JP2002512219A - 新規なスルホン化されたオキシアルキレン化ジフェノール誘導体およびスルホン化されたポリアルキレン化ジフェノール誘導体ならびそれらに対応する塩 - Google Patents

新規なスルホン化されたオキシアルキレン化ジフェノール誘導体およびスルホン化されたポリアルキレン化ジフェノール誘導体ならびそれらに対応する塩

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JP2002512219A JP2000544633A JP2000544633A JP2002512219A JP 2002512219 A JP2002512219 A JP 2002512219A JP 2000544633 A JP2000544633 A JP 2000544633A JP 2000544633 A JP2000544633 A JP 2000544633A JP 2002512219 A JP2002512219 A JP 2002512219A
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パベール，ビルジニ
シユチエツインスキー，プシエミシユラーブ
デミユール，ジヤン−ロジエ
ガリオ，ジヤン−クロ−ド
ラルテイグ−ペイル，フランソワーズ
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ロデイア・シミ
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    • C07C309/01—Sulfonic acids
    • C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
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    • C07C309/42—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton having the sulfo groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、一般式（ＩａおよびＩｂ）（ただし、Ｙ１およびＹ２は請求項１に定義されている通りである）に対応する新規なスルホン化されたオキシアルキレン化ジフェノール誘導体またはスルホン化されたポリアルキレン化ジフェノール誘導体ならびにそれらの対応する塩に関する。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明の主題は、新規なスルホン化されたオキシアルキレン化ジフェノール誘
導体またはスルホン化されたポリアルキレン化ジフェノール誘導体ならびにそれ
らの対応する塩である。
【０００２】 多くの技術分野において、新しい分子に対する研究が、種々の適用におけるそ
の可能性を評価するために行われている。
【０００３】 今回、下記の一般式（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対応する新規なスルホン化され
たオキシアルキレン化ジフェノール誘導体またはスルホン化されたポリアルキレ
ン化ジフェノール誘導体ならびにそれらの対応する塩が見出された：
【０００４】
【化７】 前記の式（Ｉａ）および（Ｉｂ）において、Ｙ１およびＹ２は同一であるか、ま
たは異なっており、下記の式の基を表す：
【０００５】
【化８】 式中、同一であるか、または異なっているＲ１基およびＲ２基は、水素原子、メ
チル基またはエチル基を表すが、Ｒ１基またはＲ２基の一方がメチル基またはエ
チル基である場合、もう一方のＲ１基またはＲ２基は水素原子であり； ｎは１〜５０の間の数である。
【０００６】 従って、本発明は、ピロカテキン（Ｉａ）およびレゾルシン（Ｉｂ）などのジ
フェノール誘導体に関する。
【０００７】 本発明はまた、芳香族環がＲで示される１個または２個の置換基を有する式（
Ｉａ）または（Ｉｂ）に対応するジフェノール誘導体を含む。
【０００８】 置換基は任意の性質のものであり得るが、好ましい置換基は、例えば、１個〜
１８個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状のアルキル基、好ましくは、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ｔｅｒｔ−ブチル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルであり；Ｒ’が１個
〜１７個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状のアルキル基を表すＲ’−ＣＯ
−タイプのアシル基、特に、アセチル、ラウロイル、パルミチル、ステアロイル
などである。
【０００９】 本発明は、スルホン化されたオキシアルキレン化ピロカテキン誘導体またはス
ルホン化されたポリアルキレン化ピロカテキン誘導体に関する。この誘導体のス
ルホン酸基は塩の形態であり、好ましくはアルカリ金属、アルカリ土類金属また
はアンモニウム基の形態である。
【００１０】 本発明はまた、スルホン化されたオキシアルキレン化レゾルシン誘導体または
スルホン化されたポリアルキレン化レゾルシン誘導体に関する。この誘導体のス
ルホン酸基は塩の形態であり、好ましくはアルカリ金属、アルカリ土類金属また
はアンモニウム基の形態である。
【００１１】 アルカリ金属は、周期律表の１Ａ族の元素群から選ばれる元素およびその混合
物を意味し、好ましくは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシ
ウムなどのアルカリ金属である。
【００１２】 アルカリ土類金属は、周期律表の２Ａ族の元素群から選ばれる元素およびその
混合物を意味し、好ましくは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロ
ンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属である。
【００１３】 元素の定義に関して、今後は、フランス化学会会誌第１号（１９９６）に発表
されている元素周期律表が参照される。
【００１４】 本発明の好ましい化合物は、より好ましくは、下記の式（Ｉａ１）および（Ｉ
ｂ１）に対応する：
【００１５】
【化９】 ただし、前記の式（Ｉａ１）および（Ｉｂ１）において、Ｍはアルカリ金属（好
ましくは、ナトリウムおよびカリウム）またはアンモニウム基を表し、Ｙ１およ
びＹ２は前記の定義を有する。
【００１６】 本発明による新規な化合物に存在するＲ２基に関して、Ｒ２基は、好ましくは
、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ１基に関して、Ｒ１基は、好ましくは、水
素原子を表す。
【００１７】 オキシアルキレン化ユニットの数は１〜５０の間で大きく変化し得るが、好ま
しくは１〜２０の間である。
【００１８】 本発明の別の変形形態は、オキシエチレン化ユニットおよびオキシプロピレン
化ユニットの両方を含むことを特徴とする式（Ｉａ）および（Ｉｂ）の化合物で
ある。この場合、前記ユニットは統計学的様式または配列化様式で分布している
。
【００１９】 そのような化合物は、より好ましくは、式（Ｉａ）または（Ｉａ１）、（Ｉｂ
）または（Ｉｂ１）により表される。この場合、Ｙ１およびＹ２は下記の式の基
を表す：
【００２０】
【化１０】 式中、ｐおよびｑは下記のような数である： ｐ＋ｑ＝ｎ、 ｐ＋ｑ≠１、 ｐは０〜５の間であり、 ｑは０〜１０の間である。
【００２１】 本発明のプロセスの別の主題は、一般式（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対応するス
ルホン化されたオキシアルキレン化ジフェノール誘導体またはスルホン化された
ポリアルキレン化ジフェノール誘導体を得るためのプロセスである。
【００２２】 そのような誘導体は、本質的には、下記の物質を反応させることからなるプロ
セスによって得られる： −下記の式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）に対応するスルホン化ジフェノールまた
はその塩：
【００２３】
【化１１】 および 下記の式（ＩＩＩ）に対応するアルキレンオキシド：
【００２４】
【化１２】 （式（ＩＩＩ）において、Ｒ１基およびＲ２基は前記の定義を有する）。
【００２５】 式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の化合物はまた、Ｒなどの１個または２個の置
換基を芳香族環に有することができる。
【００２６】 式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の化合物は、好ましくは塩の形態で使用され、
より詳細にはナトリウム塩またはカリウム塩の形態で使用される。
【００２７】 好ましくは、Ｒ１基およびＲ２基は水素原子を表す。ただし、Ｒ１基およびＲ ２ 基の一方がメチル基を表す場合、もう一方は水素原子である。
【００２８】 式（ＩＩＩ）の試薬に関して、好ましくは、エチレンオキシド、プロピレンオ
キシド、ブチレンオキシドまたはそれらの混合物が使用される。エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシドまたはそれらの混合物が好ましい。
【００２９】 使用される試薬量は大きく変化し得る。
【００３０】 アルキレンオキシドの量は、一般には、式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）のジフ
ェノールの量に対して過剰である。アルキレンオキシドのモル数と式（ＩＩａ）
または（ＩＩｂ）のスルホン化ジフェノールのモル数との比は２〜５０の間で変
化し、より好ましくは２〜１２の間で変化する。
【００３１】 反応は、有効量の触媒の存在下で行われる。
【００３２】 好ましい触媒に関して、二価金属、より詳細にはアルカリ土類金属（好ましく
は、カルシウムまたはマグネシウム）に基づく触媒を挙げることができる。
【００３３】 その金属元素は、酸化物または水酸化物などの無機物誘導体の形態で供給する
ことができる。無機塩、好ましくは、硝酸塩、硫酸塩、オキシ硫酸塩、ハロゲン
化物、オキシハロゲン化物、ケイ酸塩、炭酸塩、オルトリン酸塩、あるいは有機
物誘導体、好ましくは、オキサレート、アセチルアセトネート、アルコレート（
さらにより好ましくは、メチレートまたはエチレート）：カルボキシレート（さ
らにより好ましくは、アセテート）を使用することができる。
【００３４】 好ましくは、アルカリ土類金属（好ましくは、カルシウムまたはマグネシウム
）の酸化物、水酸化物、塩化物および／または硫酸塩を使用することができる。
【００３５】 好ましい触媒の例として、塩化カルシウムを挙げることができる。
【００３６】 使用される触媒量に関して、これは式（ＩＩＩ）のアルキレンオキシドに対す
るモル％で表されるが、０．１ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％が最も多く使用され、好
ましくは２ｍｏｌ％〜５ｍｏｌ％が使用される。
【００３７】 反応は水および／または有機溶媒の存在下で行われる。有機溶媒は好ましくは
、脂肪族アルコールまたは環状脂肪族アルコールが使用され、メタノールまたは
エタノールが最も多く選ばれる。
【００３８】 スルホン化されたジフェノールの重量比濃度は、反応混合物の重量の５％〜３
０％であることが最も多く、好ましくは約２０％である。
【００３９】 反応温度は、反応を完了させるのに十分であるように選択される。
【００４０】 反応温度は、好ましくは５０℃〜１００℃の間で選択され、さらにより好まし
くは５０℃〜８０℃の間で選択される。
【００４１】 反応は、好ましくは不活性な気体雰囲気下で行われる。そのような不活性気体
は、窒素、希ガス（好ましくは、アルゴン）または二酸化炭素であり得る。
【００４２】 反応は、大気圧下あるいは減圧下または加圧下で行われる。従って、反応は、
例えば、２００ｍｍ水銀〜７００ｍｍ水銀（２．７×１０４Ｐａ〜９．３×１０ ４ Ｐａ）の間の減圧下で、あるいは１ｂａｒ〜４ｂａｒの間であり得る加圧下で
行うことができる。
【００４３】 一般には、試薬の自然発生的な圧力のもとで行うことが好ましい。
【００４４】 実用的な観点から、本発明によるプロセスは容易に実施することができる。
【００４５】 本発明の好ましい実施形態は、式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）のスルホン化ジ
フェノールおよび触媒を加え、次いで不活性な気体雰囲気を確立することからな
る。
【００４６】 反応媒体は、好ましくは０℃〜１０℃の間の温度に冷却される。
【００４７】 次いで、アルキレンオキシドが不活性雰囲気下または減圧下で導入される。
【００４８】 反応混合物を所望の温度にする。
【００４９】 種々のオキシアルキレン化ユニットを含有する混合化合物を調製する場合にお
いて、配列化ユニットの場合には、種々の性質のアルキレンオキシドが順次導入
され、統計学的ユニットの場合には、すべてのアルキレンオキシドが一度に導入
される。
【００５０】 反応が終了すると、式（Ｉａ）または（Ｉｂ）のスルホン化されたオキシアル
キレン化ジフェノール誘導体またはスルホン化されたポリアルキレン化ジフェノ
ール誘導体が得られる。得られた生成物は液体形態および／またはペースト状形
態である。その粘稠度はオキシアルキレン化ユニットの数に依存する。
【００５１】 得られた生成物は、標準的な方法で、例えば、過剰のアルキレンオキシドを加
熱により除くことによって、反応しなかった基質をろ過により除くことによって
、そして生成物を現行技術に従って単離することによって、特に、アルコールタ
イプまたはケトンタイプの適切な溶媒（好ましくは、メタノールおよび／または
アセトン）からの再結晶によって回収することができる。
【００５２】 本発明の生成物は、エマルションおよび分散物を調製するための界面活性剤と
して使用することができる。
【００５３】 本発明を実施するための実施例を下記に示す。
【００５４】 下記の実施例は例示として示され、決して限定的ではない。
【００５５】 実施例１ ４，５−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジスルホン酸ナ
トリウムの合成： １００ｇの４，５−ジヒドロキシベンゼン−１，３−ジスルホン酸ナトリウム
および４ｇの塩化カルシウムを３２０ｍｌの水に含む溶液を２ｌの反応容器に入
れる。
【００５６】 この混合物を２℃に冷却し、２００ｍｌのエチレンオキシドを加える。
【００５７】 次いで、媒体を、自然発生的な圧力のもと、５０℃で２４時間加熱する。
【００５８】 次いで、過剰のエチレンオキシド（７７ｍｌ）を６０℃で除く。
【００５９】 反応媒体をろ過し、水を減圧下で蒸発させて除く（９０℃、３０ｍｍ水銀にお
いて）。
【００６０】 得られた残留物を１００ｍｌのメタノールで希釈し、次いでこの混合物を還流
下で加熱し、次いで周囲温度に冷却する。
【００６１】 形成した白色結晶をろ過し、１０ｍｌのメタノールで洗浄し、次いで大気圧下
において９０℃で１０時間乾燥し、その後、減圧（０．３ｍｍ水銀）下において
１７０℃で３時間乾燥する。
【００６２】 ８９ｇの２，３−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，５−ジスル
ホン酸ナトリウムが得られる。すなわち、６９．５％の収率である。
【００６３】 得られた生成物のＮＭＲ特性を下記に示す： ＮＭＲ １Ｈ（Ｄ２Ｏ）：３．８ｐｐｍ（ｍ，４ｐ）、１ｐｐｍ（ｔ，２ｐ）
、４．２５ｐｐｍ（ｔ，２ｐ）、７．４５ｐｐｍ（ｄ，１ｐ）、７．６５ｐｐｍ
（ｄ，１ｐ）。
【００６４】 この生成物の２番晶（前記分析値に対応する１１ｇの固体）を、アセトン／メ
タノール混合物から前記ろ液を結晶化させることによって得ることができる。
【００６５】 実施例２ ４，５−ビス（２−ヒドロキシ−１−プロポキシ）ベンゼン−１，３−ジスル
ホン酸ナトリウムの合成： ２．５ｇの４，５−ジヒドロキシベンゼン−１，３−ジスルホン酸ナトリウム
、８ｍｌの水、０．１ｇの塩化カルシウムおよび５ｍｌのプロピレンオキシドを
反応容器に入れる。
【００６６】 反応容器を密閉し、油浴に入れる。
【００６７】 この２相反応媒体をこの温度で７２時間加熱する。
【００６８】 ３０時間後、１ｍｌのプロピレンオキシドを加える。
【００６９】 反応混合物をろ過し、得られた固体を１３０℃で風乾する。
【００７０】 ０．３ｇのモノ置換生成物が得られる。
【００７１】 ろ液を蒸発乾固し、得られた残留物をイソプロパノールで希釈する。
【００７２】 沈澱した結晶をろ過し、イソプロパノールおよびアセトンで洗浄して、１３０
℃で乾燥する。
【００７３】 ２ｇの４，５−ビス（２−ヒドロキシ−１−プロポキシ）ベンゼン−１，３−
ジスルホン酸ナトリウムが得られる。
【００７４】 得られた生成物のＮＭＲ特性を下記に示す： ＮＭＲ １Ｈ（Ｄ２Ｏ）：７．６５ｐｐｍ〜７．４４ｐｐｍ（２ｓ，２Ｈ）、
３．８ｐｐｍ〜４．２ｐｐｍ（ｍ，６Ｈ）、１．０３ｐｐｍ〜１．０４ｐｐｍ（
ｄ，６Ｈ）。
【００７５】 実施例３ ４，６−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジスルホン酸ナ
トリウムの合成： １．第１段階：４．６−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホン酸ナトリ
ウムの合成 ２２ｇのレゾルシンを１００ｍｌの濃硫酸（９５％）に溶解し、混合物を６５
℃で１５分間加熱する。
【００７６】 溶液を５℃に冷却し、形成した沈澱をろ過し、次いで湿気から保護しながら乾
燥する。
【００７７】 炭酸水素ナトリウムで中和した後のサンプルについて分析を行う。
【００７８】 ＮＭＲ １Ｈ（Ｄ２Ｏ）：６．５ｐｐｍ（ｓ，１ｐ）、７．９５ｐｐｍ（ｓ，
１ｐ）。
【００７９】 ２．第２段階：エトキシル化 第１段階に従って得られた生成物と、０．２ｇの塩化カルシウムとを１００ｇ
の水に含む溶液を５００ｍｌの反応容器に入れる。
【００８０】 この混合物を２℃に冷却し、９．２ｍｌのエチレンオキシドを加える。
【００８１】 次いで、この媒体を、自然発生的な圧力のもと、５０℃で２４時間加熱する。
【００８２】 次いで、過剰のエチレンオキシドを６０℃で除く。
【００８３】 反応媒体をろ過し、水を減圧下で蒸発させて除く（９０℃、３０ｍｍ水銀にお
いて）。
【００８４】 １３ｇの４，６−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジスル
ホン酸ナトリウムが白色固体の形態で得られる。
【００８５】 得られた生成物のＮＭＲ特性を下記に示す： ＮＭＲ １Ｈ（Ｄ２Ｏ）：３．８５ｐｐｍ（ｔ，４ｐ）、４．２１ｐｐｍ（ｔ
，４ｐ）、６．７４ｐｐｍ（ｓ，１ｐ）、８．１ｐｐｍ（ｓ，１ｐ）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，Ｇ Ｈ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ， ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，Ｍ Ｗ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ， ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，Ｚ Ｗ (72)発明者 デミユール，ジヤン−ロジエ フランス国、エフ−69360・サン・サンフ オリアン・ドゾン、コミユネ、ルート・ド ウ・テルネ、ラ・ジヨンキエール (72)発明者 ガリオ，ジヤン−クロ−ド フランス国、エフ−69150・デシヌ、ア レ・デ・スリジエ、９ (72)発明者 ラルテイグ−ペイル，フランソワーズ フランス国、エフ−69500・ブロン、リ ユ・パジエール、127・ビス Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC43 AC61 BA06 BA37 BE03 4J005 AA04 BB02

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記の一般式（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対応する新規なスル
    ホン化されたオキシアルキレン化ジフェノール誘導体またはスルホン化されたポ
    リアルキレン化ジフェノール誘導体ならびにそれらの対応する塩： 【化１】 式中、Ｙ１およびＹ２は同一であるか、または異なっており、下記の式の基を表
    す： 【化２】 式中、同一であるか、または異なっているＲ１基およびＲ２基は、水素原子、メ
    チル基またはエチル基を表すが、Ｒ１基またはＲ２基の一方がメチル基またはエ
    チル基である場合、もう一方のＲ１基またはＲ２基は水素原子であり； ｎは１〜５０の間の数である。
  2. 【請求項２】 前記誘導体は、芳香族環が１個または２個の置換基Ｒを有す
    る式（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対応することを特徴とする、請求項１に記載の新
    規な誘導体。
  3. 【請求項３】 前記誘導体は、芳香族環が、１個〜１８個の炭素原子を有す
    る直鎖状または分枝状のアルキル基；Ｒ’が１個〜１７個の炭素原子を有する直
    鎖状または分枝状のアルキル基を表すＲ’−ＣＯ−タイプのアシル基であり得る
    １個または２個の置換基Ｒを有する式（Ｉａ）または（Ｉｂ）に対応することを
    特徴とする、請求項２に記載の新規な誘導体。
  4. 【請求項４】 スルホン酸基は塩の形態であり、好ましくはアルカリ金属、
    アルカリ土類金属またはアンモニウム基の形態であることを特徴とする、請求項
    １〜３のいずれか一項に記載の新規な誘導体。
  5. 【請求項５】 前記誘導体は下記の式（Ｉａ１）および（Ｉｂ１）に対応す
    ることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の新規な誘導体： 【化３】 ただし、前記の式（Ｉａ１）および（Ｉｂ１）において、Ｍはアルカリ金属（好
    ましくは、ナトリウムおよびカリウム）またはアンモニウム基を表し、Ｙ１およ
    びＹ２は請求項１に記載された定義を有する。
  6. 【請求項６】 前記誘導体は、前記のＹ１基およびＹ２基に存在するＲ２基
    が水素原子またはメチル基を表し、Ｒ１基が水素原子を表す式（Ｉａ１）および
    （Ｉｂ１）に対応することを特徴とする、請求項５に記載の新規な誘導体。
  7. 【請求項７】 前記誘導体は、オキシアルキレン化ユニットの数が１〜５０
    の間で変化し、好ましくは１〜２０の間で変化する式（Ｉａ）または（Ｉａ１）
    および（Ｉｂ）または（Ｉｂ１）に対応することを特徴とする、請求項１〜６の
    いずれか一項に記載の新規な誘導体。
  8. 【請求項８】 前記誘導体は、Ｙ１およびＹ２が下記の式の基を表す式（Ｉ
    ａ）または（Ｉａ１）および（Ｉｂ）または（Ｉｂ１）に対することを特徴とす
    る、請求項１〜６のいずれか一項に記載の新規な誘導体： 【化４】 式中、ｐおよびｑは下記のような数である： ｐ＋ｑ＝ｎ、 ｐ＋ｑ≠１、 ｐは０〜５の間であり、 ｑは０〜１０の間である。
  9. 【請求項９】 前記誘導体は、 ４，５−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジスルホン酸ナト
    リウム ４，５−ビス（２−ヒドロキシ−１−プロポキシ）ベンゼン−１，３−ジスルホ
    ン酸ナトリウム ４，６−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジスルホン酸ナト
    リウム であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の新規な誘導体。
  10. 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれか一項に記載の一般式（Ｉａ）また
    は（Ｉａ１）および（Ｉｂ）または（Ｉｂ１）に対応するスルホン化されたオキ
    シアルキレン化ジフェノール誘導体またはスルホン化されたポリアルキレン化ジ
    フェノール誘導体の調製プロセスであって、 下記の式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）に対応するスルホン化ジフェノールまたは
    その塩 【化５】 および 下記の式（ＩＩＩ）のアルキレンオキシド： 【化６】 （式（ＩＩＩ）において、Ｒ１基およびＲ２基は請求項１〜９に既に記載された
    定義を有する） を反応させることからなることを特徴とするプロセス。
  11. 【請求項１１】 式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の前記化合物は、芳香族環
    に、Ｒなどの１個または２個の置換基を有することを特徴とする、請求項１０に
    記載のプロセス。
  12. 【請求項１２】 式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の前記化合物は、好ましく
    は塩の形態で使用され、より好ましくはナトリウム塩またはカリウム塩の形態で
    使用されることを特徴とする、請求項１０または１１に記載のプロセス。
  13. 【請求項１３】 Ｙ１基およびＹ２基に存在するＲ２基は水素原子またはメ
    チル基を表し、Ｒ１基は水素原子を表すことを特徴とする、請求項１０〜１２の
    いずれか一項に記載のプロセス。
  14. 【請求項１４】 式（ＩＩ）の試薬は、エチレンオキシド、プロピレンオキ
    シド、ブチレンオキシドまたはそれらの混合物であり、好ましくは、エチレンオ
    キシド、プロピレンオキシドまたはそれらの混合物であることを特徴とする、請
    求項１０に記載のプロセス。
  15. 【請求項１５】 アルキレンオキシドのモル数と式（ＩＩａ）または（ＩＩ
    ｂ）のスルホン化ジフェノールのモル数との比が２〜５０の間で変化し、より好
    ましくは２〜１２の間で変化することを特徴とする、請求項１４に記載のプロセ
    ス。
  16. 【請求項１６】 反応が有効量の触媒の存在下で行われることを特徴とする
    、請求項１０に記載のプロセス。
  17. 【請求項１７】 二価金属に基づく前記触媒はアルカリ土類金属（好ましく
    は、カルシウムまたはマグネシウム）に基づく触媒であることを特徴とする、請
    求項１６に記載のプロセス。
  18. 【請求項１８】 前記の金属元素は無機物誘導体の形態で供給され、好まし
    くは、酸化物または水酸化物または無機塩（好ましくは、硝酸塩、硫酸塩、オキ
    シ硫酸塩、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、ケイ酸塩、炭酸塩、オルトリン
    酸塩）または有機物誘導体（好ましくは、オキサレート、アセチルアセトネート
    ：アルコレート（さらにより好ましくは、メチレートまたはエチレート）；カル
    ボキシレート（さらにより好ましくは、アセテート））で供給されることを特徴
    とする、請求項１６または１７に記載のプロセス。
  19. 【請求項１９】 式（ＩＩＩ）のアルキレンオキシドに対するモル％で表さ
    れる触媒の使用量は０．１ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％の範囲であり、好ましくは２
    ｍｏｌ％〜５ｍｏｌ％の範囲であることを特徴とする、請求項１６〜１８のいず
    れか一項に記載のプロセス。
  20. 【請求項２０】 反応が、水および／または有機溶媒（好ましくは脂肪族ア
    ルコールまたは環状脂肪族アルコール、より好ましくはメタノールまたはエタノ
    ール）の存在下で行われることを特徴とする、請求項１０〜１９のいずれか一項
    に記載のプロセス。
  21. 【請求項２１】 反応温度が、好ましくは５０℃〜１００℃の間で選択され
    、さらにより好ましくは５０℃〜８０℃の間で選択されることを特徴とする、請
    求項１０〜２０のいずれか一項に記載のプロセス。
  22. 【請求項２２】 前記反応は、好ましくは、不活性な気体雰囲気下で行われ
    ることを特徴とする、請求項１０〜２１のいずれか一項に記載のプロセス。
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