JP2002530416A - モノアリールオキシ−アンサ−メタロセン - Google Patents

モノアリールオキシ−アンサ−メタロセン

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、以下の式(III)で表される配位子出発化合物を、以下の式(I)で表される遷移金属化合物を反応させる、以下の式(II)で表されるモノアリールオキシ−メタロセンを製造する方法に関する。 【化1】 但し、上記式において、記号は請求項のものと同義である。1の特定された態様は、式(Ia)の遷移金属化合物を使用してモノアリールオキシ−メタロセンを立体選択的に製造することに関する。 【化2】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、モノアリールオキシ−アンサ−メタロセンの立体選択的製造方法及
びオレフィンの重合における該メタロセンの使用法に関する。
【0002】 メタロセンは、1種以上の助触媒等と組み合わせて、オレフィンの重合又は共
重合用触媒成分として使用される。特に、ハロゲン含有メタロセンを触媒前駆体
として使用し、例えばアルミノキサンを用いて重合活性カチオンメタロセン触媒
に転化することができる(EP−A129368)。
【0003】 メタロセンには、オレフィンの重合用ばかりでなく、これらを水素化、エポキ
シ化、異性化及びC−Cカップリング触媒としても使用できることが非常に重要
である(Chem. Rev., 92 (1992), 965〜994頁)。
【0004】 メタロセンの製造方法は、それ自体公知である(US4752597、US5
017714、EP−A320762、EP−A416815、EP−A653
7686、EP−A669340、H.H. Brintzinger等著., Angew. Chem., 107
(1995), 1255、H.H. Brintzinger等著., J. Organomet. Chem. 232 (1982), 23
3)。このために、例えばシクロペンタジエニル−金属化合物を、例えばチタン
、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブ
デン、セリウム及びソリウム等の遷移金属のハロゲン化物と反応させることがで
きる。
【0005】 例えば、シクロペンタジエンを元素周期表第4族の元素のアミドと反応させる
ことにより、メタロセンが得られることも文献により公知である(US5597
935、R. F. Jordan et al., Organometallics, 15 (1996), 4030)。
【0006】 イソタクチックポリプロピレン(i−PP)を製造する場合、一般的に、アン
サ−メタロセンのハロゲン化物をラセミ形で使用することができる。置換された
ラセミ形のアンサ−ビスインデニルジルコニウムジクロリドを見出し、良好な結
果が得られたので、工業的に重要である(EP0485823、EP05499
00、EP0576970、WO98/40331)。これらの工業的に重要な
メタロセンジクロリドは、主として溶解性の低い化合物であり、例えばこれによ
り、再結晶によるこれらのラセミのメタロセンの精製が非常に困難となる。
【0007】 その製造において、所望の、置換ラセミ形アンサ−ビスインデニル−メタロセ
ンジクロリドが、メソ形と共に、1:1のrac/mesoジアステレオマー混
合物として一般に得られ、この結果、貴重な配位子出発化合物により構成される
所望のrac−メタロセンの収率が大幅に制限される。さらに、この製造におい
て生成した粗生成物は、ジアステレオマー混合物の他に、無機副生成物(例えば
、塩)及び有機副生成物(例えば、未反応の置換シクロペンタジエニル配位子)
をさらに含んでいる。メタロセンを触媒成分として使用する場合には、均一形及
び不均一系の両方の触媒組成物において、副生成物、特にメソ形のメタロセンが
、オレフィン重合の触媒活性及びポリマーの詳細に悪影響を与える(例えば、i
−PP中の抽出物の含有量が過度に高くなる)。種々の副生成物を分離、除去す
る各種方法は、公知である(US−A5455366、EP−A0576970
、DE−A19547247、DE−A19547248、US−A55569
97)。
【0008】 上述したrac/mesoの問題、および精製が複雑であることにより、アン
サ−メタロセン触媒成分の製造コストは、未だ望ましい範囲に達していない。
【0009】 しかるに、本発明の目的は、精製の容易なラセミ形メタロセンを製造する、よ
り経済的な方法を見出すことにある。この方法は特に、プロピレンの重合におい
て触媒成分として直接使用され得る、ラセミ形置換アンサ−ビスインデニル−メ
タロセンの製造に好適である。
【0010】 本発明者等は、上記本発明の目的が、式(I)で示される特異的な遷移金属化
合物を式(II)のメタロセンを製造するために使用する方法により解決される
ことを見出した。
【0011】 すなわち、本発明は、下式(III)で表される配位子出発化合物を、下式(
I)で表される遷移金属化合物と反応させることにより、以下の式(II)で表
される易溶性の、容易に精製可能なモノアリールオキシ−メタロセンを製造する
方法を提供するものである。
【0012】
【化5】
【0013】 上記式中、Mが元素周期表の第III、IV、V又はVI族の遷移金属、特にT
i、ZrまたはHf、特に好ましくはジルコニウムを表わし、 Xがハロゲン原子、特に塩素を表わし、 ArがC〜C40芳香族基、好ましくはC〜C24アリール、C〜C ヘテロアリール、例えばピリジル、フリルまたはキノリル、C〜C30アル
キルアリール、フッ素化C〜C24アリール又はフッ素化C〜C30アルキ
ルアリール、特に好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC〜C10アリー
ル基で置換されたC〜C14アリール基を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
黄、窒素又はリン含有炭化水素を、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、ア
ミンまたはポリアミンを表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCaを表わし、 Rが同一でも異なっていてもよく、それぞれSi(R12を意味し、R 12 は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又はC〜C 基、好ましくはC〜C20アルキル、C〜C10フルオロアルキル、C 〜C10アルコキシ、C〜C20アリール、C〜C10フルオロアリール、
〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C〜C40アリール
アルキル、C〜C40アルキルアリールまたはC〜C40アリールアルケニ
ルを表すか、または RがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、例えばメチル、エ
チル、tert−ブチル、シクロヘキシル、オクチル、C〜C25アルケニル
、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C24ヘテ
ロアリール、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリール、
フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化C 〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表すか
、または 2個以上のRが相互に結合し、R基及びこれらに結合するシクロペンタジ
エニル環の原子が、置換されていてもよいC〜C24環基を形成し、 Rが同一であっても異なっていてもよく、それぞれSi(R12を意味
し、このR12が相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子
、又はC〜C40基、好ましくはC〜C20アルキル、C〜C10フルオ
ロアルキル、C〜C10アルコキシ、C〜C14アリール、C〜C10
ルオロアリール、C〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C 〜C40アリールアルキル、C〜C40アルキルアリール又はC〜C40
リールアルケニルを表すか、または RがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、例えばメチル、エ
チル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C〜C25アルケ
ニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C24 ヘテロアリール、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリー
ル、フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化
〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表
すか、または 2個以上のRが相互に結合し、R基及びこれらに結合するシクロペンタジ
エニル環の原子が、置換されていてもよいC〜C24環基を形成し、 xがMの酸化数から1を引いた値であり、 k=0である場合には、nが1〜5を、k=1である場合には、nが0〜4を
表わし、 k=0である場合には、n’が1〜5を、k=1である場合には、n’が0〜
4を表わし、 kが0又は1を表わし、k=0の場合には、メタロセンが架橋されており、k
=1の場合には、メタロセンが架橋されておらず、k=1であることが好ましく
、 プラス2価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオンもしくは金属イ
オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のシクロペンタジエニル環の間の架橋構造元素を表す。
【0014】 Bの例はM1314基であり、この場合Mは炭素、ケイ素、ゲルマニ
ウムまたは錫、R13およびR14は同一でも異なってもよく、それぞれC
20炭化水素含有基、例えばC−C10アルキル、C−C14アリールま
たはトリメチルシリルを意味するものである。Bは好ましくは、CH、CH CH、CH(CH)CH、CH(C)C(CH、C(CH、(CHSi、(CHGe、(CHSn、(C Si、(C)(CH)Si、Si(CH)(SiR2021 )、(CGe、(CSn、(CHSi、CH
i(CH、o−Sまたは2,2’−(Cであり、この場
合のR20、R21、R22は同一であっても異なってもよく、それぞれC
20炭化水素含有基、例えばC−C10アルキルまたはC−C14アリー
ルを意味する。Bは1個以上のRおよび/またはR基と共に単環式または多
環式環状系を形成してもよい。
【0015】 本発明の方法は、式(II)で表され、kが1であり、シクロペンタジエニル
環の一方または双方が置換されてインデニル環を形成している、架橋メタロセン
化合物の製造に好ましく使用される。インデニル環は、特に2−位、4−位、2
,4,5−位、2,4,6−位、2,4,7−位、または2,4,5,6−位で
、C−C20基、例えばC−C18アルキル、またはC−C18アリール
により置換されているのが好ましく、インデニル環の2個以上の置換基により環
式基が形成されてもよい。
【0016】 本発明は、更に以下の式(V)で表される配位子出発化合物を、以下の式(I
a)で表される遷移金属化合物と反応させることにより、以下の式(IV)で表
される、立体選択的、易溶性のモノアリールオキシ−ビスインデニル−メタロセ
ンを製造する方法であって、
【0017】
【化6】
【0018】 上記式中、MがTi、Zr又はHf、特に好ましくはジルコニウムを表わし、 Xがハロゲン原子、好ましくは塩素を表わし、 ArがC〜C40芳香族基、好ましくはC〜C24アリール、C〜C ヘテロアリール、例えばピリジル、フリルまたはキノリル、C〜C30アル
キルアリール、フッ素化C〜C24アリール又はフッ素化C〜C30アルキ
ルアリール、特に好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC〜C10アリー
ル基で置換されたC〜C14アリール基を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
黄、窒素又はリン含有炭化水素、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミ
ン又はポリアミンを表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCaを表わし、 R、Rが相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、
又はC〜C20基、好ましくはC〜C18アルキル、例えばメチル、エチル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C 〜C10アルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C18アリー
ル、C〜C18ヘテロアリール、例えばピリジル、フリルまたはキノリニル、
〜C20アリールアルキル、C〜C20アルキルアリール、フッ素化C 〜C12アルキル、フッ素化C〜C18アリール、フッ素化C〜C20アリ
ールアルキル又はフッ素化C〜C20アルキルアリールを表わし、 R、Rが同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又はC 〜C20基、好ましくはC〜C18アルキル、例えばメチル、エチル、n−
ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C〜C10アルケニル、C〜C アルキルアルケニル、C〜C18アリール、C〜C18ヘテロアリール、
例えばピリジル、フリルまたはキノリル、C〜C20アリールアルキル、C 〜C20アルキルアリール、フッ素化C〜C12アルキル、フッ素化C〜C 18 アリール、フッ素化C〜C20アリールアルキル又はフッ素化C〜C アルキルアリールを表わし、 R及びRが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子又はC〜C20基、好ましくは直鎖又は分枝状のC〜C18アルキル、例
えばメチル、エチル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C 〜C10アルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、置換又は非置換のC 〜C18アリール、特に、フェニル、トリル、キシリル、tert−ブチルフェ
ニル、エチルフェニル、ジ−tert−ブチルフェニル、ナフチル、アセナフチ
ル、フェナントレニルもしくはアントラセニル、C〜C18ヘテロアリール、
例えばピリジル、フリルまたはキノリル、C〜C20アリールアルキル、C 〜C20アルキルアリール、フッ素化C〜C12アルキル、フッ素化C〜C 18 アリール、フッ素化C〜C20アリールアルキル又はフッ素化C〜C アルキルアリールを表すか、或いは 2個の基R及びRが、置換されていても良い単環又は多環の環式基を形成
し、 l、l’が同一でも異なっていてもよく、それぞれ0〜4の整数、好ましくは
1又は2、特に好ましくは1を表わし、 プラス2価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオンもしくは金属イ
オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のシクロペンタジエニル環の間の架橋構造元素を表す、製造方法を提
供するものである。
【0019】 Bの例はM1314基であり、この場合Mは炭素、ケイ素、ゲルマニ
ウムまたは錫、好ましくは炭素またはケイ素であり、R13およびR14は同一
でも異なってもよく、それぞれ水素、またはC−C20炭化水素含有基、例え
ばC−C10アルキル、C−C14アリールまたはトリメチルシリルを意味
するものである。Bは好ましくは、CH、CHCH、CH(CH)CH 、CH(C)C(CH、C(CH、(CHSi、(
CHGe、(CHSn、(CC、(CSi、
(C)(CH)Si、Si(CH)(SiR202122)、(
Ge、(CSn、(CHSi、CHSi(CH 、o−Sまたは2,2’−(Cであり、この場合のR 、R21、R22は同一であっても異なってもよく、それぞれC−C20
化水素含有基、例えばC−C10アルキルまたはC−C14アリールを意味
する。
【0020】 更に、式(V)で表される配位子出発化合物を、式(Ia)で表される遷移金
属化合物と反応させることにより、式(IV)で表される、立体選択的、易溶性
のモノアリールオキシ−メタロセンを製造する方法であって、 式中の、Mがジルコニウムを表わし、 Xが塩素を表わし、 ArがC〜C30芳香族基、好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC 〜C10アリール置換C〜C14アリール基、C〜C13ヘテロアリール、
例えばピリジル、フリル若しくはキノリル、または弗素化C〜C10アリール
、特に好ましくはC〜C10基、例えばC〜Cアルキル及び/又はC
10アリール基により、酸素に対する2つのオルト位のうちの少なくとも一方
で置換されたC〜C10アリール基、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミン又
はポリアミン、例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフランまたはN,N,N’,N’−テトラメチルエチレ
ンジアミンを表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCa、好ましくはLi
、Na、Kを表わし、 R、Rが相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、
又はC〜C12アルキル基、好ましくはメチル、エチル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチルまたはオクチル、特に好ましくはメチルまたはエチルを表わ
し、 R、Rが水素原子を表わし、 R及びRが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子又はC〜C20基、好ましくは直鎖又は分枝状のC〜Cアルキル基、例
えばメチル、エチル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C 〜Cアルケニル、C〜Cアルキルアルケニル、置換又は非置換のC〜C 18 アリール、特に、フェニル、トリル、キシリル、tert−ブチルフェニル
、エチルフェニル、ジ−tert−ブチルフェニル、ナフチル、アセナフチル、
フェナントレニルもしくはアントラセニル、C〜C18ヘテロアリール、例え
ばピリジル、フリルまたはキノリル、C〜C12アリールアルキル、C〜C 12 アルキルアリール、フッ素化C〜Cアルキル、フッ素化C〜C18
リール、フッ素化C〜C20アリールアルキル又はフッ素化C〜C12アル
キルアリールを表わし、 l、l’が同一でも異なっていてもよく、それぞれ0〜4の整数、好ましくは
1又は2、特に好ましくは1を表わし、 プラス2価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオンもしくは金属イ
オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のインデニル環の間の架橋構造元素、好ましくは(CHSi、
(CHGe、(CSi、CHCH、CH、C(CH 、(CC、特に好ましくは(CHSi、CH、およびCH CHを表す、方法を提供するものである。
【0021】 以下の式(Ia)
【0022】
【化7】 で表される遷移金属化合物において、特異的に置換されたアリールオキシ基を用
いる場合、上記式(IV)のアンサモノアリールオキシビスインデニルメタロセ
ンの疑似ラセミ形が、対応の疑似メソ形に対して優先的に得られる。
【0023】 上記式中、 MがTi、Zr又はHf、特に好ましくはジルコニウムを表し、 Xがハロゲン原子、好ましくは塩素を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
黄、窒素又はリン含有炭化水素、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミ
ン又はポリアミンを表わし、 R3aがハロゲン又はSi(R12を表し、R12が同一であっても異な
っていてもよく、それぞれ水素原子、又はC〜C14基、好ましくはC〜C アルキル、C〜Cアルコキシ、C〜C10アリール、C〜C10フル
オロアリール、C〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C
14アリールアルキル、又はC〜C14アルキルアリールを表すか、或いは R3aがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、例えばメチル、
エチル、イソプロピル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C 〜C25アルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリー
ル、C〜C24ヘテロアリール、C〜C10アルキルオキシ、C〜C10 アリールオキシ、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリー
ル、フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化
〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表
わし、 R3b〜R3eが同一であっても異なってもよく、それぞれ水素、ハロゲン、
またはC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、例えばメチル、エチ
ル、イソプロピル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C
25アルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、
〜C24ヘテロアリール、C〜C10アルキルオキシ、C〜C10アリ
ールオキシ、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリール、
フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化C 〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表わす
か、または 2個以上のR3a〜R3e基が結合して、各R基及びこれらに結合するベンゼ
ン環の原子が、置換されていても良いC〜C24環基を形成してもよく、 yが0〜2を表す。
【0024】 疑似ラセミ形(IV)が疑似メソ形(IVa)を上回り生成する好まし生成形
態(立体選択的反応)とは、合成後の、粗メタロセン生成物中の疑似ラセミ/疑
似メソ割合が1を超過し、好ましくは2を超過し、更に好ましくは4を超過し、
極めて好ましくは8を超過することを意味する。
【0025】
【化8】
【0026】 式(IV)の化合物の立体選択的製造方法において、式(Ia)で表され、式
中 Mがジルコニウムを表し、 Xが塩素を表わし、 Dが非荷電酸素、硫黄または窒素含有ルイス塩基配位子、好ましくはエーテル
、ポリエーテル、アミン又はポリアミン、例えばジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフランまたはN,N,N’,
N’−テトラメチルエチレンジアミンを表わし、 R3aがハロゲン又はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、例え
ばメチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオ
クチル、C〜Cアルケニル、C〜Cアルキルアルケニル、C〜C10 アリール、C〜Cヘテロアリール、C〜Cアルキルオキシ、C−アリ
ールオキシ、C〜C10アリールアルキル、C〜C10アルキルアリールを
表わし、 R3b〜R3eが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素、ハロゲン、又
はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、例えばメチル、エチル、イ
ソプロピル、tert−ブチル、シクロヘキシルまたはオクチル、C〜C
ルケニル、C〜Cアルキルアルケニル、C〜C10アリール、C〜C ヘテロアリール、C〜Cアルキルオキシ、C−アリールオキシ、C〜C 10 アリールアルキル、C〜C10アルキルアリールを表すか、或いは 2個以上のR3a〜R3eが相互に結合し、各R基及びこれらに結合するベ
ンゼン環の原子が、置換されていてもよいC〜C環基を形成してもよく、及
び yが0〜2を表す遷移金属化合物を使用することが特に好ましい。 更に、式(IV)の化合物の立体選択的製造方法において、式(Ia)で表され
、式中 Mがジルコニウムを表し、 Xが塩素を表わし、 Dがテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンまたはN,N,N’,N
’−テトラメチルエチレンジアミンを表わし、 R3aが塩素、臭素、又はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、
例えばメチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチルもしくはシクロヘキシ
ル、C〜Cアルケニル、C〜C10アリールを表わし、 R3b〜R3eが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素、塩素または臭
素、又はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、例えばメチル、エチ
ル、イソプロピル、tert−ブチルもしくはシクロヘキシル、C〜Cアル
ケニル、C〜C10アリールを表すか、或いは 2個以上のR3a〜R3eが相互に結合し、各R基及びこれらに結合するベ
ンゼン環の原子が、置換されていてもよいC〜C環基を形成してもよく、及
び yが0〜2を表す遷移金属化合物を使用することが極めて好ましい。
【0027】 式(I)および(Ia)の遷移金属化合物の合成は、基本的に文献により公知
である(M.Mitani等著、Polymer Bulletinn, 34 (1995), 199-202ページ、H.Yas
uda等著、J. Organomet. Chem. 493 (1994), 105-116ページ)。
【0028】 上記製造法は、以下の2経路のいずれかで行われる。
【0029】
【化9】
【0030】 上記式中の符号は上記定義による。
【0031】 第1の経路では、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のアリールオキシ塩を
、元素周期表の遷移族IVの金属のテトラハライド、例えば四塩化チタン、ジル
コンまたはハフニウムと、好ましくはbis−THF付加物の形状で直接反応さ
せ、化合物(Ia)を得る。
【0032】 第2の経路では、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のアリールオキシ塩を
、まず塩化シリル、例えば、塩化トリメチルシリルと反応させてシリルエーテル
を得、好ましくは単離後に、元素周期表の遷移族IVの金属のテトラハライド、
例えば四塩化チタン、ジルコンまたはハフニウムと、好ましくはbis−THF
付加物の形状で直接反応させ、化合物(Ia)を得る。
【0033】 得られた塩(MX)の分離および/または置換クロロシランの分別後、式(
I)および(Ia)の遷移金属化合物が、結晶化により得られるのが一般的であ
る。
【0034】 アルカリ金属またはアルカリ土類金属のアリールオキシ塩を、適当な塩基、例
えばブチルリチウム、メチルリチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナ
トリウム、カリウムまたはグリニヤード化合物を用い、不活性溶媒または溶媒混
合物中での対応の水酸化芳香族化合物の脱プロトン化により製造してもよい。 適する不活性溶媒の例(これらに限定されるものではない)は、脂肪族または芳
香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベン
ゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、フルオロベンゼン、デカリン、テト
ラリン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、1,2−ジクロロエ
タン、ジクロロメタン、エーテル、例えばジエチルエーテル、ジ−n−エーテル
、tert−ブチルメチルエーテル(MTBE)、テトラヒドロフラン(THF
)、1,2−ジメトキシエタン(DME)、アニソール、トリグリム(triglyme
)、ジオキサン、およびこれらの各混合物である。溶媒混合物の例(これらに限
定されるものではない)は、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、キシレン、テトラ
ヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタン(DME)、トルエン/THF、ヘ
プタン/DMEおよびトルエン/DMEである。
【0035】 反応は、−78〜150℃、好ましくは0〜110℃で行われる。 本発明の製造方法に使用される式(I)および(Ia)の遷移金属化合物の製造
に使用される水酸化芳香族化合物の例を以下に挙げる。使用可能な同化合物はこ
れらに限定されるものではない。
【0036】 2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチルフ
ェノール、3,5−ジ−tert−ブチルフェノール、2,6−ジ−sec−ブ
チルフェノール、2,4−ジメチルフェノール、2,3−ジメチルフェノール、
2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、3,4−ジメチル
フェノール、3,5−ジメチルフェノール、フェノール、2−メチルフェノール
、3−メチルフェノール、4−メチルフェノール、2−エチルフェノール、3−
エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−sec−ブチルフェノール、2
−tert−ブチルフェノール、3−tert−ブチルフェノール、4−sec
−ブチルフェノール、4−tert−ブチルフェノール、2−イソプロピル−5
−メチルフェノール、4−イソプロピル−3−メチルフェノール、5−イソプロ
ピル−2−メチルフェノール、5−イソプロピル−3−メチルフェノール、2,
4−ビス(2−メチル−2−ブチル)フェノール、2,6−ジ−tert−ブチ
ル−4−メチルフェノール、4−ノニルフェノール、 2−イソプロピルフェノール、3−イソプロピルフェノール、4−イソプロピ
ルフェノール、2−プロピルフェノール、 4−プロピルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノール、2,3,6−
トリメチルフェノール、2,4,6−トリメチルフェノール、3,4,5−トリ
メチルフェノール、2−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−ter
t−ブチル−5−メチルフェノール、2−tert−ブチル−6−メチルフェノ
ール、4−(2−メチル−2−ブチル)フェノール、 2−tert−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジイソプロピルフェ
ノール、4−オクチルフェノール、4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル
)フェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、4−s
ec−ブチル−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−ドデシルフェノ
ール、2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノール、3−(ペンタデシル)
フェノール、 2−メチル−1−ナフトール、 1−ナフトール、2−ナフトール、1−アセナフテノール、2−ヒドロキシビ
フェニル、3−ヒドロキシビフェニル、4−ヒドロキシビフェニル、ヒドロキシ
ピリジン、ヒドロキシキノリン、2−ヒドロキシカルバゾール、ヒドロキキナリ
ジン、8−ヒドロキシキナゾリン、2−ヒドロキシキノキサリン、2−ジヒドロ
キシベンゾフラン、 2−ヒドロキシジフェニルメタン、1−ヒドロキシイソキノリン、5,6,7
,8−テトラヒドロ−1−ナフトール。
【0037】 本発明における式(II)および(IV)のメタロセンの製造方法では、式(
I)および(Ia)の遷移金属化合物は単離形態で使用されるか、または生成さ
れたままの形態での溶液または懸濁液として使用される。後の反応の妨げとなる
反応性副生成物、例えばトリメチルシランは、置換シクロペンタジエニルアニオ
ンとの反応以前に除去する必要がある。
【0038】 本発明の、式(IV)のメタロセンの製造法、特に立体選択的製造法に使用さ
れる、式(Ia)の遷移金属化合物の例を以下に挙げる。使用可能な同化合物は
これらに限定されるものではない。
【0039】 ClZr(O−2,4−(tert−Bu))(THF)、C
Zr(O−2,6−(tert−Bu))(THF)、Cl Zr(O−3,5−(tert−Bu))(THF)、ClZr
(O−2,6−Me)(THF)、ClZr(O−2,4−Me )(THF)、ClZr(O−2,3−Me)(TH
F)、ClZr(O−3,5−Me)(THF)、ClZr
(O−2−Me−C)(THF)、ClZr(O−2−Et−C )(DME)、ClZr(O−2−イソプロパ−C)(DME)、C
Zr(O−2−n−プロパ−C)(THF)、ClZr(O−2
−sec−Bu−C)(DME)、ClZr(O−2−tert−Bu
−C)(THF)、ClZr(O−2−イソプロパ−5−Me−C)(THF)、ClZr(O−2,4,6−Me)(THF
、ClZr(O−2−tert−Bu−6−Me−C)(DME)
、ClZr(O−2,6−(イソプロパ)−C)(THF)、Cl Zr(O−(1−ナフチル))(DME)、ClZr(O−2−Ph−C)(THF)
【0040】 本発明の方法は、EP第129368号、EP第561479号、EP第54
5304号およびEP第576970号各公報に記載のような、架橋または非架
橋ビスシクロペンタジエニル錯体、EP第416815号公報等に記載のような
モノシクロペンタジエニル錯体、例えば架橋アミドシクロペンタジエニル錯体、
EP第632063号公報に記載のような多核シクロペンタジエニル錯体、EP
第659758号公報に記載の様なπ−リガンド置換テトラヒドロペンタレン、
または661300号公報に記載の様なπ−リガンド置換テトラヒドロインデン
等の、種々のメタロセンの製造に使用される。
【0041】 本発明の製造法は、ジアステレオマーとしてのメタロセンを製造するため、特
に好ましくは式(IV)のアンサ−メタロセンを製造するために好適に使用され
る。
【0042】 式(IV)の易溶性のモノアリールオキシ−ビスインデニル−メタロセンを立
体選択的に製造する、本発明の製造方法で用いられる配位子出発化合物は、次式
で示されるように、不活性溶媒または溶媒紺物中での対応のビスインデニル(V
a)の二重の脱プロトンにより製造される。
【0043】
【化10】
【0044】 上記式中の符号は上記と同等の定義を有する。 適する塩基の例(これらに限定されるものではない)は有機リチウム化合物、例
えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム
、メチルリチウム、有機マグネシウム化合物、アルカリ金属、例えばナトリウム
、カリウム、水素化アルカリ金属、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウムま
たはアルカリ金属アミド、例えばリチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウム
アミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシルアジ
ド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミドまたはリ
チウムジエチルアミドである。
【0045】 適する不活性溶媒は、脂肪族または芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、フルオロベンゼン、デカリン、テトラリン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ヘプタン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、エーテル、例え
ばジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテ
ル(MTBE)、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン(
DME)、アニソール、トリグリム、ジオキサンおよびこれらの各混合物である
。式(IV)のメタロセン錯体を生成するための後続の反応の際に存在してもよ
い溶媒または溶媒混合物が好ましく用いられる。これらの溶媒の例(これらに限
定されるものではない)は、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、キシレン、テトラ
ヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタン(DME)、トルエン/THF、ヘ
プタン/DMEおよびトルエン/DMEである。
【0046】 式(Va)の架橋したビスインデニル配位子の脱プロトンは、−78〜150
℃、好ましくは0〜110℃で行われる。
【0047】 上述の適する塩基の、式(Va)の架橋したビスインデニル配位子に対するモ
ル比は、10〜0.1、好ましくは4〜0.5、特に好ましくは3〜0.8の範
囲である。
【0048】 本発明の方法において、ヨーロッパ特許出願公開第0485823号、同第0
549900号、同第0576970号、WO98/22486およびWO98
/40331号各公報に記載の様なビスインデニル配位子を、対応のメタロセン
ジクロリドを製造するために使用することも可能である。
【0049】 本発明の方法を使用して、式(IV)で示される易溶性のアンサ−モノアリー
ルオキシ−ビスインデニル−メタロセンの立体選択的製造を行う際に使用される
式(Va)の好ましい架橋ビスインデニル配位子の例を以下に挙げる。使用の可
能性がこれらに限定されるわけではない。
【0050】 ジメチルビス(2−メチルインデニル)シラン、 1,1−ビス(2−メチルインデニル)メタン、 2,2−ビス(2−メチルインデニル)プロパン、 ジメチルビス(2−メチルベンゾインデニル)シラン、 ジメチルビス(4−ナフチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル)シラン、 1,1−ビス(2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル)メタン、
【0051】 2,2−ビス(2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル)プロパン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(2−ナフチル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)シラン、 1,1−ビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)メタン、 2,2−ビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)プロパン、 ジメチルビス(2−メチル−4−t−ブチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−エチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2,4−ジメチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−エチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−フェニルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)シラン、 1,1−ビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)メタン、 2,2−ビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)プロパン、 ジメチルビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4,5−ジイソプロピルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2,4,6−トリメチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2,5,6−トリメチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2,4,7−トリメチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−5−イソブチルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−5−t−ブチルインデニル)シラン、 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)シラン、 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニル)
シラン、 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)シラン
、 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)シラン、
【0052】 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−4,5−(メチルベンゾ)インデニル
)シラン、 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−4,5−(テトラメチルベンゾ)イン
デニル)シラン、 メチル(フェニル)ビス(2−メチルインデニル)シラン、 メチル(フェニル)ビス(2−メチル−5−イソブチルインデニル)シラン、 1,2−ビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)エタン、 1,2−ビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニル)エタン、 1,2−ビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)エタン、 1,2−ビス(2,4,7−トリメチルインデニル)エタン、 1,2−ビス(2−メチルインデニル)エタン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(tert−ブチルフェニルインデニル)シ
ラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4−トリフルオロメチルフェニルインデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4−メトキシフェニルインデニル)シラン
、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4−tert−ブチルフェニルインデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4−メチルフェニルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4−エチルフェニルインデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4−トリフルオロメチルフェニルインデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4−メトキシフェニルインデニル)シラン
、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(3´,5´−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)インデニル)シラン、
【0053】 1,1−ビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)メタン、 2,2−ビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)プロパン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−メチルフェニル)インデニル)シラ
ン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−エチルフェニル)インデニル)シラ
ン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−n−プロピルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−イソプロピルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−n−ブチルフェニル)インデニル)
シラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−ヘキシルフェニル)インデニル)シ
ラン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−sec−ブチルフェニル)インデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−メチルフェニル)インデニル)シラ
ン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−エチルフェニル)インデニル)シラ
ン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−n−プロピルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−イソプロピルフェニル)インデニル
)シラン、
【0054】 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−n−ブチルフェニル)インデニル)
シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−ヘキシルフェニル)インデニル)シ
ラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−ペンチルフェニル)インデニル)シ
ラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−シクロヘキシルフェニル)インデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−sec−ブチルフェニル)インデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(3´,5´−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)インデニル)シラン、 1,1−ビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)メタン、 2,2−ビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)プロパン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−メチルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−エチルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−n−プロピルフェニル)イン
デニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−イソプロピルフェニル)イン
デニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−n−ブチルフェニル)インデ
ニル)シラン、
【0055】 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−ヘキシルフェニル)インデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−シクロヘキシルフェニル)イ
ンデニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−sec−ブチルフェニル)イ
ンデニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−プロピル−4−(3´,5´−ジ−tert−ブチル
フェニル)インデニル)シラン、 1,1−ビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)メタン、 2,2−ビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)プロパン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−メチルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−エチルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−n−プロピルフェニル)イン
デニル)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−イソプロピルフェニル)イン
デニル)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−n−ブチルフェニル)インデ
ニル)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−ヘキシルフェニル)インデニ
ル)シラン、
【0056】 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−シクロヘキシルフェニル)イ
ンデニル)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−sec−ブチルフェニル)イ
ンデニル)シラン、 ジメチルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)シラン、 1,1−ビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)メタン、 2,2−ビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)プロパン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−メチルフェニル)インデニル)
シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−エチルフェニル)インデニル)
シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−n−プロピルフェニル)インデ
ニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−イソプロピルフェニル)インデ
ニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−n−ブチルフェニル)インデニ
ル)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−ヘキシルフェニル)インデニル
)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−シクロヘキシルフェニル)イン
デニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−sec−ブチルフェニル)イン
デニル)シラン、 ジメチルビス(2−n−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)イ
ンデニル)シラン、
【0057】 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−フェニル)インデニル)シ
ラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−メチルフェニル)
インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−エチルフェニル)
インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−n−プロピルフェ
ニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−イソプロピルフェ
ニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−n−ブチルフェニ
ル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−(2−メチルプロ
ピル)フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−シクロ(2−メチ
ルプロピル)フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−sec−ブチルフ
ェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−tert−ブチル
フェニル)インデニル)シラン、 ジメチルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)ゲルマン、 ジメチルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)ゲルマン、 1,2−ビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)エタン、 1,2−ビス(2−エチル−4−フェニル)インデニル)エタン、
【0058】 1,2−ビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデ
ニル)エタン、 1,2−ビス(2−n−プロピル−4−フェニル)インデニル)エタン、 1,2−ビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)エタン、 1,2−ビス(2−イソプロピル−4−(4−フェニル)インデニル)エタン
、 1,2−ビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)
インデニル)エタン、 1,2−ビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4−フェニル)インデニ
ル)エタン、 1,2−ビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−tert−ブチル
フェニル)インデニル)エタン、 1−メチル−1,2−ビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェ
ニル)インデニル)エタン、 ジメチル(2−メチルアザペンタレン)(2−メチルインデニル)シラン、 ジメチル(2−メチルアザペンタレン)(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)シラン、 ジメチル(2−メチルアザペンタレン)(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)シラン、 ジメチル(2−メチルアザペンタレン)(2−エチル−4−(4´−tert
−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−メチルアザペンタレン)(2−メチル−4−(4´−tert
−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−メチルアザペンタレン)(2−n−プロピル−4−(4´−t
ert−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−エチルアザペンタレン)(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)シラン、
【0059】 ジメチル(2−エチルアザペンタレン)(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)シラン、 ジメチル(2−エチルアザペンタレン)(2−エチル−4−(4´−tert
−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−エチルアザペンタレン)(2−メチル−4−(4´−tert−
ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−エチルアザペンタレン)(2−n−プロピル−4−(4´−t
ert−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−メチルチアペンタレン)(2−メチルインデニル)シラン、 ジメチル(2−メチルチアペンタレン)(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)シラン、 ジメチル(2−メチルチアペンタレン)(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)シラン、 ジメチル(2−メチルチアペンタレン)(2−エチル−4−(4´−tert
−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−メチルチアペンタレン)(2−n−プロピル−4−(4´−t
ert−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−エチルチアペンタレン)(2−メチルインデニル)シラン、 ジメチル(2−エチルチアペンタレン)(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)シラン、 ジメチル(2−エチルチアペンタレン)(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)シラン、 ジメチル(2−エチルチアペンタレン)(2−エチル−4−(4´−tert
−ブチルフェニル)インデニル)シラン、 ジメチル(2−エチルチアペンタレン)(2−n−プロピル−4−(4´−t
ert−ブチルフェニル)インデニル)シラン。
【0060】 式(Va)の架橋ビスインデニル配位子は、本発明の製造法の出発材料として
使用されるが、これは単離して用いても、または合成により得られたままの形態
の粗生成物として、単離をせずに用いてもよい。このような、メタロセンジクロ
リドの製造における単一容器による方法はDE4434640号公報に記載され
ている。
【0061】 本発明の方法において、式(V)の配位子出発化合物と、式(Ia)の遷移金
属化合物とを、置換シクロペンタジエン誘導体の脱プロトンを行うことのできる
、不活性溶媒または不活性溶媒混合物中で反応させ、式(IV)のメタロセンを
得る。
【0062】 適する不活性溶媒は、脂肪族または芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、フルオロベンゼン、デカリン、テトラリン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ヘプタン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、エーテル、例え
ばジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテ
ル(MTBE)、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン(
DME)、アニソール、トリグリム、ジオキサン、およびこれらの各混合物であ
る。式(Va)の配位子出発化合物の金属化と、これに次ぐ、式(IV)のメタ
ロセン錯体の生成反応を行うことのできる溶媒または溶媒混合物を用いると好ま
しい。溶媒/溶媒混合物の例(これらに限定されるものではない)は、トルエン
、ヘキサン、ヘプタン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、ジメトキシ
エタン(DME)、トルエン/THF、ヘプタン/DMEおよびトルエン/DM
Eである。
【0063】 式(IV)のメタロセンを製造するための、本発明の方法による式(V)の配
位子出発化合物と式(Ia)の遷移金属化合物との反応は、通常、−78〜15
0℃、好ましくは0〜110℃、特に好ましくは20〜60℃で行われる。
【0064】 本発明においての式(Ia)の遷移金属化合物の、式(V)の配位子前駆体に
対するモル比は、一般に10〜0.1の範囲、好ましくは2〜0.5の範囲にあ
る。
【0065】 反応混合物中の式(V)の配位子前駆体の濃度は、通常0.0001mol/
l〜8mol/l、好ましくは0.01mol/l〜3mol/l、特に好まし
くは0.1mol/l〜2mol/lである。
【0066】 反応時間は一般的に5分〜1週間、好ましくは15分〜24時間である。
【0067】 式(II)及び(IV)により示される本発明の方法により生成したメタロセ
ンは、対応のメタロセン塩化物よりも、不活性有機溶媒に対して、非常に良好な
溶解性を示す。本発明において、非常に良好な溶解性とは、有機溶媒におけるモ
ル濃度が、少なくとも2倍であること、好ましく4倍以上、極めて好ましくは8
倍以上であることを意味する。
【0068】 本発明の立体選択的製造法により得られる式(IV)のメタロセンの例(これ
らに限定されるものではない)を以下に挙げる。
【0069】 ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムモノクロリ
ドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル)
ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニ
ウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−エチルインデニル)ジルコニウムモノクロリ
ドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−フェニルインデニル)ジルコニ
ウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ジルコ
ニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、
【0070】 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニル
)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2,4,6−トリメチルインデニル)ジルコニウ
ムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2,5,6−トリメチルインデニル)ジルコニウ
ムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2,4,7−トリメチルインデニル)ジルコニウ
ムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−5−イソブチルインデニル)ジルコ
ニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−5−t−ブチルインデニル)ジルコ
ニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニ
ウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ジルコ
ニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2,4,7−トリメチルインデニル)ジルコニウ
ムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムモノクロリ
ドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェ
ニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキ
シド)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(3´,5´−ジ−tert−
ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチ
ルフェノキシド)、 メチリデンビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)イン
デニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、
【0071】 イソプロピリデンビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−メチルフェニル)イン
デニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−フェニル)インデニル)ジルコ
ニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(4´−メチルフェニル)イン
デニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェ
ニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキ
シド)、 ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(3´,5´−ジ−tert−
ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチ
ルフェノキシド)、 メチリデンビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)イン
デニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 イソプロピリデンビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 ジメチルシランジイルビス(2−n−プロピル−4−フェニル)インデニル)
ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−n−プロピル−4−(4´−メチルフェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 ジメチルシランジイルビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチ
ルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフ
ェノキシド)、
【0072】 ジメチルシランジイルビス(2−n−プロピル−4−(3´,5´−ジ−te
rt−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−
ジメチルフェノキシド)、 メチリデンビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 イソプロピリデンビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフ
ェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノ
キシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−フェニル)インデニル)
ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−メチルフェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチ
ルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフ
ェノキシド)、 メチリデンビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 イソプロピリデンビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフ
ェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノ
キシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−n−ブチル−4−フェニル)インデニル)ジ
ルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−n−ブチル−4−(4´−メチルフェニル)
インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)
【0073】 ジメチルシランジイルビス(2−n−ブチル−4−(4´−tert−ブチル
フェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェ
ノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−フェニル)イ
ンデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−メチ
ルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフ
ェノキシド)、 ジメチルシランジイルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−te
rt−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−
ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−メチル−4−(4’−tert−ブチルフェ
ニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキ
シド)、 1,2−エタンジイルビス(2−エチル−4−フェニル)インデニル)ジルコ
ニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェ
ニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキ
シド)、 1,2−エタンジイルビス(2−n−プロピル−4−フェニル)インデニル)
ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−n−プロピル−4−(4´−tert−ブチ
ルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフ
ェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−イソプロピル−4−(4−フェニル)インデ
ニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチ
ルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフ
ェノキシド)、 1,2−エタンジイルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4−フェニル
)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド
)、 1,2−エタンジイルビス(2−(2−メチルプロピル)−4−(4´−te
rt−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−
ジメチルフェノキシド)。
【0074】 本発明の立体選択的方法により得られる得られる(VI)の化合物の他の例は
、上述の形態のメタロセンにおいて、ジルコニウムフラグメントの「ジルコニウ
ムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)」が、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシド
)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−メチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−イソプロピルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4−ジメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,3−ジメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4,6−トリメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−イソプロピル−5−メチルフェノキシド
)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−tert−ブチル−6−メチルフェノキ
シド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジイソプロピルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジ−tert−ブチルフェノキシド
)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(1−ナフトキシド)、または ジルコニウムモノクロリドモノ(2−フェニルフェノキシド)により代替され
ているものである。
【0075】 本発明の方法は、精製が容易であり、精製の困難なプロピレンの重合における
触媒成分としてのラセミ/メソ−アンサ−ビスインデニルジルコニウムジクロリ
ドの1:1混合物と同様の方法で使用可能なメタロセン触媒成分、好ましくは式
(IV)で示されるメタロセン触媒成分を立体選択的に製造するために使用され
る。
【0076】 本発明の方法で得られる式(II)および(IV)のメタロセンは、1種類以
上のオレフィンの重合に用いられる、1種類以上の助触媒と1種類以上のメタロ
センを含む触媒組成物の成分として特に適している。本発明において重合とは単
独重合と共重合の双方を意味するものである。
【0077】 本発明の方法により得られる、式(II)および(IV)、特に式(IV)の
メタロセンは、式R−C=CH−Rで表され、R及びRが同一でも異な
っていてもよく、それぞれ水素原子又は1〜20個の炭素原子、特に1〜10個
の炭素原子を有する炭化水素を表すか、或いはR及びRがこれらに結合する
原子と共に1個以上の環を形成する、1種以上のオレフィンの重合に使用される
。オレフィンの例は、炭素原子数2〜40、好ましくは2〜10の1−オレフィ
ン、例えばエテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−
メチル−1−ペンテンまたは1−オクテン、スチレン、ジエン、例えば1,3−
ブタジエン、1,4−ヘキサジエン、ビニルノルボルネン、ノルボナジエン、エ
チルノルボナジエン、および環式オレフィン、例えばノルボルネン、テトラシク
ロドデセンまたはメチルノルボルネンである。エチレンまたはプロピレンを単独
重合させること、またはエチレンと1種類以上の環式オレフィン、例えばノルボ
ルネンおよび/または炭素原子数4〜20の、1種類以上のジエン、例えば1,
3−ブタジエンまたは1,4−ヘキサジエンとを共重合させるのが好ましい。こ
の様な共重合体の例はエチレン/ノルボルネン共重合体、エチレン/プロピレン
共重合、およびエチレン/プロピレン/1,4−ヘキサジエン共重合体である。
【0078】 本発明の方法で得られる式(II)および(IV)のメタロセンは、ジハライ
ド化合物と比較して、少なくとも同等か、時には優れたオレフィン重合活性を示
し、得られるポリオレフィンは、望ましくない低分子量の抽出可能物の割合が減
少していることを示している。
【0079】 重合は、−60から300℃、このましくは50から200℃、非常に特に好
ましくは50から80℃で行なわれる。圧力は0.5×10から2000×1
Pa、好ましくは、5×10から64×10Paである。
【0080】 重合は、溶液で、塊状で、懸濁でまたは気相で、連続的または回分式で、1以
上の工程で行なうことができる。好ましい態様は、気相および塊状重合である。
【0081】 好ましく使用される触媒は、本発明の方法で得られるメタロセン化合物の1種
を含む。例えば、広く、多峰性の分子量分布を持つポリオレフィンの製造のため
に、2種以上のメタロセン化合物の混合物を使用することもできる。
【0082】 本発明の方法により得られる式(II)および(IV)のうち1種のメタロセ
ンと共に触媒組成物を形成する共触媒は、例えばアルミノキサンまたはルイス酸
またはイオン性化合物のように、メタロセンと反応し、これをカチオン性化合物
へ変換する、少なくとも1種の化合物を含む。
【0083】 アルミノキサンとして、式(VII)の化合物を用いることが好ましい。
【0084】
【化11】
【0085】 さらに好ましいアルミノキサンは、例えば式(VIII)のように環状のもの
であってよく、
【0086】
【化12】 または式(IX)のように直鎖であってもよく、
【0087】
【化13】 または式(X)のようにクラスター種であってもよい。
【0088】
【化14】
【0089】 このようなアルミノキサンは、例えばJACS 117(1995),6465-74, Organometall
ics 13(1994),2957-2969に記載されている。
【0090】 式(VII)、(VIII)、(IX)および(X)中のR基は、同一または
異なっていてもよく、各々C〜C20炭化水素基、例えば、C〜Cアルキ
ル基、C〜C18アリール基またはベンジルを表し、または水素を表し、およ
びpは2から50の整数、好ましくは10から35を表す。
【0091】 R基は、好ましくは同一であり、各々メチル、イソブチル、n−ブチル、フェ
ニルまたはベンジル、特に好ましくはメチルを表す。
【0092】 R基が異なっている場合、それらは好ましくはメチルおよび水素、メチルおよ
びイソブチル、またはメチルおよびn−ブチルを表し、水素またはイソブチルま
たはn−ブチルが0.01から40%(R基の数)存在していることが好ましい
【0093】 アルミノキサンは公知の様々な方法で製造することができる。方法の一つは、
例えば、炭化水素アルミニウム化合物および/または水素化アルミニウム炭化水
素化合物と水(気体、固体、液体または結合、例えば結晶化した水として)を、
不活性な溶媒中(例えばトルエン)で反応させる。 異なったアルキル基Rをもつアルミノキサンを製造するためには、所望の組成と
反応性に対応した2種の異なったトリアルキルアルミニウム(AlR+AlR
')を水と反応させる(S.Pasynkiewicz, Polyhedron 9 (1990) 429 およびEP
−A0302424参照)。
【0094】 製造方法にかかわらず、すべてのアルミノキサン液が、反応していない出発材
料のアルミニウム(フリー体または付加物の形態で存在する)の様々な含量を持
つ。
【0095】 ルイス酸としては、C〜C20基、例えば分枝のまたは分枝でないアルキル
またはハロアルキル、例えばメチル、プロピル、イソプロピル、イソブチルまた
はトリフルオロメチル、または不飽和基、例えばアリールまたはハロアリール、
例えばフェニル、トリル、ベンジル、p−フルオロフェニル、3,5−ジフルオ
ロフェニル、ペンタクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、3,4,5−ト
リフルオロフェニルまたは3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニルを含む、
少なくとも1種の有機ホウ素または有機アルミニウム化合物を使用することが好
ましい。
【0096】 好ましいルイス酸は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ト
リイソブチルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリフルオロボラン、ト
リフェニルボラン、 トリス(4−フルオロフェニル)ボラン、トリス(3,5−ジフルオロフェニ
ル)ボラン、トリス(4−フルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボラン、トリス(トリル)ボラン、トリス(3,5−ジメチル
フェニル)ボラン、トリス(3,5−ジフルオロフェニル)ボラン、[(C
BO]Al−Me、[(CBO]Alおよび/またはトリス
(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボランである。トリス(ペンタフルオロ
フェニル)ボランが特に好ましい。
【0097】 イオン性共触媒として好ましいものは、非配位のアニオンを含んだ化合物を使
用したもので、例えば、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、テト
ラフェニルボラート、SbF 、CFSO 、またはClO である。
カチオンの対イオンとして、メチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、N−メチルアニリン、ジフェニルアミン、N,N−ジメチルアニリン
、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、メチルジフ
ェニルアミン、ピリジン、p−ブロモ−N,N−ジメチルアニリン、p−ニトロ
−N,N−ジメチルアニリン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン
、ジフェニルホスフィン、テトラヒドロチオフェンまたはトリフェニルカルベニ
ウムなどのプロトン化されたルイス塩基が使用される。
【0098】 イオン性化合物の例は、以下の通りである。 トリエチルアンモニウムテトラ(フェニル)ボラート、 トリブチルアンモニウムテトラ(フェニル)ボラート、 トリメチルアンモニウムテトラ(トリル)ボラート、 トリブチルアンモニウムテトラ(トリル)ボラート、 トリブチルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリブチルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)アルミナート、 トリプロピルアンモニウムテトラ(ジメチルフェニル)ボラート、 トリブチルアンモニウムテトラ(トリフルオロメチルフェニル)ボラート、 トリブチルアンモニウムテトラ(4−フルオロフェニル)ボラート、 N,N−ジメチルアニリニウムテトラ(フェニル)ボラート、 N,N−ジエチルアニリニウムテトラ(フェニル)ボラート、 N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート
、 N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミナ
ート、 ジ(プロピル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 ジ(シクロヘキシル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラ
ート、 トリフェニルホスホニウムテトラキス(フェニル)ボラート、 トリエチルホスホニウムテトラキス(フェニル)ボラート、 ジフェニルホスホニウムテトラキス(フェニル)ボラート、 トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(フェニル)ボラート、 トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(フェニル)ボラート、 トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミナート
、 トリフェニルカルベニウムテトラキス(フェニル)アルミナート、 フェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラートおよび/または
フェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミナート。 トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラートおよ
び/またはN,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル
)ボラートが好ましい。
【0099】 少なくとも1種のルイス酸と少なくとも1種のイオン性化合物との混合物を使
用することもできる。
【0100】 さらに適当な助触媒成分は、ボランまたはカルボラン化合物であり、例えば、
7,8−ジカルバウンデカボラン(13) ウンデカヒドリド−7,8−ジメチル−7,8−ジカルバウンデカボラン、 ドデカヒドリド−1−フェニル−1,3−ジカルバノナボラン、 トリ(ブチル)アンモニウムウンデカヒドリド−8−エチル−7,9−ジカルバ
ウンデカボラート、 4−カルバノナボラン(14) ビス(トリ(ブチル)アンモニウム)ノナボラート、 ビス(トリ(ブチル)アンモニウム)ウンデカボラート、 ビス(トリ(ブチル)アンモニウム)ドデカボラート、 ビス(トリ(ブチル)アンモニウム)デカクロロデカボラート、 トリ(ブチル)アンモニウム 1−カルバデカボラート トリ(ブチル)アンモニウム 1−カルバドデカボラート、 トリ(ブチル)アンモニウム 1−トリメチルシリル−1−カルバデカボラート
、 トリ(ブチル)アンモニウムビス(ノナヒドリド−1,3−ジカルバノナボラー
ト)コバルタート(III)、 トリ(ブチル)アンモニウムビス(ウンデカヒドリド−7,8−ジカルバウンデ
カボラート)フェラート(III)である。
【0101】 担持されていない、または担持されている形態で使用することができる、さら
なる共触媒は、EP−A−0924223、DE−A−19622207、EP
−A−0601830、EP−A−0824112、EP−A−0824113
、WO99/06414、EP−A−0811627およびDE−A−1980
4970に記載された化合物である。
【0102】 本発明の触媒組成物の担体成分は、無機または有機の、不活性な固体のいずれ
でよく、特にタルク、無機酸化物および微細重合粉末(たとえばポリオレフィン
)のような多孔質担体であってよい。
【0103】 適当な無機酸化物を、周期表第2族、第3族、第4族、第5族、第13族、第
14族、第15族および第16族の元素の酸化物に見出すことができる。担体と
して適した酸化物には、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、および2種の元素の
混合酸化物か、対応する酸化物の混合物が含まれる。単独でまたは上記好ましい
酸化担体との組み合わせで用いることができる他の無機酸化物は、例えばMgO
、ZrO、TiOまたはB等である。
【0104】 使用される担体材料は、10から1000m/gの範囲の比表面積、0.1
から5ml/gの範囲の細孔容積、1から500μmの平均粒径を持つ。好まし
くは担体が、50から500m/gの範囲の比表面積、0.5から3.5ml
/gの範囲の細孔容積、および5から350μmの平均粒径を持つ。特に好まし
くは担体が、200から400m/gの範囲の比表面積、0.8から3.0m
l/gの細孔容積および10から200μmの平均粒径を持つ。
【0105】 使用される担体材料が、もともと低い水分含量か溶媒残留量をもっている場合
、使用の前の脱水または乾燥を省略することができる。そうではない場合、例え
ばシリカゲルを担体材料として使用する場合、脱水と乾燥が推奨される。担体材
料の熱的脱水と乾燥は、減圧下で、同時に不活性ガスシール(例えば窒素)を用
いて行なうことができる。乾燥温度は、100から1000℃の範囲であり、好
ましくは200から800℃である。この場合には、圧力のパラメーターは重要
ではない。乾燥工程の時間は1から24時間が可能である。これより短いまたは
長い乾燥時間が可能であるが、担体表面のヒドロキシ基との平衡が、選択した条
件下で達成され、これには通常4から8時間かかる。
【0106】 担体材料は、吸収された水および表面の水酸基を適当な不動態化試薬と反応さ
せることにより、化学的手段によっても脱水または乾燥することができる。不動
態化試薬との反応により、すべてのまたはいくらかのヒドロキシ基を、触媒の活
性中心に対して負の効果を及ぼさない形に変換することができる。適当な不動態
化試薬は、例えば、塩化ケイ素およびシラン(例えば、四塩化ケイ素、クロロト
リメチルシランまたはジメチルアミノトリクロロシラン)、またはアルミニウム
、ホウ素、およびマグネシウムの有機金属化合物(例えば、トリメチルアルミニ
ウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリエチルボラ
ンおよびジブチルマグネシウム)である。担体材料の化学的脱水または不動態化
は、例えば、適当な溶媒中の担体材料の懸濁液を、純粋な形の、または、空気と
水分を除いた適当な溶媒中の不動態化試薬と反応させることにより行う。適当な
溶媒として、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエンまたはキシレンの
ような脂肪族または芳香族炭化水素が挙げられる。不動態化は25℃から120
℃で行われ、50から70℃が好ましい。これよりも高いまたは低い温度が可能
である。反応時間は30分から20時間である。1から5時間が好ましい。化学
的脱水が完了した後、担体材料を不活性の条件下で濾取することで単離する。上
述の適当な不活性溶媒で1度以上洗浄し、続いて不活性ガスの流れ中または減圧
下で乾燥する。
【0107】 微細ポリオレフィン粉末などのような有機の担体材料(例えばポリエチレン、
ポリプロピレンまたはポリスチレン)も使用することができ、同様に使用前の適
当な精製または乾燥の操作によって、水分の付着、残留溶媒または他の不純物が
含まれないようにしなければならない。
【0108】 触媒組成物は、少なくとも1種のメタロセンと、少なくとも1種の共触媒および
少なくとも1種の不動態担体の混合により製造する。
【0109】 担持された触媒組成物を製造するために、少なくとも1種の、本発明の方法に
より得られる上述のメタロセン成分を適当な溶媒中の少なくとも1種の共触媒と
接触させ、好ましくは、溶解反応生成物、付加体または混合物を得る。
【0110】 このようにして得られた組成物を、脱水するか、不動態化した担体材料と混合
して溶媒を取り除き、得られた担持されたメタロセン触媒組成物を、すべてのま
たはほとんどの溶媒が担体材料の細孔から取り除かれることを保証するために乾
燥する。担持された触媒がさらさらとした粉末として得られる。
【0111】 さらさらとした、あるいは予備重合された担持された触媒組成物の製造方法は
以下の工程を含む: a)適当な溶媒中または懸濁媒体中のメタロセン/共触媒混合物を製造する工程
、但し、メタロセン成分は本発明の方法により得ることができ、上記の構造のう
ちの1つを有している; b)メタロセン/共触媒混合物を、多孔の、好ましくは無機の脱水担体に施す工
程、 c)得られた混合物から溶媒の大部分を除去する工程、 d)担持された触媒組成物を単離する工程、 e)必要であれば、1種以上のオレフィンモノマ−(複数でもよい)を用いて得
られる、担持された触媒組成物の予備重合を行い、予備重合され、担持された触
媒組成物を得る工程。
【0112】 メタロセン/共触媒混合物を製造するために適した溶媒は、選択された反応温
度で液体であり、個々の成分が好ましくは溶解する炭化水素および炭化水素混合
物である。しかし、個々の成分の溶解性は、メタロセンおよび共触媒成分の反応
生成物が、選択した溶媒に溶解することが保証されさえすれば、必須の条件では
ない。適当な溶媒の例として、アルカン、例えばペンタン、イソペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、およびノナン;シクロアルカン、例えばシクロペン
タン、およびシクロヘキサン;および芳香族、例えば、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、ジエチルベンゼンが挙げられる。トルエンが非常に特に好ましい
【0113】 担持された触媒組成物の製造で使用されるアルミノキサンおよびメタロセンの
量は、広い範囲にわたり変更することができる。アルミニウムの、メタロセン中
の遷移金属に対するモル比が、10:1から1000:1であることが好ましく
、50:1から500:1が非常に特に好ましい。
【0114】 メチルアルミノキサンの場合、30%濃度のトルエン溶液を使用することが好
ましい。しかし、10%濃度の溶液も可能である。
【0115】 予備活性化のために、固体メタロセンを、適当な溶媒中のアルミノキサン溶液
に溶解する。メタロセンを別々に適当な溶媒に溶解し、ついでこの溶液をアルミ
ノキサン溶液と合わせることも可能である。トルエンを使用することが好ましい
【0116】 予備活性化時間は、1分から200時間である。
【0117】 予備活性化は、室温(25℃)で行なうことができる。より高い温度の使用は
、いくつかの場合には、必要とされる予備活性化時間を短縮することができ、そ
の結果活性がさらに上昇する。この場合には、より高い温度とは、50から10
0℃の範囲を意味する。
【0118】 予備活性化された溶液またはメタロセン/共触媒混合物を、次いで不活性担体
材料、通常は乾燥粉末の形態のまたは、上述した溶媒のうちの一つの懸濁液であ
る、シリカゲルと合わせる。担体材料は好ましくは粉末として使用される。添加
の順番は重要ではない。予備活性化されたメタロセン/共触媒溶液またはメタロ
セン/共触媒混合物を、担体材料へ加えることができ、または、担体材料を溶液
に導入することもできる。
【0119】 予備活性化した溶液またはメタロセン/共触媒混合物の容積は、使用される担
体材料の全細孔容積の100%を超える容積か、そうでなければ全細孔容積の1
00%までの容積である。
【0120】 予備活性化した溶液またはメタロセン/共触媒混合物を担体材料に接触させる
温度は、0から100℃の範囲に変更することができる。しかし、より低い、ま
たはより高い温度も可能である。
【0121】 次いで、混合物を攪拌し、所望により加熱をすることができ、すべてのまたは
ほとんどの溶媒を担持された触媒組成物から取り除く。目視できる溶媒の部分お
よび担体材料の細孔の中の部分を取り除くことが好ましい。溶媒の除去は、慣用
の方法で、減圧を用いるかおよび/または不活性気体を勢いよく流すことにより
行なうことができる。乾燥工程において、混合物は、固定されていない溶媒を取
り除くまで、通常1から3時間、30から60℃の好ましい温度で加熱すること
ができる。固定されていない溶媒とは、混合物の中の目視できる溶媒の部分であ
る。本発明において、残留する溶媒は、細孔の中に封じ込められた部分である。
溶媒の除去を完全にするための変法として、担持された触媒組成物を、固定され
ていない溶媒を完全に除去し、一定の残留溶媒の含量のみになるまで乾燥させる
こともできる。担持された担体組成物を次いで低沸点の炭化水素、例えばペンタ
ンまたはヘキサンで洗浄し、再び乾燥することができる。
【0122】 製造後、担持された触媒組成物を直接オレフィンの重合に使用するか、または
重合工程に先立ち、1以上のオレフィン性モノマーを使用して予備重合すること
ができる。担持された触媒組成物の予備重合は、例えばWO94/28034に
記載されている。
【0123】 加えて、少量のオレフィン、好ましくはα−オレフィン(例えばスチレンまた
はフェニルジメチルビニルシラン)を活性促進成分として、または例えば帯電防
止剤を、加えることができる。
【0124】 帯電防止剤として、例えばメジアラン酸の金属塩、アントラニル酸の金属塩お
よびポリアミンの混合物が慣用的に使用される。このような帯電防止剤は、例え
ばEP−A−0636636に記載されている。
【0125】 添加剤のメタロセン成分(化合物(I))に対するモル比は、好ましくは1:
1000〜1000:1、非常に特に好ましくは1:20〜20:1である。
【0126】 本発明は、本発明の方法で得られる式(II)または(IV)の少なくとも1
種の遷移金属成分を含む触媒組成物の存在下、1種以上のオレフィンの重合によ
りポリオレフィンを製造する方法も提供する。本発明においては、「重合」は、
単独重合と共重合のどちらも含む。
【0127】 本発明の方法で得られる式(II)および(IV)のメタロセンは、ジハライ
ド化合物と同等の、またはときには優れたオレフィンの重合活性を示し、得られ
るポリオレフィンは、望ましくない低分子量の抽出可能物の割合が減少している
ことを示す。
【0128】 ここに記載された触媒組成物は、2から20個の炭素原子を有するオレフィン
の重合のための、唯一の触媒成分として使用され得る。または、好ましくは、少
なくとも1種の、周期表第I主族から第III主族のアルキル化合物、例えばア
ルキルアルミニウム、アルキルマグネシウムまたはアルキルリチウムまたはアル
ミノキサンと組み合わせて使用される。アルキル化合物は、モノマーまたは懸濁
媒体へ添加され、触媒活性に悪影響を与え得る物質をモノマーから除去する作用
がある。加えるアルキル化合物の量は、使用されるモノマーの品質に依存する。
【0129】 モル質量調整剤として、および/または活性の上昇のために、必要であれば水
素が加えられる。
【0130】 重合において、帯電防止剤が、使用される触媒組成物と一緒に、または別々に
重合系に導入される。
【0131】 本発明の方法で得られる式(II)および(IV)のメタロセンの少なくとも
1種を含む触媒組成物を使用して製造される重合体は、一様の粒子のモルホロジ
ーを示し、微粉を含まない。触媒組成物を使用した重合では、堆積物、塊の材料
は発生しない。触媒組成物は、並外れて高い立体特異性およびレジオ特異性を持
つ重合体、例えばポリプロピレンを与える。
【0132】 重合体、特にポリプロピレンの立体特異性およびレジオ特異性は、特に、13 CNMRスペクトルで決定できるトリアドタクチシティー(TT)および2−1
−挿入プロペン単位(RI)の割合で定義される。
【0133】 13C−NMRスペクトルは、ヘキサクロロブタジエンおよびd−テトラク
ロロエタンの混合物中で、高温(365K)で測定される。測定されたポリプロ
ピレンサンプルのすべての13C−NMRスペクトルは、d−テトラクロロエ
タンの共鳴シグナル(δ=73.81ppm)を基準として校正したものである
【0134】 ポリプロピレンのトリアドタクチシティーを決定するために、13C−NMR
スペクトルの23から16ppmのメチル共鳴シグナルを測定した;J.C.Randal
l, Polymer Sequence Determination: Carbon-13 NMR Method, Academic Press
New York 1978; A. Zambelli, P. Locatelli, G. Bajo,F. A. Bovey, Macromole
cules 8 (1975), 687-689; H. N. Cheng, J.A.Ewen, Makromol. Chem. 190(1989
), 1931-1943参照。3つの連続した1−2−挿入プロぺン単位であってそのメチ
ル基が「フィッシャー投影式」の同じ側にあるものが、mmトリアドとして参照
される(δ=21.0ppmから22.0ppm)。3つの連続したプロペン単
位の2番目のメチル基のみが、他の側を示している場合、rrトリアドを表す(
δ=19.5ppmから20.3ppm)。3つの連続したプロペン単位の3番
目のメチル基のみが、他の側を示している場合、これはmrトリアドとして参照
される(δ=20.3ppmから21.0ppm)。トリアドタクチシティーは
、以下の式に従って計算される: TT(%)=mm/(mm+mr+rr)・100 もしプロペン単位が逆にポリマーの成長鎖に挿入された場合、これは2−1挿
入として参照される;T. Tsutsui, N. Ishimaru, A. Mizuno, A. Toyota, N. Ka
shiwa, Polymer 30,(1989), 1350-56参照。下記の異なった構造配列が可能であ
る。
【0135】
【化15】 2−1−挿入プロペン単位(RI)の割合は、以下の式に従って計算することが
できる。
【0136】 RI(%)=0.5Iα,β(Iα,α+Iα,β+Iα,δ)・100 但し、 Iα,αは、δ=41.84、42.92、および46.22ppmの共鳴シグ
ナルの強度の合計を表し、 Iα,βは、δ=30.13、32.12、35.11および35.57ppm
の共鳴シグナルの強度の合計を表し、 Iα,δは、δ=37.08ppmの共鳴シグナルの強度を表す。
【0137】 触媒組成物を用いて製造されたアイソタクチックポリプロピレンは、2−1−
挿入プロペン単位の比率RIが0.5%未満であり、トリアドタクチシティーT
Tが98.0%より上であり。融点は153℃を上まわり、本発明により製造さ
れたポリプロピレンのM/Mは2.5から3.5である。
【0138】 触媒組成物を用いて製造しうる共重合体は、先行技術よりも著しく高いモル質
量を有している。同時に触媒組成物の使用により、共重合体を、堆積物の形成な
しで、工業的に関連する工程パラメーターにより、高い生産性で製造することが
できる。
【0139】 この方法で製造された重合体は特に、高い引張り強さをもつ硬質の成形体、た
とえば、線維、フィラメント、射出成形部品、フィルム、シートまたは大きな中
空体(例えばパイプ)を製造するために有用である。
【0140】 本発明を以下の実施例により説明する。これらは本発明を限定するものではな
い。
【0141】 一般的操作:有機金属化合物の調製と取り扱いは、空気と水分の不存在下、ア
ルゴン下で行なわれた(シュレンク法またはグローブボックス)。すべての必要
な溶媒を、使用前にアルゴンで清浄にし、モレキュラーシーブ上で乾燥した。
【0142】 [実施例1] (1)の製造は、H. Yasudaら,J. Organomet. Chem. 493(1994) 113頁と類似
の方法をもちいて行なった。4.4g(19ミリモル)の四塩化ジルコニウムと
、3.8g(19.7ミリモル)のMeSiO−2,6−Meを反
応させ、結晶化により5.3g(61%)の(1)を得た。
【0143】 [実施例2]ジルコニウムモノクロリドモノ(O−2,4−(tert−Bu) )(THF)(2)の製造 (2)の製造は、実施例1と類似の方法をもちいて行なわれた。6.9g(3
0ミリモル)の四塩化ジルコニウムと8.4g(30ミリモル)のMeSiO
−2,4−(tert−Bu)と反応させ、結晶化により9.0g(55
%)の(2)を得た。 H−NMR(400MHz、CDCl):7.5(1H)、7.3(1H)
、7.15(dd、1H)、4.5(br.、8H)、2.1(br.、8H)
、1.5(s、9H)、1.3(s、9H)
【0144】 [実施例3]pseudo-rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベ
ンゾインデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4−ジ−tert−ブチルフ
ェノキシド)(3) 38mlのトルエン/1.6mlのTHF中の4g(9.6ミリモル)のジメ
チルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)シランの溶液を、7.2m
l(19.2ミリモル)の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合
し、混合物を60℃で1時間攪拌した。5.25g(9.6ミリモル)の(2)
を20℃でこれに加え、反応混合物を30℃で1時間攪拌した。懸濁液のサンプ
ルのH―NMRスペクトルは、pseudo-rac /pseudo-mesoの比が4:1である
ことを示した。反応混合物をセライトを通してろ過し、フィルターの塊を全部で
125mlの温トルエンで抽出し、濾液を約70mlとなるまで蒸発させた。−
30℃で結晶化したのち、黄色の析出結晶を濾取により単離し、少量の冷トルエ
ンで洗浄し減圧下で乾燥した。3.2g(44%)の(3)を得た。 H−NMR(400MHz、CDCl):8.05(dd、1H)、7.7
5(m、2H)、7.65(dd、1H)、7.60(1H)、7.5−7.1
5(m、6H)、7.1(m、1H)、7.0(m、1H)、6.85(s、1
H)、6.8(d、1H)、6.65(m、1H)、5.45(d、1H)、2
.82(s、3H)、2.45(s、3H)、1.45(s、3H)、1.35
(s、3H)、1.25(s、9H)、0.95(s、9H)
【0145】 [比較実施例] rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベン
ゾインデニル)ジルコニウムジクロリド 18mlのトルエン/2mlのTHF中の2.5g(6.0ミリモル)のジメ
チルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)シランの溶液を4.5ml
(12.0ミリモル)の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し
、混合物を50℃で2時間攪拌した。2.26g(6.0ミリモル)のZrCl ・(THF)を40℃でこれに加えた。反応混合物を40℃で0.5時間攪
拌した。懸濁液のサンプルのH−NMRスペクトルは、rac/mesoが1:1であ
ることを示した。反応混合物をろ過し、黄色の生成物を全部で30mlの塩化メ
チレン、5mlのTHFで2回抽出した。減圧下で乾燥させると、0.7g(2
0%)のrac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)ジルコニウムジクロリドが得られた。
【0146】 溶解性の比較: 50mgのrac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリドは、室温で240mlのトルエンにすべて溶
解した。(溶解性:約0.36ミリモル/l) 50mgの化合物(3)は、室温で5ml以下のトルエンにすぐに溶解した。
(溶解性:13ミリモル/lを超える)
【0147】 [実施例3a] (3)を用いた触媒の製造および重合 35.1mg(0.047ミリモル)の(3)を、2.1mlの30%濃度の
MAOトルエン溶液(Al/Zr=215)中で、室温で60分間攪拌した。2
gのSiO(Grace XPO2107、140℃、10×10mPa、
10時間前処理を行なった。)を次いで加え、混合物をさらに10分間攪拌した
。溶媒はオイルポンプの減圧で取り除いた。
【0148】 乾燥した2Lの反応器をまず窒素で次いでプロピレンでフラッシュし、1.5
Lの液体プロピレンを満たした。2mlのTEA(Varsolの20%濃度)
を加え、混合物を15分間攪拌した。それから上で製造した触媒組成物(0.8
86g)を20mlのヘプタンに再懸濁し、反応器へ注入し、15mlのヘプタ
ンを用いてすすいだ。反応混合物を60℃の重合温度まで加熱し、重合を1時間
行なった。重合は、残っているプロピレンを放散することで終了させた。重合体
を、減圧乾燥炉中で乾燥した。470gのポリプロピレン粉末を得た。反応器の
内壁または攪拌機上に堆積物は生じなかった。触媒活性は、0.53kgのPP
/(1gの触媒)X 時間であった。
【0149】 [比較実施例]ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)ジルコニウムジクロリドを使用する触媒の製造と重合 27.1mg(0.047ミリモル)のジメチルシランジイルビス(2−メチ
ル−4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリドを2.1mlの30%
濃度のMAOトルエン溶液(Al/Zr=215)中で、60分間室温で攪拌し
た。2gのSiO(GraceXPO2107、140℃、10×10mP
a、10時間で前処理した。)を次いで加え、混合物をさらに10分間攪拌した
。溶媒は、オイルポンプの減圧下で除去した。
【0150】 乾燥した2Lの反応器を窒素で、次いでプロピレンでフラッシュし、1.5L
の液体プロピレンを満たした。2mlのTEA(Varsol中の20%濃度)
をこれに加え、混合物を15分間攪拌した。上で製造した触媒組成物(0.89
7g)を次いで20mlのヘプタンに再懸濁し、それから反応器へ注入し、15
mlのヘプタンですすいだ。反応混合物を60℃の重合温度まで加熱し、重合を
1時間行なった。重合は、残っているプロピレンを放散することで終了させた。
重合体を、減圧乾燥炉中で乾燥した。410gのポリプロピレン粉末を得た。反
応器の内壁または攪拌機上に堆積物は生じなかった。触媒活性は、0.46kg
のPP/(1gの触媒)X 時間であった。
【0151】 [実施例4] pseudo-rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)
ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシド)(4
) 18mlのトルエン/1mlのTHF中の2.5g(7.9ミリモル)のジメ
チルビス(2−メチルインデニル)シランの溶液を、5.9ml(15.8ミリ
モル)の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し、混合物を60
℃で1時間攪拌した。4.32g(7.9ミリモル)の(2)を20℃でこれに
加え、反応混合物を30℃で1時間攪拌した。懸濁液のサンプルのH―NMR
スペクトルは、pseudo-rac /pseudo-mesoの比が2:1であることを示した。反
応混合物をセライトを通してろ過し、フィルターの塊を全部で75mlの温トル
エンで抽出し、濾液を蒸発させ、−30℃で結晶化したのち、黄色の析出結晶を
濾取により単離し、少量の冷トルエンで洗浄し減圧下で乾燥した。2.0g(3
9%)の(4)を得た。 H−NMR(400MHz、CDCl):8.03(dd、1H)、7.6
(dd、1H)、7.25−7.2(m、2H)、7.15(m、1H)、7.
1−7.0(m、2H)、6.9(m、1H)、6.8(s、1H)、6.75
(m、1H)、6.7(m、1H)、6.3(s、1H)、5.55(d、1H
)、2.65(s、3H)、2.3(s、3H)、1.3(s、3H)、1.2
5(s、9H)、1.22(s、3H)、1.15(s、9H)
【0152】 [比較実施例]rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジル
コニウムジクロリド 18mlのトルエン/1mlのTHF中の2.5g(7.9ミリモル)のジメ
チルビス(2−メチルインデニル)シランを、5.9ml(15.8ミリモル)
の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し、混合物を60℃で1
時間攪拌した。3.0g(7.9ミリモル)のZrCl・(THF)を20
℃でこれに加え、反応混合物を30℃で1時間攪拌した。懸濁液のサンプルの H−NMRスペクトルは、rac/meso比が1:1であることを示していた。温トル
エンで抽出し、結晶化し、0.7g(19%)のジメチルシランジイルビス(2
−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリドを得た。
【0153】 溶解性の比較: 50mgのジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム
ジクロリドは室温で50mlのトルエンにすべて溶解した(溶解性:約2.1ミ
リモル/l)。
【0154】 50mgの化合物(4)は、5ml未満のトルエンに、室温ですぐに溶解した
(溶解性:15ミリモル/lを超える)。
【0155】 [実施例5]pseudo-rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベ
ンゾインデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシ
ド)(5) 7mlのトルエン/0.4mlのTHF中の1g(2.4ミリモル)のジメチ
ルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)シランの溶液を、1.8ml
(2.8ミリモル)の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し、
混合物を60℃で1時間攪拌した。1.11g(2.4ミリモル)の(1)をこ
れに20℃で加え、反応混合物を30℃で1時間攪拌した。懸濁液のサンプルの H−NMRスペクトルは、pseudo-rac/pseudo-mesoの比が、5:1より大きい
ことを示していた。反応混合物をセライトを通してろ過し、フィルターの塊を全
部で55mlの温トルエンで抽出し、濾液を蒸発させ、−30℃で結晶化し、黄
色の析出結晶をろ取により単離し、少量の冷トルエンで洗浄し、減圧下乾燥した
。0.7g(44%)の(5)を得た。
【0156】 [実施例6] pseudo-rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル
)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)(6) 7mlのトルエン/0.4mlのTHF中の1g(3.16ミリモル)のジメ
チルビス(2−メチルインデニル)シランの溶液を2.4ml(6.4ミリモル
)の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し、混合物を60℃で
1時間攪拌した。1.46g(3.15ミリモル)の(1)を20℃でこれに加
え、反応混合物を30℃で1時間攪拌した。懸濁液のサンプルのH−NMRス
ペクトルは、pseudo-rac/pseudo-mesoの比が約8:1であることを示していた。
反応混合物をセライトを通してろ過し、フィルターの塊を全部で60mlの温ト
ルエンで抽出し、濾液を蒸発させ、−30℃で結晶化し、黄色の析出結晶を濾取
により単離し、少量の冷トルエンで洗浄し、減圧下乾燥した。0.95g(53
%)の(6)を得た。 H−NMR(400MHz、CDCl):7.98(m、1H)、7.61
(m、1H)、7.35−7.23(m、2H)、7.1−6.99(m、3H
)、6.76(非常に広いs、2H)、6.69(s、1H)、6.6−6.5
3(m、2H)、6.23(s、1H)、2.64(s、3H)、2.27(s
、3H)、2.16(br.s、3H)、1.7(br.s、3H)、1.33
(s、3H)、1.22(s、3H)
【0157】 [実施例7] pseudo-rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェ
ニルインデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシ
ド)(7) 7mlのトルエン/0.4mlのTHF中の1g(2.13ミリモル)のジメ
チルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)シランの溶液を1.6ml(
4.3ミリモル)の20%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し、混
合物を60℃で1時間攪拌した。1.0g(2.16ミリモル)の(1)を20
℃でこれに加え、反応混合物を30℃で1時間攪拌した。懸濁液のサンプルの H−NMRスペクトルはpseudo-rac/pseudo-mesoの比が約4:1であることを示
していた。反応混合物をセライトを通してろ過し、フィルターの塊を全部で80
mlの温トルエンで抽出し、濾液を蒸発させ、−30℃で結晶化した後、黄色の
析出結晶を濾取により単離し、少量の冷トルエンで洗浄し、減圧下乾燥した。0
.7g(46%)の(7)を得た。 H−NMR(400MHz、CDCl):8.05(d、1H)、7.63
(d、1H)、7.6−6.65(m、18H)、6.39(s、1H)、2.
69(s、3H)、2.39(s、3H)、1.75(s、3H)、1.50(
s、3H)、1.41(s、3H)、1.30(s、3H)
【0158】 [比較実施例] rac−−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェニ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド 14mlのTHF中の2g(4.26ミリモル)のジメチルビス(2−メチル
−4−フェニルインデニル)シランの溶液を3.2ml(8.6ミリモル)の2
0%濃度のn−ブチルリチウムトルエン溶液と混合し、混合物を50℃で2時間
攪拌した。1.6g(4.6ミリモル)のZrCl・(THF)を20℃で
これに加え、反応混合物を40℃で2時間攪拌した。懸濁液のサンプルのH−
NMRスペクトルは、pseudo-rac/pseudo-mesoの比が約2:1であることを示し
ていた。溶媒のほとんどを除去し、残渣をトルエンに懸濁しセライトを通してろ
過し、フィルターの塊を温トルエンで抽出した。濾液を蒸発させ、−30℃で結
晶化した後、黄色の析出微粉を濾取により単離し、少量の冷トルエンで洗浄し、
減圧下乾燥した。0.35g(13%)のrac−ジメチルシランジイルビス(2
−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリドを得た。
【0159】 [実施例8] pseudo-rac−ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4
'−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウムモノクロリドモノ(2,
6−ジメチルフェノキシド)(8) 28mlのトルエン/1.6mlのTHF中の4g(6.89ミリモル)のジ
メチルビス(2−メチル−4−(4'−tert−ブチルフェニル)インデニル)シ
ラン溶液を、5.14ml(13.8ミリモル)の20%濃度のn−ブチルリチ
ウムトルエン溶液と混合し、混合物を80℃で1時間攪拌した。3.18g(6
.9ミリモル)の(1)を20℃でこれに加え、反応混合物を30℃で1時間攪
拌した。25mlのトルエンを添加した後、反応混合物を80℃に加熱し、セラ
イトを通して濾過した。フィルターの塊を全部で150mlの温トルエンで抽出
し、濾液を約20mlになるまで蒸発させ、5℃で結晶化した後、黄色の析出結
晶を濾取により単離し、少量の冷トルエンで洗浄し、減圧下乾燥した。2.66
g(47%)の(8)を得た。 H−NMR(400MHz、CDCl):7.98(d、1H)、7.78
(d、1H)、7.51−6.6(m、11H)、6.36(s、1H)、2.
62(s、3H)、2.35(s、3H)、1.68(s、3H)、1.40(
s、3H)、1.38(s、3H)、1.30(s、9H)、1.25(s、3
H)、1.16(s、9H)
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年11月2日(2000.11.2)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 上記式中、Mが元素周期表の第III、IV、V又はVI族の遷移金属を表わし
、 Xがハロゲン原子を表わし、 ArがC〜C40芳香族基、C〜C24ヘテロアリール、C〜C30
ルキルアリール、フッ素化C〜C24アリール又はフッ素化C〜C30アル
キルアリール、好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC〜C10アリール
基で置換されたC〜C14アリール基を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝で、酸素、硫黄
、窒素又はリン含有炭化水素を表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCaを表わし、 Rが同一又は異なっていてもよく、それぞれSi(R12を意味し、R 12 は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又はC〜C 基、好ましくはC〜C20アルキル、C〜C10フルオロアルキル、C 〜C10アルコキシ、C〜C20アリール、C〜C10フルオロアリール、
〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C〜C40アリール
アルキル、C〜C40アルキルアリールまたはC〜C40アリールアルケニ
ルを表すか、または RがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25アル
ケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C ヘテロアリール、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリ
ール、フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素
化C〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを
表すか、または 2個以上のRが相互に結合し、R基及びこれらに結合するシクロペンタジ
エニル環の原子が、置換されていてもよいC〜C24環基を形成し、 Rが同一であっても異なっていてもよく、それぞれSi(R12を意味
し、このR12が相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子
、又はC〜C40基、好ましくはC〜C20アルキル、C〜C10フルオ
ロアルキル、C〜C10アルコキシ、C〜C14アリール、C〜C10
ルオロアリール、C〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C 〜C40アリールアルキル、C〜C40アルキルアリール又はC〜C40
リールアルケニルを表すか、または RがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25アル
ケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C ヘテロアリール、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリ
ール、フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素
化C〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを
表すか、または 2個以上のRが相互に結合し、R基及びこれらに結合するシクロペンタジ
エニル環の原子が、置換されていてもよいC〜C24環基を形成し、 xがMの酸化数から1を引いた値であり、 k=0である場合には、nが1〜5を、k=1である場合には、nが0〜4を
表わし、 k=0である場合には、n’が1〜5を、k=1である場合には、n’が0〜
4を表わし、 kが0又は1を表わし、 プラス2価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオン若しくは金属イ
オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のシクロペンタジエニル環の間の架橋構造元素を表す、モノアリール
オキシ−メタロセンの製造方法。
【化2】 上記式中、MがTi、Zr又はHfを表わし、 Xがハロゲン原子を表わし、 ArがC〜C40芳香族基、C〜C24ヘテロアリール、C〜C30
ルキルアリール、フッ素化C〜C24アリール又はフッ素化C〜C30アル
キルアリール、好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC〜C10アリール
基で置換されたC〜C14アリール基を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
黄、窒素又はリン含有炭化水素、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミ
ン又はポリアミンを表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCaを表わし、 R、Rが相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、
又はC〜C20基、好ましくはC〜C18アルキル、C〜C10アルケニ
ル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C18アリール、C〜C18
テロアリール、C〜C20アリールアルキル、C〜C20アルキルアリール
、フッ素化C〜C12アルキル、フッ素化C〜C18アリール、フッ素化C 〜C20アリールアルキル又はフッ素化C〜C20アルキルアリールを表わ
し、 R、Rが同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又はC 〜C20基、好ましくはC〜C18アルキル、C〜C10アルケニル、C 〜C15アルキルアルケニル、C〜C18アリール、C〜C18ヘテロア
リール、C〜C20アリールアルキル、C〜C20アルキルアリール、フッ
素化C〜C12アルキル、フッ素化C〜C18アリール、フッ素化C〜C 20 アリールアルキル又はフッ素化C〜C20アルキルアリールを表わし、 R及びRが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子又はC〜C20基、好ましくは直鎖又は分枝状のC〜C18アルキル、C 〜C10アルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、置換又は非置換のC 〜C18アリール、特に、フェニル、トリル、キシリル、tert−ブチルフ
ェニル、エチルフェニル、ナフチル、アセナフチル、フェナントレニルもしくは
アントラセニル、C〜C18ヘテロアリール、C〜C20アリールアルキル
、C〜C20アルキルアリール、フッ素化C〜C12アルキル、フッ素化C 〜C18アリール、フッ素化C〜C20アリールアルキル又はフッ素化C 〜C20アルキルアリールを表すか、或いは 2個の基R及びRが、置換されていても良い単環又は多環の環式基を形成
し、 l、l’が同一でも異なっていてもよく、それぞれ0〜4の整数、好ましくは
1又は2、特に好ましくは1を表わし、 プラス1価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオン若しくは金属イ
オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のシクロペンタジエニル環の間の架橋構造元素を表す、製造方法。
【化3】 で表され、 MがTi、Zr又はHfを表わし、 Xがハロゲン原子を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
黄、窒素又はリン含有炭化水素、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミ
ン又はポリアミンを表わし、 R3aがハロゲン又はSi(R12を表し、R12が同一であっても異な
っていてもよく、それぞれ水素原子、又はC〜C14基、好ましくはC〜C アルキル、C〜Cアルコキシ、C〜C10アリール、C〜C10フル
オロアリール、C〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C
14アリールアルキル、又はC〜C14アルキルアリールを表すか、或いは R3aがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25
ルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C 24 ヘテロアリール、C〜C10アルキルオキシ、C〜C10アリールオキ
シ、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリール、フッ素化
〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化C〜C30 アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表わし、 R3b〜R3eが同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素、ハロゲ
ン又はC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25アルケ
ニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C24 ヘテロアリール、C〜C10アルキルオキシ、C〜C10アリールオキシ、
〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリール、フッ素化C 〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化C〜C30アリ
ールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表すか、または 2個以上のR3b〜R3eが相互に結合し、各R基及びこれらに結合するベ
ンゼン環の原子が、置換されていても良いC〜C24環基を形成してもよく、 yが0〜2を表す、遷移金属化合物を使用する、請求項1〜3のいずれかに記
載の方法。
【化4】 で表され、上記符号D、X、M及びR3a〜3eが上記と同義である、遷移金
属化合物を、式(II)で表されるモノアリールオキシ−メタロセンの立体選択
的製造に使用する方法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】 その製造において、所望の、置換ラセミ形アンサ−ビスインデニル−メタロセ
ンジクロリドが、メソ形と共に、1:1のrac/mesoジアステレオマー混
合物として一般に得られ、この結果、貴重な配位子出発化合物により構成される
所望のrac−メタロセンの収率が大幅に制限される。さらに、この製造におい
て生成した粗生成物は、ジアステレオマー混合物の他に、無機副生成物(例えば
、塩)及び有機副生成物(例えば、未反応の置換シクロペンタジエニル配位子)
をさらに含んでいる。メタロセンを触媒成分として使用する場合には、均一形及
び不均一系の両方の触媒組成物において、副生成物、特にメソ形のメタロセンが
、オレフィン重合の触媒活性及びポリマーの詳細に悪影響を与える(例えば、i
−PP中の抽出物の含有量が過度に高くなる)。種々の副生成物を分離、除去す
る各種方法は、公知である(US−A5455366、EP−A0576970
、DE−A19547247、DE−A19547248、US−A55569
97)。 Dormond等による、J. Organomet. Chem. 第101(1)版、(1975)、
71−84ページの論考にはキラルなフェノキシ置換されたアンサ−チタノセン
が記載されている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】 上述したrac/mesoの問題、および精製が複雑であることにより、アン
サ−メタロセン触媒成分の製造コストは、未だ望ましい範囲ではない。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】 しかるに、本発明の目的は、精製の容易なラセミのメタロセンを製造する、よ
り経済的な方法を見出すことにあり、この方法は特に、プロピレンの重合におい
て触媒成分として直接使用され得る、ラセミ形置換アンサ−ビスインデニル−メ
タロセンの製造に好適である。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】 本発明者等は、上記本発明の目的が、式(I)で示される特異的な遷移金属化
合物を式(II)のメタロセンを製造するために使用する方法により解決される
ことを見出した。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】 すなわち、本発明は、下式(III)で表される配位子出発化合物を、下式(
I)で表される遷移金属化合物と反応させることにより、以下の式(II)で表
されるモノアリールオキシ−メタロセンを製造する方法を提供するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),BR,JP,U S (72)発明者 ダムラウ,ハンス−ロベルト−ヘルムート ドイツ、D−78462、コンスタンツ、ボダ ンシュトラーセ、21 Fターム(参考) 4H049 VN01 VN06 VP02 VQ01 VQ05 VQ91 VQ95 VR21 VU14 4H050 AA01 AB40 4J028 AB00A AC28A BA00A BA02B BB00A BB01B BC12B BC15B BC25B EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB13 EB16 EB17 FA01 FA02 FA03 FA04 FA07

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 以下の式(III)で表される配位子出発化合物を、以下の
    式(I)で表される遷移金属化合物と反応させることにより、以下の式(II)
    で表されるモノアリールオキシ−メタロセンを製造する方法であって、 【化1】 上記式中、Mが元素周期表の第III、IV、V又はVI族の遷移金属を表わし
    、 Xがハロゲン原子を表わし、 ArがC〜C40芳香族基、C〜C24ヘテロアリール、C〜C30
    ルキルアリール、フッ素化C〜C24アリール又はフッ素化C〜C30アル
    キルアリール、好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC〜C10アリール
    基で置換されたC〜C14アリール基を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝で、酸素、硫黄
    、窒素又はリン含有炭化水素を表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCaを表わし、 Rが同一又は異なっていてもよく、それぞれSi(R12を意味し、R 12 は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又はC〜C 基、好ましくはC〜C20アルキル、C〜C10フルオロアルキル、C 〜C10アルコキシ、C〜C20アリール、C〜C10フルオロアリール、
    〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C〜C40アリール
    アルキル、C〜C40アルキルアリールまたはC〜C40アリールアルケニ
    ルを表すか、または RがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25アル
    ケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C ヘテロアリール、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリ
    ール、フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素
    化C〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを
    表すか、または 2個以上のRが相互に結合し、R基及びこれらに結合するシクロペンタジ
    エニル環の原子が、置換されていてもよいC〜C24環基を形成し、 Rが同一であっても異なっていてもよく、それぞれSi(R12を意味
    し、このR12が相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子
    、又はC〜C40基、好ましくはC〜C20アルキル、C〜C10フルオ
    ロアルキル、C〜C10アルコキシ、C〜C14アリール、C〜C10
    ルオロアリール、C〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C 〜C40アリールアルキル、C〜C40アルキルアリール又はC〜C40
    リールアルケニルを表すか、または RがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25アル
    ケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C ヘテロアリール、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリ
    ール、フッ素化C〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素
    化C〜C30アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを
    表すか、または 2個以上のRが相互に結合し、R基及びこれらに結合するシクロペンタジ
    エニル環の原子が、置換されていてもよいC〜C24環基を形成し、 xがMの酸化数から1を引いた値であり、 k=0である場合には、nが1〜5を、k=1である場合には、nが0〜4を
    表わし、 k=0である場合には、n’が1〜5を、k=1である場合には、n’が0〜
    4を表わし、 kが0又は1を表わし、 プラス2価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオンもしくは金属イ
    オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のシクロペンタジエニル環の間の架橋構造元素を表す、モノアリール
    オキシ−メタロセンの製造方法。
  2. 【請求項2】 以下の式(V)で表される配位子出発化合物を、以下の式(
    Ia)で表される遷移金属化合物と反応させることにより、以下の式(IV)で
    表される、モノアリールオキシ−メタロセンを製造する請求項1に記載の製造方
    法であって、 【化2】 上記式中、MがTi、Zr又はHfを表わし、 Xがハロゲン原子を表わし、 ArがC〜C40芳香族基、C〜C24ヘテロアリール、C〜C30
    ルキルアリール、フッ素化C〜C24アリール又はフッ素化C〜C30アル
    キルアリール、好ましくはC〜Cアルキル及び/又はC〜C10アリール
    基で置換されたC〜C14アリール基を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
    黄、窒素又はリン含有炭化水素、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミ
    ン又はポリアミンを表わし、 MがLi、Na、K、MgCl、MgBr、Mg又はCaを表わし、 R、Rが相互に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、
    又はC〜C20基、好ましくはC〜C18アルキル、C〜C10アルケニ
    ル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C18アリール、C〜C18
    テロアリール、C〜C20アリールアルキル、C〜C20アルキルアリール
    、フッ素化C〜C12アルキル、フッ素化C〜C18アリール、フッ素化C 〜C20アリールアルキル又はフッ素化C〜C20アルキルアリールを表わ
    し、 R、Rが同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又はC 〜C20基、好ましくはC〜C18アルキル、C〜C10アルケニル、C 〜C15アルキルアルケニル、C〜C18アリール、C〜C18ヘテロア
    リール、C〜C20アリールアルキル、C〜C20アルキルアリール、フッ
    素化C〜C12アルキル、フッ素化C〜C18アリール、フッ素化C〜C 20 アリールアルキル又はフッ素化C〜C20アルキルアリールを表わし、 R及びRが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
    子又はC〜C20基、好ましくは直鎖又は分枝状のC〜C18アルキル、C 〜C10アルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、置換又は非置換のC 〜C18アリール、特に、フェニル、トリル、キシリル、tert−ブチルフ
    ェニル、エチルフェニル、ナフチル、アセナフチル、フェナントレニルもしくは
    アントラセニル、C〜C18ヘテロアリール、C〜C20アリールアルキル
    、C〜C20アルキルアリール、フッ素化C〜C12アルキル、フッ素化C 〜C18アリール、フッ素化C〜C20アリールアルキル又はフッ素化C 〜C20アルキルアリールを表すか、或いは 2個の基R及びRが、置換されていても良い単環又は多環の環式基を形成
    し、 l、l’が同一でも異なっていてもよく、それぞれ0〜4の整数、好ましくは
    1又は2、特に好ましくは1を表わし、 プラス1価の金属イオンのpは1を、プラス1価の金属イオンもしくは金属イ
    オンフラグメントのpは2を表わし、 yが0〜2を表わし、 Bが2個のシクロペンタジエニル環の間の架橋構造元素を表す、製造方法。
  3. 【請求項3】 Mがジルコニウムである請求項1又は2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 以下の式(Ia) 【化3】 で表され、 MがTi、Zr又はHfを表わし、 Xがハロゲン原子を表わし、 Dが非荷電ルイス塩基配位子、好ましくは直鎖、環式又は分枝状の、酸素、硫
    黄、窒素又はリン含有炭化水素、特に好ましくはエーテル、ポリエーテル、アミ
    ン又はポリアミンを表わし、 R3aがハロゲン又はSi(R12を表し、R12が同一であっても異な
    っていてもよく、それぞれ水素原子、又はC〜C14基、好ましくはC〜C アルキル、C〜Cアルコキシ、C〜C10アリール、C〜C10フル
    オロアリール、C〜C10アリールオキシ、C〜C10アルケニル、C
    14アリールアルキル、又はC〜C14アルキルアリールを表すか、或いは R3aがC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25
    ルケニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C 24 ヘテロアリール、C〜C10アルキルオキシ、C〜C10アリールオキ
    シ、C〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリール、フッ素化
    〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化C〜C30 アリールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表わし、 R3b〜R3eが同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素、ハロゲ
    ン又はC〜C30基、好ましくはC〜C25アルキル、C〜C25アルケ
    ニル、C〜C15アルキルアルケニル、C〜C24アリール、C〜C24 ヘテロアリール、C〜C10アルキルオキシ、C〜C10アリールオキシ、
    〜C30アリールアルキル、C〜C30アルキルアリール、フッ素化C 〜C25アルキル、フッ素化C〜C24アリール、フッ素化C〜C30アリ
    ールアルキル又はフッ素化C〜C30アルキルアリールを表すか、または 2個以上のR3b〜R3eが相互に結合し、各R基及びこれらに結合するベ
    ンゼン環の原子が、置換されていても良いC〜C24環基を形成してもよく、 yが0〜2を表す、遷移金属化合物を使用する、請求項1〜3のいずれかに記
    載の方法。
  5. 【請求項5】 Mがジルコニウムを表わし、 Xが塩素を表わし、 Dが非荷電酸素又は窒素含有ルイス塩基配位子、好ましくはエーテル、ポリエ
    ーテル、アミン又はポリアミンを表わし、 R3aがハロゲン、又はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、C 〜Cアルケニル、C〜Cアルキルアルケニル、C〜C10アリール、
    〜Cヘテロアリール、C〜Cアルキルオキシ、C−アリールオキシ
    、C〜C10アリールアルキル、C〜C10アルキルアリールを表わし、 R3b〜R3eが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素、ハロゲン、又
    はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、C〜Cアルケニル、C 〜Cアルキルアルケニル、C〜C10アリール、C〜Cヘテロアリー
    ル、C〜Cアルキルオキシ、C−アリールオキシ、C〜C10アリール
    アルキル、C〜C10アルキルアリールを表すか、或いは 2個以上のR3a〜R3eが相互に結合し、各R基及びこれらに結合するベ
    ンゼン環の原子が、置換されていてもよいC〜C環基を形成してもよく、及
    び yが0〜2を表す、請求項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 Mがジルコニウムを表わし、 Xが塩素を表わし、 Dがテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン又はN,N,N’,N’
    −テトラメチルエチレンジアミンを表わし、 R3aが塩素、臭素、又はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、
    〜Cアルケニル、C〜C10アリールを表わし、 R3b〜R3dが同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素、塩素、臭素、
    又はC〜C10基、好ましくはC〜Cアルキル、C〜Cアルケニル、
    〜C10アリールを表すか、または 2個以上のR3a〜R3eが相互に結合し、各R基及びこれらに結合するベ
    ンゼン環の原子が、置換されていてもよいC〜C環基を形成してもよく、及
    び yが0〜2までを表す、請求項4又は5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 メタロセン粗生成物中の擬似−ラセミ/擬似−メソの割合が
    1より大きい請求項4〜6のいずれかに記載の方法。
  8. 【請求項8】 擬似−ラセミ/擬似−メソの割合が4より大きい請求項4〜
    7のいずれかに記載の方法。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の方法により得られる式(I
    I)で表されるメタロセン。
  10. 【請求項10】 式(IV)で示される請求項9に記載のメタロセン。
  11. 【請求項11】 ジルコニウムフラグメントが、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシド
    )、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−メチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−イソプロピルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4−ジメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,3−ジメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,4,6−トリメチルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−イソプロピル−5−メチルフェノキシド
    )、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2−tert−ブチル−6−メチルフェノキ
    シド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(2,6−ジイソプロピルフェノキシド)、 ジルコニウムモノクロリドモノ(1−ナフトキシド)、又は ジルコニウムモノクロリドモノ(2−フェニルフェノキシド)、 である請求項10に記載のメタロセン。
  12. 【請求項12】 式R−C=CH−Rで表され、R及びRが同一で
    も異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は1〜20個の炭素原子を有する炭
    化水素を表すか、或いはR及びRがこれらに結合する原子と共に1個以上の
    環を形成する、1種以上のオレフィンの重合に使用される請求項9に記載のメタ
    ロセン。
  13. 【請求項13】 以下の式(Ia) 【化4】 で表され、上記符号D、X、M及びR3a〜3eが上記と同義である、遷移金
    属化合物を、式(II)で表されるモノアリールオキシ−メタロセンの立体選択
    的製造に使用する方法。
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