JP2002511393A - 太陽光・紫外線に安定な殺生物剤組成物およびその水処理における使用 - Google Patents

太陽光・紫外線に安定な殺生物剤組成物およびその水処理における使用

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JP2002511393A
JP2002511393A JP2000542986A JP2000542986A JP2002511393A JP 2002511393 A JP2002511393 A JP 2002511393A JP 2000542986 A JP2000542986 A JP 2000542986A JP 2000542986 A JP2000542986 A JP 2000542986A JP 2002511393 A JP2002511393 A JP 2002511393A
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Abstract

(57)【要約】 レクリエーション用および工業用の水システムに用いるための太陽光−紫外線に安定な殺生物剤組成物が開示されている。それは酸化性ハロゲン化合物と安定剤を有するものであり、安定剤はベンゼンスルホンアミドもしくはこれらの誘導体である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 発明の分野 本発明は、一般的には殺生物剤に関し、特にレクリエーション用もしくは工業
用の水システムを処理するのに用いられる太陽光・紫外線に安定な殺生物組成物
に関するものである。
【0002】 発明の背景 酸化性ハロゲン化合物、特に塩素、臭素、およびヨウ素のものは、太陽光−紫
外光(UV)分光領域(以下、太陽光−UVとする。)において、劣化すること
が知られている。
【0003】 ハロゲンの太陽光−UV劣化は、スイミングプール、温泉、ホットタブ(hot t
ubs)においては深刻な問題であり、装飾された噴水、沈降および冷却池、クラリ
ファイヤ等のようなある種の工業用の水処理用途においても、重大な問題となる
可能性がある。適当なハロゲン安定剤を添加しない場合は、50%を越えるハロ
ゲンが、通常の太陽光の照射30分より少ない時間で分解される。
【0004】 光化学の原則に基づけば、UV照射により劣化される酸化性ハロゲン化合物に
は、二つの段階が起こる必要がある。第1のステップは、分子におけるUVの吸
収であり、これにより分子はより高いエネルギーのステージに励起される。第2
の段階は、励起された分子が、光分解反応を起こすものである。この反応の機構
の理解により、ハロゲンが光分解反応を受けることを防止するために二つのアプ
ローチがありえる。第1のアプローチは、UV領域(太陽光−UVは、290か
ら400nmである。)において最小の光吸収を示す酸化性ハロゲン化合物を探
索することである。第2のアプローチは、例え励起した状態であっても光分解反
応が生じず、むしろ振動により緩和して定常状態に復帰する酸化性ハロゲン化合
物を探索することである。例えば、安定化されていない臭素溶液は、330nm
で最高の吸収を示す。しかしながら、安定化された臭素溶液は、安定化剤の特性
および安定化の程度により異なる光吸収特性を有する場合がある。UV領域にお
ける吸収が低ければ低いほど臭素はより安定であろう。
【0005】 臭素は、レクリエーション用の水処理において、良好な殺生物剤として知られ
ている。しかしながら、臭素の使用は、太陽光−UV下における急速な分解のた
めに、屋外のスイミングプールにおいては厳しく制限されていた。このような分
解から臭素を保護するための実質的な手段は知られていない。したがって、臭素
は、殺生物剤に特定したマーケットシェアでは約10%のみに制限されており、
原則的には屋内プールおよび温泉に用いられる。臭素は、抗微生物の性能が塩素
より優れており、また臭素は、例えば目や目の周囲といった柔らかい皮膚や粘膜
への刺激が少ないことからプールでの使用が好ましい。米国特許第3,493,654号
(Goodenenough et al.)は、UV照射における臭素の半減期を増加させるため
の安定剤としてのスクシンイミドの使用を開示している。しかしながら、いくら
かのUV安定性は成し遂げているものの、Goodenenough et al.の特許において
記載された安定剤は、商業的には用いられていない。これは、それらが十分に実
際的もしくは効果的ではないからである。
【0006】 現在は、臭素ではないが、塩素の劣化は、トリアジン−s−トリオン(trione)
(シアヌル酸)のような有機安定剤を用いることにより太陽光−UV中で実質的
に防止することができる。商業的には、クロロイソシアヌレートが、プールにお
ける微生物の制御に用いられる原則的に特定の殺生物剤である(殺生物剤に特定
した市場シェアの約90%)。これは、シアヌレートの安定剤は、太陽光−UV
による劣化から塩素を防御するからである。しかしながら、有効とするためには
、シアヌレート安定剤が多量に要求されるため、コストが要因となる。代表的に
は、少なくとも35パーツパーミリオン(ppm)のシアヌレートが、塩素1p
pm当たり用いる必要がある。
【0007】 Kirk Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, Third Edition, Wiley
Interscience, 24巻、427〜441頁によれば、推奨される最初のシアヌー
ル酸の濃度は、50ppmである。しかしながら、濃度が100ppmを超えた
場合、部分的にプールの水を排水し、そして新しい水で満たすことが要求される
。これは、過剰な高シアヌール酸の濃度は、殺菌の速度を低下させる可能性があ
るからである。したがって、シアヌール酸の操作の幅は極めて狭いものである(
2つの濃度要因)。
【0008】 よって、太陽光−UVに安定で、経済的に魅力的であるもので、かつ広い操作
幅を有するレクリエーション用または工業用の水システムを処理するために用い
られる殺生物剤の開発が望まれていた。
【0009】 発明の要約 本発明の殺生物剤組成物は、酸化性ハロゲン化合物および安定剤を有するもの
であり、上記安定剤がベンゼンスルホンアミドもしくはそれらの誘導体である。
【0010】 発明である殺生物組成物は、太陽光−UVに安定であり、経済的に魅力的であ
り、レクリエーション用および工業用の水システムの処理に用いるに際して広い
操作の幅を有するものである。
【0011】 発明の詳細な説明 本発明は、レクリエーション用および工業用の水システムを処理するのに用い
るられる、太陽光−UVに安定な殺生物剤組成物である。殺生物剤組成物は、酸
化性ハロゲン化合物と安定剤とを有するものである。
【0012】 本発明を実施するに当たり用いられる酸化性ハロゲン化合物は、酸化性塩素、
酸化性臭素、および酸化性ヨウ素化合物である。用いられる酸化性塩素化合物は
、塩素、次亜塩素酸塩、次亜塩素酸、塩素化イソシアヌレート、およびクロロア
ミンを含むものである。ここで用いることができる酸化性臭素化合物は、臭素、
次亜臭素酸塩、次亜臭素酸、塩化臭素、ブロモ−クロロ−ジメチルヒダントイン
、安定化次亜臭素酸ナトリウム(STABREXの商品名でナルコケミカルカンパニーよ
り入手可能)、およびブロムアミンである。ここで用いることができる酸化性ヨ
ウ素化合物は、ヨウ素、次亜ヨウ素酸塩、次亜ヨウ素酸、ヨードフォア(iodopho
res)、およびヨードアミンである。
【0013】 本発明を実施するために用いられる安定剤は、ベンゼンスルホンアミド、なら
びに4−ニトロベンゼンスルホンアミドおよび4−カルボキシベンゼンスルホン
アミドといったベンゼンスルホンアミドの誘導体化合物を含むものである。ベン
ゼンスルホンアミドおよび4−ニトロベンゼンスルホンアミドが好ましい。
【0014】 殺生物剤組成物中の安定剤に対する酸化性ハロゲン化合物のモル比は、0.1
:50、より好ましくは約1:10、最も好ましくは約1:1である。
【0015】 本発明者等は、本発明の殺生物剤組成物が、レクリエーション用および工業用
の水システム中において、微生物の成長を阻害するために効果的に用いることが
できることを見出した。さらに、殺生物剤組成物が、太陽光−UVに対して安定
であることを見出した。この発見は、予期できるものではない。なぜなら、スル
ファメイト(sulfamate)といった他の臭素安定剤は、臭素に対し太陽光−UV劣
化からの保護を提供することはできないからである。殺生物剤組成物の太陽光−
UV安定性は、上述した範囲内で安定剤に対するハロゲンの比率を変えることに
より変化する。
【0016】 殺生物剤組成物を用いることができるレクリエーション用水システムのタイプ
は、これに限定されるものではないが、屋内および屋外のスイミングプール、温
泉、およびホットタブ(hot tubs)である。この殺生物剤組成物の酸化性ハロゲン
化合物および安定剤は、別々にもしくは両成分を含む組成物として、従来のいか
なる方法によりレクリエーション用水システムに対して添加することができる。
【0017】 この殺生物剤組成物を用いることができる工業用水システムのタイプとしては
、これに限定されるものではないが、冷却水システム、沈降および冷却池、貯水
容器、装飾された噴水、工業用殺菌機、真空コンデンサー、クラリファイヤ、水
圧殺菌消毒器もしくはレトルト、ガス洗浄システム、空気清浄器システム、およ
び廃液処理プラントを含むものである。殺生物剤組成物の酸化性ハロゲン化合物
および安定剤は、別々にもしくは両成分を含む組成物として、従来のいかなる方
法により工業用水システムに対して添加することができる。
【0018】 レクリエーション用もしくは工業用水に添加される酸化性ハロゲン化合物の量
は、約0.1ppmから約20ppmの範囲内であることが好ましい。より好ま
しくは、酸化性ハロゲン化合物の量が、約0.2ppmから約5ppm、最も好
ましくは約0.2ppmから約1ppmである。
【0019】 レクリエーション用もしくは工業用水に添加される安定剤の量は、約0.1p
pmから約100ppmの範囲内であることが好ましい。より好ましくは、安定
剤の量が、約0.5ppmから50ppm、最も好ましくは、約1ppmから約
10ppmである。
【0020】 実施例 以下の実施例は、本発明を説明し、当業者に対して本発明の製造方法および使
用方法を教示することを意図するものである。これらの例は、本発明およびその
保護範囲をいかなる方法であろうと制限すること意図するものではない。
【0021】 実施例1 2.14gの50%NaOHが、20mlの水中に添加された。そして、2g
のベンゼンスルホンアミドがアルカリ水に添加され、そしてベンゼンスルホンア
ミドが完全に溶解するまで溶液は攪拌された。そして、液体臭素が溶液中にゆっ
くりと添加された。得られた殺生物剤組成物は、pH12.8で、N−ブロモ−
ベンゼンスルホンアミド(NBB)のBr2として7.2%(もしくは、標準法
4500-Cl Fにしたがった、DPD−FASフリーレシデュアル滴定(free
residual titration)によるCl2として3.18%)であった。
【0022】 実施例2 実施例1において調製されたNBBの殺生物剤性能は、種々の投与量でプセウ ドモナス アエルジノサ(Pseudomonas aeruginosa)培養物に対してテストされた
。テストは、約7.5のpHを有するリン酸緩衝溶液中で実施された。殺生物剤
とバクテリアとの間の接触時間は、約4時間であった。処理の殺生物効力は、T
EGプレートカウント法(Standard Method for the Examination of Water and
Wastewater, 19th ed., Method 9215C)により決定され、結果はコロニー形成ユ
ニットのロガリズムリダクション(logarithm reduction)により表わされた。表
1に示すように、低い投与量で顕著な殺生物活性であった。ハロゲン濃度は投与
されたものと同様であった。
【0023】
【表1】
【0024】 実施例3 実施例1において、上述したように調製された濃縮されたNBB溶液を収容し
たボトルが、熱安定性をテストするために57℃のウォーターバス内に投入され
た。サンプルは、NBBの残量(臭素としての%)を測定するために、20日の
期間の間、回収された。以下の表2に示すように、NBB溶液は、延長された期
間の間、上昇された温度で安定であった。
【0025】
【表2】
【0026】 実施例4 UV劣化実験は、種々の臭素をベースとした殺生物剤のUV安定性を比較する
ために、UVAおよびUVBランプの両者を備えた研究室のUVチャンバー内で
行われた。種々の酸化性ハロゲン組成物が、結果的に約10ppm(Cl2とし
て)の濃度を達成するために、90×50の結晶皿内に超純水であるデマンドフ
リー水200mlへ添加された。そして、皿はUV照射のため、UVAまたはB
のチャンバー内に入れられた。UVチャンバーは、ASTMスタンダードテスト
法 E896−92にしたがって構成されたものであった。溶液表面の光の強度
は、160フィート燭光で一定であった。そして、1ミリリットルのサンプルが
、活性ハロゲン濃度を決定するために、種々の期間で皿から採取された。ハロゲ
ン濃度は、10倍に希釈の後、DPD比色法(Standard Method for the Examina
tion of Water and Wastewater, 19th ed., Method 4500-Cl G)により決定され
た。下記の表3に記載されるように、UV安定性は、次亜臭素酸塩およびSTABRE
X等のような酸化性臭素化合物より、本発明の殺生物剤組成物の方が非常に大き
かった。
【0027】
【表3】
【0028】 実施例5 上記実施例4において行われた実験と同じ実験が、塩素をベースとした殺生物
剤のUV安定化を評価するために行われた。以下の表4に示すように、次亜塩素
酸ナトリウムに対するベンゼンスルホンアミドのモル比が1:1ものが、次亜塩
素酸ナトリウムに対するシアヌル酸のモル比が1:20のものより、塩素に対し
て良好な保護を提供する。
【0029】
【表4】
【0030】 実施例6 追加のテストが次亜臭素酸塩の殺生物剤性能に対する過剰の安定剤の影響を調
査するために行われた。同じ細菌の培養物が用いられ、実施例2における場合と
同様のテスト手順であった。リン酸緩衝溶液が反応媒体として用いられた。次亜
臭素酸ナトリウムが、次亜塩素酸ナトリウムと臭化ナトリウムとを化学量論的に
反応させることにより新たに調製された。この溶液は、酸化性臭素源として用い
られた。1%w/wのベンゼンスルホンアミド溶液が、アルカリpH条件下で別に
調製された。次亜臭素酸ナトリウムおよびベンゼンスルホンアミドの原液は、 セウドモナス アエルジノサ(Pseudomonas aeruginosa)を1ml当たり約le6
細胞含有するリン酸緩衝溶液内に別々に投与された。次いで、テスト溶液の一部
は、細菌数の決定のため種々の時間をおいて採取された。テスト結果を表5に示
す。
【0031】
【表5】
【0032】 上記実施例5で実証したように、ベンゼンスルホンアミドは、1:1のモル比
で、良好な太陽光−UV安定性を臭素に提供する。したがって、表5に示す結果
は、ベンゼンスルホンアミド−臭素システムが、広い操作範囲(10までの濃度
要因)を有し、かつそれが臭素の殺生物剤性能に重大な影響を及ぼさないことを
示している。さらに、テスト溶液中のハロゲンの持続性が、ベンゼンスルホンア
ミドの添加により改良されるので、この安定剤の適用は、経済的に魅力的でもあ
る。
【0033】 本発明は、好ましいもしくは説明のための上記実施例に関連して記載されてい
るが、これらの実施例は、本発明を詳細にし、限定することを意図するものでは
ない。むしろ、本発明は、添付された特許請求の範囲により定義されるものとし
て、その精神および範囲内に含まれる全ての置換物、修正物、および均等物をカ
バーすることを意図するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A01N 59/12 A01N 59/12 59/22 59/22 C02F 1/50 510 C02F 1/50 510A 520 520A 531 531L 531P 532 532C 532E 532H (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,UZ,VN,YU,ZA,Z W (71)出願人 One Nalco Center,Na perville,Illinois 60563−1198,United State s of America Fターム(参考) 4H011 AA02 BA04 BB09 BB18 BC07 BC09 BC18 DA13 DD01 DF06

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸化性のハロゲン化合物および安定剤を有し、前記安定剤が
    ベンゼンスルホンアミドおよびベンゼンスルホンアミドの誘導体化合物からなる
    群から選択されることを特徴とする太陽光・紫外線に安定な殺生物剤組成物。
  2. 【請求項2】 前記酸化性ハロゲン化合物が、酸化性の塩素、臭素およびヨ
    ウ素化合物からからなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の組
    成物。
  3. 【請求項3】 前記酸化性塩素化合物が、塩素、次亜塩素酸塩、次亜塩素酸
    、塩素化イソシアヌレート、およびクロロアミンからなる群から選択されること
    を特徴とする請求項2に記載の組成物。
  4. 【請求項4】 前記酸化性臭素化合物が、臭素、次亜臭素酸塩、次亜臭素酸
    、塩化臭素、ブロモ−クロロ−ジメチルヒダントイン、安定化次亜臭素酸ナトリ
    ウム、およびブロムアミンからなる群から選択されることを特徴とする請求項2
    に記載の組成物。
  5. 【請求項5】 前記酸化性ヨウ素化合物が、ヨウ素、次亜ヨウ素酸塩、次亜
    ヨウ素酸、ヨードフォア(iodophores)、およびヨードアミンからなる群から選択
    されることを特徴とする請求項2に記載の組成物。
  6. 【請求項6】 前記安定剤が、ベンゼンスルホンアミドまたは4−ニトロベ
    ンゼンスルホンアミドから選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物
  7. 【請求項7】 前記安定剤と酸化性ハロゲン化合物とのモル比が、0.1:
    50であることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
  8. 【請求項8】 前記安定剤と酸化性ハロゲン化合物とのモル比が、1:10
    であることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
  9. 【請求項9】 前記安定剤と酸化性ハロゲン化合物とのモル比が、1:1で
    あることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
  10. 【請求項10】 水システムにおける微生物の成長を防止する方法であって
    、酸化性ハロゲン化合物および安定剤の防止に有効な量を水に添加する工程を有
    し、前記安定剤がベンゼンスルホンアミドおよびベンゼンスルホンアミドの誘導
    体化合物からなる群から選択されるものであることを特徴とする方法。
  11. 【請求項11】 前記酸化性ハロゲン化合物が、酸化性の塩素、臭素および
    ヨウ素化合物からからなる群から選択されることを特徴とする請求項10に記載
    の組成物。
  12. 【請求項12】 前記酸化性塩素化合物が、塩素、次亜塩素酸塩、次亜塩素
    酸、塩素化イソシアヌレート、およびクロロアミンからなる群から選択されるこ
    とを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  13. 【請求項13】 前記酸化性臭素化合物が、臭素、次亜臭素酸塩、次亜臭素
    酸、塩化臭素、ブロモ−クロロ−ジメチルヒダントイン、安定化次亜臭素酸ナト
    リウム、およびブロムアミンからなる群から選択されることを特徴とする請求項
    11に記載の組成物。
  14. 【請求項14】 前記酸化性ヨウ素化合物が、ヨウ素、次亜ヨウ素酸塩、次
    亜ヨウ素酸、ヨードフォア(iodophores)、およびヨードアミンからなる群から選
    択されることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  15. 【請求項15】 前記安定剤が、ベンゼンスルホンアミドまたは4−ニトロ
    ベンゼンスルホンアミドから選択されることを特徴とする請求項10に記載の組
    成物。
  16. 【請求項16】 前記酸化性ハロゲン化合物が、0.1ppmから20pp
    mの量で水に添加されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  17. 【請求項17】 前記酸化性ハロゲン化合物が、0.2ppmから5ppm
    の量で水に添加されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  18. 【請求項18】 前記安定剤が、0.1ppmから100ppmの量で水に
    添加されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  19. 【請求項19】 前記安定剤が、1ppmから10ppmの量で水に添加さ
    れることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  20. 【請求項20】 前記水システムが、レクリエーション用水システム、工業
    用水システム、スイミングプールもしくは屋外スイミングプールから選択される
    ことを特徴とする請求項11記載の方法。
JP2000542986A 1998-04-14 1999-04-12 太陽光・紫外線に安定な殺生物剤組成物およびその水処理における使用 Pending JP2002511393A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

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