JP2003010639A - 有害物質除去用の充填塔 - Google Patents
有害物質除去用の充填塔Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス処理能力を向上させ、充填塔からの粉
塵の発生を防止し、活性炭の交換を適切且つ容易に行っ
て、活性炭を再利用可能とする。 【解決手段】 廃棄物処理設備の排ガス経路１中に設け
られる有害物質除去用の充填塔８において、ケーシング
１１内に上部の投入口１２から下部の排出口１３へ傾斜
してケーシング１１を横断するメッシュフロア１４を設
け、メッシュフロア１４の充填空間内に活性炭Ｃを充填
する。
塵の発生を防止し、活性炭の交換を適切且つ容易に行っ
て、活性炭を再利用可能とする。 【解決手段】 廃棄物処理設備の排ガス経路１中に設け
られる有害物質除去用の充填塔８において、ケーシング
１１内に上部の投入口１２から下部の排出口１３へ傾斜
してケーシング１１を横断するメッシュフロア１４を設
け、メッシュフロア１４の充填空間内に活性炭Ｃを充填
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃棄物焼却炉、廃
棄物溶融炉等の廃棄物処理設備の排ガス中に含まれるダ
イオキシン類、塩化水素、硫黄酸化物、水銀を含む重金
属類等の有害物質を除去するための充填塔に関するもの
である。
棄物溶融炉等の廃棄物処理設備の排ガス中に含まれるダ
イオキシン類、塩化水素、硫黄酸化物、水銀を含む重金
属類等の有害物質を除去するための充填塔に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】廃棄物焼却炉や廃棄物溶融炉によって廃
棄物を焼却あるいは溶融処理する廃棄物処理設備では、
その排ガス経路中に、排ガスのダストを捕集するための
集塵装置と、排ガス中に含まれるダイオキシン類、塩化
水素、硫黄酸化物、水銀を含む重金属類等の有害物質を
除去するための活性炭充填塔とを備えている。
棄物を焼却あるいは溶融処理する廃棄物処理設備では、
その排ガス経路中に、排ガスのダストを捕集するための
集塵装置と、排ガス中に含まれるダイオキシン類、塩化
水素、硫黄酸化物、水銀を含む重金属類等の有害物質を
除去するための活性炭充填塔とを備えている。
【０００３】集塵装置の後段に配置されて前記有害物質
を除去するために用いられる活性炭充填塔としては、図
４に示すように、ケーシング４１内に活性炭Ｃの移動層
４２を形成し、ケーシング４１上に設けたホッパ４３か
らシュート４４を介して移動層４２に活性炭Ｃを供給
し、移動層４２からケーシング４１下部のロールフィー
ダ４５、ロータリバルブ４６を介して排出コンベヤ４７
へ活性炭Ｃを抜き出す移動層式活性炭充填塔４０や、図
５に示すように、ケーシング５１内に活性炭Ｃの固定層
５２を形成し、ケーシング５１上部に活性炭投入ハッチ
５３、ケーシング５１下部側面に活性炭取り出し口５４
を設けて、固定層５２を通過する排ガスによって活性炭
Ｃが劣化したら、活性炭取り出し口５４から使用済みの
活性炭Ｃを排出した後、活性炭投入ハッチ５３から新し
い活性炭Ｃを固定層５２に供給する固定層式活性炭充填
塔５０がある。
を除去するために用いられる活性炭充填塔としては、図
４に示すように、ケーシング４１内に活性炭Ｃの移動層
４２を形成し、ケーシング４１上に設けたホッパ４３か
らシュート４４を介して移動層４２に活性炭Ｃを供給
し、移動層４２からケーシング４１下部のロールフィー
ダ４５、ロータリバルブ４６を介して排出コンベヤ４７
へ活性炭Ｃを抜き出す移動層式活性炭充填塔４０や、図
５に示すように、ケーシング５１内に活性炭Ｃの固定層
５２を形成し、ケーシング５１上部に活性炭投入ハッチ
５３、ケーシング５１下部側面に活性炭取り出し口５４
を設けて、固定層５２を通過する排ガスによって活性炭
Ｃが劣化したら、活性炭取り出し口５４から使用済みの
活性炭Ｃを排出した後、活性炭投入ハッチ５３から新し
い活性炭Ｃを固定層５２に供給する固定層式活性炭充填
塔５０がある。
【０００４】しかし、移動層式活性炭充填塔４０では、
通ガス状態で粒状の活性炭Ｃを移動層４２内で移動させ
るので、活性炭Ｃが磨滅し粉末となり排ガス中に粉塵を
生じる。このため、移動層式活性炭充填塔４０の後段
に、発生した活性炭Ｃの粉塵を捕集するための集塵装置
を設置する必要がある。これに対し、固定層式活性炭充
填塔５０では、活性炭Ｃは移動しないので、活性炭Ｃが
磨滅して粉末となることはなく、後段に集塵装置を設置
する必要はないが、移動層式活性炭充填塔４０のように
活性炭Ｃが連続的に更新されないので、活性炭Ｃが次第
に劣化して排ガス処理能力が低下する。このため、活性
炭Ｃが劣化したら、固定層５２の活性炭Ｃを交換しなけ
ればならない。
通ガス状態で粒状の活性炭Ｃを移動層４２内で移動させ
るので、活性炭Ｃが磨滅し粉末となり排ガス中に粉塵を
生じる。このため、移動層式活性炭充填塔４０の後段
に、発生した活性炭Ｃの粉塵を捕集するための集塵装置
を設置する必要がある。これに対し、固定層式活性炭充
填塔５０では、活性炭Ｃは移動しないので、活性炭Ｃが
磨滅して粉末となることはなく、後段に集塵装置を設置
する必要はないが、移動層式活性炭充填塔４０のように
活性炭Ｃが連続的に更新されないので、活性炭Ｃが次第
に劣化して排ガス処理能力が低下する。このため、活性
炭Ｃが劣化したら、固定層５２の活性炭Ｃを交換しなけ
ればならない。
【０００５】ところで、固定層５２の活性炭Ｃの劣化は
単なる吸着能力の低下ではなく、前段の集塵装置で捕集
しきれずに飛来するダストによる目詰まりが主要因とな
るが、その判断は極めて難しい。従って、適切に交換が
行われず、焼却炉や溶融炉その他廃棄物処理設備の設備
全体の運転に支障を来すようになって、初めて活性炭Ｃ
の交換が行われることが多い。
単なる吸着能力の低下ではなく、前段の集塵装置で捕集
しきれずに飛来するダストによる目詰まりが主要因とな
るが、その判断は極めて難しい。従って、適切に交換が
行われず、焼却炉や溶融炉その他廃棄物処理設備の設備
全体の運転に支障を来すようになって、初めて活性炭Ｃ
の交換が行われることが多い。
【０００６】また、活性炭Ｃの目詰まりによる劣化は固
定層５２の下部で著しく、固定層５２の下部で目詰まり
が生じても上部の活性炭Ｃはさほど劣化していない。上
部の活性炭Ｃは十分使用可能であるにもかかわらず、全
て一度に交換されることになる。しかも、活性炭Ｃの交
換の際は、ダイオキシン等の有害物質を吸着した使用済
の活性炭Ｃを開放状態で取り出す必要があり、一度に大
量の使用済みの活性炭Ｃを処理しなければない。
定層５２の下部で著しく、固定層５２の下部で目詰まり
が生じても上部の活性炭Ｃはさほど劣化していない。上
部の活性炭Ｃは十分使用可能であるにもかかわらず、全
て一度に交換されることになる。しかも、活性炭Ｃの交
換の際は、ダイオキシン等の有害物質を吸着した使用済
の活性炭Ｃを開放状態で取り出す必要があり、一度に大
量の使用済みの活性炭Ｃを処理しなければない。
【０００７】さらに、新しい活性炭Ｃを固定層５２に充
填した後で、層厚を均一にするため、人力により表層を
掻き均す必要がある。そこで、図６に示すように、上部
に活性炭投入口６３、下部に活性炭排出口６４を備えた
ケーシング６１内に、活性炭支持床６５を設けると共
に、活性炭支持床上に形成された固定層６２の活性炭の
劣化状態を検出する検出器６６を設けた活性炭充填塔６
０が提案されている（特開平１２−１５０４５号参
照）。
填した後で、層厚を均一にするため、人力により表層を
掻き均す必要がある。そこで、図６に示すように、上部
に活性炭投入口６３、下部に活性炭排出口６４を備えた
ケーシング６１内に、活性炭支持床６５を設けると共
に、活性炭支持床上に形成された固定層６２の活性炭の
劣化状態を検出する検出器６６を設けた活性炭充填塔６
０が提案されている（特開平１２−１５０４５号参
照）。
【０００８】この活性炭充填塔６０は、粉塵の発生が防
止でき、後段に集塵装置を設置する必要がなく、且つ劣
化した活性炭Ｃの交換を適切に行うことができるが、排
ガスと活性炭Ｃとの接触面積が小さいので排ガス処理能
力が小さく、また、ダスト付着により劣化した活性炭Ｃ
を焼却処理してしまうので不経済である。
止でき、後段に集塵装置を設置する必要がなく、且つ劣
化した活性炭Ｃの交換を適切に行うことができるが、排
ガスと活性炭Ｃとの接触面積が小さいので排ガス処理能
力が小さく、また、ダスト付着により劣化した活性炭Ｃ
を焼却処理してしまうので不経済である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、廃棄物処理
設備の排ガス処理用の充填塔における上記問題を解決す
るものであって、排ガス処理能力が大きく、充填塔から
の粉塵の発生が防止でき、後段に集塵装置を設置する必
要がなく、活性炭の交換を適切且つ容易に行うことがで
き、付着したダストを除去して活性炭を再利用できる有
害物質除去用の充填塔を提供することを目的とする。
設備の排ガス処理用の充填塔における上記問題を解決す
るものであって、排ガス処理能力が大きく、充填塔から
の粉塵の発生が防止でき、後段に集塵装置を設置する必
要がなく、活性炭の交換を適切且つ容易に行うことがで
き、付着したダストを除去して活性炭を再利用できる有
害物質除去用の充填塔を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決するため、廃棄物処理設備の排ガス経路中に設けら
れる有害物質除去用の充填塔において、ケーシング内に
上部の投入口から下部の排出口へ傾斜してケーシングを
横断するメッシュフロアを設け、メッシュフロアの充填
空間内に活性炭を充填している。
解決するため、廃棄物処理設備の排ガス経路中に設けら
れる有害物質除去用の充填塔において、ケーシング内に
上部の投入口から下部の排出口へ傾斜してケーシングを
横断するメッシュフロアを設け、メッシュフロアの充填
空間内に活性炭を充填している。
【００１１】廃棄物処理設備の操業時には、排ガスは、
集塵装置でダストが除去された後充填塔に入り、ここで
排ガス中のダイオキシン類等の有害物質が活性炭で吸着
されて除去される。有害物質が除去された排ガスは、充
填塔から誘引ファン、煙突を経て大気中に排出される。
この充填塔では、メッシュフロアの充填空間内に活性炭
が充填されていて通ガス状態では活性炭は移動しないの
で、活性炭が磨滅し粉末となることはなく、後段に集塵
装置を設置する必要はない。メッシュフロアが上部の投
入口から下部の排出口へ傾斜してケーシングを横断する
ように設けられているので、排ガスと活性炭との接触面
積が大きくなり排ガス処理能力が向上する。
集塵装置でダストが除去された後充填塔に入り、ここで
排ガス中のダイオキシン類等の有害物質が活性炭で吸着
されて除去される。有害物質が除去された排ガスは、充
填塔から誘引ファン、煙突を経て大気中に排出される。
この充填塔では、メッシュフロアの充填空間内に活性炭
が充填されていて通ガス状態では活性炭は移動しないの
で、活性炭が磨滅し粉末となることはなく、後段に集塵
装置を設置する必要はない。メッシュフロアが上部の投
入口から下部の排出口へ傾斜してケーシングを横断する
ように設けられているので、排ガスと活性炭との接触面
積が大きくなり排ガス処理能力が向上する。
【００１２】廃棄物処理設備で処理される廃棄物は、季
節によって水分量が変動し燃焼状態が変化するので、排
ガス中のダイオキシン等の有害物質の量も増減するが、
メッシュフロアの充填空間の断面積を可変とすれば、有
害物質の量に対応して、充填される活性炭の量を設定で
き、常に適切な排ガス処理が可能となる。ケーシング内
にメッシュフロアを挟んで圧力検出器を設け、排出口の
下に活性炭のクリーニング装置を設けると、活性炭の交
換を適切且つ容易に行うことができ、廃棄物処理設備の
運転に支障を来すことがなく、また、クリーニング装置
で付着したダストを除去して活性炭を再利用できるの
で、ランニングコストが低減する。
節によって水分量が変動し燃焼状態が変化するので、排
ガス中のダイオキシン等の有害物質の量も増減するが、
メッシュフロアの充填空間の断面積を可変とすれば、有
害物質の量に対応して、充填される活性炭の量を設定で
き、常に適切な排ガス処理が可能となる。ケーシング内
にメッシュフロアを挟んで圧力検出器を設け、排出口の
下に活性炭のクリーニング装置を設けると、活性炭の交
換を適切且つ容易に行うことができ、廃棄物処理設備の
運転に支障を来すことがなく、また、クリーニング装置
で付着したダストを除去して活性炭を再利用できるの
で、ランニングコストが低減する。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の一形態であ
る有害物質除去用の充填塔を備えた廃棄物処理設備の排
ガス処理系の構成図、図２は充填塔の構成図、図３は充
填塔のメッシュフロアの充填空間の断面積を減少させた
状態を示す説明図である。廃棄物処理設備の排ガス経路
１中には、ガス冷却塔４、集塵装置５、誘引ファン６、
煙突７を備えており、集塵装置５と誘引ファン６との間
に充填塔８が設置されている。充填塔８の前後には入口
ダンパ９と出口ダンパ１０とが設けられている。
る有害物質除去用の充填塔を備えた廃棄物処理設備の排
ガス処理系の構成図、図２は充填塔の構成図、図３は充
填塔のメッシュフロアの充填空間の断面積を減少させた
状態を示す説明図である。廃棄物処理設備の排ガス経路
１中には、ガス冷却塔４、集塵装置５、誘引ファン６、
煙突７を備えており、集塵装置５と誘引ファン６との間
に充填塔８が設置されている。充填塔８の前後には入口
ダンパ９と出口ダンパ１０とが設けられている。
【００１４】排ガス経路１の集塵装置５と誘引ファン６
との間には、充填塔８を迂回して排ガスを排出するため
のバイパスダクト２が設けられており、バイパスダクト
２中にバイパスダンパ３が設けられている。充填塔８
は、ケーシング１１の上部に投入口１２、下部に排出口
１３を備えており、ケーシング１１内には上部の投入口
１２から下部の排出口１３へ傾斜してケーシング１１を
横断するメッシュフロア１４が設けられている。メッシ
ュフロア１４は、ボトムトラフ１５と、トッププレート
１６とからなり、ボトムトラフ１５とトッププレート１
７の間に活性炭Ｃを充填する充填空間が形成されてい
る。トッププレート１６はシリンダ１７によって上下に
平行移動可能に支持されており、従って、充填空間は断
面積が可変となっている。
との間には、充填塔８を迂回して排ガスを排出するため
のバイパスダクト２が設けられており、バイパスダクト
２中にバイパスダンパ３が設けられている。充填塔８
は、ケーシング１１の上部に投入口１２、下部に排出口
１３を備えており、ケーシング１１内には上部の投入口
１２から下部の排出口１３へ傾斜してケーシング１１を
横断するメッシュフロア１４が設けられている。メッシ
ュフロア１４は、ボトムトラフ１５と、トッププレート
１６とからなり、ボトムトラフ１５とトッププレート１
７の間に活性炭Ｃを充填する充填空間が形成されてい
る。トッププレート１６はシリンダ１７によって上下に
平行移動可能に支持されており、従って、充填空間は断
面積が可変となっている。
【００１５】ケーシング１１内にはメッシュフロア１４
を挟んで圧力検出器３０が設けられている。投入口１２
には投入バルブ１８が設けられており、活性炭ホッパ１
９の供給バルブ２０の下から投入バルブ１８の上まで活
性炭供給コンベヤ２１が敷設されている。活性炭ホッパ
１９の上には、新しい活性炭Ｃを補給するための電動ホ
イスト２２が設けられている。
を挟んで圧力検出器３０が設けられている。投入口１２
には投入バルブ１８が設けられており、活性炭ホッパ１
９の供給バルブ２０の下から投入バルブ１８の上まで活
性炭供給コンベヤ２１が敷設されている。活性炭ホッパ
１９の上には、新しい活性炭Ｃを補給するための電動ホ
イスト２２が設けられている。
【００１６】排出口１３には、排出バルブ２３が設けら
れており、排出バルブ２３の下には、振動篩２４が設置
されている。振動篩２４は活性炭Ｃのクリーニング装置
であって、篩上のダストが除去された粒状の活性炭Ｃを
リターンコンベヤ２５で活性炭ホッパ１９に戻し、篩下
のダストは廃棄物処理設備に戻して再処理するようにな
っている。なお、リターンコンベヤ２５は、図２のよう
に篩上を振動篩２４から直接投入バルブ１８の上に戻す
ように設けてもよい。
れており、排出バルブ２３の下には、振動篩２４が設置
されている。振動篩２４は活性炭Ｃのクリーニング装置
であって、篩上のダストが除去された粒状の活性炭Ｃを
リターンコンベヤ２５で活性炭ホッパ１９に戻し、篩下
のダストは廃棄物処理設備に戻して再処理するようにな
っている。なお、リターンコンベヤ２５は、図２のよう
に篩上を振動篩２４から直接投入バルブ１８の上に戻す
ように設けてもよい。
【００１７】廃棄物処理設備の操業時には、焼却炉から
排出された排ガスは、ガス冷却塔４で冷却され、集塵装
置５でダストが除去された後充填塔８に入り、ここで排
ガス中のダイオキシン類等の有害物質がメッシュフロア
１４の充填空間に充填されている粒状の活性炭Ｃで吸着
されて除去される。有害物質が除去された排ガスは、充
填塔８から誘引ファン６、煙突７を経て大気中に排出さ
れる。
排出された排ガスは、ガス冷却塔４で冷却され、集塵装
置５でダストが除去された後充填塔８に入り、ここで排
ガス中のダイオキシン類等の有害物質がメッシュフロア
１４の充填空間に充填されている粒状の活性炭Ｃで吸着
されて除去される。有害物質が除去された排ガスは、充
填塔８から誘引ファン６、煙突７を経て大気中に排出さ
れる。
【００１８】この充填塔８では、メッシュフロア１４の
充填空間内に粒状の活性炭Ｃが充填されて固定層となっ
ており、通ガス状態では活性炭Ｃは移動しないので、活
性炭Ｃが磨滅し粉末となることはなく、後段に集塵装置
を設置する必要はない。メッシュフロア１４が上部の投
入口１２から下部の排出口１３へ傾斜してケーシング１
１を横断するように設けられているので、排ガスと活性
炭Ｃとの接触面積が大きくなっているので排ガス処理能
力が大きい。
充填空間内に粒状の活性炭Ｃが充填されて固定層となっ
ており、通ガス状態では活性炭Ｃは移動しないので、活
性炭Ｃが磨滅し粉末となることはなく、後段に集塵装置
を設置する必要はない。メッシュフロア１４が上部の投
入口１２から下部の排出口１３へ傾斜してケーシング１
１を横断するように設けられているので、排ガスと活性
炭Ｃとの接触面積が大きくなっているので排ガス処理能
力が大きい。
【００１９】廃棄物処理設備で処理される廃棄物は、季
節によって水分量が変動し燃焼状態が変化するので、排
ガス中のダイオキシン等の有害物質の量も増減するが、
メッシュフロア１４は充填空間の断面積がトッププレー
ト１６をシリンダ１７で上下に移動させることにより変
更できるので、有害物質の量に対応して、充填される活
性炭Ｃの量を任意に設定でき、常に適切な排ガス処理が
可能となる。
節によって水分量が変動し燃焼状態が変化するので、排
ガス中のダイオキシン等の有害物質の量も増減するが、
メッシュフロア１４は充填空間の断面積がトッププレー
ト１６をシリンダ１７で上下に移動させることにより変
更できるので、有害物質の量に対応して、充填される活
性炭Ｃの量を任意に設定でき、常に適切な排ガス処理が
可能となる。
【００２０】図５のような固定層式活性炭充填塔５０で
も活性炭Ｃの量を変更できないわけではないが、活性炭
Ｃの投入量の制御が難しい。充填空間の断面積を変更す
れば、極めて容易に投入量を設定することができる。充
填塔８では、メッシュフロア１４を挟んで設けた圧力検
出器３０で圧力損失を検出する。活性炭Ｃの劣化はダス
トによる目詰まりが主要因であるので、圧力検出器３０
で検出された圧力損失が所定値以上になった場合には、
廃棄物処理設備の停止時に活性炭Ｃの交換を行う。
も活性炭Ｃの量を変更できないわけではないが、活性炭
Ｃの投入量の制御が難しい。充填空間の断面積を変更す
れば、極めて容易に投入量を設定することができる。充
填塔８では、メッシュフロア１４を挟んで設けた圧力検
出器３０で圧力損失を検出する。活性炭Ｃの劣化はダス
トによる目詰まりが主要因であるので、圧力検出器３０
で検出された圧力損失が所定値以上になった場合には、
廃棄物処理設備の停止時に活性炭Ｃの交換を行う。
【００２１】活性炭Ｃを交換するときには、排出バルブ
２３を開いて活性炭Ｃを排出口１３から抜き出し、振動
篩２４で活性炭Ｃに付着したダストを除去し、篩上のダ
ストが除去された粒状の活性炭Ｃをリターンコンベヤ２
５で活性炭ホッパ１９に戻す。それから排出バルブ２３
を閉じ、投入バルブ１８と供給バルブ２０とを開いて活
性炭ホッパ１９から投入口１２へ活性炭供給コンベヤ２
１で活性炭Ｃを送り、メッシュフロア１４の充填空間内
に投入する。
２３を開いて活性炭Ｃを排出口１３から抜き出し、振動
篩２４で活性炭Ｃに付着したダストを除去し、篩上のダ
ストが除去された粒状の活性炭Ｃをリターンコンベヤ２
５で活性炭ホッパ１９に戻す。それから排出バルブ２３
を閉じ、投入バルブ１８と供給バルブ２０とを開いて活
性炭ホッパ１９から投入口１２へ活性炭供給コンベヤ２
１で活性炭Ｃを送り、メッシュフロア１４の充填空間内
に投入する。
【００２２】活性炭Ｃを交換するとき有害物質を吸着し
た活性炭Ｃは全て系内で処理されるため、外部に曝露さ
れることはなく安全である。なお、投入バルブ１８、供
給バルブ２０、活性炭供給コンベヤ２１、排出バルブ２
３、振動篩２４、リターンコンベヤ２５等の各機器を遠
隔制御する制御装置を設け、圧力検出器３０の検出デー
タに基づいて自動制御できるように構成すると活性炭Ｃ
の交換作業をより容易にすることができる。
た活性炭Ｃは全て系内で処理されるため、外部に曝露さ
れることはなく安全である。なお、投入バルブ１８、供
給バルブ２０、活性炭供給コンベヤ２１、排出バルブ２
３、振動篩２４、リターンコンベヤ２５等の各機器を遠
隔制御する制御装置を設け、圧力検出器３０の検出デー
タに基づいて自動制御できるように構成すると活性炭Ｃ
の交換作業をより容易にすることができる。
【００２３】充填塔８のメッシュフロア１４の充填空間
には、活性炭Ｃと共に、あるいは活性炭Ｃに代えて、有
害物質を分解させ無害化するための触媒を充填すること
も可能である。触媒もダストが付着すると表面の活性が
失われるため、振動篩２４で付着したダストを除去する
ことで、再使用することができる。
には、活性炭Ｃと共に、あるいは活性炭Ｃに代えて、有
害物質を分解させ無害化するための触媒を充填すること
も可能である。触媒もダストが付着すると表面の活性が
失われるため、振動篩２４で付着したダストを除去する
ことで、再使用することができる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の有害物質
除去用の充填塔は、排ガス処理能力が大きく、充填塔か
らの粉塵の発生が防止でき、後段に集塵装置を設置する
必要がない。また、活性炭の交換を適切且つ容易に行う
ことができ、付着したダストを除去して活性炭を再利用
できるのでランニングコストが低減される。
除去用の充填塔は、排ガス処理能力が大きく、充填塔か
らの粉塵の発生が防止でき、後段に集塵装置を設置する
必要がない。また、活性炭の交換を適切且つ容易に行う
ことができ、付着したダストを除去して活性炭を再利用
できるのでランニングコストが低減される。
【図１】本発明の実施の一形態である有害物質除去用の
充填塔を備えた廃棄物処理設備の排ガス処理系の構成図
である。
充填塔を備えた廃棄物処理設備の排ガス処理系の構成図
である。
【図２】充填塔の構成図である。
【図３】充填塔のメッシュフロアの充填空間の断面積を
減少させた状態を示す説明図である。
減少させた状態を示す説明図である。
【図４】従来の移動層式活性炭充填塔の構成の説明図で
ある。
ある。
【図５】従来の固定層式活性炭充填塔の構成の説明図で
ある。
ある。
【図６】従来の活性炭支持床を設けた活性炭充填塔の構
成の説明図である。
成の説明図である。
１ 排ガス経路
４ ガス冷却塔
５ 集塵装置
６ 誘引ファン
７ 煙突
８ 充填塔
９ 入口ダンパ
１０ 出口ダンパ
１１ ケーシング
１２ 投入口
１３ 排出口
１４ メッシュフロア
１５ ボトムトラフ
１６ トッププレート
１７ シリンダ
１８ 投入バルブ
１９ 活性炭ホッパ
２０ 供給バルブ
２１ 活性炭供給コンベヤ
２３ 排出バルブ
２４ 振動篩
２５ リターンコンベヤ
３０ 圧力検出器
Ｃ 活性炭
─────────────────────────────────────────────────────
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０１Ｄ 53/81 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｊ
Ｆ２３Ｊ 15/00
Ｆターム(参考） 3K070 DA01 DA03 DA05 DA24 DA45
DA62
4D002 AA02 AA19 AA21 AA28 AA29
AC04 BA04 BA13 BA14 CA07
CA08 DA41 EA07 EA13 GA02
GB04
Claims (3)
- 【請求項１】 廃棄物処理設備の排ガス経路中に設けら
れる有害物質除去用の充填塔であって、ケーシング内に
上部の投入口から下部の排出口へ傾斜してケーシングを
横断するメッシュフロアを設け、メッシュフロアの充填
空間内に活性炭を充填することを特徴とする有害物質除
去用の充填塔。 - 【請求項２】 メッシュフロアの充填空間の断面積を可
変としたことを特徴とする請求項１記載の有害物質除去
用の充填塔。 - 【請求項３】 ケーシング内にメッシュフロアを挟んで
圧力検出器を設け、排出口の下に活性炭のクリーニング
装置を設けたことを特徴とする請求項１または請求項２
記載の有害物質除去用の充填塔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001199958A JP2003010639A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 有害物質除去用の充填塔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001199958A JP2003010639A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 有害物質除去用の充填塔 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003010639A true JP2003010639A (ja) | 2003-01-14 |
Family
ID=19037166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001199958A Pending JP2003010639A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 有害物質除去用の充填塔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003010639A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001199958A patent/JP2003010639A/ja active Pending
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