JP2002534757A - 最適な消去及び書込みパワーを決定する方法及び前記方法のための装置を具える記録装置 - Google Patents

最適な消去及び書込みパワーを決定する方法及び前記方法のための装置を具える記録装置

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JP2002534757A JP2000592826A JP2000592826A JP2002534757A JP 2002534757 A JP2002534757 A JP 2002534757A JP 2000592826 A JP2000592826 A JP 2000592826A JP 2000592826 A JP2000592826 A JP 2000592826A JP 2002534757 A JP2002534757 A JP 2002534757A
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Abstract

(57)【要約】 本出願は、光学記録担体(85)上の情報を消去し且つ書き込むための最適消去及び書込みパワー(17)を決定する方法及び装置に関連する。これらの最適パワーは、正規化反射パワー(12)がテストパワー(11)に対してプロットされている曲線(10)内の特定の点(22)及び(24)において求められる2つのパワーPmin(15)及びPmax(16)から決定される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に高いパワ
ーを有する照射パルスで該記録担体を局所的に加熱することによりマークが提供
され、前記変化が照射パルスの低減された反射によって明らかになる(manifest)
タイプである光学記録担体に提供されたマークを消去するための最適消去パワー
を決定する方法に関する。
【0002】 本発明は更に、光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に高い
パワーを有する照射パルスで記録担体を局所的に加熱することによりマークが提
供され、前記変化が照射パルスの低減された反射によって明らかになる、光学記
録担体にマークを提供するための最適書込みパワーを決定する方法に関する。
【0003】 本発明は更に、照射ビームにより書き込み可能(inscribable)であり、光学
記録担体の特性に関する情報を含むエリアを有する、本発明による方法のうちの
1つに使用される光学記録担体に関する。
【0004】 本発明は、光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に高いパワ
ーを有する照射パルスで記録担体を局所的に加熱することによりマークが提供さ
れ、前記変化は照射パルスの低減された反射によって明らかになるタイプである
光学記録担体に提供されたマークを消去するために必要とされる最適消去パワー
を決定する較正装置を有する記録装置に関する。
【0005】 本発明は更に、光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に高い
パワーを有する照射パルスで記録担体を局所的に加熱することによりマークが提
供され、前記の変化が照射パルスの低減された反射によって明らかになる、光学
記録担体にマークを提供するために必要とされる最適書込みパワーを決定する較
正装置を有する記録装置に関する。
【0006】 本発明は更に、記録装置において使用される較正装置に関する。
【0007】
【従来の技術】
最適消去パワー及び最適書込みパワーは、使用される記録担体の特性及び記録
装置の特性に依存する。従ってこれらのパワーは、所与の記録担体が記録装置に
おいて使用されるたびに決定されるべきである。
【0008】 これらのパワーを決定するための方法及び装置は、とりわけヨーロッパ特許出
願EP0737962(株式会社リコー)から知られている。この出願では、記
録担体と記録装置とのそれぞれの組合せについて定められるべき変調パワー曲線
を参照して最適書込みパワーが決定される方法を記述している。変調パワー曲線
は、書込みパワー(P)の広い範囲で記録担体にマークを提供し、続いてそれ
ぞれの書込みパワーについて関連するマークの変調(m)、すなわちマーク無し
のエリアから到来する反射パワーに対してのマークから到来する反射パワーを測
定することにより定められる。このようにして得られる変調値は、変調パワー曲
線(m(P))において関連する書込みパワーに対してプロットされる。その
後、前述の変調パワー曲線(m(P))の正規化1次導関数(γ=(dm/d
).(P/m))を表す曲線(γ曲線)が決定される。このγ曲線は、高
い方の書込みパワーにおいてγがほんのわずかに減少する漸近的な変化を有して
いる。最適書込みパワーは、導関数γのあらかじめ決められた値に関連するパワ
ーを選択することにより求められる。続いて最適消去パワーは、求められた最適
書込みパワーに線形に依存している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
γ曲線のように漸近的に変化する曲線からは明確な値をあまり良好に決定する
ことができない。γのあらかじめ決められた値である入力値の小さな変化は、最
適書込みパワーである出力値に大きな変化を起こさせることがある。さらに、変
調パワー曲線を決定する際、最適書込みパワーより高い書込みパワーが使用され
るので不必要に高い温度が記録担体に生じることになる。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、記録担体に不必要な高温を引き起こすことを回避しながら最適消去
パワーを明確に決定する方法及び最適書込みパワーを明確に決定する方法を提供
することを目的とする。
【0011】 本発明によれば、この目的は、最適消去パワーを決定する方法であって、第1
のパワーを有する照射パルスで記録担体を局所的に加熱することにより記録担体
上にマークを提供する準備ステップと、次いで、第2のパワーより低いパワーで
記録担体が照射されると、準備ステップにおいて提供されたマークの位置におけ
る記録担体の光学特性が実質的に変化せず、第2のパワーより高いパワーで記録
担体が照射されると、提供されたマークの位置における記録担体の光学特性が変
化して正規化反射パワーが増加する、照射パルスの該第2のパワー(Pmin
を決定する第1の測定ステップと、記録担体が準備ステップにおいて提供された
マークの位置において第3のパワーで照射されると、記録担体の光学特性が、正
規化反射パワーが最大になる程度にまで変化する、照射パルスの前記第3のパワ
ー(Pmax)を決定する第2の測定ステップと、次いで、αがあらかじめ知ら
れた定数であり、βが記録担体の特性に依存する変数であるとすると、 方程式
【数5】 から最適消去パワー(PEO)を決定する比較ステップと、を有することを特徴 とする方法によって達成される。正規化反射パワー(R)は、記録担体が照射さ れるパワーに関係する反射パワーを意味することを理解されたい。
【0012】 この方法の利点は、ある方程式を介して結果的に最適消去パワーを与える決定
されるべきパワーPmin及びPmaxが、準備ステップにおいて提供されたマ
ークの位置における記録担体への照射パワー(P)に対して正規化反射パワー(
R)がプロットされた曲線上の変曲点に位置するのでそれらを明確に決定するこ
とができるということである。これは、1次導関数dR/dPが、パワーPmi 及びPmaxにおいて値又は符号の急激な変化を示すので、これらのパワーを
単純且つ明確な方法で決定することができることを意味する。この方法の更なる
利点は、決定されるパワーPmin及びPmaxが、準備ステップにおいて記録
担体上にマークが提供される際に用いられる書込み方法にほとんど依存しないこ
とである。更に、上記の方法を連続して実施することにより記録担体上の同じ位
置にマークが提供される回数が、決定されるパワーPmin及びPmaxに大き
な影響を及ぼすこともない。
【0013】 本発明によれば、上記の目的は、最適書込みパワーを決定する方法であって、
第1のパワーを有する照射パルスで記録担体を局所的に加熱することにより記録
担体上にマークを提供する準備ステップと、次いで、第2のパワーより低いパワ
ーで記録担体が照射されると、準備ステップにおいて提供されたマークの位置に
おける記録担体の光学特性は実質的に変化せず、第2のパワーより高いパワーで
記録担体が照射されると、提供されたマークの位置における記録担体の光学特性
は、正規化反射パワーが増加する程度にまで変化する、照射パルスの該第2のパ
ワー(Pmin)を決定する第1の測定ステップと、準備ステップにおいて提供
されたマークの位置において記録担体が第3のパワーで照射されると、記録担体
の光学特性が変化して正規化反射パワーが最大になる、照射パルスの前記第3の
パワー(Pmax)を決定する第2の測定ステップと、次いで、αがあらかじめ
知られた定数であり、β及びδが記録担体の特性に依存する変数であるとすると
、 方程式
【数6】 から最適書込みパワー(PWO)を決定する比較ステップと、を有することを特 徴とする。
【0014】 この方法においても、パワーPmin及びPmaxは、準備ステップにおいて
提供されたマークの位置における記録担体が照射されるパワー(P)に対する正
規化反射パワー(R)がプロットされた曲線上の変曲点に位置するのでそれらを
明確に決定することができる。決定されるパワーPmin及びPmaxは、書込
み方法及びその方法を実施する回数にほとんど依存しない。
【0015】 記述した方法は、とりわけ「相変化」タイプの光学記録担体を使用する際に適
用できる。この場合、記録担体を局所的に加熱して結晶状態から非結晶状態(及
びその逆)への局所的な遷移を生じさせることによりマークが記録担体に提供さ
れる。
【0016】 本発明による方法の別の実施例は、第1の測定ステップが少なくとも2つのサ
ブステップを含んみ、これらのサブステップの中で、記録担体は、提供されたマ
ークの位置において選択された値のテストパワーを有する照射パルスで照射され
、このテストパワーは、照射されたマークの位置における記録担体の光学特性が
実質的に変化しないかぎり連続するサブステップの中で増加し、これらのサブス
テップは、照射されたマークの位置における記録担体の光学特性が正規化反射パ
ワーが増加する程度にまで変化するとすぐに終了され、次いで、第1の最終ステ
ップにおいて、最後のサブステップのテストパワーの値が第2のパワー(Pmi )に割り当てられることを特徴とする。
【0017】 この実施例の利点は、第2のパワー(Pmin)より少し高いテストパワーで
照射したときの正規化反射パワーが、第2のパワー(Pmin)より少し低いテ
ストパワーで照射したときの正規化反射パワーに対してかなり急激な変化を示す
ので、連続するサブステップのシーケンスが明らかなストップ基準により終了さ
れるということである。
【0018】 本発明による方法の別の実施例は、第2の測定ステップが少なくとも2つのサ
ブステップを含み、これらのサブステップの中で、記録担体は、提供されたマー
クの位置において選択された値のテストパワーを有する照射パルスで照射され、
このテストパワーは、連続するサブステップの中で増加し、これらのサブステッ
プは、照射されたマークの位置における記録担体の光学特性が正規化反射パワー
が減少する程度にまで変化するとすぐに終了され、次いで、第2の最終ステップ
において、最後のサブステップのテストパワーの値が第3のパワー(Pmax
に割り当てられることを特徴とする。
【0019】 この実施例の利点は、第3のパワー(Pmax)より少し高いテストパワーで
照射したときの正規化反射パワーが、第3のパワー(Pmax)より少し低いテ
ストパワーで照射したときの正規化反射パワーに対してかなり急激な減少を示す
ので、連続するサブステップのシーケンスが明らかなストップ基準により終了さ
れるということである。この実施例の別の利点は、上記のテストパワーが、マー
クを提供するために必要とされる最小パワーより高くならないということである
。結果として記録担体は不必要に高いテストパワーを有する照射パルスで照射さ
れることがなくなり、従って記録担体において不必要に高い温度が生じなくて済
む。
【0020】 本発明による方法の別の実施例は、準備ステップにおいて提供されるマークが
、適用される符号化方法により許容される最大長であることを特徴とする。
【0021】 この実施例では、この方法の範囲内で許容される可能な限り長いマークが提供
される。例えば、(d,k)RLL符号化方法が適用されるとき、チャネル−ビ
ット長(すなわちI(d+I)キャリア)の(d+1)倍の長さをもつマークが
適用される。
【0022】 これらの可能な限り長いマークの長さは、記録担体に関する照射パルスのビー
ム断面の直径より少なくとも大きい。この実施例の利点は、これらのマークを提
供することにより、正規化反射パワー(R)の最大限に明確な遷移がマークとマ
ーク無しのエリアとの間で得られることである。これは、マークの位置における
記録担体の光学特性が、マーク無しのエリアの光学特性とわずかしか異ならない
場合に特に重要である。
【0023】 本発明による方法の別の実施例は、準備ステップにおいて提供されるマークは
、EFM+(Eight-to-Fourteen Modulation Plus)符号化方法に従ってI11
キャリアを用いて符号化されることを特徴とする。
【0024】 この実施例では、EFM+符号化方法の範囲内で可能となる最長のマークが提
供される。この方法はとりわけDVDシステムにおいて使用される。
【0025】 本発明による方法の別の実施例は、準備ステップにおいて提供されるマークが
選択された識別可能なエリアに提供されることを特徴とする。
【0026】 例えばトラックの限られた数のセクタにマークを提供するようにしてもよい。
この実施例の利点は、測定ステップを、例えばトラック全体のような一層広いエ
リアにマークを提供するときよりも迅速に実施することができるということであ
る。
【0027】 本発明による方法の実施例は、選択された識別可能なエリアが記録担体の表面
にわたって均一に分布していることを特徴とする。
【0028】 この実施例の利点は、識別可能なエリアが記録担体の表面に均一に分布してい
ない場合と比べて、記録担体の表面にわたって均一に分布していない記録担体の
光学特性の不規則性によってもたらされる測定ステップの結果への影響が小さい
ということである。記録担体の表面にわたって均一に分布しているエリアを使用
することによって、記録担体の全体に適用される消去パワー及び書込みパワーの
最適値が求められる。
【0029】 本発明による方法の別の実施例は、比較ステップにおいて係数αが2の値を有
することを特徴とする。
【0030】 当業者であれば、係数αは(Pmin+Pmax)/Pminと(Pmin
max)/Pmaxとの間のいかなる値をも取りうることが分かるであろうが
、測定においてβがほぼ1であるとすると、係数αを2の値としたときに上記の
方法が最適消去パワー及び書込みパワーの良好な近似を与えることが分かった。
【0031】 本発明による方法の別の実施例は、比較ステップにおける係数αが2の値を有
し、比較ステップにおける係数βが0.7から1.3まで間の値を有することを
特徴とする。
【0032】 測定によって、上記の範囲内のβの値が消去パワー及び書込みパワーの最適値
を与えるということが判明した。これらの最適値が得られるβの値は、使用され
る記録担体の特性に依存する。
【0033】 本発明による方法の別の実施例は、比較ステージにおける係数βが記録担体の
特性に関する情報を含む記録担体上のエリアから読み込まれることを特徴とする
【0034】 消去パワー及び書込みパワーの最適値が得られるβの値は、使用される記録担
体の特性に依存するので、この値は記録担体の生成の間に一度決定することがで
き、この記録担体上に定めることが可能である。
【0035】 本発明の別の目的は、本発明による方法のうちの1つにおいて使用される光学
記録担体を提供することである。
【0036】 本発明による光学記録担体は、記録担体の特性に関する情報を含むエリアが、
本発明による方法の比較ステージで使用される係数βの値を有することを特徴と
する。
【0037】 本発明による光学記録担体は、記録担体の特性に関する情報を含むエリアが、
本発明による方法の比較ステージにおいて使用される係数δの値を有することを
特徴とする。
【0038】 消去パワー及び書込みパワーの最適値が得られるβ及びδのそれぞれの値は記
録担体の特性に依存するので、この値は、記録担体の生成の間に一度決定するこ
とができ、その後、記録担体の特性に関する情報を含む記録担体上のエリアに記
憶することが可能である。
【0039】 このようなエリアは、たとえばCD−R(記録可能なコンパクトディスク)の
リードインエリア内のいわゆるプリグルーブである。このプリグルーブは補助信
号を用いて周波数変調され、記録担体の特性に関する情報が補助信号に符号化さ
れる。プリグルーブ内に記録されるそのような情報を有する記録担体の説明は、
ヨーロッパ特許公開公報EP0397238に記述されている。このようなエリ
アの別の例としては記録担体の制御エリアがある。このような記録担体は、ユー
ザ情報を書き込むための情報記録エリアと、記録担体上への書込み、読取り及び
消去情報について関連した情報を記憶するための制御エリアとに分割されている
。β及びδのそれぞれの符号化された値は、この制御エリア内のマークのパター
ンとして記憶することができる。制御エリアは型押しされてもよい。
【0040】 異なるタイプ(例えば光学タイプ)の記録媒体は、例えばテープの開始部分に
おいてまたは補助トラックに沿って光学記録担体の特性に関する情報を有するエ
リアを設けることにより、異なる方法で記録担体の特性に関する情報を具えるこ
とが可能である。
【0041】 記録担体の特性に関する情報を含む記録担体上のエリアに記憶することができ
る記録担体の特性に関する他の情報は、例えば1つ又は複数の記録スピードや、
バイアスパワーレベルのような記録の間に使用される照射ビームの固定のパワー
レベル、照射パルスの持続期間及びデューティサイクルを有する。
【0042】 本発明による方法の別の実施例は、比較ステップにおける係数δが、記録担体
の特性に関する情報を含む記録担体上のエリアから読み込まれることを特徴とす
る。
【0043】 書込みパワーの最適値が得られるδの値は、使用される記録担体の特性に依存
するので、この値は、記録担体の生成の間に一度決定することができ、その記録
担体上に定められることが可能である。
【0044】 本発明の別の目的は、最適消去パワーを決定する方法を使用する記録装置と、
最適書込みパワーを決定する方法を使用する記録装置とを提供することである。
【0045】 本発明による記録装置は、較正装置が、第1のパワーを有する照射パルスで記
録担体を局所的に加熱することによりマークを記録担体上に提供し、第2のパワ
ーより低いパワーで記録担体が照射されると、提供されたマークの位置における
記録担体の光学特性は実質的に変化せず、第2のパワーより高いパワーで記録担
体が照射されると、提供されたマークの位置における記録担体の光学特性が変化
して正規化反射パワーが増加する、照射パルスの該第2のパワー(Pmin)を
決定し、記録担体が提供されたマークの位置において第3のパワーで照射される
と、その記録担体の光学特性が、正規化反射パワーが最大になる程度にまで変化
する、照射パルスの該第3のパワー(Pmax)を決定し、αがあらかじめ知ら
れた定数であり、βが記録担体の特性に依存する変数であるとしたとき、 方程式
【数7】 から最適消去パワー(PEO)を決定するように構成されることを特徴とする。
【0046】 本発明による記録装置は、較正装置が、第1のパワーを有する照射パルスで記
録担体を局所的に加熱することによりマークを記録担体上に提供し、第2のパワ
ーより低いパワーで記録担体が照射されると、提供されたマークの位置における
記録担体の光学特性は実質的に変化せず、第2のパワーより高いパワーで記録担
体が照射されると、提供されたマークの位置における記録担体の光学特性は、正
規化反射パワーが増大する程度にまで変化する、照射パルスの該第2のパワー(
min)を決定し、記録担体が提供されたマークの位置において第3のパワー
で照射されると、その記録担体の光学特性が変化して正規化反射パワーが最大に
なる、照射パルスの該第3のパワー(Pmax)を決定し、αがあらかじめ知ら
れた定数であり、β及びδが記録担体の特性に依存する変数であるとしたとき、 方程式
【数8】 から最適書込みパワー(PWO)を決定するように構成されることを特徴とする 。
【0047】 本発明のこれら及び他の特徴は、以下に記述した実施例を参照して明らかにな
るであろう。
【0048】
【発明の実施の形態】
図1の曲線(10)は、準備ステップで提供されたマークの位置において記録
担体が照射されるテストパワーP(11)と、正規化反射パワーR(12)との
間の関係を概略的に示している。第2のパワーPmin(15)は、曲線が、実
質的に一定の正規化反射パワー(21)を有するエリアと増加する正規化反射パ
ワー(23)を有するエリアとの間に位置する変曲点(22)を有するパワーで
ある。第3のパワーPmax(16)は、正規化反射パワーが最大Rmax(1
9)となるパワーである。これは更に、曲線が、増加する正規化反射パワー(2
3)を有するエリアと減少する正規化反射パワー(25)を有するエリアとの間
に位置する変曲点(24)を有するパワーである。最適消去パワー(17)は、
min(15)とPmax(16)との間にある。
【0049】 図2は、任意の装置ユニットにおいてテストパワーP(11)の関数として正
規化反射パワーR(12)の多数の測定結果の例(31ないし34)を示すグラ
フである。測定31では、準備ステップにおいてマークを提供するための書込み
方法が使用されており、この方法は、測定32ないし34において使用される書
込み方法とは異なっている。測定31及び32は、前の測定が何ら実施されてい
ない記録担体上で実施されたものである。測定33及び34は、以前の測定が測
定33については100回、測定34については1000回行われた記録担体上
で実施された。その際、マークは常に記録担体上の同じ位置に提供された。グラ
フに示している測定により、Pmin(15)及びPmax(16)は、使用さ
れる書込み方法及び1つの同じ記録担体上で測定を実施した回数には比較的依存
しないことが判明した。
【0050】 図3は、本発明による方法のフローチャートを示している。準備ステップ(4
0)において、マークが記録担体上に提供される。続いて第1の測定ステップ(
41)において、第2のパワーPminを決定することができ、次いで第2の測
定ステップ(42)において、第3のパワーPmaxを決定することができる。
準備ステップ(40)の後、第2の測定ステップ(42)において第3のパワー
maxを決定することができ、次いで第1の測定ステップ(41)において、
第2のパワーPminを決定することができる。両方の測定ステップが実施され
ると、比較ステップ(43)において消去パワー及び書込みパワーのそれぞれの
最適値が決定される。
【0051】 図4Aは、Pminを決定するための第1の測定ステップ(41)の一実施例
のフローチャートを示しており、図4Bは、Pmaxを決定するための第2の測
定ステップ(42)の一実施例のフローチャートを示している。ブロック51に
おいて、初期値1がカウンタnに割り当てられる。カウンタは、実施されるサブ
ステップの数を常に把握する。続いてブロック52において、記録担体は、準備
ステップ(40)において提供されたマークの位置において選択された値P(1
)のテストパワーを有する照射パルスで照射され、このテストパワーに関連する
正規化反射パワーR(1)が測定される。ブロック53において、実施されるサ
ブステップの数を常に把握するカウンタnが1だけ増やされる。次いでブロック
54において、記録担体は、準備ステップ(40)において提供されたマークの
位置において、直前のステップのテストパワーの値P(n−1)より大きいテス
トパワーの値P(n)を有する照射パルスで照射され、このテストパワーに関連
する正規化反射パワーR(n)が測定される。
【0052】 図4Aの比較ブロック551では、現在のサブステップの正規化反射パワーR
(n)が直前のサブステップの正規化反射パワーR(n−1)と比較される。2
つのパワーが実質的に等しい場合、経路581を介してブロック53及び54が
繰り返される。2つのパワーが実質的に等しくない場合、経路591を介して、
ブロック561において最後のサブステップのテストパワーの値P(n)がP in に割り当てられる。
【0053】 図4Bの比較ブロック552では、現在のサブステップR(n)における正規
化反射パワーが、直前のサブステップR(n−1)における正規化反射パワーと
比較される。R(n)の値がR(n−1)の値より小さい場合、経路592を介
してブロック562において、最後のサブステップにおけるテストパワーの値P
(n)がPmaxに割り当てられる。R(n)の値がR(n−1)の値より大き
い場合、経路582を介してブロック53及び54が繰り返される。
【0054】 図5は、本発明による記録装置内の較正装置(60)のブロック図である。ブ
ロック81は、記録装置内の光学系を示している。光学系は、光学記録担体(8
5)に照射パルス(84)を照射し、反射した照射パルスを受け取ってそれらを
情報信号(71)に変換する。光学系(81)は、制御ロジックを有するブロッ
ク(82)により駆動される。この制御ロジック・ブロック(82)は、とりわ
け照射パルス(84)のパワーを制御する。較正装置(60)は、本発明の方法
に従って準備ステップを実施するための制御ロジックを有するブロック(61)
と、本発明の方法に従って第1の測定ステップを実施するための制御ロジックを
有するブロック(62)と、本発明の方法に従って第2の測定ステップを実施す
るための制御ロジックを有するブロック(63)と、本発明の方法に従って比較
ステップを実施するための制御ロジックをもつブロック(64)とを有する。
【0055】 ブロック61は、光学記録担体(85)上にマークを提供するために必要とさ
れる情報を制御信号72を介して制御ロジック(82)に送る。ブロック62及
び63は、測定ステップを実施するために必要とされる情報を制御信号73を介
して制御ロジック(82)に送る。情報信号(71)は、反射した照射パルスに
関する情報をブロック62及び63に供給する。ブロック62は、第1の測定ス
テップの結果を信号75を介してブロック64に供給し、ブロック63は、第2
の測定ステップの結果を信号76を介してブロック64に供給する。このブロッ
ク64は、最適消去パワー及び最適書込みパワーを信号79を介して記録装置に
供給する。パラメータβ及びδに関する情報は、光学記録担体(85)からの情
報信号71を介してまたは記録装置からの信号78を介して得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】正規化反射パワー(R)と、準備ステップにおいて提供されたマー
ク位置において記録担体が照射されるテストパワー(P)との関係を概略的に示
すグラフ。
【図2】テストパワー(P)の関数として正規化反射パワー(R)の多数の
測定結果例を示すグラフ。
【図3】本発明による方法のフローチャート。
【図4A】本発明による方法の実施例のフローチャート。
【図4B】本発明による方法の実施例のフローチャート。
【図5】本発明による記録装置内の較正装置のブロック図。
【符号の説明】
60 較正装置 81 光学系 85 記録担体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG ,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 ヴァン ヴォウデンベルグ ローエル オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン 6 (72)発明者 スプルイト ヨハネス エッチ エム オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン 6 Fターム(参考) 5D029 PA03 5D090 BB04 CC06 CC18 DD03 EE09 KK03 5D119 AA23 AA26 BA01 BB03 HA45 HA52

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に高
    いパワーを有する照射パルスで該記録担体を局所的に加熱することによりマーク
    が提供され、前記変化は照射パルスの低減された反射によって明らかになるタイ
    プの光学記録担体に提供されたマークを消去するための光学的消去パワーを決定
    する方法であって、 第1のパワーを有する照射パルスで前記記録担体を局所的に加熱することによ
    り該記録担体上にマークを提供する準備ステップと、次いで、 第2のパワーより低いパワーで前記記録担体が照射されると、前記準備ステッ
    プにおいて提供された前記マークの位置における該記録担体の光学特性は実質的
    に変化せず、該第2のパワーより高いパワーで該記録担体が照射されると、提供
    された該マークの位置における該記録担体の光学特性は正規化反射パワーが増加
    する程度にまで変化する、照射パルスの該第2のパワーPminを決定する第1
    の測定ステップと、 前記準備ステップにおいて提供された前記マークの位置において前記記録担体
    が第3のパワーで照射されると、該記録担体の光学特性が変化して正規化反射パ
    ワーが最大になる、照射パルスの該第3のパワーPmaxを決定する第2の測定
    ステップと、次いで、 αがあらかじめ知られている定数であり、βが前記記録担体の特性に依存する
    変数であるとしたとき、 方程式 【数1】 から最適消去パワーPEOを決定する比較ステップと、 有することを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に高
    いパワーを有する照射パルスで該記録担体を局所的に加熱することによりマーク
    が提供され、前記変化は照射パルスの低減された反射によって明らかになる、光
    学記録担体にマークを提供するための光学的書込みパワーを決定する方法であっ
    て、 第1のパワーを有する照射パルスで前記記録担体を局所的に加熱することによ
    り該記録担体上にマークを提供する準備ステップと、次いで、 第2のパワーより低いパワーで前記記録担体が照射されると、前記準備ステッ
    プにおいて提供された前記マークの位置における該記録担体の光学特性は実質的
    に変化せず、該第2のパワーより高いパワーで該記録担体が照射されると、提供
    された該マークの位置における該記録担体の光学特性は、正規化反射パワーが増
    加する程度にまで変化する、照射パルスの該第2のパワーPminを決定する第
    1の測定ステップと、 前記準備ステップにおいて提供された前記マークの位置において前記記録担体
    が第3のパワーで照射されると、該記録担体の光学特性が変化して正規化反射パ
    ワーが最大になる、照射パルスの該第3のパワーPmaxを決定する第2の測定
    ステップと、次いで、 αがあらかじめ知られた定数であり、β及びδが前記記録担体の特性に依存す
    る変数であるとしたとき、 方程式 【数2】 から最適書込みパワーPwoを決定する比較ステップと、 を有することを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】 第1の測定ステップは、少なくとも2つのサブステップを含
    み、前記サブステップにおいて、 前記記録担体は、提供された前記マークの位置において選択された値のテスト
    パワーを有する照射パルスで照射され、該テストパワーは、照射された該マーク
    の位置における該記録担体の光学特性が実質的に変化しない限り連続するサブス
    テップの中で増加し、 前記サブステップは、照射された前記マークの位置における前記記録担体の光
    学特性が正規化反射パワーが増加する程度にまで変化するとすぐに終了され、次
    いで、 第1の最終ステップにおいて、最後のサブステップのテストパワーの値が前記
    第2のパワーPminに割り当てられることを特徴とする、請求項1又は請求項
    2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記第2の測定ステップは、少なくとも2つのサブステップ
    を含み、前記サブステップにおいて、 前記記録担体は、提供された前記マークの位置において選択された値のテスト
    パワーを有する照射パルスで照射され、前記テストパワーは、連続するサブステ
    ップの中で増加し、 前記サブステップは、照射された前記マークの位置における前記記録担体の光
    学特性が正規化反射パワーが減少する程度にまで変化するとすぐに終了され、次
    いで、 第2の最終ステップにおいて、最後のサブステップのテストパワーの値が前記
    第3のパワーPmaxに割り当てられることを特徴とする、請求項1又は請求項
    2に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記準備ステップにおいて提供されるマークは、適用される
    符号化方法によって許容される最大長であることを特徴とする、請求項1又は請
    求項2に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記準備ステップにおいて提供されるマークは、EFM+(
    Eight-to-Fourteen Modulation Plus)符号化方法に従ってI11キャリアを用
    いて符号化されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記準備ステップにおいて提供されるマークは、選択される
    識別可能なエリアに提供されることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載
    の方法。
  8. 【請求項8】 選択される前記識別可能なエリアは、前記記録担体の表面に
    わたって均一に分布していることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記比較ステップにおける係数αは、2の値を有することを
    特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記比較ステップにおける係数αは2の値を有し、前記比
    較ステップにおけるβは、0.7から1.3までの間の値を有することを特徴と
    する、請求項1又は請求項2に記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記比較ステップにおける係数βは、前記記録担体の特性
    に関する情報を含む該記録担体上のエリアから読み取られることを特徴とする、
    請求項1又は請求項2に記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記比較ステップにおける係数δは、前記記録担体の特性
    に関する情報を含む該記録担体上のエリアから読み取られることを特徴とする、
    請求項2に記載の方法。
  13. 【請求項13】 照射ビームにより書き込み可能であり、光学記録担体の特
    性に関する情報を含むエリアを有する、請求項1ないし請求項12のいずれか1
    項に記載の方法において使用される光学記録担体であって、 前記記録担体の特性に関する情報を含む前記エリアは、前記方法の比較ステー
    ジにおいて使用される係数βの値を含むことを特徴とする、光学記録担体。
  14. 【請求項14】 照射ビームにより書き込み可能であり、光学記録担体の特
    性に関する情報を含むエリアを有する、請求項1ないし請求項12のいずれか1
    項に記載の方法において使用される光学記録担体であって、 前記記録担体の特性に関する情報を含む前記エリアは、前記方法の比較ステー
    ジにおいて使用される係数δの値を含むことを特徴とする、光学記録担体。
  15. 【請求項15】 光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に
    高いパワーを有する照射パルスで該記録担体を局所的に加熱することによりマー
    クが提供され、前記変化は照射パルスの低減された反射によって明らかになるタ
    イプの該光学記録担体に提供されたマークを消去するために必要とされる最適消
    去パワーを決定する較正装置を有する記録装置であって、前記較正装置は、 第1のパワーを有する照射パルスで前記記録担体を局所的に加熱することによ
    り該記録担体上にマークを提供し、 第2のパワーより低いパワーで前記記録担体が照射されると、提供された前記
    マークの位置における該記録担体の光学特性は実質的に変更せず、該第2のパワ
    ーより高いパワーで該記録担体が照射されると、提供された該マークの位置にお
    ける該記録担体の光学特性は、正規化反射パワーが増加する程度にまで変化する
    、照射パルスの該第2のパワーPminを決定し、 前記記録担体が提供された前記マークの位置において第3のパワーで照射され
    ると、該記録担体の光学特性が変化して正規化反射パワーが最大になる、照射パ
    ルスの該第3のパワーPmaxを決定し、 αがあらかじめ知られている定数であり、βが前記記録担体の特性に依存する
    変数であるとしたとき、 方程式 【数3】 から最適消去パワーPEOを決定するように構成されることを特徴とする、記録 装置。
  16. 【請求項16】 光学記録担体の光学特性に変化を起こさせるように十分に
    高いパワーを有する照射パルスで該記録担体を局所的に加熱することによりマー
    クが提供され、前記変化は照射パルスの低減された反射によって明らかになる、
    光学記録担体にマークを提供するために必要とされる最適書込みパワーを決定す
    る較正装置を有する記録装置であって、前記較正装置は、 第1のパワーを有する照射パルスで前記記録担体を局所的に加熱することによ
    り前記記録担体上にマークを提供し、 第2のパワーより低いパワーで前記記録担体が照射されると、提供された前記
    マークの位置における該記録担体の光学特性は実質的に変化せず、該第2のパワ
    ーより高いパワーで該記録担体が照射されると、提供された該マークの位置にお
    ける該記録担体の光学特性は正規化反射パワーが増加する程度にまで変化する、
    照射パルスの該第2のパワーPminを決定し、 前記記録担体が提供された前記マークの位置において第3のパワーで照射され
    ると、該記録担体の光学特性が変化して正規化反射パワーが最大になる、照射パ
    ルスの該第3のパワーPmaxを決定し、 αがあらかじめ知られている定数であり、β及びδが前記記録担体の特性に依
    存する変数であるとしたとき、 方程式 【数4】 から最適書込みパワーPWOを決定するように構成されることを特徴とする、記 録装置。
  17. 【請求項17】 請求項15又は請求項16に記載の記録装置において使用
    される較正装置。
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