JP2002526373A - 原料を噴霧する方法および装置 - Google Patents

原料を噴霧する方法および装置

Info

Publication number
JP2002526373A
JP2002526373A JP2000574469A JP2000574469A JP2002526373A JP 2002526373 A JP2002526373 A JP 2002526373A JP 2000574469 A JP2000574469 A JP 2000574469A JP 2000574469 A JP2000574469 A JP 2000574469A JP 2002526373 A JP2002526373 A JP 2002526373A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flame
component
gas
components
fuel gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000574469A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4504569B2 (ja
Inventor
ラヤラ,マルック
エーロラ,マルクス
ティッカネン,ユハ
ピトカネン,ヴィッレ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Liekki Oy
Original Assignee
Liekki Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Liekki Oy filed Critical Liekki Oy
Publication of JP2002526373A publication Critical patent/JP2002526373A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4504569B2 publication Critical patent/JP4504569B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • C03B37/0142Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/10Forming beads
    • C03B19/1005Forming solid beads
    • C03B19/106Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415Reactant delivery systems
    • C03B19/1423Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/123Spraying molten metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/129Flame spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23DENAMELLING OF, OR APPLYING A VITREOUS LAYER TO, METALS
    • C23D5/00Coating with enamels or vitreous layers
    • C23D5/04Coating with enamels or vitreous layers by dry methods
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/31Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/34Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
    • C03B2201/36Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers doped with rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/06Concentric circular ports
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/12Nozzle or orifice plates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/20Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/30For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
    • C03B2207/34Liquid, e.g. mist or aerosol
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/42Assembly details; Material or dimensions of burner; Manifolds or supports
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/46Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、原料を噴霧する方法および装置に関し、該方法および装置においては、少なくとも2つの異なる成分が、燃料ガスによって形成される火炎(9)に導入され、該成分が相互に反応し、多成分ガラス粒子を形成する。火炎(9)によって、多成分ガラス粒子は所望のターゲットに噴霧される。第1成分は火炎にガスまたは蒸気として導入され、第2成分は火炎に液体状態で導入されて実質的に火炎近傍のガスによって噴霧化される。第1成分および第2成分は火炎(9)に燃料ガスと同一の装置で供給される。液体成分およびガス成分はナノメートルのオーダを有する粒子に形成され、相互の反応は均質な多成分ガラス粒子が形成されるように行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、原料を噴霧する方法に関しており、該方法において火炎は燃料ガス
によって生成され、少なくとも2つの異なる成分が火炎に導入され、該成分が相
互に結合して、少なくとも2成分からなる原料を形成する。
【0002】 さらに本発明は、原料を噴霧する装置に関しており、該装置は、燃料ガスが火
炎を生成するように燃料ガスを供給する手段と、少なくとも2つの異なる成分を
火炎に導入し、該成分が相互に結合し、少なくとも2成分からなる原料を形成す
る手段とを含み、該原料は火炎によって所望のターゲットに噴霧される。
【0003】 火炎噴霧装置を用いて固体物質を噴霧することは周知である。この方法におい
て、噴霧される物質は、固体粒子の形状で火炎噴霧ガンに送り込まれ、火炎噴霧
装置によって所望のターゲットに噴霧される。粒子サイズがより小さくなると、
火炎噴霧装置は汚損され目詰まりを起こしやすくなる。したがって、たとえば2
0マイクロメートル未満のサイズを有する粒子を噴霧するために火炎噴霧装置を
用いることはなお一層困難であり、火炎噴霧装置は目詰まりを起こしやすくなり
、その構造から高価である。さらに噴霧される固体物質は、火炎噴霧の間、複数
の異なる相にあり、ある部分は蒸気、ある部分は溶解物質、および部分的に溶解
された物質であり、物質が冷却されたとき、最終的にむらを生じる。
【0004】 米国特許公報3,883,336号は、キャリアガスの機能を果たす酸素によ
って、四塩化珪素が蒸気として火炎噴霧ガンに供給される装置を示している。さ
らに該公報は、外部から火炎噴霧ガンの火炎にエアロゾルが噴霧され、ガラスを
製造することを開示している。しかしながら、エアロゾル生成は複雑な装置を要
し、さらにエアロゾル形成には液体の粘度が一定の範囲内である必要があり、用
いられる原料の組合せが制限される。さらに、該方法によって生成された粒子は
比較的サイズが大きく、すなわちマイクロメートルのオーダである。
【0005】 フィンランド国特許公報98832号は原料を噴霧する方法および装置を示し
ており、該方法において噴霧される液体は、燃料ガスで形成される火炎に導入さ
れ、実質的に火炎近傍のガスと共に噴霧化され、噴霧化および火炎形成が同一装
置内で行われる。該方法を用いて、ナノメートルサイズの粒子が簡略かつ安価な
方法で生成可能である。しかしながらこの解決手段を、複数の成分から成る原料
、たとえば制御された組成を有する多成分ガラスを生成するために用いることは
できない。
【0006】 多成分ガラスを生成する1つの適用例は、アクティブファイバの製造である。
アクティブファイバの製造において、ガラス原料に希土類金属、たとえばエルビ
ウムを添加しなければならない。エルビウムは、蒸気圧が十分低い液体としては
利用できない。アクティブファイバは、従来のファイバ製造方法に広範囲にわた
る高価な処理の修正無くして生成できない。このために、アクティブファイバを
生成するために一般的に用いられる方法は、実質的にアモルファス二酸化珪素か
らなる多孔性プリフォームを製造する方法である。プリフォームは、エルビウム
を含む液体中に浸漬される。数時間浸した後、プリフォームは乾燥および焼結さ
れることによって、添加されたファイバプリフォームが供給される。該方法の欠
点は、添加量と物質のクラスタリングとが不定であり、得られる最終生成物の特
性が損なわれる。さらにアクティブファイバはエアロゾル処理で生成可能であり
、エルビウムを含むエアロゾルは、超音波法によって生成される。超音波法によ
って別々に生成されたエアロゾルは、熱反応器に導かれ、そこで多成分ガラスを
生成するために反応する。この方法の欠点は、添加が複雑かつ困難であり、生成
される粒子が大きい、すなわち粒子サイズが約1マイクロメートルのオーダであ
ることである。
【0007】 本発明の目的は、上記の欠点を回避することができる方法および装置を提供す
ることである。
【0008】 本発明の方法は、第1成分はガス相または蒸気相で火炎に導入され、第2成分
は液相で火炎に導入され、実質的に火炎近傍のガスによって噴霧化され、第1成
分および第2成分は燃料ガスと同じ装置を用いて火炎に供給されることを特徴と
する。
【0009】 さらに本発明の装置は、第1成分をガス相または蒸気相で火炎に導入するガス
管と、第2成分を液相で火炎に導入する液体管と、実質的に火炎近傍の液体成分
を噴霧化するために噴霧化するガスを液体管近傍に導入するガス管とを有してお
り、第1成分および第2成分は燃料ガスと同じ装置を用いて火炎に供給されるよ
うに配置されることを特徴とする。
【0010】 本発明の基本概念は、少なくとも2つの異なる成分が火炎に導かれ、第1成分
はガスまたは蒸気として火炎に導かれ、第2成分は、液相で火炎に導かれ、実質
的に火炎近傍のガスによって噴霧化され、第1成分および第2成分は燃料ガスと
ともに、燃料ガスと同一の装置によって送り込まれる。したがって、液体成分お
よびガス成分はナノメートルのオーダを有する粒子に形成され、相互反応が行わ
れ、たとえば均質な多成分ガラス粒子が形成される。生成された粒子はさらに、
火炎によって様々な材料表面に案内されるか、または個々の粒子として適した装
置を用いて、たとえばアクティブファイバを生成するために回収される。
【0011】 本発明の利点は、非常に簡略かつ安価な方法で、多成分ガラス粒子などの少な
くとも2成分からなる非常に微細かつ均質な粒子を生成することができる。
【0012】 本発明は添付の図表中でさらに詳細に述べられるであろう。 図1は、本発明の火炎噴霧装置を示す。火炎噴霧ガン1は、原料を噴霧する火
炎9を形成するために用いられる。必要なガスは火炎噴霧ガン1にガスダクト2
,3,4および5に沿って供給される。ガスダクト2〜5に沿って火炎を形成す
る燃料ガス、噴霧される液体を噴霧化するガス、多成分ガラスなどの少なくとも
2成分からなる原料のガス相または蒸気相の一成分、および場合によって反応を
制御するために生成されたガスが供給される。ガスダクト2〜5の数は、火炎噴
霧ガン1に供給される必要があるガスの数に従って自然に決定される。形成され
る多成分ガラスの第2成分は、液相で火炎噴霧ガン1に液体ダクト6に沿って供
給される。液体は、液体ダクト6に沿ってたとえば注入ポンプ7を用いてポンピ
ングすることによって搬送される。液体ダクト6に沿う液体の搬送は、たとえば
圧力タンクから液体を供給する、または同様の周知の方法で行うことも可能であ
る。
【0013】 図1に示される火炎噴霧ガン1の右端にはノズル8があり、該ノズルでは燃料
ガスが火炎を生成するために点火され、液体が噴霧化ガスによって噴霧化される
。噴霧化は、実質的に火炎9近傍で行われる。したがって液体成分は、約1ナノ
メートルのオーダのサイズを有する非常に微細な粒子に噴霧化される。同様に、
同程度に小さな粒子が、ガス成分または蒸気成分から形成される。両成分は、火
炎に燃料ガスと共に同一の装置で送り込まれる。好適には、火炎への、燃料ガス
の送り込み、第1成分の送り込みおよび第2成分の送り込みは、単一かつ同一の
装置、すなわち図1に示されるように共通ノズル8を介して行われる。したがっ
て、噴霧される多成分ガラス粒子をターゲット10に向けることが非常に容易で
ある。第1成分および第2成分の粒子は相互に反応し、均質な多成分ガラス粒子
を形成する。多成分ガラス粒子はさらに火炎9によって様々な材料表面に向けら
れ、または適切な装置を用いて別々の粒子として回収可能である。
【0014】 多成分ガラスの液体成分は、火炎噴霧ガン1に液体ダクト6に沿って搬送され
る。液体は、液体ダクト6から火炎噴霧ガン1中心の液体管6aに搬送される。
第1ガスダクト2に沿って、液体を噴霧化するガスは、液体管を取り囲む第1ガ
ス管2aに導入される。第2ガスダクト3に沿って、第2ガスは、第1ガス管2
aを取り囲む第2ガス管3aに導入される。さらに第3ガスダクト4に沿って、
第3ガスは、第2ガス管3aを取り囲む第3ガス管4aに導入され、第4ガスダ
クト5に沿って、第4ガスは、第3ガス管4aを取り囲む第4ガス管5aに導入
される。したがって液体管6aと、第1、第2、第3、第4ガス管2a,3a,
4a,5aは相互に同軸の管である。ノズル8内の第1ガス管2aから流れるガ
スは、液体管6aに沿って流れる液体を液滴に噴霧化させる。
【0015】 形成される多成分ガラスの液体成分は、所望のイオンの適切な水溶液またはア
ルコール溶液であってもよい。たとえば、アクティブファイバ、つまり光増強フ
ァイバの製造において、硝酸エルビウム、水またはアルコール、および水または
アルコールに溶解する形のアルミニウムとを含む溶液を使用することができる。
第2ガスダクト2に沿って、たとえば水素が供給され、ノズル8内の液体を噴霧
化する。第2ガスダクト3に沿って、四塩化珪素または四塩化ゲルマニウムがガ
ス相または蒸気相で供給可能であり、第3ガスダクト4に沿って、酸素を搬送す
ることができる。ノズル8からの出射後、水素と酸素とが反応し火炎9を形成す
る。火炎内での反応形成の精密な工程は明確ではないが、実際には、非常に小さ
な二酸化珪素または二酸化ゲルマニウム粒子を形成することによって、四塩化珪
素または四塩化ゲルマニウムが反応し、酸化エルビウムおよび酸化アルミニウム
を形成することによって、液体粒子が反応すると考えられる。形成された粒子は
、上記の反応と同時、または別々に反応し、相互に結合して均質な多成分ガラス
を形成する。生成された多成分ガラス粒子は、火炎9によってターゲット10の
表面上に案内され、アクティブファイバの製造においては心金の表面上に案内さ
れ、これによって多成分ガラス粒子は、多孔性ガラス表面を心金の表面上に形成
する。心金の表面上では、複数の異なるガラス層を堆積可能であり、必要であれ
ば、ガラス層の原料組成は容易な方法で修正可能である。堆積後、心金は除去さ
れ、生成されたプリフォームは、光ファイバの製造過程から周知である方法で焼
結される。
【0016】 第4ガスダクト5および第4ガス管5aは必要ではないが、たとえばアルゴン
または他の適切な防護ガスを第4ガスダクト5と、さらに第4ガス管5aとに沿
って送り込むことによって、反応制御を向上させたいときに使用可能である。防
護ガスは反応中における外部酸素の影響を防ぐ。
【0017】 図1において、火炎噴霧ガン1の構造は、明瞭化のために実際よりも大きく表
されている。噴霧化を効果的にするため、たとえば噴霧ガスの速度を可能な限り
速くすることが好ましい。したがってノズル8の穴は十分小さくするべきである
。さらに液体管6aおよび第1ガス管2aの構造は、一方が他方の内側に配置さ
れる2つの中空ニードルに構成されていてもよい。
【0018】 図2は、正面から見たノズル8を示す。図2は、ノズル8の中心を通る液体管
6a端部の穴を示す。第1ガス管2aの穴は、液体管の穴の周囲にある。第2ガ
ス管3aに沿って流れるガスは、ノズル8を通過して、オリフィス11を介して
導入される。対応するように、第3ガス管4aに沿って流れるガスは、ノズル8
を通過して、オリフィス12を介して導入され、第4ガス管5aに沿って流れる
ガスは、ノズル8を通過して、オリフィス13を介して導入される。ノズル8の
穴およびオリフィスのサイズおよび形状は所望の通り変化されてもよいが、ノズ
ル8内の液体および噴霧化ガスの速度は、所望のように調整可能であり、液体は
十分小さな液滴に形成され、生成されるべき十分小さな粒子になり、一方では火
炎9を形成する十分なガス速度を与えることが不可欠である。
【0019】 図面および関連する記述は、本発明の概念を説明しようとしたにすぎない。詳
細には、本発明は特許請求の範囲内で変更してもよい。したがって、液体管およ
びガス管の位置および順番は所望のように変更してもよい。さらに上記のように
、燃料ガスは別個のガス管に沿ってノズル8に供給される2以上のガスからなる
か、または用いられる燃料ガスは、酸素とアセチレンとの混合ガスなどの、1つ
のガス管に沿ってノズル8に供給されるガスまたは混合ガスであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の火炎噴霧装置を概略的に示す側面図である。
【図2】 本発明の装置のノズル部分を概略的に示す正面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD ,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL, PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,S L,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US ,UZ,VN,YU,ZA,ZW (71)出願人 Kivikonlaita 5,Hels inki,Finland (72)発明者 ティッカネン,ユハ フィンランド国 タンペーレ ラウタペッ ロンカツ 37 (72)発明者 ピトカネン,ヴィッレ フィンランド国 タンペーレ エレメンテ ィンポルク 13 アー 16 Fターム(参考) 4G014 AH12 AH16 4G021 EB06 EB15

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料を噴霧する方法であって、 火炎(9)が燃料ガスによって生成され、 少なくとも2つの異なる成分が前記火炎(9)に導入され、前記成分は相互に
    結合して少なくとも2成分からなる原料を形成する方法において、 第1成分は前記火炎(9)にガス相または蒸気相で導入され、 第2成分は前記火炎(9)に液相で供給され、実質的に前記火炎(9)近傍の
    ガスによって噴霧化され、 前記第1成分および第2成分は前記火炎(9)に前記燃料ガスと同一の装置を
    用いて供給されることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 前記第1成分、前記第2成分および前記燃料ガスは前記火炎(
    9)に同一の装置によって供給されることを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記第1成分、前記第2成分および前記燃料ガスは前記火炎(
    9)に同軸に供給されることを特徴とする請求項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 アクティブファイバを製造するために多成分ガラス粒子が形成
    可能であるように、前記第1成分は四塩化珪素または四塩化ゲルマニウムであり
    、前記第2成分は硝酸エルビウム、水またはアルコール、および水またはアルコ
    ールに溶解する形のアルミニウムを含む溶液であることを特徴とする先行する請
    求項のうちのいずれかに記載の方法。
  5. 【請求項5】 原料を噴霧する装置であって、 燃料ガスが火炎(9)を生成するように前記燃料ガスを導入する手段と、 少なくとも2つの異なる成分を前記火炎(9)に導入する手段であって、前記
    成分が相互に結合し、少なくとも2成分からなる原料を形成し、該原料は前記火
    炎(9)によって所望のターゲットに噴霧可能であるように導入する手段とを含
    む装置において、 該装置は、前記第1成分を前記火炎(9)にガス相または蒸気相で導入するガ
    ス管(3a)と、 前記第2成分を前記火炎(9)に液相で導入する液体管(6a)と、 実質的に前記火炎(9)近傍の前記液体成分を噴霧化するために、噴霧化ガス
    を前記液体管近傍に導入するガス管(2a)とを有し、 前記第1成分および第2成分は、前記火炎(9)に前記燃料ガスと同一の装置
    で供給されるように配置されることを特徴とする装置。
  6. 【請求項6】 前記装置はノズル(8)と、前記第1成分、第2成分および燃
    料ガスを前記火炎(9)に共通ノズル(8)を介して供給する各手段とを含むこ
    とを特徴とする請求項5記載の装置。
  7. 【請求項7】 前記第1成分、第2成分および燃料ガスを前記火炎(9)に供
    給する各手段が、同軸に配置されることを特徴とする請求項6記載の装置。
JP2000574469A 1998-10-05 1999-10-05 原料を噴霧する方法および装置 Expired - Lifetime JP4504569B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI982154A FI116469B (fi) 1998-10-05 1998-10-05 Liekkiruiskutusmenetelmä ja -laitteisto monikomponenttilasin valmistamiseksi
FI982154 1998-10-05
PCT/FI1999/000818 WO2000020346A1 (en) 1998-10-05 1999-10-05 Method and device for spraying of a material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002526373A true JP2002526373A (ja) 2002-08-20
JP4504569B2 JP4504569B2 (ja) 2010-07-14

Family

ID=8552642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000574469A Expired - Lifetime JP4504569B2 (ja) 1998-10-05 1999-10-05 原料を噴霧する方法および装置

Country Status (12)

Country Link
EP (2) EP1133453B1 (ja)
JP (1) JP4504569B2 (ja)
KR (1) KR100646471B1 (ja)
CN (1) CN1165492C (ja)
AT (1) ATE340773T1 (ja)
AU (1) AU6091599A (ja)
CA (1) CA2346457C (ja)
DE (1) DE69933384T2 (ja)
DK (1) DK1133453T3 (ja)
FI (1) FI116469B (ja)
HK (1) HK1042076A1 (ja)
WO (1) WO2000020346A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008504207A (ja) * 2004-07-02 2008-02-14 リエッキ オイ 光導波路材料ならびにその製造方法および製造装置
JP2010140024A (ja) * 2008-12-02 2010-06-24 Draka Comteq Bv 増幅光ファイバおよび生産方法
US8116607B2 (en) 2008-03-13 2012-02-14 Fujikura Ltd. Rare-earth doped optical fiber, method of producing the same, and fiber laser

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1106582A3 (en) * 1999-12-10 2001-10-24 Corning Incorporated Silica soot and process for producing it
FI20010556A (fi) * 2001-03-19 2002-09-20 Liekki Oy Valokuitu ja menetelmä valokuituaihion valmistamiseksi
FI115134B (fi) 2002-06-28 2005-03-15 Liekki Oy Menetelmä seostetun lasimateriaalin valmistamiseksi
WO2004035496A2 (en) 2002-07-19 2004-04-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Article having nano-scaled structures and a process for making such article
US8679580B2 (en) 2003-07-18 2014-03-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Nanostructured coatings and related methods
FR2890958B1 (fr) * 2005-09-16 2010-09-17 Cit Alcatel Preforme destinee a la fabrication d'une fibre optique comprenant des nanoparticules et procede de fabrication d'une fibre optique mettant en oeuvre une telle preforme
US8069690B2 (en) * 2005-12-16 2011-12-06 Ofs Fitel, Llc Apparatus and method for fabricating glass bodies using an aerosol delivery system
US20070240454A1 (en) 2006-01-30 2007-10-18 Brown David P Method and apparatus for continuous or batch optical fiber preform and optical fiber production
FI123122B (fi) 2009-02-16 2012-11-15 Optogear Oy Laitteisto lasimateriaalin valmistamiseksi
US9540822B2 (en) 2009-11-24 2017-01-10 Certainteed Corporation Composite nanoparticles for roofing granules, roofing shingles containing such granules, and process for producing same
CN105271648A (zh) * 2015-11-05 2016-01-27 中国建材国际工程集团有限公司 用于玻璃微珠制备的燃烧器

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62502748A (ja) * 1985-06-03 1987-10-22 ヒユ−ズ・エアクラフト・カンパニ− 光フアイバプレフオ−ムにド−バントを導入する方法
JPH0421536A (ja) * 1990-05-16 1992-01-24 Hitachi Cable Ltd 希土類元素ドープガラスの製造方法
JPH04300219A (ja) * 1991-03-28 1992-10-23 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> 希土類元素ド−プ石英ガラスの製造方法
FI98832B (fi) * 1995-09-15 1997-05-15 Juha Tikkanen Menetelmä ja laite materiaalin ruiskuttamiseksi

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3883336A (en) * 1974-01-11 1975-05-13 Corning Glass Works Method of producing glass in a flame
CA1166527A (en) * 1979-09-26 1984-05-01 Shiro Takahashi Method and apparatus for producing multi-component glass fiber preform
US5110335A (en) * 1990-06-25 1992-05-05 At&T Bell Laboratories Method of glass soot deposition using ultrasonic nozzle
DE19725955C1 (de) * 1997-06-19 1999-01-21 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasrohlings und dafür geeignete Vorrichtung

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62502748A (ja) * 1985-06-03 1987-10-22 ヒユ−ズ・エアクラフト・カンパニ− 光フアイバプレフオ−ムにド−バントを導入する方法
JPH0421536A (ja) * 1990-05-16 1992-01-24 Hitachi Cable Ltd 希土類元素ドープガラスの製造方法
JPH04300219A (ja) * 1991-03-28 1992-10-23 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> 希土類元素ド−プ石英ガラスの製造方法
FI98832B (fi) * 1995-09-15 1997-05-15 Juha Tikkanen Menetelmä ja laite materiaalin ruiskuttamiseksi

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008504207A (ja) * 2004-07-02 2008-02-14 リエッキ オイ 光導波路材料ならびにその製造方法および製造装置
KR101224509B1 (ko) * 2004-07-02 2013-01-22 리에키 오와이 광 도파관 재료, 및 이를 제조하기 위한 방법 및 장치
US8116607B2 (en) 2008-03-13 2012-02-14 Fujikura Ltd. Rare-earth doped optical fiber, method of producing the same, and fiber laser
JP2010140024A (ja) * 2008-12-02 2010-06-24 Draka Comteq Bv 増幅光ファイバおよび生産方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69933384T2 (de) 2007-08-23
EP1133453B1 (en) 2006-09-27
CN1326426A (zh) 2001-12-12
FI982154A0 (fi) 1998-10-05
EP1133453A1 (en) 2001-09-19
FI116469B (fi) 2005-11-30
WO2000020346A1 (en) 2000-04-13
AU6091599A (en) 2000-04-26
DK1133453T3 (da) 2007-01-15
KR100646471B1 (ko) 2006-11-17
HK1042076A1 (zh) 2002-08-02
CA2346457C (en) 2009-09-22
EP1752423A2 (en) 2007-02-14
CN1165492C (zh) 2004-09-08
CA2346457A1 (en) 2000-04-13
DE69933384D1 (de) 2006-11-09
EP1752423A3 (en) 2009-03-11
FI982154A (fi) 2000-04-06
KR20010080010A (ko) 2001-08-22
ATE340773T1 (de) 2006-10-15
JP4504569B2 (ja) 2010-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002526373A (ja) 原料を噴霧する方法および装置
AU2006349829B2 (en) Device and method for producing nanoparticles
US6837076B2 (en) Method of producing oxide soot using a burner with a planar burner face
US20140342093A1 (en) Method for densification and spheroidization of solid and solution precursor droplets of materials using microwave generated plasma processing
EP0978486B1 (en) Method and burner for forming silica-containing soot
JP2001512085A (ja) 酸素を用いる液相反応体の燃焼によるシリカ形成方法
US6079225A (en) Method for the production of a quartz glass blank and apparatus suitable therefor
EP2231339A1 (en) Device and method for producing particles
FI117971B (fi) Menetelmä ja laitteisto nanohiukkasten tuottamiseksi
JP2002528379A (ja) 光ファイバプレフォーム用スートの製造方法およびその方法により製造されたプレフォーム
CN1304149C (zh) 复合材料喷射成形中心掺混式喷嘴
FI117790B (fi) Menetelmä ja laite materiaalin pinnoittamiseksi
JP2002522333A (ja) ガラス製造用スートを形成するための方法および装置
JP2002522334A (ja) 詰まらない装置によるシリカスートの形成
McHugh et al. Use of de laval nozzles in spray forming
JPS5987077A (ja) 超微粒子の膜形成法
JPH0362763B2 (ja)
JP2001526321A (ja) 物質蒸着
JPH04331739A (ja) 光ファイバ母材の製造方法
JPS63235061A (ja) 半成品金属の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090901

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091201

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091208

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100129

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100205

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100301

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100330

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100423

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4504569

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140430

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term