と対応づけ
て説明する。

【０１１２】（有機ＥＬ多色表示用カラーフィルタの製
造）実施例１では、まず、１１２ｍｍ×１４３ｍｍ×
１．１ｍｍの支持基板（０Ａ２ガラス：日本電気硝子社
製）１上に、取出電極層パターンとブラックマトリクス
（ＢＭ）の材料としての導電層１０を形成した（図１の
（Ａ））。ここでは、導電層１０として、酸化クロムを
５０ｎｍ、アルミニウムを６００ｎｍ、クロムを５０ｎ
ｍずつスパッタリングにより順次積層した。

【０１１３】次に、導電層１０上に、ポジ型レジスト
（ＨＰＲ２０４：富士オーリン製）をスピンコートで成
膜した。続いて、このレジスト膜を、取出電極層パター
ンと、２０μｍライン幅で格子状のパターンとなるよう
なフォトマスクを介して紫外線で露光する。そして、Ｔ
ＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）の現
像液で現像し、１３０℃でベークした。

【０１１４】次に、硝酸セリウムアンモニウム／過塩素
酸水溶液からなるクロムエッチャントで、露出している
クロム層部分をエッチングした。続いて、リン酸／硝酸
／酢酸溶液からなるアルミニウムエッチャントで、露出
しているアルミニウム層部分をエッチングした。さら
に、硝酸セリウムアンモニウム／過塩素酸水溶液からな
るクロムエッチャントで、露出している酸化クロム層部
分をエッチングした。

【０１１５】続いて、エタノールアミンを主成分とする
剥離液（Ｎ３０３：長瀬産業製）でレジストを除去し
て、取出電極パターン（取出電極）２と遮光層パターン
（ブラックマトリクス）３を得た（図１の（Ｂ））。こ
の取出電極２のシート抵抗は、０．０９Ω／□であり、
取出電極（陰極側）一本あたりの抵抗値は１０Ωであっ
た。

【０１１６】次に、青色用（Ｂ）の着色層パターン４の
材料として、Ｖ２５９（新日鉄化学社製）を支持基板１
上にスピンコートして成膜した。続いて、長方形（９０
μｍ×２９０μｍ）の色配列がストライプでドット状の
パターンが７６８００個得られるようなフォトマスクを
介して、ブラックマトリクス３に位置合わせして紫外線
で露光した。そして、２％炭酸ナトリウム水溶液で現像
後、２００℃でベークし、青色用の着色層パターン４
（膜厚１．５μｍ）を形成した。

【０１１７】次に、緑色用（Ｇ）の着色層パターン４の
材料として、０．０４ｍｏｌ／ｋｇ（対固形分）となる
量のクマリン６をアクリル系ネガ型フォトレジスト（Ｖ
２５９ＰＡ、固形分濃度５０％：新日鉄化学社製）に溶
解させてインキを調製した。このインキを支持基板１上
にスピンコートして成膜した。続いて、青色用で用いた
フォトマスクを、青色用の着色層パターン４の位置から
１００μｍピッチ、ストライプ状色配列に対して垂直方
向へずらし、このフォトマスクを介して紫外線で露光し
た。そして、２％炭酸ナトリウム水溶液で現像後、２０
０℃でベークし、緑色用の着色層パターン４（膜厚１０
μｍ）を形成した。

【０１１８】次に、赤色用（Ｒ）の着色層パターン４の
材料として、クマリン６：０．５３ｇ、ベーシックバイ
オレット１１：１．５ｇ、及び、ローダミン６Ｇ：１．
５ｇをアクリル系ネガ型フォトレジスト（Ｖ２５９Ｐ
Ａ、固形分濃度５０％：新日鉄化学社製）：１００ｇに
溶解させたインキを調製した。

【０１１９】このインキを支持基板１上にスピンコート
して成膜した。続いて、青色用で用いたフォトマスク
を、青色用の着色層パターン４の位置から２００μｍピ
ッチ、ストライプ状色配列に対して垂直方向へずらし、
このフォトマスクを介して紫外線で露光した。そして、
２％炭酸ナトリウム水溶液で現像後、１６０℃でベーク
し、赤色用の着色層パターン４（膜厚１０μｍ）を形成
した。このようにして、青、緑、赤の三原色の着色層パ
ターン４を形成した（図１の（Ｃ））。

【０１２０】次に、平坦化層５として、アクリル系光及
び熱硬化性樹脂（Ｖ２５９ＰＡ、新日鉄化学社製）を支
持基板１上にスピンコートして成膜し、取出電極２の端
部２ａと表示領域が露光できるようなマスクを介して紫
外線露光氏、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド）の現像液で現像した。次に、１６０℃でベー
クして平坦化層５（膜厚５μｍ）を形成した（図１の
（Ｄ））。以上のようにしてＥＬ用カラーフィルタを形
成した。

【０１２１】（有機ＥＬ表示装置の作成）続いて、この
ＥＬ用カラーフィルタ上にＥＬ表示素子を形成し、ＥＬ
表示装置を作成した。まず、ＥＬ用カラーフィルタ上
に、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物：Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｚｎ
Ｏ）をスパッタリングにより２００ｎｍの膜厚（２０Ω
／□）で成膜した。

【０１２２】次に、ＩＺＯ膜上に、ポジ型レジスト（Ｈ
ＰＲ２０４：富士オーリン製）をスピンコートして成膜
し、８５μｍラインで１５μｍギャップのストライプ状
のパターンとなるようなフォトマスクを介して、紫外線
露光する。続いて、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド）の現像液で現像し、１３０℃でベーク
した。

【０１２３】次に、５％蓚酸水溶液からなるＩＺＯエッ
チャントにて、露出している部分のＩＺＯをエッチング
した。続いて、エタノールアミンを主成分とする剥離液
（Ｎ３０３：長瀬産業）で処理してレジストを除去し、
ＩＺＯパターン（下部電極６：陽極、ライン数９６０
本）を形成した（図２の（Ａ））。

【０１２４】次に、第一の層間絶縁膜として、ネガ型レ
ジスト（Ｖ２５９ＰＡ：新日鉄化学社製）をスピンコー
トし、フォトマスクを介して紫外線露光し、ＴＭＡＨ
（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）の現像液で
現像した。次に、１６０℃でベークして、ＩＺＯのエッ
ジを被覆した（ＩＺＯの開口部が７４μｍ×２６０μ
ｍ）層間絶縁膜を形成した。

【０１２５】次に、第二の層間絶縁膜（隔壁）として、
ネガ型レジスト（ＺＰＮ１１００：日本ゼオン製）をス
ピンコートし、下部電極６と直交し、２０μｍラインで
２８０μｍギャップのストライプパターンとなるような
フォトマスクを介して、紫外線露光した。さらに、露光
後、ベークを行った。続いて、ＴＭＡＨ（テトラメチル
アンモニウムヒドロキシド）の現像液でネガレジストを
現像し、下部電極６のストライプに直交した有機膜の第
二の層間絶縁膜（隔壁）を形成した。このようにして得
られた基板を純水及びイソプロピルアルコール中で超音
波洗浄し、エアブローにて乾燥後、ＵＶ洗浄した。

【０１２６】次に、基板を有機蒸着装置（日本真空技術
製）に移動し、基板ホルダーに基板を固定した。なお、
有機蒸着装置のモリブデン製の各加熱ボードには、それ
ぞれ正孔注入材料、発光材料、電子注入材料、陰極材料
をそれぞれ用意しておく。

【０１２７】正孔注入材料として、４，４′，４′′−
トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルア
ミルトリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）］、４，４′
−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］
ビフェニル（ＮＰＤ）を用意しておく。また、発光材料
として、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）
ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を用意しておく。また、発光
材料のドーパントとして、１，４−ビス［４−（Ｎ，Ｎ
−ジフェニルアミノスチリルベンゼン）］（ＤＰＡＶ
Ｂ）を用意しておく。また、電子注入材料として、トリ
ス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）を用意
しておく。さらに、陰極として、ＡｌＬｉ合金（Ｌｉ濃
度：１０ａｔｍ％）をタングステン製フィラメントに装
着しておく。

【０１２８】そして、真空槽を５×１０^-7ｔｏｒｒまで
減圧した後、以下の順序で正孔注入層から陰極まで途中
で真空を破らず一回の真空引きで順次に積層した。ま
ず、正孔注入層として、ＭＴＤＡＴＡを蒸着速度０．１
〜０．３ｎｍ／秒で膜厚１３０ｎｍまで蒸着し、続い
て、ＮＰＤを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／秒で膜厚２
０ｎｍまで蒸着した。

【０１２９】続いて、発光層として、ＤＰＶＢｉとドー
パントのＤＰＡＶＢとをそれぞれを蒸着速度０．１〜
０．３ｎｍ／秒、０．０３〜０．０５ｎｍ／秒で、膜厚
５０ｎｍまで共蒸着した（図２の（Ｂ））。さらに、電
子注入層として、Ａｌｑを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ
／秒で膜厚２０ｎｍまで蒸着した。

【０１３０】そして、陰極として、ＡｌとＬｉとをそれ
ぞれ蒸着速度０．５〜１．０ｎｍ／秒で膜厚１５０ｎｍ
まで蒸着した。なお、陰極は、取出電極２と接続できる
ようにマスク蒸着した、陰極（上部電極）８は、隔壁に
より自動的に分離され、ストライプ状のパターン（ライ
ン数２４０本）となった（図２の（Ｃ））。

【０１３１】このようにして有機ＥＬ表示素子を形成
後、乾燥窒素を流通したドライボックスに基板を大気に
ふれないようにして移動し、そのドライボックス内で封
止基板の青板ガラスで表示部を被覆し、表示部周囲部は
カチオン硬化性の接着剤（ＴＢ３１０２：スリーボンド
製）で光硬化させて封止した。

【０１３２】このようにして、下部電極６と上部電極８
とがＸＹマトリクスを形成してなるフルカラー有機ＥＬ
表示装置（開口率６４％）を作成し、その下部電極（信
号電極）６及び上部電極（走査電極）８に電圧を印加
（下部電極：（＋）、上部電極：（−））し、デューテ
ィー１／１２０のパルス駆動を行った（信号電極は上下
二分割）ところ、各電極の交差部分（画素）が発光し
た。

【０１３３】取出電極近傍の画素の発光輝度を、色彩色
差計（ＣＳ１００：ミノルタ製）測定したところ、青色
用の着色層パターン４を配置した画素の発光輝度は、２
０ｃｄ／ｍ²であり、そのＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．
１２、Ｙ＝０．１６の青色の発光が得られた。また、緑
色用の着色層パターン４を配置した画素からは、６０ｃ
ｄ／ｍ²でＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．２６、Ｙ＝０．
６８の緑色の発光が得られた。また、赤色用の着色層パ
ターン４を配置した画素からは、２０ｃｄ／ｍ²でＣＩ
Ｅ色度座標は、Ｘ＝０．６３、Ｙ＝０．３４の赤色の発
光が得られた。

【０１３４】そして、実施例１で作成したＥＬ表示装置
の駆動電圧は２０Ｖ、全面点灯時の消費電力は６．３Ｗ
であった。なお、下部電極の抵抗による電圧降下（１．
４Ｖ）のため、表示領域中央部における各色の画素の輝
度は、取出電極近傍の画素の輝度の８５％であった。

【０１３５】［実施例２］（ドットマトリクスタイプ）実施例２では、緑色用の着色層パターン４に緑色カラー
フィルタ（Ｖ２５９Ｇ：新日鉄化学社製）、赤色用の着
色層パターン４に赤色カラーフィルタ（Ｖ２５９Ｒ：新
日鉄化学社製）を用い、それら着色層パターン４の膜厚
を１．５μｍとしたこと以外は、実施例１と同一条件
で、ＥＬ用カラーフィルタを製造した。

【０１３６】次に、実施例２では、ＥＬ用カラーフィル
タ上にＥＬ表示素子を形成するにあたり、ＥＬ表示素子
の発光材料として、ＤＰＶＢｉにルブレンを共蒸着によ
りドーピングした（蒸着速度０．００１〜０．００３ｎ
ｍ／秒）して、白色発光素子としたこと以外は、実施例
１と同一条件でＥＬ表示素子を形成した。

【０１３７】このようにしてフルカラー有機ＥＬ表示装
置（開口率６４％）を作成し、実施例１と同様に電圧を
印加（下部電極：（＋）、上部電極：（−））したとこ
ろ、各電極の交差部分（画素）が発光した。

【０１３８】実施例２のＥＬ表示装置における取出電極
近傍の画素の発光輝度は、色彩色差計（ＣＳ１００：ミ
ノルタ製）にて、青色用の着色層パターン４を配置した
画素から、１０ｃｄ／ｍ²でＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝
０．１２、Ｙ＝０．１６の青色の発光が得られた。ま
た、緑色用の着色層パターン４を配置した画素からは、
４０ｃｄ／ｍ²でＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．２６、Ｙ
＝０．５８の緑色の発光が得られた。また、赤色用の着
色層パターン４を配置した画素からは、１５ｃｄ／ｍ²
でＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６１、Ｙ＝０．３８の赤
色の発光が得られた。

【０１３９】そして、実施例１で作成したＥＬ表示装置
の駆動電圧は２０Ｖ、消費電力は７．５Ｗであった。な
お、下部電極の抵抗による電圧降下（１．５Ｖ）のた
め、表示領域中央部における各色の画素の輝度は、取出
電極近傍における画素の輝度の８３％であった。

【０１４０】［実施例３］（ドットマトリクスタイプ）実施例３では、第五実施形態で説明した図１０及び図１
１に相当する構成を有するＥＬ表示装置の例について説
明する。実施例３では、導電層１０上に、ポジ型レジス
ト膜を、取出電極パターンと、２０μｍライン幅のスト
ライプ状パターンとなるようなフォトマスクを用いたこ
と以外は、実施例１と同一条件で、取出電極及び、その
取出電極と連続した給電線を兼ねる遮光層パターンを形
成した。

【０１４１】次に、実施例２と同様に、赤、緑、青の着
色層パターンを形成し、ＩＺＯの下部電極を形成した。
この際、下部電極とストライプ状の遮光層パターンとが
接続され、遮光層パターンが給電線となった。続いて、
有機ＥＬ表示素子の作成、封止を行い、フルカラー有機
ＥＬ表示装置を製造した。

【０１４２】そして、実施例２と同様にして測定したと
ころ、実施例３のＥＬ表示装置の取出電極近傍の発光輝
度、駆動電圧及び消費電力は、実施例２と同様であっ
た。ただし、第三実施形態では、遮光層パターンを給電
線としたので、下部電極の抵抗による電圧降下が、０．
１Ｖ以下に小さくなった。その結果、表示領域の中央部
において、取出電極近傍の発光輝度の９８％の発光輝度
が得られた。したがって、表示領域全体にわたって均一
な発光輝度を実現することができた。

【０１４３】［実施例４］（ドットマトリクスタイプ）実施例４では、取出電極２とブラックマトリクス３とを
別工程でそれぞれ作成した。すなわち、まず、実施例１
で作成した取出電極２と同一構造の取出電極だけを形成
した。そして、取出電極形成後に、Ｖ２５９ＣＫ（新日
鉄化学社製）をスピンコートし、２０μｍライン幅の格
子状のパターンとなるようなフォトマスクを介して、紫
外線露光し、２％炭酸ナトリウム水溶液で現像後、２０
０℃でベークして膜厚１０μｍのブラックマトリクス３
を形成した。そして、他は実施例１と同一工程でＥＬ表
示装置を作成した。

【０１４４】実施例４では、実施例１と同等の性能のＥ
Ｌ表示素子を形成することができた。ただし、実施例４
では、取出電極２とブラックマトリクス３とを別工程で
形成したため、工程が煩雑となった。

【０１４５】［実施例５］（セグメントタイプ）実施例５では、セグメント型の有機ＥＬ多色表示用カラ
ーフィルタを製造し、さらに、上述した第八実施形態に
対応するセグメント型の有機ＥＬ表示装置を作成する様
子を説明する。

【０１４６】（有機ＥＬ多色表示用カラーフィルタの製
造）実施例５では、まず、１１２ｍｍ×１４３ｍｍ×
１．１ｍｍの支持基板（０Ａ２ガラス：日本電気硝子社
製）１上に、取出電極層パターン及び遮光層パターンの
材料としての導電層を形成した。ここでは、導電層とし
て、酸化クロムを５０ｎｍ、クロムを３００ｎｍずつス
パッタリングにより順次積層した。

【０１４７】次に、導電層上に、ポジ型レジスト（ＨＰ
Ｒ２０４：富士オーリン製）をスピンコートで成膜し
た。続いて、このレジスト膜を、フォトマスクを介して
紫外線で露光する。そして、ＴＭＡＨ（テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド）の現像液で現像し、１３０℃
でベークした。このフォトマスクは、取出電極と、
「Ｅ」及び「Ｌ」の文字を左右反転させたパターンを抜
き取った矩形パターンが得られる形状となっている。

【０１４８】次に、硝酸セリウムアンモニウム／過塩素
酸水溶液からなるクロムエッチャントで、露出している
クロム層及び酸化クロム層部分をエッチングした。続い
て、エタノールアミンを主成分とする剥離液（Ｎ３０
３：長瀬産業製）でレジストを除去して、取出電極２と
遮光層パターン３を得た。この取出電極２のシート抵抗
は、２Ω／□であった。

【０１４９】次に、オレンジ色用の第一着色層パターン
４ａの材料として、オレンジ色蛍光顔料（ＦＭ３４：シ
ンロイヒ社製）１５ｇをアクリル系ネガ型フォトレジス
ト（Ｖ２５９ＰＡ、固形分濃度５０％：新日鉄化学社
製）：１００ｇに溶解させたインキを調製した。そし
て、このインキを支持基板１上にスピンコートして成膜
した。続いて、「Ｌ」字を左右反転させた文字パターン
ができるようなフォトマスクを介して紫外線で露光し
た。そして、２％炭酸ナトリウム水溶液で現像後、１８
０℃でベークし、第一着色層パターン４ａ（膜厚１０μ
ｍ）を形成した。

【０１５０】次に、緑色用の第二着色層パターン４ｂの
材料として、０．０４ｍｏｌ／ｋｇ（対固形分）となる
量のクマリン６を、アクリル系ネガ型フォトレジスト
（Ｖ２５９ＰＡ、固形分濃度５０％：新日鉄化学社製）
に溶解させてインキを調製した。そして、このインキを
支持基板１上にスピンコートして成膜した。続いて、
「Ｅ」字を左右反転させた文字パターンができるような
フォトマスクを介して紫外線で露光した。そして、２％
炭酸ナトリウム水溶液で現像後、２００℃でベークし、
第二着色層パターン４ｂ（膜厚１０μｍ）を形成した。

【０１５１】次に、平坦化層５として、アクリル系光及
び熱硬化性樹脂（Ｖ２５９ＰＡ、新日鉄化学社製）を支
持基板１上にスピンコートして成膜し、取出電極２の端
部と表示領域が露光できるようなマスクを介して紫外線
露光氏、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド）の現像液で現像した。次に、１６０℃でベークし
て平坦化層５（膜厚５μｍ）を形成した。以上のように
してＥＬ用カラーフィルタを形成した。

【０１５２】（有機ＥＬ表示装置の作成）続いて、この
ＥＬ用カラーフィルタ上にＥＬ表示素子を形成し、ＥＬ
表示装置を作成した。まず、ＥＬ用カラーフィルタ上
に、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物：Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｚｎ
Ｏ）をスパッタリングにより２００ｎｍの膜厚（２０Ω
／□）で成膜した。

【０１５３】次に、ＩＺＯ膜上に、ポジ型レジスト（Ｈ
ＰＲ２０４：富士オーリン製）をスピンコートして成膜
し、図１６の（Ａ）に示す第一及び第二下部電極６ａ及
び６ｂのパターンとなるようなフォトマスクを介して、
紫外線露光する。続いて、ＴＭＡＨ（テトラメチルアン
モニウムヒドロキシド）の現像液で現像し、１３０℃で
ベークした。

【０１５４】次に、５％蓚酸水溶液からなるＩＺＯエッ
チャントにて、露出している部分のＩＺＯをエッチング
した。続いて、エタノールアミンを主成分とする剥離液
（Ｎ３０３：長瀬産業）で処理してレジストを除去し、
ＩＺＯパターン（第一及び第二下部電極６ａ及び６ｂ：
陽極）を形成した。

【０１５５】以下、上述の実施例１と同様にして、発光
層７、上部電極８等を形成し、セグメント型のＥＬ表示
装置を形成した。なお、本実施例では、上部電極８を、
図１６の（Ａ）に示すように、第一及び第二着色層パタ
ーン４ａ及び４ｂを覆う矩形パターンとして作成した。

【０１５６】このようにして、作成した有機ＥＬ表示装
置の第一及び第二下部電極６ａ及び６ｂ（陽極）と上部
電極８（陰極）との間に、取出電極２を介して電圧を印
加して、直流電流を注入した。その結果、「Ｅ」及び
「Ｌ」の文字が発光した。

【０１５７】「Ｅ」及び「Ｌ」の文字の発光輝度を、色
彩色差計（ＣＳ１００：ミノルタ製）測定したところ、
「Ｅ」の文字の発光輝度は、３００ｃｄ／ｍ²であり、
そのＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．２６、Ｙ＝０．６０の
緑色の発光が得られた。また、「Ｌ」の文字の発光輝度
は、１２０ｃｄ／ｍ²でＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．５
８、Ｙ＝０．４０のオレンジ色の発光が得られた。

【０１５８】そして、実施例５で作成したＥＬ表示装置
の駆動電圧は５Ｖであり、低駆動電圧の有機ＥＬ表示装
置が作成できた。

【０１５９】［比較例１］（ドットマトリクスタイプ）比較例１では、実施例１のような取出電極を設けず、下
部電極６（ＩＺＯ、２０Ω／□）をそのまま延長して取
出電極とした点以外は、実施例１と同一条件でＥＬ表示
装置を作成した。

【０１６０】比較例１のＥＬ表示装置の発光輝度は、色
彩色差計（ＣＳ１００：ミノルタ製）にて、青色用の着
色層パターン４を配置した画素から、２０ｃｄ／ｍ²で
ＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．１２、Ｙ＝０．１６の青色
の発光が得られた。また、緑色用の着色層パターン４を
配置した画素からは、６０ｃｄ／ｍ²でＣＩＥ色度座標
は、Ｘ＝０．２６、Ｙ＝０．６８の緑色の発光が得られ
た。また、赤色用の着色層パターン４を配置した画素か
らは、２０ｃｄ／ｍ²でＣＩＥ色度座標は、Ｘ＝０．６
３、Ｙ＝０．３４の赤色の発光が得られた。

【０１６１】しかし、比較例１で作成したＥＬ表示装置
の駆動電圧は２５Ｖ以上と著しく高く、消費電力も１０
Ｗ以上と著しく高くなった。

【０１６２】［比較例２］（セグメントタイプ）比較例２では、取出電極と遮光パターンとを形成せず、
上部電極、第一及び第二下部電極をそれぞれ延長して取
出電極とした点以外は、上述の実施例５と同一条件で有
機ＥＬ表示装置を作成した。比較例２の有機ＥＬ表示装
置の駆動電圧は７Ｖで、実施例５よりも駆動電圧が上昇
し、その上、遮光パターンを設けていないので、「Ｅ」
及び「Ｌ」の文字の発光がにじんでしまい、実施例５よ
りも視認性が低下した。

【０１６３】上述した実施の形態においては、本発明を
特定の条件で構成した例について説明したが、本発明
は、種々の変更を行うことができる。例えば、上述した
第五〜第七実施形態において、ストライプ状の下部電極
３を設けた例について説明したが、本発明では、下部電
極の平面パターンはこれに限定されない。例えば、給電
線が存在する場合は、下部電極をストライプ状ではな
く、各画素を覆うだけのドット状に設けてもよい。ま
た、着色層によっては、白色表示を含む種々の発光色が
得られる表示装置の作成が可能である。

【０１６４】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
第一のＥＬ表示装置、カラーフィルタによれば、視認性
が高く、駆動電圧及び消費電力が低いＥＬ表示表示装置
を提供することができる。

【０１６５】また、本発明のＥＬ表示装置の製造方法及
びカラーフィルタの製造方法によれば、取出電極層パタ
ーンと遮光層パターンとを同時に形成するので、視認性
が高く、駆動電圧及び消費電力が低く、かつ、製造歩留
まりの高いＥＬ表示装置及びＥＬ用カラーフィルタを製
造することができる。

【０１６６】また、本発明の第二のＥＬ表示装置によれ
ば、遮光層パターンを下部電極の給電線として利用する
ので、表示領域全体にわたって発光輝度の均一性を高め
て視認性を向上することができる上、ＥＬ表示装置の駆
動電圧及び消費電力の低減を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）〜（Ｄ）は、第一実施形態のＥＬ表示装
置の製造方法を説明するための断面工程図である。

【図２】（Ａ）〜（Ｃ）は、図１の（Ｃ）に続く、断面
工程図である。

【図３】第一実施形態の取出し電極層パターン及び遮光
層パターンを示す平面図である。

【図４】第一実施形態のカラーフィルタの平面図であ
る。

【図５】第一実施形態の平坦化層を形成したカラーフィ
ルタの平面図である。

【図６】第一実施形態のＥＬ表示装置の平面図である。

【図７】第二実施形態のＥＬ用カラーフィルタの要部断
面図である。

【図８】第三実施形態のＥＬ用カラーフィルタの要部断
面図である。

【図９】第四実施形態のＥＬ用カラーフィルタの要部断
面図である。

【図１０】第五実施形態のＥＬ表示装置の要部断面図で
ある。

【図１１】第五実施形態のＥＬ表示装置の平面図であ
る。

【図１２】第六実施形態のＥＬ表示装置の要部断面図で
ある。

【図１３】第六実施形態のＥＬ表示装置の平面図であ
る。

【図１４】第七実施形態のＥＬ表示装置の要部断面図で
ある。

【図１５】第七実施形態のＥＬ表示装置の平面図であ
る。

【図１６】第八実施形態のＥＬ表示装置の平面図であ
る。

【符号の説明】

１支持基板２取出電極（取出電極層パターン）３ブラックマトリクス（遮光層パターン）４、４ａ、４ｂ着色層パターン５平坦化層６、６ａ、６ｂ下部電極７発光層８上部電極９外光遮光層１０導電層３０遮光層パターン（給電線）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０９Ｆ 9/30 Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｃ３６５３６５ＺＨ０５Ｂ 33/06 Ｈ０５Ｂ 33/06 33/10 33/10 33/14 33/14 Ａ 33/22 33/22 Ｚ (72)発明者鶴岡義秋東京都新宿区市ヶ谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 BB06 CA01 CB01 CC05 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02 5C094 AA04 AA06 AA08 AA11 AA43 AA48 BA12 BA27 CA19 CA24 DA13 DB02 DB04 DB10 EA04 EA05 EB02 ED03 ED12 ED15 FA01 FA02 FB01 FB12 FB15 FB20 GB10 JA05 JA20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】カラーフィルタ上にＥＬ表示素子を積層
して設けたＥＬ表示装置であって、前記ＥＬ表示素子は、カラーフィルタ側から下部電極、
発光層及び上部電極を順次に積層して構成され、前記下
部及び上部電極間に電圧を印加することにより前記発光
層が発光し、前記カラーフィルタは、透光性基板上に、前記ＥＬ表示
素子の発光を受光する位置に配置された着色層パターン
と、前記下部電極又は上部電極とそれぞれ接続された取
出電極と、前記着色層パターン間を埋める遮光層パター
ンとを備えることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項２】前記取出電極が、前記遮光層パターンと
同一の導電性材料を含む取出電極層パターンにより構成
されてなることを特徴とする請求項１記載のＥＬ表示装
置。
【請求項３】前記遮光層パターンが、導電性を有し、
前記下部電極と接続してあることを特徴とする請求項１
又は２記載のＥＬ表示装置。
【請求項４】前記遮光層パターンが、前記下部電極を
接続した前記取出電極と連続していることを特徴とする
請求項３記載のＥＬ表示装置。
【請求項５】前記取出電極のシート抵抗値が、０．０
０１〜１０Ω／□の範囲内であることを特徴とする請求
項１〜４のいずれかに記載のＥＬ表示装置。
【請求項６】前記取出電極が、１×１０^-4Ω・ｃｍ以
下の抵抗率を有する導電性材料を含むことを特徴とする
請求項１〜５のいずれかに記載のＥＬ表示装置。
【請求項７】前記取出電極が、前記取出電極層パター
ン上に、１×１０^-4Ω・ｃｍ以下の抵抗率の導電性材料
からなる低抵抗層を積層してあることを特徴とする請求
項１〜６のいずれかに記載のＥＬ表示装置。
【請求項８】前記取出電極の表面のうち、少なくとも
前記下部電極又は上部電極との接続部分におけるイオン
化ポテンシャルが、６．０ｅＶ以上であることを特徴と
する請求項１〜７のいずれかに記載のＥＬ表示装置。
【請求項９】前記遮光層パターンの前記透光性基板側
表面の可視光反射率が１０％以下であることを特徴とす
る請求項１〜８のいずれかに記載のＥＬ表示装置。
【請求項１０】前記着色層パターン及び遮光層パター
ンと、前記下部電極との間に、上部表面が平坦で、透光
性を有する平坦化層が設けてあり、前記平坦化層が、前記取出電極のうち前記遮光層パター
ン寄りの端部を覆うように設けてあることを特徴とする
請求項１〜９のいずれかに記載のＥＬ表示装置。
【請求項１１】前記着色層パターンが蛍光色素を含む
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のＥ
Ｌ表示装置。
【請求項１２】前記着色層パターンと前記透光性基板
との間に、前記蛍光色素の励起波長の光を遮蔽し、か
つ、この蛍光色素の蛍光波長の光を透過する外光遮光層
を設けてあることを特徴とする請求項１１記載のＥＬ表
示装置。
【請求項１３】透光性基板上に、着色層パターンが配
置され、前記着色層パターン上に、下部電極、発光層及
び上部電極を順次に積層してなるＥＬ表示装置を製造す
るにあたり、前記透光性基板上に導電層を形成する工程と、前記導電層をパターンニングして、前記下部電極又は上
部電極にそれぞれ接続される取出電極層パターンと、前
記着色層パターン間を埋める遮光層パターンとを同時に
形成する工程とを含むことを特徴とするＥＬ表示装置の
製造方法。
【請求項１４】下部電極、発光層及び上部電極を順次
に積層して構成され、前記下部及び上部電極間に電圧を
印加することにより前記発光層が発光するＥＬ表示装置
を構成するカラーフィルタであって、透光性基板上に、前記ＥＬ表示素子の発光を受光する位
置に配置された着色層パターンと、前記下部電極又は上部電極とそれぞれ接続される取出電
極と、前記着色層パターン間を埋める遮光層パターンとを備え
ることを特徴とするＥＬ用カラーフィルタ。
【請求項１５】前記取出電極が、前記遮光層パターン
と同一の導電性材料を含む取出電極層パターンにより構
成されてなることを特徴とする請求項１４記載のＥＬ用
カラーフィルタ。
【請求項１６】下部電極、発光層及び上部電極が順次
に積層され、前記下部及び上部電極間に電圧を印加する
ことにより前記発光層が発光するＥＬ表示装置を構成す
るＥＬ用カラーフィルタを製造するにあたり、前記透光性基板上に導電層を形成する工程と、前記導電層をパターンニングして、前記下部電極又は上
部電極にそれぞれ接続される取出電極層パターンと、前
記着色層パターン間を埋める遮光層パターンとを同時に
形成する工程とを含むことを特徴とするＥＬ用カラーフ
ィルタの製造方法。
【請求項１７】カラーフィルタ上にＥＬ表示素子を積
層して設けたＥＬ表示装置であって、前記ＥＬ表示素子は、前記フィルタ側から下部電極、発
光層及び上部電極が順次に積層して構成され、前記下部
及び上部電極間に電圧を印加することにより前記発光層
が発光し、前記カラーフィルタは、透光性基板上のＥＬ表示素子の
発光を受光する位置に配置された着色層パターンを備え
たＥＬ表示装置であって、前記着色層パターン間、又は、前記着色層パターン間の
上方に、導電性の遮光層パターンが設けてあり、前記遮光層パターンが、前記下部電極と接続してあるこ
とを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１８】前記下部電極又は上部電極とそれぞれ
接続された取出電極を備え、前記遮光層パターンが、前記下部電極と接続された取出
電極と連続していることを特徴とする請求項１７記載の
ＥＬ表示装置。