CN1296610A - 确定最佳擦除和写入功率的方法、以及带有使用所述方法的设备的记录装置 - Google Patents

确定最佳擦除和写入功率的方法、以及带有使用所述方法的设备的记录装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及用于确定擦除和写入光记录载体(85)信息的最佳擦除(17)和写入功率的方法和装置。从其中标准反射功率(12)与测试功率(11)相对的图示曲线中的两个特定点(22)和(24)上找到的Pmin(15)和Pmax(16)中确定这些最佳功率。

Description

确定最佳擦除和写入功率的方法、 以及带有使用所述方法的设备的记录装置
本发明涉及一种确定用于擦除在一种光记录介质中所提供标记的最佳擦除功率的方法，其中，在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的：通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著。
本发明还涉及一种确定用于在光记录介质上提供标记的最佳写入功率的方法，其中通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著。
本发明还涉及用于根据本发明的其中一种方法的光记录介质，该记录介质是由射线束可刻的，并且包含有其中包括有关所述光记录介质的特性的信息的区域。
本发明还进一步涉及一种记录装置，该装置包括用于确定用于擦除在一种光记录介质中所提供标记的最佳擦除功率的校准装置，其中，在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的：通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著。
本发明还进一步涉及一种记录装置，该装置包括用于确定用于在一种光记录介质中所提供标记所需的最佳写入功率的校准装置，其中，在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的：通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著。
本发明还涉及一种在记录装置中所使用的校准装置。
最佳擦除功率和最佳写入功率是依赖于所使用的记录介质的特性以及记录装置的各种特性。因此，只要在记录装置中使用一个给定的记录介质，就应该可以确定这些功率值。
用于确定这些功率值的方法和装置是公知的，尤其是可以从EP0737962(Ricoh有限公司)中可以了解到。该申请描述了一种方法，其中可以参考对于每个记录介质和记录装置的组合是固定的调制功率曲线来确定最佳写入功率。通过在大范围的写入功率(PW)中在记录介质上提供标记并且通过随后检测每个写入功率的相关标记的调制值(m)来确定所述调制功率曲线，该调制值是来自一个标记上的反射功率相对于来自没有标记区域的反射功率的值。可以在调制功率曲线(m(PW))上相对于相关的写入功率来画出因此而获得的调制值。随后，可以确定代表前述调制功率曲线(m(PW))的归一化一阶导数(γ=(dm/dPW)·(PW/m))的曲线(γ曲线)。这条γ曲线具有渐近的变化，在较高的写入功率处仅产生γ的轻微减少。通过选择与导数γ的预定值相关的功率来发现最佳的写入功率。最佳擦除功率随后线性依赖于所发现的最佳写入功率。
不可能从诸如γ曲线这样的渐近变化曲线中确定一个明确的值。输入值的微小改变、γ的预定值都可能导致输出信号即最佳写入功率的较大的变化。另外，当确定调制功率曲线时，使用位于最佳写入功率之上的写入功率从而在记录介质上导致不必要的高温。
本发明的一个目的是提供一种明确确定最佳擦除功率的方法并提供一种明确确定最佳写入功率的方法并能避免在记录介质中产生不必要的高温。
根据本发明，通过借助于确定最佳擦除功率的方法来获得这个目的，这种方法的特征在于该方法包括一个准备步骤：通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，随后是确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)的第一检测步骤，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变，以便于归一化的反射功率增加，而第二检测步骤确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变到被归一化的反射功率变得最大的程度，随后是从下列方程中确定最佳擦除功率(PEO)的比较步骤 P EO = β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β是依赖于记录介质特性的一个变量。可以理解，归一化反射功率(R)表示相对于照射记录介质的功率处的反射功率。
该方法的一个好处是可以从最佳擦除功率所遵循的方程中明确地确定待定的功率Pmin和Pmax，这是因为它们都处于曲线的拐点处，而该在曲线中，相对于在准备步骤中所提供的标记位置处照射记录介质的功率(P)来划出归一化的反射功率(R)。这意味着，一阶导数dR/dP在功率处Pmin和Pmax展现出数值或符号的突变从而可以以一种简单和明确的方式来确定这些功率。该方法的另一个好处体现在所确定的这些功率Pmin和Pmax几乎不依赖于在准备步骤中在记录介质上提供标记所用的写入方法。同样，连续执行其中在记录介质的相同位置上每次所提供标记的方法的次数不受所确定功率Pmin和Pmax的显著影响。
根据本发明，该目的是借助于确定最佳写入功率的方法来进一步获得的，其特征在于，该方法包括一个准备步骤：通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，随后是确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)的第一检测步骤，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变为归一化的反射功率增加的程度，而第二检测步骤确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变以便于归一化的反射功率变得最大，随后是从下列方程中确定最佳写入功率(PWO)的比较步骤 P WO = δ · β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β和δ是依赖于记录介质特性的一个变量。
同样在该方法中，可以明确地确定功率Pmin和Pmax这是因为它们都处于曲线的拐点处，而该在曲线中，相对于在准备步骤中所提供的标记位置处照射记录介质的功率(P)来划出归一化的反射功率(R)，并且所确定的这些功率Pmin和Pmax几乎不依赖于写入方法以及执行该方法的次数。
当使用“相变”类型的光记录介质时，可以使用所述这些方法，其中在产生从晶态到无定形状态以及相反情况的局部转换的影响下，通过局部加热该记录介质从而在该记录介质上提供标记。
根据本发明的该方法的一个实施例其特征在于；第一检测步骤包括至少两个子步骤，在这些子步骤中，在所提供的标记位置处用具有所选的一个测试值的辐射脉冲来照射该记录介质，其中，只要位于所照射标记位置处的记录介质的光学特性基本不变，则在连续的子步骤中，测试功率增加，并且一旦位于所照射标记位置处的记录介质的光学特性改变到使归一化反射功率增加的程度，则停止这些子步骤，随后是第一最后步骤，其中将在最后一个子步骤中的测试功率值设置到第二功率(Pmin)。
这个实施例的一个优点是可以通过一个清楚的停止标准来终止系列连续的子步骤，这是因为以仅高于第二功率(Pmin)的测试功率照射下的归一化反射功率相对于以仅低于第二功率(Pmin)的测试功率照射下的归一化反射功率而言，显示出了相当陡峭的增加。
根据本发明的实施例其特征在于：第二检测步骤包括至少两个子步骤，在这些子步骤中，在所提供的标记位置处用具有所选值的一个测试功率的辐射脉冲来照射该记录介质，其中在这些连续子步骤中测试功率增加并且一旦位于所照射标记位置处的记录介质的光学特性改变到使归一化反射功率减少的程度，则停止这些子步骤，随后是第二最后步骤，其中将在最后一个子步骤中的测试功率值设置到第三功率(Pmax)。
这个实施例的一个优点是可以通过一个清楚的停止标准来终止一系列连续的子步骤，这是因为以仅高于第三功率(Pmax)的测试功率照射下的归一化反射功率相对于以仅低于第三功率(Pmax)的测试功率照射下的归一化反射功率而言，显示出了相当陡峭的增加。这个实施例的另一个优点是：这些测试功率不会变得比提供标记所需的最小功率要高。因此，不用具有不必要高的测试功率的辐射脉冲来照射该记录介质，从而在该记录介质中不会导致不必要高的温度。
根据本发明的实施例，其特征在于在准备步骤中所提供的这些标记具有一个最大长度，该最大长度是由所采用的编码方法所允许的最大长度。
在该实施例中，提供了在方法范围内所允许的可能有的最长标记。例如，当采用(d，k)RLL编码方法时，提供具有(d+1)长度乘以信道-比特-长度(即，I(d+I)载体)的一个标记。
相对于该记录介质而言，这些可能有的最长标记的长度至少大于辐射脉冲的横截面直径。该实施例的一个好处是，由于提供了这些标记，在一个标记和一个没有标记区域之间可以获得归一化反射功率中的最大限度的明确的转换。这对于其中位于标记位置上的记录介质的光学特性略微不同于没有标记区域中的光学特性的地方特别重要。
根据本发明的方法的一个实施例，其特征在于，根据EFM+(8到14调制+)编码方法使用I11载体对在准备步骤中所提供的这些标记进行编码。
在该实施例中，在DVD系统中所使用的EFM+编码方法范围内可以提供可能最长的这些标记。
根据本发明的一个实施例，其特征在于在所选的可辨别区域内提供在准备步骤中所提供的那些标记。
例如，可以在一条轨道的有限数目的扇区内提供这些标记。该实施例的一个好处是可以比当在例如一条完整轨道上这样较大区域内提供标记时更快地执行检测步骤。
根据本发明的一个实施例，其特征在于所选的可辨别区域均匀分布在记录介质的表面上。
该实施例的一个优点是，记录介质的光学特性的不规则性，即不是均匀分布在记录介质的表面上，该不规则性与其中可辨别区域不均匀分布在记录介质表面上的情况相比，对所述检测步骤的检测结果具有较小的影响。通过使用均匀分布在记录介质表面上的区域，可以发现用于整个记录介质的擦除功率和写入功率的最佳值。
根据本发明的方法的一个实施例，其特征在于比较步骤中的因子α其值为2。
尽管对于本领域技术人员而言，可以将因子α假设为(Pmin+Pmax)/Pmin和(Pmin+Pmax)/Pmax之间的任何一个值，在检测过程中可以发现，在α为2时，如果假设β为接近于1，则该方法可以产生最佳擦除功率和写入功率的最好的接近度。
根据本发明方法的一个实施例，其特征在于比较步骤中的因子α为2，并且比较步骤中的因子β为0.7和1.3之间的一个值。
检测过程证明在可以产生用于擦除功率和写入功率的最佳值的所述范围内的β值具有这样一个值：即，在该值上可以依赖于所使用记录介质特性来获得这些最佳值。
根据本发明方法的一个实施例，其特征在于从记录介质中的一个区域中读出比较步骤中的因子β，其中所述区域包括有关该记录介质特性的信息。
由于对于可以获得用于擦除功率和写入功率的最佳值的β值依赖于所使用记录介质的特性，因此，一旦在记录介质的制造过程中确定了这个值就可以固定在该记录介质上。
本发明的另一个目的是可以提供可用于根据本发明的这些方法中的一种光记录介质。
根据本发明的光记录介质，其特征在于包括有关记录介质特性信息的区域包括在根据本发明的方法中的比较步骤中所使用的因子β的值。
根据本发明的光记录介质，其特征在于包括有关记录介质特性信息的区域包括在根据本发明的方法中的比较步骤中所使用的因子δ的值。
由于对于可以获得用于擦除功率和写入功率的最佳值的β和δ值依赖于所使用记录介质的特性，因此，一旦在记录介质的制造过程中确定了这个值并且可以连续存储在包括有关记录介质特性信息的记录介质的区域上。
这样一个区域例如是所谓的位于可记录致密盘(CD-R)上的导入区中的预置槽。该预置槽是用辅助信号频率调制的，并且有关记录介质特性的信息被编码在辅助信号中。可以在EP0397238中发现对于带有记录在预置槽中的信息的记录介质的描述。这种区域的另一个例子是在记录介质上的控制区，其中该记录介质被分成用于写入用户信息的信息记录区以及用于存储与写入、读出以及擦除信息相关的信息的控制区。可以将β和的编码值作为标记模式来存储。该控制区可以被压印。
诸如光学类型的不同类型的记录介质可以以不同的方式带有有关记录介质特性的信息，例如，通过在磁带的开始部分或沿着辅助轨道来安排包括有关光记录介质特性的信息。
可以被存储在记录介质区域中的其他有关记录介质特性的信息包括例如，一个或多个记录速度、在记录过程中所使用的射线束的固定电平比如偏置电平、以及辐射脉冲的持续时间和运行周期。
根据本发明方法的一个实施例，其特征在于从记录介质中的一个区域中读出比较步骤中的因子δ，其中所述区域包括有关该记录介质特性的信息。
由于对于可以获得用于擦除功率和写入功率的最佳值的δ值依赖于所使用记录介质的特性，因此，一旦在记录介质的制造过程中确定了这个值就可以固定在该记录介质上。
本发明的另一个目的是提供一种使用确定最佳擦除功率方法的记录装置，以及使用确定最佳写入功率方法的记录装置。
根据本发明的记录装置，其特征在于，采用一个校准装置来完成下列工作：通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，并且确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变从而使归一化的反射功率增加，并且确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变为使归一化的反射功率变得最大的程度，然后是从下列方程中确定最佳擦除功率(PEO)的比较步骤 P EO = β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β是依赖于记录介质特性的一个变量。
根据本发明的记录装置，其特征在于，采用一个校准装置来完成下列工作：通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，并且确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变到使归一化的反射功率增加的程度，并且确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以所述第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变为归一化的反射功率变为最大，然后是从下列方程中确定最佳写入功率(PWO)的比较步骤 P WO = δ · β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β和δ是依赖于记录介质特性的一个变量。
发明的这些以及其他方面是显然的，并且参考下面要描述的这些实施例将进一步对其进行阐述。
附图中：
图1是用图示的方法显示当在准备步骤中所提供的标记位置处照射该记录介质时的归一化反射功率(R)和测试功率(P)之间关系的图，
图2是显示作为测试功率(P)函数的归一化反射功率(R)的检测次数的结果例子的图，
图3显示了根据本发明的方法的流程图，
图4显示了根据本发明的方法的流程图，以及
图5是根据本发明的记录装置中的校准装置的框图。
图1中的曲线用图示的方法显示了在准备步骤中所提供的标记位置处照射记录介质(11)时的测试功率P和归一化擦除功率R(12)之间的关系。第二功率Pmin(15)是这样一个功率值，即在该功率值上，曲线上具有设置在具有基本为常数的归一化反射功率(21)的区域和具有增加的反射功率(23)的区域之间的一个反射点(22)。第三功率Pmax(16)是这样一个功率值，即在该功率值上归一化反射功率最大即Rmax(19)。还是这个功率值，在该功率值上，曲线上具有设置在具有增加的归一化反射功率(23)的区域和具有减少的归一化反射功率(25)的区域之间的一个反射点(24)。最佳的擦除功率(17)位于Pmin(15)和Pmax(16)之间。
图2是显示在任一个单元中，作为测试功率P(11)函数的归一化反射功率R(12)检测次数结果(31到34)的例子的图。在检测过程31中，使用用于在准备步骤中提供标记的写入方法，该方法偏离于在检测过程32到34中所使用的写入方法。检测过程31和32是在以前没有执行过检测过程的记录介质上进行的。检测过程33和34是在以前已经在检测过程33中执行100个检测以及在检测过程34中执行1000次检测的记录介质上进行的，其中，标记总是被提供在记录介质相同的位置上。在该图中所显示的检测证明了Pmin(15)和Pmax(16)是相对不依赖于所使用的写入方法以及在一个和相同记录介质上所执行的检测次数。
图3显示了根据本发明的方法的流程图。在准备步骤(40)中，在记录介质上提供标记。随后，可以在第一检测步骤(41)中确定第二功率Pmin，随后在第二检测步骤(42)中确定第三功率Pmax。在准备步骤(40)之后，可以在第二检测步骤(42)中确定第三功率Pmax，随后在第一检测步骤(41)中确定第二功率Pmin。当已经执行了这些检测步骤之后，在比较步骤(43)中分别确定擦除功率和写入功率的最佳值。
图4A示出了用于确定Pmin的第一检测步骤(41)的一个实施例的流程图，图4B示出了用于确定Pmax的第二检测步骤(42)的一个实施例的流程图。在方框51中，将初始值1设置给保持所执行子步骤数的轨道的计数器n。随后，在方框52中，在由准备步骤(40)所提供的标记位置处，用具有所选值的测试功率P(1)的辐射脉冲来照射记录介质，并检测与检测到的该测试功率相关的归一化反射功率R(1)。在方框53中，将保持所执行子步骤数的轨道的计数器n增加1。在方框54中，在由准备步骤(40)所提供的标记位置处，用具有值为P(n)的测试功率的辐射脉冲来照射记录介质并检测与检测到的该测试功率相关的归一化反射功率R(n)，其中，该测试功率P(n)大于前一个步骤P(n-1)中的测试功率值。
在图4A的比较方框551中，将当前子步骤中的归一化反射功率R(n)与前一个子步骤中的归一化反射功率R(n-1)相比。如果两个功率基本相同，则经路径581重复方框53和54。如果这两个功率不相同，则在方框561中经路径591将最后一个子步骤中的测试功率值p(n)设置为Pmin。
在图4B中的比较方框552中，将当前子步骤中的归一化反射功率R(n)与前一个子步骤中的归一化反射功率R(n-1)相比。如果R(n)的值小于R(n-1)的值，则在方框562中经路径592将最后一个子步骤中的测试功率值p(n)设置为Pmax。如果R(n)的值不小于R(n-1)的值，则经路径582重复方框53和54。
图5是位于根据本发明的记录装置中的校准装置(60)的框图。方框81示出了该记录装置中的一个光学系统，其中该光学系统用辐射脉冲(84)照射光记录介质(85)并接收反射的辐射脉冲并将其转换为一个信息信号(71)。由带有控制逻辑的方框(82)来驱动该光学系统。该控制逻辑方框(82)控制所述辐射脉冲(84)的功率。校准装置(60)包括：带有用于根据本发明的方法来执行准备步骤的控制逻辑的方框(61)，带有用于根据本发明的方法来执行第一检测步骤的控制逻辑的方框(62)，带有用于根据本发明的方法来执行第二检测步骤的控制逻辑的方框(63)，以及带有用于根据本发明的方法来执行比较步骤的控制逻辑的方框(64)。
方框61将信息经控制信号72发送到控制逻辑(82)，其中，该信息是在该记录介质(85)上提供标记所必需的。方框62和63将信息经控制信号73发送到控制逻辑(82)，其中，该信息是执行检测步骤所必需的。信息信号(71)给方框62和63提供有关反射辐射脉冲的信息。方框62通过信号75将第一检测步骤的结果提供给方框64，而方框63通过信号76将第二检测步骤的结果提供给方框64。方框64经信号79分别将最佳的擦除功率和最佳的写入功率提供给记录装置。经信息信号71从光记录介质(85)上或经信号78从记录装置上获得有关参数β和δ的信息。

Claims (17)

1．一种确定用于擦除在一种光记录介质中所提供标记的最佳擦除功率的方法，其中，在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的：通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著，其特征在于，该方法包括
一个准备步骤：通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，随后是
确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)的第一检测步骤，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变，使得归一化的反射功率增加，以及
第二检测步骤确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以所述第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变，使得归一化的反射功率变得最大，随后是
从下列方程中确定最佳擦除功率(PEO)的比较步骤 P EO = β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β是依赖于记录介质特性的一个变量。
2．一种确定用于在一种光记录介质中所提供标记的最佳写入功率的方法，其中，在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的：通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著，其特征在于，该方法包括
一个准备步骤：通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，随后是
确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)的第一检测步骤，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性改变到归一化的反射功率增加的程度，以及
第二检测步骤确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以所述第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变，使得归一化的反射功率变得最大，随后是
从下列方程中确定最佳写入功率(PWO)的比较步骤 P WO = δ · β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β和δ是依赖于记录介质特性的一个变量。
3．如权利要求1或2所述的一种方法，其特征在于第一检测步骤包括至少两个子步骤，其中这些子步骤
在所提供的标记位置处用具有所选的一个测试值的辐射脉冲来照射该记录介质，其中，只要位于所照射标记位置处的记录介质的光学特性基本不变，则在连续的子步骤中，测试功率增加，
并且一旦位于所照射标记位置处的记录介质的光学特性改变到使归一化反射功率增加的程度，则停止这些子步骤，随后是
第一最后步骤，其中将在最后一个子步骤中的测试功率值设置到第二功率(Pmin)。
4．如权利要求1或2所述的一种方法，其特征在于第二检测步骤包括至少两个子步骤，其中这些子步骤
在所提供的标记位置处用具有所选的一个测试值的辐射脉冲来照射该记录介质，其中在这些连续子步骤中测试功率增加
并且一旦位于所照射标记位置处的记录介质的光学特性改变到使归一化反射功率增加的程度，则停止这些子步骤，随后是
第二最后步骤，其中将在最后一个子步骤中的测试功率值设置到第三功率(Pmax)。
5．如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，那些在准备步骤中所提供的这些标记都具有最大长度，该最大长度作为由所采用的编码方法所允许的最大长度。
6．如权利要求5所述的方法，其特征在于，这些在准备步骤中所提供的标记都是根据EFM+(8到14调制+)编码方法用I11载体进行编码的。
7．如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所选可辨别区域中提供这些在准备步骤中所提供的标记。
8．如权利要求7所述的方法，其特征在于，所选的可辨别区域是均匀分布在记录介质的表面上。
9．如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，比较步骤中的因子α其值为2。
10．如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，比较步骤中的因子α其值为2而比较步骤中的因子β具有位于0.7和1.3之间的一个值。
11．如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，从记录介质上的一个区域中读出比较步骤中的因子β，其中该区域包括有关记录介质特性的信息。
12．如权利要求2所述的方法，其特征在于，从记录介质上的一个区域中读出比较步骤中的因子δ，其中该区域包括有关记录介质特性的信息。
13．一种用于如权利要求1或12中所述方法的光记录介质，该记录介质由射线束所刻录，该记录介质包含一个包括有关该光记录介质特性的信息的区域，其特征在于，包括有关该光记录介质特性的信息的区域，它包括用于在所述方法的比较步骤中使用的因子β的值。
14．一种用于如权利要求1到12中所述方法中的任何一种的光记录介质，该记录介质由射线束所刻录，该记录介质包含一个包括有关该光记录介质特性的信息的区域，其特征在于，包括有关该光记录介质特性的信息的区域包括用于在所述方法的比较步骤中使用的因子δ的值。
15．一种记录装置，包括用于确定擦除在一种光记录介质上所提供的标记所需的最佳擦除功率的一个校准装置，其中在该类型的记录介质中是通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著，其特征在于，将所述校准装置用于
用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，并且
确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率处照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变到使归一化的反射功率增加的程度，并且
确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变使归一化的反射功率变得最大，然后
从下列方程中确定最佳擦除功率(PEO)的比较步骤 P EO = β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β是依赖于记录介质特性的一个变量。
16．一种记录装置，包括用于确定在一种光记录介质上提供的标记所需的最佳写入功率的一个校准装置，其中通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变，其中随着所述辐射脉冲反射的减小，这种光学特性的改变变得显著，其特征在于，将所述校准装置用于
通过用具有第一功率的辐射脉冲来局部加热记录介质从而在该记录介质上提供标记，并且
确定该辐射脉冲的第二功率(Pmin)，在该功率处，当以低于所述第二功率的功率处照射该记录介质时，在准备步骤中所提供的标记位置处，该记录介质的光学特性基本不变，而当以高于所述第二功率的功率处照射该记录介质时，在所提供的标记位置处的该记录介质的光学特性发生改变到使归一化的反射功率增加的程度，并且
确定该辐射脉冲的第三功率(Pmax)，在该功率处，当在准备步骤中所提供的标记位置处以所述第三功率照射该记录介质时，该记录介质的光学特性改变为归一化的反射功率变为最大，然后是从下列方程中确定最佳写入功率(PWO)的比较步骤 P WO = δ · β · ( P min + P max ) α 其中α是提前公知的一个常数，β和δ是依赖于记录介质特性的一个变量。
17．一种用于如权利要求15或16中所述记录装置的校准装置。
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