JP2002523625A - 棒状被処理物の部分的な電気化学的処理用装置 - Google Patents
棒状被処理物の部分的な電気化学的処理用装置Info
- Publication number
- JP2002523625A JP2002523625A JP2000566492A JP2000566492A JP2002523625A JP 2002523625 A JP2002523625 A JP 2002523625A JP 2000566492 A JP2000566492 A JP 2000566492A JP 2000566492 A JP2000566492 A JP 2000566492A JP 2002523625 A JP2002523625 A JP 2002523625A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- spring
- holder
- workpiece
- rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
- C25D5/022—Electroplating of selected surface areas using masking means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies
Abstract
Description
洗い)-及び洗浄設備内で、部分的に、電気めっき、電気化学的エッチングある
いは電気化学的洗浄からなる処理を施すための装置並びに方法に関する。
ンダー、とりわけ丸棒を電気化学的エッチング、電気めっき並びに電気化学的洗
浄するための装置が知られている。これらの棒の片方あるいは両端は、先細り及
び/又はねじを備えることがある。これに対する例としては、車両のショックア
ブソーバー用シリンダーである。本発明はしかしながら丸棒の処理に限らずに、
さらに異なる断面を有する棒の処理にも適する。
磨耗性及び耐腐食性を向上するのに役立つ。このため、これらの棒は、作動中必
要とされる表面にのみ硬質クロムで皮膜される。棒の他の個所は、皮膜されず、
あるいは一時的な表面保護としてフラッシュクロムめっきで皮膜が施される。ク
ロム皮膜の付着性を高めるために、表面をあらかじめ電気化学的エッチングする
。両方の方法ステップでは好適に不溶性の電極が使われる。処理ステップの間ご
とに棒は電気めっき設備内ですすぎがなされる。搬送設備は棒を処理場から処理
場に運ぶのに役立つ。
の寸法を正確に前もって決められた領域では、金属めっきも一時的な保護として
フラッシュクロムめっきも析出されないように遮蔽される必要がある。析出領域
と析出されるべきでない領域との境界は、通常許容範囲が狭くなっている。或る
ショックアブソーバーシリンダーでは、皮膜されない領域が例えばわずか±1ミ
リメーターの範囲内で析出される領域に接しなければならない。析出されるべき
皮膜は、この境界まで均一な膜厚である必要がある。境界領域での膜厚の増加あ
るいは減少となるエッジ効果を避けなければならない。引き続きなされる研磨を
省くのが、正確な皮膜を施すための目標である。
可動性のキャリアバー(担い台)に固定されている。支持枠は個別のマスク(覆
い)を備えているため、棒の両端は所定範囲で皮膜されない。流通しているあら
ゆる棒の長さ、棒径及び皮膜領域に合わせて、めっき設備では十分な数のマスク
や支持枠を有していなければならない。支持枠はまた棒に浴で導かれる電流を供
給するのにも使われるため、金属的に伝導性でなければならない。この金属は合
成樹脂皮膜によって電気めっきの前に保護される必要がある。
置が説明されている。柄の部分的な電気めっきを可能にするために、それらの柄
が管状アノードの中心に来るように配置され、段の付いた金属コア内の上側に固
定される。電流が金属コアを通って供給され、その際、金属コアは絶縁体によっ
て電解槽から分離される。金属コア及び絶縁体は柄の上端でめっき膜と境を接し
ている。下端は、保護ラッカーによって、電気めっきがなされないよう保護され
る。
個に固定され、保護ラッカーを一方の末端に寸法的に正確に塗らなければならな
いという欠点がある。さらに電気めっき後に保護ラッカーを剥がすのにも費用を
要する。
棒の電気化学的処理を浸漬浴設備で可能とする方法並びに装置が記載されている
。
キン)の形状をした限定して調整可能なシール手段付きマスクが用いられる。供
給ステーションでは、キャリアバー(担い台)に固定された幾つかの導電性グリ
ッパーが、同時に片側で1つずつ棒を止めている。電解処理ステーション内に沈
める際に、個別の棒は、棒とそれぞれ1本の固定の管状電極からなる個別の電解
槽に装入される。電解作用で有効な電極の上端、下端は、それぞれ管状の軸方向
に調節可能なマスクによって決まる。マスク端はそれぞれ鍔体で終端される。キ
ャリアバーを沈めると、棒はまず上側鍔体(アッパー鍔体)を通り、次に電極を
抜けその後に下側鍔体(ロアー鍔体)を通り抜ける。棒軸に対して平行に互いに
無関係に上下のマスクを変位することにより、両方の皮膜境界ないし棒の皮膜さ
れるべき面が、夫々のキャリアバー(担い台)あるいは夫々のキャリアバー(担
い台)での棒列に対して一様に調整される。この方法では確かに従来の支持枠技
術の欠点である、夫々の棒のサイズに応じてキャップあるいはホルダーの形をし
た特殊なマスクを必要とする欠点が回避される。しかしながら実際の作動では、
金属析出がはさみ止めのところに形成したり、ホルダーを損傷するために、被処
理物が斜めに吊るされるということがしばしば生じる。中心に掲げられてない被
処理物をマスク内に装入すると、鍔体は片側が開いたりまた尖った角で傷ついた
りする。そのため傷ついた鍔体では、もはや正確に寸法を決められた電気めっき
は不可能である。その上困ったことには鍔体の損傷が電気めっき素材を設備から
引き上げて初めて分かるということで、それは電解液中に浸漬した鍔体が浴の表
面から見えないからである。この様な状況にあって製造された被処理物(加工素
材)は使えない。
めの従来の方法並びに装置の欠点を回避し、とりわけ棒上の電気めっきを施して
はならない領域を遮蔽するために必要な作業量やそのコストをできるだけ少なく
抑えることである。そのうえ、上記方法は製造条件下においても完璧に作動すべ
きである。
1に係る方法により解決される。本発明の好ましい実施形態は従属請求項に記載
されている。
理するのに役立つ。上記装置は a.少なくとも一つの浴槽、 b.上記少なくとも一つの浴槽内での、管状の電極並びに被処理物が少なくとも
部分的に入ることができる少なくとも一つの管状の膜キャリア、及び c.上記少なくとも一つの膜キャリア内に配置された膜ホルダー を擁している。
導体性物質からなる。 上記装置は被処理物の寸法に応じて、軸方向に調整可能な電気的不導体の遮蔽
設備を有している。各々の棒に対して少なくとも一つの遮蔽設備が設けられてい
る。例えば浴内にある棒の下端にある遮蔽設備は、棒のこれらの下側部分領域を
電気化学的に処理してしまうのを避けるために設けられている。この場合には棒
の上部領域が処理液に浸漬しないことによって、処理されぬままとなる。しかし
ながらまた棒の両端にも遮蔽設備を具備することができる。
を有する。当該ケージは、被処理物がこれらを通り抜け得るように配置され、そ
のケージは夫々少なくとも一つのケージカバーと少なくとも一つのケージ底から
構成されている。夫々のケージには、膜を保持する膜ホルダーがケージカバーと
底の間を放射状に動くことができる様になっている。少なくとも一つの内側セン
タリングばね(復心ばね)が被処理物のガイドのため、また少なくとも一つの外
側センタリングばねが上記ケージ内にある膜ホルダー及び膜を中心にもってくる
ようにするために、夫々の膜ホルダーに設けられている。膜は好ましくは化学的
に耐性があり、伸長性で、電気的不導体の材料からなる。
ねは好適には棒状に板ばねとして形成され、膜ホルダーの外面に接線方向で固定
されている。それらはケージ内で膜ホルダー及び膜を中心にもってくるのに役立
ち、また膜及び膜ホルダーへの片寄った棒の半径方向の力に抗する。外側センタ
リングばねの弾力は弾性膜の強さ(引っ張り特性)に適合する。弾力の値は、膜
が被処理物の側圧によりぱっくり開かないようにあるいは極端な場合には破れな
いように、またこの個所での遮蔽効果も失われないような大きさが選ばれるべき
である。
での電気的な接触を危険にさらさないために、棒の止めバサミの弾力より小さい
値が選ばれる。膜ホルダーの内側ばねが吸収する棒の側圧が大きすぎると、つま
り棒を中心にもってくるのに十分なセンタリング効果に達していないと、棒が遮
蔽設備内に入る際に膜は中心から外れた位置にずれ、膜の損傷が回避される。そ
れにより、しかしながらフィールドラインを正確にシールドすることが可能とな
る。それに対して従来の遮蔽設備にきつく固定された遮蔽膜では、弾性素材で仕
上がった膜が、棒の側圧によってぱっくり穴が開き、その結果シールド効果がこ
の個所で妨げられる結果となる。
向かって先細りした形でまた膜ホルダーに弾力性を備え固定されたセンタリング
ばねの幾つかの翼か、あるいはまた弾性を備え中心に配置され且つガイドとなる
少なくとも3本のばね棒が取り付けられ、その内側センタリングばねは膜を通っ
て押し込まれた棒を挟み込み、それによりセンタリング効果のあるガイドを形成
することによって、棒のセンタリングに影響を与える。とりわけばね棒は細長い
形状で、膜ホルダーによって形成された平面から斜めに末端が固定されずに延び
、膜ホルダーの中心と一直線となった開口部を形成し、ここを通って棒は押し込
まれることができる。
固定された少なくとも2本の回転しないばね棒が用いられ得、これは対応して回
転せず膜ホルダーの自由端に固定されたセンタリング効果のあるガイドを有して
いる。これらのばね棒は、膜ホルダーで支えらた膜を通って押し込まれる棒がば
ね棒で挟み込まれるように調整されている。棒に対するガイドとして夫々角柱(
プリズム)の形状であってばね棒に対してほぼ平行に延びたガイドが設けられて
いる。
で、膜ホルダーが形成する平面上に本質的に垂直に立ち、少なくとも45°、好
適には90°、さらに好適には180°に曲がった自由端と共に、膜ホルダーの
中心と一直線となる開口部を形成し、それを通って棒が押し込まれる。
ばねは、次のバッチで入る棒に対して膜が再びセンタリングする、つまり最初の
位置に戻っていることがもたらされる。
でない領域を処理するための装置を調整するため、高さの調節器が設けられてい
て、それにより膜キャリアが膜ホルダー及び膜と共に垂直方向に可動できる。
法が、次の方法ステップで実施されることができる: a.適切な固定エレメントを用いて本質的に垂直に向けられた棒を挟むこと、 b.棒をめっきタンク並びに少なくとも一つの膜キャリア内に配置された膜ホル
ダーに入れること、その際、浴槽は管状の電極及び少なくとも一つの管状の膜キ
ャリアを有し、これらの中を棒が少なくとも部分的に入ることができ、 c.被処理物を、膜ホルダーにより保持された少なくとも一つの膜に夫々ある中
央の開口部を通して搬送すること。
膜を通る時に自動的に互いに調整される。
っきタンクを通る垂直断面を図示している。図1bでは、図1aのめっきタンク内
にあるひとつの従来の単一電解槽を断面的に抜粋した垂直断面を図示している。
ンクには、図示されていない直流電源と電気的に接続している管状の電極30が
備え付けられている。さらにめっきタンク14内と当該浴槽に接して、互いに独
立に垂直方向に可動する二つの隔膜キャリア17及び25がある。浴中でフライ
トバー支え2により正しい位置で保持されているフライトバー1には、棒10と
電気的に接続し固定する止めバサミ3がある。フライトバー1を管状の電極30
内に沈めると、まず棒10は上側膜キャリア26(図1b)において垂直に調整
できる隔膜キャリア25にしっかりと固定された鍔体27を突き抜ける。フライ
トバー1をさらに沈めると、棒10は同じく下側隔膜キャリア17に固定された
下側膜キャリア23(図1b)の鍔体24をも突き抜ける。膜キャリア23及び
鍔体24(図1b)を備えた下側隔膜キャリア17も、膜キャリア26及び鍔体
27を備えた上側隔膜キャリア25も、棒10の要件に応じて、調整器20及び
28により高さ調整される。棒の下部領域での電流密度をさらに低下するに、図
1bで図示されているように、伝導性の補助カソードが取り付けられ、そのカソ
ードは侵入する被処理物10に対しばね21を介して押され、それによりカソー
ド的に作用する表面が著しく上昇しあるいはカソードの電流密度が減少して、下
側遮蔽領域では析出がもはや見られない。それによって、様々な寸法で部分的な
被覆/処理位置要件が異なる棒10が、浴において処理可能である。
図示されていない場合には、代わりに対応する部分が図1a及び1bでの属する
参照番号を有して引き合いにだされる。その限りにおいて図1a及び図1bも同
様に本発明に係る装置の特徴を表している。
っきタンク14(図1a参照)内にある個別のめっき浴槽の切り取りとして垂直
な断面図で示されている。上記管状の膜キャリア26は、上側隔膜キャリア25
に固定され、それはここでは図示されていない高さ調整器28(図1a)を介し
て製造されるべき棒に対し正しい位置に調整される。
示された不溶性の電極30内に入り、それにより電極の不必要な長さを遮ること
になる。棒10をめっきタンク14内に差し込む場合、隔膜キャリア25は上方
位置にあるのが好ましい。
質で仕上げられている。電気的に不導体な物質として例えばPVC,PVDF,
PTFEが利用される。導電性物質としては例えばチタン又は鉛が用いられる。
ンタリングばね7の領域に入り込む。このばねは棒がセンタリングの状態でなく
下側に吊るされている場合に、センタリング圧を棒10に加えて調整するもので
ある。ばね圧が棒10を調整するのに十分でないと、外側のセンタリングばね1
9で保持されている膜ホルダー5が水平方向にずれて、その結果、棒の位置を調
整し、傷つきやすい膜が損傷したり延びたりすることを阻止する。膜ホルダー5
の機能を正しく調整するために、管状の膜キャリア26にはケージカバー12及
びケージ底16が取り付けられ、膜ホルダーは水平(放射)方向に自由に動ける
が、垂直方向には十分にしっかり固定されている状態となる。棒10が一番下の
位置に沈んだ後、上側隔膜キャリア25は、棒構造により予め与えられた遮蔽位
置に下方へ沈むことができる。好ましい実施の形態では、その際に棒に密接して
いる遮蔽膜9が内側にアーチ状になり、上に向かった円錐形になる。これは棒1
0の端部においてボーン(骨)効果(厚いめっき析出皮膜の形成)を減少するこ
とができる。
引き上げられると直ちに、膜ホルダー5は外側のばね19を介して再び膜キャリ
ア26の中央の位置にセンタリングされる。
きタンク14(図1a参照)内にある個別のめっき浴槽を通る垂直な断面で、隔
膜キャリア17の小さな切断面と共に図示されている。上記管状の膜キャリア2
3は、下側隔膜キャリア17に固定され、ここでは図示されていない高さ調整器
20(図1aを参照)を介して製造されるべき棒に対応して正しい下側位置に調
整される。膜キャリア23の高さの位置は、好適には図示されていないフライト
バー1を沈める前に調整される。
様に膜ホルダー4は、外側センタリングばね18、ケージカバー11、ケージ底
15及び内側センタリングばね6と共にある。もっとも内側センタリングばね6
は、膜8の下側に配置され、棒10の電気めっき面でのフィールドラインの濃度
に悪い影響がでるのを回避する。ここで大事なことは、センタリングばね6の膜
8からの距離を多くとりすぎないことで、それはセンタリングのまだなされてい
ない棒10ないし膜8の正しい状態によって膜8を損傷しないようにするためで
ある。棒10は浴槽に沈み上側遮蔽設備を通って入り込んだ後、さらに沈むとま
ず膜8に突き当たり、膜を貫通して内側センタリングばね6に向かい、必要に応
じて(上側遮蔽設備のセンタリング効果が十分でない場合)センタリングがなさ
れる。ばね6に加わる圧力が大き過ぎると、ここでも膜8を支える膜ホルダー4
は外側センタリングばね18の弾力に抗して水平方向に(放射状に)ずれ、棒1
0によって押されていない側にある膜8が破れたりあるいは損傷するのを避ける
。それにより棒端の縁精度のある遮蔽が保証される。上側遮蔽設備の場合と同様
に、外側センタリングばね18は棒10が下側遮蔽設備から抜け出た後、膜ホル
ダー4が再び開始位置に戻る、すなわち新たにセンタリングすることがもたらさ
れる。
び下側)が用いられる。同様に遮蔽設備上/下との組み合わせも本発明の提案と
従来技術に対応して可能である。
されている。シリンダー状の膜ホルダー4の外周に、外側の棒状センタリングば
ね18が接線方向において接するように取り付けられている。内側のセンタリン
グばね29は羽状で、膜ホルダー4の中心に向かって交差してあるいは斜めに取
り付けられているため、三つの中に向かった円錐状の平面をつくり、それに対し
て中心に吊るされていない棒10(図3参照)が設備内に入り込む時に押す。棒
10がさらに沈むと、羽状のセンタリングばね29は下外方向に曲がる。この特
殊な実施形態は、ばねの特性に対する要求が少ないため、内側センタリングばね
29には理想的な遮蔽特性を備えた材料として耐摩性の高分子を使うことができ
るという長所を有する。
側センタリングばねの形は異なったものを具備している。その際センタリングば
ねはそれぞればね棒32からなり、それは外側で膜ホルダー4に回転しないよう
に固定されている。ばね棒32の内側には、同様に回転しないように角柱のガイ
ド31が取り付けられている。ばね棒32の取付方向は、膜ホルダーから斜め下
方になるように示される。両方のばね32は、角柱ガイド31ともに棒10のセ
ンタリングに優れた作用を示す(図3を参照)。
での使用にも適する。しかし、この場合にはセンタリングばね29、32は図2
に図示されているように、膜ホルダー5の上側に取り付けられなければならない
。
(b)は従来技術に対応する処理ステーション内の固定されたマスクを通る切断
面の概略図である。
異なる実施例の概略図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 棒状被処理物の浸漬浴設備内での部分的な電気化学的処理用
装置にして、当該装置が a.少なくとも一つの浴槽、 b.上記少なくとも一つの浴槽内での、管状の電極並びに被処理物が少なくとも
部分的に入ることができる少なくとも一つの管状の膜キャリア、 c.上記少なくとも一つの膜キャリア内に配置された膜ホルダー を有するような電気化学的処理用装置において、 夫々少なくとも一つのケージが上記少なくとも一つの管状の膜キャリア(23
,26)内に設けられ、被処理物(10)が上記ケージを通って押し込まれ得る
ように配置され、どのケージも夫々少なくとも一つのケージカバー(11,12
)と少なくとも一つのケージ底(15,16)から構成され、夫々のケージには
膜(8,9)を保持する膜ホルダー(4,5)が上記ケージカバー(11,12
)とケージ底(15,16)の間で放射状に動くことができる様に設置され、ま
た夫々少なくとも一つの内側センタリングばね(6,7,29,32)が被処理
物(10)のガイドのために、また少なくとも一つの外側センタリングばね(1
8,19)が膜(8,9)を有した膜ホルダー(4,5)をセンタリングするた
めに、ケージ内に設けられていることを特徴とする電気化学的処理用装置。 - 【請求項2】 夫々少なくとも3本の内側センタリングばね(6,7)が膜
ホルダー(4,5)に固定され、膜ホルダー(4,5)により保持される膜(8
,9)を通って押し込まれ得る被処理物(10)が上記ばね(6,7)により挟
み込まれ、また上記ばね(6,7)が共に被処理物(10)のためにセンタリン
グ作用のあるガイドを形成するようになっていることを特徴とする請求項1に記
載の装置。 - 【請求項3】 内側センタリングばねとして少なくとも2本のばね棒(32
)が設けられ、それらは夫々一方の端で膜ホルダー(4,5)に回転しないよう
に固定され、また膜ホルダー(4,5)により保持される膜(8,9)を通って
押し込まれる被処理物(10)が上記ばね棒(32)により挟まれるように調整
され、また他方の自由端に夫々角柱状で且つ上記ばね棒(32)にほぼ平行にな
る被処理物(10)用ガイド(31)が回転しないように固定され、それらによ
り被処理物(10)のためのセンタリング効果のあるガイドをなし得るを特徴と
する請求項1に記載の装置。 - 【請求項4】 内側センタリングばねとして翼状のばね(29)が設けられ
、それらは夫々一方の端で膜ホルダー(4,5)に固定され、また膜ホルダー(
4,5)により支えられている膜(8,9)を通って押し込まれる被処理物(1
0)が上記ばね(29)で挟み込まれるように調整され、また上記ばね(29)
がともに被処理物(10)のためのセンタリング効果のあるガイドを形成するこ
とを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項5】 内側センタリングばね(6,7)は、細長い形状に形成され
、自由端で膜ホルダー(4,5)によって形成された平面から斜めに延び、膜ホ
ルダー(4,5)の中心と一直線に並んだ開口部を形成し、それを通って被処理
物(10)が押し込まれることができることを特徴とする請求項4に記載の装置
。 - 【請求項6】 内側センタリングばね(6,7)は、細長い形状に形成され
、膜ホルダー(4,5)によって形成された平面上に本質的に垂直に立ち、少な
くとも45°曲がった自由端で、膜ホルダー(4,5)の中心と一直線上にある
開口部を形成し、そこを通って被処理物(10)が押し込まれることができるこ
とを特徴とする請求項4に記載の装置。 - 【請求項7】 膜ホルダー(4,5)に外側センタリングばね(18,19
)として板ばね(18,19)が接線方向に固定されていることを特徴とする請
求項1〜6のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項8】 管状の膜キャリア(23,26)は、化学的に耐性があり少
なくとも表面上では電気的に不導体物質からなることを特徴とする請求項1〜7
のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項9】 膜(8,9)が、化学的に耐性で、伸縮性で且つ電気的不導
体の物質からなることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項10】 膜ホルダー(4,5)及び膜(8,9)を有する膜キャリ
ア(23,26)が、高さ調整器(20,28)を介して垂直方向に動くことが
できることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項11】 棒状の被処理物を浸漬浴で部分的に電気化学的処理する方
法にして、次の方法ステップ: a.適切な固定エレメントにより本質的に垂直に向けられた被処理物を把持する
こと; b.管状の電極と、上記被処理物が少なくとも部分的に入り込むことができる少
なくとも一つの管状の膜キャリアと、当該少なくとも一つの膜キャリア内に配置
された膜ホルダーとを有しためっきタンクに被処理物を入れること; c.膜ホルダーにより保持された少なくとも一つの膜内にある中央の開口部を夫
々通って被処理物が突き抜けること; を擁する部分的に電気化学的処理をする方法において、 垂直に配されていない被処理物(10)と中央の開口部が、少なくとも一つの
膜(8,9)を突き抜ける際に自動的に互いに調整がなされることを特徴とする
方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19837973.0 | 1998-08-21 | ||
DE19837973A DE19837973C1 (de) | 1998-08-21 | 1998-08-21 | Vorrichtung zum partiellen elektrochemischen Behandeln von stabförmigem Behandlungsgut |
PCT/DE1999/002311 WO2000011245A2 (de) | 1998-08-21 | 1999-07-23 | Vorrichtung zum partiellen elektrochemischen behandeln von stabförmigem behandlungsgut |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002523625A true JP2002523625A (ja) | 2002-07-30 |
JP4317661B2 JP4317661B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=7878255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000566492A Expired - Fee Related JP4317661B2 (ja) | 1998-08-21 | 1999-07-23 | 棒状被処理物の部分的な電気化学的処理用装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6508926B1 (ja) |
EP (1) | EP1115912B1 (ja) |
JP (1) | JP4317661B2 (ja) |
AT (1) | ATE214746T1 (ja) |
DE (2) | DE19837973C1 (ja) |
ES (1) | ES2173001T3 (ja) |
WO (1) | WO2000011245A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006132732A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Akutowan:Kk | 樹脂製軸受部品とその製造方法 |
WO2013105420A1 (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-18 | 本田技研工業株式会社 | メッキ装置 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4704451B2 (ja) * | 2001-07-12 | 2011-06-15 | 株式会社不二工機 | 膨張弁用防振部材 |
WO2003083175A2 (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-09 | Astropower, Inc. | Method and apparatus for electrochemical processing |
US20050265802A1 (en) | 2004-05-27 | 2005-12-01 | Alltrista Zinc Products, L.P. | Environmentally protected reinforcement dowel pins and method of making |
DE102007030311B4 (de) * | 2007-06-29 | 2013-02-07 | Knf Flodos Ag | Membranpumpe |
US8136475B2 (en) * | 2009-01-06 | 2012-03-20 | The Boeing Company | Controlled environment chamber for applying a coating material to a surface of a member |
DE102009013164A1 (de) | 2009-03-07 | 2010-09-09 | Hübel, Egon, Dipl.-Ing. (FH) | Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von ausgedehntem Gut |
US8920617B1 (en) * | 2010-07-06 | 2014-12-30 | Greatbatch Ltd. | Selective plating fixture |
JP5981193B2 (ja) | 2012-03-30 | 2016-08-31 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | めっき部品の製造方法およびシリンダ装置の製造方法 |
JP6282773B1 (ja) * | 2017-06-30 | 2018-02-21 | 株式会社ショーワ | マスキング治具、電気メッキ装置 |
EP3719180A1 (en) | 2019-04-04 | 2020-10-07 | ATOTECH Deutschland GmbH | Apparatus and method for electrochemically isolating a section of a substrate |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1103103B (de) * | 1958-11-13 | 1961-03-23 | Daimler Benz Ag | Vorrichtung zum galvanischen Verchromen der Aussenflaeche langgestreckter zylindrischer Koerper, insbesondere von Tellerventilschaeften |
US4668369A (en) * | 1986-06-26 | 1987-05-26 | King Arthur S | Reciprocating electrode cleaner for electric field liquid treater |
DE19612555C2 (de) * | 1996-03-29 | 1998-03-19 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur selektiven elektrochemischen Behandlung von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US6168691B1 (en) * | 1996-08-09 | 2001-01-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Device for electrochemical treatment of elongate articles |
DE19632132C1 (de) * | 1996-08-09 | 1997-11-20 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur elektrochemischen Behandlung von stabförmigem Behandlungsgut und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
-
1998
- 1998-08-21 DE DE19837973A patent/DE19837973C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-07-23 US US09/763,417 patent/US6508926B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-23 ES ES99950440T patent/ES2173001T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-23 EP EP99950440A patent/EP1115912B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-23 AT AT99950440T patent/ATE214746T1/de active
- 1999-07-23 DE DE59901033T patent/DE59901033D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-23 JP JP2000566492A patent/JP4317661B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-23 WO PCT/DE1999/002311 patent/WO2000011245A2/de active IP Right Grant
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006132732A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Akutowan:Kk | 樹脂製軸受部品とその製造方法 |
JP4511317B2 (ja) * | 2004-11-09 | 2010-07-28 | Ntn株式会社 | 樹脂製軸受部品とその製造方法 |
WO2013105420A1 (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-18 | 本田技研工業株式会社 | メッキ装置 |
JPWO2013105420A1 (ja) * | 2012-01-11 | 2015-05-11 | 本田技研工業株式会社 | メッキ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE59901033D1 (de) | 2002-04-25 |
DE19837973C1 (de) | 2000-01-20 |
WO2000011245A2 (de) | 2000-03-02 |
EP1115912B1 (de) | 2002-03-20 |
ES2173001T3 (es) | 2002-10-01 |
ATE214746T1 (de) | 2002-04-15 |
JP4317661B2 (ja) | 2009-08-19 |
EP1115912A2 (de) | 2001-07-18 |
WO2000011245A3 (de) | 2000-11-09 |
US6508926B1 (en) | 2003-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002523625A (ja) | 棒状被処理物の部分的な電気化学的処理用装置 | |
US10053792B2 (en) | Plating cup with contoured cup bottom | |
US20090134034A1 (en) | Prevention of substrate edge plating in a fountain plating process | |
US5227041A (en) | Dry contact electroplating apparatus | |
US3573175A (en) | Method of stopping-off plating in electroplating baths | |
US20050056541A1 (en) | Method and apparatus for partially plating work surfaces | |
US6168691B1 (en) | Device for electrochemical treatment of elongate articles | |
CN102534733A (zh) | 电镀装置以及电镀方法 | |
US3616287A (en) | Method for hard-chrome plating large metallic surfaces | |
JP4139439B2 (ja) | 棒状の対象物を電気化学的に処理するための方法と装置 | |
EP2201160B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur einseitigen nasschemischen und/oder elektrolytischen behandlung von gut | |
US5364523A (en) | Method of electroplating half sliding bearings | |
KR101776782B1 (ko) | 원통형 피도금체 도금을 위한 도금전극 유닛을 갖는 도금장치 | |
DE19722983C2 (de) | Verfahren zur elektrochemischen Behandlung von stabförmigem Behandlungsgut und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0567466B2 (en) | Apparatus for improved current transfer in radial cell electroplating | |
KR100350064B1 (ko) | 표면외관이우수한전기아연도금강판의제조방법 | |
KR20010059601A (ko) | 에지부 도금층이 균일한 전기도금방법 | |
KR101068625B1 (ko) | 균일한 도금층 형성방법 | |
KR960004269B1 (ko) | 금속스트립의 무흠집 전기도금방법 | |
CN115976619A (zh) | 一种调整电镀阴阳极分布的电镀装置和方法 | |
CN106917134A (zh) | Fe‑Ni系合金金属箔的电镀装置及方法 | |
JPH0488192A (ja) | 部分めっき装置 | |
JP2023108343A (ja) | ロッドの製造方法 | |
US3396092A (en) | Method of electroplating | |
KR100805362B1 (ko) | 부분 도금방법 및 그 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060601 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090406 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090428 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090525 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4317661 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130529 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |