JP2003008139A - 半導体レーザの光出力制御回路 - Google Patents

半導体レーザの光出力制御回路

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JP2003008139A
JP2003008139A JP2001184294A JP2001184294A JP2003008139A JP 2003008139 A JP2003008139 A JP 2003008139A JP 2001184294 A JP2001184294 A JP 2001184294A JP 2001184294 A JP2001184294 A JP 2001184294A JP 2003008139 A JP2003008139 A JP 2003008139A
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Shuichi Kato
秀一 加藤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光出力のダイナミックレンジを広く確保し、
光出力を低く設定した場合でも光出力設定値に対するば
らつき量の割合を増大させずに安定した光出力を得られ
るようにした、回路規模の小さい半導体レーザの光出力
制御回路を提供する。 【解決手段】 レーザダイオード6の光出力を検出する
フォトダイオード2と、フォトダイオードの出力電流を
利得切り替え可能に増幅する電流増幅回路7と増幅した
電流を電圧に変換するI/V変換回路8とからなる光出
力モニタ電圧生成部9と、基準電圧を出力する基準電圧
源3と、光出力モニタ電圧生成部の出力と基準電圧との
差をレーザ駆動源に負帰還する比較整流回路4と、比較
整流回路4の出力を基にレーザダイオードの駆動電流を
生成するレーザ駆動回路5とで半導体レーザの光出力制
御回路を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、トランジスタを
利用した半導体レーザの光出力制御回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、一般的に用いられる半導体レーザ
の光出力制御回路としては、例えば特開平8−2983
37号公報に開示されている、図8に示すような構成の
ものが知られている。図8において、101 は電源、102
は接地電位、103 は光出力を検出するフォトダイオード
(PD)、104 は抵抗、105 は抵抗104 からなるフォト
ダイオード103 の出力電流を電圧に変換する光出力モニ
タ電圧生成部、106 は光出力を制御する基準電圧源、10
7 は光出力モニタ電圧生成部105 の出力電圧と基準電圧
源106 の基準電圧Vref の差をレーザ駆動電流源に負帰
還する比較・整流回路、108 は比較・整流回路107 の出
力をもとにレーザ駆動電流を生成するレーザ駆動回路、
109 はレーザ駆動回路108 のレーザ駆動電流を光出力に
変換するレーザダイオード(LD)である。
【0003】このように構成されている半導体レーザの
光出力制御回路においては、基準電圧源106 の出力電位
(Vref )を変動させることで光出力を調整しており、
Vref と光出力の関係は図9に示すようになる。図9か
らわかるように、光出力のダイナミックレンジは、Vre
f の最大値と傾きaによって決まる。ここで、傾きaを
決める要素は、フォトダイオード(PD)103 が光出力
を電流に変換する電流変換率(ai)及び光出力モニタ電
圧生成部105 でフォトダイオード(PD)103の出力で
ある光検出電流を電圧に変換する電圧変換率(av)、つ
まり抵抗104 の抵抗値(R1 )である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に構成された半導体レーザの光出力制御回路では、フォ
トダイオード(PD)103 とレーザダイオード(LD)
109 は通常同一パッケージに組み込まれており、電流変
換率(ai)を変更するためには別の製品のパッケージに
交換するしかない。したがって、パッケージを交換せず
に広いダイナミックレンジを確保するためには、光出力
モニタ電圧生成部105 を構成する抵抗104の抵抗値(R1
)を大きな値に設定すればよい。しかし、傾きaを大
きくすると、基準電圧源106 の基準電圧Vref の値がば
らついたときの光出力のばらつき量が増大するという別
の問題が生じる。特に、光出力を低く設定した場合に
は、光出力設定値に対するばらつき量の割合が大きくな
るため問題となる。
【0005】また、前記パッケージは、同一製品におい
ても電流変換率(ai)のばらつきが非常に大きい(約5
倍〜10倍)という特徴を有するため、電流変換率(ai)
以外の要素、つまり電圧変換率(av)による光出力のダ
イナミックレンジを広く確保できなければ、同一製品の
パッケージにおいても、製品によって所定の光出力を確
保できなくなるという問題が生じる。例えば、電流変換
率(ai)が10倍に変更された場合に電圧変換率(av)の
変更ができなければ、同一の光出力を得るために基準電
圧Vref も約10倍にしなければならなくなる。
【0006】これらの問題を解決するために、従来技術
では、光出力設定値によって光出力モニタ電圧生成部10
5 の抵抗104 の抵抗値R1 を適当な値のものに入れ替え
たり、光出力モニタ電圧生成部105 の抵抗をボリューム
抵抗にして、製品組み込み前に最適化することで対処し
てきた。しかしこの場合、製品組み込み後の変更は不可
能となる。また、図10に示すように、光出力モニタ電圧
生成部105 を3つの抵抗と切り替え選択スイッチとで構
成したり、あるいは図11に示すように、フォトダイオー
ド103 でモニタ光を変換した電圧を増幅する異なる利得
Gv1,Gv2,Gv3を有する3個の電圧増幅器110 ,111
,112 からの出力を、モニタ出力選択回路113 で選択
して出力するようにし、電圧変換率(av)を電気信号に
よって変更できる構成にすることで、製品組み込み後の
変更を可能とする方式も取られてきたが、図10に示す構
成の場合は抵抗を複数個必要とし、図11に示す構成にお
いても電圧増幅器(オペアンプ)が複数個必要になるな
ど、回路規模が増大するという欠点がある。
【0007】本発明は、従来の半導体レーザの光出力制
御回路における上記問題点を解消するためになされたも
ので、光出力のダイナミックレンジを広く確保し、あら
ゆる特性のレーザダイオードとフォトダイオードのパッ
ケージにおいても所定の光出力が得られ、また光出力を
低く設定した場合にも光出力設定値に対するばらつき量
の割合を増大させずに、安定した光出力を得られるよう
にした半導体レーザの光出力制御回路を、容易に且つ回
路規模を小さくして実現することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、請求項1に係る発明は、半導体レーザの光出力をフ
ォトダイオードによって検出し、当該検出値を処理して
レーザ駆動回路に負帰還することにより光出力を制御す
る半導体レーザの光出力制御回路において、前記半導体
レーザの光出力を検出して処理する光検出値処理回路
は、フォトダイオードの出力である光検出電流を、スイ
ッチによってn倍(nは正の実数)に切り替え可能に変
換した電流を電圧変換する光出力モニタ電圧生成部を備
えていることを特徴とするものである。
【0009】このように構成した半導体レーザの光出力
制御回路において、フォトダイオードの光検出電流をス
イッチによってn倍に切り替え可能にして光出力モニタ
電圧生成部の電圧変換率を切り替え可能な構成にしてい
るので、光出力のダイナミックレンジを広く確保し、あ
らゆる特性のレーザダイオードとフォトダイオードのパ
ッケージにおいても所定の光出力を得ることができ、ま
た低い光出力設定の場合にも光出力設定値に対するばら
つき量を増大させずに安定した光出力を得ることができ
る。また光出力モニタ電圧生成部を、フォトダイオード
の光検出電流をn倍に増幅後にI/V変換する構成にし
ているので、回路規模を小さくすることができる。
【0010】請求項2に係る発明は、請求項1に係る半
導体レーザの光出力制御回路において、前記光出力モニ
タ電圧生成部は、ゲートがドレインに接続され、ソース
が第1の電源に接続された第1のMOSトランジスタ
と、ゲートが第1のMOSトランジスタのゲートに接続
され、ソースが第1のMOSトランジスタのソースに接
続されたP個(Pは正の整数)の第2のMOSトランジ
スタと、前記P個の第2のMOSトランジスタの一部又
は全部の個々のドレインに一端が接続されたQ個(Qは
正の整数、Q≦P)の電流遮断スイッチとから構成さ
れ、前記Q個の電流遮断スイッチの他端と、前記P個の
第2のMOSトランジスタのうち前記電流遮断スイッチ
が接続されていない第2のMOSトランジスタのドレイ
ンとの接続点より、第1のMOSトランジスタのドレイ
ンに供給された光検出電流をn倍(nは正の実数)に切
り替え可能に変換した電流を取り出し、そのn倍に変換
後の電流を電圧変換するように構成されていることを特
徴とするものである。
【0011】このように構成した半導体レーザの光出力
制御回路において、光出力モニタ電圧生成部の電圧変換
率を電流遮断スイッチを用いて切り替え可能に構成して
いるので、光出力のダイナミックレンジを広く確保し、
あらゆる特性のレーザダイオードとフォトダイオードの
パッケージにおいても所定の光出力を得ることができ、
また低い光出力設定の場合にも光出力設定値に対するば
らつき量を増大させずに安定した光出力を得ることがで
きる。また光出力モニタ電圧生成部において、フォトダ
イオードの光検出電流をn倍に増幅する回路を、第1の
MOSトランジスタと第2のMOSトランジスタからな
る簡単なカレントミラー回路と、電流遮断スイッチを組
み合わせて構成しているので、回路規模を小さくするこ
とができる。
【0012】
【発明の実施の形態】次に、実施の形態について説明す
る。図1は、本発明に係る半導体レーザの光出力制御回
路の第1の実施の形態を示すブロック構成図で、請求項
1に係る発明に対応する実施の形態である。図1におい
て、1は電源、2は光出力を検出するフォトダイオード
(PD)、3は基準電圧Vref を出力する基準電圧源、
4は後述の光出力モニタ電圧生成部の出力と基準電圧V
ref との差をレーザ駆動源に負帰還する比較整流回路、
5は比較整流回路4の出力をもとにレーザダイオードの
駆動電流を生成するレーザ駆動回路、6はレーザダイオ
ード(LD)、7は利得切り替え可能な電流増幅回路、
8はI/V変換回路であり、電流増幅回路7とI/V変
換回路8とで光出力モニタ電圧生成部9を構成してい
る。
【0013】次に、このように構成した第1の実施の形
態の動作について説明する。利得切り替え可能な電流増
幅回路7において、切り替え可能な利得をG1 ,G2 ,
G3(G1 <G2 <G3 )としたときの、基準電圧源3
の出力電位(Vref )と光出力の関係は、図2に示すよ
うになる。この構成の光出力制御回路においては、光出
力モニタ電圧生成部9の電圧変換率が大きい程、光出力
を小さくするように大きな負帰還制御がかかるため、フ
ォトダイオード2の出力電流を大きな電流に変換する利
得G3 を選択した場合には、小さな電流に変換する利得
G1 を選択した場合より、I/V変換後の負帰還量が増
大し、基準電圧Vref を上昇させたときの光出力の上昇
率(図2における傾き)が小さくなる。
【0014】このような構成にすることで、光出力を大
きな値に設定するときには利得の小さいG1 を選択して
大きな光出力を得、光出力を小さな値に設定するときに
は利得の大きいG3 を選択して基準電圧Vref の変動に
対する光出力のばらつきを小さくして、安定した光出力
を得ることが可能となる。
【0015】また、この実施の形態に係る半導体レーザ
の光出力制御回路においては、光出力モニタ電圧生成部
9を、フォトダイオード(PD)2の出力電流をスイッ
チによってn倍(nは正の実数)に増幅した後に、I/
V変換する構成にしているので、図10,図11に示した従
来例のような抵抗やオペアンプを多用した光出力モニタ
電圧生成部を用いるより、回路規模を小さくすることが
できる。
【0016】次に、第2の実施の形態を図3に基づいて
説明する。この実施の形態は請求項1及び2に係る発明
に対応するもので、図1に示した第1の実施の形態と同
一又は対応する部材には、同一符号を付して示してい
る。図3において、1は電源、2はフォトダイオード
(PD)、3は基準電圧源、4は比較整流回路、5はレ
ーザ駆動回路、6はレーザダイオード(LD)、9は光
出力モニタ電圧生成部である。この光出力モニタ電圧生
成部9は、ゲートがドレインに接続され、ソースを接地
電位10に接続したNMOSトランジスタ11と、ゲートを
前記NMOSトランジスタ11のゲートに接続し、ソース
を接地電位10に接続したNMOSトランジスタ12,13,
14と、NMOSトランジスタ12,13のドレインに一端を
接続し、他端をNMOSトランジスタ14のドレインに接
続した電流遮断スイッチ17,18と、ゲートとドレインと
を前記電流遮断スイッチ17,18とNMOSトランジスタ
14のドレインとの接続点Aに接続し、ソースを電源1に
接続したPMOSトランジスタ15と、ゲートを前記PM
OSトランジスタ15のゲートに接続し、ソースを電源1
に接続したPMOSトランジスタ16と、該PMOSトラ
ンジスタ16のドレインに一端を接続し、他端を接地電位
10に接続した抵抗19とで構成されており、フォトダイオ
ード2は前記NMOSトランジスタ11のソース及びゲー
トに接続され、比較整流回路4は前記PMOSトランジ
スタ16のドレインと抵抗19との接続点Bに接続されてい
る。
【0017】そして、前記NMOSトランジスタ11,1
2,13,14及びPMOSトランジスタ15,16は、それぞ
れカレントミラー回路を構成しており、接地電位10が請
求項2中の電源、NMOSトランジスタ11が請求項2中
の第1のMOSトランジスタ、NMOSトランジスタ12
〜14が請求項2中のP個のMOSトランジスタ、電流遮
断スイッチ17,18が請求項2中のQ個の電流遮断スイッ
チ、接続点Aが請求項2中の接続点Aにそれぞれ対応し
ている。
【0018】次に、この実施の形態の動作について説明
する。光出力モニタ電圧生成部9において、NMOSト
ランジスタ11〜14のゲート長を同一とし、NMOSトラ
ンジスタ11のゲート幅をW,NMOSトランジスタ12,
14のゲート幅を 0.4×W,NMOSトランジスタ13のゲ
ート幅を 0.8×Wとし、NMOSトランジスタ11のソー
スに供給されるフォトダイオード(PD)2の出力電流
値をImとすると、接続点Aより取り出せる電流値は、
電流遮断スイッチ17,18の開閉の組み合わせにより、次
のように表される。 スイッチ(17)が開、スイッチ(18)が開の場合 0.4×Im スイッチ(17)が閉、スイッチ(18)が開の場合 0.8×Im スイッチ(17)が開、スイッチ(18)が閉の場合 1.2×Im スイッチ(17)が閉、スイッチ(18)が閉の場合 1.6×Im
【0019】そして、この接続点Aより取り出した電流
を抵抗19に供給することでI/V変換し、これにより光
出力モニタ電圧生成部9の電圧変換率を切り替えるよう
にしている。
【0020】このような構成にすることで、光出力を大
きな値に設定するときには、接続点Aより取り出せる電
流値が小さくなるように電流遮断スイッチ17,18を切り
替えて大きな光出力を得、光出力を小さな値に設定する
ときには、接続点Aより取り出せる電流値が大きくなる
ように電流遮断スイッチ17,18を切り替えて、基準電圧
源3の出力電位(Vref )の変動に対する光出力のばら
つきを小さくして、安定した光出力を得ることが可能と
なる。
【0021】また、この実施の形態に係る半導体レーザ
の光出力制御回路においては、フォトダイオード(P
D)2の出力電流をスイッチによってn倍(nは正の実
数)に増幅する電流増幅部を、NMOSトランジスタ11
〜14からなる簡単なカレントミラー回路と、電流遮断ス
イッチ17,18とを組み合わせて構成し、その電流増幅部
を用いて光出力モニタ電圧生成部9を構成するようにし
ているので、図10,図11に示した従来例のような、抵抗
やオペアンプを多用した光出力モニタ電圧生成部を用い
るより、回路規模を小さくすることができる。
【0022】図4は、図3に示した第2の実施の形態に
おける各構成部材を、更に具体的な回路構成で示した第
3の実施の形態を示す図であり、図3に示した第2の実
施の形態と対応する部分には同一の符号を付して示して
いる。この実施の形態において、20〜23は抵抗、24はオ
ペアンプ、25は容量、26はNMOSトランジスタ、1
7′,18′はNMOSトランジスタ、27,28はスイッチ
制御用可変電圧源であり、抵抗20〜22,オペアンプ24,
容量25で比較整流回路4を構成しており、PMOSトラ
ンジスタ26,抵抗23でレーザ駆動回路5が構成されてお
り、NMOSトランジスタ17′及び18′で電流遮断スイ
ッチが構成されている。
【0023】ここで、NMOSトランジスタ17′,18′
からなる電流遮断スイッチは、それぞれ可変電圧源27,
28の出力(Vswa ,Vswb )が高い時にスイッチ閉、低
い時にスイッチ開となり、スイッチ制御が可変電圧源2
7,28の出力Vswa 及びVswbの高→低、又は低→高電圧
への切り替えで行われるようになっている。
【0024】次に、この実施の形態の動作について説明
する。光出力モニタ電圧生成部9において、NMOSト
ランジスタ11〜14のゲート長を同一とし、NMOSトラ
ンジスタ11のゲート幅をW,NMOSトランジスタ12,
14のゲート幅を 0.4×W,NMOSトランジスタ13のゲ
ート幅を 0.8×Wとし、PMOSトランジスタ15,16の
サイズを同一とし、NMOSトランジスタ11のソースに
供給されるフォトダイオード(PD)2の出力電流値を
Imとすると、Imを増幅して接続点Aに出力するNM
OSトランジスタ11〜14,NMOSトランジスタ17′,
18′からなる電流増幅部の電流増幅率(Gi )は、電流
遮断スイッチ(NMOSトランジスタ17′,18′)の開
閉の組み合わせにより、次のように表される。 スイッチ(17′) が開、スイッチ(18′) が開の場合 Gi = 0.4 スイッチ(17′) が閉、スイッチ(18′) が開の場合 Gi = 0.8 スイッチ(17′) が開、スイッチ(18′) が閉の場合 Gi = 1.2 スイッチ(17′) が閉、スイッチ(18′) が閉の場合 Gi = 1.6
【0025】ここで、電流増幅率Gi を用いて基準電圧
源3の出力(基準電圧)Vref と光出力pwの関係式を導
くと、次式(1)のように表される。但し、レーザダイ
オード(LD)6に流れる電流の光出力への変換率をa
p,光出力のフォトダイオード出力電流値Imへの変換
率をai,PMOSトランジスタ26のゲート−ソース間電
圧をVgs,抵抗19の抵抗値をR1 ,抵抗20の抵抗値をR
2 ,抵抗21の抵抗値をR3 ,抵抗23の抵抗値をR4 と
し、R3 はR1 より非常に大きい値であり、接続点Bか
ら抵抗20へ流れる電流I0 は0Aとみなせるものとす
る。 pw=〔{Vref −(pw×ai×Gi ×R1 −Vref)/R2 ×R3 }−Vgs〕 /R4 ×ap ・・・・・・・・・・・・・・・・・(1)
【0026】上記(1)式を整理すると、次式(2)の
ように表される。 pw=〔{Vref ×(R2 ×ap+ap×R3 )−R2 ×ap×Vgs} /(R4 ×R2 +Gi ×R1 ×R3 ×ai×ap) ・・・・・・・(2)
【0027】ここで、R3 ≫R4 ×R2 ,R3 ≫R2 ×
ap×Vgs,R3 ≫R2 ×apとすると、上記(2)式は次
式(3)のように表される。 pw=Vref /(Gi ×R1 ×ai) ・・・・・・・・・・(3)
【0028】上記(3)式からわかるように、光出力pw
のVref に対する変化率は電流増幅率Gi の値に反比例
する関係となる。したがって、Vref と光出力の関係は
図5に示すようになる。
【0029】以上より、この実施の形態では、光出力を
大きい値に設定するときには、電流増幅率Gi の値が小
さくなるように電流遮断スイッチ(NMOSトランジス
タ17′,18′)を制御して大きな光出力を得、光出力を
小さい値に設定するときには、電流増幅率Gi の値が大
きくなるように電流遮断スイッチ(NMOSトランジス
タ17′,18′)を制御して、基準電圧Vref の変動によ
る光出力のばらつきを抑えることができる。
【0030】なお、上記第3の実施の形態の構成は、当
然、各種の変形、変更が可能である。例えば、図6は、
図4に示した第3の実施の形態の構成において、レーザ
ダイオード(LD)及びフォトダイオード(PD)を接
地電位側に接続し、図4において11〜14のNMOSトラ
ンジスタで構成されたカレントミラー部を図6の11〜14
のPMOSトランジスタで、図4において17,18のNM
OSトランジスタで構成されたスイッチ部を図6の17,
18のPMOSトランジスタで、図4において15,16のP
MOSトランジスタで構成されたカレントミラー部を図
6の15,16のNMOSトランジスタで、図4において26
のNMOSトランジスタで構成されたLD駆動部を図6
の26のPMOSトランジスタで構成した場合の第3の実
施の形態の変形例の回路構成を示す図であり、対応する
部材には便宜上同一符号を付して示している。この変形
例の動作は図4に示した第3の実施の形態と同様であ
り、同様の効果が得られる。但し、図6に示す変形例に
おいて、電流遮断スイッチ(PMOSトランジスタ1
7′,18′)は、それぞれ可変電圧源27,28の出力電圧
(Vswa ,Vswb )が低い時にスイッチ閉、高い時にス
イッチ開となる。
【0031】また、図7は、図3に示した第2の実施の
形態において、その光出力モニタ電圧生成部9に対し
て、光出力パワーダウン用のMOSトランジスタを用い
たスイッチ30,31を付加して構成した第2の実施の形態
の変形例を示す図であり、パワーダウン用スイッチがO
N(スイッチ30を構成するNMOSトランジスタのゲー
ト電位が高電位、スイッチ31を構成するPMOSトラン
ジスタのゲート電位が低電位)の状態においては、光出
力は低出力に固定される。パワーダウン用スイッチがO
FF(スイッチ30用のNMOSトランジスタのゲート電
位が低電位、スイッチ31用のPMOSトランジスタの電
位が高電位)にした後の作用は、図3に示した第2の実
施の形態と同様であり、同様の効果が得られる。
【0032】
【発明の効果】以上実施の形態に基づいて説明したよう
に、本発明によれば、フォトダイオードの光検出電流を
スイッチによってn倍に切り替え可能にして光出力モニ
タ電圧生成部の電圧変換率を切り替え可能な構成にして
いるので、光出力のダイナミックレンジを広く確保し、
あらゆる特性のレーザダイオードとフォトダイオードの
パッケージにおいても所定の光出力を得ることができ、
また低い光出力設定の場合にも光出力設定値に対するば
らつき量を増大させずに安定した光出力を得ることがで
きる。また光出力モニタ電圧生成部を、フォトダイオー
ドの光検出電流をn倍に増幅後にI/V変換する構成に
しているので、回路規模を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体レーザの光出力制御回路の
第1の実施の形態を示すブロック構成図である。
【図2】図1に示した第1の実施の形態における基準電
圧源の出力電位Vref と光出力との関係を示す図であ
る。
【図3】本発明の第2の実施の形態を示す回路構成図で
ある。
【図4】本発明の第3の実施の形態を示す回路構成図で
ある。
【図5】第3の実施の形態における基準電圧源の出力電
位Vref と光出力との関係を示す図である。
【図6】図4に示した第3の実施の形態の変形例を示す
図である。
【図7】図3に示した第2の実施の形態の変形例を示す
図である。
【図8】従来の半導体レーザの光出力制御回路の構成例
を示す図である。
【図9】図8に示した従来例における基準電圧源の出力
電位Vref と光出力との関係を示す図である。
【図10】従来の半導体レーザの光出力制御回路の他の構
成例の主要部を示す図である。
【図11】従来の半導体レーザの光出力制御回路の更に他
の構成例の主要部を示す図である。
【符号の説明】
1 電源 2 フォトダイオード 3 基準電圧源 4 比較整流回路 5 レーザ駆動回路 6 レーザダイオード 7 利得切り替え可能な電流増幅回路 8 I/V変換回路 9 光出力モニタ電圧生成部 10 接地電位 11,12,13,14,17',18',26 NMOSトランジスタ 15,16 PMOSトランジスタ 17,18 電流遮断スイッチ 19,20,21,22,23 抵抗 24 オペアンプ 25 容量 27,28 スイッチ制御用可変電源 30,31 スイッチ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザの光出力をフォトダイオー
    ドによって検出し、当該検出値を処理してレーザ駆動回
    路に負帰還することにより光出力を制御する半導体レー
    ザの光出力制御回路において、前記半導体レーザの光出
    力を検出して処理する光検出値処理回路は、フォトダイ
    オードの出力である光検出電流を、スイッチによってn
    倍(nは正の実数)に切り替え可能に変換した電流を電
    圧変換する光出力モニタ電圧生成部を備えていることを
    特徴とする半導体レーザの光出力制御回路。
  2. 【請求項2】 前記光出力モニタ電圧生成部は、ゲート
    がドレインに接続され、ソースが第1の電源に接続され
    た第1のMOSトランジスタと、ゲートが第1のMOS
    トランジスタのゲートに接続され、ソースが第1のMO
    Sトランジスタのソースに接続されたP個(Pは正の整
    数)の第2のMOSトランジスタと、前記P個の第2の
    MOSトランジスタの一部又は全部の個々のドレインに
    一端が接続されたQ個(Qは正の整数、Q≦P)の電流
    遮断スイッチとから構成され、前記Q個の電流遮断スイ
    ッチの他端と、前記P個の第2のMOSトランジスタの
    うち前記電流遮断スイッチが接続されていない第2のM
    OSトランジスタのドレインとの接続点より、第1のM
    OSトランジスタのドレインに供給された光検出電流を
    n倍(nは正の実数)に切り替え可能に変換した電流を
    取り出し、そのn倍に変換後の電流を電圧変換するよう
    に構成されていることを特徴とする請求項1に係る半導
    体レーザの光出力制御回路。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066592A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Mitsubishi Electric Corp 光送信器
US7986720B2 (en) 2008-06-27 2011-07-26 Nec Corporation Circuit and method for driving light-emitting element and optical transmitter
CN105842705A (zh) * 2016-04-28 2016-08-10 中国工程物理研究院流体物理研究所 光功率控制系统、控制方法及激光多普勒测速仪

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